JP2003517925A - ゼオライトの白金化法 - Google Patents
ゼオライトの白金化法Info
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Abstract
(57)【要約】
ゼオライトおよび白金を含んでいる触媒組成物、並びにこのような触媒組成物の製造方法が開示される。このようにして得られた触媒組成物は、炭化水素の芳香族化合物への転化において用いられる。
Description
【0001】
(発明の背景)
本発明は、炭化水素のグレードアップ法において有用な触媒組成物、並びにそ
れらの製造および使用方法に関する。もう1つの側面では、本発明は、本発明の
方法によって白金化されたゼオライトとの接触によって、炭化水素類をC6−C8 芳香族化合物に転化する方法に関する。
れらの製造および使用方法に関する。もう1つの側面では、本発明は、本発明の
方法によって白金化されたゼオライトとの接触によって、炭化水素類をC6−C8 芳香族化合物に転化する方法に関する。
【0002】
白金をゼオライトに組み込んで、芳香族化合物への転化のような炭化水素の転
化法において有用な触媒を形成することは、この技術分野で公知である。このよ
うな方法に、水中白金塩を用いるゼオライトの初期湿潤含浸法(incipie
nt wetness impregnation)がある。この方法の1つの
問題は、結果として得られる触媒が炭化水素の芳香族化合物への転化率が低いと
いう欠点があることである。もう1つの方法は、ゼオライトの白金(II)アセ
チルアセトネートによる気相含浸法である。この方法から得られる触媒は高転化
率をもたらすが、商業運転では法外に高価である。従って、炭化水素の転化法に
おいて使用するときに芳香族化合物への高炭化水素転化率を実証する白金化ゼオ
ライト触媒の経済的製造方法を開発することが望ましいだろう。
化法において有用な触媒を形成することは、この技術分野で公知である。このよ
うな方法に、水中白金塩を用いるゼオライトの初期湿潤含浸法(incipie
nt wetness impregnation)がある。この方法の1つの
問題は、結果として得られる触媒が炭化水素の芳香族化合物への転化率が低いと
いう欠点があることである。もう1つの方法は、ゼオライトの白金(II)アセ
チルアセトネートによる気相含浸法である。この方法から得られる触媒は高転化
率をもたらすが、商業運転では法外に高価である。従って、炭化水素の転化法に
おいて使用するときに芳香族化合物への高炭化水素転化率を実証する白金化ゼオ
ライト触媒の経済的製造方法を開発することが望ましいだろう。
【0003】
(発明の概要)
芳香族化合物の収率を高める、炭化水素類の転化のための、高い効率を持つ改
善された方法を提供することが望ましい。
善された方法を提供することが望ましい。
【0004】
また、炭化水素類の転化において使用するとき高い芳香族化合物の収率をもた
らす改善されたゼオライト材料を提供することも望ましい。
らす改善されたゼオライト材料を提供することも望ましい。
【0005】
さらにまた、炭化水素類の転化において使用するとき高い芳香族化合物の収率
を与えるといった望ましい性質を有する改善されたゼオライト材料を製造するた
めの、高い効率を持つ改善された方法を提供することも望ましい。
を与えるといった望ましい性質を有する改善されたゼオライト材料を製造するた
めの、高い効率を持つ改善された方法を提供することも望ましい。
【0006】
本発明の触媒組成物は、ゼオライトおよび白金を含むか、それらより成るか、
またはそれらより本質的に成るものである。本発明の触媒組成物は、次の:
またはそれらより本質的に成るものである。本発明の触媒組成物は、次の:
【0007】
ゼオライトを有機溶媒および有機白金化合物を包含している溶液と接触させる
ことによって、その溶液、並びに外面および内部で結合した有機白金化合物を有
する処理ゼオライトを包含している混合物を形成し;
ことによって、その溶液、並びに外面および内部で結合した有機白金化合物を有
する処理ゼオライトを包含している混合物を形成し;
【0008】
上記有機溶媒の少なくとも実質的な部分を上記混合物から除去して上記処理ゼ
オライトを後に残し;そして
オライトを後に残し;そして
【0009】
上記処理ゼオライトを焼成することによって焼成−処理ゼオライトを形成する
工程によって製造することができる。
工程によって製造することができる。
【0010】
本発明の触媒組成物は、炭化水素供給原料を転化条件下で本発明の触媒組成物
と接触させることによって、炭化水素または炭化水素混合物の芳香族化合物への
転化において使用することができる。
と接触させることによって、炭化水素または炭化水素混合物の芳香族化合物への
転化において使用することができる。
【0011】
本発明の他の目的および利点は、本発明の詳しい説明および添付特許請求の範
囲から明らかになるだろう。
囲から明らかになるだろう。
【0012】
(発明の詳しい説明)
本発明の触媒組成物を製造する際に使用されるゼオライト材料は、適切な反応
条件下において非芳香族炭化水素と接触させるとき、非芳香族炭化水素の芳香族
炭化水素への転化において有効であるいかなるLタイプゼオライトであることも
できる。現在のところより好ましいゼオライトは、LタイプゼオライトのK(カ
リウム)形(即ち、KLゼオライト)である。
条件下において非芳香族炭化水素と接触させるとき、非芳香族炭化水素の芳香族
炭化水素への転化において有効であるいかなるLタイプゼオライトであることも
できる。現在のところより好ましいゼオライトは、LタイプゼオライトのK(カ
リウム)形(即ち、KLゼオライト)である。
【0013】
本発明の組成物は、上記ゼオライトおよび白金を包含するか、それらより成る
か、またはそれらより本質的に成る材料である。
か、またはそれらより本質的に成る材料である。
【0014】
ゼオライトは、有機白金化合物を包含するか、それらより成るか、またはそれ
らより本質的に成る溶液と接触せしめられ、それによって処理されたゼオライト
とその溶液とを包含している混合物を形成する。溶液は、有機白金化合物をその
溶液内に均一に分布させる能力のある任意、適切な溶媒も含んでいることができ
る。適した溶媒を挙げると、限定されるものではないが、アセトン、ジクロロメ
タン、トルエン、ベンゼン、エーテル類等がある。
らより本質的に成る溶液と接触せしめられ、それによって処理されたゼオライト
とその溶液とを包含している混合物を形成する。溶液は、有機白金化合物をその
溶液内に均一に分布させる能力のある任意、適切な溶媒も含んでいることができ
る。適した溶媒を挙げると、限定されるものではないが、アセトン、ジクロロメ
