JP2003500534A - 電気化学デバイス - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
この発明は、陰極スパッタ装置、特に磁場アシスト装置、の本質的に金属のターゲットに関し、該ターゲットは強磁性を減少もしくは消去するために少くとも１つの他の少ない元素と合金化されたニッケルから主としてなる。さらに、この発明はニッケル合金酸化物にもとづく薄層として、陽極発色を有するエレクトロクロミック物質を製造するためのターゲットの使用に関する。
Description
【０００１】
本発明電気化学デバイス、および特にエレクトロクロミック窓ガラスもしくは
鏡型で可変の光学的および／またはエネルギー的特性を有する電気的に制御しう
る系に関する。
鏡型で可変の光学的および／またはエネルギー的特性を有する電気的に制御しう
る系に関する。
【０００２】
公知の態様で、エレクトロクロミックシステムは、イオンおよび電子を可逆的
に、かつ同時に挿入しうるエレクトロクロミック物質からの層からなり、挿入お
よび脱挿入状態に相当するその酸化状態は、明らかな着色をし、その状態の１つ
は他よりも大きい光透過を示し、挿入および脱挿入反応は適切な電気供給により
制御される。通常酸化タングステンにもとづくエレクトロクロミック物質は、透
明な電気伝導層のような電子源およびイオン伝導電解質のようなイオン（カチオ
ンもしくはアニオン）源と接触して置かれなければならない。
に、かつ同時に挿入しうるエレクトロクロミック物質からの層からなり、挿入お
よび脱挿入状態に相当するその酸化状態は、明らかな着色をし、その状態の１つ
は他よりも大きい光透過を示し、挿入および脱挿入反応は適切な電気供給により
制御される。通常酸化タングステンにもとづくエレクトロクロミック物質は、透
明な電気伝導層のような電子源およびイオン伝導電解質のようなイオン（カチオ
ンもしくはアニオン）源と接触して置かれなければならない。
【０００３】
さらに、少くとも何百回ものスイッチング操作を確実にするために、エレクト
ロクロミック物質層はイオンを可逆的に挿入しうる対電極と組合わされなければ
ならず、エレクトロクロミック物質と対称的であるので、巨視的には電解質はイ
オンの単一媒体のようにみえる。 対電極は、中間色層、または少くとも透明もしくはエレクトロクロミック層が
発色状態にあるときわずかに着色するのみである層、からなる。酸化タングステ
ンは陰極発色物質である、すなわちその発色状態はもっとも還元された状態に相
当する、ので、酸化ニッケルもしくは酸化イリジウムにもとづく陽極エレクトロ
クロミック物質は、対電極として使用されるのが一般的である。酸化状態で光学
的に中性である物質、たとえば酸化セリウム、もしくは電子伝導ポリマー（ポリ
アニリン等）のような有機物質、またはプルシアンブルー、を使用することも提
案されている。
ロクロミック物質層はイオンを可逆的に挿入しうる対電極と組合わされなければ
ならず、エレクトロクロミック物質と対称的であるので、巨視的には電解質はイ
オンの単一媒体のようにみえる。 対電極は、中間色層、または少くとも透明もしくはエレクトロクロミック層が
発色状態にあるときわずかに着色するのみである層、からなる。酸化タングステ
ンは陰極発色物質である、すなわちその発色状態はもっとも還元された状態に相
当する、ので、酸化ニッケルもしくは酸化イリジウムにもとづく陽極エレクトロ
クロミック物質は、対電極として使用されるのが一般的である。酸化状態で光学
的に中性である物質、たとえば酸化セリウム、もしくは電子伝導ポリマー（ポリ
アニリン等）のような有機物質、またはプルシアンブルー、を使用することも提
案されている。
【０００４】
このような系の記述は、たとえばヨーロッパ特許ＥＰ３３８８７６，ＥＰ４０
８４２７，ＥＰ５７５２０７およびＥＰ６２８８４９にみられる。 これらの系は、使用する電解質の種類により２つのカテゴリーに、現在、分類
されうる。 ・電解質はポリマーもしくはゲルの形態であり、たとえばヨーロッパ特許ＥＰ
２５３７１３およびＥＰ６７０３４６に開示されるようなプロトン伝導ポリマー
、または特許ＥＰ３８２６２３，ＥＰ５１８７５４もしくはＥＰ５３２４０８に
開示されるようなリチウムイオン伝達ポリマーである。
８４２７，ＥＰ５７５２０７およびＥＰ６２８８４９にみられる。 これらの系は、使用する電解質の種類により２つのカテゴリーに、現在、分類
されうる。 ・電解質はポリマーもしくはゲルの形態であり、たとえばヨーロッパ特許ＥＰ
２５３７１３およびＥＰ６７０３４６に開示されるようなプロトン伝導ポリマー
、または特許ＥＰ３８２６２３，ＥＰ５１８７５４もしくはＥＰ５３２４０８に
開示されるようなリチウムイオン伝達ポリマーである。
【０００５】
・電解質は、イオンを伝導するが電子的に絶縁性である無機層であり、このよ
うな系は「全固体」（“ａｌｌ−ｓｏｌｉｄ”）エレクトロクロミック系といわ
れる。「全固体」エレクトロクロミック系の記述について、ヨーロッパ特許出願
ＥＰ８６７７５２およびＥＰ８３１３６０が参照されうる。 本発明は、そのようなエレクトロクロミック系の１部を形成しうる酸化ニッケ
ルにもとづく陽極エレクトロクロミック物質層を得ることに特に向けられる。
うな系は「全固体」（“ａｌｌ−ｓｏｌｉｄ”）エレクトロクロミック系といわ
れる。「全固体」エレクトロクロミック系の記述について、ヨーロッパ特許出願
ＥＰ８６７７５２およびＥＰ８３１３６０が参照されうる。 本発明は、そのようなエレクトロクロミック系の１部を形成しうる酸化ニッケ
ルにもとづく陽極エレクトロクロミック物質層を得ることに特に向けられる。
【０００６】
上述のように、酸化ニッケルはそのような特性を有することが知られており、
特に特許ＥＰ３７３０２０に記載されている。 しかし、この物質は弱点を有する：ある問題が、標準的な真空蒸着法、磁場ア
シスト反応性陰極スパッタにより薄層の形態でそれを得るのに生じる：ニッケル
は強磁性であるので、標準ニッケルターゲットおよび標準磁石を用いると、ター
ゲットの表面にあらわれる磁場は弱く、低い堆積速度および平凡なターゲット活
用に帰着する。
特に特許ＥＰ３７３０２０に記載されている。 しかし、この物質は弱点を有する：ある問題が、標準的な真空蒸着法、磁場ア
