JP2003518264A - サーマルデジタルリソグラフ印刷版 - Google Patents

サーマルデジタルリソグラフ印刷版

Info

Publication number
JP2003518264A
JP2003518264A JP2001546484A JP2001546484A JP2003518264A JP 2003518264 A JP2003518264 A JP 2003518264A JP 2001546484 A JP2001546484 A JP 2001546484A JP 2001546484 A JP2001546484 A JP 2001546484A JP 2003518264 A JP2003518264 A JP 2003518264A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
methyl
ethyl
aqueous solution
element according
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001546484A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2003518264A5 (ja
Inventor
ジャヤンティ・パテル
シャシカント・サライヤ
セリン−サヴァリア・ハウク
ジャンビン・ファング
フレデリック・マイケル
ケンイチ・シマズ
ニシス・マーチャント
Original Assignee
コダック ポリクロム グラフィックス カンパニーリミテッド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by コダック ポリクロム グラフィックス カンパニーリミテッド filed Critical コダック ポリクロム グラフィックス カンパニーリミテッド
Publication of JP2003518264A publication Critical patent/JP2003518264A/ja
Publication of JP2003518264A5 publication Critical patent/JP2003518264A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1016—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/36—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using a polymeric layer, which may be particulate and which is deformed or structurally changed with modification of its' properties, e.g. of its' optical hydrophobic-hydrophilic, solubility or permeability properties
    • B41M5/368—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using a polymeric layer, which may be particulate and which is deformed or structurally changed with modification of its' properties, e.g. of its' optical hydrophobic-hydrophilic, solubility or permeability properties involving the creation of a soluble/insoluble or hydrophilic/hydrophobic permeability pattern; Peel development
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/40—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used characterised by the base backcoat, intermediate, or covering layers, e.g. for thermal transfer dye-donor or dye-receiver sheets; Heat, radiation filtering or absorbing means or layers; combined with other image registration layers or compositions; Special originals for reproduction by thermography
    • B41M5/42—Intermediate, backcoat, or covering layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/02—Positive working, i.e. the exposed (imaged) areas are removed
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/06—Developable by an alkaline solution
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/14—Multiple imaging layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/22—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/24—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/26—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/26—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • B41C2210/262—Phenolic condensation polymers, e.g. novolacs, resols
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/26—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • B41C2210/264—Polyesters; Polycarbonates
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/26—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • B41C2210/266—Polyurethanes; Polyureas
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/40—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used characterised by the base backcoat, intermediate, or covering layers, e.g. for thermal transfer dye-donor or dye-receiver sheets; Heat, radiation filtering or absorbing means or layers; combined with other image registration layers or compositions; Special originals for reproduction by thermography
    • B41M5/42—Intermediate, backcoat, or covering layers
    • B41M5/44—Intermediate, backcoat, or covering layers characterised by the macromolecular compounds
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/40—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used characterised by the base backcoat, intermediate, or covering layers, e.g. for thermal transfer dye-donor or dye-receiver sheets; Heat, radiation filtering or absorbing means or layers; combined with other image registration layers or compositions; Special originals for reproduction by thermography
    • B41M5/46—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used characterised by the base backcoat, intermediate, or covering layers, e.g. for thermal transfer dye-donor or dye-receiver sheets; Heat, radiation filtering or absorbing means or layers; combined with other image registration layers or compositions; Special originals for reproduction by thermography characterised by the light-to-heat converting means; characterised by the heat or radiation filtering or absorbing means or layers
    • B41M5/465—Infrared radiation-absorbing materials, e.g. dyes, metals, silicates, C black