タン、トルエン、ベンゼン、エーテル類等がある。
【0015】
有機白金化合物は、処理ゼオライト中のゼオライトに対して外面および内部で
結合されている。即ち、有機白金化合物は処理ゼオライトの内部表面および外部
表面上に存在している。
結合されている。即ち、有機白金化合物は処理ゼオライトの内部表面および外部
表面上に存在している。
【0016】
有機白金化合物は、アルキル基およびシクロアルキル基が炭素原子を1分子当
たり1〜20個の範囲で含んでいる白金−アルキル、白金シクロアルキル、白金
−カルボキシレート類および白金−アルキルジオン類を包含するか、それらより
成るか、またはそれらより本質的に成ることができる。より好ましい有機白金化
合物は、白金(II)アセチルアセトネートおよび酢酸白金であり、白金(II
)アセチルアセトネートが最も好ましい。
たり1〜20個の範囲で含んでいる白金−アルキル、白金シクロアルキル、白金
−カルボキシレート類および白金−アルキルジオン類を包含するか、それらより
成るか、またはそれらより本質的に成ることができる。より好ましい有機白金化
合物は、白金(II)アセチルアセトネートおよび酢酸白金であり、白金(II
)アセチルアセトネートが最も好ましい。
【0017】
上記溶媒は、その少なくとも一部分、好ましくは少なくとも実質的な部分を蒸
発により上記混合物から除去することができる。好ましい方法は昇温下での真空
補助蒸発法である。
発により上記混合物から除去することができる。好ましい方法は昇温下での真空
補助蒸発法である。
【0018】
上記混合物は、有機白金化合物の熱分解温度よりも低い温度で蒸発させること
ができる。適した温度範囲は、約101.3kPa(約14.7psia)以下
、好ましくは約10.13kPa(約1.47psia)以下、最も好ましくは
約1.013kPa(約0.147psia)以下の真空度において;約20〜
約160℃、好ましくは約30〜約160℃、最も好ましくは約50〜150℃
であり;その場合の蒸発時間は、溶媒の少なくとも実質的な部分を混合物から除
去して、好ましくは処理ゼオライトだけを後に残すのに十分な時間である。
ができる。適した温度範囲は、約101.3kPa(約14.7psia)以下
、好ましくは約10.13kPa(約1.47psia)以下、最も好ましくは
約1.013kPa(約0.147psia)以下の真空度において;約20〜
約160℃、好ましくは約30〜約160℃、最も好ましくは約50〜150℃
であり;その場合の蒸発時間は、溶媒の少なくとも実質的な部分を混合物から除
去して、好ましくは処理ゼオライトだけを後に残すのに十分な時間である。
【0019】
上記処理ゼオライトは次に焼成され、それによって焼成−処理ゼオライトを形
成する。焼成は、空気を包含するか、空気より成るか、または空気より本質的に
成る焼成用ガスの存在下で行われる。1つの好ましい態様では、焼成用ガスは、
空気、並びに窒素、アルゴン、ヘリウムおよびそれらの任意の2種または3種以
上の組み合わせより成る群から選ばれる不活性ガスを包含するか、それらより成
るか、またはそれらより本質的に成る。
成する。焼成は、空気を包含するか、空気より成るか、または空気より本質的に
成る焼成用ガスの存在下で行われる。1つの好ましい態様では、焼成用ガスは、
空気、並びに窒素、アルゴン、ヘリウムおよびそれらの任意の2種または3種以
上の組み合わせより成る群から選ばれる不活性ガスを包含するか、それらより成
るか、またはそれらより本質的に成る。
【0020】
上記焼成工程は、処理ゼオライトを、焼成用ガスの存在下において、約100
〜約150℃、好ましくは約105〜約140℃、最も好ましくは110〜13
0℃の範囲の第一温度まで;約0〜約689kPa(約0〜約100psia)
、好ましくは約34.4〜約344kPa(約5〜約50psia)、最も好ま
しくは68.9〜137.8kPa(10〜20psia)の範囲の圧力におい
て;約0.1〜約10時間、好ましくは約1〜約5時間、最も好ましくは1.5
〜2時間昇温、加熱することを含む。
〜約150℃、好ましくは約105〜約140℃、最も好ましくは110〜13
0℃の範囲の第一温度まで;約0〜約689kPa(約0〜約100psia)
、好ましくは約34.4〜約344kPa(約5〜約50psia)、最も好ま
しくは68.9〜137.8kPa(10〜20psia)の範囲の圧力におい
て;約0.1〜約10時間、好ましくは約1〜約5時間、最も好ましくは1.5
〜2時間昇温、加熱することを含む。
【0021】
上記処理ゼオライトは、次に、焼成用ガスの存在下において、約300〜約3
60℃、好ましくは約310〜約350℃、最も好ましくは320〜340℃の
範囲の第二温度まで;約0〜約689kPa(約0〜約100psia)、好ま
しくは約34.4〜約344kPa(約5〜約50psia)、最も好ましくは
68.9〜137.8kPa(10〜20psia)の範囲の圧力において;約
0.1〜約10時間、好ましくは約2〜約6時間、最も好ましくは3〜5時間昇
温、加熱される。
60℃、好ましくは約310〜約350℃、最も好ましくは320〜340℃の
範囲の第二温度まで;約0〜約689kPa(約0〜約100psia)、好ま
しくは約34.4〜約344kPa(約5〜約50psia)、最も好ましくは
68.9〜137.8kPa(10〜20psia)の範囲の圧力において;約
0.1〜約10時間、好ましくは約2〜約6時間、最も好ましくは3〜5時間昇
温、加熱される。
【0022】
焼成中における処理ゼオライトの第一および第二温度は、焼成用ガス中の酸素
濃度を調整することによって維持されるのが好ましい。処理ゼオライトの温度が
、空気中の酸素と、処理ゼオライト中の有機白金化合物上の有機配位子(有機部
分)との酸化反応に因り所望とされるレベル以上に上昇し始めるときは、その焼
成用ガスに不活性ガスをもっと多く加えることによって酸素濃度を下げることが
できる。これは有機配位子の酸化を遅くし、従ってこの発熱酸化反応で解放され
る熱の量を減少させる働きをする。使用される方法いかんに関わらず、処理ゼオ
ライトの第一および第二温度は、焼成工程中に、それらの所望範囲内に保たれな
ければならない。
濃度を調整することによって維持されるのが好ましい。処理ゼオライトの温度が
、空気中の酸素と、処理ゼオライト中の有機白金化合物上の有機配位子(有機部
分)との酸化反応に因り所望とされるレベル以上に上昇し始めるときは、その焼
成用ガスに不活性ガスをもっと多く加えることによって酸素濃度を下げることが
できる。これは有機配位子の酸化を遅くし、従ってこの発熱酸化反応で解放され
る熱の量を減少させる働きをする。使用される方法いかんに関わらず、処理ゼオ
