JP2003505559A - オレフィンを(共)重合させるための方法 - Google Patents
オレフィンを(共)重合させるための方法Info
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 25
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 title claims description 9
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 title claims description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 29
- 150000003623 transition metal compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 26
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 15
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 claims abstract description 10
- -1 nitro - Chemical class 0.000 claims description 89
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 62
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 61
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 46
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical group [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 30
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical group [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 23
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 22
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 22
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 claims description 20
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims description 19
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 19
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 15
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 15
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 15
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 13
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims description 13
- 229910052759 nickel Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 12
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 11
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 10
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 claims description 9
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 8
- 150000008040 ionic compounds Chemical class 0.000 claims description 8
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 7
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 7
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
- 150000002825 nitriles Chemical group 0.000 claims description 7
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 6
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 claims description 5
- 239000007848 Bronsted acid Substances 0.000 claims description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000002837 carbocyclic group Chemical group 0.000 claims description 4
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000004929 pyrrolidonyl group Chemical group N1(C(CCC1)=O)* 0.000 claims description 3
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 claims description 2
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 39
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 14
- 229960004132 diethyl ether Drugs 0.000 description 13
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 12
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 11
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N Propene Chemical compound CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 8
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 7
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 6
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- AQZWEFBJYQSQEH-UHFFFAOYSA-N 2-methyloxaluminane Chemical compound C[Al]1CCCCO1 AQZWEFBJYQSQEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 5
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 5
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical compound CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002879 Lewis base Substances 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 4
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N cyclopentene Chemical compound C1CC=CC1 LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 125000002346 iodo group Chemical group I* 0.000 description 4
- 150000007527 lewis bases Chemical class 0.000 description 4
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- IPLJNQFXJUCRNH-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);dibromide Chemical compound [Ni+2].[Br-].[Br-] IPLJNQFXJUCRNH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 125000000538 pentafluorophenyl group Chemical group FC1=C(F)C(F)=C(*)C(F)=C1F 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021585 Nickel(II) bromide Inorganic materials 0.000 description 3
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical group C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 3
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 description 3
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 3
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 3
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 3
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 3
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 3
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 3
- RRKODOZNUZCUBN-CCAGOZQPSA-N (1z,3z)-cycloocta-1,3-diene Chemical compound C1CC\C=C/C=C\C1 RRKODOZNUZCUBN-CCAGOZQPSA-N 0.000 description 2
- 125000000027 (C1-C10) alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- LOZWAPSEEHRYPG-UHFFFAOYSA-N 1,4-dithiane Chemical compound C1CSCCS1 LOZWAPSEEHRYPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004206 2,2,2-trifluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(F)(F)F 0.000 description 2
- HNURKXXMYARGAY-UHFFFAOYSA-N 2,6-Di-tert-butyl-4-hydroxymethylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CO)=CC(C(C)(C)C)=C1O HNURKXXMYARGAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 2
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SQKYTTUUYYLLQA-UHFFFAOYSA-L [Ni+2].[Br-].CCCC.[Br-] Chemical compound [Ni+2].[Br-].CCCC.[Br-] SQKYTTUUYYLLQA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000005840 aryl radicals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 125000003262 carboxylic acid ester group Chemical group [H]C([H])([*:2])OC(=O)C([H])([H])[*:1] 0.000 description 2
- 239000003426 co-catalyst Substances 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 2
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical compound C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 2
- RAABOESOVLLHRU-UHFFFAOYSA-N diazene Chemical compound N=N RAABOESOVLLHRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000071 diazene Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N glyoxal Chemical compound O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- NNPPMTNAJDCUHE-UHFFFAOYSA-N isobutane Chemical compound CC(C)C NNPPMTNAJDCUHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N n-Octanol Natural products CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 2
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 2
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N pentamethylene Natural products C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003880 polar aprotic solvent Substances 0.000 description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 2
- 239000012465 retentate Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXKWYPOMXBVZSJ-UHFFFAOYSA-N tetramethyltin Chemical group C[Sn](C)(C)C VXKWYPOMXBVZSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 2
- LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N (2,3,4,5,6-pentafluorophenoxy)boronic acid Chemical compound OB(O)OC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJYSXRBJOSZLEL-UHFFFAOYSA-N (2,4-ditert-butylphenyl) 3,5-ditert-butyl-4-hydroxybenzoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OC(=O)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 KJYSXRBJOSZLEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004209 (C1-C8) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006376 (C3-C10) cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- VHSVJTYBTJCDFL-UHFFFAOYSA-L 1,2-dimethoxyethane;nickel(2+);dibromide Chemical compound Br[Ni]Br.COCCOC VHSVJTYBTJCDFL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XTFIVUDBNACUBN-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-trinitro-1,3,5-triazinane Chemical compound [O-][N+](=O)N1CN([N+]([O-])=O)CN([N+]([O-])=O)C1 XTFIVUDBNACUBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDGCAHYGTNRIOD-UHFFFAOYSA-N 2,5-dibromo-1h-pyrrole Chemical compound BrC1=CC=C(Br)N1 BDGCAHYGTNRIOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJJCRRLRSVMJEJ-UHFFFAOYSA-N 2,5-dichloro-1h-pyrrole Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)N1 AJJCRRLRSVMJEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATDIROHVRVQMRO-UHFFFAOYSA-N 2,6-dibromo-4-methylaniline Chemical compound CC1=CC(Br)=C(N)C(Br)=C1 ATDIROHVRVQMRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XIRRDAWDNHRRLB-UHFFFAOYSA-N 2,6-dibromoaniline Chemical compound NC1=C(Br)C=CC=C1Br XIRRDAWDNHRRLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDMFXJULNGEPOI-UHFFFAOYSA-N 2,6-dichloroaniline Chemical compound NC1=C(Cl)C=CC=C1Cl JDMFXJULNGEPOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCXYLTWTWUGEAA-UHFFFAOYSA-N 