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】 A.基板；及びB.基板に隣接した内側表面と、外側表面とを有する、以下のものを含む感熱性複合層構造体：(a)内側表面を有する第一層であって、水溶液中に可溶性または分散性である第一のポリマー状物質と、水溶液における第一層の可溶性を減少する可溶化阻害物質を含む第一層；並びに(b)外側表面を有し、第二のポリマー状物質を含む第二層であって、水溶液中に不溶性であり、第一層が光熱変換物質を含まない場合、第二層は光熱変換物質を含まない第二層を含み、前記複合層構造体を加熱した際、加熱化複合層構造体は、水溶液中で増大した除去速度を有する、ポジ型熱画像形成エレメント。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、赤外線レーザーで画像形成され、水性アルカリ性現像液で現像され
るサーマルリソグラフ印刷版に関する。
【０００２】
【従来の技術】
米国特許第5,340,699号は、紫外線及び赤外線照射の両者に感受性であり、ポ
ジ型またはネガ型態様のいずれかで機能することが可能なリソグラフ印刷版を調
製するために特に採用される放射線感受性組成物を開示する。開示された組成物
は、(1)レゾール樹脂、(2)ノボラック樹脂、(3)潜在性のブレンステッド酸、及
び(4)赤外線吸収剤を含む。水性アルカリ性現像溶液中の前記組成物の可溶性は
、活性化放射線と加熱に対して画像状に露光する工程によって、露光領域で減少
され、非露光領域で増大する。
【０００３】 米国特許第5,858,626号は、単一感受性層を有するリソグラフ印刷版を開示す
る。前記感受性層は、特に赤外線吸収性化合物と、o-ジアゾナフトキノン誘導体
と混合されるかまたは反応されるかのいずれかであるフェノール樹脂という二つ
の必須の構成成分を含む赤外線画像形成組成物を含む。これらの組成物は、直刷
印刷画像形成法に採用できるリソグラフ印刷版のようなポジ型エレメントにおい
て有用である。
【０００４】 WO 97/39894は、現像液不溶性フェノール樹脂と、フェノール樹脂と熱的に壊
れやすい錯体を形成する化合物との錯体で保護膜化されたリソグラフベースを含
むリソグラフ印刷版を開示する。この錯体は、非錯体化フェノール樹脂よりも現
像溶液において不溶性である。しかしながら前記錯体が画像状に加熱される場合
、錯体は壊れて非錯体化フェノール樹脂を現像溶液に溶解させる。かくして、フ
ェノール樹脂が錯体化された場合、フェノール樹脂の加熱領域と非加熱領域の間
での可溶性の差異が増大する。好ましくはレーザー放射線吸収物質がさらに、リ
ソグラフベース上に存在する。フェノール樹脂と熱的に壊れやすい錯体を形成す
る化合物の例が開示されており、キノリニウム化合物、ベンゾチアゾリウム化合
物、ピリジニウム化合物、及びイミダゾリン化合物を含む。
【０００５】 WO 99/11458は、画像形成層で保護膜化された親水性表面を有する支持体を含
むリソグラフ印刷版を開示する。前記画像形成層は、ヒドロキシ、カルボン酸、
tert-ブチル-オキシカルボニル、スルホンアミド、アミド、ニトリル、ウレア、
またはそれらの組み合わせである結合したペンダント基を有する少なくとも一つ
のポリマー；並びに赤外線吸収性化合物を含む。前記画像形成層は、1,2-ナフト
キノンジアジド、ヒドロキシ、カルボン酸、スルホンアミド、ヒドロキシメチル
アミド、アルコキシメチルアミド、ニトリル、マレイミド、ウレア、またはそれ
らの組み合わせある結合したペンダント基を有する第二のポリマーを含んでも良
い。前記画像形成層はさらに、可視的な吸収染料、可溶化阻害剤、または両者を
含んでも良い。事前にまたは事後にＵＶ光に露光する必要なく、または熱処理の
必要なく、赤外線照射を使用して、リソグラフ印刷表面を直接的に画像形成する
方法が開示される。実際に前記画像形成層は、赤外線照射に対して画像状に露光
され、画像形成領域が非画像形成領域と同じくらい不溶性となるまで、可溶性が
経時的に段階的に失われるように、水溶性アルカリ性現像溶液中において一過的
な可溶性を有する画像形成層において、露光された画像形成領域を生産する。露
光して画像形成する短時間の間で、画像形成層は水性アルカリ性現像溶液で現像
され、リソグラフ印刷表面を形成する。この方法では、赤外線照射は好ましくは
、デジタルに制御されるレーザー照射である。
【０００６】 米国特許第5,493,971号は、砂目立てられた金属基板、接着促進プライマーと
しても機能できる保護層、及び除去可能な親油性の表面層を含むリソグラフ印刷
構造体を開示する。操作において、画像態様は、表面層と相互作用する画像形成
レーザーから伝わり、その除去を引き起こし、そして好ましくは下部に存在する
保護層に同時にある損傷を与える。次いで前記画像形成済みプレートは、露光さ
れた保護層を除去する溶媒に接触されても良いが、それは表面層、またはその下
部の露光されていない保護層のいずれかに損傷を与えない。
【０００７】 ポジ型リソグラフ印刷版を作製するための感熱性画像形成エレメントは、欧州
特許出願EP 0864420 A1に開示されている。開示された画像形成エレメントは、
リソグラフベース、水性アルカリ性溶液において可溶性であるポリマー状物質を
含む層、及びＩＲ放射感受性の第二層を含む。第二（トップ）層における画像状
の露光とＩＲ放射の吸収の際に、第二層を浸透し及び／または可溶化する水性ア
ルカリ性溶液の能力が変化する。画像状の露光は、短い並びに長い画素休止時間
で、赤外線レーザーで実施できる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
リソグラフ印刷版の生産のための感熱性エレメントの進歩がなされているが、
赤外線レーザー画像形成装置に対する改良された感度を有するそのようなエレメ
ントについての必要性がまだ存在する。さらに、プロセッサーにおいて非所望の
スラッジを生産することなく、より広い現像寛容度とより広い露光寛容度を有す
るより長い保存期間についての必要性が存在する。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
これらの必要性は、以下のものを含むポジ型熱的画像形成エレメントである本
発明によって解決される： A.基板；及び B.基板に隣接した内側表面と、外側表面とを有する、以下のものを含む感熱性複
合層構造体： (a)内側表面を有する第一層であって、水溶液中に可溶性または分散性である第
一のポリマー状物質と、水溶液における第一層の可溶性を減少する可溶化阻害物
質を含む第一層；並びに (b)外側表面を有し、第二のポリマー状物質を含む第二層であって、水溶液中に
不溶性であり、第一層が光熱変換物質を含まない場合、第二層は光熱変換物質を
含まない第二層； ここで、前記複合層構造体を加熱した際、加熱化複合層構造体は、水溶液中で増
大した除去速度を有する。
【００１０】 とりわけ本発明は、以下のものを含むポジ型リソグラフ印刷版前駆体である： A.親水性基板；及び B.前記親水性基板に隣接した内側表面と、外側の親油性表面とを有する、以下の
ものを含む感熱性複合層構造体： (a)内側表面を有する第一層であって、水溶液中に可溶性または分散性である第
一のポリマー状物質と、光熱変換物質と、水溶液における第一層の可溶性を減少
する可溶化阻害物質を含む第一層；並びに (b)外側の親油性表面を有し、第二のポリマー状物質を含む第二層であって、水
溶液中に不溶性である第二層； ここで、前記複合層構造体を加熱した際、加熱化複合層構造体は水溶液中で増大
した除去速度を有する。
【００１１】 本発明のさらなる実施態様は、以下の工程を以下の順序で含む、リソグラフ印
刷版を形成する方法である： I)以下のものを含むリソグラフ印刷版前駆体を準備する工程； A.親水性基板；及び B.前記親水性基板に隣接した内側表面と、外側の親油性表面とを有する、以下の
ものを含む感熱性複合層構造体： (a)内側表面を有する第一層であって、水溶液中に可溶性または分散性である第
一のポリマー状物質と、水溶液における第一層の可溶性を減少する可溶化阻害物
質を含む第一層；並びに (b)外側の親油性表面を有し、第二のポリマー状物質を含む第二層であって、水
溶液中に不溶性であり、第一層が光熱変換物質を含まない場合、第二層は光熱変
換物質を含まない第二層； II)前記複合層構造体を熱エネルギーに画像状に露光し、前記複合体構造におい
て露光部分と、相補的な非露光部分を提供し、ここで露光部分は水溶液によって
選択的に除去可能である工程；並びに III)外側の親油性表面に水溶液を適用し、露光部分を除去して、親水性基板の被
覆されていない親水性領域と、相補的な外側の親油性表面のインキ受容性領域と
を有する画像形成済みリソグラフ印刷版を生産する工程。 本発明のさらなる実施態様では、画像形成済みリソグラフ印刷版は、工程III
の後に熱エネルギーに均一にさらされる。
【００１２】 本発明の各実施態様では、前記水溶液は好ましくは、約６以上のｐＨを有し；
前記第一のポリマー状物質は好ましくは、有機溶媒に不溶性であり、前記第二の
ポリマー状物質は、有機溶媒に可溶性であり；並びに特に前記エレメントが、赤
外線放射レーザーのようなエネルギーの照射供給源で画像状に露光される場合、
前記第一層は好ましくは、光熱変換物質を含む。好ましくは前記第二層は、光熱
変換物質を含まない。
【００１３】
【発明の実施の形態】
本発明は、熱エネルギーで画像形成できる画像形成エレメントに関する。とり
わけ本発明は、赤外線放射レーザー、熱プリンティングヘッド等での画像状の露
光によって典型的に熱エネルギーにより画像形成可能な、サーマルリソグラフ印
刷版に関する。本発明で記載されるリソグラフプレートは、典型的にアルミニウ
ムまたはポリエステル支持体である親水性基板と、それに接着した、典型的に二
つの層からなる感熱性複合層構造体から形成される。水溶性阻害物質と、典型的
に光熱変換物質とを含む水性の現像可能なポリマー混合物が、親水性基板に被覆
されて、第一層を形成する。第二層は、第一層を溶解しない溶媒に可溶性または
分散性である一つ以上の非水性可溶性ポリマー状物質からなる。ここで使用され
る用語、「可溶化阻害物質」は、水溶液中の第一層の可溶性を減少するように前
記ポリマー状化合物と相互作用する、またはさもなければ影響する一つ以上の化
合物を含む。本発明のポジ型サーマル画像形成エレメントでは、用語、「光熱変
換物質」は、入射放射線を吸収し、放射線を熱エネルギーに変換する一つ以上の
感熱性構成成分を意味する。典型的に、前記光熱変換物質は、「赤外線吸収性」
化合物である。第一層が、光熱変換物質、即ち第一の物質を含む場合、第二層は
、第一の物質と同じまたは異なる光熱変換物質、即ち第二の物質を含んでも良い
。ここで使用される用語、「感熱性」は、用語、「熱感受性」と同義であり、用
語、「画像領域」は、インキ受容性である画像形成済みプレートの表面領域を意
味する。プレートは、非画像領域、即ちインキ受容性ではない「画像領域」の外
側の領域で、典型的に赤外線レーザーまたは熱プリントヘッドで露光される。画
像形成済みプレートの水性現像に際して、露光部分は現像されて除去され、かく
して従来の水性湿し水に対して受容性である基板の親水性表面を露出する。第二
層は、インキ受容性画像領域からなり、下に存在する水溶性コーティング領域を
水性現像液から保護する。本発明の一つの実施態様では、第二層も、光熱変換物
質を含んでも良い。この例では、画像形成露光は、下に存在するコーティングか
ら第二層の露光領域の少なくとも部分的な除去を生じても良い。第二層のあらゆ
る残余の露光領域は、画像形成済みプレートの現像の間で除去される。以下の記
載では、本発明は、赤外線照射と、光熱変換物質として赤外線吸収物質を使用し
て説明されるが、それによって制限されることを企図しない。複合層構造体にお
ける可溶化阻害物質の使用によって、溶液と現像寛容度は改良され、現像は、ス
ラッジを生産することなく、標準的なプロセッサーにおいて実施できる。さらに
、本発明の複合層構造体の使用によって、現像能力と湿気の保存期間は、単一層
の、可溶化阻害剤と共にアルカリ可溶性ポリマーを含むポジ型熱的組成物に対し
て改良される。
【００１４】 プレート構築物 本発明のプレート構築物は、基板によって支持される複合層構造体を含む。前
記複合層構造体は、基板の表面に接着した水溶性赤外線吸収層にオーバーラップ
した、インキ受容性の水不溶性第二層を少なくとも含む。前記複合構造体は、前
記複合構造体に対する親水性または接着性を促進するための基板下塗り層、また
は第二層と赤外線吸収層の間の接着促進中間層のような中間層をさらに含んでも
良い。
【００１５】 基板 平版プレートにおいて使用できる親水性基板は、金属シート物質またはポリマ
ー状シート物質のような、リソグラフ印刷版を調製するために従来使用されるあ
らゆるシート物質を含む。好ましい金属基板は、アルミニウムシートである。ア
ルミニウムシートの表面は、ブラッシング粗面化、電気化学的粗面化、化学的粗
面化、陽極酸化、及びシリケートシーリング等を含む当該技術分野で公知の金属
加工法で処理されても良い。もし基板が粗面化されたならば、平均粗度Ｒａは好
ましくは0.1から0.8μｍの範囲であり、より好ましくは0.1から0.4μｍの範囲で
ある。好ましいアルミニウムシートの厚さは、約0.005in(0.127mm)から約0.020i
n(0.508mm)の範囲である。ポリマー状シート物質は、連続的ポリマー状フィルム
物質、ペーパーシート、複合物質等からなっても良い。典型的にポリマー状シー
ト物質は、表面の親水性を促進するため、次の層に対する接着性を改良するため
、ペーパー基板の平面性を改良するためなどの理由で、表面の特徴を改変するよ
うに、一方または両方の表面でサブコーティングを含む。好ましいポリマー状基
板は、ポリエチレンテレフタラートを含む。
【００１６】 感熱性複合層構造体 第一層 複合層構造体の第一層は、ポリマー状物質、可溶化阻害物質、及び任意に、赤
外線吸収性化合物のような光熱変換物質からなり、ここでポリマー状物質は、約
６以上のｐＨを有する水溶液、即ちわずかに酸性、中性またはアルカリ性の水溶
液に可溶性または分散性である。有用なポリマー状物質は、酸官能性を含み、一
つ以上のポリマーまたは樹脂からなっても良い。そのようなポリマー及び樹脂は
、カルボキシ官能性アクリル、フェノール基及び／またはスルホンアミド基を含
むアクリル、セルロースベースのポリマー及びコポリマー、ビニルアセタート／
クロトナート／ビニルネオデカノアートコポリマー、スチレンマレイン酸無水物
コポリマー、ポリビニルアセタール、フェノール樹脂、マレイン酸化ウッドロジ
ン、及びそれらの組み合わせを含む。約６以上、典型的には約８から約13.5の間
のｐＨを有する水溶液全体に所望の可溶性を達成するため、典型的に二つのポリ
マーが組み合わせて使用される。本発明において特に有用なものは、ノボラック
樹脂、レゾール樹脂、及びノボラック／レゾール樹脂混合物である。
【００１７】 有用なポリマー状物質は、カルボン酸官能性を含まず、フェノール基、スルホ
ンアミド基、N-アシルスルホンアミド、またはそれらの混合物の少なくとも一つ
を含むアルカリ可溶性アクリル樹脂である。このタイプの有用なアクリル樹脂は
、エチルアクリラートと、メチルメタクリラートと、(1-(1-イソシアナト-1-メ
チル)エチル-3-(1-メチル)エテニルベンゼン)/p-アミノフェノール反応産物のウ
レア付加物とのターポリマー（以下AR-1）；アクリロニトリルと、メタクリルア
ミドと、(1-(1-イソシアナト-1-メチル)エチル-3-(1-メチル)エテニルベンゼン)
p-アミノフェノール反応産物のウレア付加物とのターポリマー（以下AR-2）;ア
クリロニトリルと、2-ヒドロキシエチルメタクリラート/p-トルエンスルホニル
イソシアナート反応産物のウレタン付加物とのコポリマー（以下AR-3）；メタク
リルアミドと、N-フェニルマレイミドと、(1-(1-イソシアナト-1-メチル)エチル
-3-(1-メチル)エテニルベンゼン)/p-アミノフェノール反応産物のウレア付加物
とのターポリマー（以下AR-4）；アクリロニトリルと、メタクリルアミドと、N-
フェニルマレイミドと、(1-(1-イソシアナト-1-メチル)エチル-3-(1-メチル)エ
テニルベンゼン)2-アミノ-4-スルホンアミドフェノール反応産物のウレア付加物
とのテトラポリマー（以下AR-5）；並びにアクリロニトリルと、メタクリルアミ
ドと、イソシアナトエチルメタクリラート/p-アミノフェノール反応産物のウレ
ア付加物とのターポリマー（以下AR-6）を、制限することなく含む。
【００１８】 各種の化合物が、第一層の可溶性を減少するための可溶化阻害物質として使用
されて良い。そのような可溶化阻害物質（「溶解インヒビター」としても知られ
ている）は、可逆的な不溶化剤であっても良く、またはそれらは溶媒可溶性構成
成分に不可逆的に変換可能な化合物であっても良い。
【００１９】 可逆的な不溶化剤は典型的に、ヒドロキシルまたはカルボン酸基のようなポリ
マー状物質上の基と水素結合または弱いイオン性結合を形成するためのアクセプ
ター部位として機能する極性またはイオン性官能性を有する。有用なクラスの可
逆的不溶化剤は、少なくとも一つの窒素原子が第四級化されており、複素環に取
り込まれており、または第四級化されて複素環に取り込まれている窒素含有化合
物である。有用な第四級化窒素含有化合物の例は、クリスタルバイオレット(Cl
ベースバイオレット３)、エチルバイオレット及びビクトリアブルー BOのような
トリアリールメタン染料、並びにCetrimide(Ｃ14アルキルトリメチルアンモニウ
ムブロミド)のようなテトラアルキルアンモニウム化合物を含む。好ましい可逆
的不溶化剤は、キノリン及びトリアゾール、例えば1,2,4-トリアゾールのような
窒素含有複素環化合物である。別の好ましい可逆的不溶化剤は、第四級化複素環
化合物である。適切な第四級化複素環化合物の例は、Mona Industriesによって
製造されているモナゾリン C、モナゾリン O、モナゾリン CY、モナゾリン Tの
ようなイミダゾリン化合物；1-エチル-2-メチルキノリニウムアイオダイド及び1
