KR100277346B1 - 열-감지조성물 및 이를 이용하여석판인쇄인화형을표시하는 방법 - Google Patents

Abstract

개시된 내용은 현상액-불용성 페놀수지와 상기 페놀수지를 가지는 혼합체를 열적으로 부서지기 쉽게 하는 합성물의 혼합체로 코팅된 석판인쇄 베이스에 관한 것이다. 상기 혼합체는 혼합되지 않은 페놀수지보다 현상액 용액에서 덜 용해한다. 그러나 이 혼합체가 이미지방향으로 가열될 때, 혼합체는 현상 용액에서 비혼합된 페놀수지가 분해되도록 부서진다. 그래서 페놀수지의 가열된 영역과 비가열된 영역 사이의 용해도 차이는, 페놀수지가 혼합될 때 증가된다. 바람직하게 레이저-방사선 흡수 물질이 또한 석판인쇄 베이스에 존재한다. 페놀수지를 가진 열적으로 부서지기 쉬운 혼합체를 형성하는 많은 합성물들이 위치한다. 그러한 합성물들의 예들은 퀴놀리늄 합성물들, 벤조티아조늄 합성물들, 피리디늄 합성물들 및 이미다조린 합성물들이다.

Description

열-감지 조성물 및 이를 이용하여 석판인쇄 인화형을 표시하는 방법

본 발명은 양화 석판인쇄 인화형 전구물질, 상기 전구물질들의 이용 및 상기 이용을 위한 가능한 조성물들에 관한 것이다.

석판인쇄(lithography) 인화의 분야는 기름과 물이 비혼합한다는 사실에 기초하며, 여기에서 기름성분 또는 잉크는 선택적으로 이미지 영역(image area)에 의해 보유되며, 그리고 물 또는 잉크용액은 선택적으로 비이미지 영역(non-image area)에 의해 보유된다. 적절하게 제조된 표면이 물로 적셔지고 그리고 나서 잉크가 적용되면, 이미지 영역이 잉크를 수용하고 물을 반발하는 반면, 배경 또는 비이미지 영역은 물을 보유한다. 그리고 나서 이미지 영역 상에서의 잉크는 이미지가 재생산되는 종이, 천 그리고 그와 유사한 물질의 표면으로 이동된다. 보통은 잉크는, 이미지가 재생산되는 물질의 표면으로 잉크를 교대로 옮기는, 블랑케트(blanket)라는 중간물질로 이동된다.

일반적으로 사용되는 석판인쇄 인화형 전구물질의 타입은 알루미늄 염기 지지대에 적용되는 빛 감지 코팅을 가진다. 음화(negative working) 석판인쇄 인화형 전구물질은, 이미지 방향이 빛에 노출되면 노출된 영역에서 경화되는, 방사선 감지 코팅을 가진다. 현상에서, 코팅된 조성물의 비노출 영역들은 이미지를 남기고 제거된다. 이와 반대로 양화(positive working) 석판인쇄 인화형 전구물질들은, 이미지 방향을 적절한 파장의 빛에 노출한 후, 현상에서 비노출 영역보다도 노출된 영역에서 더 잘 용해되는, 코팅된 조성물을 가진다. 이러한 빛 유도 용해성의 차이를 광가용화(photosolubilisation)라고 부른다. 많은 상업적으로 이용 가능한, 페놀수지와 함께 퀴논 디아자이드(quinone diazide)로 코팅된, 양화 인화형 전구물질들은 이미지를 생산하기 위해 광가용화에 의해 작용한다. 양 경우 모두에서, 인화형 위의 이미지 영역 그 자체는 잉크 수용적이거나 또는 친유성이며 그리고 비이미지 영역 또는 배경은 물 수용적이거나 친수성이다.

이미지 영역과 비이미지 영역사이의 차이는 필름이 우수한 접촉을 보장하기 위해 진공으로 인화형 전구물질에 적용되는 노출과정에서 만들어진다. 그리고 나서 인화형 전구물질이 빛에 노출되며, 이러한 빛들의 한 부분은 UV 방사선으로 구성된다. 양화 인화형 전구물질이 사용되는 곳에서는, 인화형 전구물질위의 이미지에 해당하는 필름 영역이 불투명해서 어떠한 빛도 인화 형 전구물질을 비추지 않을 것이나, 반면에 비이미지 영역에 해당하는 필름상의 영역은 깨끗하며, 그리고 좀더 용해가 잘되고 제거되는 코팅으로의 빛의 전달을 허용한다.

석판인쇄 인화형 전구물질 분야에서의 최근의 개발이 직접적인 레이저 어드레서블(laser addressable) 인화형 전구물질의 제조에 유용한 방사선 감지 조성물을 공급한다. 디지털 이미징 정보는 사진 투명도(photographic transperency)와 같은 이미징 마스터를 이용할 필요 없이 인화형 전구물질을 이미지하기 위해 사용될 수 있다.

양화의 예로서, 직접적인 레이저 어드레서블 인화형 전구물질이 1987년 11월 24일에 발표된 미국특허 4,708,925에 기재되어 있다. 이 특허는, 이미징 층이 페놀수지와 방사선 감지 오니움염(onium salt)을 포함하는, 석판인쇄 인화형 전구물질을 기술한다. 이 특허에 기술된 바와 같이, 페놀수지와 오니움염의 상호작용이, 오니움염의 사진 분해상에서 알칼리 용해성으로 복구되는, 알칼리 불용해성 조성물을 생산한다. 인화형 전구물질은, 영국 특허 제 2,082,339에서 기술된 대로, 노출과 현상사이에 부가적인 처리 단계들을 이용하는, 양화 인화형 전구물질 또는 음화 인화형 전구물질로서 이용될 수 있다. 미국특허 4,708,925에 기술된 인화형 전구물질들은 본질적으로 UV방사선에 민감하며, 그리고 부가적으로 가시방사선과 적외선에도 민감할 수 있다.

직접적인 양화 시스템으로서 이용될 수 있는 레이저 어드레서블 인화형 전구물질의 더 많은 예가 1994년 12월 13일에 발표된 미국특허 5,372,907과 1996년 2월 13일에 발표된 미국특허 5,491,046에 기술되어 있다. 이러한 두 개의 특허들은 이미지방향 노출에서 수지 매트릭스의 용해성을 증가시키기 위해 잠재적인 브뢴스티드산(Brosted acid)의 방사선 유도 분해를 기술한다. 미국특허 4,708,925에 기술된 인화형 전구물질과 같이, 이러한 시스템들은 이미징과 전-현상(pre-development) 후에 부가적인 처리 단계를 가지는, 음화 시스템으로서도 이용될 수 있다. 음화 과정에서, 생산물에 의한 분해는 수지들간의 교차결합 반응을 촉매하여 현상 이전의 이미지된 영역들을 불용해하기 위해 연속적으로 이용된다. 미국특허 4,708,925에서와 같이, 이러한 인화형 전구물질들은, 이용되는 산 발생 물질에 기인한, UV 방사선에 본질적으로 민감하다.

상술한 직접적으로 이미지된 양화 인화형 전구물질로서 사용될 수 있는 종래 기술인 인화형 전구물질은 하나 이상의 단점이 있다. 상술한 인화형 전구물질 중 어떠한 것도 작업 영역에서 조사 조건(lighting condition)을 고려하지 않고 대규모로 조절될 수 없다. 제한되지 않은 기간동안 인화형 전구물질을 조절하기 위해, 특별한 조사조건 안정제들이 UV 방사선으로의 원치 않은 노출을 막기 위해 요구된다. 인화형 전구물질들은 백색광의 출력 스펙트럼에 의존하는 백색광 작동 조건들에서 단지 제한된 기간동안만 이용될 수 있다. 디지털 이미징 하드웨어와 인화형 전구물질을, 이러한 영역에서 불이익이 될 수도 있는 작업 흐름과 UV 민감성을 능률적으로 하기 위해서, 제한되지 않은 백색광 압력 공간 환경에서 이용하는 것이 바람직하다. 덧붙여, 백색광 조절은 제한적인 안정 조사 조건을 가지려는 전통적 전-압력(pre-press) 영역에서 향상된 작업 환경을 제공할 것이다.

더욱이, 양 인화형 전구물질 시스템들은 현상액의 용해성, 잉크 수용성, 런길이(runlength), 접착력을 포함하는 석판인쇄 플레이트 실행 변수들의 넓은 범위의 요구에 걸쳐서 최적의 실행을 제공하기 위해, 플레이트 성분들을 최고로 하는데 어려움을 만드는 구성요소들을 가진다.

미국특허 4,708,925에 기술된 시스템들에서, 방사상의 오니움염의 존재 하에서 페놀수지를 교차결합하는 치환기들의 존재가, 노출 상에서 감소된 가용화를 이끌 듯이, 알칼리 용해성 수지로의 변형으로서 또는 조성물에서 부가적인 구성요소들로서 허락되지 않는다.