ライトの第一および第二温度は、焼成工程中に、それらの所望範囲内に保たれな
ければならない。
【0023】
焼成−処理ゼオライト中に含まれる白金の元素基準での重量パーセントは、そ
の焼成−処理ゼオライトの総重量に基づいて、好ましくは約0.01〜約5.0
重量%、さらに好ましくは約0.2〜約1.3重量%、最も好ましくは0.5〜
1.1重量%の範囲である。
の焼成−処理ゼオライトの総重量に基づいて、好ましくは約0.01〜約5.0
重量%、さらに好ましくは約0.2〜約1.3重量%、最も好ましくは0.5〜
1.1重量%の範囲である。
【0024】
炭化水素が各々1分子当たり5〜8個の炭素原子を含んでいる、パラフィン類
(アルカン類)および/またはオレフィン類(アルケン類)および/またはナフ
テン類(シクロアルカン類)を包含する任意、適切な炭化水素供給材料が、本発
明の触媒組成物と、芳香族化合物を包含する反応生成物を得るのに適したプロセ
ス条件下で接触せしめられる供給材料として使用することができる。往々にして
、これらの供給原料は芳香族炭化水素も含んでいる。適した入手可能な供給原料
の非限定例を挙げると、オイルの接触分解(例えば、FCCおよび水添分解)法
からのガソリン、炭化水素(例えば、エタン、プロパンおよびナフサ)の熱分解
法からの熱分解ガソリン、ナフサ、軽油、改質ガソリン、直蒸ガソリン等がある
。好ましい炭化水素供給材料は、少なくともガソリンのブレンド用原料油として
の使用に適した、一般に約30〜約210℃の沸騰範囲を有する、ガソリン沸騰
範囲の軽質ナフサ炭化水素である。一般に、パラフィン類の含有量はオレフィン
類、ナフテン類および(存在するならば)芳香族化合物の合計含有量よりも多い
。
(アルカン類)および/またはオレフィン類(アルケン類)および/またはナフ
テン類(シクロアルカン類)を包含する任意、適切な炭化水素供給材料が、本発
明の触媒組成物と、芳香族化合物を包含する反応生成物を得るのに適したプロセ
ス条件下で接触せしめられる供給材料として使用することができる。往々にして
、これらの供給原料は芳香族炭化水素も含んでいる。適した入手可能な供給原料
の非限定例を挙げると、オイルの接触分解(例えば、FCCおよび水添分解)法
からのガソリン、炭化水素(例えば、エタン、プロパンおよびナフサ)の熱分解
法からの熱分解ガソリン、ナフサ、軽油、改質ガソリン、直蒸ガソリン等がある
。好ましい炭化水素供給材料は、少なくともガソリンのブレンド用原料油として
の使用に適した、一般に約30〜約210℃の沸騰範囲を有する、ガソリン沸騰
範囲の軽質ナフサ炭化水素である。一般に、パラフィン類の含有量はオレフィン
類、ナフテン類および(存在するならば)芳香族化合物の合計含有量よりも多い
。
【0025】
炭化水素供給材料は、転化反応ゾーン内に含まれている、本明細書で説明され
る本発明の触媒組成物と、任意の適切な方法で接触させることができる。この接
触工程は、バッチ式プロセス工程として、または、好ましくは連続式プロセス工
程として操作することができる。後者の操作では、固体触媒床、または移動触媒
床、或いは流動触媒床が使用できる。これらの操作モードのいずれにも、長所、
欠点があるが、当業者であれば特定の供給材料および触媒に最も適したモードを
選択することができる。
る本発明の触媒組成物と、任意の適切な方法で接触させることができる。この接
触工程は、バッチ式プロセス工程として、または、好ましくは連続式プロセス工
程として操作することができる。後者の操作では、固体触媒床、または移動触媒
床、或いは流動触媒床が使用できる。これらの操作モードのいずれにも、長所、
欠点があるが、当業者であれば特定の供給材料および触媒に最も適したモードを
選択することができる。
【0026】
上記接触工程は、本発明の触媒組成物が含まれる転化反応ゾーン内で、炭化水
素供給材料の炭化水素の少なくとも一部分からの芳香族化合物、好ましくはベン
ゼン、トルエンおよびキシレン類(BTX)の形成を適度に促進する転化条件下
において実施されるのが好ましい。接触工程の反応温度は、一般に、約400〜
約800℃、好ましくは約450〜約750℃、最も好ましくは500〜600
℃の範囲である。接触圧力は、大気圧未満の圧力から上方に約3445kPa(
約500psia)までの、好ましくはほぼ大気圧から約3100kPa(約4
50psia)までの、最も好ましくは344.5〜1378kPa(約50〜
200psia)の範囲であることができる。
素供給材料の炭化水素の少なくとも一部分からの芳香族化合物、好ましくはベン
ゼン、トルエンおよびキシレン類(BTX)の形成を適度に促進する転化条件下
において実施されるのが好ましい。接触工程の反応温度は、一般に、約400〜
約800℃、好ましくは約450〜約750℃、最も好ましくは500〜600
℃の範囲である。接触圧力は、大気圧未満の圧力から上方に約3445kPa(
約500psia)までの、好ましくはほぼ大気圧から約3100kPa(約4
50psia)までの、最も好ましくは344.5〜1378kPa(約50〜
200psia)の範囲であることができる。
【0027】
炭化水素供給材料が転化反応ゾーンに装填される流量は、約0.1〜約100
時間-1の範囲の重量時間当たり空間速度(“WHSV”)を与えるような流量で
ある。本発明で用いられる用語「重量時間当たり空間速度」は、炭化水素供給材
料が、炭化水素が装填される転化反応ゾーン中に含まれる触媒のポンド数で割ら
れた1時間当たりのポンド数で転化反応ゾーンに装填される速度の数値比を意味
するものとする。転化反応ゾーンへの供給材料の好ましいWHSVは、約0.2
5〜約20時間-1、最も好ましくは0.5〜10時間-1の範囲であることができ
る。
時間-1の範囲の重量時間当たり空間速度(“WHSV”)を与えるような流量で
ある。本発明で用いられる用語「重量時間当たり空間速度」は、炭化水素供給材
料が、炭化水素が装填される転化反応ゾーン中に含まれる触媒のポンド数で割ら
れた1時間当たりのポンド数で転化反応ゾーンに装填される速度の数値比を意味
するものとする。転化反応ゾーンへの供給材料の好ましいWHSVは、約0.2
5〜約20時間-1、最も好ましくは0.5〜10時間-1の範囲であることができ
る。
【0028】
次の実施例はこの発明をさらに例証するために与えられるものであり、従って
本発明の範囲を過度に限定するものと解されるべきではない。
本発明の範囲を過度に限定するものと解されるべきではない。
【0029】
実施例I
この実施例は触媒の製造を例証するもので、それら触媒は続いて炭化水素供給
材料の芳香族化合物(BTX)への転化において触媒として試験された。
材料の芳香族化合物(BTX)への転化において触媒として試験された。
【0030】
触媒A(発明)