シスト反応性陰極スパッタにより薄層の形態でそれを得るのに生じる：ニッケル
は強磁性であるので、標準ニッケルターゲットおよび標準磁石を用いると、ター
ゲットの表面にあらわれる磁場は弱く、低い堆積速度および平凡なターゲット活
用に帰着する。
【０００７】
この種類の物質も特許出願ＷＯ９８／１４８２４で検討された：エレクトロク
ロミック鏡への使用において、検討は、バナジウム、クロム、マンガン、鉄もし
くはコバルトのようなもう１つの金属で合金化された酸化ニッケルについて実施
され、この組成の変化は鏡の機能を改良し、そして特にもっと均一な色釈を与え
ると述べられている。
ロミック鏡への使用において、検討は、バナジウム、クロム、マンガン、鉄もし
くはコバルトのようなもう１つの金属で合金化された酸化ニッケルについて実施
され、この組成の変化は鏡の機能を改良し、そして特にもっと均一な色釈を与え
ると述べられている。
【０００８】
しかしながら、このように他の金属を酸化ニッケルに導入することは、酸化ニ
ッケルの光学的およびエレクトロクロミック特性に関して危険を伴うようにみえ
る。このように、たとえばバナジウムおよびクロムの導入は、その酸化物は可視
領域で吸収し、酸化ニッケルをもっと吸収剤にしやすく、したがって消色状態で
全体として活性系の光透過値を低下させやすくなるというおそれがありうる。同
様に、マンガン、鉄およびコバルトの導入は、層、そして全体として活性系の耐
久性を低下させやすくなりうる。
ッケルの光学的およびエレクトロクロミック特性に関して危険を伴うようにみえ
る。このように、たとえばバナジウムおよびクロムの導入は、その酸化物は可視
領域で吸収し、酸化ニッケルをもっと吸収剤にしやすく、したがって消色状態で
全体として活性系の光透過値を低下させやすくなるというおそれがありうる。同
様に、マンガン、鉄およびコバルトの導入は、層、そして全体として活性系の耐
久性を低下させやすくなりうる。
【０００９】
本発明の目的は、このようにこれらの弱点を、特に、陽極エレクトロクロミッ
ク特性を有する酸化ニッケルを製造する新規な方法を提案することにより改善す
ることであり、この製造法は、特に、実施するのにより速く、もっと経済的に実
行可能であり、もっと簡単であり、他に酸化ニッケルの望ましい機能性を損うこ
ともない。「機能性」（“ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌｉｔｙ”）は、安定性、エレク
トロクロミック系、特にＨ+伝導性、もしくはＬｉ+ 伝導型および「全固体」型
、の耐久性ならびに薄層におけるときの消色状態での透明度に特に向けられる。
ク特性を有する酸化ニッケルを製造する新規な方法を提案することにより改善す
ることであり、この製造法は、特に、実施するのにより速く、もっと経済的に実
行可能であり、もっと簡単であり、他に酸化ニッケルの望ましい機能性を損うこ
ともない。「機能性」（“ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌｉｔｙ”）は、安定性、エレク
トロクロミック系、特にＨ+伝導性、もしくはＬｉ+ 伝導型および「全固体」型
、の耐久性ならびに薄層におけるときの消色状態での透明度に特に向けられる。
【００１０】
本発明の主題は、陰極スパッタ装置、好適には、特に、薄層として対応する金
属酸化物を得るために酸素の存在下で反応性雰囲気の磁場アシスト装置、の本質
的に金属のターゲットであるのが第１であり、該ターゲットは主にニッケルから
なり、その強磁性を減少もしくは消去さえするために少くとも１つの他の少ない
元素を混合されるが、同時にこのターゲットから得られる混合された酸化ニッケ
ルの光学的および／または電気化学的特性をできるかぎり維持する。
属酸化物を得るために酸素の存在下で反応性雰囲気の磁場アシスト装置、の本質
的に金属のターゲットであるのが第１であり、該ターゲットは主にニッケルから
なり、その強磁性を減少もしくは消去さえするために少くとも１つの他の少ない
元素を混合されるが、同時にこのターゲットから得られる混合された酸化ニッケ
ルの光学的および／または電気化学的特性をできるかぎり維持する。
【００１１】
特に、このように本発明は、ターゲットに選択された元素を注意深く添加する
ことにより、機能性を劣化させることなく、はるかに高速で、ターゲットとして
もっと良好な経済的実施可能な、酸化ニッケルにもとづく層を反応性スパッタに
よって得ることを可能にするという有利な調和をもたらす。製造効率の増大によ
る最大の効果はニッケルの強磁性を十分に消去することにより達成されるが、添
加される元素の化学的性質およびターゲットに配合されるこの元素の量を適切に
変更することにより単に強磁性を減少するように選択されうる。
ことにより、機能性を劣化させることなく、はるかに高速で、ターゲットとして
もっと良好な経済的実施可能な、酸化ニッケルにもとづく層を反応性スパッタに
よって得ることを可能にするという有利な調和をもたらす。製造効率の増大によ
る最大の効果はニッケルの強磁性を十分に消去することにより達成されるが、添
加される元素の化学的性質およびターゲットに配合されるこの元素の量を適切に
変更することにより単に強磁性を減少するように選択されうる。
【００１２】
一般に、このもしくはこれらの少ない元素の混合物の割合は、組み合わされる
ニッケルと少ない元素とに対して２０原子％以下、好ましくは特に１８％以下、
そしてたとえば３％〜１５％である。 本発明の目的に関しては、「酸化ニッケル」は、様々の程度に水和および／ま
たは水酸化および／またはプロトン化（および任意に窒化物処理されうる。同様
に、ニッケルと酸素の化学量論は一般に、Ｎｉ／Ｏ比で１〜１／２の範囲で変わ
りうる。しかし、ニッケルは一般に主として＋２の酸化状態にあると考えられう
る。
ニッケルと少ない元素とに対して２０原子％以下、好ましくは特に１８％以下、
そしてたとえば３％〜１５％である。 本発明の目的に関しては、「酸化ニッケル」は、様々の程度に水和および／ま
たは水酸化および／またはプロトン化（および任意に窒化物処理されうる。同様
に、ニッケルと酸素の化学量論は一般に、Ｎｉ／Ｏ比で１〜１／２の範囲で変わ