미국특허 5,491,046에 기술된 조성물들은, 음화 방식에서 시스템의 이용을 허락하기 위해, 레졸(resole) 수지와 노볼락(novolak) 수지 모두의 존재를 필수적으로 요구한다. 이것은 음화 특허의 예들과 이러한 독점적인 기술인 코닥의 실행자 생산물로부터 얻어지는 첫 번째 상업화된 물질에 의해 증명되는 바와 같이, 이 시스템을 위한 향상된 방식이다. 음화를 위한 이러한 최적의 조건이 잠재적으로 이러한 요구를 하지 않는 양화 방식에 대한 최적조건을 제한한다.

온도 기록 물질로서 유용한 조성물들을 용해하는 넓은 가열 범위가, 1971년 9월 15일에 발표된 영국특허 1,245,924에 이미 발표되었으며, 그래서 주어진 용매에서 이미지 가능한 층의 어떠한 주어진 영역의 용해성이, 기록 물질과 접촉하는 최초 위치의 그래픽의 배경 영역으로 전달되거나 또는 이로부터 반사되는, 높은 강도의 가시광선 및/또는 적외선 방사선으로의 짧은 기간동안의 간접적인 노출에 의한 층의 가열에 의해 증가될 수 있다. 상기의 시스템들은 다양하며 그리고 많은 다른 기작들에 의해 작동하며 그리고 물에서부터 염소화 유기 용매까지의 범위를 가지는 다른 현상 물질들을 이용한다. 수성으로 현상 가능하다고 알려진 조성물들의 범위에 포함되는 것은 노볼락 타입의 페놀수지를 포함하는 것들이다. 본 특허는 그러한 수지들을 포함하는 코팅된 필름들이 가열 상에서 증가된 용해성을 나타낼 것이라고 제안한다. 조성물들은 카본 블랙 또는 밀로리 블루(Milori Blue: C.I. 색소 블루 27)와 같은 열 흡수 합성물들을 포함할 수도 있다. 이러한 물질들은 기록 배지(recording medium)로서의 사용을 위해, 이미지들을 채색한다.

그러나, 영국특허 1,245,924에 기술된 조성물들에서의 용해성 차이의 수준은 상업적인 양화 석판 인화형 전구물질의 조성물과 비교하여 매우 낮다. 표본적인 석판인쇄 인화형 전구물질들은 현상 용액들을 강하게 하기 위한 우수한 내구력, 다양한 고객에게 우수한 확신을 증명할 수 있으며, 그리고 높은 현상 용액 이용과 많은 인화된 물질을 공급하기에 최적이 될 수 있다. 영국특허 1,245,924의 조성물들에 의해 제시된 매우 낮은 현상정도가 조성물들을 상업적으로 수용 가능한 석판인쇄 인화형 전구물질들에 부적합하게 만든다.

본 특허는 상술한 종래 기술의 단점을 나타내지 않는 열 방식 이미징을 위한 열 감지 양화 인화형 전구물질로서 적용하기에 적합한 열 감지 조성물을 발견하였다.

본 발명의 조성물은, 노출된 영역의 수용의 현상액의 용해성을 일으키는 조성물의 부분적인 가열, 바람직하게는 적절한 방사선에 의한 부분적인 가열의 경우, 열을 감지한다.

그래서 본 발명의 한 특징은, 이하에서 "활성 중합체(active polymer)"라고 하는 수용의 현상액 용해성 중합 기질 조성물과, 이하에서 "가역적인 불용해성 합성물(reversible insolubiliser compound)"라고 하는 중합 기질의 수용의 현상액 용해성을 감소하는 합성물을 포함하는 친유성이며, 열 감지의 조성물을 제공하는 것이며, 상기 조성물은 조성물의 수용의 현상액 용해성이 가열 상에서 증가되고, 입사 UV 방사선에 의해 증가되지 않는 것으로 특징지어진다.

본 발명의 또 다른 특징은, 조성물의 수용의 현상액 용해성이 가열 상에서 증가하고 UV 방사선에 의해 증가하지 않는 것으로 특징지어지는, 친수성 표면을 가지는 지지대에 코팅된, 상기 활성 중합체와 상기 가역적인 불용해성 합성물을 포함하는 조성물을 포함하는 코팅을 가지는 양화 석판인쇄 인화형 전구물질을 제공하는데 있다.

본 발명의 열 감지 조성물들의 민감성을 증가시키기 위해, 부가적인 구성요소, 즉, 입사 방사선을 흡수하고 그리고 이것을 열로 변환시킬 수 있는, 이하에서 "방사선 흡수 합성물(radiation absorbing compound)"이라고 하는 방사선 흡수 구성요소를 포함하는 것이 좋다.

그래서 본 발명의 또 다른 특징은, 상기 코팅이 선택적으로 방사선을 흡수하고 그리고 이 방사선을 열로 변환하기 위해 적절하게 적용되는, 석판인쇄 인화 형 전구물질에 있다.

그래서 본 발명의 적절한 실시예에 따라, 친수성 표면을 가지는 지지대에서 친유성이며, 열 감지인, 상기 활성 중합체, 상기 가역적인 불용해성 합성물 및 상기 방사선 흡수 합성물을 포함하는, 조성물의 수성의 현상액 용해성이 가열 상에서 증가하고 입사 UV 방사선에 의해 증가하지 않는 것으로 특징지어지는 조성물을 가지는 열 감지 양화 석판인쇄 인화형 전구물질이 제공된다.

본 발명의 더욱 바람직한 실시예에 따라, 상기 코팅이 방사선 흡수 합성물을 포함하는, 친수성이며 열 감지 조성물을 아래에 배열된 부가적인 층들을 포함하는, 열 감지 양화 석판인쇄 인화형 전구물질이 제공된다.

본 발명의 더욱 바람직한 실시예에 따라, 친수성 표면을 가지는 지지대에서, 친유성이며, 열 감지인, 상기 방사선 흡수 합성물도 역시 포함하는, 상기 활성 중합체와 상기 가역적인 불용해성 합성물을 포함하며, 조성물의 수용의 현상액 용해성이 가열 상에서 증가하고 입사 UV 방사선에 의해 증가하지 않는 것으로 특징지어 지는 조성물을 가지는 열 감지의 양화 석판인쇄 인화형 전구물질이 제공된다.

본 명세서에서, 조성물의 수용의 현상액 용해성이 가열에서 증가될 때, 이것은 연속적으로 증가하는 것을 의미하며, 즉, 석판인쇄 인화 과정에서 매우 유용하다는 것을 의미한다. 조성물의 수용의 현상액 용해성이 입사의 UV 방사선에 의해 증가하지 않을 때는, 이것은 연속적으로 증가하지 않는 것을 의미하며, 즉 UV 조사 조건의 안정제가 적용되어져야만 하는 것 의미한다. 그래서, UV 방사선상에서 용해성의 비연속적인 증가는 본 발명의 범위 내에 있게 될 것이다.

인화형은 바람직하게 석판인쇄 플레이트이며 그리고 이하에서와 같이 언급될 것이다.

본 발명의 모든 바람직한 실시예들에서, 양화 석판인쇄 인화 플레이트가 가열 방식 이미징과 진행 후에 획득된다. 코팅된 조성물의 수용의 현상액의 용해성이 단지 활성 중합체 용해성에 대해서만 많이 감소된다. 적절한 방사선으로의 연속적인 노출에서, 조성물의 가열된 영역들이 현상 용액에서보다 더욱 용해된다. 그래서 이미지방향의 노출에서, 노출되지 않은 조성물과 노출된 조성물사이의 용해성의 차이에 변화가 있다. 그래서 노출된 영역에서의 조성물은 플레이트에 놓여있는 친수성 표면을 나타내면서 용해된다.

본 발명의 코팅된 플레이트들은, 기록하는 물질과 접촉하는 위치의 최초의 그래픽의 배경영역으로부터 전달되거나 또는 반사된 높은 강도의 방사선에, 짧은 기간동안 노출되는 것에 의해 간접적으로 가열 이미지될 수 있다.

본 발명의 또 다른 특징에서, 플레이트들은 가열된 몸체를 이용하여 가열된 이미지방식일 것이다. 예를 들어 플레이트, 가역적인 면 또는 바람직하게 열 감지 조성물이 가열 돌기(stylus)에 의해 접촉될 수 있다.

본 발명의 또 다른 특징에서, 바람직하게 플레이트는 코팅의 이미지방향을 가열하기 위해 레이저에 의해 직접적으로 노출된다. 레이저가 600nm이상에서 방사선을 발사하는 것이 가장 바람직하다.

본 출원이 발명의 작동방법의 이론적인 설명에 의해 제한되어지는 것을 원하지 않는 반면에, 열적으로 부서지기 쉬운 복합체가 활성 중합체와 가역적인 불용해성 합성물 사이에 형성되는 것 같다. 이러한 복합체는 가역적으로 형성되는 것으로 보이며 그리고 조성물에 수용의 현상액 용해성을 저장하기 위해 복합체에 열을 적용하는 것에 의해 부서질 수 있는 것 같다. 본 발명에서 이용하기에 적절한 중합적 기질들은, 복합적이지 않을 때, 전자가 풍부한 치환기들을 포함하며, 그리고 중합 기질들의 수용의 현상액 용해성을 감소하는 적절한 합성물들은 전자가 부족하다고 여겨진다. 조성물내에서 구성요소들의 분해가 요구되거나 또는 어떠한 적절한 분해가 기록된 실시예에서 일어난다고는 여겨지지 않는다.

