JP2003513134A - ポリカーボネートを含有する組成物 - Google Patents
ポリカーボネートを含有する組成物Info
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- C08L23/00—Compositions of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L23/02—Compositions of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L25/00—Compositions of, homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L25/02—Homopolymers or copolymers of hydrocarbons
- C08L25/04—Homopolymers or copolymers of styrene
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- C08L2205/03—Polymer mixtures characterised by other features containing three or more polymers in a blend
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- C08L2666/00—Composition of polymers characterized by a further compound in the blend, being organic macromolecular compounds, natural resins, waxes or and bituminous materials, non-macromolecular organic substances, inorganic substances or characterized by their function in the composition
- C08L2666/02—Organic macromolecular compounds, natural resins, waxes or and bituminous materials
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Abstract
(57)【要約】
本願の開示は、水素化ポリスチレン、ポリスチレンコポリマーおよびシクロオレフィン(コ)ポリマーなどのポリシクロオレフィンと混合されたポリカーボネートを含有する光拡散ポリマー組成物に関する。
Description
【０００１】
この出願は、水素化ポリスチレン、水素化スチレンポリマー、水素化シクロオ
レフィン(コ)ポリマーなどのポリシクロオレフィンと混合されたポリカーボネー
トを含有する光拡散ポリマー組成物に関する。
レフィン(コ)ポリマーなどのポリシクロオレフィンと混合されたポリカーボネー
トを含有する光拡散ポリマー組成物に関する。
【０００２】
光拡散ポリマーは、照明やサンルーフ、特に工業建築物用の材料としてしばし
ば使用される。前記ポリマーは、光をあらゆる方向に幾分一様に拡散する。さら
に、ポリカーボネートから製造された透明なルーフは、入射する日光からの保護
を与え、しかも強化ガラスに典型的な不利益（切断に関する問題）を回避する[
ドイツ特許出願公開第A-4437312号公報、同第A-2251708号公報]。
ば使用される。前記ポリマーは、光をあらゆる方向に幾分一様に拡散する。さら
に、ポリカーボネートから製造された透明なルーフは、入射する日光からの保護
を与え、しかも強化ガラスに典型的な不利益（切断に関する問題）を回避する[
ドイツ特許出願公開第A-4437312号公報、同第A-2251708号公報]。
【０００３】
光拡散材料は、テレビのスクリーンまたは薄層電子装飾(thin layer electron
ic decoration)フィルムなどの背景投影スクリーン中の引っ掻き傷や欠陥を隠す
ための方法として、投影システムにも上手く用いられている（米国特許第517028
7号公報）。
ic decoration)フィルムなどの背景投影スクリーン中の引っ掻き傷や欠陥を隠す
ための方法として、投影システムにも上手く用いられている（米国特許第517028
7号公報）。
【０００４】
光拡散ポリマーに関して更に可能性のある応用は、照明やネオンサイン(illum
inated signs)に見出されており、特に背景照明乳光サイン(back-illuminated o
palescent signs)、天井方向へ当てるスポットライト(uplighters)、自動車用サ
ンルーフ、自動車のライト用カバーのための応用が挙げられる。
inated signs)に見出されており、特に背景照明乳光サイン(back-illuminated o
palescent signs)、天井方向へ当てるスポットライト(uplighters)、自動車用サ
ンルーフ、自動車のライト用カバーのための応用が挙げられる。
【０００５】
本来の透明なポリカーボネートにおける光拡散は、光拡散剤を前記ポリマーに
添加することで達成される。無機添加物または顔料（ＢａＳＯ４およびＴｉＯ２ の粒子は、通常、この目的のために使用されるが、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＣｄＳ、Ｃ
ａＣＯ３も使用される）またはポリ(メタ)アクリレートをベースとする球形の粒
子で充填されたポリカーボネートは、良好な乳光特性を表す。
添加することで達成される。無機添加物または顔料（ＢａＳＯ４およびＴｉＯ２ の粒子は、通常、この目的のために使用されるが、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＣｄＳ、Ｃ
ａＣＯ３も使用される）またはポリ(メタ)アクリレートをベースとする球形の粒
子で充填されたポリカーボネートは、良好な乳光特性を表す。
【０００６】
残念なことに、前記系では、透明性とヘイズ、機械特性と安定性の間の関係と
関連して問題が生じることがある。白色顔料、例えば、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、Ｚｎ
Ｓなどは、照明材料としてのその応用範囲を限定するほど激しく光透過性を低下
させる。顔料濃度が低下すると、実質的な拡散は生じず、材料は透明性を保持す
る（ドイツ特許出願公開第A-2019325号公報）。
関連して問題が生じることがある。白色顔料、例えば、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、Ｚｎ
Ｓなどは、照明材料としてのその応用範囲を限定するほど激しく光透過性を低下
させる。顔料濃度が低下すると、実質的な拡散は生じず、材料は透明性を保持す