-エチル-4-メチル-キノリニウムアイオダイドのようなキノリニウム化合物；3-
エチル-2-メチルベンゾチアゾリウムアイオダイドのようなベンゾチアゾリウム
化合物；並びにセチルピリジニウムブロミド、エチルビオロゲンジブロミド、及
びフルオロピリジニウムテトラフルオロボラートのようなピリジニウム化合物で
ある。キノリニウムまたはベンゾチアゾリウム化合物は、キノリジンブルー、3-
エチル-2-[3-(3-エチル-2(3H)-ベンゾチアゾリリデン)-2-メチル-1-プロペニル]
ベンゾチアゾリウムアイオダイド、または以下の構造を有する染料 Aのような、
カチオン性シアニン染料であっても良い：
【化４】 さらに有用なクラスの可逆的不溶化剤は、α-ナフトフラボン、β-ナフトフラ
ボン、2,3-ジフェニル-1-インデンオン、フラボン、フラバノン、キサントン、
ベンゾフェノン、N-(4-ブロモブチル)-フタルイミド、及びフェナンスレンキノ
ンのような、カルボニル含有化合物である。本発明の第一層を調製するのに有用
であり、可逆的不溶化剤化合物を含む製剤は、WO 97/39894及び米国特許第5,858
,626号に記載されており、それぞれの文献が単一層のリソグラフ印刷版に向けら
れている。
【００２０】 本発明の第一層を製剤化する点で有用である可溶化阻害化合物は、従来のo-キ
ノンジアジド化合物のような、溶媒可溶性構成成分に不可逆的に変換可能な化合
物であっても良い。本発明の第一層を調製するのに有用であり、不可逆的不溶化
化合物を含む製剤は、Sheriff等、米国特許第5,858,626号に記載されており、そ
の文献は単一層のリソグラフ印刷版に向けられている。典型的に、o-ジアゾナフ
トキノン化合物は、現像液不溶性層を形成するために、フェノール樹脂と混合し
て使用される。若しくは前記o-キノンジアジドは、例えばエステル結合を通じて
、水溶液可溶性ポリマー状物質に直接結合されても良い。画像形成処理の際に、
処理領域は、現像液に可溶性となる。もし画像形成処理が、紫外線照射に露光さ
れたならば、o-ジアゾナフトキノンは、処理領域をアルカリ性現像液に可溶性ま
たは分散性にする、インデンカルボン酸に不可逆的に変換されると解される。本
発明の第一層において使用できるこのタイプの可溶化阻害化合物は、前述の米国
特許第5,858,626号に記載されたo-ジアゾ-ナフトキノン誘導体である。開示され
たo-ジアゾナフトキノン誘導体は、ポジ型リソグラフプレートを形成するために
製剤において、フェノール樹脂及び赤外線吸収化合物と混合して使用される。そ
のようなo-ジアゾナフトキノン誘導体は典型的に、少なくとも15であるが5000未
満の分子量を有する安定部分に結合したo-ジアゾナフトキノン部分または基を含
む。そのようなo-ジアゾナフトキノン誘導体の例は、2-ジアゾ-1,2-ジヒドロ-1-
オキソ-ナフタレンスルホン酸またはカルボン酸クロリドのエステルである。そ
のような有用な誘導体は、2,4-ビス(2-ジアゾ-1,2-ジヒドロ-1-オキソ-5-ナフタ
レンスルホニルオキシ)ベンゾフェノン；2-ジアゾ-1,2-ジヒドロ-1-オキソ-5-ナ
フタレンスルホニルオキシ-2,2-ビスヒドロキシフェニルプロパンモノエステル
、2-ジアゾ-1,2-ジヒドロ-1-オキソ-5-ナフタレンスルホン酸のヘキサヒドロキ
シベンゾフェノンヘキサエステル；2,2'-ビス(2-ジアゾ-1,2-ジヒドロ-1-オキソ
-5-ナフタレンスルホニルオキシ)ビフェニル；2,2',4,4'-テトラキス(2-ジアゾ-
1,2-ジヒドロ-1-オキソ-5-ナフタレンスルホニルオキシ)ビフェニル；2,3,4-ト
リス(2-ジアゾ-1,2-ジヒドロ-1-オキソ-5-ナフタレンスルホニルオキシ)ベンゾ
フェノン；2,4-ビス(2-ジアゾ-1,2-ジヒドロ-1-オキソ-4-ナフタレンスルホニル
オキシ)ベンゾフェノン；2-ジアゾ-1,2-ジヒドロ-1-オキソ-4-ナフタレンスルホ
ニルオキシ-,2-ビスヒドロキシフェニルプロパンモノエステル；2-ジアゾ-1,2-
ジヒドロ-1-オキソ-4-ナフタレンスルホン酸のヘキサヒドロキシベンゾフェノン
ヘキサエステル；2,2'-ビス(2-ジアゾ-1,2-ジヒドロ-1-オキソ-4-ナフタレンス
ルホニルオキシ)ビフェニル；2,2'4,4'-テトラキス(2-ジアゾ-1,2-ジヒドロ-1-
オキソ-4-ナフタレンスルホニルオキシ)ビフェニル；2,3,4-トリス(2-ジアゾ-1,
2-ジヒドロ-1-オキソ-4-ナフタレンスルホニルオキシ)ベンゾフェノン等の、米
国特許第5,143,816号に記載されたような化合物を制限することなく含む。この
実施態様では、o-ジアゾナフトキノン誘導体に対するフェノール樹脂の乾燥重量
比は典型的に、少なくとも0.5：１であり、約２：１から約６：１の重量比が好
ましい。
【００２１】 本発明の変形的な実施態様では、水溶液可溶性ポリマー状物質（前述のような
）とo-ジアゾナフトキノン反応性誘導体の反応産物であるo-キノンジアジドは、
第一層を調製するために使用される。そのような誘導体は、ポリマー状物質（フ
ェノール樹脂のような）の適切な反応基（例えばヒドロキシ基）と反応可能な官
能基（クロリドまたは反応性イミド基のような）を有し、それによってポリマー
状物質の一部となり、前記物質を感光性にする。反応基は、o-ジアゾナフトキノ
ン分子の４位または５位に存在できる。代表的な反応性化合物は、o-ジアゾナフ
トキノン部分のスルホン酸及びカルボン酸、エステルまたはアミド誘導体を含む
。好ましい化合物は、スルホニルクロリドまたはエステルであり、スルホニルク
ロリドが最も好ましい。フェノール樹脂とのそのような反応は、GB 1,546,633、
US-A-4,308,368及びUS-A-5,145,763に記載されている。WO 99/11458の単一層シ
ステムに記載されたようなフェノール樹脂のo-ジアゾナフトキノン誘導体もまた
、第一層の調製において有用であり、これは、1,2-ナフトキノンジアジド基がス
ルホニルエステル結合を通じてフェノール樹脂に結合した、ピロガロールとアセ
トンの縮合ポリマーを含む。
【００２２】 本発明の好ましい実施態様では、第一層は、赤外線吸収剤のような第一の光熱
変換物質を含む。赤外線吸収剤は、染料または顔料のいずれかから選択されても
良い。赤外線吸収剤を選択する際の主な因子は、Beer's Lawに従った、赤外線照
射を吸収する際の染料または顔料の効率を測定する吸光係数である。吸光係数は
、通常780nmから1300nmの赤外線照射露光の波長領域において十分な値を有さな
ければならない。本発明において有用な赤外線吸収染料の例は、Cyasorb IR 99
及びCyasorb IR 165(Glendale Protective Technology)、Epolite IV-62B及びEp
olite III-178(Epoline Corporation)、PINA-780(Allied Signal)、Spectra IR
830A及びSpectra IR 840A(Spectra Colors)、ADS 830A及びADS 1060A(ADS Corp)
、並びにEC 2117(FEW Wolfen)を含む。赤外線吸収顔料の例は、Projet 900、Pro
jet 860及びProjet 830(Zeneca)である。カーボンブラック顔料もまた使用され
ても良い。そのようなカーボンブラックベースのプレートは、広範囲のピーク放
射波長を有する複数の赤外線画像形成装置で使用できるため、カーボンブラック
顔料は、その広い吸収バンドのため特に有利である。
【００２３】 本発明の一つの実施態様では、可溶化阻害物質は、光熱変換物質である。二重
の官能性を有するそのような物質の代表例は、Haley, 米国特許第5,340,699号に
記載された単一層製剤において使用される、以下の式を有する染料 Bである：
【化５】
【００２４】 第二層 複合層構造体の第二層、即ちトップ層は、約６以上のｐＨを有する水溶液に不
溶性であり、インキ受容性で且つ有機溶媒のような溶媒または水性溶媒分散物に
可溶性または分散性であるポリマー状物質を必須成分として含む。好ましくは前
記ポリマー状物質自体は、約６以上のｐＨを有する水溶液に不溶性である。この
タイプの有用なポリマーは、アクリルポリマー及びコポリマー；ポリスチレン；
スチレン−アクリルコポリマー；ポリエステル、ポリアミド；ポリウレア；ポリ
ウレタン；ニトロセルロース；エポキシ樹脂；及びそれらの組み合わせを含む。
ポリメチルメタクリラート、ニトロセルロース、及びポリスチレンが好ましい。
第一層が光熱変換物質を含む場合、第二層もまた光熱変換物質を含んでも良く、
その物質は典型的に、第一の赤外線吸収層における光熱変換物質として使用され
る赤外線吸収染料と同じである。第二層はさらに、プロセッシングの間で非露光
領域から露光領域を区別するために加えられるプリントアウト染料；または最終
画像形成済みプレートにおける画像領域を区別する画像形成染料のような染料ま
たは顔料を含んでも良い。第二層はさらに、第二のポリマー状物質と非相溶性で
あるポリマー状粒子を含んでも良い。ここで使用される用語、「非相溶性」は、
前記ポリマー状粒子が、第二のポリマー状物質内で別個の相として維持されるこ
とを意味する。典型的に前記ポリマー状粒子は、約0.5μｍから約10μｍの間の
平均径を有する。このタイプの好ましいポリマー状粒子は、ポリテトラフルオロ
エチレン粒子である。そのようなポリマー状粒子の存在は、複合層の耐傷性を改
良し、プレートをプロセッシングするための露光寛容度を驚く程増大する。典型
的に第二層は、イオン性基を実質的に含まない。
【００２５】 プレート前駆体の調製 複合層構造体は、従来のコーティングまたはラミネーション法を使用して、第
一層を、次いで第二層を連続的に適用することによって基板に適用されても良い
。若しくは両者の層を、スロットタイプのコーター等で複相コーティング法を使
用して同時に適用しても良く；または乾燥の際にトップ層と下地層内に自己層状
化を受ける単一の溶液から適用しても良い。しかしながら、感度を減少する傾向
にある層の実質的な混合を避けることが重要である。適用方法に関わらず、第一
層は、基板に隣接する内側表面を有し、適用された複合層の第二層は、外側表面
を有する。
【００２６】 第一層は、あらゆる従来法によって親水性基板に適用されて良い。典型的にそ
の成分は、適切なコーティング溶媒に溶解または分散され、生成した溶媒混合物
が、ホイールコーティング、バーコーティング、グラビアコーティング、ローラ
ーコーティング等による公知の方法によって被覆される。適切なコーティング溶
媒は、2-メトキシエタノールのようなアルコキシアルカノール；メチルエチルケ
トンのようなケトン；エチルアセタート若しくはブチルアセタートのようなエス
テル；並びにそれらの混合物を含む。
【００２７】 第二層即ちトップ層は、前述のようなあらゆる従来法によって、第一層の表面
に適用されて良い。典型的なその成分は、第一層のための溶媒ではない適切な有
機コーティング溶媒に溶解または分散される。第二層をコーティングするための
適切なコーティング溶媒は、トルエンのような芳香族溶媒、及び90：10の重量比
のトルエンとブタノールのような芳香族溶媒とアルカノールとの混合物を含む。
【００２８】 別法として、第一層、第二層、または両者の層は、層構成成分の溶融混合物か
ら従来の押出コーティング法によって適用されても良い。典型的にそのような溶
融混合物は、揮発性有機溶媒を含まない。
【００２９】 プレート画像形成とプロセッシング サーマルデジタルリソグラフ印刷版前駆体は、以下の工程を含む方法によって
画像形成される。第一に、親水性基板と、それに接着した、親水性基板に隣接し
た内側表面と外側の親油性インキ受容性表面とを有する複合層構造体を含むリソ
グラフ印刷版前駆体が準備される。複合層構造体は、その複合層構造体の内側表
面を形成する第一層と、その複合層構造体の外側表面を形成する第二層を含む。
第一層は、前述のように、第一のポリマー状物質、可溶化阻害物質、及び光熱変
換物質を含み、ここで第一のポリマー状物質は、約６以上のｐＨを有する水溶液
中に可溶性または分散性であり、可溶化阻害物質は、第一層の可溶性を減少する
。第二層は、前述のように、有機溶媒に可溶性である第二のポリマー状物質から
必須になり、ここで第二層は、水溶液中に不溶性である。次に複合層構造体を、
熱エネルギーに画像状に露光し、この複合層構造体に露光部分または領域と、相
補的な非露光部分または領域を生じさせる。露光部分は驚くべきことに、水溶液
によって選択的に除去される。最後に水溶液を、外側親油性表面に適用し、複合
層構造体の露光部分を除去し、画像形成リソグラフ印刷版を生産する。生成した
画像形成済みリソグラフ印刷版は、親水性基板の被覆化されていない親水性領域
と、相補的な外側親油性表面のインキ受容性領域を有する。あらゆる特定の理論
によって理論付けられるものではないが、露光領域の選択的な除去能力は、水溶
液中の第一層の増大した可溶化または分散化速度と、水溶液またはそれらの組み
合わせに対する第二層の増大した浸透性から生じると解される。本発明の印刷版
は、現像の前の事前加熱のような現像前の条件設定に対する必要性がなく、有用
な現像寛容度を有するため、他のリソグラフ印刷版システムに対し別個の利点を
有する。
【００３０】 本発明のリソグラフプレート、及びその調製方法は、すでに前述されている。
このプレートは、第一の赤外線吸収層の吸収スペクトルに非常に適合した波長領
域の赤外線照射を放射するレーザーまたはレーザーのアレイで画像形成されても
良い。適切な市販の画像形成装置は、Creo Trendsetter(CREO Corporation, Bri
tish Columbia, Canada)及びGerber Crescent 42T(Gerber Corporation)のよう
な画像セッターを含む。赤外線レーザーが好ましい一方で、可視光線または紫外
線を放射する他の高強度レーザーもまた、本発明のリソグラフプレートを画像形
成するために使用されて良い。別法として、本発明のリソグラフプレートは、以
下の実施例で説明されるように、熱プリンティングヘッドを含む従来の装置、ま
たは過熱化スチール、過熱化スタンプ、若しくははんだごて等で複合層を画像状
に伝導的に加熱するためのいずれかの他の手段を使用して画像形成されても良い
。
【００３１】 複合層構造体の一部が赤外線照射に露光される場合、それらは水性現像液によ
って選択的に除去可能となり、それによって除去される。現像液は、複合層構造
体の相補的な非露光部分に実質的に影響することなく、露光領域に浸透し、赤外
線吸収層の露光領域を溶解または分散することの両方が可能なあらゆる液体また
は溶液であって良い。有用な現像液は、前述のように約６以上のｐＨを有する水
溶液である。好ましい現像液は、約８から約13.5の間のｐＨを有するものである
。有用な現像液は、PC3000、PC955、PC956、PC4005、PC9000並びにGoldstar(登
録商標)DC水性アルカリ性現像液(Kodak Polychrome Graphics, LLC)のような市
販の現像液を含む。典型的な現像液は、現像液を含むアプリケーターで、第二層
を擦るまたは拭うことによって画像形成済みプレートに適用される。別法として
、画像形成済みプレートは、現像液でブラッシングされても良く、または現像液
は、十分な力で第二層をスプレー処理することによってプレートに適用され、露
光領域を除去しても良い。別法として画像形成済みプレートは現像液に浸され、
次いで水でプレートを擦るまたはブラッシングすることができる。そのような方
法によって、赤外線照射に露光されていない、インキ受容性である、複合層の親
水性で相補的な領域である非被覆領域を有する現像済み印刷版が生産される。
【００３２】 良好なインキ受容性を有する高いプレス寿命のリソグラフ印刷版は、本発明の
方法によって高い画像形成速度で生産されるが、プレス寿命は驚くべきことに、
それが工程IIIにおいて現像処理された後、熱エネルギーに対して画像形成済み
リソグラフ印刷版を均一にさらすることによってさらに増大される。そのような
均一な熱露出は、焼き付け、過熱化圧板との接触、赤外線照射に対する露出等の
あらゆる従来の加熱法によって実施されて良い。現像後の熱露出のための好まし
い態様では、現像済み画像形成リソグラフ印刷版を、焼き付けゴムでの処理の後
、240℃で３分焼き付けオーブンに通過させる。
【００３３】 本発明のサーマルリソグラフ印刷版は、以下の実施例によって説明されるが、
それらによって制限されることを企図しない。
【００３４】
【実施例】
（ＣＯＯＨ基を持たないアクリルバインダー樹脂の合成） アクリルバインダー樹脂を、メカニカルスターラー、ロングスタンド（２４”
）コンデンサー、温度コントローラー、窒素パージ、均圧滴下漏斗、及び加熱マ
ントルを取り付けた１または２リットルの四つ口丸底ガラスフラスコを用いて調
製した。
【００３５】 （合成実施例１（ＡＲ−１）） ３０gのｍ-ＴＭＩ（ｍ-ＴＭＩは、１-（１-イソシアナート-１-メチル）エチ
ル-３-（１-メチル）エテニルベンゼン、Cytec industries社製）、５gのエチル
アクリレート、１５gのメチルメタクリレート、及び８gのt-ブチルペルオキシベ
ンゾエートを、Ｎ2パージ下、２３２gのAcrosolve PMAcetate（プロピレングリ
コールメチルエーテルアセテート、Arco achemicals社製）中で１２０℃に加熱
した。その後９０gのｍ-ＴＭＩ、１５gのエチルアクリレート、４５gのメチルメ
タクリレート、１６gのt-ブチルペルオキシベンゾエート（Aldrich Chemicals）
の混合物を、２時間に亘って加えた。添加完了後、更に８gのt-ブチルペルオキ
シベンゾエートを等量ずつ二度に分けて加えた。反応は、理論％不揮発物（５０
％）で７時間にて完了した。その後ｍ-ＴＭＩの遊離の-ＮＣＯ基を含むこの溶液
（１６４．５４g）の部分バッチを、p-アミノフェノール（２２．２５g）と１：
１等量比で更に反応させた。反応を、２２７５cm-1の-ＮＣＯ基の消失について
ＩＲスペクトルでモニタし、４０℃に加熱することで完了させた。エチルアクリ
レート、メチルメタクリレート、及びｍ-ＴＭＩ／p-アミノフェノールの尿素ア