りうる。しかし、ニッケルは一般に主として＋２の酸化状態にあると考えられう
る。
【００１３】
異なる変形もターゲットの化学的性質に関して可能であり、これらは代わりの
もしくは累加的な変形である。 第１の変形は、その酸化物が陽極発色を有するエレクトロクロミック物質であ
る金属である少ない元素（簡単のために以下「添加物」で示す）にある。それは
特に次の金属の少くとも１つであってもよい：Ｉｒ，Ｒｕ，Ｒｈ。理想的には、
さらに、イリジウムの場合がもっとも好適であり，対応する酸化物は酸化ニッケ
ルと同一もしくは近接した作動電圧範囲を有する：酸化ニッケルの機能性を妨害
するどころか、添加物は酸化ニッケルをそのままに保持することが可能でありそ
して可逆的なイオン挿入能力を増加させることさえできる。この場合、酸化ニッ
ケルの比較的厚い層と同一レベルの光学的／エネルギー的変更をなお保持するの
に、層の厚さを減少することが期待さえしうる。
もしくは累加的な変形である。 第１の変形は、その酸化物が陽極発色を有するエレクトロクロミック物質であ
る金属である少ない元素（簡単のために以下「添加物」で示す）にある。それは
特に次の金属の少くとも１つであってもよい：Ｉｒ，Ｒｕ，Ｒｈ。理想的には、
さらに、イリジウムの場合がもっとも好適であり，対応する酸化物は酸化ニッケ
ルと同一もしくは近接した作動電圧範囲を有する：酸化ニッケルの機能性を妨害
するどころか、添加物は酸化ニッケルをそのままに保持することが可能でありそ
して可逆的なイオン挿入能力を増加させることさえできる。この場合、酸化ニッ
ケルの比較的厚い層と同一レベルの光学的／エネルギー的変更をなお保持するの
に、層の厚さを減少することが期待さえしうる。
【００１４】
第２の変形は、その酸化物が陰極発色を有するエレクトロクロミック物質であ
る金属である添加物にある。それは特に次の金属の少くとも１つであってもよい
：Ｍｏ，Ｗ，Ｒｅ，Ｓｎ，Ｉｎ，Ｂｉ。このような物質をこのように酸化ニッケ
ルに導入することは矛盾して、妨害に帰着するようにみえるかもしれない。実際
に、上述の金属の酸化物は、陽極エレクトロクロミック物質として使用される酸
化ニッケルにより達成される電位をはるかに超える作動電圧範囲で陰イオン挿入
能力を有することが見出されている。したがって、酸化ニッケルにおける酸化形
態で有効に見出されているこれらの添加物は、酸化ニッケルが電圧に置かれるこ
とにより色彩変動を受けるとき、不活性で、無色のままである：これらの添加物
は活性系が機能し、消色状態でその光透過レベルを減少しないとき、中和される
。一方、それらの存在は、全体として層のイオン挿入能力を減少させやすく、し
たがって必要ならば、この現象のために償うべき厚さを少し増加させることは可
能であり、この大きさは続くすべての変形に対しても考えられうる。
る金属である添加物にある。それは特に次の金属の少くとも１つであってもよい
：Ｍｏ，Ｗ，Ｒｅ，Ｓｎ，Ｉｎ，Ｂｉ。このような物質をこのように酸化ニッケ
ルに導入することは矛盾して、妨害に帰着するようにみえるかもしれない。実際
に、上述の金属の酸化物は、陽極エレクトロクロミック物質として使用される酸
化ニッケルにより達成される電位をはるかに超える作動電圧範囲で陰イオン挿入
能力を有することが見出されている。したがって、酸化ニッケルにおける酸化形
態で有効に見出されているこれらの添加物は、酸化ニッケルが電圧に置かれるこ
とにより色彩変動を受けるとき、不活性で、無色のままである：これらの添加物
は活性系が機能し、消色状態でその光透過レベルを減少しないとき、中和される
。一方、それらの存在は、全体として層のイオン挿入能力を減少させやすく、し
たがって必要ならば、この現象のために償うべき厚さを少し増加させることは可
能であり、この大きさは続くすべての変形に対しても考えられうる。
【００１５】
第３の変形は、その水和および／または水酸化酸化物がプロトン伝導体である
金属、アルカリ土類金属もしくは半導体から得られる添加物にある。それは特に
、次の元素の少くとも１つであってもよい：Ｔａ，Ｚｎ，Ｚｒ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｓ
ｂ，Ｕ，Ｂｅ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｙ。酸化形態のこれらの物質は著しいエレクトロク
ロミック特性を有してはいない。一方、それらはエレクトロクロミック系におい
て、プロトン伝導電解質として役立つことができる物質として役立つ能力が知ら
れている：それらは酸化ニッケルのエレクトロクロミック特性を本来促進しない
が、それらはともかくその機能性に負の影響を与えず、酸化ニッケルに望まれう
る水酸化／水和の安定性を促進しやすい。いうまでもなく、この変形は、プロト
ンＨ+ の可逆的挿入により機能するエレクトロクロミック系に本質的に向けられ
ることが注目されるべきである。
金属、アルカリ土類金属もしくは半導体から得られる添加物にある。それは特に
、次の元素の少くとも１つであってもよい：Ｔａ，Ｚｎ，Ｚｒ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｓ
ｂ，Ｕ，Ｂｅ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｙ。酸化形態のこれらの物質は著しいエレクトロク
ロミック特性を有してはいない。一方、それらはエレクトロクロミック系におい
て、プロトン伝導電解質として役立つことができる物質として役立つ能力が知ら
れている：それらは酸化ニッケルのエレクトロクロミック特性を本来促進しない
が、それらはともかくその機能性に負の影響を与えず、酸化ニッケルに望まれう
る水酸化／水和の安定性を促進しやすい。いうまでもなく、この変形は、プロト
ンＨ+ の可逆的挿入により機能するエレクトロクロミック系に本質的に向けられ
ることが注目されるべきである。
【００１６】
第４の変形は、その酸化物が吸湿性である元素である添加物にあり、この特徴
は、エレクトロクロミック系がイオン、もっとも好ましくはプロトンのようなカ
チオン、の挿入／脱挿入による１つの機能であるときに有利である。これらの添
加物は、通常アルカリ金属、特にＬｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ，Ｃｓである。酸化ニッ