본 발명에서의 적용을 위해 적절한 상기 활성 중합체들의 치환기의 예들은 수산기, 카르복실기, 아미노, 아미드 및 말레이미드(maleiimide) 치환기 그룹들을 포함한다. 본 발명에서 사용에 적합한 중합 물질들은 페놀 수지들을 포함하는 넓은 범위의 것들이며, 이러한 것들은 예를 들어 3-메틸-4-하이드록시스티렌(3-methyl-4-hydroxystyrene) 또는 4-메스옥시스티렌(4-methoxystyrene)인 4-하이드록시스티렌(4-hydroxystyrene)의 공중합체들; 예를 들어 스티렌인 (메스)아크릴산[(meth)acrylic acid]의 공중합체들; 예를 들어 스티렌을 가지는 말레이미드의 공중합체들; 하이드록시 또는 카르복실이 치환된 세룰로스; 예를 들어 스티렌을 가지는 무수말레인산(maleic anhydride)의 공중합체들; 무수말레인산의 부분적으로 가수분해된 중합체들이 있다.

가장 바람직한 활성 중합체는 페놀수지이다. 본 발명에서 부분적으로 유용한 페놀수지들은 페놀, 탄소가 알킬로 치환된 페놀[크레졸과 파라-터트-부틸-페놀(p-tert-butyl-phenol)과 같은 것)들, 디페놀(diphenol)들(비스페놀-A와 같은 것)및 알데하이드(포름알데하이드와 같은 것) 사이의 상호작용으로부터의 농축된 생산물들이다. 농축을 위한 제조 과정에 따라서, 다양한 구조들과 특성들을 가지는 페놀 물질들의 범위가 형성될 수 있다. 본 발명에서 특히 유용한 것들은 노볼락 수지(novolak resine), 레졸 수지(resole resine) 및 노볼락/레졸 수지 혼합물들이다. 적절한 노볼락 수지들의 예들은 다음과 같은 일반적인 구조식을 갖는다.

적절한 중합 기질들의 수용의 용해성을 감소하는 많은 합성물들은 가역적인 불용해성 합성물들로서의 이용을 위해 위치되어진다.

유용한 가역적인 불용해성 합성물들의 분류들은, 적어도 하나의 질소원자가 4급화되고, 헤테로사이클 링에 삽입된 것이거나 또는 헤테로사이클 링에 4급화 및 삽입된 질소 함유 합성물이다.

유용한 4급화된 질소 함유 합성물들의 예들은, 크리스탈 바이올렛(CI 베이직 바이올렛 3)(crystal violet)과 에틸 바이올렛(ethyl violet)과 같은 트리아릴 메탄(triaryl methan)염료와 세트리마이드(Cetrimide)와 같은 테트라알킬 암모니움(tetraalkyl ammonium) 합성물들이다.

더욱 바람직한 가역적인 불용해성 합성물은 질소 함유 헤테로사이클 합성물이다.

적절한 질소 함유 헤테로사이클 합성물들의 예들은 퀴놀린(quinoline)과 1,2,4-트리아졸과 같은 트리아졸(triazol)들이다.

가장 바람직한 가역적인 불용해성 합성물은 4급화된 헤테로사이클 합성물이다.

적절한 4급화된 헤테로사이클 합성물들의 예들은 모나 기업(Mona industry)에 의해 제조된 모나조린 시(monazoline C), 모나조린 시와(CY) 및 모나조린 티(T)와 같은 이미다조린(imidazoline) 합성물, 1-에틸-2-메틸 퀴놀리늄 요오드와 1-에틸-4-메틸 퀴놀리늄 요오드 같은 퀴놀리늄(quinolinium) 합성물들 그리고 3-에틸-2-메틸 벤조티아조늄 요오드와 같은 벤조티아조늄(benzothiazolium) 합성물 그리고 세틸 피리디늄 브롬화물(cetyl pyridinium bromide), 에틸 비오로겐 디브롬화물(ethyl viologen dibromide) 그리고 플루오르피리디늄 테트라플루오르보레이트(fluoropyridinium tetrafluoroborate)와 같은 피리디늄(pyridinium) 합성물들이다.

유용한 퀴놀리늄 또는 벤조티아조늄 합성물들은, 염료 에이(이하 염료 A라 한다), 퀴놀딘 블루(quinoldine blue) 및 3-에틸-2[3-(3-에틸-2(3수소)-벤조티아졸리덴)-2-메틸-1-프로페닐]벤조티아조늄 요오드와{3-ethyl-2[3-(3-ethyl-2(3H)-benzothiazolylidene)-2-methyl-1-propenyl]benzothiazolium iodide} 같은 양이온의 시아닌 염료들이다.

염료 A의 구조식은 다음과 같다.

가역적인 불용해성 합성물들의 더욱 유용한 분류는 카르보닐 치환기 그룹 함유 합성물들이다.

적절한 카르보닐 함유 합성물들의 예들은 알파-나프토플라본(α-naphthoflavone), 베타-나프토플라본(β-naphthoflavone), 2,3-디페닐-1-인덴온(2,3-dipheyl-1-indeneone), 플라본(flavone), 플라바논(flavanone), 크산톤(xanthone), 벤조페논(benzophenone), 엔-(4-브로모부틸)프탈이미드[N-(4-bromobutyl)phthalimide] 및 페난트렌퀴논(phenanthrenequinone)이다.

가역적으로 불용해하는 합성물은 다음과 같은 일반 구조식을 가질 수 있다.

Q₁-S(O)_n-Q₂

여기에서 Q₁은 선택적으로 치환된 페닐 또는 알킬 그룹을 나타내며, n은 0, 1 또는 2를 나타내며, Q₂는 할로겐 원자 또는 알콕시 그룹을 나타낸다. 바람직하게 Q₁는 예를 들어 토릴(tolyl) 그룹을 들 수 있는 C_1-4알킬 페닐 그룹, 또는 C_1-4알킬 그룹이다. 바람직하게 n은 1 또는 특별히 2를 나타낸다. 바람직하게 Q₂는 염소 원자 또는 C_1-4알콕시 그룹, 특별히 에톡시(ethoxy) 그룹을 나타낸다.

또 다른 유용한 가역적인 불용해성 합성물은 아크리딘 오렌지 베이스(acridine orange base)(CI 용매 오렌지 15)이다.

다른 유용한 가역적인 불용해성 합성물들은 페로세늄 헥사플루오르포스페이트(ferrocenium hexafluorophosphate)와 같은 페로세늄(ferrocenium) 합성물들이다.

가역적인 불용해성 합성물들과, 상기의 방법으로, 상호작용하는 활성 중합체에 덧붙여서, 조성물들은 그렇게 상호작용하지 않는 중합체 기질을 함유할 수도 있다. 중합 기질들의 혼합을 가지는 그러한 조성물에서, 활성 중합체가 부가적인 중합 기질(들)보다 낮은 중량으로 존재할 수 있다는 것이 주목된다. 활성 중합체가 조성물에 존재하는 중합 기질의 전체 중량에 대해 적어도 10%, 바람직하게는 적어도 25%, 더 바람직하게는 적어도 50%으로 존재하는 것이 적당하다. 그러나 더욱 바람직하게는 활성 중합체가 이와 같이 상호작용하지 않는 어떤 중합 기질이 제거되어 존재하는 것이다.

조성물의 주요 성분은 활성 중합체, 그리고 활성 중합체가 존재할 때, 이것과 상기의 방법으로 상호작용하지 않는 부가적인 중합 기질을 포함하는 중합 기질에 의해 구성되는 것이 바람직하며, 조성물의 소수 성분은 가역적인 불용해의 합성물로 구성되는 것이 바람직하다.

정의되는 대로 주요 성분은 조성물의 총 중량당 적어도 50%, 바람직하게는 적어도 65%, 가장 바람직하게는 적어도 80%인 것이 적절하다.

정의되는 대로, 소수 성분은 조성물의 총 중량당 50%보다 적게, 바람직하게는 20%까지, 가장 바람직하게는 15%까지가 적당하다.

가역적인 불용해성 합성물은 조성물의 총 중량의 적어도 1%, 바람직하게는 적어도 2%, 바람직하게는 25%까지, 더욱 바람직하게는 15%까지로 구성되는 것이 바람직하다. 그래서 가역적인 불용해성 합성물의 바람직한 중량의 범위는 조성물의 총 중량의 2-15%로 나타낼 수 있다.