ダクトのターポリマーである生成物（ＡＲ−１）が、水／氷を使用したところ粉
末形態で析出し、これを濾過して室温にて乾燥させた。生成したターポリマーＡ
Ｒ−１は、以下の構造を有していた：
【化６】
【００３６】 （合成実施例２（ＡＲ−２）） ２０１gのｍ-ＴＭＩ及び１１１．３gのp-アミノフェノールを、Ｎ2パージ下、
ジメチルアセトアミド（４８７g）中で４０℃に加熱した。上述のようにモニタ
して、反応完了後に、生成したモノマーアダクトを水／氷を使用して析出させ、
濾過して室温にて乾燥させた。５０gのモノマーアダクト、１０gのメタクリルア
ミド、４０gのアクリロニトリル、及び１．０gのVazo（登録商標）-64（Du Pont
, Wilmigton, DE, USA）をプレミックスし、２時間に亘って、８０℃に加熱した
１００gのジメチルアセタミド及び０．３gのVazo（登録商標）-64の溶液に加え
ることにより共重合化させた。添加完了後、更に１．０gのVazo（登録商標）-64
を等量ずつ二度に分けて加えた。反応は、理論％不揮発物への転換により決定さ
れ、８時間で完了した。アクリロニトリル、メタクリルアミド、及びｍ-ＴＭＩ
／p-アミノフェノールの尿素アダクトのターポリマーである生成物（ＡＲ−２）
が、合成実施例１のように単離された。生成したターポリマーＡＲ−２は、以下
の構造を有していた：
【化７】
【００３７】 （合成実施例３（ＡＲ−３）） ６５gの２-ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）、及び０．４gのジ
ブチルスズジラウレートを、Ｎ2パージ下、ジメチルアセトアミド（２４７g）中
で６０℃に加熱した。その後９８gのＴＳＩ、p-トルエンスルホニルイソシアネ
ート（Vanchem）を６０℃にて１時間に亘って加えた。反応は上述の様にモニタ
したところ２時間で完了し、生成したモノマーアダクトを水／氷を使用して析出
させ、濾過して室温にて乾燥させた。モノマーアダクト（３７．５g）を、６１
．５gのジメチルアセタミド中０．２５gのVazo（登録商標）-64と共に８０℃に
加熱することによって、１０gのアクリロニトリルと共重合化させた。その後、
１１２．５gのモノマーアダクト、３０gのアクリロニトリル、及び０．５gのVaz
o（登録商標）-64を２時間に亘って加えた。転化完了後、０．２５gのVazo（登
録商標）-64を等量ずつ二度に分けて加えた。反応は、理論％不揮発物への転換
により決定され、１５時間で完了した。アクリロニトリルとＨＥＭＡ／ＴＳＩの
ウレタンアダクトとのコポリマーである生成物（ＡＲ−３）が、合成実施例１の
ように単離された。生成したターポリマーＡＲ−３は、以下の構造を有していた
：
【化８】
【００３８】 （合成実施例４（ＡＲ−４）） ２０１gのm-ＴＭＩ及び１１１．３gのp-アミノフェノールを、Ｎ2パージ下、
ジメチルアセトアミド（４８７g）中で４０℃に加熱した。上述の様にモニタし
、反応完了後に水／氷を使用して中間体モノマーアダクトを析出させ、これを濾
過して室温にて乾燥させた。モノマーアダクト（５０g）を、３００gのジメチル
アセタミド中０．２gのVazo（登録商標）-64と共に６０℃に２２時間加熱するこ
とによって、１０gのメタクリルアミド、４０gのＮ-フェニルマレイミド（Nippo
n Shokubai Co., LTD Japan）と共重合化させた。アクリルアミド、Ｎ-フェニル
マレイミド、及びＴＭＩ／p-アミノフェノールの尿素アダクトのターポリマーで
ある生成物（ＡＲ−４）が、合成実施例１のように単離された。生成したターポ
リマーＡＲ−４は、以下の構造を有していた：
【化９】
【００３９】 （合成実施例５（ＡＲ−５）） ３２．０４gのｍ-ＴＭＩ及び３０．０gの２-アミノ-４-スルホンアミドフェノ
ールを、Ｎ2パージ下、ジメチルホルムアミド（９８g）中で３０℃に加熱した。
上述のようにモニタして、反応完了後に、中間体モノマーアダクトを水／氷を使
用して析出させ、濾過して室温にて乾燥させた。モノマーアダクト（３５g）を
、３００．６gのジメチルアセタミド中、０．２gのVazo（登録商標）-64を使用
して６０℃に２２時間、次いで８０℃に１０時間加熱することにより、１０gの
メタクリルアミド、４５gのＮ-フェニルマレイミド、及び１０gのアクリロニト
リルと共重合化させた。添加完了後、更に１．０gのVazo（登録商標）-64を等量
ずつ二度に分けて加えた。アクリロニトリル、メタクリルアミド、Ｎ-フェニル
マレイミド、及びＴＭＩ／２-アミノ-４-スルホンアミドフェノールの尿素アダ
クトのターポリマーである生成物（ＡＲ−５）が、合成実施例１のように単離さ
れた。生成したターポリマーＡＲ−５は、以下の構造を有していた：
【化１０】
【００４０】 （アクリル樹脂（ＡＲ−６）） クリロニトリル、メタクリルアミド、及びイソシアネートメタクリレート／p-
アミノフェノールの尿素アダクトのターポリマーであるアクリル樹脂ＡＲ−６を
、大日本インキ化学（株）より入手した。製品ターポリマーＡＲ−６は、以下の
構造を有していた：
【化１１】
【００４１】 （比較例１） リソグラフ印刷版前駆体を、以下のように調製した。 １００mLの１-メトキシ-２-プロパノールに、下記のものを加えた： （１）２-ブタノンと１-メトキシ-２-プロパノールとの混合物中のレゾール樹脂
（UCAR BKS-5928, Union Carbide）の３０重量％溶液、１０mL； （２）アセトン中のノボラック樹脂（N-9P NOVOLAC樹脂、Eastman Kodak Compan
yより入手可能）の３０重量％溶液、１０mL； （３）２mLのアセトニトリル中の２-メトキシ-４-アミノフェニルジアゾニウム
ヘキサフルオロホスフェート、０．５グラム； （４）１０mLの１-メトキシ-２-プロパノール中に溶解させた赤外吸収「染料 B
」（以下に記載）、０．５グラム。
【００４２】 得られた溶液を、電気化学的に研磨し、陽極酸化化したアルミニウムプレート
上に、毎分３０回転にて１分間スピンコートし、通風オーブン中１００℃にて１
分間乾燥させた。
【００４３】 プレート前駆体を、１２０乃至２５０mJ/cm2の照射量で８３０nmにて放射する
レーザーダイオードアレイを有するCreo Trendsetter熱露光装置（thermal expo
sure device）でレーザーで画像形成した。約１４のｐＨを有するポジ型現像液M
X-1710（Kodak Polychrome Graphics）を用いて常温にてアルカリ現像したとこ
ろ、レーザー露光領域がきれいに除かれた。
【００４４】 現像液滴下試験を行ったが、ここでは現像液の液滴を連続して非現像プレート
の露光領域並びに非露光（画像）領域に適用した。現像液の液滴が浸透して該液
滴下のコーティングを除去するのに要する時間を、実質的に５秒間隔で測定した
。特に、一連の液滴を、相次いでプレート表面上に適用したが、ここでは続く各
液滴を、その前の点へのその前の液滴適用から５秒間隔の、プレート表面の別の
点に適用する。滴下試験は、最後の液滴適用の５秒後に、プレート表面を流水で
すすぐことにより完了する。その後、プレートの表面を、列の中でコーティング
が除去されている最も最近の点を探し、間隔の数からすすぎ前の時間を算出する
。この例では、現像液の液滴は、液滴下のコーティングを、露光領域では１０秒
以内に、非露光領域では１５秒以内に除去した。
【００４５】 プレート前駆体の貯蔵寿命を、促進老化試験によって測定したが、ここでは、
試料を８０％R.H.及び６０℃にてチャンバに貯蔵した。一日間隔で試料をチャン
バから取り出して上述のように画像形成及び現像した。貯蔵寿命（日）は、処理
したプレート前駆体が有用なプレートを製造し損なうまでに要した処理長さを示
す。この条件によるプレート前駆体の貯蔵寿命は、１日未満であると決定された
。
【００４６】 （実施例１） リソグラフ印刷版前駆体を、比較例１に記載のように調製した。
【００４７】 １３．２gのＡ−２１（トルエン／ブタノール９０：１０溶媒混合物中のポリ
メチルメタクリレート（PMMA）の３０％溶液、Rohm & Haas社製）を、１９０gの
トルエンに溶解させた。該溶液を撹拌し、上述のプレート前駆体のコーティング
層の最上面にコーティングした。
【００４８】 コーティングしたプレート前駆体を、Creo Trendsetter熱露光装置でレーザー
で画像形成し、比較例１に記載のように現像して、レーザー露光領域がきれいに
除かれた印刷版を得た。
【００４９】 比較例１に記載した現像液滴下試験は、比較例１において観察されたように露
光領域において１０秒以内に液滴下のコーティングが除去される結果となった。
しかしながら、非露光領域の液滴下のコーティングは、１００秒以内でも除去さ
れず、これにより保護膜化されたプレートの現像寛容度の改善が示された。
【００５０】 コーティングされたプレート前駆体の貯蔵寿命を、比較例１の促進老化試験に
よって測定したところ、４日より長いことが判明し、コーティングされたプレー
トの貯蔵寿命が実質的に改善されたことを示した。
【００５１】 （比較例２） リソグラフ印刷版前駆体を、以下のように調製した。コーティング溶液を、１
-メトキシプロパン-２-オール／キシレン（９８：２重量％）中に７０重量部の
ＬＢ６５６４（Bakelite, UKにより市販の１：１フェノール／クレゾール ノボ
ラック樹脂）；２０重量部のＬＢ７４４（Bakelite, UKにより市販のクレゾール
ノボラック樹脂）；６重量部のSilikophen P50X、フェニルメチルシロキサン（
Tego Chemie Service Gmbh, Essen, Germany）；２重量部のクリスタルバイオレ
ット（塩基性バイオレット３、Ｃ．Ｉ．４２５５５、ゲンチアンバイオレット）
；及び以下の構造：
【化１２】 を有するとされる染料ＫＦ６５４Ｂ ＰＩＮＡ（Riedel de Haan UK, Middlesex,
UK）（以下、染料 Cと呼称）２重量部を含有する溶液として調製した。
【００５２】 このコーティング溶液を、電気研磨し、陽極化し、無機ホスフェートの水性溶
液で後陽極化処理した０．３mmのシートアルミニウムに、巻き線バーを利用して
コーティングした。該溶液濃度は、Werner Mathis AG, Germanyにより市販のMat
his labdryerオーブン中、１００℃にて３分間硬化乾燥させた後に２．５g/m2の
乾燥フィルムコーティング重量を与えるように選択した。
【００５３】 プレート前駆体を、１２０乃至２５０mJ/cm2の照射量で８３０nmにて放射する
レーザーダイオードアレイを有するCreo Trendsetter熱露光装置でレーザーで画
像形成した。約１４のｐＨを有するポジ型現像液Goldstar（登録商標）（Kodak
Polychrome Graphics）を用いて常温にてアルカリ現像したところ、レーザー露
光領域がきれいに除かれた。
【００５４】 比較例１に記載のような現像液滴下試験を、露光した非現像プレートに行った
。この例では、現像液の液滴は、液滴下のコーティングを、露光領域では１５秒
以内に、非露光領域では３０秒以内に除去した。
【００５５】 プレート前駆体の貯蔵寿命を、比較例１に記載した促進老化試験によって測定
した。この条件によるプレート前駆体の貯蔵寿命は、２日間であると決定された
。
【００５６】 （実施例２） リソグラフ印刷版前駆体を比較例２に記載のように調製した。
【００５７】 １３．２gのＡ−２１を、１９０gのトルエンに溶解させた。該溶液を撹拌した
後、印刷版前駆体のコーティング層の最上面にコーティングした。
【００５８】 コーティングしたプレート前駆体を、比較例２に記載のようにCreo Trendsett
er熱露光装置でレーザーで画像形成し、比較例１に記載のように現像して、レー
ザー露光領域がきれいに除かれた印刷版を得た。
【００５９】 比較例２に記載した現像液滴下試験は、比較例２において観察されたように露
光領域において１５秒以内に液滴下のコーティングが除去される結果となった。
しかしながら、非露光領域の液滴下のコーティングは、１００秒以内でも除去さ
れず、これによりオーバーコーティングされたプレートの現像寛容度の改善が示
された。
【００６０】 コーティングされたプレート前駆体の貯蔵寿命を、比較例１の促進老化試験に
よって測定したところ、４日より長いことが判明し、コーティングされたプレー
トの貯蔵寿命が実質的に改善されたことを示した。
【００６１】 （比較例３） リソグラフ印刷版前駆体を、以下のように調製した。ポリマー性コーティング
は、０．２gのSpectraIR830染料（Spectra Colors Corp., Kearny, NJ）、０．
０５gのエチルバイオレット、０．６gのUravar FN6レゾールフェノール樹脂（DS
M, Netherlands）、１．５gのPMP-65コポリマー（PMP-65コポリマーは、メタク
リルアミド、アクリロニトリル、メチルメタクリレート、及びアミノフェノール
と反応させたメタクリルオキシエチルイソシアネートであるＡＰＫ（Polychrome
Corporation）に基づく）、及び７．６５gのPD140Aノボラック樹脂（Borden Ch
emicals, MA））を、１５％のDowanol（登録商標）PM、４０％の１，３-ジオキ
ソラン、及び４５％のメタノールを含有する溶媒混合物１００g中に溶解させる
ことによって調製した。該溶液を、巻き線バーでＥＧアルミニウム基板にコーテ
ィングし、１００℃にて５分間乾燥させ、１．８乃至２．２g/m2のコーティング
重量をもつ均一なポリマー性コーティングを製造した。
【００６２】 プレート前駆体を、１２０乃至２５０mJ/cm2の照射量で８３０nmにて放射する
レーザーダイオードアレイを有するCreo Trendsetter熱露光装置でレーザーで画
像形成した。約１４のｐＨを有するポジ型現像液PC-4000（Kodak Polychrome Gr
aphics）を用いて常温にてアルカリ現像したところ、レーザー露光領域がきれい
に除かれた。
【００６３】 比較例１に記載のような現像液滴下試験を、露光した非現像刷版に行った。こ
の例では、現像液の液滴は、液滴下のコーティングを、露光領域では２０秒以内
に、非露光領域では５０秒以内に除去した。
【００６４】 プレート前駆体の貯蔵寿命を、比較例１に記載した促進老化試験によって測定
した。この条件によるプレート前駆体の貯蔵寿命は、２日未満であると決定され
た。
【００６５】 （実施例３） リソグラフ印刷版前駆体を、比較例３に記載のように調製した。
【００６６】 １３．２gのＡ−２１を、１９０gのトルエンに溶解させた。該溶液を撹拌した
後、プレート前駆体のコーティング層の最上面にコーティングした。
【００６７】 コーティングしたプレート前駆体を、比較例３に記載のようにCreo Trendsett
er熱露光装置でレーザーで画像形成し、比較例３に記載のように現像して、レー
ザー露光領域がきれいに除かれた印刷版を得た。
【００６８】 比較例３に記載した現像液滴下試験は、比較例３において観察されたように露
光領域において２０秒以内に液滴下のコーティングが除去される結果となった。
しかしながら、非露光領域の液滴下のコーティングは、１００秒以内でも除去さ
れず、これによりオーバーコーティングされたプレートの現像寛容度の改善が示
された。
【００６９】 コーティングされたプレート前駆体の貯蔵寿命を、比較例１の促進老化試験に
よって測定したところ、４日間であることが判明し、コーティングされたプレー
トの貯蔵寿命が実質的に改善されたことを示した。
【００７０】 （比較例４） リソグラフ印刷版前駆体を、以下のように調製した。感光性コーティング製剤
を、クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂（Schenectady Chemical Companyより購
入）（２-ジアゾ-１，２-ジヒドロ-１-オキソ-５-ナフタレンスルホニルクロラ
イドで誘導体化（３％）、誘導体化させた樹脂４５．３g）、２-[２-[２-クロロ
-３-[（１，３-ジヒドロ-１，１，３-トリメチル-２Ｈ-ベンズ[エ]インドール-
２-イリデン）-エチリデン-１-シクロヘキセン-１-イル]エテニル]-１，１，３-
トリメチル-１Ｈ-ベンズ[エ]インドリウム、４-メチルベンゼンスルホン酸ＩＲ
吸収染料との塩（０．６２６g）、及び１-メトキシ-２-プロパノール溶媒（９５
０g）を用いて調製した。この製剤を、電気化学的に研磨し、硫酸陽極化し、更
にアクリルビニルホスホン酸コポリマーで処理（ＵＳ-Ａ-５，３６８，９７４に
よる）したアルミニウムシートに、１g/m2の乾燥コーティング重量を与えるよう
に適用して、リソグラフ印刷版前駆体を形成した。
【００７１】 プレート前駆体を、１２０乃至２５０mJ/cm2の照射量で８３０nmにて放射する
レーザーダイオードアレイを有するCreo Trendsetter熱露光装置でレーザーで画
像形成した。約１４のｐＨを有するポジ型現像液PC-3000（Kodak Polychrome Gr
aphics）を用いて常温にてアルカリ現像したところ、レーザー露光領域がきれい
に除かれた。
【００７２】 比較例１に記載のような現像液滴下試験を、露光した非現像プレートに行った
。この例では、現像液の液滴は、液滴下のコーティングを、露光領域では１０秒
以内に、非露光領域では２０秒以内に除去した。
【００７３】 プレート前駆体の貯蔵寿命を、比較例１に記載した促進老化試験によって測定
した。この条件によるプレート前駆体の貯蔵寿命は、２日未満であると決定され
た。
【００７４】 （実施例４） リソグラフ印刷版前駆体を比較例４に記載のように調製した。
【００７５】 １３．２gのＡ−２１を、１９０gのトルエンに溶解させた。該溶液を撹拌した
後、印刷版前駆体のコーティング層の最上面にコーティングした。
【００７６】 コーティングしたプレート前駆体を、比較例４に記載のようにCreo Trendsett
er熱露光装置でレーザーで画像形成し、現像して、レーザー露光領域がきれいに
除かれた印刷版を得た。
【００７７】 比較例４に記載した現像液滴下試験は、比較例４において観察されたように露
光領域において１０秒以内に液滴下のコーティングが除去される結果となった。