る（ドイツ特許出願公開第A-2019325号公報）。
【０００７】
無機フィラー、特にＴｉＯ２で充填されたポリカーボネート試料の分子量の減
少は、もう一つの重大な問題である。そのような劣化は、フィラーの種類や濃度
に依存すると考えられる。無機顔料は、加工（例えば、射出成型）中に、特に（
例えば、大気中の水分として）水の跡がポリマーにあると、生じる前記劣化反応
に恐らく関与している。分子量の減少は、ポリマーの機械特性および他の特性に
負の影響を与えることがある。１．５重量％のＴｉＯ２をポリカーボネートマト
リックス中で使用すると、ポリカーボネート中の水の０．１５〜０．２重量％の
濃度は、マトリックスの劣化を生じさせるのに十分である（ドイツ特許出願公開
第A-2019325号公報）。
少は、もう一つの重大な問題である。そのような劣化は、フィラーの種類や濃度
に依存すると考えられる。無機顔料は、加工（例えば、射出成型）中に、特に（
例えば、大気中の水分として）水の跡がポリマーにあると、生じる前記劣化反応
に恐らく関与している。分子量の減少は、ポリマーの機械特性および他の特性に
負の影響を与えることがある。１．５重量％のＴｉＯ２をポリカーボネートマト
リックス中で使用すると、ポリカーボネート中の水の０．１５〜０．２重量％の
濃度は、マトリックスの劣化を生じさせるのに十分である（ドイツ特許出願公開
第A-2019325号公報）。
【０００８】
無機粒子は、マトリックス中に均一に分配し難く、固くて不規則に粉砕されて
いることから、加工装置に摩損を生じる傾向がある。更に、このような粒子を含
有するポリカーボネート物品は、不規則な表面を有している。大きなＢａＳＯ４ 粒子によって生じるピットや穴が観察されることがある（欧州特許出願公開第A-
269324号公報および同第A-634446号公報）。
いることから、加工装置に摩損を生じる傾向がある。更に、このような粒子を含
有するポリカーボネート物品は、不規則な表面を有している。大きなＢａＳＯ４ 粒子によって生じるピットや穴が観察されることがある（欧州特許出願公開第A-
269324号公報および同第A-634446号公報）。
【０００９】
上記の不利益のいくつか（特にマトリックス劣化、粗い表面など）は、無機光
拡散剤を他のポリマーから成る有機粒子で置き換えることにより克服され得る。
ある種のポリアルキルメタクリレートおよびポリアルキルアクリレートがしばし
ば用いられる。有機光拡散剤を含有する、オパール様の光彩を放つ(opalescent)
ポリカーボネートの利点は、添加物の合計濃度の５倍減少にある。他方で、その
ような系は、マトリックスと粒子の間での低い物理強度と、低い分散性を表す。
これらは共に、前記２相間の強い接着強度の不存在によって生じる（米国特許第
5237004号公報および欧州特許出願公開第A-269324号公報）。オパール様の光彩
を放つポリカーボネートに関するポリアルキルメタクリレートとポリアルキルア
クリレートをベースとする粒子のもう一つの不利益は、特定量のＴｉＯ２を用い
る必要性にあるため、問題のある無機顔料の使用が、実は完全には避けられない
。ポリアルキル(メタ)アクリレート粒子は、低い熱安定性を有し、照明における
その使用は、激しく限定される。
拡散剤を他のポリマーから成る有機粒子で置き換えることにより克服され得る。
ある種のポリアルキルメタクリレートおよびポリアルキルアクリレートがしばし
ば用いられる。有機光拡散剤を含有する、オパール様の光彩を放つ(opalescent)
ポリカーボネートの利点は、添加物の合計濃度の５倍減少にある。他方で、その
ような系は、マトリックスと粒子の間での低い物理強度と、低い分散性を表す。
これらは共に、前記２相間の強い接着強度の不存在によって生じる（米国特許第
5237004号公報および欧州特許出願公開第A-269324号公報）。オパール様の光彩
を放つポリカーボネートに関するポリアルキルメタクリレートとポリアルキルア
クリレートをベースとする粒子のもう一つの不利益は、特定量のＴｉＯ２を用い
る必要性にあるため、問題のある無機顔料の使用が、実は完全には避けられない
。ポリアルキル(メタ)アクリレート粒子は、低い熱安定性を有し、照明における
その使用は、激しく限定される。
【００１０】
粗く、不規則に分散された無機粒子の上記不利益を回避するために、本発明に
よれば、より低濃度のポリシクロオレフィン、好ましくは水素化ポリシクロオレ
フィン、特に水素化ポリスチレンを用いて、ポリカーボネートに乳光を与える。
前記水素化ポリシクロオレフィンは、ポリカーボネートマトリックス中に別の相
のドメインを生成する。前記ドメインは、光を拡散する。ポリカーボネート中の
前記ポリマードメインの強い拡散作用は、ポリシクロオレフィンの屈折率とポリ
カーボネートの屈折率との間の相当な差により説明され得る。
よれば、より低濃度のポリシクロオレフィン、好ましくは水素化ポリシクロオレ
フィン、特に水素化ポリスチレンを用いて、ポリカーボネートに乳光を与える。
前記水素化ポリシクロオレフィンは、ポリカーボネートマトリックス中に別の相
のドメインを生成する。前記ドメインは、光を拡散する。ポリカーボネート中の
前記ポリマードメインの強い拡散作用は、ポリシクロオレフィンの屈折率とポリ
カーボネートの屈折率との間の相当な差により説明され得る。
【００１１】
図表Ｉは、本発明において示す好ましいポリシクロオレフィン、水素化ポリビ
ニルシクロヘキサン（ＨＰＳ）、アペル(Apel)（登録商標）およびアートン(Art
on)（登録商標）の繰り返し単位を表している。水素化ポリビニルシクロヘキサ
ンは、ポリスチレン（実施例１〜３）の触媒作用的な水素化により合成され、ア
ートン（登録商標）およびアペル（登録商標）はそれぞれ、日本合成ゴムおよび
三井物産の市販の製品である。
ニルシクロヘキサン（ＨＰＳ）、アペル(Apel)（登録商標）およびアートン(Art
on)（登録商標）の繰り返し単位を表している。水素化ポリビニルシクロヘキサ
ンは、ポリスチレン（実施例１〜３）の触媒作用的な水素化により合成され、ア
ートン（登録商標）およびアペル（登録商標）はそれぞれ、日本合成ゴムおよび
三井物産の市販の製品である。
【００１２】
【化１】
【００１３】
オパール様の光彩を放つポリカーボネートは、マスターバッチを製造するため
に、標準的なポリカーボネートをＢａＳＯ４などの無機の光拡散化合物とコンパ
ウンド化することによって通常製造され、これは、顧客の要求に応じて、ポリカ
ーボネートと更に混合される。ポリマー光拡散剤を用いる場合、本発明によれば
、予め調製されたポリカーボネート混合物を用いる必要なく、単一工程で最終製
品を製造することが可能であり、その結果、生産コストが低減する。
に、標準的なポリカーボネートをＢａＳＯ４などの無機の光拡散化合物とコンパ
ウンド化することによって通常製造され、これは、顧客の要求に応じて、ポリカ
ーボネートと更に混合される。ポリマー光拡散剤を用いる場合、本発明によれば
、予め調製されたポリカーボネート混合物を用いる必要なく、単一工程で最終製