2,6-ditert-butyl-4-(methoxymethyl)phenol Chemical compound COCC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 SCXYLTWTWUGEAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMZVBRIIHDRYGK-UHFFFAOYSA-N 2,6-ditert-butyl-4-[(dimethylamino)methyl]phenol Chemical compound CN(C)CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 VMZVBRIIHDRYGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 2-Oxazoline Chemical compound C1CN=CO1 IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical class NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDWVSAYEQPLWMX-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Methylenebis(2,6-di-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 MDWVSAYEQPLWMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical class C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 4-(4-chlorophenyl)-4,5,6,7-tetrahydrothieno[3,2-c]pyridine Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C1C(C=CS2)=C2CCN1 CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017048 AsF6 Inorganic materials 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M Butyrate Chemical compound CCCC([O-])=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Natural products CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000041 C6-C10 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021580 Cobalt(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N Diacetyl Chemical group CC(=O)C(C)=O QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZKSXHQDXQKIQJ-UHFFFAOYSA-N F[C](F)F Chemical compound F[C](F)F WZKSXHQDXQKIQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M N,N,N-Trimethylmethanaminium chloride Chemical group [Cl-].C[N+](C)(C)C OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- RPDUDBYMNGAHEM-UHFFFAOYSA-N PROXYL Chemical group CC1(C)CCC(C)(C)N1[O] RPDUDBYMNGAHEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021605 Palladium(II) bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005922 Phosphane Substances 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021604 Rhodium(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- FOIXSVOLVBLSDH-UHFFFAOYSA-N Silver ion Chemical compound [Ag+] FOIXSVOLVBLSDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- QYTDEUPAUMOIOP-UHFFFAOYSA-N TEMPO Chemical group CC1(C)CCCC(C)(C)N1[O] QYTDEUPAUMOIOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- RISXKBIOEWVNKL-UHFFFAOYSA-N [2,3-bis(trifluoromethyl)phenoxy]boronic acid Chemical compound OB(O)OC1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1C(F)(F)F RISXKBIOEWVNKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFKJQIJFRMRSKM-UHFFFAOYSA-N [3,5-bis(trifluoromethyl)phenoxy]boronic acid Chemical compound OB(O)OC1=CC(C(F)(F)F)=CC(C(F)(F)F)=C1 HFKJQIJFRMRSKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIUQDSCDWFSTQR-UHFFFAOYSA-N [C]1=CC=CC=C1 Chemical compound [C]1=CC=CC=C1 CIUQDSCDWFSTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOFINMJRLYEONQ-UHFFFAOYSA-N [N].C=1C=CNC=1 Chemical compound [N].C=1C=CNC=1 MOFINMJRLYEONQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJIPQMIKIQFFQL-UHFFFAOYSA-N acetonitrile hydrochloride Chemical compound Cl.CC#N.CC#N GJIPQMIKIQFFQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003172 aldehyde group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 230000002152 alkylating effect Effects 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000002178 anthracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000005418 aryl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXLHNMVSKXFWAO-UHFFFAOYSA-N azane;7-fluoro-2,1,3-benzoxadiazole-4-sulfonic acid Chemical compound N.OS(=O)(=O)C1=CC=C(F)C2=NON=C12 JXLHNMVSKXFWAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4,4'-diol Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=C(O)C=C1 VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UORVGPXVDQYIDP-BJUDXGSMSA-N borane Chemical compound [10BH3] UORVGPXVDQYIDP-BJUDXGSMSA-N 0.000 description 1
- 229910000085 borane Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCMHKCKGHRPLCM-UHFFFAOYSA-N caesium(1+) Chemical compound [Cs+] NCMHKCKGHRPLCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical group 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 229940006165 cesium cation Drugs 0.000 description 1
- 150000001851 cinnamic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L cobalt dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Co+2] GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BZRRQSJJPUGBAA-UHFFFAOYSA-L cobalt(ii) bromide Chemical compound Br[Co]Br BZRRQSJJPUGBAA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- CFBGXYDUODCMNS-UHFFFAOYSA-N cyclobutene Chemical compound C1CC=C1 CFBGXYDUODCMNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- CKJMHSMEPSUICM-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl nitroxide Chemical class CC(C)(C)N([O])C(C)(C)C CKJMHSMEPSUICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-O dimethyl(phenyl)azanium Chemical compound C[NH+](C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 125000000219 ethylidene group Chemical group [H]C(=[*])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- QEWYKACRFQMRMB-UHFFFAOYSA-N fluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)CF QEWYKACRFQMRMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012685 gas phase polymerization Methods 0.000 description 1
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 229940015043 glyoxal Drugs 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003840 hydrochlorides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229940006487 lithium cation Drugs 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012968 metallocene catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 1
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229910017464 nitrogen compound Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002848 norbornenes Chemical class 0.000 description 1
- SSDSCDGVMJFTEQ-UHFFFAOYSA-N octadecyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 SSDSCDGVMJFTEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- RZXMPPFPUUCRFN-UHFFFAOYSA-N p-toluidine Chemical compound CC1=CC=C(N)C=C1 RZXMPPFPUUCRFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002940 palladium Chemical class 0.000 description 1
- MUJIDPITZJWBSW-UHFFFAOYSA-N palladium(2+) Chemical compound [Pd+2] MUJIDPITZJWBSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INIOZDBICVTGEO-UHFFFAOYSA-L palladium(ii) bromide Chemical compound Br[Pd]Br INIOZDBICVTGEO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000006340 pentafluoro ethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000064 phosphane Inorganic materials 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000006187 pill Substances 0.000 description 1
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L platinum dichloride Chemical compound Cl[Pt]Cl CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSFBJERFMQCEQY-UHFFFAOYSA-N propylidene Chemical group [CH]CC OSFBJERFMQCEQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 1
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 1
- SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K rhodium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Rh+3] SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000002000 scavenging effect Effects 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004469 siloxy group Chemical group [SiH3]O* 0.000 description 1
- 150000003378 silver Chemical class 0.000 description 1
- 229940054334 silver cation Drugs 0.000 description 1
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HSFQBFMEWSTNOW-UHFFFAOYSA-N sodium;carbanide Chemical compound [CH3-].[Na+] HSFQBFMEWSTNOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N tetrabutylammonium Chemical compound CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N tetraethylammonium Chemical group CC[N+](CC)(CC)CC CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003698 tetramethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 1
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N trihydridoboron Substances B UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N triisobutylaluminium Chemical compound CC(C)C[Al](CC(C)C)CC(C)C MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
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- C08F4/7003—Bidentate ligand
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Abstract
(57)【要約】
一般式(III)の遷移金属化合物1種または複数の存在下ならびに場合により助触媒の存在下に、無極性オレフィン性モノマーおよび場合により、官能基を有するα−オレフィンを反応させる、(コ)ポリマーの製法。
Description
【0001】
本発明は、遷移金属化合物を用いてオレフィンを(共)重合させるための方法
に関する。さらに本発明はこの遷移金属化合物ならびにこれを含有する触媒系に
関する。さらに本発明は無極性オレフィンおよび場合により、官能基を有するα
−オレフィンを(共)重合させるために触媒としてこの遷移金属化合物を使用す
ることに関する。
に関する。さらに本発明はこの遷移金属化合物ならびにこれを含有する触媒系に
関する。さらに本発明は無極性オレフィンおよび場合により、官能基を有するα
−オレフィンを(共)重合させるために触媒としてこの遷移金属化合物を使用す
ることに関する。
【0002】
オレフィン重合の方法は当業者に公知である。従来特に、元素周期系の第IV
B族の金属をベースとする、殊にはメタロセン−およびハーフサンドイッチ錯体
の形の遷移金属錯体に特別な関心が寄せられている(H.H.Brintzinger, D.Fisch
er, R.Muelhaupt, B.Rieger, R.M.Waymouth, Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 199