しかしながら、非露光領域の液滴下のコーティングは、１００秒以内でも除去さ
れず、これによりオーバーコーティングされたプレートの現像寛容度の改善が示
された。
【００７８】 コーティングされたプレート前駆体の貯蔵寿命を、比較例１の促進老化試験に
よって測定したところ、４日間であることが判明し、コーティングされたプレー
トの貯蔵寿命が実質的に改善されたことを示した。
【００７９】 （実施例５） リソグラフ印刷版前駆体を比較例２に記載のように調製した。
【００８０】 １３．２gのＡ−２１を、１９０gのトルエンに溶解させた。０．２４gのＭＰ-
１１００（ポリテトラフルオロエチレン付加物、DuPont）を、ＰＭＭＡ：ＭＰ−
１１００の重量比８：１を与えるようにＰＭＭＡ溶液に加えた。生じた混合物を
撹拌した後、プレート前駆体のコーティング層の最上面にコーティングした。
【００８１】 コーティングしたプレート前駆体を、比較例２に記載のようにCreo Trendsett
er熱露光装置でレーザーで画像形成し、比較例１に記載のように現像して、レー
ザー露光領域がきれいに除かれた印刷版を得た。
【００８２】 （実施例６） リソグラフ印刷版前駆体を、比較例２の前駆体プレートがＫＦ６５４Ｂ ＰＩ
ＮＡに代えてＡＤＳ-１０６０ＩＲ染料を含んでいたこと以外は、実施例２に記
載のように調製した。
【００８３】 コーティングしたプレート前駆体を、１０６４nmにて放射するGerber Crescen
t 42T露光装置でレーザーで画像形成し、比較例２に記載のように現像した。下
地層と保護膜化層の両方のレーザー露光領域が、いずれの層の非露光領域にも影
響することなく除去された。
【００８４】 （比較例７） リソグラフ印刷版前駆体を、以下のように調製した。
【００８５】 コーティング製剤は、９０．５重量％のＰＤ１４０Ａの固体、５．５重量％の
ＡＤＳ１０６０（ADS, Montreal, Canada製の１０６０nm感受性ＩＲ染料）の固
体、２．０重量％のIR Sensi（FEW Wolfen, Germany製の８３０nm感受性ＩＲ染
料）の固体、及び２．０重量％のエチルバイオレットの固体を、Dowanol（登録
商標）PM、１，３-ジオキソラン、及びメタノール（１５：４５：４０体積％）
を含有する溶媒混合物１００g中に溶解させて固体１６重量％の溶液を得た。こ
の溶液を、ＥＧ研磨ポリビニルホスホンシールした基板にコーティングして、２
．０g/m2の乾燥コーティング重量を得た。
【００８６】 二つのプレート前駆体を、回転ドラムに取り付けた８１０nmのレーザーダイオ
ードでレーザーで画像形成し、一本線とベタ領域とを得た。一方の画像形成済み
プレートを、その後水性アルカリ性現像液Goldstar（登録商標）DC（Kodak Poly
chrome Graphics）を用いて現像し、他方の画像形成済みプレートを水性アルカ
リ性現像液PC-4005（Kodak Polychrome Graphics）を用いて現像した。レーザー
露光領域が、Goldstar（登録商標）DCで選択的に現像可能であった一方で、レー
ザーに露光されていない領域はPC-4005現像液に、強度に侵された。
【００８７】 （実施例７） リソグラフ印刷版前駆体を、コーティング層が下地層を成す、比較例７に記載
のように調製した。
【００８８】 最上相：ニトロセルロースＥ９５０の酢酸ブチル溶液（Wolff Walsrode, Germ
any）３重量％を、上記プレートの下地層上にコーティングして０．３５g/m2の
乾燥コーティング重量を得た。
【００８９】 二つのプレート前駆体を、比較例７に記載したようにレーザー画像形成及び現
像した。いずれの画像形成済みプレートについても、現像液はＩＲ露光した領域
のみを除去した。
【００９０】 （比較例８） リソグラフ印刷版前駆体を以下のように調製した。
【００９１】 コーティング製剤は、８９重量％のＰＤ１４０Ａの固体、１．５重量％のテト
ラヒドロフタル酸無水物の固体、５．５重量％のＡＤＳ１０６０の固体、２．０
重量％のIR Sensiの固体、及び２．０重量％のエチルバイオレットの固体を、Do
wanol（登録商標）PM、１，３-ジオキソラン、及びメタノール（１５：４５：４
０体積％）を含有する溶媒混合物中に溶解させて固体１６重量％の溶液を得た。
この溶液を、ＥＧ研磨ポリビニルホスホンシールした基板にコーティングして、
２．０g/m2の乾燥コーティング重量を得た。
【００９２】 三つのプレート前駆体を、回転ドラムに取り付けた８１０nmのレーザーダイオ
ードでレーザーで画像形成し、一本線とベタ領域とを得た。一つの画像形成済み
プレートを、その後水性アルカリ性現像液Goldstar（登録商標）DCを用いて現像
し、第二の画像形成済みプレートを水性アルカリ性現像液PC-4000を用いて現像
し、第三の画像形成済みプレートを１０％のナトリウムメタシリケート溶液中で
現像した。画像形成済みプレートそれぞれについて、レーザーに露光されなかっ
た領域は、Goldstar（登録商標）DC現像液、PC-4000現像液、及び１０％ナトリ
ウムメタシリケート溶液に、強度に侵された。
【００９３】 （実施例８） リソグラフ印刷版前駆体を、コーティング層が下地層を成す、比較例８に記載
のように調製した。
【００９４】 最上相：ニトロセルロースＥ９５０の３重量％酢酸ブチル溶液（Wolff Walsro
de, Germany）を、上記プレートの下地層上にコーティングして０．３４g/m2の
乾燥コーティング重量を得た。
【００９５】 三つのプレート前駆体を、比較例８に記載したようにレーザー画像形成及び現
像した。画像形成済みプレートそれぞれについて、現像液はＩＲ露光した領域の
みを除去して、清浄な背景上にインキ着肉性に優れた画像を残した。画像の現像
液侵食に対する耐性を、未画像形成済みプレートをGoldstar（登録商標）DC現像
液中及びPC-4000現像液中に浸すことによって測定した。いずれの現像液につい
ても、ＩＲ光線に露光されていない領域の除去には、４分より長くかかった。
【００９６】 （比較例９） リソグラフ印刷版前駆体を、以下のように調製した。
【００９７】 コーティング溶液を、７８重量％のＬＢ６５６４（Bakelite、フェノール樹脂
）、４．６重量％のＬＢ７４４（フェノール樹脂、Bakelite）の固体、１．８重
量％のＫＦ６５４（ＩＲ活性染料、Riedel de Haan）の固体、１．８重量のクリ
スタルバイオレット（Aldrich）の固体、１３．８重量％のMakrolon（登録商標
）3108ポリカーボネート（Bayer AG）の固体、及び０．０３重量％のＦＣ４３０
（3M, St. Paul, MN, USA製、フルオロカーボン界面活性剤）の固体を、メチル
グリコール及び１，３-ジオキソランの溶媒混合物（１５：８５体積％）中に溶
解させることにより固体１０重量％の溶液を得た。この溶液を、ＥＧ研磨ポリビ
ニルホスホンシールした基板にコーティングして、２．０g/m2の乾燥コーティン
グ重量を得た。
【００９８】 二つのプレート前駆体を、回転ドラムに取り付けた８１０nmのレーザーダイオ
ードでレーザーで画像形成し、一本線とベタ領域とを得た。一方の画像形成済み
プレートを、その後水性アルカリ性現像液Goldstar（登録商標）DCを用いて現像
し、他方の画像形成済みプレートを１０％のナトリウムメタシリケート溶液中で
現像した。画像形成済みプレートそれぞれについて、レーザーに露光されなかっ
た領域は、Goldstar（登録商標）DC現像液及び１０％ナトリウムメタシリケート
溶液に、３０秒未満浸した場合でも強度に侵された。
【００９９】 （実施例９） リソグラフ印刷版前駆体を、コーティング層が下地層を成す、比較例９に記載
のように調製した。
【０１００】 最上相：ニトロセルロースＥ９５０の３重量％酢酸ブチル溶液を、上記プレー
トの下地層上にコーティングして０．３０g/m2の乾燥コーティング重量を得た。
【０１０１】 二つの各プレート前駆体を、比較例８に記載したようにレーザー画像形成及び
現像した。画像形成済みプレートそれぞれについて、現像液はＩＲ露光した領域
のみを除去して、清浄な背景上にインキ着肉性に優れた画像を残した。画像の現
像液侵食に対する耐性を、未画像形成済みプレートをGoldstar（登録商標）DC現
像液中及び１０％ナトリウムメタシリケート溶液中に浸すことによって測定した
。いずれの現像液についても、ＩＲ光線に露光されていない領域の除去には、４
分より長くかかった。
【０１０２】 （比較例１０） リソグラフ印刷版前駆体を、以下のように調製した。コーティング製剤は、０
．７５gのPD140A、０．１５gのPMP-92コポリマー （PMP-92コポリマーは、メタ
クリルアミド、Ｎ-フェニル-マレイミド、及びアミノフェノールと反応させたメ
タクリルオキシエチルイソシアネートであるＡＰＫ（Polychrome Corporation）
に基づく）、０．１０gCAP（Eastman Kodak社製、セルロース樹脂）、０．０４g
のADS830A、及び０．０３gのエチルバイオレットを、Dowanol（登録商標）PM、
１，３-ジオキソラン、及びメタノール（１５：４５：４０体積％）を含有する
溶媒混合物１３g中に溶解させた。この溶液を、電気的に研磨し、陽極化し、ポ
リビニルホスホンシールした基板にコーティングして、１．９g/m2の乾燥コーテ
ィング重量を得た。
【０１０３】 二つのプレート前駆体を、回転ドラムに取り付けた８１０nmのレーザーダイオ
ードでレーザーで画像形成し、一本線とベタ領域とを得た。一方の画像形成済み
プレートを、その後水性アルカリ性現像液PC2000M（Kodak Polychrome Graphics
）を用いて現像し、第二の画像形成済みプレートを１０％のナトリウムメタシリ
ケート溶液中で現像した。PC2000M現像液に１２０秒間浸した画像形成済みプレ
ートについては、レーザーに露光されなかった領域が強度に侵され、１０％ナト
リウムメタシリケート溶液に２０秒未満浸した画像形成済みプレートについては
、レーザーに露光されなかった領域が強度に侵された。
【０１０４】 （実施例１０） リソグラフ印刷版前駆体を、コーティング層が下地層を成す、比較例１０に記
載のように調製した。
【０１０５】 最上相：ニトロセルロースＥ９５０の３重量％酢酸ブチル溶液を、上記プレー
トの下地層上にコーティングして０．３０g/m2の乾燥コーティング重量を得た。
【０１０６】 二つのプレート前駆体を、比較例８に記載したようにレーザー画像形成及び現
像した。各プレートは１５秒間で優れた現像性を示し、現像液はＩＲ露光した領
域のみを除去して、清浄な背景上にインキ着肉性に優れた画像が得られた。画像
の現像液侵食に対する耐性を、画像形成済みプレートをPC2000M現像液中及び１
０％ナトリウムメタシリケート溶液中に浸すことによって測定した。いずれの現
像液についても、ＩＲ光線に露光されていない領域の除去には、４分より長くか
かった。石油エーテル／ｉ-プロピルアルコール（８５：１５）を含むブランケ
ットウォッシュ混合物に対する画像の耐性を、画像形成及び現像したプレートを
ブランケットウォッシュ混合物中で洗うことによって測定した。画像形成済みプ
レートは、ブランケットウォッシュ混合物に対して４分間より長く耐性であった
。
【０１０７】 （実施例１１） コーティング溶液を、８．５gのポリビニルフェノール（SiberHegner, Baotim
ore, MD）、１０．５gのアクリル樹脂ＡＲ−１、３．３８gのＡＤＳ−８３０Ａ
ＩＲ染料（American Dye Source, Inc, Quebec, Canada）及び０．１１３gのビ
クトリアブルーＢＯ指示染料を、３０％の２-メトキシエタノール、２５％のメ
チルエチルケトン、及び４５％のメタノールからなる溶媒混合物３５３g中に溶
解させることにより調製した。該溶液を、研磨および陽極化したアルミニウム基
板上に８０rpmにてスピンコートし、６０℃にて４分間乾燥させて１．４乃至１
．６g/m2のコーティング重量を有する均一なコーティングを得た。
【０１０８】 得られたコーティング基板に、Acryloid（登録商標）Ａ−２１の１％トルエン
溶液（Rohm&Haas社製のポリメチルメタクリレート溶液）の溶液を５０rpmにてス
ピンコートすることにより保護膜化したところ、０．３g/m2の第二層コーティン
グ重量を得た。得られた二層プレートを、２００mJ/cm2の照射量で８３０nmにて
放射するレーザーダイオードアレイを有するCreo Trendsetter熱露光装置でレー
ザーで画像形成した。
【０１０９】 画像形成済みプレートを、水性現像液PC-T-153（Kodak polychrome Graphics
）で現像したところ、これはレーザー露光領域を除去した。得られたプレートを
OMCSA-Harris-125プレスに載せ、４５，０００の刷りを提供した。
【０１１０】 （実施例１２） コーティング溶液を、３．８９gのアクリル樹脂ＡＲ−６、０．５６３gのＡＤ
Ｓ−８３０ＩＲ染料、及び０．４５gのビクトリアブルーＢＯ指示染料を、７０
．５gの２-メトキシエタノールに溶解させることにより調製した。該溶液を、研
磨および陽極化したアルミニウム基板上に８０rpmにてスピンコートし、６０℃
にて４分間乾燥させて１．４乃至１．６g/m2のコーティング重量を有する均一な
コーティングを得た。
【０１１１】 得られたコーティング基板に、実施例１１に記載のように保護膜化し、レーザ
ーで画像形成した。画像形成済みプレートを、水性現像液JK-5（Kodak polychro
me Graphics現像液PD-1、Kodak polychrome Graphics現像液951、及び水の、１
：１：６体積比混合物）で現像したが、これにより露光領域が除去された。
【０１１２】 得られたプレートはOMCSA-Harris-125プレスで、１８５，０００の刷りを提供
し、アルカリ性プレートクリーナー（Prisco LPC及びRycoline、いずれもｐＨ＞
１３）並びにＵＶ／ＥＢインクプレート洗浄液に対してこの上ない耐性を有して
いた。
【０１１３】 （実施例１３） コーティング溶液を、６．４９gのアクリル樹脂ＡＲ−３、０．９３８gのＡＤ
Ｓ−８３０ＩＲ染料、及び０．０７５gのビクトリアブルーＢＯ指示染料を、５
０．５gの２-メトキシエタノール、５０．５gのジオキサラン、及び１６．５gの
メチルラクレートの混合物に溶解させることにより調製した。該溶液を、研磨お
よび陽極化したアルミニウム基板上に８０rpmにてスピンコートし、６０℃にて
４分間乾燥させて１．４乃至１．６g/m2のコーティング重量を有する均一なコー
ティングを得た。
【０１１４】 得られたコーティング基板に、実施例１１に記載のように保護膜化し、レーザ
ーで画像形成した。画像形成済みプレートを、水性現像液955または956（Kodak
polychrome Graphics）で現像したが、これにより露光領域が除去され、ポジ型
プレートが得られた。
【０１１５】 （実施例１４） コーティング溶液を、５．７gのアクリル樹脂ＡＲ−２、３．８gのＡＲ−３、
１．３８gのＡＤＳ−８３０ＩＲ染料、及び０．１１gのビクトリアブルーＢＯ指
示染料を、８０．３gの２-メトキシエタノール、８０．３gのジオキサラン、及
び２６．５gのメチルラクレートの混合物に溶解させることにより調製した。該
溶液を、研磨および陽極化したアルミニウム基板上に８０rpmにてスピンコート
し、６０℃にて４分間乾燥させて１．４乃至１．６g/m2のコーティング重量を有
する均一なコーティングを得た。
【０１１６】 得られたコーティング基板に、実施例１１に記載のように保護膜化し、レーザ
ーで画像形成した。画像形成済みプレートを、水性現像液JK-6（Kodak polychro
me Graphics PD-1(25%)、Kodak polychrome Graphics 951(17%)、ベンジルアル
コール（3%）、Cyna-50(Mona Industries)(3%)、及び水(52%)の混合物）で現像
したが、これにより露光領域が除去され、ポジ型プレートが得られた。
【０１１７】 （実施例１５） 実施例１４を、ＡＲ−２に代えて５．７gのアクリル樹脂ＡＲ−４を用いて再
現し、類似のポジ型プレートを得た。
【０１１８】 （実施例１６） 実施例１５を、ＡＲ−４に代えて５．７gのアクリル樹脂ＡＲ−５を用いて再
現し、類似のポジ型プレートを得た。
【０１１９】 これまでに記載された本発明の教示を利用して、当業者であればこれに多数の
変形を実施することができるであろう。これらの変形は、添付のクレームに記載
された本発明の範囲内に包含されるものと解される。
【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成１４年２月２６日（２００２．２．２６）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【化１】 以下の構造を有する染料 B；
【化２】 以下の構造を有する染料 C；
【化３】 からなる群から選択される、請求項９記載のエレメント。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 セリン−サヴァリア・ハウク ドイツ・37534・バーデンハウゼン・ア ム・ブライテンベルク・14 (72)発明者 ジャンビン・ファング アメリカ合衆国・ニュージャージー・ 07075・ウッドリッジ・ジェイ・ストリー ト・201 (72)発明者 フレデリック・マイケル アメリカ合衆国・ニュージャージー・ 07054・パーシッパニー・レイクショア・ ドライブ・455 (72)発明者 ケンイチ・シマズ アメリカ合衆国・ニューヨーク・10704・ ブライアークリフ・マナー・チャパクア・ ロード・494 (72)発明者 ニシス・マーチャント アメリカ合衆国・ニュージャージー・ 07047・ノース・バーゴン・ナインティ− ファースト・ストリート・1514 Ｆターム(参考） 2H025 AA01 AA04 AB03 AC08 AD03 BG00 CC11 CC20 DA31 DA40 FA17 2H096 AA06 BA09 EA04 EA23 GA08 2H111 HA14 HA18 HA23 HA31