品を製造することが可能であり、その結果、生産コストが低減する。
【００１４】
本発明のパール様の光彩を放つポリカーボネート混合物および／またはポリカ
ーボネート製品は、水素化ポリシクロオレフィンおよびポリカーボネートを常套
の方法で、好ましくはニーダーまたは押出機で混合またはコンパウンド化するこ
とで製造される。パール様の光彩を放つポリカーボネート二重シートは、好まし
くは二重シートを被覆するＵＶ保護層（１０〜２００μｍ厚、好ましくは６０μ
ｍ厚）を製造する場合、同時押出しにより好ましく製造される。
ーボネート製品は、水素化ポリシクロオレフィンおよびポリカーボネートを常套
の方法で、好ましくはニーダーまたは押出機で混合またはコンパウンド化するこ
とで製造される。パール様の光彩を放つポリカーボネート二重シートは、好まし
くは二重シートを被覆するＵＶ保護層（１０〜２００μｍ厚、好ましくは６０μ
ｍ厚）を製造する場合、同時押出しにより好ましく製造される。
【００１５】
好ましくは、２５重量％まで、好ましくは０．０１〜１０重量％、特に０．１
〜６重量％のポリシクロオレフィンがポリカーボネート中に組み込まれる。
〜６重量％のポリシクロオレフィンがポリカーボネート中に組み込まれる。
【００１６】
本発明の混合物の基本特性またはこの混合物から製造される製品の基本特性、
例えば、ヘイズや合計透過率などを表Ｉに示す。この表から分かるように、少量
の水素化ポリシクロオレフィンは、ポリカーボネート組成物中で事実上完全な光
拡散を達成するためには十分である。ここで、合計透過率は、（波長範囲４５０
〜７００ｎｍにおいて）２３〜４０％残っている。ヘイズと透過率の間の関係は
、光拡散ポリマー添加物の濃度を変化させることにより、容易に精密に調節され
得る。ポリスチレン（ＰＳ）は、その水素化類似物よりも実質上低いヘイズを示
す。
例えば、ヘイズや合計透過率などを表Ｉに示す。この表から分かるように、少量
の水素化ポリシクロオレフィンは、ポリカーボネート組成物中で事実上完全な光
拡散を達成するためには十分である。ここで、合計透過率は、（波長範囲４５０
〜７００ｎｍにおいて）２３〜４０％残っている。ヘイズと透過率の間の関係は
、光拡散ポリマー添加物の濃度を変化させることにより、容易に精密に調節され
得る。ポリスチレン（ＰＳ）は、その水素化類似物よりも実質上低いヘイズを示
す。
【００１７】
さらに、前記量のポリシクロオレフィンを組み込むことは、ポリカーボネート
またはポリカーボネート製品の機械特性に影響を与えなかった。
またはポリカーボネート製品の機械特性に影響を与えなかった。
【００１８】
ＨＰＳ、アートン（登録商標）およびアペル（登録商標）に加えて、他のポリ
シクロオレフィンも、ポリカーボネート中に光拡散効果を作るために好ましく使
用され、例えば、カナダ特許出願第2134320号に記載されているように、ポリシ
クロブテン、ポリシクロペンテン、ポリシクロヘキセン、3,4-ジメチルシクロペ
ンテン、3-メチルシクロヘキセン、2-(2-メチルブチル)-1-シクロヘキセン、シ
クロオクテン、ポリノルボルネン（好ましくは、2-ノルボルネン、5-メチル-2-
ノルボルネン、5-エチル-2-ノルボルネン、5-イソプロピル-2-ノルボルネン、5-
n-ブチル-2-ノルボルネン、5-イソブチル-2-ノルボルネン、5,6-ジメチル-2-ノ
ルボルネン、5-クロロ-2-ノルボルネン、5-フルオロ-2-ノルボルネン、5-ビニル
-2-ノルボルネン、5-エチリデン-2-ノルボルネン、ビシクロ[2.2.1]-2-ヘプテン
およびその誘導体、テトラシクロ[4.4.0.1２．５.1７．１０]-3-ドデセンおよび
その誘導体、ヘキサシクロ[6.6.1.1３．６.1１０．１３.0２．７.0９．１４]-4-
ヘプタデセンおよびその誘導体、オクタシクロ[8.8.0.1２．９.1４．７.1１１． １８ .1１３．１６.0３．８.0１２．１７]-5-ドコセンおよびその誘導体、ペンタ
シクロ[6.6.1.1３．６.0２．７.0９．１４]-4-ヘキサデセンおよびその誘導体、
ヘプタシクロ[8.7.0.1２．９.1４．７.1１１．１７.0３．８.0１２．１６]-5-エ
イコセンおよびその誘導体、ヘプタシクロ[8.8.0.1２．９.1４．７.1１１．１７ .0３．８.0１２．１６]-5-ヘンエイコセンおよびその誘導体、トリシクロ[4.3.0
.1２．５]-3-デセンおよびその誘導体、トリシクロ[4.4.0.1２．５]-3-ウンデセ
ンおよびその誘導体、ペンタシクロ[6.5.1.1３．６.0２．７.0９．１３]-4-ペン
タデセンおよびその誘導体、ペンタシクロ[6.5.1.1３．６.0２．７.0９．１３]-
4,10-ペンタデカジエンおよびその誘導体、ヘプタシクロ[8.7.0.1３．６.1１０
．１７.1１２．１５.0２．７.0１１．１６]-4-エイコセンおよびその誘導体、そ
して更に脂環式モノマーなどを重合することによって製造されるもの）が挙げら
れる。
シクロオレフィンも、ポリカーボネート中に光拡散効果を作るために好ましく使
用され、例えば、カナダ特許出願第2134320号に記載されているように、ポリシ
クロブテン、ポリシクロペンテン、ポリシクロヘキセン、3,4-ジメチルシクロペ
ンテン、3-メチルシクロヘキセン、2-(2-メチルブチル)-1-シクロヘキセン、シ
クロオクテン、ポリノルボルネン（好ましくは、2-ノルボルネン、5-メチル-2-
ノルボルネン、5-エチル-2-ノルボルネン、5-イソプロピル-2-ノルボルネン、5-
n-ブチル-2-ノルボルネン、5-イソブチル-2-ノルボルネン、5,6-ジメチル-2-ノ
ルボルネン、5-クロロ-2-ノルボルネン、5-フルオロ-2-ノルボルネン、5-ビニル
-2-ノルボルネン、5-エチリデン-2-ノルボルネン、ビシクロ[2.2.1]-2-ヘプテン
およびその誘導体、テトラシクロ[4.4.0.1２．５.1７．１０]-3-ドデセンおよび
その誘導体、ヘキサシクロ[6.6.1.1３．６.1１０．１３.0２．７.0９．１４]-4-
ヘプタデセンおよびその誘導体、オクタシクロ[8.8.0.1２．９.1４．７.1１１． １８ .1１３．１６.0３．８.0１２．１７]-5-ドコセンおよびその誘導体、ペンタ
シクロ[6.6.1.1３．６.0２．７.0９．１４]-4-ヘキサデセンおよびその誘導体、
ヘプタシクロ[8.7.0.1２．９.1４．７.1１１．１７.0３．８.0１２．１６]-5-エ
イコセンおよびその誘導体、ヘプタシクロ[8.8.0.1２．９.1４．７.1１１．１７ .0３．８.0１２．１６]-5-ヘンエイコセンおよびその誘導体、トリシクロ[4.3.0
.1２．５]-3-デセンおよびその誘導体、トリシクロ[4.4.0.1２．５]-3-ウンデセ
ンおよびその誘導体、ペンタシクロ[6.5.1.1３．６.0２．７.0９．１３]-4-ペン
タデセンおよびその誘導体、ペンタシクロ[6.5.1.1３．６.0２．７.0９．１３]-
4,10-ペンタデカジエンおよびその誘導体、ヘプタシクロ[8.7.0.1３．６.1１０