5, 34, 1143-1170も参照)。これらの錯体化合物は通常、酸素および湿度に対し
て非常に不安定であり、したがって往々にして、迂遠な方法でしか製造し、かつ
取り扱うことができない。有効な反応実施のためには、当初遷移金属をベースと
するこれらのメタロセン錯体に常に少なからぬ量の助触媒を添加しなければなら
ず、これは迂遠な精製工程を必要とし、かつ生成物不純をもたらしうる。
B族の金属をベースとする、殊にはメタロセン−およびハーフサンドイッチ錯体
の形の遷移金属錯体に特別な関心が寄せられている(H.H.Brintzinger, D.Fisch
er, R.Muelhaupt, B.Rieger, R.M.Waymouth, Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 199
5, 34, 1143-1170も参照)。これらの錯体化合物は通常、酸素および湿度に対し
て非常に不安定であり、したがって往々にして、迂遠な方法でしか製造し、かつ
取り扱うことができない。有効な反応実施のためには、当初遷移金属をベースと
するこれらのメタロセン錯体に常に少なからぬ量の助触媒を添加しなければなら
ず、これは迂遠な精製工程を必要とし、かつ生成物不純をもたらしうる。
【0003】
Brookhart et al(J. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 6414-6415)は、キレート配
位子として、イミン窒素のところに嵩だかなアリール置換基、ことに2,6−ジ
イソプロピルフェニルを有するビスイミン化合物が使用されると、ニッケル−お
よびパラジウム錯体もエテンおよびプロペンの重合のために考慮されることを示
している。立体的に嵩だかな基は金属中心を覆って、鎖転移−および/または離
脱反応を妨げ、これにより初めて、許容可能な分子量が達成されるという。さら
にBrookhart et al, J. Am. Chem. Soc. 1996, 118, 267-268は前記の遷移金属
錯体を用いてエテンおよび例えばアクリル酸メチルを共重合させることに成功し
た。これらのコポリマーは例えば、その弾性特性に基づき工業的プラスチック、
例えばポリブチレンテレフタレートまたはポリアミドのための粘稠性変更剤とし
て使用される。しかし工業的にはこれらのコポリマーは大抵、まだなおラジカル
法で製造されており、このことは、幅広い分子量分布を有するポリマーおよび官
能基を有するオレフィンの不均一な構造をもたらしている。しかしながらBrookh
artで前記されたビスイミン錯体を用いると、比較的狭い分子量分布を有するコ
ポリマーを得ることができる。しかし各重合条件下に十分に安定であると同時に
、長期の寿命を有し、そのため大工業的製造で使用するためにも適当である高い
、もしくは更に高い活性を有する触媒系を使用することが望まれるであろう。
位子として、イミン窒素のところに嵩だかなアリール置換基、ことに2,6−ジ
イソプロピルフェニルを有するビスイミン化合物が使用されると、ニッケル−お
よびパラジウム錯体もエテンおよびプロペンの重合のために考慮されることを示
している。立体的に嵩だかな基は金属中心を覆って、鎖転移−および/または離
脱反応を妨げ、これにより初めて、許容可能な分子量が達成されるという。さら
にBrookhart et al, J. Am. Chem. Soc. 1996, 118, 267-268は前記の遷移金属
錯体を用いてエテンおよび例えばアクリル酸メチルを共重合させることに成功し
た。これらのコポリマーは例えば、その弾性特性に基づき工業的プラスチック、
例えばポリブチレンテレフタレートまたはポリアミドのための粘稠性変更剤とし
て使用される。しかし工業的にはこれらのコポリマーは大抵、まだなおラジカル
法で製造されており、このことは、幅広い分子量分布を有するポリマーおよび官
能基を有するオレフィンの不均一な構造をもたらしている。しかしながらBrookh
artで前記されたビスイミン錯体を用いると、比較的狭い分子量分布を有するコ
ポリマーを得ることができる。しかし各重合条件下に十分に安定であると同時に
、長期の寿命を有し、そのため大工業的製造で使用するためにも適当である高い
、もしくは更に高い活性を有する触媒系を使用することが望まれるであろう。
【0004】
したがって本発明の課題は、高い活性を特徴とし、助触媒を必要としないか、
または少量しか必要とせず、かつ問題なく大工業でも使用することができる、オ
レフィン性モノマーから(コ)ポリマーを製造するための方法を提供することで
あった。さらに本発明の課題は、不安定ではなく、かつ簡単に取り扱うことがで
き、かつことに重合条件下に長期の反応時間でも触媒活性を失わない遷移金属化
合物を発見することであった。
または少量しか必要とせず、かつ問題なく大工業でも使用することができる、オ
レフィン性モノマーから(コ)ポリマーを製造するための方法を提供することで
あった。さらに本発明の課題は、不安定ではなく、かつ簡単に取り扱うことがで
き、かつことに重合条件下に長期の反応時間でも触媒活性を失わない遷移金属化
合物を発見することであった。
【0005】
相応して、無極性オレフィン性モノマー(I)からなる(コ)ポリマーの製法
ならびに無極性オレフィン性モノマー(I)および官能基少なくとも1個を有す
るα−オレフィン(II)からなる(コ)ポリマーの製法を発見したが、これは
一般式:
ならびに無極性オレフィン性モノマー(I)および官能基少なくとも1個を有す
るα−オレフィン(II)からなる(コ)ポリマーの製法を発見したが、これは
一般式:
【0006】
【化3】
【0007】
[式中、置換基および指数は次の意味を有する:
R1、R3は水素、C1〜C10−アルキル、C3〜C10−シクロアルキル、
C6〜C16−アリール、アルキル部に1〜10個のC原子およびアリール部に
6〜14個のC原子を有するアルキルアリール、Si(R6)3、N(R6)(
R7)、OR6、SR6を表すか、またはR1およびR3はCa、Cbおよび場
合によりC´と一緒になって5員、6員または7員の脂肪族または芳香族の置換
または非置換の炭素環または複素環を形成し、 R2、R4はハロゲノ−、ニトロ−、シアノ−、スルホナト−またはトリハロゲ
ンメチル置換基をNaおよびNbに対する両オルト位に有するC4〜C16−へ
テロアリールまたはC6〜C16−アリールを表し、 R5は水素、C1〜C10−アルキル、C6〜C16−アリールまたはアルキル
部に1〜10個のC原子およびアリール部に6〜14個のC原子を有するアルキ
ルアリールを表し、 R6、R7はC1〜C10−アルキル、C6〜C16−アリールまたはアルキル
部に1〜10個のC原子およびアリール部に6〜14個のC原子を有するアルキ
ルアリールを表し、 mは0または1、有利には0を表し、 Mは元素周期系の第VIIIB族の金属を表し、 T、Qは中性またはモノアニオン単座配位子であるか、またはTおよびQは一緒
に、メチルケトン−、線状C1〜C4−アルキルエステル−またはニトリル末端
基と共にC2またはC3−アルキレン単位を形成し、 Aは配位しないか、または配位しにくいアニオンを表し、かつ x、pは0、1、2または3を表し、 q、nは1、2または3を表す]の遷移金属化合物(III)の存在下ならびに
場合により助触媒の存在下に出発モノマーを配位重合させる。
C6〜C16−アリール、アルキル部に1〜10個のC原子およびアリール部に
6〜14個のC原子を有するアルキルアリール、Si(R6)3、N(R6)(
R7)、OR6、SR6を表すか、またはR1およびR3はCa、Cbおよび場
合によりC´と一緒になって5員、6員または7員の脂肪族または芳香族の置換
または非置換の炭素環または複素環を形成し、 R2、R4はハロゲノ−、ニトロ−、シアノ−、スルホナト−またはトリハロゲ
ンメチル置換基をNaおよびNbに対する両オルト位に有するC4〜C16−へ
テロアリールまたはC6〜C16−アリールを表し、 R5は水素、C1〜C10−アルキル、C6〜C16−アリールまたはアルキル
部に1〜10個のC原子およびアリール部に6〜14個のC原子を有するアルキ
ルアリールを表し、 R6、R7はC1〜C10−アルキル、C6〜C16−アリールまたはアルキル
部に1〜10個のC原子およびアリール部に6〜14個のC原子を有するアルキ
ルアリールを表し、 mは0または1、有利には0を表し、 Mは元素周期系の第VIIIB族の金属を表し、 T、Qは中性またはモノアニオン単座配位子であるか、またはTおよびQは一緒
に、メチルケトン−、線状C1〜C4−アルキルエステル−またはニトリル末端
基と共にC2またはC3−アルキレン単位を形成し、 Aは配位しないか、または配位しにくいアニオンを表し、かつ x、pは0、1、2または3を表し、 q、nは1、2または3を表す]の遷移金属化合物(III)の存在下ならびに
場合により助触媒の存在下に出発モノマーを配位重合させる。
【0008】
さらに遷移金属化合物(III)ならびに主成分として遷移金属化合物(II
I)を、かつ助触媒として強中性ルイス酸、ルイス酸カチオンを有するイオン化
合物またはブレンステッド酸をカチオンとして有するイオン化合物を含有する触
媒系を発見した。さらにオレフィン(コ)ポリマーを製造する際に、遷移金属化
合物(III)ならびに主成分としてこの遷移金属化合物(III)および助触
媒を含有する触媒系を使用することを発見した。
I)を、かつ助触媒として強中性ルイス酸、ルイス酸カチオンを有するイオン化
合物またはブレンステッド酸をカチオンとして有するイオン化合物を含有する触
媒系を発見した。さらにオレフィン(コ)ポリマーを製造する際に、遷移金属化
合物(III)ならびに主成分としてこの遷移金属化合物(III)および助触
媒を含有する触媒系を使用することを発見した。
【0009】
無極性オレフィン性モノマー(I)としては一般式(Ia):
(R8)HC=C(R9)(R10) (Ia)
[式中、置換基は次の意味を有する:
R8からR10は相互に無関係に水素、C1〜C10−アルキル(これは、線状
および分枝鎖アルキル基を意味する)、有利にはC1〜C6−アルキル、例えば
メチル、エチル、n−、i−プロピル、n−、i−またはt−ブチル、C6〜C 16 −アリール(これは、C1〜C6−アルキル、例えばメチル、エチルまたは
i−プロピルで1回、2回または複数回置換されたアリール基、例えばトリルの
ことも意味する)、有利にはC6〜C10−アリール、例えばフェニルまたはナ
フチル、殊にはフェニル、アルキル部に1〜10個、有利には1〜6個のC原子
およびアリール部に6〜14個、有利には6〜10個のC原子を有するアルキル
アリール、例えばベンジルあるいはSi(R11)3(ここでR11はC1〜C 10 −アルキル、C6〜C16−アリールまたはアルキル部に1〜10個のC原
子およびアリール部に6〜16このC原子を有するアルキルアリールを表し、こ
こでこれらの基は、R8からR10で記載した有利なもしくは特別な意味を有し
うる)を表す]の化合物が該当する。
および分枝鎖アルキル基を意味する)、有利にはC1〜C6−アルキル、例えば
メチル、エチル、n−、i−プロピル、n−、i−またはt−ブチル、C6〜C 16 −アリール(これは、C1〜C6−アルキル、例えばメチル、エチルまたは
i−プロピルで1回、2回または複数回置換されたアリール基、例えばトリルの
ことも意味する)、有利にはC6〜C10−アリール、例えばフェニルまたはナ
フチル、殊にはフェニル、アルキル部に1〜10個、有利には1〜6個のC原子
およびアリール部に6〜14個、有利には6〜10個のC原子を有するアルキル
アリール、例えばベンジルあるいはSi(R11)3(ここでR11はC1〜C 10 −アルキル、C6〜C16−アリールまたはアルキル部に1〜10個のC原
子およびアリール部に6〜16このC原子を有するアルキルアリールを表し、こ
こでこれらの基は、R8からR10で記載した有利なもしくは特別な意味を有し
うる)を表す]の化合物が該当する。
【0010】
基R8ならびにR9またはR10はさらに、C=C−二重結合と一緒に炭素環
を形成しうる。好適な環式オレフィン(I)は例えばシクロブテン、シクロペン
テン、シクロヘキセンまたはノルボルネンならびに置換されたノルボルネンであ
る。これらの内、シクロペンテンおよびノルボルネンが有利である。
を形成しうる。好適な環式オレフィン(I)は例えばシクロブテン、シクロペン
テン、シクロヘキセンまたはノルボルネンならびに置換されたノルボルネンであ
る。これらの内、シクロペンテンおよびノルボルネンが有利である。
【0011】
好適な無極性オレフィン性モノマーは1つ、2つまたは複数の末端または内部
二重結合を有していてよい。有利には、末端二重結合1つを有するオレフィン性
不飽和化合物、例えばエテン、プロペン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキ
センまたは1−オクテンを使用する。エテン、プロペン、1−ブテンおよび1−
ヘキセン、殊にエテンが特に有利である。さらに、過フッ化オレフィン、例えば
テトラフルオロエチレンも好適な無極性出発モノマー(I)である。勿論、出発
モノマー(I)の任意の混合物も本発明の方法に使用することができる。
二重結合を有していてよい。有利には、末端二重結合1つを有するオレフィン性
不飽和化合物、例えばエテン、プロペン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキ
センまたは1−オクテンを使用する。エテン、プロペン、1−ブテンおよび1−
ヘキセン、殊にエテンが特に有利である。さらに、過フッ化オレフィン、例えば
テトラフルオロエチレンも好適な無極性出発モノマー(I)である。勿論、出発
モノマー(I)の任意の混合物も本発明の方法に使用することができる。
【0012】
本発明の方法の実施態様の1つでは、更なる出発モノマーとして、分子中に官
能基少なくとも1個を有するα−オレフィンを使用する。
能基少なくとも1個を有するα−オレフィンを使用する。
【0013】
好適な官能基は例えば、カルボン酸−、カルボン酸エステル−、カルボン酸ア
ミド−、カルボン酸無水物−、ヒドロキシ−、エポキシ−、シロキシ−、エーテ
ル−、ケト−、アルデヒド−、アミノ−、ニトリル−、オキサゾリン−、スルホ
ン酸−、スルホン酸エステル−またはハロゲノ官能基である。有利な官能基は特
に、カルボン酸単位に、カルボン酸エステル−、カルボン酸アミド−またはカル
ボン酸無水物基に、ならびにエーテル−またはケト基に由来する。
ミド−、カルボン酸無水物−、ヒドロキシ−、エポキシ−、シロキシ−、エーテ
ル−、ケト−、アルデヒド−、アミノ−、ニトリル−、オキサゾリン−、スルホ
ン酸−、スルホン酸エステル−またはハロゲノ官能基である。有利な官能基は特
に、カルボン酸単位に、カルボン酸エステル−、カルボン酸アミド−またはカル
ボン酸無水物基に、ならびにエーテル−またはケト基に由来する。
【0014】
有利には出発モノマー(II)として一般式:
CH2=C(R12)(R13) (IIa)
[式中、置換基および指数は次の一般的意味を有する:
R12は水素、CN、CF3、C1〜C10−アルキル、C6〜C16−アリー
ルまたはアルキル部に1〜10個のC原子およびアリール部に6〜14個のC原
子を有するアルキルアリール、ピロリドニルまたはカルバゾリルを表し、 R13はCN、C(O)R14、C(O)OR14、C(O)N(R14)(R 15 )、CH2Si(OR16)3、C(O)−O−C(O)R14、O−C1 −〜−O−C10−アルキル、O−C6−〜−O−C16−アリールを表し、こ
こで R14、R15は水素、C1〜C10−アルキル、C2〜C10−アルケニル、
C6〜C16−アリールまたはアルキル部に1〜10個のC原子およびアリール
部に6〜14個のC原子を有するアルキルアリール、エポキシ基を有するC2〜
C10−アルキル基、エポキシ基で置換されたC6〜C16−アリール基または
Si(R16)3を表し、かつ R16はC1〜C10−アルキル、C6〜C16−アリールまたはアルキル部に
1〜10個のC原子およびアリール部に6〜14個のC原子を有するアルキルア
リールを表す]の官能化されたオレフィン性不飽和モノマーを使用する。
ルまたはアルキル部に1〜10個のC原子およびアリール部に6〜14個のC原
子を有するアルキルアリール、ピロリドニルまたはカルバゾリルを表し、 R13はCN、C(O)R14、C(O)OR14、C(O)N(R14)(R 15 )、CH2Si(OR16)3、C(O)−O−C(O)R14、O−C1 −〜−O−C10−アルキル、O−C6−〜−O−C16−アリールを表し、こ
こで R14、R15は水素、C1〜C10−アルキル、C2〜C10−アルケニル、
C6〜C16−アリールまたはアルキル部に1〜10個のC原子およびアリール
部に6〜14個のC原子を有するアルキルアリール、エポキシ基を有するC2〜
C10−アルキル基、エポキシ基で置換されたC6〜C16−アリール基または
Si(R16)3を表し、かつ R16はC1〜C10−アルキル、C6〜C16−アリールまたはアルキル部に
1〜10個のC原子およびアリール部に6〜14個のC原子を有するアルキルア
リールを表す]の官能化されたオレフィン性不飽和モノマーを使用する。
【0015】
官能化されたオレフィン性不飽和コモノマー(II)は末端炭素/炭素二重結
合を有する。これらの化合物の内で、(メタ)アクリル酸ならびに(メタ)アク
リル酸のエステル−およびアミド誘導体、有利にはアクリル酸ならびにアクリル
ニトリルまたはメタクリルニトリルあるいはこれらの混合物が特に好適である。
アクリル酸およびメタクリル酸のC1〜C10−、殊にはC1〜C8−アルキル
エステル、即ち例えば(メタ)アクリル酸メチル、−エチル、−n−、−i−プ
ロピル−、−n−、−i−、−t−ブチル、−ヘキシル、−ジシクロペンタジエ
ニルまたは−2−エチルヘキシルが有利であり、この場合、アルキル基は線状ま
たは分枝鎖であってよい。さらにエステル単位中にエポキシ基1個を有する(メ
タ)アクリレート、例えばグリシジル(メタ)アクリレートならびにアルケニル
基、例えばエチリデンまたはプロピリデンをエステル単位として有する(メタ)
アクリレートが有利である。アクリレートが特に有利である。例えば特に好適な
ものとして、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−ブチル、ア
クリル酸t−ブチル、アクリル酸ジシクロペンタジエニル、アクリル酸グリシジ
ル、アクリル酸2−エチルヘキシルならびにアクリル酸を挙げることができる。
アクリル酸メチルおよびアクリル酸グリシジルが特に有利である。同様にメタク
リルニトリルまたはアクリルニトリルも使用することができる。勿論、コモノマ
ー(II)の任意の混合物も使用することができる。前記のモノマーは自体公知
であり、かつ商業的に入手することができる。
合を有する。これらの化合物の内で、(メタ)アクリル酸ならびに(メタ)アク
リル酸のエステル−およびアミド誘導体、有利にはアクリル酸ならびにアクリル
ニトリルまたはメタクリルニトリルあるいはこれらの混合物が特に好適である。
アクリル酸およびメタクリル酸のC1〜C10−、殊にはC1〜C8−アルキル
エステル、即ち例えば(メタ)アクリル酸メチル、−エチル、−n−、−i−プ
ロピル−、−n−、−i−、−t−ブチル、−ヘキシル、−ジシクロペンタジエ
ニルまたは−2−エチルヘキシルが有利であり、この場合、アルキル基は線状ま
たは分枝鎖であってよい。さらにエステル単位中にエポキシ基1個を有する(メ
タ)アクリレート、例えばグリシジル(メタ)アクリレートならびにアルケニル
基、例えばエチリデンまたはプロピリデンをエステル単位として有する(メタ)
アクリレートが有利である。アクリレートが特に有利である。例えば特に好適な
ものとして、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−ブチル、ア
クリル酸t−ブチル、アクリル酸ジシクロペンタジエニル、アクリル酸グリシジ
ル、アクリル酸2−エチルヘキシルならびにアクリル酸を挙げることができる。
アクリル酸メチルおよびアクリル酸グリシジルが特に有利である。同様にメタク
リルニトリルまたはアクリルニトリルも使用することができる。勿論、コモノマ
ー(II)の任意の混合物も使用することができる。前記のモノマーは自体公知
であり、かつ商業的に入手することができる。
【0016】
前記の官能化されたモノマー(II)の出発濃度は幅広い範囲にわたって変動
させることができ、かつ例えば簡単には、3〜6モル/lの範囲の値にすること
ができる。
させることができ、かつ例えば簡単には、3〜6モル/lの範囲の値にすること
ができる。