日本、トーソー株式会社(Tosoh Corporation)から製品表
示HSZ−500KOAで得られた、350℃で5時間焼成されたKLゼオライ
ト7.6グラムを、118.45mL(93.7グラム)のアセトンに溶解した
154mgの白金アセチルアセトネート(Pt(acac)2)を含んでいる溶
液と物理的に混合した。この混合物を40時間攪拌した。そのアセトンを、次に
、真空下で40時間の期間にわたって蒸発させることによりゆっくり除去した。
この乾燥触媒を次に焼成のために焼成管に入れた。焼成中にその焼成管中に空気
を通してパージし、そしてその触媒を約150℃の温度まで加熱し、その温度で
2時間保持した。その触媒温度を次に約250℃まで上げて行き、その温度で2
時間保持した。その温度を次に約360℃まで上げて行き、その温度で1時間保
持した。触媒Aはその総重量に基づいて約1重量%のPtを含んでいる。
示HSZ−500KOAで得られた、350℃で5時間焼成されたKLゼオライ
ト7.6グラムを、118.45mL(93.7グラム)のアセトンに溶解した
154mgの白金アセチルアセトネート(Pt(acac)2)を含んでいる溶
液と物理的に混合した。この混合物を40時間攪拌した。そのアセトンを、次に
、真空下で40時間の期間にわたって蒸発させることによりゆっくり除去した。
この乾燥触媒を次に焼成のために焼成管に入れた。焼成中にその焼成管中に空気
を通してパージし、そしてその触媒を約150℃の温度まで加熱し、その温度で
2時間保持した。その触媒温度を次に約250℃まで上げて行き、その温度で2
時間保持した。その温度を次に約360℃まで上げて行き、その温度で1時間保
持した。触媒Aはその総重量に基づいて約1重量%のPtを含んでいる。
【0031】
触媒B(発明)
日本、トーソー株式会社から製品表示HSZ−500KOAで得られた、35
0℃で5時間焼成されたKLゼオライト119.5グラムを、200mL(15
8.2グラム)のアセトンに溶解した2.43グラムのPt(acac)2を含
んでいる溶液と物理的に混合した。この混合物を1週間攪拌した。そのアセトン
を、次に、真空下で24時間の期間にわたって蒸発させることによりゆっくり除
去した。熱を加えて残留溶媒を全て除去した。この乾燥触媒を細かくなるまで粉
砕し、次いで焼成のために焼成管に入れた。焼成中に焼成管中に8:1容積比の
窒素/空気の混合物を通してパージし、そしてその触媒を約90℃の温度まで加
熱し、その温度で2時間保持した。その触媒温度を次に170℃まで上げて行き
、その温度で2時間保持した。170℃まで上げていく間に、触媒温度はほぼ2
00℃まで急上昇し、その時点で空気の流量をPt(acac)2の有機配位子
とその空気中の酸素との発熱反応を遅くするように減少させ、かくして触媒温度
は150℃まで速やかに低下され、その時点で170℃への温度上昇を続けた。
その触媒温度を次に170℃から300℃まで上げ、その温度で2時間保持した
。触媒Bはその総重量に基づいて約1重量%のPtを含んでいる。
0℃で5時間焼成されたKLゼオライト119.5グラムを、200mL(15
8.2グラム)のアセトンに溶解した2.43グラムのPt(acac)2を含
んでいる溶液と物理的に混合した。この混合物を1週間攪拌した。そのアセトン
を、次に、真空下で24時間の期間にわたって蒸発させることによりゆっくり除
去した。熱を加えて残留溶媒を全て除去した。この乾燥触媒を細かくなるまで粉
砕し、次いで焼成のために焼成管に入れた。焼成中に焼成管中に8:1容積比の
窒素/空気の混合物を通してパージし、そしてその触媒を約90℃の温度まで加
熱し、その温度で2時間保持した。その触媒温度を次に170℃まで上げて行き
、その温度で2時間保持した。170℃まで上げていく間に、触媒温度はほぼ2
00℃まで急上昇し、その時点で空気の流量をPt(acac)2の有機配位子
とその空気中の酸素との発熱反応を遅くするように減少させ、かくして触媒温度
は150℃まで速やかに低下され、その時点で170℃への温度上昇を続けた。
その触媒温度を次に170℃から300℃まで上げ、その温度で2時間保持した
。触媒Bはその総重量に基づいて約1重量%のPtを含んでいる。
【0032】
触媒C(対照)
日本、トーソー株式会社から製品表示HSZ−500KOAで得られた、36
0℃で5時間焼成されたKLゼオライト11.59グラムを、丸底フラスコ中で
234mgの固体Pt(acac)2と物理的に混合した。そのフラスコの上部
と底部に2つの熱電対をそれぞれ配置してその温度をモニターした。上記混合物
が入っているフラスコ中の空気を真空(ほぼ25ミリトル)下で抜いた。このフ
ラスコを次にその真空度に対して閉じ、そしてそのフラスコを室温で2時間放置
した。このフラスコの温度を1時間にわたって約100℃まで上げ、次いで約9
0℃まで下げ、その温度で2時間保持し、次いで約150℃まで上げて行き、そ
の温度で2時間保持した。この乾燥触媒を次に焼成のために焼成管に入れた。焼
成中にその焼成管中に空気を通してパージし、そしてその触媒を約225℃の温
度まで加熱し、その温度で1時間保持し、次いで350℃まで上げて行き、その
温度で45分間保持した。触媒Cはその総重量に基づいて約1重量%のPtを含
んでいる。
0℃で5時間焼成されたKLゼオライト11.59グラムを、丸底フラスコ中で
234mgの固体Pt(acac)2と物理的に混合した。そのフラスコの上部
と底部に2つの熱電対をそれぞれ配置してその温度をモニターした。上記混合物
が入っているフラスコ中の空気を真空(ほぼ25ミリトル)下で抜いた。このフ
ラスコを次にその真空度に対して閉じ、そしてそのフラスコを室温で2時間放置
した。このフラスコの温度を1時間にわたって約100℃まで上げ、次いで約9
0℃まで下げ、その温度で2時間保持し、次いで約150℃まで上げて行き、そ
の温度で2時間保持した。この乾燥触媒を次に焼成のために焼成管に入れた。焼
成中にその焼成管中に空気を通してパージし、そしてその触媒を約225℃の温
度まで加熱し、その温度で1時間保持し、次いで350℃まで上げて行き、その
温度で45分間保持した。触媒Cはその総重量に基づいて約1重量%のPtを含
んでいる。
【0033】
触媒D(対照)
米国特許第4,912,072号明細書、第4欄37〜55行に記載される方
法によって対照触媒Dを製造した。日本、トーソー株式会社から製品表示HSZ
−500KOAで得られた、120℃で48時間加熱されたKLゼオライト15
グラム量を、0.75グラムのPt(acac)2および300mL(398グ
ラム)のCH2Cl2と物理的に混合した。この混合物を静止空気中で5日間攪拌
した。この混合物を次に濾過してCH2Cl2を除去し、そして350mL量のC