상기의 합성물과 상호작용하는 하나 이상의 중합 기질이 있을 수 있다. 이러한 기질(들)의 비율에 대한 여기에서의 언급들은 그것들의 전체 함량이다. 비슷하게, 상기와 같이 상호작용하지 않는 하나 이상의 중합 기질이 있을 수 있다. 그러한 기질(들)의 비율에 대한 여기에서의 언급은 그것들의 총함량이다. 비슷하게 가역적인 불용해성 합성물이 하나 이상 있을 수 있다. 그러한 합성물(들)의 비율에 대한 다음의 언급은 그것들의 총함량이다.

수용의 현상액 조성물은 중합 기질의 성질에 의존한다. 수용의 석판인쇄 현상액들의 일반 구성요소들은, 계면활성제들, 에틸렌디아민 테트라아세트산의 염(salts of ethylenediamine tetraacetic acid)같은 킬레이트화제, 벤질 알코올 같은 유기 용매 및 무기 메타규산염(inorganic metasilicate). 유기 메타규산염, 하이드록사이드(hydroxide) 또는 바이카보테이트(bicarbonate)같은 알칼린 구성요소들이다.

바람직한 수용의 현상액은, 중합 기질이 페놀수지일 때, 무기 또는 유기 메타규산염을 함유하는 알칼린 현상액이다.

여섯 개의 간단한 테스트인, 테스트 1에서 6까지가 활성 중합체와 가역적인 불용해성 합성물을 함유하는 조성물과 적절한 수용의 현상액이 본 발명의 사용에 적절한가를 결정하기 위해 수행될 수 있다.

테스트 1

가역적인 불용해성 합성물의 부존재 하에서, 활성 중합체를 포함하는 조성물이 친수성 지지대상에 코팅되고 건조된다. 그리고 나서 그 표면에 잉크를 칠한다. 만약 균일하게 잉크가 착색된 코팅이 획득된다면, 상기 조성물은 층으로서 놓여지는 때에, 친유성이다.

테스트 2

가역적인 불용해성 합성물의 부존재 하에서, 활성 중합체를 포함하는 조성물로 코팅된 친수성 지지대가, 시행착오에 의해 결정될 수 있으나 전형적으로 30과 60초 사이가 될 것인, 적절한 시간동안, 실온에서 적절한 수용의 현상액에서 진행된다. 그리고 나서 헹구어지며, 건조되고 그리고 잉크가 덮여진다. 만약에 어떠한 잉크 표면도 획득되지 않는다면, 조성물은 현상액에서 분해되는 것이다.

테스트 3

활성 중합체와 가역적인 불용해성 합성물을 포함하는 조성물이 친수성 지지대에서 코팅되고, 건조되며 그리고 잉크가 칠해진다. 만약에 균일한 잉크가 칠해진 코팅이 획득된다면 그 조성물은 층으로서 놓여지는 때에 친유성이다.

테스트 4

활성 중합체와 가역적인 불용해성 합성물을 포함하는 조성물로 코팅된, 친수성 지지대가, 시행착오에 의해 결정될 수 있으나 전형적으로 30과 60초 사이가 될 것인 적절한 시간동안, 실온에서, 적절한 수용의 현상액에서 진행되며, 그리고 나서 세척되고, 건조되며 그리고 잉크로 덮여진다. 만약 균등하게 잉크된 코팅이 획득된다면, 그 조성물은 현상용액에서 연속적으로 분해되는 것은 아니다.

테스트 5

활성 중합체와 가역적인 불용해성 합성물을 포함하는 조성물로 코팅된 친수성 지지대가, 조성물이 적절한 시간동안 적당한 온도에 도달할 수 있는, 오븐에서 가열된다. 그리고 나서 이것은 적절한 수용의 현상액에서, 적당한 시간동안 실온에서 진행된다.

그리고 나서 표면은 건조되고 잉크가 칠해진다. 만약에 어떠한 잉크 표면도 획득되지 않는다면, 가열된 조성물이 현상액에서 분해되는 것이다.

온도와 시간은 조성물을 위해 선택된 구성요소들과 그것들의 비율에 의존하였다. 단순한 시행착오가 적절한 조건들을 결정짓기 위해 시행될 것이다. 만약에 그러한 실험들이 테스트들이 겪게 되는 조건들을 만들지 않는다면, 조성물이 그 테스트를 통과하지 않는다는 결론이 나올 것이다.

바람직하게 전형적인 조성물에 대해, 활성 중합체와 가역적인 불용해성 합성물을 포함하는 조성물이, 50℃에서 160℃까지의 온도에 도달하도록, 5에서 20초 동안, 오븐에서 가열된다. 그리고 나서 이것은 시행착오에 의해 결정될 수 있으나 전형적으로 30에서 120초까지가 되는 적절한 시간동안, 실온에서, 적절한 수용의 현상액에서 진행하게 된다.

가장 바람직하게는, 활성 단백질과 가역적인 불활성 합성물을 포함하는 조성물이 50℃에서 120℃까지의 온도에 도달하도록, 10에서 15초 동안, 오븐에서 가열된다. 그리고 나서 이것이 실온에서, 30에서 90초 동안 적절한 수용의 현상액에서 진행된다.

테스트 6

활성 중합체와 가역적인 불용해성 합성물을 포함하는 조성물로 코팅된 친수성 지지대가, 시행착오에 의해 결정될 수도 있으나 전형적으로 30초가 되는 적절한 시간동안 UV방사선에 노출된다. 그리고 나서 이것이, 시행착오에 의해 결정될 수 있으나 전형적으로 30에서 60초까지인 적절한 시간동안, 실온에서 적절한 수용의 현상액에서 진행된다. 그리고 나서 이 표면은 건조되고 잉크가 칠해진다. 만약에 코팅이 잉크가 칠해지고 조성물의 UV방사선으로 유도된 어떠한 가용성도 발생하지 않았으면, 이 조성물은 일반적인 작업 조사 조건에 적절한 것이다.

만약에 조성물이 모든 여섯 번의 테스트를 거친다면, 이것은 본 발명의 사용에 적절한 것이다.

많은 합성물 또는 그것들의 혼합물들은 본 발명의 바람직한 실시예에서 방사선 흡수 합성물(radiation absorbing compound)로서 이용될 수 있다.

바람직한 실시예에서, 방사선 흡수 합성물은 적외선을 흡수한다. 그러나 다른 파장의 방사선(UV파장은 제외함), 예를 들어 아르곤 이온 레이저로부터의 488nm의 방사선을 흡수하는 다른 물질들은 열로 변환되는 방사선으로 이용될 수 있다.

방사선 흡수 합성물은 카본 블랙 또는 흑연과 같은 탄소가 유용하다. 상업적으로 이용할 수 있는 색소로는 바스프(BASF)에 의해 공급되는 헬리오겐 그린(heliogen Green) 또는 엔에이치 제조회사(NH Laboratories Inc)에 의해 공급되는 니그로신 베이스 엔지1(Nigrosine Base NG1) 또는 알드리치(Aldrich)에 의해 공급되는 밀로리 블루(Milori Blue)(C.I. 색소 블루 27)와 같은 것들이 있을 수 있다.

본 발명의 바람직한 방법에서, 코팅된 플레이트는 이미지방향이 레이저에 의해 직접적으로 노출된다. 가장 바람직하게는 레이저가 600nm이상에서 방사선을 분출하고 그리고 방사선 흡수 합성물이 적외선 흡수 염료인 것이 유용하다.

바람직하게 적외선 흡수 합성물은, 그것의 흡수 스펙트럼이 본 발명의 방법에서 사용되어지는 레이저의 출력 파장에서 중요한 것이다. 이것은 유용하게 프탈로시아닌(phthalocyanine)색소와 같은 유기 색소 또는 염색제가 될 수 있을 것이다. 또는 스쿠알리늄(squarylium), 메로시아닌(merocyanine), 시아닌, 인돌리진(indolizine), 피릴늄(pyrylium) 또는 메탈 디티오린(metal dithioline) 분류의 염료 또는 색소가 될 수도 있다.

그러한 합성물들의 예들은 다음:

과 같으며, 염료 비(이하 염료 B라 한다)는 다음과 같은 구조를 갖는 것으로 보이며,

염료 시(이하 염료 C라 한다)인, 영국의 미들섹스의 라이델 디 핼 유케이(Riedel de Haen UK)에 의해 제공되는 케이에프654 비 피나(KF654B PINA)는 다음과 같은 구조를 갖는다고 여겨진다.

방사선 흡수 합성물은 조성물의 총 중량의 적어도 1%, 바람직하게 적어도 2%, 바람직하게 25%까지, 더 바람직하게는 15%까지 구성되는 것이 적당하다. 그래서 방사선 흡수 합성물을 위한 바람직한 중량 범위는 조성물의 전체 중량의 2-15%로서 표현될 수 있다. 마찬가지로, 하나 이상의 방사선 흡수 합성물이 있을 수 있다. 그러한 합성물(들)의 비율에 대한 여기에서의 언급들은 그것들의 총함량이다.