【0017】
他に特に記載のない限り、基C1〜C10−アルキル、C3〜C10−シクロ
アルキル、C6〜C16−アリールおよびアルキルアリールは本発明の意味では
置換基として次の一般的かつ有利な意味を有する。C1〜C10−アルキル基に
は例えば、直鎖および分枝鎖の形のメチル−、エチル−、n−またはi−プロピ
ル、n−、i−またはt−ブチル−ならびにペンチル−、ヘキシル−またはヘプ
チル基が該当する。C1〜C10−アルキル基にはモノマー(I)を別に、周期
系の第IVA、VA、VIAまたはVIIA族の元素をベースとする官能基で置
換されているもの、即ち例えば部分的にまたは過ハロゲン化されたアルキル基、
例えばトリクロロメチル、トリフルオロメチル、2,2,2−トリフルオロエチ
ル、ペンタフルオロエチルまたはペンタクロロエチルならびに1個または複数の
エポキシ基を有するアルキル基、例えばプロペンオキシも該当する。本発明の意
味では、C1〜C10−アルキル基には通常、C1〜C8−アルキル基が有利で
ある。
アルキル、C6〜C16−アリールおよびアルキルアリールは本発明の意味では
置換基として次の一般的かつ有利な意味を有する。C1〜C10−アルキル基に
は例えば、直鎖および分枝鎖の形のメチル−、エチル−、n−またはi−プロピ
ル、n−、i−またはt−ブチル−ならびにペンチル−、ヘキシル−またはヘプ
チル基が該当する。C1〜C10−アルキル基にはモノマー(I)を別に、周期
系の第IVA、VA、VIAまたはVIIA族の元素をベースとする官能基で置
換されているもの、即ち例えば部分的にまたは過ハロゲン化されたアルキル基、
例えばトリクロロメチル、トリフルオロメチル、2,2,2−トリフルオロエチ
ル、ペンタフルオロエチルまたはペンタクロロエチルならびに1個または複数の
エポキシ基を有するアルキル基、例えばプロペンオキシも該当する。本発明の意
味では、C1〜C10−アルキル基には通常、C1〜C8−アルキル基が有利で
ある。
【0018】
好適なC3〜C10−シクロアルキル基には、炭素環および複素環、即ち例え
ば置換または非置換のシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロ
ヘキシル、シクロオクチル、ピロリル、ピロリドニルまたはピペリジニルが該当
する。置換された環式脂肪族基には例えば、1−メチルシクロヘキシル、4−t
−ブチルシクロヘキシルおよび2,3−ジメチルシクロプロピルを挙げることが
できる。
ば置換または非置換のシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロ
ヘキシル、シクロオクチル、ピロリル、ピロリドニルまたはピペリジニルが該当
する。置換された環式脂肪族基には例えば、1−メチルシクロヘキシル、4−t
−ブチルシクロヘキシルおよび2,3−ジメチルシクロプロピルを挙げることが
できる。
【0019】
好適なC6〜C16−アリール基にはまったく一般的に、置換および非置換の
アリール基が該当する。非置換のアリール基にはC6〜C10−アリール基、例
えばフェニルおよびナフチルが有利である。フェニルが特に有利である。非置換
および置換されたC6〜C16−アリール基では、炭素原子の表示(例えばC6 −、C10−またはC16−)は芳香族系を形成する炭素原子の数を示している
。可能なアルキル−および/またはアリール置換基からの炭素原子はこの記載で
は考慮されていない。C6〜C16−アリールという記載はしたがって例えば、
置換されたC6〜C16−アリール基、例えば置換されたアントラセニルも含む
。C6〜C16−アリール基には、モノマー(I)は別に、元素周期系の第IV
A、VA、VIAおよびVIIA族からの元素をベースとする官能基で1回、複
数回または過置換されているような基も該当する。好適な官能基はC1〜C10 −アルキル、有利にはC1〜C6−アルキル、C6〜C16−アリール、有利に
はC6〜C10−アリール、トリオルガノシリル、例えばトリメチル−、トリエ
チル−、トリフェニル−またはt−ブチル−ジフェニルシリルならびにアミノ、
例えばNH2、ジメチルアミノ、ジ−i−プロピルアミノ、ジ−n−ブチルアミ
ノ、ジフェニルアミノまたはジベンジルアミノ、C1〜C10−アルコキシ、有
利にはC1〜C6−アルコキシ、例えばメトキシ、エトキシ、n−またはi−プ
ロポキシ、n−、i−またはt−ブトキシあるいはハロゲン、例えばフルオリド
、クロリドまたはブロミドである。
アリール基が該当する。非置換のアリール基にはC6〜C10−アリール基、例
えばフェニルおよびナフチルが有利である。フェニルが特に有利である。非置換
および置換されたC6〜C16−アリール基では、炭素原子の表示(例えばC6 −、C10−またはC16−)は芳香族系を形成する炭素原子の数を示している
。可能なアルキル−および/またはアリール置換基からの炭素原子はこの記載で
は考慮されていない。C6〜C16−アリールという記載はしたがって例えば、
置換されたC6〜C16−アリール基、例えば置換されたアントラセニルも含む
。C6〜C16−アリール基には、モノマー(I)は別に、元素周期系の第IV
A、VA、VIAおよびVIIA族からの元素をベースとする官能基で1回、複
数回または過置換されているような基も該当する。好適な官能基はC1〜C10 −アルキル、有利にはC1〜C6−アルキル、C6〜C16−アリール、有利に
はC6〜C10−アリール、トリオルガノシリル、例えばトリメチル−、トリエ
チル−、トリフェニル−またはt−ブチル−ジフェニルシリルならびにアミノ、
例えばNH2、ジメチルアミノ、ジ−i−プロピルアミノ、ジ−n−ブチルアミ
ノ、ジフェニルアミノまたはジベンジルアミノ、C1〜C10−アルコキシ、有
利にはC1〜C6−アルコキシ、例えばメトキシ、エトキシ、n−またはi−プ
ロポキシ、n−、i−またはt−ブトキシあるいはハロゲン、例えばフルオリド
、クロリドまたはブロミドである。
【0020】
好適なアルキルアリール基には、1〜10個の、有利には1〜6このC原子を
アルキル部に、かつ6〜14個の、有利には6〜10個のC原子をアリール部に
有するもの、ことにはベンジル基が該当する。
アルキル部に、かつ6〜14個の、有利には6〜10個のC原子をアリール部に
有するもの、ことにはベンジル基が該当する。
【0021】
前記の出発モノマーを本発明の方法で遷移金属触媒により一般式(III):
【0022】
【化4】
【0023】
の錯体化合物の存在下に反応させる。
【0024】
基R2およびR4は、それぞれイミン窒素原子NaおよびNbに対する両オル
ト位に、即ちアリール基とイミン窒素原子との間の共有結合に対するオルト位に
電子吸引基、例えばハロゲノ、ニトロ、シアノ、スルホナトまたはトリハロゲン
メチルを有するC4〜C16−へテロアリール−またはC6〜C16−アリール
基である。R2もしくはR4中のオルト位は同じ、または相互に異なる電子吸引
基で置換されていてよい。スルホナト基には殊には、SO3R6、SO3Si(
R6)3およびSO3 +(HN(R5)3)-が該当する。これらの内、それぞ
れSO3Me、SO3SiMe3およびSO3 -(HNEt3)+が特に好適で
ある。トリハロゲンメチル基にはトリフルオロ、トリクロロおよびトリブロモメ
チル、殊にはトリフルオロメチルが特に好適である。特に好適なオルト−置換基
はハロゲン基、例えばフルオロ−、クロロ−、ブロモ−またはヨード基である。
有利にはクロロ−またはブロモ基をオルト置換基として使用する。さらに各オル
ト位は有利には同じ基で占められている。
ト位に、即ちアリール基とイミン窒素原子との間の共有結合に対するオルト位に
電子吸引基、例えばハロゲノ、ニトロ、シアノ、スルホナトまたはトリハロゲン
メチルを有するC4〜C16−へテロアリール−またはC6〜C16−アリール
基である。R2もしくはR4中のオルト位は同じ、または相互に異なる電子吸引
基で置換されていてよい。スルホナト基には殊には、SO3R6、SO3Si(
R6)3およびSO3 +(HN(R5)3)-が該当する。これらの内、それぞ
れSO3Me、SO3SiMe3およびSO3 -(HNEt3)+が特に好適で
ある。トリハロゲンメチル基にはトリフルオロ、トリクロロおよびトリブロモメ
チル、殊にはトリフルオロメチルが特に好適である。特に好適なオルト−置換基
はハロゲン基、例えばフルオロ−、クロロ−、ブロモ−またはヨード基である。
有利にはクロロ−またはブロモ基をオルト置換基として使用する。さらに各オル
ト位は有利には同じ基で占められている。
【0025】
ヘテロアリール−もしくはアリール基R2およびR3はオルト基のほかに1個
または複数の他の置換基を有してもよい。このような置換基として例えば、元素
周期系の第IVA、VA、VIAおよびVIIA族からなる元素をベースとする
官能基が該当する。例えば線状または分枝鎖のC1〜C10−アルキル、有利に
はC1〜C6−アルキル、例えばメチル、エチル、n−またはi−プロピル、n
−、i−またはt−ブチル、部分的にまたは過ハロゲン化されたC1〜C10−
アルキル、有利にはC1〜C6−アルキル、例えばトリフルオロ−またはトリク
ロロメチルまたは2,2,2−トリフルオロエチル、トリオルガノシリル、例え
ばトリメチル−、トリエチル−、トリ−t−ブチル−、トリフェニル−またはt
−ブチル−ジフェニルシリル、ニトロ−、シアノ−またはスルホナト基、アミノ
、例えばNH2、ジメチルアミノ、ジ−i−プロピルアミノ、ジ−n−ブチルア
ミノ、ジフェニルアミノまたはジベンジルアミノ、C1〜C10−アルコキシ、
有利にはC1〜C6−アルコキシ、例えばメトキシ、エトキシ、i−プロポキシ
またはt−ブトキシまたはハロゲン、例えばフルオリド、クロリド、ブロミドま
たはヨージドが好適である。
または複数の他の置換基を有してもよい。このような置換基として例えば、元素
周期系の第IVA、VA、VIAおよびVIIA族からなる元素をベースとする
官能基が該当する。例えば線状または分枝鎖のC1〜C10−アルキル、有利に
はC1〜C6−アルキル、例えばメチル、エチル、n−またはi−プロピル、n
−、i−またはt−ブチル、部分的にまたは過ハロゲン化されたC1〜C10−
アルキル、有利にはC1〜C6−アルキル、例えばトリフルオロ−またはトリク
ロロメチルまたは2,2,2−トリフルオロエチル、トリオルガノシリル、例え
ばトリメチル−、トリエチル−、トリ−t−ブチル−、トリフェニル−またはt
−ブチル−ジフェニルシリル、ニトロ−、シアノ−またはスルホナト基、アミノ
、例えばNH2、ジメチルアミノ、ジ−i−プロピルアミノ、ジ−n−ブチルア
ミノ、ジフェニルアミノまたはジベンジルアミノ、C1〜C10−アルコキシ、
有利にはC1〜C6−アルコキシ、例えばメトキシ、エトキシ、i−プロポキシ
またはt−ブトキシまたはハロゲン、例えばフルオリド、クロリド、ブロミドま
たはヨージドが好適である。
【0026】
オルト−置換されるアリール基にはフェニル−、ナフチル−およびアントラセ
ニル基が有利であり、フェニル−およびナフチル基が特に有利であり、かつフェ
ニルキがことに有利である。これらのオルト置換されるアリール基はそれぞれ、
オルト位ではない位置でも、前記のような元素周期系の第IVA、VA、VIA
およびVIIA族からの元素をベースとする官能基で置換されていてよい。オル
ト−置換されるフェニル基R2、R4では、例えばメチル−、t−ブチル−、ク
ロロ−またはブロモ基でのパラ位での付加的置換が有利である。有利なアリール
基R2、R4は2,6−ジブロモ−、2,6−ジクロロ−、2,6−ジブロモ−
4−メチル−または2,6−ジクロロ−4−メチル−フェニルである。
ニル基が有利であり、フェニル−およびナフチル基が特に有利であり、かつフェ
ニルキがことに有利である。これらのオルト置換されるアリール基はそれぞれ、
オルト位ではない位置でも、前記のような元素周期系の第IVA、VA、VIA
およびVIIA族からの元素をベースとする官能基で置換されていてよい。オル
ト−置換されるフェニル基R2、R4では、例えばメチル−、t−ブチル−、ク
ロロ−またはブロモ基でのパラ位での付加的置換が有利である。有利なアリール
基R2、R4は2,6−ジブロモ−、2,6−ジクロロ−、2,6−ジブロモ−
4−メチル−または2,6−ジクロロ−4−メチル−フェニルである。
【0027】
オルト置換されたC4〜C16−へテロアリール基R2およびR4も同様に、
本発明では置換および非置換のヘテロアリール基を意味し、例えばC4〜C13 −へテロアリール、有利にはC4〜C9−へテロアリール、例えばピロリジル−
(環炭素原子を介してイミン窒素と結合)またはピロリド基(ピロル窒素を介し
てイミン窒素と結合)またはイミダゾリル−(C−N−結合)、イミダゾリド−
(N−N−結合)、ベンゾイミダゾリル−、ベンゾイミダゾリド−、ピラゾリル
−、ピラゾリド−、ピリジニル−、ピリミジニル−、キノリル−またはイソキノ
リル基である。ヘテロアリール基の内、オルト置換されたピロリジル−ならびに
殊にはピロリド基が有利である。特に有利にはこれらのピロリド基は、イミン窒
素原子NaもしくはNbとの結合位置に対するオルト位にハロゲン置換基、例え
ばフルオロ、クロロ、ブロモまたはヨードを有する。有利なヘテロアリール基R 2 、R4は2,5−ジクロロピロリドおよび2,5−ジブロモピロリドである。
本発明では置換および非置換のヘテロアリール基を意味し、例えばC4〜C13 −へテロアリール、有利にはC4〜C9−へテロアリール、例えばピロリジル−
(環炭素原子を介してイミン窒素と結合)またはピロリド基(ピロル窒素を介し
てイミン窒素と結合)またはイミダゾリル−(C−N−結合)、イミダゾリド−
(N−N−結合)、ベンゾイミダゾリル−、ベンゾイミダゾリド−、ピラゾリル
−、ピラゾリド−、ピリジニル−、ピリミジニル−、キノリル−またはイソキノ
リル基である。ヘテロアリール基の内、オルト置換されたピロリジル−ならびに
殊にはピロリド基が有利である。特に有利にはこれらのピロリド基は、イミン窒
素原子NaもしくはNbとの結合位置に対するオルト位にハロゲン置換基、例え
ばフルオロ、クロロ、ブロモまたはヨードを有する。有利なヘテロアリール基R 2 、R4は2,5−ジクロロピロリドおよび2,5−ジブロモピロリドである。
【0028】
(III)中の基R1およびR3として、水素、C1〜C10−アルキル、C 3
〜C10−シクロアルキル、C6〜C16−アリール、アルキル部に1〜10
個のC原子およびアリール部に6〜14個のC原子を有するアルキルアリール、
シリル−(Si(R6)3)、アミノ−(N(R6)(R7)、エーテル−(O
R6)またはチオエーテル基(SR6)が該当する。さらに、基R1およびR3 はCa、Cbおよび場合によりC´と一緒に5員、6員または7員の脂肪族また
は芳香族の置換または非置換の炭素環または複素管を形成してよい。基R1およ
びR3では水素、メチル、エチル、i−プロピル、t−ブチル、メトキシ、エト
キシ、i−プロポキシ、t−ブトキシ、トリフルオロメチル、フェニル、ナフチ
ル、トリル、2−i−プロピルフェニル、2−t−ブチルフェニル、2,6−ジ
−i−プロピルフェニル、2−トリフルオロメチルフェニル、4−メトキシフェ
ニル、ピリジルまたはベンジルならびに殊には水素、メチル、エチル、i−プロ
ピルまたはt−ブチルが有利である。これらの基を有する配位子化合物はK.Vrie
ze und G.Van Koten, Adv. Organomet. Chem., 1982, 21, 151-239に記載されて
いる。有利にR1、R3、CaおよびCbからなる環系では、芳香族系、殊には
フェナントレン−およびカンファー系が有利である(J.Matei, T.Lixandru, Blu
. Inst. Politeh. Isai, 1967, 13, 245も参照)。さらに、複素環系R1、R3 として、WO98/37110に記載されているような1,4−ジチアンが有利
である。
個のC原子およびアリール部に6〜14個のC原子を有するアルキルアリール、
シリル−(Si(R6)3)、アミノ−(N(R6)(R7)、エーテル−(O
R6)またはチオエーテル基(SR6)が該当する。さらに、基R1およびR3 はCa、Cbおよび場合によりC´と一緒に5員、6員または7員の脂肪族また
は芳香族の置換または非置換の炭素環または複素管を形成してよい。基R1およ
びR3では水素、メチル、エチル、i−プロピル、t−ブチル、メトキシ、エト
キシ、i−プロポキシ、t−ブトキシ、トリフルオロメチル、フェニル、ナフチ
ル、トリル、2−i−プロピルフェニル、2−t−ブチルフェニル、2,6−ジ
−i−プロピルフェニル、2−トリフルオロメチルフェニル、4−メトキシフェ
ニル、ピリジルまたはベンジルならびに殊には水素、メチル、エチル、i−プロ
ピルまたはt−ブチルが有利である。これらの基を有する配位子化合物はK.Vrie
ze und G.Van Koten, Adv. Organomet. Chem., 1982, 21, 151-239に記載されて
いる。有利にR1、R3、CaおよびCbからなる環系では、芳香族系、殊には
フェナントレン−およびカンファー系が有利である(J.Matei, T.Lixandru, Blu
. Inst. Politeh. Isai, 1967, 13, 245も参照)。さらに、複素環系R1、R3 として、WO98/37110に記載されているような1,4−ジチアンが有利
である。
【0029】
基R5は有利には水素またはメチル、殊には水素である。
【0030】
(III)中の金属として、元素周期系の第VIIIB族の元素全て、即ち鉄
、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリ
ジウムまたは白金が該当する。有利にはニッケル、ロジウム、パラジウムまたは
白金を使用するが、この際、ニッケルおよびパラジウムならびに殊にはパラジウ
ムが特に有利である。鉄およびコバルトは金属化合物(III)中で一般に、2
価または3価で正に帯電し、パラジウム、白金およびニッケルは2価で正に帯電
し、かつロジウムは3価で正に帯電して存在する。
、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリ
ジウムまたは白金が該当する。有利にはニッケル、ロジウム、パラジウムまたは
白金を使用するが、この際、ニッケルおよびパラジウムならびに殊にはパラジウ
ムが特に有利である。鉄およびコバルトは金属化合物(III)中で一般に、2
価または3価で正に帯電し、パラジウム、白金およびニッケルは2価で正に帯電
し、かつロジウムは3価で正に帯電して存在する。
【0031】
TおよびQは実施態様の1つでは中性および/またはモノアニオンの単座配位
子である。中性配位子としてはルイス塩基、例えばアセトニトリル、ベンゾニト
リル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、アミン、ケトン、ホスファン、
酢酸エチルエステル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミドまたはヘキ
サメチルリン酸トリアミドが該当する。ルイス塩基中性配位子として同様にエテ
ンも好適である。モノアニオン配位子は例えば、置換または非置換のアルキル−
、アリール−またはアシル基あるいはハロゲニドイオンをベースとするカルボア
ニオンである。
子である。中性配位子としてはルイス塩基、例えばアセトニトリル、ベンゾニト
リル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、アミン、ケトン、ホスファン、
酢酸エチルエステル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミドまたはヘキ
サメチルリン酸トリアミドが該当する。ルイス塩基中性配位子として同様にエテ
ンも好適である。モノアニオン配位子は例えば、置換または非置換のアルキル−
、アリール−またはアシル基あるいはハロゲニドイオンをベースとするカルボア
ニオンである。
【0032】
(III)中のTは有利にはモノアニオン基、例えばクロリド、ブロミドまた
はヨージド、メチル、フェニル、ベンジルあるいは金属中心Mに対するβ−位に
水素原子を有さず、かつC1〜C4アルキルエステル−またはニトリル末端基を
有するC1〜C10−アルキルである。配位子Tとしては、ハロゲニド基として
のクロリドおよびブロミドならびにアルキル基としてのメチルが特に有利である
。
はヨージド、メチル、フェニル、ベンジルあるいは金属中心Mに対するβ−位に
水素原子を有さず、かつC1〜C4アルキルエステル−またはニトリル末端基を
有するC1〜C10−アルキルである。配位子Tとしては、ハロゲニド基として