ケル中に酸化形態にあると、これらの物質は、エレクトロクロミック系において
陽極エレクトロクロミック物質として作用するとき、最も特に酸化ニッケルが水
和／水酸化されているときに、層に含まれる水の保持をきっとおそらく促進する
ことにより、酸化ニッケルの安定性を改良することがわかる。
は、エレクトロクロミック系がイオン、もっとも好ましくはプロトンのようなカ
チオン、の挿入／脱挿入による１つの機能であるときに有利である。これらの添
加物は、通常アルカリ金属、特にＬｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ，Ｃｓである。酸化ニッ
ケル中に酸化形態にあると、これらの物質は、エレクトロクロミック系において
陽極エレクトロクロミック物質として作用するとき、最も特に酸化ニッケルが水
和／水酸化されているときに、層に含まれる水の保持をきっとおそらく促進する
ことにより、酸化ニッケルの安定性を改良することがわかる。
【００１７】
本発明ターゲットの好適な態様は、合金Ｎｉ／Ｓｉ，Ｎｉ／Ａｌ，Ｎｉ／Ｓｎ
，Ｎｉ／Ｗ，Ｎｉ／Ｚｎ，Ｎｉ／ＴａおよびＮｉ／Ｙであり、最初の３つの合金
は製造するのに比較的安価である。合金ターゲットは真空蒸着の分野で知られて
いる方法、たとえば合金となるべき金属粉末の高温焼結により製造される。考え
られる合金全体に対するある添加物の厚子比についての指摘が下記になされ、そ
の割合はターゲットの強磁性が十分に消去されるように調節される： ・Ｎｉ／Ｗ合金について、約７原子％のタングステンＷを供給することが必要
である。
，Ｎｉ／Ｗ，Ｎｉ／Ｚｎ，Ｎｉ／ＴａおよびＮｉ／Ｙであり、最初の３つの合金
は製造するのに比較的安価である。合金ターゲットは真空蒸着の分野で知られて
いる方法、たとえば合金となるべき金属粉末の高温焼結により製造される。考え
られる合金全体に対するある添加物の厚子比についての指摘が下記になされ、そ
の割合はターゲットの強磁性が十分に消去されるように調節される： ・Ｎｉ／Ｗ合金について、約７原子％のタングステンＷを供給することが必要
である。
【００１８】
・Ｎｉ／Ｚｎ合金について、約１８原子％の亜鉛Ｚｎを供給することが必要で
ある。 ・Ｎｉ／Ｔａ合金について、約９原子％のタンタルＴａを供給することが必要
である。 ・Ｎｉ／Ｓｎ合金について、約８原子％のスズＳｎを供給することが必要であ
る。
ある。 ・Ｎｉ／Ｔａ合金について、約９原子％のタンタルＴａを供給することが必要
である。 ・Ｎｉ／Ｓｎ合金について、約８原子％のスズＳｎを供給することが必要であ
る。
【００１９】
・Ｎｉ／Ｓｉ合金について、約１０原子％のケイ素Ｓｉを供給することが必要
である。 ・Ｎｉ／Ｙ合金について、約３原子％のイットリウムＹを供給することが必要
である。 しかしながら、上述のとおり、たとえばターゲットの製造コストを制限するた
めに、および／または得られるニッケル合金酸化物の機能性の減少を制限するた
めに、十分にその強磁性を消去するのに必要であるよりも少ない量の添加物をニ
ッケルに添加することも選択されうる。
である。 ・Ｎｉ／Ｙ合金について、約３原子％のイットリウムＹを供給することが必要
である。 しかしながら、上述のとおり、たとえばターゲットの製造コストを制限するた
めに、および／または得られるニッケル合金酸化物の機能性の減少を制限するた
めに、十分にその強磁性を消去するのに必要であるよりも少ない量の添加物をニ
ッケルに添加することも選択されうる。
【００２０】
本発明の主題は、さらに、ニッケル合金酸化物にもとづく薄層の製造方法であ
り、それは任意に水和および／または水酸化および／またはプロトン化および／
または窒化物処理されており、そして上述のターゲットからの、酸化性の反応性
雰囲気中で磁場アシスト陰極スパッタの方法を用いる。 さらに、本発明の主題は、該酸化物にもとづく薄層のような陽極エレクトロク
ロミック物質のこの製造方法の使用である。
り、それは任意に水和および／または水酸化および／またはプロトン化および／
または窒化物処理されており、そして上述のターゲットからの、酸化性の反応性
雰囲気中で磁場アシスト陰極スパッタの方法を用いる。 さらに、本発明の主題は、該酸化物にもとづく薄層のような陽極エレクトロク
ロミック物質のこの製造方法の使用である。
【００２１】
さらに、本発明の主題は、Ｈ+，Ｌｉ+およびＯＨ- のようなイオンならびに電
子を可逆的に、かつ同時に挿入しうる、少くとも１つの電気化学的活性層を備え
る少くとも１つのキャリア基体からなる電気化学デバイスであり、該層は該酸化
物にもとづく。 この酸化物は、その組成が上で概説された４つの変形で明らかにされたターゲ
ットから得られる。さらに、一般的にはターゲットの合金中のニッケルに対する
添加物の原子比が、考慮中のターゲットから得られる酸化物層におけるニッケル
に対する添加物の原子比の範囲内であるのが通常であることが注目されうる。
子を可逆的に、かつ同時に挿入しうる、少くとも１つの電気化学的活性層を備え
る少くとも１つのキャリア基体からなる電気化学デバイスであり、該層は該酸化
物にもとづく。 この酸化物は、その組成が上で概説された４つの変形で明らかにされたターゲ
ットから得られる。さらに、一般的にはターゲットの合金中のニッケルに対する
添加物の原子比が、考慮中のターゲットから得られる酸化物層におけるニッケル
に対する添加物の原子比の範囲内であるのが通常であることが注目されうる。
【００２２】
ニッケルターゲットへの本発明による添加物の添加は当該のターゲットから得
られる酸化物層の構造に影響することがわかった。添加物の存在は酸化ニッケル
の結晶化を嫌うようにみえる：主として無定形である層は、このように得られる
が、小さい結晶「粒」を有することが、最も特に、Ｗ，Ｓｉ及びＬｉ型の添加物
について確められた。これらの形状を球と近似すると、これらの粒は通常５０nm
未満、特に少くとも２〜３nmの径を有する。標準酸化ニッケルの場合よりも大き
い無定形相および／または小さい結晶粒を有するのが有利である。なぜなら、酸
化ニッケルのエレクトロクロミック特性を活用するエレクトロクロミック装置で
活性なのは、結晶部分よりも、むしろ、とりわけ層の無定形部分であるからであ