．１７.1１２．１５.0２．７.0１１．１６]-4-エイコセンおよびその誘導体、そ
して更に脂環式モノマーなどを重合することによって製造されるもの）が挙げら
れる。
【００１９】
光拡散重合性試薬との混合またはコンパウンド化に使用されるポリカーボネー
トは、ホスゲン法により製造されても、または溶融重合により製造されてもよい
。好ましいポリカーボネートのメルトフローインデックス(melt volume flow ra
te、ＩＳＯ1133、３００℃、１０分）は、３〜８ｃｍ３／（１０分）、好ましく
は６ｃｍ３／（１０分）である。
トは、ホスゲン法により製造されても、または溶融重合により製造されてもよい
。好ましいポリカーボネートのメルトフローインデックス(melt volume flow ra
te、ＩＳＯ1133、３００℃、１０分）は、３〜８ｃｍ３／（１０分）、好ましく
は６ｃｍ３／（１０分）である。
【００２０】
以下の芳香族および脂肪族ジオールが、前記ポリカーボネートに好ましい。2,
2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパン（ビスフェノールＡ）、2,2-ビス(4-ヒ
ドロキシフェニル)ペルフルオロプロパン、1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)シ
クロヘキサン、1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-3,5,5-トリメチルシクロヘキ
サン（ＴＭＣビスフェノール）、4,4'-(1,3-フェニレンジイソプロピリデン)ビ
スフェノール、4,4'-ジヒドロキシビフェニル、4,4'-(1,4-フェニレンジイソプ
ロピリデン)ビスフェノール、4,4'-ジヒドロキシジフェニルスルフィド、1,1-ビ
ス(4-ヒドロキシフェニル)エタン、4,4'-ジヒドロキシジフェニル、2,4-(ジヒド
ロキシフェニル)-2-メチルブタン、α,α'-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-p-ジイ
ソプロピルベンゼン、2,2-ビス(3-メチル-4-ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2
-ビス(3-クロロ-4-ヒドロキシフェニル)プロパン、ビス(3,5-ジメチル-4-ヒドロ
キシフェニル)メタン、2,2-ビス(3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル)プロパン
、ビス(3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル)スルホン、2,4-ビス(3,5-ジメチル
-4-ヒドロキシフェニル)-2-メチルブタン、1,1-ビス(3,5-ジメチル-4-ヒドロキ
シフェニル)シクロヘキサン、α,α'-ビス（3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニ
ル）-p-ジイソプロピルベンゼン、2,2-ビス(3,5-ジクロロ-4-ヒドロキシフェニ
ル)プロパン、2,2-ビス(3,5-ジブロモ-4-ヒドロキシフェニル)プロパン、4,4'-
ジヒドロキシフェニルスルホン、2,6-ジヒドロキシナフタレン、2,7-ジヒドロキ
シナフタレン、1,5-ジヒドロキシナフタレン、1,6-ジヒドロキシナフタレン、4,
4'-ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2',6,6'-テトラブロモ-2,2-ビス(4-ヒドロ
キシフェニル)-プロパン、ビス(4-ヒドロキシフェニル)アルカン（アルカン鎖中
の炭素原子１〜２５個）、4,4'-ジヒドロキシジフェニルエーテル、4,4'-ジヒド
ロキシ-3,3'-ジメチルジフェニルエーテル、エチレングリコールビス(4-ヒドロ
キシフェニル)エーテル、2,2-ビス(4'-ヒドロキシフェニル)ノルボルナン、2,2-
ビス(4'-ヒドロキシフェニル)アダマンタン、6,6'-ジヒドロキシ-3,3,3',3'-テ
トラメチル-1,1'-スピロインダン、ヒドロキノン、レゾルシノール、水素化ビス
フェノールＡ、水素化ヒドロキノン、水素化レゾルシノール、2,2,4,4-テトラメ
チル-1,3-シクロブタンジオール、m-ジヒドロキシキシリレン、p-ジヒドロキシ
シキリレン、3,9-ビス(2-ヒドロキシ-1,1-ジメチルエチル)-2,4,8,10-テトラオ
キサスピロ[8.8]ウンデカン、2,4'-ジヒドロキシジフェニルスルホン、2,2-ビス
(4-ジヒドロキシ-3-メトキシフェニル)プロパン、ビス(ヒドロキシメチル)トリ
シクロ[5.2.1.0２．６]デカン、1,4-シクロヘキサンジメタノール、1,4-ビス(2-
ヒドロキシエトキシ)-2-ブチン、4,4'-(9-フルオレニリデン)-ビス-(2-フェノキ
シエタノール)、トランス-2,3-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-2-ブテン、2,2-ビ
ス(3-シクロヘキシル-4-ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1-ジクロロ-2,2-ビス
(4-ヒドロキシフェニル)エチレン、1,1-ジブロモ-2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニ
ル)エチレン、ビス(4-ヒドロキシフェニル)スルホキシド、2,7-ジヒドロキシピ
レン、9,9-ビス(4-ヒドロキシフェニル)フルオレン、2,7-ジヒドロキシカルバゾ
ール、2,6-ジヒドロキシトリアントレン、フェノールフタレイン、インダンビス
フェノール、およびこれらの混合物。５員または６員の脂肪環を含有しかつ米国
特許第4982014号公報に開示されているビスフェノールをコモノマーとして使用
してもよい。ビスフェノールＡおよびＴＭＣビスフェノール（またはこれらの混
合物）が好ましく使用され、最も好ましくはビスフェノールＡが使用される。α
,ω-ジヒドロキシポリオレフィン[例えば、クラトン・シェル・リキッド(Kraton
Shell Liquid)2203、クラレ(Kuraray)TH−21（登録商標）等]、α,ω-ジヒドロ
キシポリカーボネート、α,ω-ジヒドロキシポリエステルなど、芳香族および脂
肪族（または脂環式）アルコールであって、水酸基を2個以上含有するものを、
枝分かれ剤として（そして場合により、架橋剤として）使用してよい。1,4-ビス
(4,4'-ジヒドロキシトリフェニルメチル)ベンゼンなどの多官能アルコールの他
に、窒素を含有する試薬、例えば、3,3-ビス(4-ヒドロキシフェノール)-2-オキ
ソ-2,3-ジヒドロインドールまたはイサチンビスクレゾールなどを使用すること
も可能である。一般には、アルキル-またはアリーロキシカルボニル基を２個以