のクロリドおよびブロミドならびにアルキル基としてのメチルが特に有利である
。
【0033】
Qは有利には配位子基、例えばアセトニトリル、ベンゾニトリル、エテン、単
座リン化合物としてのトリフェニルホスフィン、単座芳香族窒素化合物としての
ピリジン、アセテート、プロピオネートまたはブチレート、殊には好適なカルボ
キシレートとしてのアセテート、線状アルキルエーテル、例えば線状ジ−C2〜
C6−アルキルエーテル、例えばジエチルエーテルまたはジ−i−プロピルエー
テル、有利にはジエチルエーテル、環式アルキルエーテル、例えばテトラヒドロ
フランまたはジオキサン、有利にはテトラヒドロフラン、線状C1〜C4−アル
キルエステル、例えば酢酸エチルエステル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホ
ルムアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドまたはハロゲニドである。ニッケル
錯体(III)(M=Ni)の場合、Qは有利にはハロゲニド、例えばクロリド
、ブロミドまたはヨージド、殊にはブロミドであり、パラジウム錯体(M=Pd
)の場合、Qは有利にはアセトニトリル、ジエチルエーテルまたはエテンである
。
座リン化合物としてのトリフェニルホスフィン、単座芳香族窒素化合物としての
ピリジン、アセテート、プロピオネートまたはブチレート、殊には好適なカルボ
キシレートとしてのアセテート、線状アルキルエーテル、例えば線状ジ−C2〜
C6−アルキルエーテル、例えばジエチルエーテルまたはジ−i−プロピルエー
テル、有利にはジエチルエーテル、環式アルキルエーテル、例えばテトラヒドロ
フランまたはジオキサン、有利にはテトラヒドロフラン、線状C1〜C4−アル
キルエステル、例えば酢酸エチルエステル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホ
ルムアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドまたはハロゲニドである。ニッケル
錯体(III)(M=Ni)の場合、Qは有利にはハロゲニド、例えばクロリド
、ブロミドまたはヨージド、殊にはブロミドであり、パラジウム錯体(M=Pd
)の場合、Qは有利にはアセトニトリル、ジエチルエーテルまたはエテンである
。
【0034】
さらに、基TおよびQは一緒になって、メチルケトン−、線状C1〜C4−ア
ルキルエステル−またはニトリル末端基を有するC2〜C3−アルキレン単位で
あってよい。有利にはこの場合、TおよびQは一緒になって−(CH2CH2C
H2C(O)OCH3−単位であってよく、かつこうしてMと一緒に6員環を形
成する。末端メチレン単位がMと共に金属/炭素結合を生じる一方で、カルボニ
ル基は配位により、Mと相互作用する。
ルキルエステル−またはニトリル末端基を有するC2〜C3−アルキレン単位で
あってよい。有利にはこの場合、TおよびQは一緒になって−(CH2CH2C
H2C(O)OCH3−単位であってよく、かつこうしてMと一緒に6員環を形
成する。末端メチレン単位がMと共に金属/炭素結合を生じる一方で、カルボニ
ル基は配位により、Mと相互作用する。
【0035】
ニッケル錯体(III)には、ニッケルジハロゲニド−、有利にはニッケルジ
クロリド−またはニッケルジブロミド−またはニッケルジメチル−錯体(p=0
)が、かつこれらの内、殊にはニッケルジブロミド錯体が有利である。有利なパ
ラジウム錯体ではTはアルキル基、殊にはメチルであり、Qは中性ルイス塩基配
位子、殊にはジエチルエーテル、アセトニトリルまたはエテンである。
クロリド−またはニッケルジブロミド−またはニッケルジメチル−錯体(p=0
)が、かつこれらの内、殊にはニッケルジブロミド錯体が有利である。有利なパ
ラジウム錯体ではTはアルキル基、殊にはメチルであり、Qは中性ルイス塩基配
位子、殊にはジエチルエーテル、アセトニトリルまたはエテンである。
【0036】
配位しないか、または配位しにくいアニオンAとは本発明では、その電荷密度
がアニオン中心で陰性基により低減されているか、かつ/またはその基がアニオ
ン中心を立体的に覆っているようなアニオンを意味する。好適なアニオンAは特
にアンチモネート、スルフェート、スルホネート、ボレート、ホスフェートまた
はペルクロレート、例えばB[C6H3(CF3)2]4 -(テトラキス(3,
5−ビス−(トリフルオロメチル)フェニル)ボレート)、B[C6F5]4 -
またはBF4 -ならびにSbF6 -、AlF4 -、AsF6 -、PF6 -またはトリ
フルオロアセテート(CF3SO3 -)である。B[C6H3(CF3)2]4 - 、SbF6 -およびPF6 -が有利である。特に有利にはボレート、殊にはB[C 6 H3(CF3)2]4 -を使用する。配位しないか、配位しにくい好適なアニ
オンならびにその製造は例えば、S.H.Strauss, Chem. Rev. 1993, 93, 927-942
に、ならびにW.Beck und K.Suenkel, Chem. Rev. 1988, 88, 1405-1421に記載さ
れている。
がアニオン中心で陰性基により低減されているか、かつ/またはその基がアニオ
ン中心を立体的に覆っているようなアニオンを意味する。好適なアニオンAは特
にアンチモネート、スルフェート、スルホネート、ボレート、ホスフェートまた
はペルクロレート、例えばB[C6H3(CF3)2]4 -(テトラキス(3,
5−ビス−(トリフルオロメチル)フェニル)ボレート)、B[C6F5]4 -
またはBF4 -ならびにSbF6 -、AlF4 -、AsF6 -、PF6 -またはトリ
フルオロアセテート(CF3SO3 -)である。B[C6H3(CF3)2]4 - 、SbF6 -およびPF6 -が有利である。特に有利にはボレート、殊にはB[C 6 H3(CF3)2]4 -を使用する。配位しないか、配位しにくい好適なアニ
オンならびにその製造は例えば、S.H.Strauss, Chem. Rev. 1993, 93, 927-942
に、ならびにW.Beck und K.Suenkel, Chem. Rev. 1988, 88, 1405-1421に記載さ
れている。
【0037】
有利な遷移金属化合物(III)は例えば、
ビス−2,3−(2,6−ジブロモフェニルイミン)ブタン−パラジウム(メチ
ル)クロリド、 ビス−2,3−(2,6−ジクロロフェニルイミン)ブタン−パラジウム(メチ
ル)クロリド、 ビス−2,3−(2,6−ジブロモ−4−メチルフェニルイミン)ブタン−パラ
ジウム(メチル)クロリド、 ビス−2,3−(2,6−ジクロロ−4−メチルフェニルイミン)ブタン−パラ
ジウム(メチル)クロリド、 ビス−2,3−(2,6−ジブロモフェニルイミン)ブタン−パラジウム(メチ
ル)(アセトニトリル)−ヘキサフルオロ−アンチモネート、 ビス−2,3−(2,6−ジクロロフェニルイミン)ブタン−パラジウム(メチ
ル)(アセトニトリル)−ヘキサフルオロ−アンチモネート、 ビス−2,3−(2,6−ジブロム−4−メチル−フェニルイミン)ブタン−パ
ラジウム(メチル)(アセトニトリル)−ヘキサフルオロ−アンチモネート、 ビス−2,3−(2,6−ジクロロ−4−メチル−フェニルイミン)ブタン−パ
ラジウム(メチル)(アセトニトリル)−ヘキサフルオロ−アンチモネート、 ビス−2,3−(2,6−ジブロモフェニルイミン)ブタン−パラジウム(メチ
ル)(ジエチル−エーテル)−ヘキサフルオロアンチモネート、 ビス−2,3−(2,6−ジクロロフェニルイミン)ブタン−パラジウム(メチ
ル)(ジエチル−エーテル)−ヘキサフルオロアンチモネート、 ビス−2,3−(2,6−ジブロモ−4−メチルフェニルイミン)ブタン−パラ
ジウム(メチル)(ジエチルエーテル)−ヘキサフルオロアンチモネート、 ビス−2,3−(2,6−ジブロモフェニルイミン)ブタン−パラジウム−η1 −O−メチルカルボキシプロピル−ヘキサフルオロアンチモネート、 ビス−2,3−(2,6−ジクロロフェニルイミン)ブタン−パラジウム−η1 −O−メチルカルボキシプロピル−ヘキサフルオロアンチモネート、 ビス−2,3−(2,6−ジブロモ−4−メチルフェニルイミン)ブタン−パラ
ジウム−η1−O−メチルカルボキシプロピル−ヘキサフルオロアンチモネート
および ビス−2,3−(2,6−ジクロロ−4−メチルフェニルイミン)ブタン−パラ
ジウム−η1−O−メチルカルボキシプロピル−ヘキサフルオロアンチモネート
ならびに相応するニッケルジハロゲニド錯体、殊には前記のジイミン配位子のニ
ッケルジブロミド錯体である。対イオンAとしてのヘキサフルオロアンチモネー
トの代わりに、有利な遷移金属化合物(III)では、テトラキス−(3,5−
ビス−(トリフルオロメチル)フェニル)ボレート(B[C6H3(CF3)2 ]4 -)またはヘキサフルオロフォスフェート(PF6 -)を使用することもでき
る。
ル)クロリド、 ビス−2,3−(2,6−ジクロロフェニルイミン)ブタン−パラジウム(メチ
ル)クロリド、 ビス−2,3−(2,6−ジブロモ−4−メチルフェニルイミン)ブタン−パラ
ジウム(メチル)クロリド、 ビス−2,3−(2,6−ジクロロ−4−メチルフェニルイミン)ブタン−パラ
ジウム(メチル)クロリド、 ビス−2,3−(2,6−ジブロモフェニルイミン)ブタン−パラジウム(メチ
ル)(アセトニトリル)−ヘキサフルオロ−アンチモネート、 ビス−2,3−(2,6−ジクロロフェニルイミン)ブタン−パラジウム(メチ
ル)(アセトニトリル)−ヘキサフルオロ−アンチモネート、 ビス−2,3−(2,6−ジブロム−4−メチル−フェニルイミン)ブタン−パ
ラジウム(メチル)(アセトニトリル)−ヘキサフルオロ−アンチモネート、 ビス−2,3−(2,6−ジクロロ−4−メチル−フェニルイミン)ブタン−パ
ラジウム(メチル)(アセトニトリル)−ヘキサフルオロ−アンチモネート、 ビス−2,3−(2,6−ジブロモフェニルイミン)ブタン−パラジウム(メチ
ル)(ジエチル−エーテル)−ヘキサフルオロアンチモネート、 ビス−2,3−(2,6−ジクロロフェニルイミン)ブタン−パラジウム(メチ
ル)(ジエチル−エーテル)−ヘキサフルオロアンチモネート、 ビス−2,3−(2,6−ジブロモ−4−メチルフェニルイミン)ブタン−パラ
ジウム(メチル)(ジエチルエーテル)−ヘキサフルオロアンチモネート、 ビス−2,3−(2,6−ジブロモフェニルイミン)ブタン−パラジウム−η1 −O−メチルカルボキシプロピル−ヘキサフルオロアンチモネート、 ビス−2,3−(2,6−ジクロロフェニルイミン)ブタン−パラジウム−η1 −O−メチルカルボキシプロピル−ヘキサフルオロアンチモネート、 ビス−2,3−(2,6−ジブロモ−4−メチルフェニルイミン)ブタン−パラ
ジウム−η1−O−メチルカルボキシプロピル−ヘキサフルオロアンチモネート
および ビス−2,3−(2,6−ジクロロ−4−メチルフェニルイミン)ブタン−パラ
ジウム−η1−O−メチルカルボキシプロピル−ヘキサフルオロアンチモネート
ならびに相応するニッケルジハロゲニド錯体、殊には前記のジイミン配位子のニ
ッケルジブロミド錯体である。対イオンAとしてのヘキサフルオロアンチモネー
トの代わりに、有利な遷移金属化合物(III)では、テトラキス−(3,5−
ビス−(トリフルオロメチル)フェニル)ボレート(B[C6H3(CF3)2 ]4 -)またはヘキサフルオロフォスフェート(PF6 -)を使用することもでき
る。
【0038】
遷移金属化合物(III)は本発明の方法では単一化合物として、または複数
の異なる遷移金属化合物(III)からなる混合物の形で触媒として使用するこ
とができる。遷移金属化合物(III)は主な構造要素として、二座ビスイミン
キレート配位子を有する(式(III)で、成分M、T、QおよびAを除くと得
られる構造要素)。これらの二座配位子は例えばグリオキサールまたはジアセチ
ルから、1級アミン、例えば2,6−ジブロモアニリン、2,6−ジクロロアニ
リン、2,6−ジブロモ−4−メチルフェニルアミンまたは2,6−ジクロロ−
4−メチルフェニルアミンと反応させることにより得られる(C.van Koten und
K.Vrieze, Adv. Organome. Chem. 1982, Vol.21, 152-234, Academic Press, Ne
w Yorkも参照)。
の異なる遷移金属化合物(III)からなる混合物の形で触媒として使用するこ
とができる。遷移金属化合物(III)は主な構造要素として、二座ビスイミン
キレート配位子を有する(式(III)で、成分M、T、QおよびAを除くと得
られる構造要素)。これらの二座配位子は例えばグリオキサールまたはジアセチ
ルから、1級アミン、例えば2,6−ジブロモアニリン、2,6−ジクロロアニ
リン、2,6−ジブロモ−4−メチルフェニルアミンまたは2,6−ジクロロ−
4−メチルフェニルアミンと反応させることにより得られる(C.van Koten und
K.Vrieze, Adv. Organome. Chem. 1982, Vol.21, 152-234, Academic Press, Ne
w Yorkも参照)。
【0039】
式中、p=1、2または3を意味する遷移金属化合物は例えば、式中のQがハ
ロゲニド、殊にはクロリドであり、かつTがメチルであるような錯体から得られ
る。通常、これらの錯体をアセトニトリル、ベンゾニトリル、ジメチルスルホキ
シド、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドあるいは線状また
は環式エーテル、例えばアルカリ−または銀塩(M1)+A-(ここでAは配位
しないか、または配位しにくいアニオンの前記の意味を有し、かつM1は例えば
ナトリウム−、カリウム−、リチウム−、セシウム−または銀カチオン、更にナ
トリウム−(テトラ(3,5−ビス−(トリフルオロメチル)フェニル)ボレー
ト)または銀ヘキサフルオロアンチモネートの意味を有する)の存在下に処理す
る。例えば、Mecking et al., J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 888-899に記載さ
れている式(III)の化合物の製法を参照することができる。
ロゲニド、殊にはクロリドであり、かつTがメチルであるような錯体から得られ
る。通常、これらの錯体をアセトニトリル、ベンゾニトリル、ジメチルスルホキ
シド、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドあるいは線状また
は環式エーテル、例えばアルカリ−または銀塩(M1)+A-(ここでAは配位
しないか、または配位しにくいアニオンの前記の意味を有し、かつM1は例えば
ナトリウム−、カリウム−、リチウム−、セシウム−または銀カチオン、更にナ
トリウム−(テトラ(3,5−ビス−(トリフルオロメチル)フェニル)ボレー
ト)または銀ヘキサフルオロアンチモネートの意味を有する)の存在下に処理す
る。例えば、Mecking et al., J. Am. Chem. Soc. 1998, 120, 888-899に記載さ
れている式(III)の化合物の製法を参照することができる。
【0040】
式中のQがハロゲニドである出発化合物は、非配位性溶剤、例えばジクロロメ
タン中で相応するシクロオクタジエン錯体を二座ビスイミンキレート配位子で処
理することにより得ることができる。このような製法は当業者に公知であり、か
つ例えばJohnson et al., J. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 6414およびJ.H.Groen
et al., Organometallics, 1997, 17, 68に記載されている。シクロオクタジエ
ン錯体を製造するために例えば、H.Tom Dieck et al., Z.Naturforschung, 1981
, 36b, 823およびD.Drew und J.R.Doyle, Inorganic Synthesis, 1990, 28, 348
ならびにドイツ特許出願19730867.8を参照することができる。遷移金
属錯体(III)も同様に、(TMEDA)MMe2(TMEDA=N,N,N
´,N´−テトラメチルエチレンジアミン;Me=メチル)のような化合物から
出発して得ることができる。(TMEDA)−錯体は例えば、de Graaf et al.,
Rec. Trav. Chim. Pay-Bas, 1988, 107, 299の処方により、相応するジクロリ
ド錯体から入手することができる。
タン中で相応するシクロオクタジエン錯体を二座ビスイミンキレート配位子で処
理することにより得ることができる。このような製法は当業者に公知であり、か
つ例えばJohnson et al., J. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 6414およびJ.H.Groen
et al., Organometallics, 1997, 17, 68に記載されている。シクロオクタジエ
ン錯体を製造するために例えば、H.Tom Dieck et al., Z.Naturforschung, 1981
, 36b, 823およびD.Drew und J.R.Doyle, Inorganic Synthesis, 1990, 28, 348
ならびにドイツ特許出願19730867.8を参照することができる。遷移金
属錯体(III)も同様に、(TMEDA)MMe2(TMEDA=N,N,N
´,N´−テトラメチルエチレンジアミン;Me=メチル)のような化合物から
出発して得ることができる。(TMEDA)−錯体は例えば、de Graaf et al.,
Rec. Trav. Chim. Pay-Bas, 1988, 107, 299の処方により、相応するジクロリ
ド錯体から入手することができる。
【0041】
さらに、遷移金属錯体(III)はパラジウム(II)ビス(アセトニトリル
)クロリドのような金属塩のルイス塩基付加化合物から出発して、二座ビスイミ
ンキレート配位子で処理することにより得ることができる(G.K.Anderson, M.Li
n, Inorg. Synth. 1990, 28, 61ならびにR.R.Thomas, A.Sen, Inorg. Synth. 19
90, 28,63も参照)。生じたハロゲン金属ジイミン錯体はテトラメチルスズ(S
nMe4)(EP−A0380162も参照)のようなアルキル化試薬を用いて
相応するモノアルキル誘導体に変えることができる。
)クロリドのような金属塩のルイス塩基付加化合物から出発して、二座ビスイミ
ンキレート配位子で処理することにより得ることができる(G.K.Anderson, M.Li
n, Inorg. Synth. 1990, 28, 61ならびにR.R.Thomas, A.Sen, Inorg. Synth. 19
90, 28,63も参照)。生じたハロゲン金属ジイミン錯体はテトラメチルスズ(S
nMe4)(EP−A0380162も参照)のようなアルキル化試薬を用いて
相応するモノアルキル誘導体に変えることができる。
【0042】
遷移金属錯体(III)を製造するための出発点は適当な金属塩、例えば塩化
コバルト(II)、臭化コバルト(II)、塩化鉄(III)ならびに殊には塩
化ニッケル(II)、塩化ロジウム(III)、臭化パラジウム(II)、塩化
パラジウム(II)または塩化白金(II)である。臭化ニッケル(II)およ
び塩化パラジウム(II)が特に有利である。これらの金属塩ならびにその製造
は一般に文献公知であり、かつ往々にして市場で入手することができる。
コバルト(II)、臭化コバルト(II)、塩化鉄(III)ならびに殊には塩
化ニッケル(II)、塩化ロジウム(III)、臭化パラジウム(II)、塩化
パラジウム(II)または塩化白金(II)である。臭化ニッケル(II)およ
び塩化パラジウム(II)が特に有利である。これらの金属塩ならびにその製造
は一般に文献公知であり、かつ往々にして市場で入手することができる。
【0043】
もう1つの実施態様では、遷移金属化合物(III)の他に助触媒を併用する
ことができる。好適な助触媒には、強中性ルイス酸、ルイス酸カチオンを有する
イオン化合物およびブレンステッド酸をカチオンとして有するイオン化合物が含
まれる。
ことができる。好適な助触媒には、強中性ルイス酸、ルイス酸カチオンを有する
イオン化合物およびブレンステッド酸をカチオンとして有するイオン化合物が含
まれる。
【0044】
強中性ルイス酸として、一般式:
M3X1X2X3 IVa