H2Cl2で3回洗浄した。各洗浄の際に、その触媒を350mLのCH2Cl2と
共に1時間攪拌した。結果として得られた触媒を120℃の乾燥炉中に16時間
入れて置いた。その触媒を焼成のために焼成管に入れた。焼成中にその焼成管中
に空気を通してパージし、そしてその触媒を約110℃の温度まで加熱し、その
温度で1時間保持し、次いで210℃まで上げて行き、その温度で2時間保持し
、次に約340℃まで上げて行き、その温度で3時間保持した。
法によって対照触媒Dを製造した。日本、トーソー株式会社から製品表示HSZ
−500KOAで得られた、120℃で48時間加熱されたKLゼオライト15
グラム量を、0.75グラムのPt(acac)2および300mL(398グ
ラム)のCH2Cl2と物理的に混合した。この混合物を静止空気中で5日間攪拌
した。この混合物を次に濾過してCH2Cl2を除去し、そして350mL量のC
H2Cl2で3回洗浄した。各洗浄の際に、その触媒を350mLのCH2Cl2と
共に1時間攪拌した。結果として得られた触媒を120℃の乾燥炉中に16時間
入れて置いた。その触媒を焼成のために焼成管に入れた。焼成中にその焼成管中
に空気を通してパージし、そしてその触媒を約110℃の温度まで加熱し、その
温度で1時間保持し、次いで210℃まで上げて行き、その温度で2時間保持し
、次に約340℃まで上げて行き、その温度で3時間保持した。
【0034】
触媒E(対照)
日本、トーソー株式会社から製品表示HSZ−500KOAで得られたKLゼ
オライト5グラム量を、空気の存在下で250℃でにおいて週末の休日中、次い
で空気の存在下において500℃で2時間、そしてN2の存在下において516
℃で一晩焼成した。0.028グラム量のPt(NH3)4(NO3)2を2.8グ
ラムの水に溶解して溶液を形成した。2.03グラム量の上記焼成KLゼオライ
トを1.4グラムの上記溶液を用いて初期湿潤法で含浸した。この含浸ゼオライ
トを110℃で1時間乾燥し、そして空気中で328℃において2時間焼成した
。触媒Eはその総重量に基づいて約0.35重量%のPtを含んでいる。
オライト5グラム量を、空気の存在下で250℃でにおいて週末の休日中、次い
で空気の存在下において500℃で2時間、そしてN2の存在下において516
℃で一晩焼成した。0.028グラム量のPt(NH3)4(NO3)2を2.8グ
ラムの水に溶解して溶液を形成した。2.03グラム量の上記焼成KLゼオライ
トを1.4グラムの上記溶液を用いて初期湿潤法で含浸した。この含浸ゼオライ
トを110℃で1時間乾燥し、そして空気中で328℃において2時間焼成した
。触媒Eはその総重量に基づいて約0.35重量%のPtを含んでいる。
【0035】
実施例II
この実施例は、実施例Iで説明したゼオライト材料の、炭化水素供給材料のベ
ンゼン、トルエンおよびキシレン類のような芳香族化合物への転化における触媒
としての使用を例証するものである。
ンゼン、トルエンおよびキシレン類のような芳香族化合物への転化における触媒
としての使用を例証するものである。
【0036】
実験1
400mg量の実施例Iからの触媒Aを石英管反応器に入れた。その触媒上に
窒素ガスの流れを70cc/分で大気圧において流し、そしてその触媒を200
℃まで加熱し、その温度で2時間保持し、その時点で窒素流を止め、そして水素
流を100cc/分で流し始めた。2時間後に、触媒温度を400℃まで上げ、
その温度で1時間保持した。この炉を締め、そしてその触媒を、次の2日間(週
末)、流量56cc/分の水素の下に放置した。この反応器中の触媒を次に流量
100cc/分の窒素下で200℃まで加熱し、その温度で2時間保持した。そ
の供給材料ガスを窒素から流量100cc/分の水素に切り替え、そしてその触
媒温度を400℃まで上げ、その温度で2時間保持し、次いで540℃まで昇温
した。この反応器に軽質ナフサ供給材料を、流量0.1mL/分の流量で、40
時間という第一運転時間の間導入し、その後0.05mL/分まで下げた。この
実験期間中の触媒温度は約495〜約517℃の範囲であった。この反応器は、
これらの条件における総運転時間として約230時間、終業時に随時停止させて
、これら条件下で数日間にわたって運転された。形成された反応器生成物は、オ
ンラインガスクロマトグラフを用いて周期的に分析された。実験1の試験結果は
図1にまとめて示されている。
窒素ガスの流れを70cc/分で大気圧において流し、そしてその触媒を200
℃まで加熱し、その温度で2時間保持し、その時点で窒素流を止め、そして水素
流を100cc/分で流し始めた。2時間後に、触媒温度を400℃まで上げ、
その温度で1時間保持した。この炉を締め、そしてその触媒を、次の2日間(週
末)、流量56cc/分の水素の下に放置した。この反応器中の触媒を次に流量
100cc/分の窒素下で200℃まで加熱し、その温度で2時間保持した。そ
の供給材料ガスを窒素から流量100cc/分の水素に切り替え、そしてその触
媒温度を400℃まで上げ、その温度で2時間保持し、次いで540℃まで昇温
した。この反応器に軽質ナフサ供給材料を、流量0.1mL/分の流量で、40
時間という第一運転時間の間導入し、その後0.05mL/分まで下げた。この
実験期間中の触媒温度は約495〜約517℃の範囲であった。この反応器は、
これらの条件における総運転時間として約230時間、終業時に随時停止させて
、これら条件下で数日間にわたって運転された。形成された反応器生成物は、オ
ンラインガスクロマトグラフを用いて周期的に分析された。実験1の試験結果は
図1にまとめて示されている。
【0037】
実験2
420mg量の実施例Iからの触媒Bを石英管反応器に入れた。その触媒上に
水素ガスの流れを150cc/分で流し、同時にその触媒を大気圧において20
0℃まで加熱し、その温度で30分間保持し、次に500℃まで加熱し、その温
度で30分間保持し、次いで540℃まで昇温した。上記水素流量を101cc
/分まで下げ、そしてその反応器に軽質ナフサ供給材料を流量0.05mL/分
で導入した。この実験期間中の触媒温度は、約508〜約511℃の範囲であっ
た。この反応器は、これらの条件における総運転時間として約111時間、終業
時に随時停止させて、これら条件下で数日間にわたって運転された。形成された
反応器生成物は、オンラインガスクロマトグラフを用いて周期的に分析された。
実験2の試験結果は図2にまとめて示されている。
水素ガスの流れを150cc/分で流し、同時にその触媒を大気圧において20
0℃まで加熱し、その温度で30分間保持し、次に500℃まで加熱し、その温
度で30分間保持し、次いで540℃まで昇温した。上記水素流量を101cc
/分まで下げ、そしてその反応器に軽質ナフサ供給材料を流量0.05mL/分