본 발명의 바람직한 실시예에서, 방사선 흡수 합성물을 포함하는 부가적인 층(additional layer)이 사용될 수 있다. 이 다층 구조는, 더 많은 양의 흡수제가 이미징 형성층의 기능에 영향을 주는 것 없이 사용될 수 있도록, 경로에 높은 민감도를 공급할 수 있다. 원칙적으로, 원하는 파장범위에서 충분히 강하게 흡수하는 어떤 방사선 흡수 물질이, 균일한 코팅에 삽입되거나 또는 가공될 수 있다. 염료, 금속 그리고 색소(금속 산화물을 포함함)가 증기가 놓여진 층의 형태로 이용될 것이며, 그러한 필름들의 형성과 이용에 대한 기술들이, 예를 들어 유럽특허 0,652,483에 잘 알려져 있다. 본 발명에서 바람직한 구성요소들은, 균일한 코팅으로서 친수성이거나, 또는 친수성 표면을 공급하기 위해, 예를 들어 친수성 층의 사용에 의해 처리될 수 있다.

중합 기질의 수용의 현상액 용해성을 감소하고 그리고 본 발명의 실시예에 적합한 방사선 흡수 합성물들이기도 한 합성물들은, 바람직하게 시아닌 염료이며 가장 바람직하게는 600nm이상의 파장을 흡수하는 퀴놀리늄 시아닌 염료들이다.

그러한 합성물들의 예들은 다음과 같다:

상기와 같은 구조식을 가지는 2-[3-클로로-5(1-에틸-2(1수소)-퀴놀리닐덴)-1,3-펜타디에닐]-1-에틸퀴놀리늄 브롬화제{2-[3-chloro-5-(1-ethyl-2(1H)-quinolinylidend)-1,3-pentadienyl]-1-ethylquinolinium bromide},

상기와 같은 구조를 가지는 1-에틸-2-[5-(1-에틸-2(1수소)-퀴놀리덴)-1,3-펜타디에닐]퀴놀리늄 요오드{1-ethyl-2-[5-(1-ethyl-2(1H)-quinolinylidene)-1,3-pentadienyl]quinolinium iodide},

상기와 같은 구조식을 가지는 4-[3-클로로-5-(1-에틸-4(1수소)-퀴놀리덴)-1,3-펜타디에닐]-1-에틸퀴놀리늄 요오드{4-[3-chloro-5-(1-ethyl-4(1H)-quinolinylidene)-1,3-pentadienyl]-1-ethylquinolinium iodide},

상기와 같은 구조를 갖는 염료 디(이하 염료 D라 한다)인 1-에틸-4-[5-(1-에틸-4(1수소)-퀴놀리덴)-1,3-펜타디에닐]퀴놀리늄 요오드{1-ethyl-4-[5-(1-ethyl-4(1H)-quinolinylidene)-1,3-pentadienyl]quinolinium iodide}이다.

또한 방사선 흡수 합성물인 가역적인 불용해성 합성물은, 조성물의 총 중량의 적어도 1%, 바람직하게 적어도 2%, 바람직하게 25%까지, 더욱 바람직하게는 15%까지로 구성되는 것이 바람직하다. 그래서 방사선 흡수 합성물인 가역적인 불용해성 합성물에 대한 바람직한 중량의 범위는, 조성물의 총 중량의 2-15%로서 표현될 수 있다.

지지대로서 사용될 수 있는 베이스는 알루미늄 플레이트가 바람직하며, 이것은 방사선 감지 조성물이 상기 지지대에 코팅될 수 있고 지지대의 표면이 인화 배경으로서 기능을 하도록 하기 위해, 석판인쇄의 분야에서 잘 알려진 일반적인, 아노드, 그레잉 및 후-아노드 처리(anodic, graining and post-anodic treatment)를 겪는다.

본 발명의 방법에서 사용될 수 있는 또 다른 베이스 물질은, 사진 그래픽 산업에서 사용되는 플라스틱 물질 베이스 또는 처리된 페이퍼 베이스이다. 특히, 유용한 플라스틱 물질 베이스는, 그것의 표면을 친수성으로 만들기 위해 서브되는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate)이다. 역시 코로나 방전으로 처리된 소위 수지 코팅된 페이퍼도 역시 사용될 수 있다.

본 발명의 방법에서 사용될 수 있는 레이저의 예들은, 600nm와 1100nm사이에서 방사되는 반도체 다이오드 레이저를 포함한다. 실시예는 1064nm에서 방사되는 엔디(Nd) 와이 에이 지(YAG)레이저이지만, 충분한 이미징 파워의 레이저(이것들의 방사선은 조성물에 의해 흡수됨)가 사용될 수 있다.

본 발명의 조성물들은, 많은 석판인쇄 플레이트 조성물들에서 존재하는 것처럼, 안정화 첨가제(stabilising additives), 불활성 착색제(inert colourant), 부가적인 불활성 중합 바인더(additional inert polymeric binder)와 같은 성분들을 포함할 수 있다.

바람직하게 본 발명의 열 감지 조성물들은 UV 감지 구성요소들을 포함하지 않는다. 그러나, 불활성 UV 흡수 염료 또는 UV 흡수 최고층과 같은 다른 구성요소들의 존재에 의해 활성화되지 않은 UV인, UV 감지 구성요소들이 존재할 수 있다.

본 발명의 다른 특징 또는 기술되는 실시예는 어떤 발명의 어떤 다른 특징 또는 기술되는 실시예와 혼합될 수 있다.

다음의 실시예들은 상술한 본 발명의 다양한 특징들을 더욱 잘 설명하기 위한 것들이다.

생산물들은 다음:

수지 에이(이하 수지 A라 한다): 엘비 6564(LB 6564)- 베이크라이트(Bakelite)에 의해 판매되는 페놀/크레졸 노볼락 수지,

수지 비(이하 수지 B라 한다): 알 17620(R 17620)- 웨일즈, 설리(Sully)의 비.피. 화학 회사(B.P. Chemical Ltd)에 의해 판매되는 페놀/포름알데하이드 레졸 수지,

수지 시(이하 수지 C라 한다): 에서엠디 995(SMD 995)- 영국 울버햄튼(Wolverhampton)의 스넥테디 밀들렌드 회사(Schnectady Midland Ltd)에 의해 판매되는 알킬 페놀/포름알데하이드 레졸 수지,

수지 디(이하 수지 D라 한다): 마루카 린커 엠(에스-2)[Maruka Lyncur M(S-2)]- 일본, 도쿄의 마루젠 페트로케밀컬 회사(Maruzen Petrochemical Co. Ltd)에 의해 판매되는 폴리(하이드록시스티렌)수지,

수지 이(이하 수지 E라 한다): 로나코트 300(Ronacoat 300)- 스위스, 프라텔른(Pratteln)의 로흐너 회사(Rohner Ltd)에 의해 판매되는 디메틸말레이미드(dimethylmaleiimide)에 기초한 중합체,

수지 에프(이하 수지 F라 한다): 간트레즈 119(Gantrez An119)- 영국, 길포드의 가프 케밀컬 회사(Gaf Chemicals Co)에 의해 판매되는 메틸비닐에테르-코-무수말레인산 공중합체(methylvinylether-co-maleic anhydride copolymer),

수지 지(이하 수지 G라 한다): 에스엠에이 2625 피(SMA 2625P)- 영국, 뉴베리의 엘프 어토켐 유케이 회사(Elf Atochem UK Ltd)에 의해 판매되는 스티렌 무수말레인산 핼프 에스테르(styrene maleic anhydride half ester),

수지 에이치(이하 수지 H라 한다): 미국, 로체스터, 이스트맨 화인 케밀컬(Estman Fine Chemicals)에 의해 판매되는 셀루로스 아세테이트 프로피오네이트(cellulose acetate propionate)(분자량 75000이며, 2.5%의 아세테이트와 45%에서 49%까지의 프로피오네이트를 함유)가 언급된다.

노출 테스트 방법

이미지되는 코팅된 기질이 지름 105mm의 원으로 절단되었으며, 그리고 1분에 100과 2500회 사이의 일정한 속도로 회전할 수 있는 디스크 위에 위치되었다. 움직이는 테이블이 회전하는 디스크에 대해 선 형태로 레이저 빔을 방사선으로 움직이는 동안, 회전하는 디스크에 인접한 움직이는 테이블이 레이저 빔이 코팅된 기질로 정상적으로 충돌되도록 레이저 빔을 잡았다.

사용되는 레이저는 10 마이크론 회전에 초점이 맞추어지는, 싱글 모드의 830nm의 파장을 가진, 200mW 레이저 다이오드였다. 이 레이저 파워의 공급은 안정화된 일정한 흐름이었다.

노출된 이미지는 나선형이며, 여기에서 나선형의 중심에 있는 이미지가 느린 레이저 스케닝 속도와 긴 노출 시간을 나타내며, 그리고 나선형의 바깥 끝부분은 빠른 스캐닝 속도와 짧은 노출 시간을 나타내었다. 이미징 에너지들은 이미지가 형성된 지름의 측정으로부터 온 것이다.

이러한 노출 시스템에 의해 얻을 수 있는 최소의 에너지는 2500rpm에서 150mJ/㎠이다.