上含有する化学化合物を使用して枝分かれを達成してもよい（架橋は、１モル％
より高い濃度で生じ得る）。
2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパン（ビスフェノールＡ）、2,2-ビス(4-ヒ
ドロキシフェニル)ペルフルオロプロパン、1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)シ
クロヘキサン、1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-3,5,5-トリメチルシクロヘキ
サン（ＴＭＣビスフェノール）、4,4'-(1,3-フェニレンジイソプロピリデン)ビ
スフェノール、4,4'-ジヒドロキシビフェニル、4,4'-(1,4-フェニレンジイソプ
ロピリデン)ビスフェノール、4,4'-ジヒドロキシジフェニルスルフィド、1,1-ビ
ス(4-ヒドロキシフェニル)エタン、4,4'-ジヒドロキシジフェニル、2,4-(ジヒド
ロキシフェニル)-2-メチルブタン、α,α'-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-p-ジイ
ソプロピルベンゼン、2,2-ビス(3-メチル-4-ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2
-ビス(3-クロロ-4-ヒドロキシフェニル)プロパン、ビス(3,5-ジメチル-4-ヒドロ
キシフェニル)メタン、2,2-ビス(3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル)プロパン
、ビス(3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル)スルホン、2,4-ビス(3,5-ジメチル
-4-ヒドロキシフェニル)-2-メチルブタン、1,1-ビス(3,5-ジメチル-4-ヒドロキ
シフェニル)シクロヘキサン、α,α'-ビス（3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニ
ル）-p-ジイソプロピルベンゼン、2,2-ビス(3,5-ジクロロ-4-ヒドロキシフェニ
ル)プロパン、2,2-ビス(3,5-ジブロモ-4-ヒドロキシフェニル)プロパン、4,4'-
ジヒドロキシフェニルスルホン、2,6-ジヒドロキシナフタレン、2,7-ジヒドロキ
シナフタレン、1,5-ジヒドロキシナフタレン、1,6-ジヒドロキシナフタレン、4,
4'-ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2',6,6'-テトラブロモ-2,2-ビス(4-ヒドロ
キシフェニル)-プロパン、ビス(4-ヒドロキシフェニル)アルカン（アルカン鎖中
の炭素原子１〜２５個）、4,4'-ジヒドロキシジフェニルエーテル、4,4'-ジヒド
ロキシ-3,3'-ジメチルジフェニルエーテル、エチレングリコールビス(4-ヒドロ
キシフェニル)エーテル、2,2-ビス(4'-ヒドロキシフェニル)ノルボルナン、2,2-
ビス(4'-ヒドロキシフェニル)アダマンタン、6,6'-ジヒドロキシ-3,3,3',3'-テ
トラメチル-1,1'-スピロインダン、ヒドロキノン、レゾルシノール、水素化ビス
フェノールＡ、水素化ヒドロキノン、水素化レゾルシノール、2,2,4,4-テトラメ
チル-1,3-シクロブタンジオール、m-ジヒドロキシキシリレン、p-ジヒドロキシ
シキリレン、3,9-ビス(2-ヒドロキシ-1,1-ジメチルエチル)-2,4,8,10-テトラオ
キサスピロ[8.8]ウンデカン、2,4'-ジヒドロキシジフェニルスルホン、2,2-ビス
(4-ジヒドロキシ-3-メトキシフェニル)プロパン、ビス(ヒドロキシメチル)トリ
シクロ[5.2.1.0２．６]デカン、1,4-シクロヘキサンジメタノール、1,4-ビス(2-
ヒドロキシエトキシ)-2-ブチン、4,4'-(9-フルオレニリデン)-ビス-(2-フェノキ
シエタノール)、トランス-2,3-ビス(4-ヒドロキシフェニル)-2-ブテン、2,2-ビ
ス(3-シクロヘキシル-4-ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1-ジクロロ-2,2-ビス
(4-ヒドロキシフェニル)エチレン、1,1-ジブロモ-2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニ
ル)エチレン、ビス(4-ヒドロキシフェニル)スルホキシド、2,7-ジヒドロキシピ
レン、9,9-ビス(4-ヒドロキシフェニル)フルオレン、2,7-ジヒドロキシカルバゾ
ール、2,6-ジヒドロキシトリアントレン、フェノールフタレイン、インダンビス
フェノール、およびこれらの混合物。５員または６員の脂肪環を含有しかつ米国
特許第4982014号公報に開示されているビスフェノールをコモノマーとして使用
してもよい。ビスフェノールＡおよびＴＭＣビスフェノール（またはこれらの混
合物）が好ましく使用され、最も好ましくはビスフェノールＡが使用される。α
,ω-ジヒドロキシポリオレフィン[例えば、クラトン・シェル・リキッド(Kraton
Shell Liquid)2203、クラレ(Kuraray)TH−21（登録商標）等]、α,ω-ジヒドロ
キシポリカーボネート、α,ω-ジヒドロキシポリエステルなど、芳香族および脂
肪族（または脂環式）アルコールであって、水酸基を2個以上含有するものを、
枝分かれ剤として（そして場合により、架橋剤として）使用してよい。1,4-ビス
(4,4'-ジヒドロキシトリフェニルメチル)ベンゼンなどの多官能アルコールの他
に、窒素を含有する試薬、例えば、3,3-ビス(4-ヒドロキシフェノール)-2-オキ
ソ-2,3-ジヒドロインドールまたはイサチンビスクレゾールなどを使用すること
も可能である。一般には、アルキル-またはアリーロキシカルボニル基を２個以
上含有する化学化合物を使用して枝分かれを達成してもよい（架橋は、１モル％
より高い濃度で生じ得る）。
【００２１】
本発明により得られる透明なポリカーボネート混合物は、更に、１０〜５００
０ｐｐｍの汎用の添加物、例えば、白色顔料（二酸化チタン、好ましくはクロノ
ス(Kronos)2230）または他の顔料（酸化鉄、鉄(III)ヘキサシアノフェラート(II
)、酸化クロムなど）および／またはＵＶ安定化剤および／または酸化防止剤な
どを含有していてもよく、これらの例としては、硫黄を含有する分子（例えば、
ジラウリルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート、ジミリ
スチル3,3'-チオジプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス(β-ラウ
リルチオプロピロネート)などのチオエーテル系化合物）、亜リン酸エステル(ph
osphites)[例えば、フェニルジイソデシルホスファイト、フェニルイソデシルホ