Claims (36)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 A.基板；及び B.基板に隣接した内側表面と、外側表面とを有する、以下のものを含む感熱性複
    合層構造体： (a)内側表面を有する第一層であって、水溶液中に可溶性または分散性である第
    一のポリマー状物質と、水溶液における第一層の可溶性を減少する可溶化阻害物
    質を含む第一層；並びに (b)外側表面を有し、第二のポリマー状物質を含む第二層であって、水溶液中に
    不溶性であり、第一層が光熱変換物質を含まない場合、第二層は光熱変換物質を
    含まない第二層； を含み、前記複合層構造体を加熱した際、加熱化複合層構造体は、水溶液中で増
    大した除去速度を有する、ポジ型熱画像形成エレメント。
  2. 【請求項２】 前記水溶液が、約６以上のｐＨを有する、請求項１記載のエ
    レメント。
  3. 【請求項３】 前記ポリマー状物質が、カルボキシ官能性アクリル、フェノ
    ール基を含むアクリル、スルホンアミド基を含むアクリル、N-アクリルスルホン
    アミド基を含むアクリル、セルロースベースのポリマー及びコポリマー、ビニル
    アセタート／クロトナート／ビニルネオデカノアートコポリマー、スチレンマレ
    イン酸無水物コポリマー、ポリビニルアセタール、フェノール樹脂、マレイン酸
    化ウッドロジン、及びそれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項１
    または２記載のエレメント。
  4. 【請求項４】 前記第一のポリマー状物質がフェノール樹脂である、請求項
    ３記載のエレメント。
  5. 【請求項５】 前記第一のポリマー状物質が、ノボラック樹脂、レゾール樹
    脂、またはノボラック／レゾール樹脂混合物である、請求項４記載のエレメント
    。
  6. 【請求項６】 前記第一のポリマー状物質が、カルボン酸官能性を含まず、
    フェノール基、スルホンアミド基、N-アクリルスルホンアミド、またはそれらの
    組み合わせの少なくとも一つを含む、アルカリ可溶性アクリル樹脂である、請求
    項３記載のエレメント。
  7. 【請求項７】 前記第一のポリマー状物質が、エチルアクリラートと、メチ
    ルメタクリラートと、(1-(1-イソシアナト-1-メチル)エチル-3-(1-メチル)エテ
    ニルベンゼン)/p-アミノフェノール反応産物のウレア付加物とのターポリマー；
    アクリロニトリルと、メタクリルアミドと、(1-(1-イソシアナト-1-メチル)エチ
    ル-3-(1-メチル)エテニルベンゼン)p-アミノフェノール反応産物のウレア付加物
    とのターポリマー;アクリロニトリルと、2-ヒドロキシエチルメタクリラート/p-
    トルエンスルホニルイソシアナート反応産物のウレタン付加物とのコポリマー；
    メタクリルアミドと、N-フェニルマレイミドと、(1-(1-イソシアナト-1-メチル)
    エチル-3-(1-メチル)エテニルベンゼン)/p-アミノフェノール反応産物のウレア
    付加物とのターポリマー；アクリロニトリルと、メタクリルアミドと、N-フェニ
    ルマレイミドと、(1-(1-イソシアナト-1-メチル)エチル-3-(1-メチル)エテニル
    ベンゼン)2-アミノ-4-スルホンアミドフェノール反応産物のウレア付加物とのテ
    トラポリマー；並びにアクリロニトリルと、メタクリルアミドと、イソシアナト
    エチルメタクリラート/p-アミノフェノール反応産物のウレア付加物とのターポ
    リマーからなる群から選択されるアクリル樹脂である、請求項３記載のエレメン
    ト。
  8. 【請求項８】 前記可溶化阻害物質が、少なくとも一つの窒素原子が第四級
    化されており、複素環に取り込まれており、または第四級化されて複素環に取り
    込まれている窒素含有化合物である、請求項１から７のいずれか一項記載のエレ
    メント。
  9. 【請求項９】 前記第四級化窒素を含む可溶化阻害物質が、トリアリールメ
    タン染料；テトラアルキルアンモニウム化合物；キノリン化合物；トリアゾール
    化合物；キノリニウム化合物；ベンゾチアゾリウム化合物；ピリジニウム化合物
    ；またはカチオン性シアニン染料である、請求項８記載のエレメント。
  10. 【請求項１０】 前記第四級化窒素を含む可溶化阻害物質が、クリスタルバ
    イオレット(Clベースバイオレット３)；エチルバイオレット；ビクトリアブルー BO；Ｃ14アルキルトリメチルアンモニウムブロミド；1,2,4-トリアゾール；モ
    ナゾリン C；モナゾリン O；モナゾリン CY；モナゾリン T；1-エチル-2-メチル
    キノリニウムアイオダイド；1-エチル-4-メチル-キノリニウムアイオダイド；3-
    エチル-2-メチルベンゾチアゾリウムアイオダイド；セチルピリジニウムブロミ
    ド、エチルビオロゲンジブロミド；フルオロピリジニウムテトラフルオロボラー
    ト；キノリジンブルー；3-エチル-2-[3-(3-エチル-2(3H)-ベンゾチアゾリリデン
    )-2-メチル-1-プロペニル]ベンゾチアゾリウムアイオダイド；以下の構造を有す
    る染料 A； 【化１】 以下の構造を有する染料 B； 【化２】 以下の構造を有する染料 C； 【化３】 からなる群から選択される、請求項９記載のエレメント。
  11. 【請求項１１】 前記可溶化阻害物質が、カルボニル含有化合物である、請
    求項１から７のいずれか一項記載のエレメント。
  12. 【請求項１２】 前記カルボニル含有化合物が、α-ナフトフラボン、β-ナ
    フトフラボン、2,3-ジフェニル-1-インデンオン、フラボン、フラバノン、キサ
    ントン、ベンゾフェノン、N-(4-ブロモブチル)-フタルイミド、またはフェナン
    スレンキノンである、請求項１１記載のエレメント。
  13. 【請求項１３】 前記可溶化阻害物質が、o-ジアゾナフトキノン部分を含む
    、請求項１から７のいずれか一項記載のエレメント。
  14. 【請求項１４】 前記o-ジアゾナフトキノン部分が、第一のポリマー状物質
    に結合している、請求項１３記載のエレメント。
  15. 【請求項１５】 前記第二のポリマー状物質が、アクリルポリマー及びコポ
    リマー；ポリスチレン；スチレン−アクリルコポリマー；ポリエステル、ポリア
    ミド；ポリウレア；ポリウレタン；ニトロセルロース；エポキシ樹脂；及びそれ
    らの組み合わせからなる群から選択される、請求項１から１４のいずれか一項記
    載のエレメント。
  16. 【請求項１６】 前記第二のポリマー状物質が、ポリメチルメタクリラート
    である、請求項１５記載のエレメント。
  17. 【請求項１７】 前記第二のポリマー状物質が、ニトロセルロースである、
    請求項１５記載のエレメント。
  18. 【請求項１８】 前記第一層が、光熱変換物質を含む、請求項１から１７の
    いずれか一項記載のエレメント。
  19. 【請求項１９】 前記第二層が、光熱変換物質を含む、請求項１から１７の
    いずれか一項記載のエレメント。
  20. 【請求項２０】 前記第二層が、光熱変換物質を含まない、請求項１から１
    ７のいずれか一項記載のエレメント。
  21. 【請求項２１】 前記第一層及び第二層の両者が、光熱変換物質を含む、請
    求項１から１７のいずれか一項記載のエレメント。
  22. 【請求項２２】 第一層中の光熱変換物質と、第二層中の光熱変換物質が、
    同じ物質である、請求項２１記載のエレメント。
  23. 【請求項２３】 第一層が光熱変換物質を含まない場合、前記エレメントが
    赤外線照射に感受性ではない、請求項１から１７のいずれか一項記載のエレメン
    ト。
  24. 【請求項２４】 前記複合層構造体を加熱した際に、前記第一層が、水溶液
    中への増大した溶解または分散速度を有する、請求項１から２３のいずれか一項
    記載のエレメント。
  25. 【請求項２５】 前記複合層構造体を加熱した際に、前記第二層が、水溶液
    に対する増大した浸透性を有する、請求項１から２４のいずれか一項記載のエレ
    メント。
  26. 【請求項２６】 前記光熱変換物質が、赤外線吸収染料または顔料である、
    請求項１から２５のいずれか一項記載のエレメント。
  27. 【請求項２７】 前記基板が親水性であり、前記エレメントがポジ型のリソ
    グラフ印刷版前駆体である、請求項１から２６のいずれか一項記載のエレメント
    。
  28. 【請求項２８】 前記基板がアルミニウム基板である、請求項２７記載のエ
    レメント。
  29. 【請求項２９】 前記アルミニウム基板が砂目立てられた酸化表面を有し、
    前記第一層が砂目立てられた酸化表面に適用される、請求項２８記載のエレメン
    ト。
  30. 【請求項３０】 前記親水性基板が、ポリマー状シート物質である、請求項
    ２７記載のエレメント。
  31. 【請求項３１】 前記ポリマー状シート物質が、ポリエチレンテレフタラー
    トを含む、請求項３０記載の前駆体。
  32. 【請求項３２】 I)請求項２７から３１のいずれか一項記載のポジ型リソグ
    ラフ印刷版を前駆体を準備する工程； II)前記複合層構造体を熱エネルギーに画像状に露光し、前記複合体構造におい
    て露光部分と、相補的な非露光部分を提供し、ここで露光部分は水溶液によって
    選択的に除去可能である工程；並びに III)外側の親油性表面に水溶液を適用し、露光部分を除去して、親水性基板の被
    覆されていない親水性領域と、相補的な外側の親油性表面のインキ受容性領域と
    を有する画像形成済みリソグラフ印刷版を生産する工程； を、この順序で含む、リソグラフ印刷版を形成する方法。
  33. 【請求項３３】 前記水溶液が、約８から約13.5の間のｐＨを有する、請求
    項３２記載の方法。
  34. 【請求項３４】 画像状に露光する工程が赤外線放射レーザーで実施され、
    光熱変換物質が赤外線吸収性化合物である、請求項３２または３３記載の方法。
  35. 【請求項３５】 画像状に露光する工程が、熱プリンティングヘッドで実施
    される、請求項３２または３３記載の方法。
  36. 【請求項３６】 工程IIIの後に、画像形成されたリソグラフプレートが、
    熱エネルギーに均一にさらされる、請求項３２から３５のいずれか一項記載の方
    法。
JP2001546484A 1999-12-22 2000-12-12 サーマルデジタルリソグラフ印刷版 Pending JP2003518264A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/469,490 1999-12-22
US09/469,490 US6352811B1 (en) 1998-06-23 1999-12-22 Thermal digital lithographic printing plate
PCT/US2000/042759 WO2001045958A2 (en) 1999-12-22 2000-12-12 Thermally imageable element and lithographic printing plate