る。本発明による層は、したがってシート間にＬｉ型のインターカレーション化
合物を有するシート構造を有するのではなく、むしろ均一に粒として分布する全
体的な無定形構造を有する。
られる酸化物層の構造に影響することがわかった。添加物の存在は酸化ニッケル
の結晶化を嫌うようにみえる：主として無定形である層は、このように得られる
が、小さい結晶「粒」を有することが、最も特に、Ｗ，Ｓｉ及びＬｉ型の添加物
について確められた。これらの形状を球と近似すると、これらの粒は通常５０nm
未満、特に少くとも２〜３nmの径を有する。標準酸化ニッケルの場合よりも大き
い無定形相および／または小さい結晶粒を有するのが有利である。なぜなら、酸
化ニッケルのエレクトロクロミック特性を活用するエレクトロクロミック装置で
活性なのは、結晶部分よりも、むしろ、とりわけ層の無定形部分であるからであ
る。本発明による層は、したがってシート間にＬｉ型のインターカレーション化
合物を有するシート構造を有するのではなく、むしろ均一に粒として分布する全
体的な無定形構造を有する。
【００２３】
その層は、任意に水和／水酸化および／または窒化物で処理される酸化ニッケ
ルにもとづき、酸化ニッケルはＩｒ，ＲｕもしくはＲｈのような、その酸化物が
陽極エレクトロクロミック物質である少くとも１つの添加物で合金化される（を
混合される）か、またはたとえばＭｏ，Ｗ，Ｒｅ，Ｓｎ，ＩｎもしくはＢｉのよ
うな、その酸化物が陰極エレクトロクロミック物質である少くとも１つの金属で
合金化されるか、またはＴａ，Ｚｎ，Ｚｒ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｓｂ，Ｕ，Ｍｇ，Ｌａ
もしくはＹのようなその水和および／または水酸化酸化物がプロトン導体である
少くとも１つのアルカリ土類金属もしくは半導体で合金化される。最後に、酸化
ニッケルは、その酸化物が吸湿性、たとえばＬｉ，Ｎａ，Ｋ，ＲｂもしくはＣｓ
のようなアルカリ金属である添加物で合金化されうる。
ルにもとづき、酸化ニッケルはＩｒ，ＲｕもしくはＲｈのような、その酸化物が
陽極エレクトロクロミック物質である少くとも１つの添加物で合金化される（を
混合される）か、またはたとえばＭｏ，Ｗ，Ｒｅ，Ｓｎ，ＩｎもしくはＢｉのよ
うな、その酸化物が陰極エレクトロクロミック物質である少くとも１つの金属で
合金化されるか、またはＴａ，Ｚｎ，Ｚｒ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｓｂ，Ｕ，Ｍｇ，Ｌａ
もしくはＹのようなその水和および／または水酸化酸化物がプロトン導体である
少くとも１つのアルカリ土類金属もしくは半導体で合金化される。最後に、酸化
ニッケルは、その酸化物が吸湿性、たとえばＬｉ，Ｎａ，Ｋ，ＲｂもしくはＣｓ
のようなアルカリ金属である添加物で合金化されうる。
【００２４】
ここで、「合金化される」（“ａｌｌｏｙｅｄ”）という用語は、次の意味を
有することが注目されるべきである：当該添加物は、酸化物形態の酸化ニッケル
と組合わされる。この酸化物は酸化ニッケルの微小ドメインから形成されるマト
リックスの形態であり得、その内部は当該添加物の酸化物にもとづく微小ドメイ
ンである。系はさらに、純混合酸化物であってもよく、そのニッケル原子は当該
添加物の原子で置換されている。
有することが注目されるべきである：当該添加物は、酸化物形態の酸化ニッケル
と組合わされる。この酸化物は酸化ニッケルの微小ドメインから形成されるマト
リックスの形態であり得、その内部は当該添加物の酸化物にもとづく微小ドメイ
ンである。系はさらに、純混合酸化物であってもよく、そのニッケル原子は当該
添加物の原子で置換されている。
【００２５】
好適な態様はＮｉＳｉｘＯｙ，ＮｉＡｌｘＯｙ、ＮｉＳｎｘＯｙ，ＮｉＷｘＯ
ｙ，ＮｉＺｎｘＯｙ，ＮａＴａｘＯｙおよびＮｉＹｘＯｙである。 さらに、得られる層は水和および／または水酸化および／またはプロトン化お
よび／または窒化物処理されてもよく、層の水和、プロトン化および／または水
酸化および／または窒化物処理の程度の制御は陰極スパッタ堆積パラメータを適
切に調節することにより特に達成され、たとえば堆積の間、反応性雰囲気の組成
を適合させることによる（特許ＥＰ８３１３６０において電解質層に特に期待さ
れたように）。反応性雰囲気は、少くともその１つの原子が窒素である、ある量
の分子を特に含みうる。
ｙ，ＮｉＺｎｘＯｙ，ＮａＴａｘＯｙおよびＮｉＹｘＯｙである。 さらに、得られる層は水和および／または水酸化および／またはプロトン化お
よび／または窒化物処理されてもよく、層の水和、プロトン化および／または水
酸化および／または窒化物処理の程度の制御は陰極スパッタ堆積パラメータを適
切に調節することにより特に達成され、たとえば堆積の間、反応性雰囲気の組成
を適合させることによる（特許ＥＰ８３１３６０において電解質層に特に期待さ
れたように）。反応性雰囲気は、少くともその１つの原子が窒素である、ある量
の分子を特に含みうる。
【００２６】
最後に、さらに本発明の主題は、エレクトロクロミック窓ガラス（ｇｌａｚｉ
ｎｇ）の１部を形成するためのこれらの電気化学デバイスの使用である。この窓
ガラスは外部窓ガラスもしくは内部仕切りもしくは窓ガラスをはめたドアとして
建物に備えられうる。さらに、それは、汽車、船、飛行機、乗用車もしくはトラ
ックのような交通手段にサイドウィンドー、サンルーフ等として備えられ得る。
さらに、それはディスプレイスクリーン窓ガラス、たとえばコンピューターもし
くはテレビジョンのスクリーンもしくはタッチスクリーン、めがね、写真用品の
対物レンズならびに太陽パネル保護に使用されうる。さらに、それは鏡、たとえ
ば乗物のまぶしさ防止バックミラーをつくるためにも用いられうる（導電層の１
つを十分に厚くすることにより、および/または不透明化コーティングを付可す
ることにより）。それはさらに電池およびバッテリーのようなエネルギー貯蔵デ
バイスを製造するのに用いられうる。
ｎｇ）の１部を形成するためのこれらの電気化学デバイスの使用である。この窓
ガラスは外部窓ガラスもしくは内部仕切りもしくは窓ガラスをはめたドアとして
建物に備えられうる。さらに、それは、汽車、船、飛行機、乗用車もしくはトラ