スファイト、トリフェニルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト
、トリシクロヘキシルホスファイト、トリクレジルホスファイト、トリス(2,4-
ジ-tert-ブチルフェニル)ホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト
、ビス(2,4-ジ-t-ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(
2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、2,2
-メチレンビス(4,6-ジ-t-ブチルフェニル)オクチルホスファイト、4,4'-ジイソ
プロピリデンジフェノールアルキル(Ｃ１２〜Ｃ１５)、4,4'-ブチリデンビス(3-
メチル-6-t-ブチルフェニルジトリデシルホスファイト)、等]、ヒンダードフェ
ノール[例えば、1,1,3-トリス(2-メチル-4-ヒドロキシ-5-t-ブチルフェニル)ブ
タン、4,4'-ブチリデンビス(3-メチル-t-ブチルフェノール)、n-オクタデシル-3
-(3',5'-ジ-t-ブチル-4'-ヒドロキシフェニル)プロピオネート、ペンタエリスリ
チルテトラキス(3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート、
トリエチレングリコールビス(3-(3-t-ブチル-5-メチル-4-ヒドロキシフェニル)
プロピオネート、1,6-ヘキサンジオールビス(3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシ
フェニル)プロピオネート、2,2'-メチレンビス(4-メチル-6-t-ブチルフェノール
)、2,2'-メチレンビス(4-エチル-6-t-ブチルフェノール)、2,2'-メチレンビス(4
-エチル-6-t-ブチルフェノール)、2-t-ブチル-6-(3-t-ブチル-2-ヒドロキシ-5-
メチルベンジル)-4-メチルフェニルアクリレート、2-(1-(2-ヒドロキシ-3,5-ジ-
t-ブチルフェニル)エチル)-4,6-ジネオペンチルフェニルアクリレート、4,4-チ
オビス(3-メチル-6-t-ブチルフェノール)、1,3,5-トリメチル-2,4,6-トリス(3,5
-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル)ベンゼン、2,2-チオジエチレンビス(3-(3,
5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート)、3,9-ビス(2-(3-(3-t-
ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロピオニロキシ)-1,1-ジメチル)-2,4
,8,10-テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン、など]、ハイドロホスファイト(hyd
rophosphites)、ホスホニトおよび／またはジホスホニト、例えば、テトラキス(
2,4-ジ-tert-ブチルフェニル)ビフェニレンジホスホニト等が挙げられる。
０ｐｐｍの汎用の添加物、例えば、白色顔料（二酸化チタン、好ましくはクロノ
ス(Kronos)2230）または他の顔料（酸化鉄、鉄(III)ヘキサシアノフェラート(II
)、酸化クロムなど）および／またはＵＶ安定化剤および／または酸化防止剤な
どを含有していてもよく、これらの例としては、硫黄を含有する分子（例えば、
ジラウリルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート、ジミリ
スチル3,3'-チオジプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス(β-ラウ
リルチオプロピロネート)などのチオエーテル系化合物）、亜リン酸エステル(ph
osphites)[例えば、フェニルジイソデシルホスファイト、フェニルイソデシルホ
スファイト、トリフェニルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト
、トリシクロヘキシルホスファイト、トリクレジルホスファイト、トリス(2,4-
ジ-tert-ブチルフェニル)ホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト
、ビス(2,4-ジ-t-ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス(
2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、2,2
-メチレンビス(4,6-ジ-t-ブチルフェニル)オクチルホスファイト、4,4'-ジイソ
プロピリデンジフェノールアルキル(Ｃ１２〜Ｃ１５)、4,4'-ブチリデンビス(3-
メチル-6-t-ブチルフェニルジトリデシルホスファイト)、等]、ヒンダードフェ
ノール[例えば、1,1,3-トリス(2-メチル-4-ヒドロキシ-5-t-ブチルフェニル)ブ
タン、4,4'-ブチリデンビス(3-メチル-t-ブチルフェノール)、n-オクタデシル-3
-(3',5'-ジ-t-ブチル-4'-ヒドロキシフェニル)プロピオネート、ペンタエリスリ
チルテトラキス(3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート、
トリエチレングリコールビス(3-(3-t-ブチル-5-メチル-4-ヒドロキシフェニル)
プロピオネート、1,6-ヘキサンジオールビス(3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシ
フェニル)プロピオネート、2,2'-メチレンビス(4-メチル-6-t-ブチルフェノール
)、2,2'-メチレンビス(4-エチル-6-t-ブチルフェノール)、2,2'-メチレンビス(4
-エチル-6-t-ブチルフェノール)、2-t-ブチル-6-(3-t-ブチル-2-ヒドロキシ-5-
メチルベンジル)-4-メチルフェニルアクリレート、2-(1-(2-ヒドロキシ-3,5-ジ-
t-ブチルフェニル)エチル)-4,6-ジネオペンチルフェニルアクリレート、4,4-チ
オビス(3-メチル-6-t-ブチルフェノール)、1,3,5-トリメチル-2,4,6-トリス(3,5
-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル)ベンゼン、2,2-チオジエチレンビス(3-(3,
5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート)、3,9-ビス(2-(3-(3-t-
ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロピオニロキシ)-1,1-ジメチル)-2,4