비교실시예 C1에서 C5와 실시예 1에서 9

모든 실시예들을 위한 코팅 제조물이, 실시예 4, 5, 7 및 8을 제외하고는, 1-메스옥시프로판-2-올(1-methoxypropan-2-ol)의 용액으로 제조되었다. 실시예 4, 5 및 8은 1-메스옥시프로판-2-올/디엠에프(DMF)가 40대 60의 부피로 혼합된 용액으로 제조되었으며 그리고 실시예 7에서는 1-메스옥시프로판-2올/디엠에프가 35대 65의 부피로 혼합된 용액으로 제조되었다. 사용되는 기질은, 전자가 모아지고(electrograin) 애노드 처리되고 무기 인산의 수용액으로 후 처리된, 0.3mm의 알루미늄 조각이었다. 상기 코팅 용액들은 전선이 감겨진 막대(wire-wound bar)에 의해 기질 위에 코팅되었다. 용액 농도는, 3분 동안 오븐에서 100℃에서 건조된 후에, 사각 미터당 1.3g의 코팅 양을 가지는 특정화된 건조 필름 조성물들을 공급하기 위해 선택되었다.

	비교예
	C1	C2	C3	C4	C5
구성요소	중량당 차지하는 부분
수지 A	100	95.7	90	90	90
염료 B		4.25	4	4	4
벤조산			6
파라-니트로페놀(p-nitrophenol)				6
3′,3″,5′,5″-테트라브로모페닐프탈렌(3′,3″,5′,5″-tetrabromophenylphthalien)					6

	실시예
	1	2	3	4	5	6	7	8	9
구성요소	중량당 차지하는 부분
수지 A	86	90	90	90	90	90	90	90	90
염료 B	4	4	4	4	4	4	4	4	4
염료 A	10
1-에틸-4-메틸 퀴놀리늄 브롬화물		6
모나조린 C			6
벤조티아조늄 A				6
벤조티아조늄 B					6
세틸 피리디늄 브롬화물						6
에틸 비오로겐 디브롬화물							6
세트리마이드								6
크리스탈 바이올렛									6

벤조티아조늄 A는 3-에틸-2-[3-에틸-2(3수소)-벤조티아졸리덴-2-메틸-1-프로페닐]벤조티아조늄 브롬화물{3-ethyl-2-[3-ethyl-2(3H)-benzothiazolylidene-2-methyl-1-propenyl]benzothiazolium bromide}이다.

벤조티아조늄 B는 3-에틸-2-메틸 벤조티아조늄 요오드화물(3-ethyl-2-methyl benzothiazolium iodine)이다.

플레이트들은, 다음에 기술하는 대로 적절한 수용의 현상액 용액을 이용하여, 30초동안 수용의 현상액 용액에서 이미징하는 것에 의해, 현상력에 대해 테스트되었다.

현상액 에이(이하 현상액 A라 한다)는 물에서 14%의 나트륨 메타규산염 펜타하이드레이트(sodium metasilicate pentahydrate)이며,

현상액 비(이하 현상액 B라 한다)는 물에서 7%의 나트륨 메타규산염 펜타하이드레이트이다.

다음의 표는 조성물에 대한 간단한 현상력 테스트의 결과를 나타낸다.

	현상액 B
비교실시예
1에서 5	코팅이 전체적으로 제거됨
실시예
1에서 9	어떠한 의미있는 코팅도 제거되지 않음

비교실시예에 기술된 조성물들은 현상액의 공격에 대한 저항을 나타내지 않는다. 실시예 1에서 9까지에 기술된 조성물들은, 본 발명에 기술된 합성물들의 사용을 통한 중합 현상액 용해성을 감소하는 효과를 설명한다.

그리고 나서 플레이트들의 더 많은 샘플들이, 상술한 830nm 레이저 장치를 이용하여 이미지되었다. 그리고 나서 노출된 디스크들이, 상술한 대로 적절한 수용의 현상액 용액을 이용해서, 30초동안 수용의 현상액 용액에 담그는 것에 의해 진행되었다. 그리고 나서 플레이트들의 민감성이 결정되었다.

상기의 결과들을 다음의 표에 나타내었다.

	현상액 A	현상액 B
비교실시예
1	코팅이 보유되지 않음
2	코팅이 보유되지 않음
3	코팅이 보유되지 않음
4	코팅이 보유되지 않음
5	코팅이 보유되지 않음
실시예
1		≤150mJ/㎠
2	≤150mJ/㎠
3	≤150mJ/㎠
4	≤150mJ/㎠
5	≤150mJ/㎠
6	≤150mJ/㎠
7		≤150mJ/㎠
8		≤150mJ/㎠
9	≤150mJ/㎠

실시예 1에 따라 만들어진 인화 플레이트가, 캐나다 벤쿠버의 크레오(Creo) 산업에 의해 공급되는, 트렌드세터(Trendsetter)라는 상업적으로 이용할 수 있는 이미지 세터(image setter)에서 이미지되었다. 이 플레이트는 석판인쇄 인화 프레스에서 적어도 10,000개의 인화물을 인화하였다.

실시예 10

8.15g의 1-메스옥시프로판-2-올, 1-메스옥시프로판-2-올에서 40%w/w인 수지 A가 2.40g, 물에서 50%w/w의 분산도를 가지는 0.12g의 염료 A와 카본 블랙 0.24g을 포함하는 용액이 제조되었으며 그리고 실시예 1에서 9까지에 기술한 대로 코팅되었다.

	실시예 10
구성요소	중량당 차지하는 부분
수지 A	80
염료 A	10
카본 블랙	10

결과적인 플레이트가 상술한 이미징 장치를 이용하여, 830nm의 파장에서 200mW 레이저 다이오드를 이용하여 이미지되었다. 플레이트가 30초 동안 현상액 B를 이용하여 현상되었다. 적절한 이미지를 획득하기 위해 요구되는 이미징 에너지 밀도가 ≤150mJ/㎠ 이었다.

실시예 10에 따라 만들어진 인화 플레이트가, 상업적으로 이용할 수 있는 이미지 세터인, 캐나다 밴쿠버의 크레오 산업에 의해 공급되는 트렌드세터에 위에서 이미지되었다. 인화된 플레이트는 석판인쇄 인화 프레스에서 적어도 10,000개의 인화물을 인화하였다.

실시예 11

다음의 표에서 기술하고 있는 조성물을 가진 플레이트 전구물질이 실시예 4에 기술한 바와 같이 제조되었다.

	실시예 11
구성요소	중량당 차지하는 부분
수지 A	90
염료 D	10

상기의 결과적인 플레이트가, 상술한 이미징 장치를 이용하는, 830nm의 파장에서 200nm W 레이저 다이오드를 이용하여 이미지되었다. 그리고 나서 플레이트가 현상액 B를 이용하여 30초 동안 현상되었다. 적절한 이미지를 획득하기 위해 요구되는 이미징 에너지 밀도는 ≤150mJ/㎠ 였다.

실시예 11에 따라 만들어지는 인화 플레이트도 역시 상업적으로 이용할 수 있는 이미지 세터인, 캐나다 밴쿠버의 크레오 산업에 의해 공급되는 트렌드세터위에서 이미지되었다. 이러한 인화된 플레이트는 석판인쇄 인화 프레스에서 적어도 10,000장의 인화물을 인화하였다.

실시예 12-18

코팅 제조물들이, 실시예 16을 제외하고는, 상술한 대로 1-메스옥시프로판-2-올의 용액으로 제조되었다. 실시예 16은 1-메스옥시프로판-2-올/디엠에프가 80대 20의 부피로 혼합되는 용액으로 제조되었다.

제조물들은, 다음의 표에서 기술되는 바와 같이, 건조 필름 조성물들을 공급하기 위해, 실시예 1-9에서 기술한 대로 코팅되었다.

	실시예
	12	13	14	15	16	17	18
구성요소	중량당 차지하는 부분
크리스탈 바이올렛	6	6	6	6	6	6	6
염료 C	4	4	4	4	4	4	4
수지 A		45
수지 B	90
수지 C		45
수지 D			90
수지 E				90
수지 F					90
수지 G						90
수지 H							90

그리고 나서 플레이트의 샘플들은, 이미 기술한 830nm 레이저 장치를 이용하여 이미지된다. 그리고 나서 노출된 디스크들은 상술한 바와 같이, 적절한 시간동안 적절한 수용의 현상액 용액에 담그는 것에 의해 진행되었다. 플레이트의 민감도가 그리고 나서 결정되었다. 결과가 다음의 표에 나타나있다.

현상액 시(이하 현상액 C라 한다)는 15%의 베타-나프틸에톡실레이트(β-naphthylethoxylate), 5%의 벤질 알코올, 2%의 니트리오-트리아세트산 트리소디움 염(nitrilo-triacetic acid trisodium salt), 78%의 물을 포함하며,

현상액 디(이하 현상액 D라 한다)는 3%의 베타-나프틸에톡실레이트(β-naphthylethoxylate), 1%의 벤질 알코올, 2%의 니트리오-트리아세트산 트리소디움 염(nitrilo-triacetic acid trisodium salt), 94%의 물을 포함하며,

현상액 이(이하 현상액 E라 한다)는 1.5%의 베타-나프틸에톡실레이트(β-naphthylethoxylate), 0.5%의 벤질 알코올, 1%의 니트리오-트리아세트산 트리소디움 염(nitrilo-triacetic acid trisodium salt), 97%의 물을 포함한다.