[式中、M2は周期系の第III主族の元素を表し、殊にはB、AlまたはGa
を、有利にはBを表し、かつ X1、X2、X3は相互に無関係に水素、線状または分枝鎖のC1〜C10−ア
ルキル、有利にはC1〜C8−アルキル、例えばメチル、エチル、n−プロピル
、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、t−ブチルまたはn−ヘキシル、1
回または複数回、ハロゲン原子、例えばフッ素、塩素、臭素またはヨウ素で置換
されたC1〜C10−アルキル、有利にはC1〜C8−アルキル、C6〜C16 −アリール、有利にはC6〜C10−アリール、例えばフェニル(これは、例え
ばハロゲン原子、例えばフッ素、塩素、臭素またはヨウ素で1回または複数回置
換されていてもよく、例えばペンタフルオロフェニル)、アルキル部に1〜10
個、有利には1〜6個のC原子を有し、かつアリール部に6〜14個、有利には
6〜10個のC原子を有するアルキルアリール、例えばベンジルまたはフッ素、
塩素、臭素またはヨウ素であってよい]の化合物が有利である。
を、有利にはBを表し、かつ X1、X2、X3は相互に無関係に水素、線状または分枝鎖のC1〜C10−ア
ルキル、有利にはC1〜C8−アルキル、例えばメチル、エチル、n−プロピル
、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、t−ブチルまたはn−ヘキシル、1
回または複数回、ハロゲン原子、例えばフッ素、塩素、臭素またはヨウ素で置換
されたC1〜C10−アルキル、有利にはC1〜C8−アルキル、C6〜C16 −アリール、有利にはC6〜C10−アリール、例えばフェニル(これは、例え
ばハロゲン原子、例えばフッ素、塩素、臭素またはヨウ素で1回または複数回置
換されていてもよく、例えばペンタフルオロフェニル)、アルキル部に1〜10
個、有利には1〜6個のC原子を有し、かつアリール部に6〜14個、有利には
6〜10個のC原子を有するアルキルアリール、例えばベンジルまたはフッ素、
塩素、臭素またはヨウ素であってよい]の化合物が有利である。
【0045】
基X1、X2、X3では、ハロゲン置換基を有するものが特に有利である。ペ
ンタフルオロフェニルを有利なものとして挙げることができる。式中のX1、X 2 、X3が同一である一般式(IVa)の化合物、有利にはトリス(ペンタフル
オロフェニル)ボランが特に有利である。
ンタフルオロフェニルを有利なものとして挙げることができる。式中のX1、X 2 、X3が同一である一般式(IVa)の化合物、有利にはトリス(ペンタフル
オロフェニル)ボランが特に有利である。
【0046】
強中性ルイス酸として、助触媒ではさらに、アルモキサン化合物(Alumoxanve
rbindung)を使用するのが有利である。アルモキサン化合物には原則的に、Al
−C結合を有する化合物が該当する。助触媒として、一般式(IVb)または(
IVc):
rbindung)を使用するのが有利である。アルモキサン化合物には原則的に、Al
−C結合を有する化合物が該当する。助触媒として、一般式(IVb)または(
IVc):
【0047】
【化5】
【0048】
[式中、
R17は相互に無関係にC1〜C4−アルキル基を表し、有利にはメチル−また
はエチル基を表し、かつkは5〜30、有利には10〜25の整数である]の開
鎖および/または環式アルモキサン化合物が特に好適である。
はエチル基を表し、かつkは5〜30、有利には10〜25の整数である]の開
鎖および/または環式アルモキサン化合物が特に好適である。
【0049】
これらのオリゴマーアルモキサン化合物の製造は通常、トリアルキルアルミニ
ウムの溶液と水とを反応させることにより行い、かつ特にEP−A028470
8およびUS−A4794096に記載されている。
ウムの溶液と水とを反応させることにより行い、かつ特にEP−A028470
8およびUS−A4794096に記載されている。
【0050】
通常、この場合に得られるオリゴマーアルモキサン化合物は、様々な長い線状
および環式鎖状分子の混合物として存在するので、mは平均値とみなすべきであ
る。アルモキサン化合物は他の金属アルキレンとの、有利にはアルミニウムアル
キレン、例えばトリイソブチルアルミニウムまたはトリエチルアルミニウムとの
混合物として存在してもよい。有利にはメチルアルモキサン(MAO)を、殊に
はトルエン中の溶液の形で使用する。メチルアルモキサンの製造は例えば、EP
−A284708中に詳細に記載されている。
および環式鎖状分子の混合物として存在するので、mは平均値とみなすべきであ
る。アルモキサン化合物は他の金属アルキレンとの、有利にはアルミニウムアル
キレン、例えばトリイソブチルアルミニウムまたはトリエチルアルミニウムとの
混合物として存在してもよい。有利にはメチルアルモキサン(MAO)を、殊に
はトルエン中の溶液の形で使用する。メチルアルモキサンの製造は例えば、EP
−A284708中に詳細に記載されている。
【0051】
さらに助触媒として、US−A5391793に記載されているようなアリー
ルオキシアルモキサン、US−A5371260に記載されているようなアミド
アルミノキサン、EP−A0633264に記載されているようなアミノアルミ
ノキサンヒドロクロリド、EP−A0621279に記載されているようなシロ
キシアルミノキサンまたはアルモキサン混合物を使用することができる。
ルオキシアルモキサン、US−A5371260に記載されているようなアミド
アルミノキサン、EP−A0633264に記載されているようなアミノアルミ
ノキサンヒドロクロリド、EP−A0621279に記載されているようなシロ
キシアルミノキサンまたはアルモキサン混合物を使用することができる。
【0052】
前記のアルモキサンはそのままで、または例えば脂肪族または芳香族炭化水素
、例えばトルエンまたはキシレン中の溶液または懸濁液の形で、またはそれらの
混合物の形で使用する。
、例えばトルエンまたはキシレン中の溶液または懸濁液の形で、またはそれらの
混合物の形で使用する。
【0053】
ルイス酸カチオンを有する好適なイオン化合物は一般式:
G1+(TX4X5X6X7)1 − (IId)
[式中、
Gは元素周期系の第IまたはII主族の元素、例えばリチウム、ナトリウム、カ
リウム、ルビジウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウムま
たはバリウム、殊にはリチウムまたはナトリウムあるいは銀−、カルボニウム−
、オキソニウム−、アンモニウム−、スルホニウム−または1,1´−ジメチル
フェロセニルカチオンを表し、 Tは元素周期系の第III主族の元素、殊にはホウ素、アルミニウムまたはガリ
ウム、有利にはホウ素を表し、 X4〜X7は相互に無関係に水素、線状または分枝鎖C1〜C10−アルキル、
有利にはC1〜C8−アルキル、例えばメチル、エチル、n−プロピル、i−プ
ロピル、n−ブチル、i−ブチル、t−ブチルまたはn−ヘキシル、1回または
複数回、例えばハロゲン原子、例えばフルオロ、クロロ、ブロモまたはヨードで
置換されたC1〜C10−アルキル、有利にはC1〜C8−アルキル、C6〜C 16 −アリール、有利にはC6〜C10−アリール、例えばフェニル(これは例
えば、ハロゲン原子、例えばフルオロ、クロロ、ブロモまたはヨードで1回また
は複数回置換されていてよく、例えばペンタフルオロフェニル)、アルキル部に
1〜10個のC原子、有利には1〜6個のC原子を有し、かつアリール部に6〜
14個のC原子、有利には6〜10個のC原子を有するアルキルアリール、例え
ばベンジル、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード、C1〜C10−アルコキシ、
有利にはC1〜C8−アルコキシ、例えばメトキシ、エトキシまたはi−プロポ
キシ、あるいはC6〜C16−アリールオキシ、有利にはC6〜C10−アリー
ルオキシ、例えばフェノキシであり、かつ lは1または2を表す]に該当する。
リウム、ルビジウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウムま
たはバリウム、殊にはリチウムまたはナトリウムあるいは銀−、カルボニウム−
、オキソニウム−、アンモニウム−、スルホニウム−または1,1´−ジメチル
フェロセニルカチオンを表し、 Tは元素周期系の第III主族の元素、殊にはホウ素、アルミニウムまたはガリ
ウム、有利にはホウ素を表し、 X4〜X7は相互に無関係に水素、線状または分枝鎖C1〜C10−アルキル、
有利にはC1〜C8−アルキル、例えばメチル、エチル、n−プロピル、i−プ
ロピル、n−ブチル、i−ブチル、t−ブチルまたはn−ヘキシル、1回または
複数回、例えばハロゲン原子、例えばフルオロ、クロロ、ブロモまたはヨードで
置換されたC1〜C10−アルキル、有利にはC1〜C8−アルキル、C6〜C 16 −アリール、有利にはC6〜C10−アリール、例えばフェニル(これは例
えば、ハロゲン原子、例えばフルオロ、クロロ、ブロモまたはヨードで1回また
は複数回置換されていてよく、例えばペンタフルオロフェニル)、アルキル部に
1〜10個のC原子、有利には1〜6個のC原子を有し、かつアリール部に6〜
14個のC原子、有利には6〜10個のC原子を有するアルキルアリール、例え
ばベンジル、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード、C1〜C10−アルコキシ、
有利にはC1〜C8−アルコキシ、例えばメトキシ、エトキシまたはi−プロポ
キシ、あるいはC6〜C16−アリールオキシ、有利にはC6〜C10−アリー
ルオキシ、例えばフェノキシであり、かつ lは1または2を表す]に該当する。
【0054】
有利には、一般式(IVd)の化合物中のアニオン(TX4X5X6X7)-
は非配位性対イオンである。この場合にかなり関連するWO91/09882に
挙げられているような、ホウ素化合物を強調することができる。特に好適なカチ
オンGはナトリウム−またはトリフェニルメチルカチオンに、ならびにテトラア
ルキルアンモニウムカチオン、例えばテトラメチル−、テトラエチル−またはテ
トラ−n−ブチルアンモニウムまたはテトラアルキルホスホニウムカチオン、例
えばテトラメチル−、テトラエチル−またはテトラ−n−ブチルホスホニウムに
由来する。有利な化合物(IVd)は例えば、ナトリウム−テトラキス(ペンタ
フルオロフェニル)ボレートまたはナトリウム−テトラキス[ビス(トリフルオ
ロメチル)フェニル]ボレートである。
は非配位性対イオンである。この場合にかなり関連するWO91/09882に
挙げられているような、ホウ素化合物を強調することができる。特に好適なカチ
オンGはナトリウム−またはトリフェニルメチルカチオンに、ならびにテトラア
ルキルアンモニウムカチオン、例えばテトラメチル−、テトラエチル−またはテ
トラ−n−ブチルアンモニウムまたはテトラアルキルホスホニウムカチオン、例
えばテトラメチル−、テトラエチル−またはテトラ−n−ブチルホスホニウムに
由来する。有利な化合物(IVd)は例えば、ナトリウム−テトラキス(ペンタ
フルオロフェニル)ボレートまたはナトリウム−テトラキス[ビス(トリフルオ
ロメチル)フェニル]ボレートである。
【0055】
ブレンステッド酸をカチオンとして、かつ有利には同様に非配位性対イオンを
有するイオン化合物は、この場合にかなり関連するWO91/09882に挙げ
られている。カチオンとして例えばN,N−ジメチルアニリニウムが有利である
。
有するイオン化合物は、この場合にかなり関連するWO91/09882に挙げ
られている。カチオンとして例えばN,N−ジメチルアニリニウムが有利である
。
【0056】
勿論、前記の助触媒の混合物も使用することができる。開鎖または環式アルモ
キサン化合物が助触媒として、M=Niである錯体化合物(III)のために特
に好適である。
キサン化合物が助触媒として、M=Niである錯体化合物(III)のために特
に好適である。
【0057】
官能化されたコモノマー(II)の存在下に重合を行う場合には殊に、少量の
ラジカル抑制剤を添加するのが有利であると判明している。ラジカル抑制剤とし
て、OH基に対してビシナルに少なくとも1個の嵩だかな基を有する、嵩だかな
基で覆われた芳香族モノヒドロキシ化合物、有利にはフェノールが該当する。こ
れらのラジカル抑制剤は例えばDE−A2702661(=US4360617
)に記載されている。
ラジカル抑制剤を添加するのが有利であると判明している。ラジカル抑制剤とし
て、OH基に対してビシナルに少なくとも1個の嵩だかな基を有する、嵩だかな
基で覆われた芳香族モノヒドロキシ化合物、有利にはフェノールが該当する。こ
れらのラジカル抑制剤は例えばDE−A2702661(=US4360617
)に記載されている。
【0058】
好適なフェノール性化合物はアルキルフェノール、ヒドロキシフェノールプロ
ピオネート、アミノフェノール、ビスフェノールまたはアルキリデンビスフェノ
ールの化合物群から採ることができる。好適なフェノールのもう1つの群は置換
された安息香カルボン酸(Benzoecarbonsaeure)に、ことには置換された安息香
プロピオン酸(Benzoepropionsaeure)に由来する。
ピオネート、アミノフェノール、ビスフェノールまたはアルキリデンビスフェノ
ールの化合物群から採ることができる。好適なフェノールのもう1つの群は置換
された安息香カルボン酸(Benzoecarbonsaeure)に、ことには置換された安息香
プロピオン酸(Benzoepropionsaeure)に由来する。
【0059】
立体障害フェノールの化合物群の例としてビス(2,6−t−ブチル)−4−メ
チルフェノール(BHT)、4−メトキシメチル−2,6−ジ−t−ブチルフェ
ノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシメチルフェノール、1,3,
5−トリメチル−2,4,6−トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロ
キシベンジル)−ベンゼン、4,4´−メチレン−ビス−(2,6−ジ−t−ブ
チルフェノール)、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸−2,4
−ジ−t−ブチルフェニルエステル、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル
)プロパン(ビスフェノールA)、4,4´−ジヒドロキシビフェニル(DOD
)、2,2´−メチレン−ビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、1
,6−ヘキサンジオール−ビス−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキ
シフェニル)プロピオネート)、オクタデシル−3−(3,5−ビス(t−ブチ
ル)−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート、3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシベンジルジメチルアミン、2,6,6−トリオキシ−1−フォス
ファビシクロ−(2.2.2)オクチ−4−イル−メチル−3,5−ジ−t−ブ
チル−4−ヒドロキシヒドロケイヒ酸エステルおよびN,N´−ヘキサメチレン
−ビス−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシヒドロケイヒ酸アミドを挙げ
ることができる。前記の立体障害フェノールのうちで、ビス(2,6−(C1〜
C10−アルキル)−4−(C1〜C10−アルキル)フェノール、殊にビス(
2,6−t−ブチル)−4−メチルフェノールおよびビス(2,6−メチル)−4
−メチル−フェノールが有利である。ビス(2,6−t−ブチル)−4−メチル
フェノールが特に有利である。
チルフェノール(BHT)、4−メトキシメチル−2,6−ジ−t−ブチルフェ
ノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシメチルフェノール、1,3,
5−トリメチル−2,4,6−トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロ
キシベンジル)−ベンゼン、4,4´−メチレン−ビス−(2,6−ジ−t−ブ
チルフェノール)、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸−2,4
−ジ−t−ブチルフェニルエステル、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル
)プロパン(ビスフェノールA)、4,4´−ジヒドロキシビフェニル(DOD
)、2,2´−メチレン−ビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、1
,6−ヘキサンジオール−ビス−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキ
シフェニル)プロピオネート)、オクタデシル−3−(3,5−ビス(t−ブチ
ル)−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート、3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシベンジルジメチルアミン、2,6,6−トリオキシ−1−フォス
ファビシクロ−(2.2.2)オクチ−4−イル−メチル−3,5−ジ−t−ブ
チル−4−ヒドロキシヒドロケイヒ酸エステルおよびN,N´−ヘキサメチレン
−ビス−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシヒドロケイヒ酸アミドを挙げ
ることができる。前記の立体障害フェノールのうちで、ビス(2,6−(C1〜
C10−アルキル)−4−(C1〜C10−アルキル)フェノール、殊にビス(
2,6−t−ブチル)−4−メチルフェノールおよびビス(2,6−メチル)−4
−メチル−フェノールが有利である。ビス(2,6−t−ブチル)−4−メチル
フェノールが特に有利である。
【0060】
さらに、立体障害フェノールの代わりに、またはこれに加えて、ラジカル抑制
剤としてテトラアルキルピペリジン−N−オキシラジカルを使用することができ
る。例えば、2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジニルオキシ(TEM
PO)、4−オキソ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジニルオキシ
(4−オキソ−TEMPO)、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル
−1−ピペリジニルオキシ、2,2,5,5−テトラメチル−1−ピロリジニル
オキシ、3−カルボキシ−2,2,5,5−テトラメチル−ピロリジニルオキシ
またはジ−t−ブチルニトロキシドが好適である。2,6−ジフェニル−2,6
−ジメチル−1−ピペリジニルオキシならびに2,5−ジフェニル−2,5−ジ
メチル−1−ピロリジニルオキシも同様に使用することができる。様々なN−オ
キシル基の混合物ももちろん、可能である。
剤としてテトラアルキルピペリジン−N−オキシラジカルを使用することができ
る。例えば、2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジニルオキシ(TEM
PO)、4−オキソ−2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジニルオキシ
(4−オキソ−TEMPO)、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチル
−1−ピペリジニルオキシ、2,2,5,5−テトラメチル−1−ピロリジニル
オキシ、3−カルボキシ−2,2,5,5−テトラメチル−ピロリジニルオキシ
またはジ−t−ブチルニトロキシドが好適である。2,6−ジフェニル−2,6
−ジメチル−1−ピペリジニルオキシならびに2,5−ジフェニル−2,5−ジ
メチル−1−ピロリジニルオキシも同様に使用することができる。様々なN−オ
キシル基の混合物ももちろん、可能である。
【0061】
前記のラジカル抑制剤はそのままで、または好適な不活性溶剤、例えばトルエ
ンあるいはハロゲン化炭化水素、例えばジクロロメタンまたはクロロホルムに溶
かして添加することができる。