で導入した。この実験期間中の触媒温度は、約508〜約511℃の範囲であっ
た。この反応器は、これらの条件における総運転時間として約111時間、終業
時に随時停止させて、これら条件下で数日間にわたって運転された。形成された
反応器生成物は、オンラインガスクロマトグラフを用いて周期的に分析された。
実験2の試験結果は図2にまとめて示されている。
【0038】
実験3
340mg量の実施例Iからの触媒Aを石英管反応器に入れた。その触媒上に
水素ガスの流れを220cc/分で流し、同時にその触媒を大気圧において50
0℃まで加熱し、その温度で1時間保持した。この反応器にn−ヘキサン供給材
料を流量0.05mL/分で導入し、そして上記水素流量を55cc/分まで下
げた。この実験期間中の触媒温度は約477〜約482℃の範囲であった。この
反応器は、これらの条件における総運転時間として約54時間、終業時に随時停
止させて、これら条件下で数日間にわたって運転された。形成された反応器生成
物は、オンラインガスクロマトグラフを用いて周期的に分析された。実験3の試
験結果は図3にまとめて示されている。
水素ガスの流れを220cc/分で流し、同時にその触媒を大気圧において50
0℃まで加熱し、その温度で1時間保持した。この反応器にn−ヘキサン供給材
料を流量0.05mL/分で導入し、そして上記水素流量を55cc/分まで下
げた。この実験期間中の触媒温度は約477〜約482℃の範囲であった。この
反応器は、これらの条件における総運転時間として約54時間、終業時に随時停
止させて、これら条件下で数日間にわたって運転された。形成された反応器生成
物は、オンラインガスクロマトグラフを用いて周期的に分析された。実験3の試
験結果は図3にまとめて示されている。
【0039】
実験4
320mg量の実施例Iからの触媒Cを石英管反応器に入れた。その触媒上に
水素ガスの流れを250cc/分で流し、同時にその触媒を大気圧において25
0℃まで加熱し、その温度で45分間保持した。この反応器を次に500℃まで
加熱し、その15分後に上記水素流量を55cc/分まで下げ、そしてその反応
器にn−ヘキサン供給材料を流量0.05mL/分で導入した。この実験期間中
の触媒温度は約500℃であった。この反応器は、これらの条件における総運転
時間として約37時間、終業時に随時停止させて、これら条件下で数日間にわた
って運転された。形成された反応器生成物は、オンラインガスクロマトグラフを
用いて周期的に分析された。実験4の試験結果は図4にまとめて示されている。
水素ガスの流れを250cc/分で流し、同時にその触媒を大気圧において25
0℃まで加熱し、その温度で45分間保持した。この反応器を次に500℃まで
加熱し、その15分後に上記水素流量を55cc/分まで下げ、そしてその反応
器にn−ヘキサン供給材料を流量0.05mL/分で導入した。この実験期間中
の触媒温度は約500℃であった。この反応器は、これらの条件における総運転
時間として約37時間、終業時に随時停止させて、これら条件下で数日間にわた
って運転された。形成された反応器生成物は、オンラインガスクロマトグラフを
用いて周期的に分析された。実験4の試験結果は図4にまとめて示されている。
【0040】
実験5
440mg量の実施例Iからの触媒Dを石英管反応器に入れた。その触媒上に
水素ガスの流れを200cc/分で流し、同時にその触媒を大気圧において54
0℃の温度まで加熱し、その温度で2時間保持した。この反応器にn−ヘキサン
供給材料を流量0.05mL/分で導入した。この実験期間中の触媒温度は約5
00〜約501℃の範囲であった。この反応器は、これらの条件における総運転
時間として約21時間、終業時に随時停止させて、これら条件下で数日間にわた
って運転された。形成された反応器生成物は、オンラインガスクロマトグラフを
用いて周期的に分析された。実験5の試験結果は図5にまとめて示されている。
水素ガスの流れを200cc/分で流し、同時にその触媒を大気圧において54
0℃の温度まで加熱し、その温度で2時間保持した。この反応器にn−ヘキサン
供給材料を流量0.05mL/分で導入した。この実験期間中の触媒温度は約5
00〜約501℃の範囲であった。この反応器は、これらの条件における総運転
時間として約21時間、終業時に随時停止させて、これら条件下で数日間にわた
って運転された。形成された反応器生成物は、オンラインガスクロマトグラフを
用いて周期的に分析された。実験5の試験結果は図5にまとめて示されている。
【0041】
実験6
320mg量の実施例Iからの触媒Eを石英管反応器に入れた。その触媒上に
水素ガスの流れを250cc/分で流し、同時にその触媒を大気圧において20
0℃まで加熱し、その温度で1時間保持し、500℃まで上げて行き、その温度
で1時間保持した。その触媒を次に室温まで放冷し、そしてその状態で一晩放置
した。この触媒を次に500℃まで加熱し、その触媒上に水素ガスの流れを55
cc/分で流した。この反応器にn−ヘキサン供給材料を流量0.05mL/分
で導入した。この実験期間中の触媒温度は約500℃であった。この反応器は、
これらの条件における総運転時間として約19時間、終業時に随時停止させて、
これら条件下で数日間にわたって運転された。形成された反応器生成物は、オン
ラインガスクロマトグラフを用いて周期的に分析された。実験6の試験結果は図
6にまとめて示されている。
水素ガスの流れを250cc/分で流し、同時にその触媒を大気圧において20
0℃まで加熱し、その温度で1時間保持し、500℃まで上げて行き、その温度
で1時間保持した。その触媒を次に室温まで放冷し、そしてその状態で一晩放置
した。この触媒を次に500℃まで加熱し、その触媒上に水素ガスの流れを55
cc/分で流した。この反応器にn−ヘキサン供給材料を流量0.05mL/分
で導入した。この実験期間中の触媒温度は約500℃であった。この反応器は、
これらの条件における総運転時間として約19時間、終業時に随時停止させて、
これら条件下で数日間にわたって運転された。形成された反応器生成物は、オン
ラインガスクロマトグラフを用いて周期的に分析された。実験6の試験結果は図
6にまとめて示されている。
【0042】
図1(発明実験1)に示されるように、発明触媒Aは、軽質ナフサのBTXへ
の転化が顕著で、そのBTXの収率は70重量%強から30重量%弱までの範囲
であることを証明していた。図2(発明実験2)に示されるように、発明触媒B
は第一焼成温度が発明触媒Aよりも低いもので、それは発明触媒Aと比較して軽
質ナフサのさらに顕著な転化を証明していた。発明実験2のBTXの収率は約8
5〜約65重量%の範囲であった。
の転化が顕著で、そのBTXの収率は70重量%強から30重量%弱までの範囲