,8,10-テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン、など]、ハイドロホスファイト(hyd
rophosphites)、ホスホニトおよび／またはジホスホニト、例えば、テトラキス(
2,4-ジ-tert-ブチルフェニル)ビフェニレンジホスホニト等が挙げられる。
【００２２】
以下の実施例は、本発明を表す。本発明は、これら実施例に限定されない。
【００２３】実施例 実施例１
：シクロヘキサン中でのポリスチレン溶液の製造
蒸留したシクロヘキサン117.82ｋｇを、500Ｌ撹拌式タンクに窒素下で移して
、50℃に加熱する。次に、この溶液中にポリスチレン（ＰＳ）48.29ｋｇを4時間
で撹拌混合させる。この溶液を70℃で更に24時間撹拌しながら放置する。冷却後
、ＭＴＢＥ（メチルtert-ブチルエーテル）53.32ｋｇを撹拌混合物に50℃におい
て窒素下で加える。撹拌した溶液をその後、室温まで冷却する。
、50℃に加熱する。次に、この溶液中にポリスチレン（ＰＳ）48.29ｋｇを4時間
で撹拌混合させる。この溶液を70℃で更に24時間撹拌しながら放置する。冷却後
、ＭＴＢＥ（メチルtert-ブチルエーテル）53.32ｋｇを撹拌混合物に50℃におい
て窒素下で加える。撹拌した溶液をその後、室温まで冷却する。
【００２４】実施例２
：Ｎｉ触媒を用いたポリスチレンの水素化
撹拌器を装備した40Ｌオートクレーブに、前記ポリスチレン溶液21.943ｋｇ（
溶液21.943ｋｇは、ＰＳ 4.829ｋｇ、シクロヘキサン11.782ｋｇおよびＭＴＢ
Ｅ 5.332ｋｇの合計である）を満たし、次いでＭＴＢＥ 2.95Ｌ中のＮｉ触媒6
25ｋｇを添加する。オートクレーブを撹拌し、対応する水素圧を100ｂａｒに調
節して、撹拌しながら反応器を160℃に加熱する。前記圧は、反応中、自動的に1
00ｂａｒに保持する。水素がそれ以上消費されない時点で、反応を停止し、その
後、反応混合物を２〜４時間撹拌する。濾過により触媒を除去した後、溶媒を蒸
発させることにより、水素化ポリマーを単離する。
溶液21.943ｋｇは、ＰＳ 4.829ｋｇ、シクロヘキサン11.782ｋｇおよびＭＴＢ
Ｅ 5.332ｋｇの合計である）を満たし、次いでＭＴＢＥ 2.95Ｌ中のＮｉ触媒6
25ｋｇを添加する。オートクレーブを撹拌し、対応する水素圧を100ｂａｒに調
節して、撹拌しながら反応器を160℃に加熱する。前記圧は、反応中、自動的に1
00ｂａｒに保持する。水素がそれ以上消費されない時点で、反応を停止し、その
後、反応混合物を２〜４時間撹拌する。濾過により触媒を除去した後、溶媒を蒸
発させることにより、水素化ポリマーを単離する。
【００２５】実施例３
：ニーダー内でのＨＰＳとポリカーボネートとの混合
ハーケ・レオコード(Haake Rheocord)90加工ユニットを連結したハーケ・レオ
ミックス(Haake Rheomix)600二軸スクリューニーダーを290℃まで加熱し、ポリ
カーボネート95ｇとポリビニルシクロヘキサン５ｇを充填する。カトロン-ソー
ダー(Katron-Soder)T-20計量ユニットを窒素気流下で用いて、１時間、混練を行
う（40ｒｐｍ）。
ミックス(Haake Rheomix)600二軸スクリューニーダーを290℃まで加熱し、ポリ
カーボネート95ｇとポリビニルシクロヘキサン５ｇを充填する。カトロン-ソー
ダー(Katron-Soder)T-20計量ユニットを窒素気流下で用いて、１時間、混練を行
う（40ｒｐｍ）。
【００２６】実施例４
：押出機内でのＨＰＳとポリカーボネートとの混合
ハーケ・レオコード90加工ユニットを連結したハーケ・レオミックスＴＷ100
二軸スクリュー押出機を300℃に加熱し、ポリカーボネート（マクロロン(Makrol
on)1243）95ｇとポリビニルシクロヘキサン５ｇを充填する。この際、カトロン-
ソーダーT-20計量ユニットを用いる。溶融混合物を、丸い断面のダイを通過させ
て、コンベヤーベルトと冷却用トラフ（いずれもブラベンダー(Brabender)ＯＨ
Ｇ）により、ペレット化ユニット（ＣＦ−シアー・アンド・シー(CF-Sheer & Ci
e)）まで運搬する。
二軸スクリュー押出機を300℃に加熱し、ポリカーボネート（マクロロン(Makrol
on)1243）95ｇとポリビニルシクロヘキサン５ｇを充填する。この際、カトロン-
ソーダーT-20計量ユニットを用いる。溶融混合物を、丸い断面のダイを通過させ
て、コンベヤーベルトと冷却用トラフ（いずれもブラベンダー(Brabender)ＯＨ
Ｇ）により、ペレット化ユニット（ＣＦ−シアー・アンド・シー(CF-Sheer & Ci
e)）まで運搬する。
【００２７】実施例５
ヘイズおよび透過率試験は、60ｍｍ×60ｍｍ×２ｍｍシートを用いて行った。
ヘイズガード(HazeGard、ＢＹＫ−ガードナー)ヘイズ測定器を、ＡＳＴＭ-1003/
290に準拠するヘイズ試験に用いた。透過率スペクトルは、球面検出器を装備し
たパーキン−エルマー製ラムダ(Lambda)900光度計を用いて記録した。参照とし
ては大気を用いる。表Ｉに、ヘイズと合計透過率試験をまとめる。
ヘイズガード(HazeGard、ＢＹＫ−ガードナー)ヘイズ測定器を、ＡＳＴＭ-1003/
290に準拠するヘイズ試験に用いた。透過率スペクトルは、球面検出器を装備し
たパーキン−エルマー製ラムダ(Lambda)900光度計を用いて記録した。参照とし
ては大気を用いる。表Ｉに、ヘイズと合計透過率試験をまとめる。
【００２８】表Ｉ
ポリマー光拡散剤を含有するポリカーボネートのヘイズおよび合計透過率
【表１】
【００２９】実施例６
応力／歪み試験は、室温でＮｏ．３ダンベル・バー（170ｍｍ×10ｍｍ×４ｍ
ｍ）により、インストロン5566試験機を用い、速度５ｍｍ／分で行う。衝撃試験
は、80ｍｍ×10ｍｍ×４ｍｍバーにより行う。ノッチ付き衝撃試験には、２ｍｍ
Ｖ型ノッチ付き試験片を用いる。ＨＰＳを１％および５％含有するＰＣの機械特
性を表IIにまとめる。
ｍ）により、インストロン5566試験機を用い、速度５ｍｍ／分で行う。衝撃試験
は、80ｍｍ×10ｍｍ×４ｍｍバーにより行う。ノッチ付き衝撃試験には、２ｍｍ
Ｖ型ノッチ付き試験片を用いる。ＨＰＳを１％および５％含有するＰＣの機械特
性を表IIにまとめる。
【００３０】表II
ＨＰＳを混合したポリカーボネート（マクロロロン1243）の機械特性
【表２】
【００３１】実施例７
二重シートの押出し
ＨＰＳを３重量％含有するＨＰＳ／ポリカーボネートブレンドのペレットを実
施例５により製造し、次いで、特別のＳ−７０押出機（バイエル・アクチエンゲ
ゼルシャフト）において、60μｍ厚のＵＶ保護層（バイエル・アクチエンゲゼル
シャフト−ＤＰ１−1244／5-55／0.54）と共に二重シート（各層は１ｍｍ厚）と
して同時押出しする。回転速度は38ｒｐｍであり、供給領域内の温度が270℃、
第１領域が280℃、第２領域が270℃、第３領域が260℃であり、そして領域４〜
６および外部領域は250℃である。