ンあるいはハロゲン化炭化水素、例えばジクロロメタンまたはクロロホルムに溶
かして添加することができる。
【0062】
通常、本発明の方法の完璧な進行を保証するために、嵩だかな基で覆われた芳
香族モノヒドロキシ化合物または嵩だかな基で覆われたN−オキシル−ラジカル
化合物の量は、官能化されたオレフィン性不飽和モノマーの出発量に対して20
0ppm未満、100ppm未満、更に20ppm未満ですでに十分である。こ
れは10ppm、5ppm、さらに2ppm未満の量でも成功する。他方で、反
応混合物中の遷移金属化合物の濃度を2倍、3倍またはさらに4倍ほど上回るラ
ジカル抑制剤の濃度も許容される。
香族モノヒドロキシ化合物または嵩だかな基で覆われたN−オキシル−ラジカル
化合物の量は、官能化されたオレフィン性不飽和モノマーの出発量に対して20
0ppm未満、100ppm未満、更に20ppm未満ですでに十分である。こ
れは10ppm、5ppm、さらに2ppm未満の量でも成功する。他方で、反
応混合物中の遷移金属化合物の濃度を2倍、3倍またはさらに4倍ほど上回るラ
ジカル抑制剤の濃度も許容される。
【0063】
本発明の方法による(コ)ポリマーの製造は脂肪族または芳香族非プロトン性
溶剤中で、例えばヘプタン、i−ブタン、トルエンまたはベンゼン中で、更に極
性非プロトン製溶剤中でも実施することができる。好適な極性非プロトン性溶剤
は例えばハロゲン化炭化水素、例えばジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭
素またはクロロベンゼン、線状または環式エーテル、例えばジエチルエーテルま
たはテトラヒドロフラン、更にアセトン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホル
ムアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドまたはアセトニトリルである。もちろ
ん前記の溶剤の任意の、有利には均一な混合物も使用することができる。ジクロ
ロメタン、クロロホルム、トルエン、クロロベンゼンおよびアセトニトリルなら
びにこれらの混合物が特に有利である。
溶剤中で、例えばヘプタン、i−ブタン、トルエンまたはベンゼン中で、更に極
性非プロトン製溶剤中でも実施することができる。好適な極性非プロトン性溶剤
は例えばハロゲン化炭化水素、例えばジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭
素またはクロロベンゼン、線状または環式エーテル、例えばジエチルエーテルま
たはテトラヒドロフラン、更にアセトン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホル
ムアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドまたはアセトニトリルである。もちろ
ん前記の溶剤の任意の、有利には均一な混合物も使用することができる。ジクロ
ロメタン、クロロホルム、トルエン、クロロベンゼンおよびアセトニトリルなら
びにこれらの混合物が特に有利である。
【0064】
通常、出発化合物が反応の開始時に溶解した形で存在するように、溶剤量を決
定する。遷移金属で触媒される重合法は塊状でも、または気相でも実施すること
ができる。気相での重合では、遷移金属化合物(III)を担持された形で使用
することもできる。担体材料として無機および有機材料が該当する。好適な無機
担体材料は例えば、シリカゲル、酸化アルミニウム、−マグネシウム、−チタン
、−ジルコニウム、−ホウ素、−カルシウムまたは−亜鉛、アルミノケイ酸塩、
ポリシロキサン、タルク、層状ケイ酸塩、ゼオライトまたは金属ハロゲン化物、
例えばMgCl2である。有機担体材料は例えば、本発明の方法で例えば得られ
るようなオレフィン(コ)ポリマーのプレポリマーに由来する。好適な担持方法
は当業者に公知であり、かつ特に担持されたチーグラー−ナッタ触媒に関しては
Makromol. Chem. Phys. 1994, 195, 3347, Macromol. Rapid Commun. 1994, 15,
139-143およびAngew. Chem. Int. Ed. Engl. 1995, 34, 1143-1170)ならびに担
持されたメタロセン触媒に関してはEP−A−0308177ならびにUS48
97455、US4912075およびUS5240894に記載されている。
定する。遷移金属で触媒される重合法は塊状でも、または気相でも実施すること
ができる。気相での重合では、遷移金属化合物(III)を担持された形で使用
することもできる。担体材料として無機および有機材料が該当する。好適な無機
担体材料は例えば、シリカゲル、酸化アルミニウム、−マグネシウム、−チタン
、−ジルコニウム、−ホウ素、−カルシウムまたは−亜鉛、アルミノケイ酸塩、
ポリシロキサン、タルク、層状ケイ酸塩、ゼオライトまたは金属ハロゲン化物、
例えばMgCl2である。有機担体材料は例えば、本発明の方法で例えば得られ
るようなオレフィン(コ)ポリマーのプレポリマーに由来する。好適な担持方法
は当業者に公知であり、かつ特に担持されたチーグラー−ナッタ触媒に関しては
Makromol. Chem. Phys. 1994, 195, 3347, Macromol. Rapid Commun. 1994, 15,
139-143およびAngew. Chem. Int. Ed. Engl. 1995, 34, 1143-1170)ならびに担
持されたメタロセン触媒に関してはEP−A−0308177ならびにUS48
97455、US4912075およびUS5240894に記載されている。
【0065】
通常、共重合を−40〜160℃の範囲、有利には−20〜100℃の範囲、
かつ特に有利には0〜80℃の範囲の温度で実施する。反応時間は一般的に、選
択された反応条件に応じて、1〜2時間から数日間である。気体反応成分、例え
ばエテンは反応混合物に噴入する。
かつ特に有利には0〜80℃の範囲の温度で実施する。反応時間は一般的に、選
択された反応条件に応じて、1〜2時間から数日間である。気体反応成分、例え
ばエテンは反応混合物に噴入する。
【0066】
共重合は一般的に、0.1〜200バール、有利には0.5〜100バール、
かつ特に有利には1〜80バールの範囲の圧力で実施する。
かつ特に有利には1〜80バールの範囲の圧力で実施する。
【0067】
遷移金属化合物(III)の濃度を一般的に、10- 6〜0.1モル/lの範
囲、有利には10- 5〜10- 2モル/lの範囲、かつ特に有利には5×10- 5
〜5×10- 2モル/lの範囲の値に調節する。
囲、有利には10- 5〜10- 2モル/lの範囲、かつ特に有利には5×10- 5
〜5×10- 2モル/lの範囲の値に調節する。
【0068】
非極性オレフィン(I)の出発濃度は一般的に、10- 3〜10モル/lの範
囲、有利には10- 2〜5モル/lの範囲である。官能基で置換されたα−オレ
フィン(II)の出発濃度は通常、10- 5〜8モル/l、有利には10- 3〜7
モル/l、かつ特に有利には10- 1〜6.8モル/lの範囲である。
囲、有利には10- 2〜5モル/lの範囲である。官能基で置換されたα−オレ
フィン(II)の出発濃度は通常、10- 5〜8モル/l、有利には10- 3〜7
モル/l、かつ特に有利には10- 1〜6.8モル/lの範囲である。
【0069】
出発混合物中での官能化されたモノマーと非極性モノマーとのモル比は通常、
10- 3:1〜1000:1の範囲、有利には10- 1:1〜100:1、特に有
利には0.1:1〜20:1の範囲である。
10- 3:1〜1000:1の範囲、有利には10- 1:1〜100:1、特に有
利には0.1:1〜20:1の範囲である。
【0070】
ラジカル抑制剤と官能化されたモノマー(II)との出発モル比は一般的に、
10- 8:1〜10- 1:1、有利には10- 7:1〜10- 2:1、かつ特に有利
には5×10- 7:1〜10- 4:1の範囲で変動する。
10- 8:1〜10- 1:1、有利には10- 7:1〜10- 2:1、かつ特に有利
には5×10- 7:1〜10- 4:1の範囲で変動する。
【0071】
重合は失活化試薬、例えばトリフェニルホスフィンを添加することにより、ま
たは低分子量アルコール、例えばメタノールまたはエタノールを添加することに
より中断させることができる。
たは低分子量アルコール、例えばメタノールまたはエタノールを添加することに
より中断させることができる。
【0072】
本発明の方法で得られる(コ)ポリマーは1.1〜2.5、有利には1.1〜
1.8の範囲の分子量分布Mw/Mnならびに通常≦−40℃、有利には≦−5
0℃、かつニッケル遷移金属化合物(III)の場合には通常≦−20℃のガラ
ス転移温度を有する。
1.8の範囲の分子量分布Mw/Mnならびに通常≦−40℃、有利には≦−5
0℃、かつニッケル遷移金属化合物(III)の場合には通常≦−20℃のガラ
ス転移温度を有する。
【0073】
C原子1000個当たりのアルキル分枝の数は、得られた(コ)ポリマーでは
通常、例えば(III)中M=Pdの場合、100を上回る。式中M=Niであ
る遷移金属化合物(III)を用いるとこれに対して、非常に高いレベルの直線
性を有する(コ)ポリマー、例えばポリエチレンが得られる。
通常、例えば(III)中M=Pdの場合、100を上回る。式中M=Niであ
る遷移金属化合物(III)を用いるとこれに対して、非常に高いレベルの直線
性を有する(コ)ポリマー、例えばポリエチレンが得られる。
【0074】
本発明の方法では、モノマー(I)からなるホモ−およびコポリマーならびに
モノマー(I)および(II)からなるコポリマーが得られる。この方法は連続
的にも、断続的にも実施することができる。
モノマー(I)および(II)からなるコポリマーが得られる。この方法は連続
的にも、断続的にも実施することができる。
【0075】
遷移金属化合物(III)は高い活性を特徴とし、これに加えて長時間の重合
時間でも活性損失を示さず、かつこれにより高い生産性を保証する。
時間でも活性損失を示さず、かつこれにより高い生産性を保証する。
【0076】
本発明を次では、例に基づき詳述する。
【0077】
例
ゲル浸透クロマトグラフィーをWaters社の装置(Styragel)で、溶離剤として
テトラヒドロフランを用いて、ポリスチレン標準に対して実施した。検出を屈折
率の測定を介して行った。
テトラヒドロフランを用いて、ポリスチレン標準に対して実施した。検出を屈折
率の測定を介して行った。
【0078】
13C−NMRスペクトルをBruker社の装置(ARX300)で、溶剤としてC
DCl3もしくはC2D2Cl4を用いて記録した。1H−NMRスペクトルを
Bruker社の装置(ARX300)で、溶剤としてCDCl3もしくはC2D2Cl
4を用いて記録した。
DCl3もしくはC2D2Cl4を用いて記録した。1H−NMRスペクトルを
Bruker社の装置(ARX300)で、溶剤としてCDCl3もしくはC2D2Cl
4を用いて記録した。
【0079】
DSCスペクトルをPerkin-Elmer社の装置(Series 7)で、発熱率20K/分
で記録した。
で記録した。
【0080】
重合反応をBrookhart el al., J. Am. Chem. Soc. 1996, 118, 267-268に記載
の条件により実施した。有機金属試薬を用いる全ての作業を不活性ガス雰囲気(
窒素)下に実施した。水素化カルシウムを介して還流下にジクロロメタンを保持
し、かつ各重合反応の前に新たに蒸留した。
の条件により実施した。有機金属試薬を用いる全ての作業を不活性ガス雰囲気(
窒素)下に実施した。水素化カルシウムを介して還流下にジクロロメタンを保持
し、かつ各重合反応の前に新たに蒸留した。
【0081】
アクリル酸グリシジルをPolysciences Inc.から購入し、かつ反応混合物に添
加する前に蒸留した。
加する前に蒸留した。
【0082】
ナトリウム−テトラ(3,5−ビス−(トリフルオロメチル)フェニル)ボレ
ート)をFluka社から購入した。
ート)をFluka社から購入した。
【0083】
A.遷移金属化合物(III)の製造
1.ビス−2,3−(2,6−ジブロモ−4−メチルフェニルイミン)ブタン
−パラジウム−ジクロリド(触媒A)): ビス−アセトニトリル−パラジウム−ジクロリド(351mg)およびビス−
2,3−(2,6−ジブロモ−4−メチルフェニルイミン)ブタン(780mg
)を2日間(2d)、ジクロロメタン(10ml)中、室温で攪拌した。溶剤を
真空で除去し、かつ固体残流物をジエチルエーテル(それぞれ10ml)で4回
、洗った。高真空下に、錯体から最後に残った溶剤残流物を除去した。1H−N
MR(CDCl3):δ=7.46(4H、s);2.35(6H、s);2.
15(6H、s)。
−パラジウム−ジクロリド(触媒A)): ビス−アセトニトリル−パラジウム−ジクロリド(351mg)およびビス−
2,3−(2,6−ジブロモ−4−メチルフェニルイミン)ブタン(780mg
)を2日間(2d)、ジクロロメタン(10ml)中、室温で攪拌した。溶剤を
真空で除去し、かつ固体残流物をジエチルエーテル(それぞれ10ml)で4回
、洗った。高真空下に、錯体から最後に残った溶剤残流物を除去した。1H−N
MR(CDCl3):δ=7.46(4H、s);2.35(6H、s);2.
15(6H、s)。
【0084】
2.ビス−2,3−(2,6−ジブロモ−4−メチルフェニルイミン)−ブタ
ン−パラジウム(メチル)クロリド(触媒B)): ジクロロメタン(10ml)中のA.1.により得られた固体(1.34ミリ
モル)の懸濁液に−35℃でテトラメチルスズ(0.22ml)を添加した。反
応混合物を室温にし、かつ真空を適用することにより揮発性成分を除去した。生
じた固体をジエチルエーテル(それぞれ10ml)で4回、洗った。1H−NM
R(CDCl3):δ=7.49(2H、2s);7.44(2H、s);2.
37(3H、s);2.34(3H、s);2.09(3H、s);2.01(
3H、s);0.57(3H、s)。
ン−パラジウム(メチル)クロリド(触媒B)): ジクロロメタン(10ml)中のA.1.により得られた固体(1.34ミリ
モル)の懸濁液に−35℃でテトラメチルスズ(0.22ml)を添加した。反
応混合物を室温にし、かつ真空を適用することにより揮発性成分を除去した。生
じた固体をジエチルエーテル(それぞれ10ml)で4回、洗った。1H−NM
R(CDCl3):δ=7.49(2H、2s);7.44(2H、s);2.
37(3H、s);2.34(3H、s);2.09(3H、s);2.01(
3H、s);0.57(3H、s)。
【0085】
3.ビス−2,3−(2,6−ジブロモ−4−メチルフェニル−イミン)ブタ
ン−パラジウム(メチル)(アセトニトリル)−ヘキサフルオロアンチモネート
(触媒C)): A.1.)で得られた化合物(1.34ミリモル)およびAgSbF6(1.
34ミリモル)を2時間、室温でアセトニトリル(10ml)中で攪拌した。生
じた塩化銀を濾別し、かつ得られた溶液を冷却したジエチルエーテル(100m
l)に添加した。ジエチルエーテルを沈殿した固体からデカンテーションにより
除去し、かつ高真空下に最後に残った溶剤残留を除去した。
ン−パラジウム(メチル)(アセトニトリル)−ヘキサフルオロアンチモネート
(触媒C)): A.1.)で得られた化合物(1.34ミリモル)およびAgSbF6(1.
34ミリモル)を2時間、室温でアセトニトリル(10ml)中で攪拌した。生
じた塩化銀を濾別し、かつ得られた溶液を冷却したジエチルエーテル(100m
l)に添加した。ジエチルエーテルを沈殿した固体からデカンテーションにより
除去し、かつ高真空下に最後に残った溶剤残留を除去した。
【0086】
4.ビス−2,3−(2,6−ジイソプロピルフェニルイミン)ブタン−パラジ
ウム(メチル)(アセトニトリル)−ヘキサフルオロアンチモネート(触媒D)
): この化合物をBrookhart et al., J. Am. Chem. Soc. 1996, 118, 267-268の処
方により合成し、かつ比較物質として使用した。
ウム(メチル)(アセトニトリル)−ヘキサフルオロアンチモネート(触媒D)
): この化合物をBrookhart et al., J. Am. Chem. Soc. 1996, 118, 267-268の処
方により合成し、かつ比較物質として使用した。
【0087】
5.ビス−2,3−(2,6−ジブロモ−4−メチルフェニルイミン)ブタン
−ニッケルジブロミド(触媒E)): 1,2−ジメトキシエタン−ニッケルジブロミド(77mg)を窒素雰囲気下
にジクロロメタン(15ml)に懸濁させ、かつジクロロメタン(10ml)中
のビス−2,3−(2,6−ジブロモ−4−メチルフェニルイミン)ブタン(1
74mg)の溶液を添加した。この混合物を20時間、室温で攪拌した。揮発性
成分を真空下に除去し、かつオレンジ・イエロー色の残留物を数回、n−ペンテ
ンで洗った。最後に残った溶剤残留を高真空下に除去した。
−ニッケルジブロミド(触媒E)): 1,2−ジメトキシエタン−ニッケルジブロミド(77mg)を窒素雰囲気下
にジクロロメタン(15ml)に懸濁させ、かつジクロロメタン(10ml)中
のビス−2,3−(2,6−ジブロモ−4−メチルフェニルイミン)ブタン(1
74mg)の溶液を添加した。この混合物を20時間、室温で攪拌した。揮発性
成分を真空下に除去し、かつオレンジ・イエロー色の残留物を数回、n−ペンテ
ンで洗った。最後に残った溶剤残留を高真空下に除去した。
【0088】
6.ビス−2,3−(2,6−ジイソプロピル−フェニルイミン)ブタン−ニ
ッケルジブロミド(触媒F)): 触媒F)を触媒E)と同様に製造したが、ただし、二座キレート配位子として
ビス−2,3−(2,6−ジイソプロピルフェニルイミン)ブタンを使用した。
ッケルジブロミド(触媒F)): 触媒F)を触媒E)と同様に製造したが、ただし、二座キレート配位子として
ビス−2,3−(2,6−ジイソプロピルフェニルイミン)ブタンを使用した。
【0089】
B.重合反応
温度調節機と接続され、かつ不活性ガスが掃気されるオートクレーブにジクロ
ロメタン(触媒A)からD)を使用する際)もしくはトルエン中のメチルアルモ
キサン(MAO)の30%濃度溶液(触媒E)およびF)を使用する際)を装入
した。反応媒体をエテンガスで飽和させ、かつ反応温度をおよび−圧力を調節し
た。溶解させた形で触媒を反応混合物に添加し、かつ記載の反応時間に亙って圧
力および温度を一定に保った。エタノールを添加することにより重合を中断し、
冷却し、かつオートクレーブを放圧した。濃縮した溶液にメタノール/HCL(
過剰で)を添加した。生じたポリマーは高粘度のオイル状物の形で、もしくは微
細な粉末の形で析出し、かつデカンテーションもしくは濾過により取得すること
ができた。得られたポリマーをエタノールで複数回、洗った。最後に残った溶剤
残留を高真空下に除去した。
ロメタン(触媒A)からD)を使用する際)もしくはトルエン中のメチルアルモ
キサン(MAO)の30%濃度溶液(触媒E)およびF)を使用する際)を装入
した。反応媒体をエテンガスで飽和させ、かつ反応温度をおよび−圧力を調節し
た。溶解させた形で触媒を反応混合物に添加し、かつ記載の反応時間に亙って圧
力および温度を一定に保った。エタノールを添加することにより重合を中断し、
冷却し、かつオートクレーブを放圧した。濃縮した溶液にメタノール/HCL(
過剰で)を添加した。生じたポリマーは高粘度のオイル状物の形で、もしくは微
細な粉末の形で析出し、かつデカンテーションもしくは濾過により取得すること
ができた。得られたポリマーをエタノールで複数回、洗った。最後に残った溶剤
残留を高真空下に除去した。
【0090】
使用した量、反応条件ならびに生成物パラメーターの詳しい記載は次の第1お
よび2表に行った。
よび2表に行った。
【0091】
【表1】
【0092】
【表2】
【手続補正書】特許協力条約第34条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成13年8月1日(2001.8.1)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【化1】
[式中、置換基および指数は次の意味を有する:
R1、R3は水素、C1〜C10−アルキル、C3〜C10−シクロアルキル、
C6〜C16−アリール、アルキル部に1〜10個のC原子およびアリール部に
6〜14個のC原子を有するアルキルアリール、Si(R6)3、N(R6)(