ックのような交通手段にサイドウィンドー、サンルーフ等として備えられ得る。
さらに、それはディスプレイスクリーン窓ガラス、たとえばコンピューターもし
くはテレビジョンのスクリーンもしくはタッチスクリーン、めがね、写真用品の
対物レンズならびに太陽パネル保護に使用されうる。さらに、それは鏡、たとえ
ば乗物のまぶしさ防止バックミラーをつくるためにも用いられうる（導電層の１
つを十分に厚くすることにより、および/または不透明化コーティングを付可す
ることにより）。それはさらに電池およびバッテリーのようなエネルギー貯蔵デ
バイスを製造するのに用いられうる。
【００２７】
本発明の他の有利な詳細および特徴は種々の制限的でない態様から次に明らか
になろう。 次の実施例はいわゆる「全固体」エレクトロクロミック窓ガラスである。比較例１ 窓ガラスは次の配列を有する：
になろう。 次の実施例はいわゆる「全固体」エレクトロクロミック窓ガラスである。比較例１ 窓ガラスは次の配列を有する：
【００２８】
【化１】
・ガラス（１）は標準的な透明ケイ素−ナトリウム−カルシウム板ガラスであ
る。 ・フッ素ドープ酸化スズでつくられる層（２）はＣＶＤによる公知の方法で得
られる第１の透明導電層である。
る。 ・フッ素ドープ酸化スズでつくられる層（２）はＣＶＤによる公知の方法で得
られる第１の透明導電層である。
【００２９】
・ＮｉＯｘＨｙでつくられる層（３）は、対電極、系の陽極エレクトロクロミ
ック物質であり、約９９．９５原子％のニッケルを含むニッケルターゲットから
Ａｒ／Ｏ2／Ｈ2反応性雰囲の存在下、陰極スパッタにより得られる； ・ＷＯ3でつくられる層（４）およびＴａ2Ｏ5 でつくられる層（５）は、電解
質を形成するが、Ｗの、およびＴａのターゲットから陰極スパッタにより公知の
方法で堆積される（とくに特許ＥＰ８６７７５２の教示による）； ・ＨｘＷＯ3 でつくられる層（６）は陰極エレクトロクロミック物質の層であ
り、タングステンターゲットから反応性スパッタにより公知の方法で堆積される
； ・スズドープ酸化インジウムでつくられる層（７）は第２の透明導電層であり
、インジウムおよびスズでつくられる合金ターゲットから陰極スパッタにより公
知の方法で堆積される。
ック物質であり、約９９．９５原子％のニッケルを含むニッケルターゲットから
Ａｒ／Ｏ2／Ｈ2反応性雰囲の存在下、陰極スパッタにより得られる； ・ＷＯ3でつくられる層（４）およびＴａ2Ｏ5 でつくられる層（５）は、電解
質を形成するが、Ｗの、およびＴａのターゲットから陰極スパッタにより公知の
方法で堆積される（とくに特許ＥＰ８６７７５２の教示による）； ・ＨｘＷＯ3 でつくられる層（６）は陰極エレクトロクロミック物質の層であ
り、タングステンターゲットから反応性スパッタにより公知の方法で堆積される
； ・スズドープ酸化インジウムでつくられる層（７）は第２の透明導電層であり
、インジウムおよびスズでつくられる合金ターゲットから陰極スパッタにより公
知の方法で堆積される。
【００３０】
この窓ガラスは、適切な方法で窓ガラスにわたって発生される電位差を変える
ことによって、１つのエレクトロクロミック層から他の層へのプロトン移動によ
り機能する。 ＮｉＯｘＨｙでつくられる層（３）は得るのが困難である。その堆積速度は４
nm．ｍ／分にすぎない。ターゲットは均一には被覆されない（被覆度は５％未満
である）。本発明による実施例２ これは、ＮｉＯｘＨｙでつくられる層（３）を２５０ｎｍ厚さのＮｉＳｉｚＯ
ｘＨｙでつくられる層３ａで置き換えることにあり、Ｎｉ＋Ｓｉに対するＳｉ約
１０原子％の割合を有するＮｉ／Ｓｉ合金ターゲットからＡｒ／Ｏ2／Ｈ2反応性
雰囲気中で陰極スパッタにより得られる。本発明による実施例３ これはＮｉＯｘＨｙでつくられる層（３）を２５０nm厚さのＮｉＷｚＯｘＨｙ
でつくられる層３ｂで置き換えることにあり、Ｎｉ＋Ｗに対するＷ約７原子％の
割合を有するＮｉ＋Ｗ合金ターゲットから上述のように得られる。下の表１は上
の３つの実施例により得られる、酸化ニッケルにもとづく層の堆積速度を示し、
これらの速度はnm．ｍ／分（３．５ｗ／cm2 での堆積）で表される：
ことによって、１つのエレクトロクロミック層から他の層へのプロトン移動によ
り機能する。 ＮｉＯｘＨｙでつくられる層（３）は得るのが困難である。その堆積速度は４
nm．ｍ／分にすぎない。ターゲットは均一には被覆されない（被覆度は５％未満
である）。本発明による実施例２ これは、ＮｉＯｘＨｙでつくられる層（３）を２５０ｎｍ厚さのＮｉＳｉｚＯ
ｘＨｙでつくられる層３ａで置き換えることにあり、Ｎｉ＋Ｓｉに対するＳｉ約
１０原子％の割合を有するＮｉ／Ｓｉ合金ターゲットからＡｒ／Ｏ2／Ｈ2反応性
雰囲気中で陰極スパッタにより得られる。本発明による実施例３ これはＮｉＯｘＨｙでつくられる層（３）を２５０nm厚さのＮｉＷｚＯｘＨｙ
でつくられる層３ｂで置き換えることにあり、Ｎｉ＋Ｗに対するＷ約７原子％の
割合を有するＮｉ＋Ｗ合金ターゲットから上述のように得られる。下の表１は上
の３つの実施例により得られる、酸化ニッケルにもとづく層の堆積速度を示し、
これらの速度はnm．ｍ／分（３．５ｗ／cm2 での堆積）で表される：
【００３１】
【表１】
上述の層で被覆されたガラスは、電圧発生器に公知の方法で連結される電力供
給を備える。ついで、それらは１．２５mm厚さのポリウレタンシートにより第１
と同一の第２ガラスで積層される。
給を備える。ついで、それらは１．２５mm厚さのポリウレタンシートにより第１
と同一の第２ガラスで積層される。
【００３２】
３つの積層窓ガラス試料は、ついで、発色／消色サイクル（約−１．２Ｖの電
圧を印加することにより発色、そして約０．８Ｖの電圧を印加することにより消
色）に供された。窓ガラス試料が発色され（「発色」）、ついで消色される（「
消色」）されるときに、光透過における測色系（Ｌ，ａ*，ｂ*）のａ*およびｂ* の光透過率ＴL （％）、ならびにエネルギー伝達率ＴE （％）（ＴL 測定に対す
る対照：発光体Ｄ65）が、ついで測定され、下の表２は３つの窓ガラス試料に関
するすべてのこれらのデータを一緒にする：
圧を印加することにより発色、そして約０．８Ｖの電圧を印加することにより消