施例５により製造し、次いで、特別のＳ−７０押出機（バイエル・アクチエンゲ
ゼルシャフト）において、60μｍ厚のＵＶ保護層（バイエル・アクチエンゲゼル
シャフト−ＤＰ１−1244／5-55／0.54）と共に二重シート（各層は１ｍｍ厚）と
して同時押出しする。回転速度は38ｒｐｍであり、供給領域内の温度が270℃、
第１領域が280℃、第２領域が270℃、第３領域が260℃であり、そして領域４〜
６および外部領域は250℃である。
【００３２】実施例８
実施例７で製造した二重シートの機械特性は、ＤＩＮ53443に準拠した雹試験(
a hail test)を用いて評価した。（実施例６で形成した）幅50ｍｍおよび長さ35
0ｍｍの二重シート１枚に、高さ20ｍｍから落下させた直径５ｍｍの球形ピンを
当てる。ピンには、重量36ｋｇの荷重がかかっている。試験は23℃で行う。表II
Iに試験結果を示す。
a hail test)を用いて評価した。（実施例６で形成した）幅50ｍｍおよび長さ35
0ｍｍの二重シート１枚に、高さ20ｍｍから落下させた直径５ｍｍの球形ピンを
当てる。ピンには、重量36ｋｇの荷重がかかっている。試験は23℃で行う。表II
Iに試験結果を示す。
【００３３】表III
ＨＰＳを３重量％含有する二重ポリカーボネートシート（１層は１ｍｍ）につい
て雹試験で求めた破壊強度Ｆｓ、破壊伸びＬｓおよび破壊エネルギーＷｓ
て雹試験で求めた破壊強度Ｆｓ、破壊伸びＬｓおよび破壊エネルギーＷｓ
【表３】
＊Ａ：延性／脆性；Ｂ：平滑な割れ目
【００３４】実施例９
ポリカーボネートとＨＰＳからの二重シートの直接押出し
ポリカーボネートとＨＰＳ（重量比９７：３）を、予めコンパウンド化せずに
、特別なＳ−７０押出機（バイエル・アクチエンゲゼルシャフト）内で60μｍ厚
のＵＶ保護層（バイエル・アクチエンゲゼルシャフト−ＤＰ１−1244/5-55/054
）と共に二重シート（各層は１ｍｍ厚）として同時押出しする。回転速度は38ｒ
ｐｍであり、供給領域内の温度が270℃、第１領域が280℃、第２領域が270℃、
第３領域が260℃であり、そして領域４〜６および外部領域は250℃である。
、特別なＳ−７０押出機（バイエル・アクチエンゲゼルシャフト）内で60μｍ厚
のＵＶ保護層（バイエル・アクチエンゲゼルシャフト−ＤＰ１−1244/5-55/054
）と共に二重シート（各層は１ｍｍ厚）として同時押出しする。回転速度は38ｒ
ｐｍであり、供給領域内の温度が270℃、第１領域が280℃、第２領域が270℃、
第３領域が260℃であり、そして領域４〜６および外部領域は250℃である。
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フロントページの続き
(81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ，
ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ
Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ
，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ，
ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ
Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＭＺ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ
，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，
ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＧ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，
ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＢＺ，Ｃ
Ａ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＤＭ
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ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，Ｋ
Ｅ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ
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ＭＷ，ＭＸ，ＭＺ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，Ｒ
Ｕ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ
，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，
ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ
(72)発明者 フリードリッヒ−カール・ブルーダー
ドイツ連邦共和国デー−47802クレーフェ
ルト、エン・デ・ジープ34番
Ｆターム(参考） 2H042 BA02 BA18 BA20
4J002 BK002 BQ002 CE002 CG001
FD040 FD070 FD090 GL00
GN00 GP00
Claims (10)
- 【請求項１】 シクロオレフィン(コ)ポリマーと混合されたポリカーボネー
トを含有するポリマー組成物。 - 【請求項２】 シクロオレフィン(コ)ポリマーを２５重量％まで含有する請
求項１記載のポリマー組成物。 - 【請求項３】 水素化ポリスチレンまたは水素化ポリスチレンコポリマーを
含有する請求項１および／または２記載のポリマー組成物。 - 【請求項４】 ３００℃で３〜８ｃｍ３／１０分のメルトフローインデック
スを有するポリカーボネートを含有する請求項１〜３のいずれかに記載のポリマ
ー組成物。 - 【請求項５】 シクロオレフィン(コ)ポリマーを含有するポリカーボネート
混合物。 - 【請求項６】 シクロオレフィン(コ)ポリマーと混合されたポリカーボネー
トを含有するポリカーボネート製品または材料。 - 【請求項７】 ポリカーボネート中での光拡散剤としてのシクロオレフィン
(コ)ポリマーの使用。 - 【請求項８】 光拡散製品または材料の製造のための請求項１記載のポリマ
ー組成物の使用。 - 【請求項９】 光拡散製品または材料の製造のための請求項２記載のポリマ
ー組成物の使用。 - 【請求項１０】 ポリカーボネートをシクロオレフィン(コ)ポリマーと混合
することによる光拡散ポリマー組成物の製造方法。
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