R7)、OR6、SR6を表すか、またはR1およびR3はCa、Cbおよび場
合によりC´と一緒になって5員、6員または7員の脂肪族または芳香族の置換
または非置換の炭素環または複素環を形成し、 R2、R4はハロゲノ−、ニトロ−、シアノ−、スルホナト−またはトリハロゲ
ンメチル置換基をNaおよびNbに対する両オルト位に有するC4〜C16−へ
テロ−アリールまたはC6〜C16−アリールを表し、 R5は水素、C1〜C10−アルキル、C6〜C16−アリールまたはアルキル
部に1〜10個のC原子およびアリール部に6〜14個のC原子を有するアルキ
ルアリールを表し、 R6、R7はC1〜C10−アルキル、C6〜C16−アリールまたはアルキル
部に1〜10個のC原子およびアリール部に6〜14個のC原子を有するアルキ
ルアリールを表し、 mは0または1を表し、 Mは元素周期系の第VIIIB族の金属を表し、 T、Qは中性またはモノアニオン単座配位子であるか、またはTおよびQは一緒
に、メチルケトン−、線状C1〜C4−アルキルエステル−またはニトリル末端
基と共にC2−またはC3−アルキレン単位を形成し、 Aは配位しないか、または配位しにくいアニオンを表し、かつ x、pは0、1、2または3を表し、 q、nは1、2または3を表す]の遷移金属化合物(III)1種または複数の
存在下ならびに場合により助触媒の存在下に出発モノマーを配位重合させること
を特徴とする、エテン、プロペン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、
また1−オクテンならびに場合により、官能基を有するα−オレフィン(II)
からなる(コ)ポリマーを製造するための方法。
C6〜C16−アリール、アルキル部に1〜10個のC原子およびアリール部に
6〜14個のC原子を有するアルキルアリール、Si(R6)3、N(R6)(
R7)、OR6、SR6を表すか、またはR1およびR3はCa、Cbおよび場
合によりC´と一緒になって5員、6員または7員の脂肪族または芳香族の置換
または非置換の炭素環または複素環を形成し、 R2、R4はハロゲノ−、ニトロ−、シアノ−、スルホナト−またはトリハロゲ
ンメチル置換基をNaおよびNbに対する両オルト位に有するC4〜C16−へ
テロ−アリールまたはC6〜C16−アリールを表し、 R5は水素、C1〜C10−アルキル、C6〜C16−アリールまたはアルキル
部に1〜10個のC原子およびアリール部に6〜14個のC原子を有するアルキ
ルアリールを表し、 R6、R7はC1〜C10−アルキル、C6〜C16−アリールまたはアルキル
部に1〜10個のC原子およびアリール部に6〜14個のC原子を有するアルキ
ルアリールを表し、 mは0または1を表し、 Mは元素周期系の第VIIIB族の金属を表し、 T、Qは中性またはモノアニオン単座配位子であるか、またはTおよびQは一緒
に、メチルケトン−、線状C1〜C4−アルキルエステル−またはニトリル末端
基と共にC2−またはC3−アルキレン単位を形成し、 Aは配位しないか、または配位しにくいアニオンを表し、かつ x、pは0、1、2または3を表し、 q、nは1、2または3を表す]の遷移金属化合物(III)1種または複数の
存在下ならびに場合により助触媒の存在下に出発モノマーを配位重合させること
を特徴とする、エテン、プロペン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、
また1−オクテンならびに場合により、官能基を有するα−オレフィン(II)
からなる(コ)ポリマーを製造するための方法。
【化2】
[式中、置換基および指数は次の意味を有する:
R1、R3は水素、C1〜C10−アルキル、C3〜C10−シクロアルキル、
C6〜C16−アリール、アルキル部に1〜10個のC原子およびアリール部に
6〜14個のC原子を有するアルキルアリール、Si(R6)3、N(R6)(
R7)、OR6、SR6を表すか、またはR1およびR3はCa、Cbおよび場
合によりC´と一緒になって5員、6員または7員の脂肪族または芳香族の置換
または非置換の炭素環または複素環を形成し、 R2、R4はC4〜C16−へテロアリールあるいは2,6−ジブロモ−、2,
6−ジクロロ−、2,6−ジブロモ−4−メチル−または2,6−ジクロロ−4
−メチルフェニルを表し、 R5は水素、C1〜C10−アルキル、C6〜C16−アリールまたはアルキル
部に1〜10個のC原子およびアリール部に6〜14個のC原子を有するアルキ
ルアリールを表し、 R6、R7はC1〜C10−アルキル、C6〜C16−アリールまたはアルキル
部に1〜10個のC原子およびアリール部に6〜14個のC原子を有するアルキ
ルアリールを表し、 mは0または1を表し、 Mは元素周期系の第VIIIB族の金属を表し、 T、Qは中性またはモノアニオン単座配位子であるか、またはTおよびQは一緒
に、メチルケトン−、線状C1〜C4−アルキルエステル−またはニトリル末端
基と共にC2−またはC3−アルキレン単位を形成し、 Aは配位しないか、または配位しにくいアニオンを表し、かつ x、pは0、1、2または3を表し、 q、nは1、2または3を表す]の遷移金属化合物。
C6〜C16−アリール、アルキル部に1〜10個のC原子およびアリール部に
6〜14個のC原子を有するアルキルアリール、Si(R6)3、N(R6)(
R7)、OR6、SR6を表すか、またはR1およびR3はCa、Cbおよび場
合によりC´と一緒になって5員、6員または7員の脂肪族または芳香族の置換
または非置換の炭素環または複素環を形成し、 R2、R4はC4〜C16−へテロアリールあるいは2,6−ジブロモ−、2,
6−ジクロロ−、2,6−ジブロモ−4−メチル−または2,6−ジクロロ−4
−メチルフェニルを表し、 R5は水素、C1〜C10−アルキル、C6〜C16−アリールまたはアルキル
部に1〜10個のC原子およびアリール部に6〜14個のC原子を有するアルキ
ルアリールを表し、 R6、R7はC1〜C10−アルキル、C6〜C16−アリールまたはアルキル
部に1〜10個のC原子およびアリール部に6〜14個のC原子を有するアルキ
ルアリールを表し、 mは0または1を表し、 Mは元素周期系の第VIIIB族の金属を表し、 T、Qは中性またはモノアニオン単座配位子であるか、またはTおよびQは一緒
に、メチルケトン−、線状C1〜C4−アルキルエステル−またはニトリル末端
基と共にC2−またはC3−アルキレン単位を形成し、 Aは配位しないか、または配位しにくいアニオンを表し、かつ x、pは0、1、2または3を表し、 q、nは1、2または3を表す]の遷移金属化合物。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 ゲリット ルインストラ
ドイツ連邦共和国 コンスタンツ マック
ス−シュトローマイアー−シュトラーセ
7
(72)発明者 ノルベルト フーバー
ドイツ連邦共和国 エヒンゲン−ベルク
ゾンネンハルデ 13
Fターム(参考) 4J011 AA01 AA05 FA05 FB05 MA15
MA16 NA18
4J028 AA01A AC27A AC45A AC46A
AC47A AC48A BA01B BB01B
BC25B DB02A EB02 EB04
EB05 EB07 EB08 EB09 EB25
EC02 FA01 FA04 GA01 GA06
GA09 GB03 GB06
4J100 AA02P AA03P AA04P AA07P
AA16P AA19P AC26P AJ02Q
AL02Q AL10Q AM02Q AM15Q
CA04 DA01 DA04 DA25
Claims (10)
- 【請求項1】 無極性オレフィン性モノマー(I)および場合により、官能
基を有するα−オレフィン(II)からなる(コ)ポリマーを製造するための方
法において、一般式: 【化1】 [式中、置換基および指数は次の意味を有する: R1、R3は水素、C1〜C10−アルキル、C3〜C10−シクロアルキル、
C6〜C16−アリール、アルキル部に1〜10個のC原子およびアリール部に
6〜14個のC原子を有するアルキルアリール、Si(R6)3、N(R6)(
R7)、OR6、SR6を表すか、またはR1およびR3はCa、Cbおよび場
合によりC´と一緒になって5員、6員または7員の脂肪族または芳香族の置換
または非置換の炭素環または複素環を形成し、 R2、R4はハロゲノ−、ニトロ−、シアノ−、スルホナト−またはトリハロゲ
ンメチル置換基をNaおよびNbに対する両オルト位に有するC4〜C16−へ
テロアリールまたはC6〜C16−アリールを表し、 R5は水素、C1〜C10−アルキル、C6〜C16−アリールまたはアルキル
部に1〜10個のC原子およびアリール部に6〜14個のC原子を有するアルキ
ルアリールを表し、 R6、R7はC1〜C10−アルキル、C6〜C16−アリールまたはアルキル
部に1〜10個のC原子およびアリール部に6〜14個のC原子を有するアルキ
ルアリールを表し、 mは0または1を表し、 Mは元素周期系の第VIIIB族の金属を表し、 T、Qは中性またはモノアニオン単座配位子であるか、またはTおよびQは一緒
に、メチルケトン−、線状C1〜C4−アルキルエステル−またはニトリル末端
基と共にC2またはC3−アルキレン単位を形成し、 Aは配位しないか、または配位しにくいアニオンを表し、かつ x、pは0、1、2または3を表し、 q、nは1、2または3を表す]の遷移金属化合物(III)1種または複数の
存在下ならびに場合により助触媒の存在下に出発モノマーを配位重合させること
を特徴とする、無極性オレフィン性モノマー(I)および場合により、官能基を
有するα−オレフィン(II)からなる(コ)ポリマーを製造するための方法。 - 【請求項2】 無極性オレフィン性モノマー(I)として、一般式(Ia): (R8)HC=C(R9)(R10) (Ia) [式中、置換基は次の意味を有する: R8からR10は相互に無関係に水素、C1〜C10−アルキル、C6〜C16 −アリール、アルキル部に1〜10個のC原子およびアリール部に14個までの
C原子を有するアルキルアリールまたはSi(R11)3(ここでR11はC1 〜C10−アルキル、C6〜C16−アリール、アルキル部に1〜10個のC原
子およびアリール部に6〜14個までのC原子を有するアルキルアリールを表す
)を表すか、またはR8およびR9あるいはR8およびR10はC=C−二重結
合と一緒に炭素環を表す]の化合物を使用する、請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 官能基を有するα−オレフィン(II)として一般式: CH2=C(R12)(R13) (IIa) [式中、置換基および指数は次の意味を有する: R12は水素、CN、CF3、C1〜C10−アルキル、C6〜C16−アリー
ルまたはアルキル部に1〜10個のC原子およびアリール部に6〜14個のC原
子を有するアルキルアリール、ピロリドニル、カルバゾリルを表し、 R13はCN、C(O)R14、C(O)OR14、C(O)N(R14)(R 15 )、CH2Si(OR16 3、C(O)−O−C(O)R14、O−C1−
〜−O−C10−アルキル、O−C6−〜−O−C16−アリールを表し、ここ
で R14、R15は水素、C1〜C10−アルキル、C2〜C10−アルケニル、
C6〜C16−アリールまたはアルキル部に1〜10個のC原子およびアリール
部に6〜14個のC原子を有するアルキルアリール、エポキシ基を有するC2〜
C10−アルキル基、エポキシ基で置換されたC6〜C16−アリール基または
Si(R16)3を表し、かつ R16はC1〜C10−アルキル、C6〜C16−アリールまたはアルキル部に
1〜10個のC原子およびアリール部に6〜14個のC原子を有するアルキルア
リールを表す]の化合物を使用する、請求項1または2に記載の方法。 - 【請求項4】 α−オレフィン(II)として、(メタ)アクリル酸、(メ
タ)アクリル酸のエステルまたはアミド、アクリルニトリル、メタクリルニトリ
ルあるいはこれらの混合物を使用する、請求項1から3までのいずれか1項に記
載の方法。 - 【請求項5】 ラジカル抑制剤の存在下に重合を実施する、請求項1から4
までのいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項6】 一般式: 【化2】 [式中、置換基および指数は次の意味を有する: R1、R3は水素、C1〜C10−アルキル、C3〜C10−シクロアルキル、
C6〜C16−アリール、アルキル部に1〜10個のC原子およびアリール部に
6〜14個のC原子を有するアルキルアリール、Si(R6)3、N(R6)(
R7)、OR6、SR6を表すか、またはR1およびR3はCa、Cbおよび場
合によりC´と一緒になって5員、6員または7員の脂肪族または芳香族の置換
または非置換の炭素環または複素環を形成し、 R2、R4はハロゲノ−、ニトロ−、シアノ−、スルホナト−またはトリハロゲ
ンメチル置換基をNaおよびNbに対する両オルト位に有するC4〜C16−へ
テロアリールまたはC6〜C16−アリールを表し、 R5は水素、C1〜C10−アルキル、C6〜C16−アリールまたはアルキル
部に1〜10個のC原子およびアリール部に6〜14個のC原子を有するアルキ
ルアリールを表し、 R6、R7はC1〜C10−アルキル、C6〜C16−アリールまたはアルキル
部に1〜10個のC原子およびアリール部に6〜14個のC原子を有するアルキ
ルアリールを表し、 mは0または1を表し、 Mは元素周期系の第VIIIB族の金属を表し、 T、Qは中性またはモノアニオン単座配位子であるか、またはTおよびQは一緒
に、メチルケトン−、線状C1〜C4−アルキルエステル−またはニトリル末端
基と共にC2またはC3−アルキレン単位を形成し、 Aは配位しないか、または配位しにくいアニオンを表し、かつ x、pは0、1、2または3を表し、 q、nは1、2または3を表す]の遷移金属化合物。 - 【請求項7】 R2およびR4が相互に無関係に2,6−ジブロモ−、2,
6−ジクロロ−、2,6−ジブロモ−4−メチル−、2,6−ジクロロ−4−メ
チルフェニルまたは2,6−ジブロモ−または2,6−ジクロロピロリドを表し
、かつR1およびR3がメチルを、Mがパラジウムまたはニッケルを、かつアニ
オンAがB[C6H3(CF3)2]4 -、SbF6 -またはPF6 -を表す、請
求項6に記載の遷移金属化合物。 - 【請求項8】 主成分として請求項6または7に記載の遷移金属化合物を、
かつ助触媒として強中性ルイス酸、ルイス酸カチオンを有するイオン化合物また
はブレンステッド酸をカチオンとして有するイオン化合物を含有する、無極性オ
レフィン性モノマーおよび場合により、官能基を有するα−オレフィンを(共)
重合させるための触媒系。 - 【請求項9】 助触媒としてNaB[C6H3(CF3)2]4を使用する
、請求項8に記載の触媒系。 - 【請求項10】 オレフィンを(共)重合するための、請求項6または7に
記載の遷移金属化合物あるいは請求項8または9に記載の触媒系の使用。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19934464A DE19934464A1 (de) | 1999-07-27 | 1999-07-27 | Verfahren zur (Co)polymerisation von Olefinen |
DE19934464.7 | 1999-07-27 | ||
PCT/EP2000/006560 WO2001007492A1 (de) | 1999-07-27 | 2000-07-11 | Verfahren zur (co)polymerisation von olefinen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003505559A true JP2003505559A (ja) | 2003-02-12 |
Family
ID=7915721
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001512573A Withdrawn JP2003505559A (ja) | 1999-07-27 | 2000-07-11 | オレフィンを(共)重合させるための方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1200488A1 (ja) |
JP (1) | JP2003505559A (ja) |
KR (1) | KR20020016923A (ja) |
DE (1) | DE19934464A1 (ja) |
WO (1) | WO2001007492A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6545108B1 (en) | 1999-02-22 | 2003-04-08 | Eastman Chemical Company | Catalysts containing N-pyrrolyl substituted nitrogen donors |
WO2000050470A2 (en) | 1999-02-22 | 2000-08-31 | Eastman Chemical Company | Catalysts containing n-pyrrolyl substituted nitrogen donors |
US6605677B2 (en) | 2000-02-18 | 2003-08-12 | Eastman Chemical Company | Olefin polymerization processes using supported catalysts |
US7056996B2 (en) | 2000-02-18 | 2006-06-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Productivity catalysts and microstructure control |
US6579823B2 (en) | 2000-02-18 | 2003-06-17 | Eastman Chemical Company | Catalysts containing per-ortho aryl substituted aryl or heteroaryl substituted nitrogen donors |
US6706891B2 (en) | 2000-11-06 | 2004-03-16 | Eastman Chemical Company | Process for the preparation of ligands for olefin polymerization catalysts |
US6903169B1 (en) * | 2003-12-30 | 2005-06-07 | Equistar Chemicals, Lp | LTMC polymerization of unsaturated monomers |
-
1999
- 1999-07-27 DE DE19934464A patent/DE19934464A1/de not_active Withdrawn
-
2000
- 2000-07-11 KR KR1020027001121A patent/KR20020016923A/ko not_active Application Discontinuation
- 2000-07-11 WO PCT/EP2000/006560 patent/WO2001007492A1/de not_active Application Discontinuation
- 2000-07-11 EP EP00945905A patent/EP1200488A1/de not_active Withdrawn
- 2000-07-11 JP JP2001512573A patent/JP2003505559A/ja not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE19934464A1 (de) | 2001-02-01 |
EP1200488A1 (de) | 2002-05-02 |
WO2001007492A1 (de) | 2001-02-01 |
KR20020016923A (ko) | 2002-03-06 |
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---|---|---|---|
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