であることを証明していた。図2(発明実験2)に示されるように、発明触媒B
は第一焼成温度が発明触媒Aよりも低いもので、それは発明触媒Aと比較して軽
質ナフサのさらに顕著な転化を証明していた。発明実験2のBTXの収率は約8
5〜約65重量%の範囲であった。
【0043】
図3(発明実験3)に示されるように、発明触媒Aはn−ヘキサンのBTXへ
の転化が非常に顕著で、そのBTXの収率は90重量%弱から70重量%弱まで
の範囲であることを証明していた。
の転化が非常に顕著で、そのBTXの収率は90重量%弱から70重量%弱まで
の範囲であることを証明していた。
【0044】
図4(対照実験4)に示されるように、対照触媒Cは発明触媒Aと比較してn
−ヘキサンのBTXへの転化がさらに高く、約95〜90重量%の範囲であるこ
とを証明していた。しかし、対照触媒Cは製造(Pt(acac)2のゼオライ
トへの気相含浸)するのに極めて費用が掛かり、そして対照触媒Cを使用するこ
とによる発明触媒Aを越えるBTX収率の増加―BTX収率の増加は約20〜約
25重量%の範囲である―は、発明触媒Aの製造費に比較して対照触媒Cの付加
製造費を相殺しない。図5(対照実験5)に示されるように、対照触媒Dは芳香
族化合物(BTX)を生成させず、またヘキセン類の収率は10重量%強に過ぎ
なかった。かくして、米国特許第4,912,072号明細書、第4欄37〜5
5行に記載される方法によって製造された対照触媒Dは、n−ヘキサンのBTX
への転化において効果がなかった。
−ヘキサンのBTXへの転化がさらに高く、約95〜90重量%の範囲であるこ
とを証明していた。しかし、対照触媒Cは製造(Pt(acac)2のゼオライ
トへの気相含浸)するのに極めて費用が掛かり、そして対照触媒Cを使用するこ
とによる発明触媒Aを越えるBTX収率の増加―BTX収率の増加は約20〜約
25重量%の範囲である―は、発明触媒Aの製造費に比較して対照触媒Cの付加
製造費を相殺しない。図5(対照実験5)に示されるように、対照触媒Dは芳香
族化合物(BTX)を生成させず、またヘキセン類の収率は10重量%強に過ぎ
なかった。かくして、米国特許第4,912,072号明細書、第4欄37〜5
5行に記載される方法によって製造された対照触媒Dは、n−ヘキサンのBTX
への転化において効果がなかった。
【0045】
図3(発明実験3)を図6(対照実験6)と比較することによって明らかなよ
うに、発明触媒Aは対照触媒Eを越えるBTX収率の顕著な増加を証明し、その
BTX収率の増加は約55〜約75重量%の範囲であった。かくして、KLゼオ
ライトのPtによる初期湿潤含浸法で製造された対照触媒Eは、n−ヘキサンの
BTXへの転化において、発明触媒Aと比較して全く効果がない。
うに、発明触媒Aは対照触媒Eを越えるBTX収率の顕著な増加を証明し、その
BTX収率の増加は約55〜約75重量%の範囲であった。かくして、KLゼオ
ライトのPtによる初期湿潤含浸法で製造された対照触媒Eは、n−ヘキサンの
BTXへの転化において、発明触媒Aと比較して全く効果がない。
【0046】
図1〜6に与えられたデータおよび上記の考察から、本発明の触媒組成物は、
対照触媒C、DおよびEを越えるBTX収率および/または経済的利点を証明し
ていることが容易に明らかになる。
対照触媒C、DおよびEを越えるBTX収率および/または経済的利点を証明し
ていることが容易に明らかになる。
【0047】
本発明の開示および添付特許請求の範囲の範囲内で、本発明の範囲から逸脱し
ないかぎり、妥当な変更、修正および改変をなし得る。
ないかぎり、妥当な変更、修正および改変をなし得る。
【図1】
炭化水素類を本発明の触媒を含めて種々の白金含有触媒と接触させたときの、
その炭化水素類の転化についての、重量%でのBTX収率−対−運転時間を図解
するものである。
その炭化水素類の転化についての、重量%でのBTX収率−対−運転時間を図解
するものである。
【図2】
炭化水素類を本発明の触媒を含めて種々の白金含有触媒と接触させたときの、
その炭化水素類の転化についての、重量%でのBTX収率−対−運転時間を図解
するものである。
その炭化水素類の転化についての、重量%でのBTX収率−対−運転時間を図解
するものである。
【図3】
炭化水素類を本発明の触媒を含めて種々の白金含有触媒と接触させたときの、
その炭化水素類の転化についての、重量%でのBTX収率−対−運転時間を図解
するものである。
その炭化水素類の転化についての、重量%でのBTX収率−対−運転時間を図解
するものである。
【図4】
炭化水素類を本発明の触媒を含めて種々の白金含有触媒と接触させたときの、
その炭化水素類の転化についての、重量%でのBTX収率−対−運転時間を図解
するものである。
その炭化水素類の転化についての、重量%でのBTX収率−対−運転時間を図解
するものである。
【図5】
炭化水素類を本発明の触媒を含めて種々の白金含有触媒と接触させたときの、
その炭化水素類の転化についての、重量%でのヘキセン類収率−対−運転時間を
図解するものである。
その炭化水素類の転化についての、重量%でのヘキセン類収率−対−運転時間を
図解するものである。
【図6】
炭化水素類を本発明の触媒を含めて種々の白金含有触媒と接触させたときの、
その炭化水素類の転化についての、重量%でのBTX収率−対−運転時間を図解
するものである。
その炭化水素類の転化についての、重量%でのBTX収率−対−運転時間を図解
するものである。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考)
C07C 15/06 C07C 15/06
15/08 15/08
C10G 35/085 C10G 35/085
35/095 35/095
// C07B 61/00 300 C07B 61/00 300
(81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY,
DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I
T,LU,MC,NL,PT,SE,TR),OA(BF
,BJ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,
ML,MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,G
M,KE,LS,MW,MZ,SD,SL,SZ,TZ
,UG,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,
MD,RU,TJ,TM),AE,AG,AL,AM,
AT,AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,B