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003518264A true JP2003518264A (ja) 2003-06-03
JP2003518264A5 JP2003518264A5 (ja) 2008-02-14

Family

ID=23863994

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001546484A Pending JP2003518264A (ja) 1999-12-22 2000-12-12 サーマルデジタルリソグラフ印刷版

Country Status (8)

Country Link
US (1) US6352811B1 (ja)
EP (2) EP1506983B1 (ja)
JP (1) JP2003518264A (ja)
AT (2) ATE290952T1 (ja)
BR (1) BR0016716A (ja)
DE (2) DE60031898T2 (ja)
ES (1) ES2236046T3 (ja)
WO (1) WO2001045958A2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007531019A (ja) * 2004-03-26 2007-11-01 プレステク，インコーポレイテッド 溶解度変化層を有する印刷部材及び関連する方法
JP2009524110A (ja) * 2006-01-23 2009-06-25 イーストマン コダック カンパニー スルホンアミド樹脂を含有する多層画像形成性要素
CN106832197A (zh) * 2017-01-22 2017-06-13 陕西科技大学 一种含氟丙烯酸酯改性水性硝化纤维乳液的制备方法

Families Citing this family (128)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9722861D0 (en) * 1997-10-29 1997-12-24 Horsell Graphic Ind Ltd Improvements in relation to the manufacture of lithographic printing forms
EP1449654A1 (en) 1997-10-17 2004-08-25 Fuji Photo Film Co., Ltd. A positive type photosensitive image-forming material for an infrared laser and a positive composition for an infrared laser and a positive type photosensitive composition for an infrared laser
GB9722862D0 (en) * 1997-10-29 1997-12-24 Horsell Graphic Ind Ltd Pattern formation
US6534238B1 (en) * 1998-06-23 2003-03-18 Kodak Polychrome Graphics, Llc Thermal digital lithographic printing plate
JP4119597B2 (ja) * 2000-05-17 2008-07-16 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
US6649324B1 (en) * 2000-08-14 2003-11-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Aqueous developer for lithographic printing plates
US6555291B1 (en) * 2000-08-14 2003-04-29 Kodak Polychrome Graphics, Llc Thermal digital lithographic printing plate
US6884568B2 (en) * 2000-10-17 2005-04-26 Kodak Polychrome Graphics, Llc Stabilized infrared-sensitive polymerizable systems
ATE420767T1 (de) * 2000-11-30 2009-01-15 Fujifilm Corp Lithographische druckplattenvorläufer
US6506536B2 (en) * 2000-12-29 2003-01-14 Kodak Polychrome Graphics, Llc Imageable element and composition comprising thermally reversible polymers
US20040091811A1 (en) * 2002-10-30 2004-05-13 Munnelly Heidi M. Hetero-substituted aryl acetic acid co-initiators for IR-sensitive compositions
US20040259027A1 (en) * 2001-04-11 2004-12-23 Munnelly Heidi M. Infrared-sensitive composition for printing plate precursors
BR0102218B1 (pt) * 2001-05-31 2012-10-16 produto sensìvel à radiação, e processo de impressão ou revelação de imagem utilizando o referido produto.
JP3917422B2 (ja) * 2001-07-26 2007-05-23 富士フイルム株式会社 画像形成材料
US7056639B2 (en) * 2001-08-21 2006-06-06 Eastman Kodak Company Imageable composition containing an infrared absorber with counter anion derived from a non-volatile acid
US7163777B2 (en) * 2001-09-07 2007-01-16 Eastman Kodak Company Thermally sensitive imageable element
US6586560B1 (en) * 2001-09-18 2003-07-01 Microchem Corp. Alkaline soluble maleimide-containing polymers
US7294447B2 (en) * 2001-09-24 2007-11-13 Agfa Graphics Nv Positive-working lithographic printing plate precursor
US6699636B2 (en) 2001-12-12 2004-03-02 Kodak Polychrome Graphics Llc Imaging element comprising a thermally activated crosslinking agent
US6852464B2 (en) * 2002-01-10 2005-02-08 Kodak Polychrome Graphics, Llc Method of manufacturing a thermally imageable element
US6830862B2 (en) 2002-02-28 2004-12-14 Kodak Polychrome Graphics, Llc Multi-layer imageable element with a crosslinked top layer
US6887642B2 (en) * 2002-04-05 2005-05-03 Kodak Polychrome Graphies Llc Multi-layer negative working imageable element
US6843176B2 (en) 2002-04-26 2005-01-18 Kodak Polychrome Graphics, Llc Method to remove unwanted, unexposed, radiation-sensitive layer in a lithographic printing plate
US20040023160A1 (en) * 2002-07-30 2004-02-05 Kevin Ray Method of manufacturing imaging compositions
US6849372B2 (en) * 2002-07-30 2005-02-01 Kodak Polychrome Graphics Method of manufacturing imaging compositions
US20040067435A1 (en) * 2002-09-17 2004-04-08 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
US6858359B2 (en) 2002-10-04 2005-02-22 Kodak Polychrome Graphics, Llp Thermally sensitive, multilayer imageable element
US7195859B2 (en) 2002-10-04 2007-03-27 Agfa-Gevaert Method of making a lithographic printing plate precursor
US7358032B2 (en) * 2002-11-08 2008-04-15 Fujifilm Corporation Planographic printing plate precursor
US6803167B2 (en) * 2002-12-04 2004-10-12 Kodak Polychrome Graphics, Llc Preparation of lithographic printing plates
JP2004226472A (ja) * 2003-01-20 2004-08-12 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
US6742886B1 (en) 2003-01-21 2004-06-01 Kodak Polychrome Graphics Lle Ink jet compositions for lithographic printing
US7160667B2 (en) * 2003-01-24 2007-01-09 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
US20040214108A1 (en) * 2003-04-25 2004-10-28 Ray Kevin B. Ionic liquids as dissolution inhibitors in imageable elements
JP2007528807A (ja) 2003-07-08 2007-10-18 コダック ポリクロウム グラフィクス リミティド ライアビリティ カンパニー 硫酸化ポリマーを含んで成る画像形成可能要素
US6942957B2 (en) * 2003-07-17 2005-09-13 Kodak Polychrome Graphics Llc Ionic liquids as developability enhancing agents in multilayer imageable elements
CN1839354B (zh) * 2003-07-17 2010-09-29 柯达彩色绘图有限责任公司 处理成像材料的设备及方法
CN1802603A (zh) 2003-07-17 2006-07-12 霍尼韦尔国际公司 用于高级微电子应用的平面化薄膜及其生产装置和方法
US6844141B1 (en) 2003-07-23 2005-01-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Method for developing multilayer imageable elements
US6992688B2 (en) * 2004-01-28 2006-01-31 Eastman Kodak Company Method for developing multilayer imageable elements
US7049045B2 (en) * 2003-08-14 2006-05-23 Kodak Polychrome Graphics Llc Multilayer imageable elements
US7122828B2 (en) * 2003-09-24 2006-10-17 Lucent Technologies, Inc. Semiconductor devices having regions of induced high and low conductivity, and methods of making the same
US6893783B2 (en) * 2003-10-08 2005-05-17 Kodak Polychrome Graphics Lld Multilayer imageable elements
US7078162B2 (en) * 2003-10-08 2006-07-18 Eastman Kodak Company Developer regenerators
US20050076801A1 (en) * 2003-10-08 2005-04-14 Miller Gary Roger Developer system
DE10347682B4 (de) 2003-10-14 2007-11-29 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Verfahren zur Herstellung zweischichtiger wärmeempfindlicher bebilderbarer Elemente
US8450723B2 (en) * 2003-11-04 2013-05-28 Alcatel Lucent Apparatus having an aromatic dielectric and an aromatic organic semiconductor including an alkyl chain
US7115900B2 (en) * 2003-11-26 2006-10-03 Lucent Technologies Inc. Devices having patterned regions of polycrystalline organic semiconductors, and methods of making the same
JP4308687B2 (ja) * 2004-03-11 2009-08-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
US7060416B2 (en) * 2004-04-08 2006-06-13 Eastman Kodak Company Positive-working, thermally sensitive imageable element
US7467587B2 (en) 2004-04-21 2008-12-23 Agfa Graphics, N.V. Method for accurate exposure of small dots on a heat-sensitive positive-working lithographic printing plate material
US7186482B2 (en) * 2004-06-04 2007-03-06 Eastman Kodak Company Multilayer imageable elements
DE102004029501A1 (de) * 2004-06-18 2006-01-12 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Modifizierte Polymere und ihre Verwendung bei der Herstellung von Lithographie-Druckplattenvorläufern
JP4404734B2 (ja) 2004-09-27 2010-01-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
US7014983B1 (en) 2004-10-05 2006-03-21 Eastman Kodak Company Multilayer imageable element
US6969570B1 (en) 2004-10-26 2005-11-29 Kodak Polychrome Graphics, Llc Solvent resistant imageable element
US20070065737A1 (en) * 2004-12-06 2007-03-22 Eastman Kodak Company Multilayer imageable elements having good solvent resistance
US6969579B1 (en) 2004-12-21 2005-11-29 Eastman Kodak Company Solvent resistant imageable element
US7225560B2 (en) * 2005-02-04 2007-06-05 Printing Research, Inc. Computer to plate curing system
US7685738B2 (en) * 2005-02-04 2010-03-30 Printing Research, Inc. Computer to plate color sensor and drying/curing system and method
JP4474296B2 (ja) 2005-02-09 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
US7255056B2 (en) * 2005-03-04 2007-08-14 Lockheed Martin Corporation Stable, high-speed marine vessel
US20060210917A1 (en) * 2005-03-18 2006-09-21 Kodak Polychrome Graphics Llc Positive-working, thermally sensitive imageable element
JP4404792B2 (ja) 2005-03-22 2010-01-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
US7856985B2 (en) 2005-04-22 2010-12-28 Cynosure, Inc. Method of treatment body tissue using a non-uniform laser beam
US7291440B2 (en) * 2005-05-16 2007-11-06 Eastman Kodak Company Bakeable multi-layer imageable element
US7678533B2 (en) 2005-06-30 2010-03-16 Agfa Graphics, N.V. Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
EP1738902A1 (en) 2005-06-30 2007-01-03 Agfa-Gevaert Method for preparing a lithographic printing plate precursor
DE602005008226D1 (de) 2005-07-28 2008-08-28 Eastman Kodak Co Zweischichtige infrarotempfindliche Bildaufzeichnungselemente mit Polysiloxanüberschicht.
US7544754B2 (en) * 2005-09-30 2009-06-09 3M Innovative Properties Company Crosslinked polymers with amine binding groups
US7160653B1 (en) 2005-10-25 2007-01-09 Eastman Kodak Company Multilayer imageable element containing epoxy resin
US7144661B1 (en) 2005-11-01 2006-12-05 Eastman Kodak Company Multilayer imageable element with improved chemical resistance
US7247418B2 (en) 2005-12-01 2007-07-24 Eastman Kodak Company Imageable members with improved chemical resistance
US7338745B2 (en) * 2006-01-23 2008-03-04 Eastman Kodak Company Multilayer imageable element with improved chemical resistance
WO2007099053A1 (en) 2006-02-28 2007-09-07 Agfa Graphics Nv Method for making a lithographic printing plate
ATE515392T1 (de) 2006-02-28 2011-07-15 Agfa Graphics Nv Wärmeempfindlicher, positiv arbeitender lithographiedruckformvorläufer
US7175967B1 (en) 2006-03-02 2007-02-13 Eastman Kodak Company Heat treatment of multilayer imageable elements
ES2367179T3 (es) 2006-03-17 2011-10-31 Agfa Graphics N.V. Método de preparación de una placa de impresión litográfica.
US7223506B1 (en) 2006-03-30 2007-05-29 Eastman Kodak Company Imageable members with improved chemical resistance
US7169518B1 (en) 2006-04-17 2007-01-30 Eastman Kodak Company Multilayer imageable element with improved chemical resistance
US7586957B2 (en) 2006-08-02 2009-09-08 Cynosure, Inc Picosecond laser apparatus and methods for its operation and use
US7300726B1 (en) 2006-10-20 2007-11-27 Eastman Kodak Company Multi-layer imageable element with improved properties
US20080227023A1 (en) * 2007-03-16 2008-09-18 Celin Savariar-Hauck PROCESSING POSITIVE-WORKING IMAGEABLE ELEMENTS WITH HIGH pH DEVELOPERS
ATE516953T1 (de) 2007-04-27 2011-08-15 Agfa Graphics Nv Lithographiedruckplattenvorläufer
US7582407B2 (en) * 2007-07-09 2009-09-01 Eastman Kodak Company Imageable elements with low pH developer solubility
US7824840B2 (en) * 2007-08-10 2010-11-02 Eastman Kodak Company Multi-layer imageable element with improved properties
EP2025512B1 (en) 2007-08-14 2011-05-18 Agfa Graphics N.V. Method for making a lithographic printing plate
US8283101B2 (en) * 2007-08-30 2012-10-09 Eastman Kodak Company Imageable elements with improved abrasion resistance
JP4790682B2 (ja) 2007-09-28 2011-10-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
EP2065211B1 (en) 2007-11-30 2010-05-26 Agfa Graphics N.V. A method for treating a lithographic printing plate
JP2009132974A (ja) 2007-11-30 2009-06-18 Fujifilm Corp 微細構造体
EP2098376B1 (en) 2008-03-04 2013-09-18 Agfa Graphics N.V. A method for making a lithographic printing plate support
US8043787B2 (en) * 2008-03-14 2011-10-25 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements with improved abrasion resistance
ES2365885T3 (es) 2008-03-31 2011-10-13 Agfa Graphics N.V. Un método para tratar una plancha de impresión litográfica.
ATE552111T1 (de) 2008-09-02 2012-04-15 Agfa Graphics Nv Wärmeempfindlicher, positiv arbeitender lithographiedruckformvorläufer
EP2194429A1 (en) 2008-12-02 2010-06-09 Eastman Kodak Company Gumming compositions with nano-particles for improving scratch sensitivity in image and non-image areas of lithographic printing plates
CN101762982B (zh) * 2008-12-24 2013-03-13 成都新图新材料股份有限公司 一种红外阳图热敏平版印刷版
EP2213690B1 (en) 2009-01-30 2015-11-11 Agfa Graphics N.V. A new alkali soluble resin
US20100227269A1 (en) 2009-03-04 2010-09-09 Simpson Christopher D Imageable elements with colorants
EP2263874B1 (en) 2009-06-18 2012-04-18 Agfa Graphics N.V. A lithographic printing plate precursor
ATE555904T1 (de) 2009-08-10 2012-05-15 Eastman Kodak Co Lithografische druckplattenvorläufer mit betahydroxy-alkylamid-vernetzern
US8383319B2 (en) 2009-08-25 2013-02-26 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors and stacks
EP2293144B1 (en) 2009-09-04 2012-11-07 Eastman Kodak Company Method of drying lithographic printing plates after single-step-processing
US8298750B2 (en) 2009-09-08 2012-10-30 Eastman Kodak Company Positive-working radiation-sensitive imageable elements
US8936899B2 (en) 2012-09-04 2015-01-20 Eastman Kodak Company Positive-working lithographic printing plate precursors and use
EP2329951B1 (en) 2009-12-04 2012-06-20 AGFA Graphics NV A lithographic printing plate precursor
US20110236832A1 (en) 2010-03-26 2011-09-29 Celin Savariar-Hauck Lithographic processing solutions and methods of use
DE102011106799A1 (de) * 2010-08-04 2012-02-09 Heidelberger Druckmaschinen Aktiengesellschaft Verfahren zum Wiederbebildern einer abgedruckten Druckform
EP2489512B1 (en) 2011-02-18 2013-08-28 Agfa Graphics N.V. A lithographic printing plate precursor
US8632940B2 (en) 2011-04-19 2014-01-21 Eastman Kodak Company Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors
US8722308B2 (en) 2011-08-31 2014-05-13 Eastman Kodak Company Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors
ES2556055T3 (es) 2011-09-08 2016-01-12 Agfa Graphics Nv Método de fabricación de una plancha de impresión litográfica
KR102183581B1 (ko) 2012-04-18 2020-11-27 싸이노슈어, 엘엘씨 피코초 레이저 장치 및 그를 사용한 표적 조직의 치료 방법
CN104870193B (zh) 2013-01-01 2017-12-22 爱克发印艺公司 (乙烯、乙烯醇缩醛)共聚物和它们在平版印刷版前体中的用途
JP6305058B2 (ja) * 2013-03-05 2018-04-04 キヤノン株式会社 感光性ガス発生剤、光硬化性組成物
WO2014145707A2 (en) 2013-03-15 2014-09-18 Cynosure, Inc. Picosecond optical radiation systems and methods of use
EP2933278B1 (en) 2014-04-17 2018-08-22 Agfa Nv (Ethylene, vinyl acetal) copolymers and their use in lithographic printing plate precursors
ES2617557T3 (es) 2014-05-15 2017-06-19 Agfa Graphics Nv Copolímeros (de etileno, vinilacetal) y su uso en precursores de plancha de impresión litográfica
ES2660063T3 (es) 2014-06-13 2018-03-20 Agfa Nv Copolímeros (de etileno, vinilacetal) y su uso en precursores de plancha de impresión litográfica
EP2963496B1 (en) 2014-06-30 2017-04-05 Agfa Graphics NV A lithographic printing plate precursor including ( ethylene, vinyl acetal ) copolymers
ES2655798T3 (es) 2014-12-08 2018-02-21 Agfa Nv Sistema para reducir los residuos de ablación
EP3130465B1 (en) 2015-08-12 2020-05-13 Agfa Nv Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
EP3170662B1 (en) 2015-11-20 2019-08-14 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
BR112018068753A2 (pt) 2016-03-16 2019-01-22 Agfa Nv método para processar uma chapa de impressão litográfica
WO2019165426A1 (en) 2018-02-26 2019-08-29 Cynosure, Inc. Q-switched cavity dumped sub-nanosecond laser
CN109607650A (zh) * 2018-12-24 2019-04-12 常熟理工学院 纳米金/石墨烯木质结构光热转换材料的制备方法
EP3778253A1 (en) 2019-08-13 2021-02-17 Agfa Nv Method for processing a lithographic printing plate
US11117412B2 (en) 2019-10-01 2021-09-14 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors and method of use

Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999021725A1 (en) * 1997-10-29 1999-05-06 Kodak Polychrome Graphics Company Ltd Pattern formation
JPH11218914A (ja) * 1997-11-14 1999-08-10 Fuji Photo Film Co Ltd 赤外線レーザ用感光性画像形成材料
JP2000066377A (ja) * 1998-08-20 2000-03-03 Konica Corp ヒートモード記録画像形成材料及び画像形成方法
JP2001033946A (ja) * 1999-07-23 2001-02-09 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録材料
JP2001033952A (ja) * 1999-07-23 2001-02-09 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録材料
JP2001042511A (ja) * 1999-07-28 2001-02-16 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成材料及び画像形成方法
JP2001042541A (ja) * 1999-07-27 2001-02-16 Fuji Photo Film Co Ltd 感光又は感熱性画像形成材料
JP2001042510A (ja) * 1999-07-28 2001-02-16 Fuji Photo Film Co Ltd 感光感熱記録材料
JP2001056548A (ja) * 1999-08-18 2001-02-27 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成材料
JP2001056549A (ja) * 1999-08-18 2001-02-27 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録材料
JP2001056562A (ja) * 1999-08-18 2001-02-27 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録材料
JP2001056563A (ja) * 1999-08-18 2001-02-27 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成材料
JP2001066776A (ja) * 1999-08-26 2001-03-16 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成材料
JP2001066765A (ja) * 1999-08-26 2001-03-16 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成材料

Family Cites Families (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1245924A (en) 1967-09-27 1971-09-15 Agfa Gevaert Improvements relating to thermo-recording
GB1260662A (en) 1968-03-27 1972-01-19 Agfa Gevaert Improvements relating to the sub-titling of processed photographic materials
CA1085212A (en) 1975-05-27 1980-09-09 Ronald H. Engebrecht Use of volatile carboxylic acids in improved photoresists containing quinone diazides
US4079041A (en) 1975-06-18 1978-03-14 Ciba-Geigy Corporation Crosslinkable polymeric compounds
US4308368A (en) 1979-03-16 1981-12-29 Daicel Chemical Industries Ltd. Photosensitive compositions with reaction product of novolak co-condensate with o-quinone diazide
JPS5953836A (ja) 1982-09-21 1984-03-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
US4973572A (en) * 1987-12-21 1990-11-27 Eastman Kodak Company Infrared absorbing cyanine dyes for dye-donor element used in laser-induced thermal dye transfer
DE68921146T2 (de) 1988-11-11 1995-06-14 Fuji Photo Film Co Ltd Lichtempfindliche Zusammensetzung.
US5112743A (en) 1989-05-24 1992-05-12 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light-sensitive composition and presensitized plate for use in making lithographic printing plates
JP2648969B2 (ja) 1989-07-28 1997-09-03 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
US5145763A (en) 1990-06-29 1992-09-08 Ocg Microelectronic Materials, Inc. Positive photoresist composition
US5609993A (en) 1991-04-17 1997-03-11 Nippon Paint Co., Ltd. Process for producing lithographic printing plate, photosensitive plate and aqueous ink composition therefor
US5346975A (en) 1991-09-20 1994-09-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light-sensitive composition
KR0138486B1 (ko) * 1993-04-20 1998-04-27 유미꾸라 레이이찌 평판인쇄원판 및 그의 제판방법
US5372915A (en) 1993-05-19 1994-12-13 Eastman Kodak Company Method of making a lithographic printing plate containing a resole resin and a novolac resin in the radiation sensitive layer
DE69401114D1 (de) * 1993-10-25 1997-01-23 Agfa Gevaert Nv Wärmeempfindliches Aufzeichnungsmaterial und Bildaufzeichnungsverfahren, das dieses Material verwendet
US5493971A (en) 1994-04-13 1996-02-27 Presstek, Inc. Laser-imageable printing members and methods for wet lithographic printing
WO1996002021A1 (fr) * 1994-07-11 1996-01-25 Konica Corporation Element initial pour plaque lithographique et procede de preparation de ladite plaque
US5529891A (en) * 1995-05-12 1996-06-25 Eastman Kodak Company Photographic element having improved scratch resistance
JPH0934110A (ja) 1995-07-17 1997-02-07 Konica Corp 光重合性組成物、ラジカル発生方法、平版印刷版作成用感光材料及びそれを用いた平版印刷版の作成方法
GB9516723D0 (en) * 1995-08-15 1995-10-18 Horsell Plc Water-less lithographic plates
EP0846060B1 (en) * 1995-08-21 2002-04-10 E.I. Du Pont De Nemours And Company Waterless printing plates
US5641608A (en) 1995-10-23 1997-06-24 Macdermid, Incorporated Direct imaging process for forming resist pattern on a surface and use thereof in fabricating printing plates
US6030750A (en) * 1995-10-24 2000-02-29 Agfa-Gevaert. N.V. Method for making a lithographic printing plate involving on press development
US5814431A (en) 1996-01-10 1998-09-29 Mitsubishi Chemical Corporation Photosensitive composition and lithographic printing plate
RU2153986C2 (ru) * 1996-04-23 2000-08-10 Хорселл Грэфик Индастриз Лимитед Термочувствительная композиция и способ ее применения для изготовления литографической печатной формы
US5858626A (en) 1996-09-30 1999-01-12 Kodak Polychrome Graphics Method of forming a positive image through infrared exposure utilizing diazonaphthoquinone imaging composition
EP0864420B2 (en) 1997-03-11 2005-11-16 Agfa-Gevaert Heat-sensitive imaging element for making positive working printing plates
DE69806986T2 (de) 1997-03-11 2003-05-08 Agfa Gevaert Nv Verfahren zur Herstellung von positiv arbeitenden lithographischen Druckplatten
US6022667A (en) * 1997-05-27 2000-02-08 Agfa-Gevaert, N.V. Heat sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
GB9722861D0 (en) 1997-10-29 1997-12-24 Horsell Graphic Ind Ltd Improvements in relation to the manufacture of lithographic printing forms
US6060217A (en) 1997-09-02 2000-05-09 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal lithographic printing plates
EP0901902A3 (en) 1997-09-12 1999-03-24 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive photosensitive composition for use with an infrared laser
US6083663A (en) * 1997-10-08 2000-07-04 Agfa-Gevaert, N.V. Method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive image element
US6004728A (en) * 1997-10-08 1999-12-21 Agfa-Gevaert, N.V. Method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive image element
EP0908779B1 (en) 1997-10-08 2002-06-19 Agfa-Gevaert A method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element
EP1449654A1 (en) 1997-10-17 2004-08-25 Fuji Photo Film Co., Ltd. A positive type photosensitive image-forming material for an infrared laser and a positive composition for an infrared laser and a positive type photosensitive composition for an infrared laser
EP0943451B3 (en) 1998-03-14 2018-12-12 Agfa Graphics NV A heat mode imaging element and a method for making positive working printing plates from said heat mode imaging element
US6153353A (en) * 1998-03-14 2000-11-28 Agfa-Gevaert, N.V. Method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element
JP4063403B2 (ja) * 1998-05-11 2008-03-19 神東塗料株式会社 硬化性樹脂組成物
US6294311B1 (en) * 1999-12-22 2001-09-25 Kodak Polychrome Graphics Llc Lithographic printing plate having high chemical resistance

Patent Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999021725A1 (en) * 1997-10-29 1999-05-06 Kodak Polychrome Graphics Company Ltd Pattern formation
JPH11218914A (ja) * 1997-11-14 1999-08-10 Fuji Photo Film Co Ltd 赤外線レーザ用感光性画像形成材料
JP2000066377A (ja) * 1998-08-20 2000-03-03 Konica Corp ヒートモード記録画像形成材料及び画像形成方法
JP2001033946A (ja) * 1999-07-23 2001-02-09 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録材料
JP2001033952A (ja) * 1999-07-23 2001-02-09 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録材料
JP2001042541A (ja) * 1999-07-27 2001-02-16 Fuji Photo Film Co Ltd 感光又は感熱性画像形成材料
JP2001042511A (ja) * 1999-07-28 2001-02-16 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成材料及び画像形成方法
JP2001042510A (ja) * 1999-07-28 2001-02-16 Fuji Photo Film Co Ltd 感光感熱記録材料
JP2001056548A (ja) * 1999-08-18 2001-02-27 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成材料
JP2001056549A (ja) * 1999-08-18 2001-02-27 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録材料
JP2001056562A (ja) * 1999-08-18 2001-02-27 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録材料
JP2001056563A (ja) * 1999-08-18 2001-02-27 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成材料
JP2001066776A (ja) * 1999-08-26 2001-03-16 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成材料
JP2001066765A (ja) * 1999-08-26 2001-03-16 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成材料

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007531019A (ja) * 2004-03-26 2007-11-01 プレステク，インコーポレイテッド 溶解度変化層を有する印刷部材及び関連する方法
JP2009524110A (ja) * 2006-01-23 2009-06-25 イーストマン コダック カンパニー スルホンアミド樹脂を含有する多層画像形成性要素
JP4938798B2 (ja) * 2006-01-23 2012-05-23 イーストマン コダック カンパニー スルホンアミド樹脂を含有する多層画像形成性要素
CN106832197A (zh) * 2017-01-22 2017-06-13 陕西科技大学 一种含氟丙烯酸酯改性水性硝化纤维乳液的制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
DE60018809T2 (de) 2006-04-06
WO2001045958A3 (en) 2002-01-31
WO2001045958A2 (en) 2001-06-28
ATE345213T1 (de) 2006-12-15
ES2236046T3 (es) 2005-07-16
EP1263590B1 (en) 2005-03-16
EP1506983B1 (en) 2006-11-15
EP1506983A2 (en) 2005-02-16
EP1263590A2 (en) 2002-12-11
DE60031898T2 (de) 2007-05-31
US6352811B1 (en) 2002-03-05
DE60031898D1 (de) 2006-12-28
ATE290952T1 (de) 2005-04-15
EP1506983A3 (en) 2005-03-30
BR0016716A (pt) 2002-09-03
DE60018809D1 (de) 2005-04-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2003518264A (ja) サーマルデジタルリソグラフ印刷版
EP1291172B1 (en) A multi-layer thermally imageable element
US6352812B1 (en) Thermal digital lithographic printing plate
WO2001046318A1 (en) Lithographic printing plate having high chemical resistance
JP2004506247A (ja) 感熱性デジタル平版印刷版
US6830862B2 (en) Multi-layer imageable element with a crosslinked top layer
JP2010134476A (ja) 平版印刷版の製造方法
US6723490B2 (en) Minimization of ablation in thermally imageable elements
EP1319504B1 (en) Imaging element comprising a thermally activated crosslinking agent
EP2168009B1 (en) Imageable elements with low ph developer solubility
US6803167B2 (en) Preparation of lithographic printing plates
US6852464B2 (en) Method of manufacturing a thermally imageable element
KR100277346B1 (ko) 열-감지조성물 및 이를 이용하여석판인쇄인화형을표시하는 방법
JP2001264961A (ja) 画像形成材料及びその製造方法
JP2007057824A (ja) 平版印刷版原版の製造方法
DE102004029503A1 (de) Mit IR-Absorber-modifizierte Polymere und ihre Verwendung bei strahlungsempfindlichen Elementen

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20041109

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20051101

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20051207

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071212

A524 Written submission of copy of amendment under article 19 pct

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A524

Effective date: 20071212

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20071212

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100330

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20100907