色）に供された。窓ガラス試料が発色され（「発色」）、ついで消色される（「
消色」）されるときに、光透過における測色系（Ｌ，ａ*，ｂ*）のａ*およびｂ* の光透過率ＴL （％）、ならびにエネルギー伝達率ＴE （％）（ＴL 測定に対す
る対照：発光体Ｄ65）が、ついで測定され、下の表２は３つの窓ガラス試料に関
するすべてのこれらのデータを一緒にする：
【００３３】
【表２】
これらのデータから、酸化ニッケルにもとづくエレクトロクロミック物質にな
された変化はその性能に影響しないことを確かめることができる： 本発明による実施例２および３で達成される光透過率の範囲およびエネルギー
伝達の範囲は比較例１のとほとんど同一であり、透過の測色状況は有意には変わ
っていない。一方、本発明による酸化ニッケルにもとづく層の堆積速度は、酸化
ニッケルにもとづく標準的な層の堆積速度より少くとも５倍は高い。
された変化はその性能に影響しないことを確かめることができる： 本発明による実施例２および３で達成される光透過率の範囲およびエネルギー
伝達の範囲は比較例１のとほとんど同一であり、透過の測色状況は有意には変わ
っていない。一方、本発明による酸化ニッケルにもとづく層の堆積速度は、酸化
ニッケルにもとづく標準的な層の堆積速度より少くとも５倍は高い。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 2K001 CA18
4K029 AA09 BA50 BD00 CA06 DC04
Claims (21)
- 【請求項１】 陰極スパッタ装置、特に磁場アシスト装置、の本質的に金属
のターゲットであり、該ターゲットは主にニッケルからなり、ニッケルはその強
磁性を減少もしくは消去するために少くとも１つの他の少ない元素と合金化され
ることを特徴とするターゲット。 - 【請求項２】 合金中の該元素の割合が２０原子％以下、特に１８％以下、
好ましくは３％〜１５％であることを特徴とする請求項１記載のターゲット。 - 【請求項３】 少ない元素が、その酸化物が陽極発色を有するエレクトロク
ロミック物質である金属であることを特徴とする請求項１もしくは２記載のター
ゲット。 - 【請求項４】 少ない元素がＩｒ，ＲｕおよびＲｈから選ばれることを特徴
とする請求項３記載のターゲット。 - 【請求項５】 少ない元素が、その酸化物が陰極発色を有するエレクトロク
ロミック物質である金属であることを特徴とする請求項１もしくは２記載のター
ゲット。 - 【請求項６】 金属がＭｏ，Ｗ，Ｒｅ，Ｓｎ，ＩｎおよびＢｉから選ばれる
ことを特徴とする請求項５記載のターゲット。 - 【請求項７】 少ない元素が、その水和もしくは水酸化酸化物がプロトン導
体である、金属、アルカリ土類金属もしくは半導体であることを特徴とする請求
項１もしくは２記載のターゲット。 - 【請求項８】 少ない元素が、Ｔａ，Ｚｎ，Ｚｒ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｓｂ，Ｕ，
Ｂｅ，Ｍｇ，ＣａおよびＹから選ばれることを特徴とする請求項７記載のターゲ
ット。 - 【請求項９】 少ない元素が、その酸化物が吸湿性で、アルカリ金属型であ
る元素であることを特徴とする請求項１もしくは２記載のターゲット。 - 【請求項１０】 その酸化物が吸湿性である元素が、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ およびＣｓから選ばれることを特徴とする請求項９記載のターゲット。
- 【請求項１１】 Ｎｉ／Ｓｉ，Ｎｉ／Ａｌ，Ｎｉ／Ｓｎ，Ｎｉ／Ｗ，Ｎｉ／
Ｚｎ，Ｎｉ／ＴａもしくはＮｉ／Ｙ合金からつくられることを特徴とする請求項
５〜８のいずれかに記載のターゲット。 - 【請求項１２】 酸化反応性雰囲における磁場アシスト陰極スパッタにより
、任意に水和／水酸化もしくはプロトン化および／または窒素物処理される、ニ
ッケル合金酸化物にもとづく薄層を製造する方法であり、請求項１〜１２のいず
れか記載のターゲットを使用することを特徴とする薄層の製造方法。 - 【請求項１３】 任意に水和／水酸化および／またはプロトン化および／ま
たは窒化物処理される、ニッケル合金酸化物にもとづく薄層として、陽極発色を
有するエレクトロクロミック物質を製造するために、請求項１２記載の方法の使
用。 - 【請求項１４】 Ｈ+，Ｌｉ+およびＯＨ- のようなイオンならびに電子を可
逆的に、かつ同時に挿入しうる、少くとも１つの電気化学的活性層を含む多数の
機能性質を備える少くとも１つのキャリア基体からなる電気化学デバイスであり
、該電気化学的活性層が請求項１２記載の方法により、および／または請求項１
〜１１のいずれかに記載のターゲットから、得られるニッケル合金酸化物にもと
づくことを特徴とする電気化学デバイス。 - 【請求項１５】 ニッケル合金酸化物が、好適には径が５０nm以下の結晶粒
を有する無定形を主とすることを特徴とする請求項１４記載の電気化学デバイス
。 - 【請求項１６】 Ｈ+，ＯＨ-およびＬｉ+ のようなイオン、ならびに電気を
可逆的に、かつ同時に挿入しうる、少くとも１つの電気化学的活性層を含む多数
の機能性層を備える少くとも１つのキャリア基体からなる電気化学デバイスであ
り、該層は、任意に水和および／または水酸化および／またはプロトン化および
／または窒化物処理されてもよい酸化ニッケルにもとづき、酸化ニッケルは、そ
の酸化物が、次の金属：Ｉｒ，Ｒｕ，Ｒｈの少くとも１つから特に選ばれる陽極
エレクトロクロミック物質である金属の形態の少くとも１つの少ない元素で合金
化されている、ことを特徴とする電気化学デバイス。 - 【請求項１７】 Ｈ+，ＯＨ-およびＬｉ+ のようなイオン、ならびに電子を
可逆的に、かつ同時に挿入しうる、少くとも１つの電気化学的活性層を含む多数
の機能性層を備える少くとも１つのキャリア基体からなる電気化学デバイスであ
り、該層は、任意に水和および／または水酸化および／またはプロトン化および
／または窒化物処理されてもよい酸化ニッケルにもとづき、酸化ニッケルは、そ
の酸化物が次の金属：Ｍｏ，Ｗ，Ｒｅ，Ｓｎ，Ｉｎ，Ｂｉの少くとも１つから特
に選ばれる陰極エレクトロクロミック物質である金属の形態の少くとも１つの少