Z,CA,CH,CN,CR,CU,CZ,DE,DK
,DM,DZ,EE,ES,FI,GB,GD,GE,
GH,GM,HR,HU,ID,IL,IN,IS,J
P,KE,KG,KP,KR,KZ,LC,LK,LR
,LS,LT,LU,LV,MA,MD,MG,MK,
MN,MW,MX,MZ,NO,NZ,PL,PT,R
O,RU,SD,SE,SG,SI,SK,SL,TJ
,TM,TR,TT,TZ,UA,UG,US,UZ,
VN,YU,ZA,ZW
(72)発明者 ティードク、ダリン、ビー
アメリカ合衆国 オクラホマ、バートルズ
ヴィル、コロニー コート 5540
(72)発明者 チェウン、ティン − タック、ピーター
アメリカ合衆国 オクラホマ、バートルズ
ヴィル、ウィットニー レイン 5829
(72)発明者 リサスコ、ダニエル、イー
アメリカ合衆国 オクラホマ、ノーマン、
ウィロウ レイン 722
(72)発明者 ジェイコブス、ゲイリー
アメリカ合衆国 テキサス、サン アント
ニオ、サマー ドライブ 3139
Fターム(参考) 4G069 AA03 AA08 BA07A BA07B
BC03A BC03B BC75A BC75B
CC04 CC08 DA06 FA02 FB20
FB30 FB57 FC07 FC08 FC10
ZA08A ZA08B ZD01 ZF05A
ZF05B
4H006 AA02 AC28 BA26 BA45 BA55
BA81 BC10 BC11 BC18
4H029 CA00 DA00
4H039 CA41 CH40
Claims (24)
- 【請求項1】 触媒組成物の製造方法であって、次の: ゼオライトを有機溶媒および有機白金化合物を包含している溶液と接触させる
ことによって、該溶液、並びに外面および内部で結合した有機白金化合物を有す
る処理ゼオライトを包含している混合物を形成し; 該有機溶媒の少なくとも実質的な部分を該混合物から除去して該処理ゼオライ
トを後に残し;そして 該処理ゼオライトを焼成することによって焼成−処理ゼオライトを形成する 工程を包含する上記の方法。 - 【請求項2】 ゼオライトがKLゼオライトである、請求項1記載の方法。
- 【請求項3】 有機溶媒がアセトンである、請求項1記載の方法。
- 【請求項4】 有機白金化合物が白金アセチルアセトネートである、請求項
1記載の方法。 - 【請求項5】 焼成−処理ゼオライト中に含まれる白金の重量パーセントが
、該焼成−処理ゼオライトの総重量に基づいて約0.01〜約5.0重量%の範
囲である、請求項1記載の方法。 - 【請求項6】 焼成−処理ゼオライト中に含まれる白金の重量パーセントが
、該焼成−処理ゼオライトの総重量に基づいて約0.2〜約1.3重量%の範囲
である、請求項1記載の方法。 - 【請求項7】 焼成−処理ゼオライト中に含まれる白金の重量パーセントが
、該焼成−処理ゼオライトの総重量に基づいて約0.5〜約1.1重量%の範囲
である、請求項1記載の方法。 - 【請求項8】 焼成工程が焼成用ガスの存在下で行われ、そして処理ゼオラ
イトを約100℃〜150℃の範囲内の第一温度まで昇温して約0.1〜約10
時間の範囲内の時間加熱し、続いて該処理ゼオライトを約300℃〜約360℃
の範囲内の第二温度まで昇温して約0.1〜約10時間の範囲内の時間加熱する
ことを含む、請求項1記載の方法。 - 【請求項9】 焼成用ガスが酸素を包含している、請求項8記載の方法。
- 【請求項10】 焼成用ガスが、酸素、並びに窒素、アルゴン、ヘリウムお
よびそれらの任意の2種または3種以上の組み合わせより成る群から選ばれる不
活性ガスを包含している、請求項8記載の方法。 - 【請求項11】 処理ゼオライトの第一および第二温度が、焼成用ガス中の
酸素濃度を調整することによって維持される、請求項10記載の方法。 - 【請求項12】 焼成工程が焼成用ガスの存在下で行われ、そして処理ゼオ
ライトを約105℃〜約140℃の範囲内の第一温度まで昇温して約1〜約5時
間の範囲内の時間加熱し、続いて該処理ゼオライトを約310℃〜約350℃の
範囲内の第二温度まで昇温して約2〜約6時間の範囲内の時間加熱することを含
む、請求項1記載の方法。 - 【請求項13】 焼成用ガスが酸素を包含している請求項12記載の方法。
- 【請求項14】 焼成用ガスが、酸素、並びに窒素、アルゴン、ヘリウムお
よびそれらの任意の2種または3種以上の組み合わせより成る群から選ばれる不
活性ガスを包含している、請求項12記載の方法。 - 【請求項15】 処理ゼオライトの第一および第二温度が、焼成用ガス中の
酸素濃度を調整することによって維持される、請求項14記載の方法。 - 【請求項16】 焼成工程が焼成用ガスの存在下で行われ、そして処理ゼオ
ライトを約110℃〜約130℃の範囲内の第一温度まで昇温して約1.5〜約
2時間の範囲内の時間加熱し、続いて該処理ゼオライトを約320℃〜約340
℃の範囲内の第二温度まで昇温して約3〜約5時間の範囲内の時間加熱すること
を含む、請求項1記載の方法。 - 【請求項17】 焼成用ガスが酸素を包含している請求項16記載の方法。
- 【請求項18】 焼成用ガスが、酸素、並びに窒素、アルゴン、ヘリウムお
よびそれらの任意の2種または3種以上の組み合わせより成る群から選ばれる不
活性ガスを包含している、請求項16記載の方法。 - 【請求項19】 処理ゼオライトの第一および第二温度が、焼成用ガス中の
酸素濃度を調整することによって維持される、請求項18記載の方法。 - 【請求項20】 炭化水素供給材料を、転化条件下で、上記の請求項1〜1
9のいずれか1項記載の方法によって製造された触媒組成物と接触させることに
よって、芳香族化合物を包含している転化生成物を生成させることを包含する方
法。 - 【請求項21】 炭化水素供給材料が、1分子当たり5〜8個の範囲内の炭
素原子を有する少なくとも1種の炭化水素を包含している、請求項20記載の方
法。 - 【請求項22】 炭化水素供給材料が、アルカン類、オレフィン類、シクロ
アルカン類およびそれらの任意の2種または3種以上の組み合わせより成る群か
ら選ばれる少なくとも1種の炭化水素を包含している、請求項20記載の方法。 - 【請求項23】 炭化水素が軽質ナフサである、請求項20記載の方法。
- 【請求項24】 転化条件が、約400℃〜約800℃の範囲内の温度、ほ
ぼ大気圧未満の圧力から3445kPa(約500psia)までの範囲内の接
触圧力、および重量時間当たり空間速度が約0.1〜約100時間-1の範囲内と
なるような炭化水素供給材料の装填速度を含む、請求項20記載の方法。
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