	현상액	시간/초	민감도
실시예
12	B	90	248 mJ/㎠
13	A	90	277 mJ/㎠
14	C	45	277 mJ/㎠
15	D	5	253 mJ/㎠
16	E	60	461 mJ/㎠
17	D	90	300 mJ/㎠
18	A	120	700 mJ/㎠

실시예 19-30

코팅 조성물들이, 실시예 26을 제외하고는, 이미 상술한 대로 1-메스옥시프로판-2-올의 용액으로 제조되었다. 실시예 26은 1-메스옥시프로판-2-올/디엠에프가 50대 50의 부피로 혼합된 용액으로 제조되었다.

조성물들이, 실시예 1-9에서 기술한 대로, 다음의 표에서 기술하는 바와 같이 건조 필름 조성물들을 공급하기 위해 코팅되었다.

	실시예
	19	20	21	22	23	24	25	26	27	28	29	30
구성요소	중량당 차지하는 부분
염료 B	4	4	4	4	4	4	4	4
염료 C									4	4	4	4
수지 A	90	90	90	90	90	90	90	90	90	90	90	90
알파-나프토플라본	6
베타-나프토플라본		6
플라본			6
크산톤				6
플라바논					6
벤조페논						6
2,3-디페닐-1-인덴온							6
엔-(4-브로모부틸)프탈이미드								6
페난트렌퀴논									6
아크리딘 오렌지 베이스(CI 용매 오렌지15)										6
파라-톨루엔 설포닐 클로라이드											6
에틸-파라-톨루엔-설포네이트												6

그리고 나서 플레이트들의 샘플들이 이미 기술한 830nm 레이저 장치를 이용하여 이미지되었다. 노출된 디스크들이, 적절한 시간동안, 적절한 수용의 현상액 용액에 담그는 것에 의해 진행되었다. 그리고 나서 플레이트 민감도가 결정되었다. 그 결과는 다음의 표와 같다.

	현상액	시간/초	민감도
실시예
19	A	30	≤150mJ/㎠
20	A	30	≤150mJ/㎠
21	A	30	290mJ/㎠
22	A	30	≤150mJ/㎠
23	A	30	≤150mJ/㎠
24	B	30	220mJ/㎠
25	B	30	≤150mJ/㎠
26	B	15	≤150mJ/㎠
27	B	60	250mJ/㎠
28	A	90	250mJ/㎠
29	B	10	400mJ/㎠
30	B	60	250mJ/㎠

실시예 31

코팅 제조물이, 상술한 대로, 1-메스옥시프로판-2-올의 용액으로 제조되었다. 이 제조물은 다음의 표에 기술된 대로 건조 필름 조성물을 공급하기 위해 실시예 1-9에서 기술된 대로 코팅되었다.

	실시예 31
구성요소	중량당 차지하는 부분
수지 A	90
염료 C	4
크리스탈 바이올렛	6

플레이트의 샘플들이 311℃에서 웨러 솔더링 아이런 이시 2100엠(Weller Soldering Iron EC 2100 M)으로부터 온 열에 적용되어져야 한다. 플레이트 표면 위의 솔더링 아이런의 이동 속도가 다음의 표에 기술되어있다. 그리고 나서 노출된 플레이트 샘플들이 60초 동안 현상액에 담그는 것에 의해 진행되었다. 결과가 다음의 표에 나타나있다.

플레이트 표면에서 솔더링 아이런 이동속도(㎝s-1)	적용되는 열	간단한 현상 테스트 결과
1	플레이트의 코팅된 표면	가열되는 영역에서 코팅이 전체적으로 제거됨
10	플레이트의 코팅된 표면	가열되는 영역에서 코팅이 전체적으로 제거됨
20	플레이트의 코팅된 표면	가열되는 영역에서 코팅이 전체적으로 제거됨
50	플레이트의 코팅된 표면	가열되는 영역에서 코팅이 전체적으로 제거됨
1	플레이트의 반대 면, 즉 알루미늄 지지대가 직접 가열됨	가열되는 영역에서 코팅이 전체적으로 제거됨
10	플레이트의 반대 면, 즉 알루미늄 지지대가 직접 가열됨	가열되는 영역에서 코팅이 전체적으로 제거됨

명세서에서, UV 광에 대한 다양한 면을 언급한다. 본 분야에 능숙한 사람은 UV광의 전형적인 파장의 범위를 알 것이다. 그러나, 어떠한 의문을 피하기 위해, UV는 전통적으로 190nm에서 400nm의 파장 범위를 가진다.

본 명세서 나타난 모든 특징(어떠한 수반되는 청구범위들, 요약서 및 도면들을 포함하여) 및/또는 발표된 어떤 방법 또는 과정의 모든 단계들은, 그러한 특징들 중 몇몇 및/또는 단계들의 조합들이 서로 적대적인 것을 제외하고는, 어떠한 조합으로 혼합될 수 있다.

본 명세서에서 발표된 각각의 특징(수반되는 청구범위, 요약서 및 도면들을 포함함)은, 일부러 다른 방법으로 나타내지 않는 한, 동일한 또는 동등한 또는 비슷한 목적을 달성하기 위한, 변형적인 특징들에 의해 대처될 수도 있다. 그래서 일부러 다른 방법으로 나타내지 않는 한, 각각의 공개된 특징들이 동등하거나 또는 비슷한 특징들의 일반적인 시리즈의 한 예일 뿐이다.

본 발명은 앞서 말한 실시예(들)로 한정되지 않는다. 본 발명은 본 명세서(어떤 수반되는 청구범위, 요약서 및 도면들을 포함함)에서 발표된 특징들의 어떤 새로운 실시예 또는 어떠한 새로운 조합, 또는 상술한 어떤 방법 또는 과정의 단계들의 어떤 새로운 것, 또는 새로운 조합까지 확장된다.

Claims (47)

1. 수용의 현상액 용해성 중합 기질과 중합 기질의 수용의 현상액 용해성을 감소하는 합성물을 포함하며, 조성물의 수용의 현상액 용해성이 가열 상에서 증가하고 입사 UV 방사선에 의해 증가하지 않는 것으로 특징지어지는, 친유성이며, 열 감지의 조성물.
2. 제 1항에 있어서, 상기 수용의 현상액 용해성 중합 기질이 수산기(hydroxy), 카르복실산(carboxylic acid), 아미노(amino), 아미드(amide) 및 말레이미드(maleiimide)로부터 선택되는 치환 그룹 또는 그룹들을 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
3. 제 1항에 있어서, 상기 수용의 현상액 용해성 중합 기질이 하이드록시스티렌(hydroxystyrene)의 중합체 또는 공중합체, 아크릴산(acrylic acid)의 중합체 또는 공중합체, 메스아크릴산(methacrylic acid)의 중합체 또는 공중합체, 말레이미드(maleiimide)의 중합체 또는 공중합체, 무수말렌산(maleic anhydride)의 중합체 또는 공중합체, 하이드록시셀루로스(hydroxycellulose), 카르복시 셀루로스(carboxy cellulose) 및 페놀수지(phenolic resin)로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
4. 제 1항에 있어서, 상기 수용의 현상액 용해성 중합 기질이 페놀수지인 것을 특징으로 하는 조성물.
5. 제 4항에 있어서, 상기 수용의 현상액 용액이 수용의 알칼린(alkaline) 용액인 것을 특징으로 하는 조성물.
6. 제 1항에 있어서, 상기 중합 기질의 수용의 현상액 용해성을 감소하는 합성물이 적어도 하나의 4급화된 질소원자를 포함하는 합성물인 것을 특징으로 하는 조성물.
7. 제 1항에 있어서, 상기 중합 기질의 수용의 현상액 용해성을 감소하는 합성물이 적어도 하나의 헤테로사이클 링(heterocyclic ring)에 삽입된 질소원자를 포함하는 합성물인 것을 특징으로 하는 조성물.
8. 제 7항에 있어서, 상기 중합 기질의 수용의 현상액 용해성을 감소하는 합성물이 퀴놀린(quinoline)과 트리아졸(triazole)로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
9. 제 1항에 있어서, 상기 중합 기질의 수용의 현상액 용해성을 감소하는 합성물이 적어도 하나의 헤테로사이클 링에 삽입된 4급화된 질소원자를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
10. 제 9항에 있어서, 상기 중합 기질의 수용의 현상액 용해성을 감소하는 합성물이 이미다조린(imidazoline) 합성물, 퀴놀리늄(quinolinium) 합성물, 벤조티아조늄(benzothiazolium) 합성물 및 피리디늄(pyridinium) 합성물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
11. 제 10항에 있어서, 상기 퀴놀리늄 합성물이 시아닌(cyanine) 염료인 것을 특징으로 하는 조성물.
12. 제 10항에 있어서, 상기 벤조티아조늄 합성물이 시아닌 염료인 것을 특징으로 하는 조성물.
13. 제 1항에 있어서, 상기 중합 기질의 수용의 현상액 용해성을 감소하는 합성물이 트리아릴메탄(triarylmethane) 합성물인 것을 특징으로 하는 조성물.
14. 제 1항에 있어서, 상기 중합 기질의 수용의 현상액 용해성을 감소하는 합성물이 카르보닐 치환 그룹(carbonyl functional group)을 포함하는 합성물인 것을 특징으로 하는 조성물.
15. 제 14항에 있어서, 상기 중합 기질의 수용의 현상액 용해성을 감소하는 합성물이 플라본(flavone) 합성물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
16. 제 14항에 있어서, 상기 중합 기질의 수용의 현상액 용해성을 감소하는 합성물이 플라바논(flavanone), 크산톤(xanthone), 벤조페논(benzophenone), 엔-(4-브로모부틸)프탈이미드[N-(4-bromobutyl)phthalimide], 2,3-디페닐-1-인덴온(2,3-diphenyl-1-indeneone) 및 페난트렌퀴논(phenanthrenequinone)으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
17. 제 1항에 있어서, 상기 중합 기질의 수용의 현상액 용해성을 감소하는 합성물은 다음:

    Q₁-S(Q)_n-Q₂

    의 일반적인 구조식을 가지는 합성물이며, 상기 Q₁은 선택적으로 치환된 페닐 또는 알킬 그룹을 나타내며, n은 0, 1 또는 2를 나타내며, Q₂는 할로겐 원자 또는 알콕시 그룹(alkoxy group)을 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물.
18. 제 1항에 있어서, 상기 중합 기질의 수용의 현상액 용해성을 감소하는 합성물이 에틸-파라-톨루엔 설포네이트(ethyl-p-toluene sulfonate)와 파라-톨루엔설포닐 클로라이드(p-toluenesulfonyl chloride)로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
19. 제 1항에 있어서, 상기 중합 기질의 수용의 현상액 용해성을 감소하는 합성물이 아크리딘 오렌지 염기(acridine orange base)(CI 용매 오렌지 15)로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
20. 제 1항에 있어서, 상기 중합 기질의 수용의 현상액 용해성을 감소하는 합성물이 페로세늄(ferrocenium) 합성물인 것을 특징으로 하는 조성물.
21. 친수성 표면을 가지는 지지대에서 제 1항 내지 제 20항 중 어느 한 항에 있어서의 조성물을 포함하는 코팅을 가지는 양화 석판인쇄 인화형 전구물질.
22. 제 21항에 있어서, 상기 코팅이 바람직하게 방사선을 흡수하고 그리고 상기 방사선을 열로 변환하도록 적절하게 적용되는 것을 특징으로 하는 석판인쇄 인화형 전구물질.
23. 제 22항에 있어서, 상기 조성물이 입사 방사선을 흡수하고 그리고 이것을 열로 변환할 수 있는 방사선 흡수 합성물(radiation absorbing compound)을 포함하는 것을 특징으로 하는 석판인쇄 인화형 전구물질.
24. 제 22항에 있어서, 상기 코팅이 상기 제 1항에서의 조성물의 아래에 배열되는 부가적인 층을 포함하며, 상기 부가적인 층은 입사 방사선을 흡수하고 이것을 열로 변환할 수 있는 방사선 흡수 합성물을 포함하는 것을 특징으로 하는 석판인쇄 인화형 전구물질.
25. 제 22항에 있어서, 상기 제 1항의 조성물의 중합 기질의 수용의 현상액 용해성을 감소하는 합성물이 입사 방사선을 흡수하고 이것을 열로 변환할 수 있는 방사선 흡수 합성물이기도 한 것을 특징으로 하는 석판인쇄 인화형 전구물질.
26. 제 23항 또는 제 24항에 있어서, 상기 방사선 흡수 합성물이 카본 블랙(carbon black)인 것을 특징으로 하는 석판인쇄 인화형 전구물질.
27. 제 23항 또는 제 24항에 있어서, 상기 방사선 흡수 합성물이 색소인 것을 특징으로 하는 석판인쇄 인화형 전구물질.
28. 제 27항에 있어서, 상기 색소가 유기 색소인 것을 특징으로 하는 석판인쇄 인화형 전구물질.
29. 제 28항에 있어서, 상기 색소가 프탈로시아닌(phthalocyanine) 색소인 것을 특징으로 하는 석판인쇄 인화형 전구물질.
30. 제 27항에 있어서, 상기 색소가 무기 색소인 것을 특징으로 하는 석판인쇄 인화형 전구물질.
31. 제 27항에 있어서, 상기 색소가 플루시안 블루(prussian blue), 헬리오겐 그린(heliogen green) 또는 니그로신(nigrosine)으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 석판인쇄 인화형 전구물질.
32. 제 23항 또는 제 24항에 있어서, 상기 방사선 흡수 합성물이 다음의 분류인, 스쿠알리늄(squarylium), 메로시아닌(merocyanine), 시아닌, 인돌리진(indolizine), 피릴늄(pyrylium) 또는 메탈 디티오린(metal dithioline) 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 석판인쇄 인화형 전구물질.
33. 제 24항에 있어서, 상기 분리되는 방사선 흡수 레이저가 염료 또는 색소의 박막인 것을 특징으로 하는 석판인쇄 인화형 전구물질.
34. 제 24항에 있어서, 상기 분리되는 방사선 흡수 레이저가 금속 또는 금속 산화물의 박막인 것을 특징으로 하는 석판인쇄 인화형 전구물질.
35. 제 25항에 있어서, 상기 중합 기질의 수용의 현상액 용해성을 감소하며 또한 방사선 흡수 합성물인 합성물이 퀴놀리늄 절반을 포함하는 것을 특징으로 하는 석판인쇄 인화형 전구물질.
36. 제 27항 또는 제 32항 내지 제 35항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 방사선 흡수 합성물이 600nm이상에서 흡수하는 것을 특징으로 하는 석판인쇄 인화형 전구물질.
37. 제 21항에 따른 전구물질로의 방사선의 직접적인 이미지방향의 적용을 포함하는 석판인쇄 인화형을 생산하기 위한 방법.
38. 제 37항에 있어서, 상기 방사선은 레이저로부터 얻는 것을 특징으로 하는 방법.
39. 제 38항에 있어서, 상기 레이저가 600nm이상에서 방사선을 분출하는 것을 특징으로 하는 방법.
40. 제 27항에 있어서, 상기 열은 가열된 몸체로부터 얻는 것을 특징으로 하는 방법.
41. 제 37항에 따른 방법의 적용에 의해 생산되는 이미지된 인화플레이트.
42. 제 21항 내지 제 25항, 제 28항 내지 제 31항 및 제 33항 내지 제 35항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 코킹이 본질적으로 수성의 알칼린 형상액으로 용액되지 않고, 조성물의 수성의 알칼린 현상액 용액성이 열에 의해 증가되고, 조성물의 수성의 알칼린 현상액 용액성이 일사 UV 방사에 의해 증가되지 않는 것을 특징으로 하는 석판인쇄 인화형 전구눌질.
43. 제 37항 내지 제 40항 중 어느 한 항에 있어서, 수성의 알칼린 현상액을 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
44. 제 26항에 있어서, 상기 코팅이 본질적으로 수성의 알칼린 현상액에서 용액되지 않고, 조상물이 수성의 알칼린 현상액 용액성이 열에 의해 증가되고, 조성물의 수성의 알칼린 현상액 용액성이 입사 UV 방사에 의해 증가되지 않는 갓을 특징으로 하는 석판인쇄 인화형 전구물질.
45. 제 27항에 있어서, 상기 코팅이 본질적으로 수성의 알칼린 현상액에서 용액되지 않고, 조성물의 수성의 알칼린 현상액 용약성이 열에 의해 증가되고, 조성물의 수성의 알칼린 현상액 용액성이 입사 UV 방사에 의해 증가되지 않는 갓을 특징으로 하는 석판인쇄 인화형 전구물질.
46. 제 32항에 있어서, 상기 코팅이 본질적으로 수성의 알칼린 현상액에서 용액되지 않고, 조성물의 수성의 알칼린 현상액 용약성이 열에 의해 증가되고, 조성물의 수성의 알칼린 현상액 용액성이 입사 UV 방사에 의해 증가되지 않는 갓을 특징으로 하는 석판인쇄 인화형 전구물질.
47. 제 36항에 있어서, 상기 코팅이 본질적으로 수성의 알칼린 현상액에서 용액되지 않고, 조성물의 수성의 알칼린 현상액 용약성이 열에 의해 증가되고, 조성물의 수성의 알칼린 현상액 용액성이 입사 UV 방사에 의해 증가되지 않는 갓을 특징으로 하는 석판인쇄 인화형 전구물질.