ない元素で合金化されている、ことを特徴とする電気化学デバイス。 - 【請求項１８】 Ｈ+，ＯＨ-およびＬｉ+ のようなイオン、ならびに電子を
可逆的に、かつ同時に挿入しうる、少くとも１つの電気化学活性層を備える少く
とも１つのキャリア基体からなる電気化学デバイスであり、該電気化学活性層は
、任意に水和および／または水酸化および／またはプロトン化および／または窒
化物処理されてもよい酸化ニッケルにもとづき、酸化ニッケルは、その水和およ
び／または水酸化酸化物が次の元素：Ｔａ，Ｚｎ，Ｚｒ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｓｂ，Ｕ
，Ｂｅ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｙの少くとも１つから特に選ばれるプロント導体である、
金属、アルカリ土類金属もしくは半導体の形態の少くとも１つの少ない元素で合
金化されている、ことを特徴とする電気化学デバイス。 - 【請求項１９】 Ｈ+，ＯＨ-およびＬｉ+ のようなイオン、ならびに電子を
可逆的に、かつ同時に挿入しうる、少くとも１つの電気化学活性層を備える少く
とも１つのキャリア基体からなる電気化学デバイスであり、該電気化学活性層は
、任意に水和および／または水酸化および／または窒化物処理されてもよい酸化
ニッケルにもとづき、酸化ニッケルは、その酸化物が次の金属：Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ
，Ｒｂ，Ｃｓの少くとも１つから特に選ばれる、アルカリ金属型の吸湿性である
少くとも１つの元素で合金化されている、ことを特徴とする電気化学デバイス。 - 【請求項２０】 酸化ニッケルにもとづく層がＮｉＳｉｘＯｙ，ＮｉＡｌｘ
Ｏｙ，ＮｉＳｎｘＯｙ，ＮｉＷｘＯｙ，ＮｉＺｎｘＯｙ，ＮｉＴａｘＯｙもしく
はＮｉＹｘＯｙの形態であることを特徴とする請求項１７もしくは１８記載の電
気化学デバイス。 - 【請求項２１】 エレクトロクロミック窓ガラスの１部、とくに建物または
汽車、飛行機もしくは自動車のような交通機関用窓ガラス、を形成するため、デ
ィスプレイスクリーンの１部を形成するため、または乗物のバックミラーのよう
なエレクトロクロミック鏡の１部を形成するための、請求項１４〜２０のいずれ
かに記載の電気化学デバイスの使用。
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|---|---|---|---|
| FR99/06408 | 1999-05-20 | ||
| FR9906408A FR2793888B1 (fr) | 1999-05-20 | 1999-05-20 | Dispositif electrochimique |
| PCT/FR2000/001388 WO2000071777A1 (fr) | 1999-05-20 | 2000-05-19 | Dispositif electrochimique |
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|---|---|
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|---|---|---|---|
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|---|---|
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| KR (1) | KR100686611B1 (ja) |
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Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008216744A (ja) * | 2007-03-06 | 2008-09-18 | Nissan Motor Co Ltd | エレクトロクロミック膜 |
| JP2009155722A (ja) * | 2007-12-05 | 2009-07-16 | Hitachi Metals Ltd | Ｎｉ−Ｗ系焼結ターゲット材 |
| JP2009545765A (ja) * | 2006-08-04 | 2009-12-24 | サン−ゴバン グラス フランス | 可変の光学および／またはエネルギー特性を有するグレイジングタイプの電気化学的なおよび／または電気制御可能な素子 |
| JP2012530026A (ja) * | 2009-06-15 | 2012-11-29 | セイジ・エレクトロクロミクス，インコーポレイテッド | 積層ガラス板およびその使用 |
| JP2014052611A (ja) * | 2012-09-10 | 2014-03-20 | Kitami Institute Of Technology | エレクトロクロミック素子及びその製造方法 |
| JP2015534127A (ja) * | 2012-10-12 | 2015-11-26 | セイジ・エレクトロクロミクス，インコーポレイテッド | エレクトロクロミック素子の改善された色及び太陽熱入射制御のための部分的に色合いをつけた透明な状態 |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SE0103198D0 (sv) * | 2001-09-26 | 2001-09-26 | Andris Azens | Electrochromic film and device comprising the same |
| FR2833107B1 (fr) * | 2001-12-05 | 2004-02-20 | Saint Gobain | Electrode de dispositifs electrochimiques/electrocommandables |
| FR2835534B1 (fr) * | 2002-02-06 | 2004-12-24 | Saint Gobain | CIBLE CERAMIQUE NiOx NON STOECHIOMETRIQUE |
| EP1478538B1 (fr) | 2002-02-20 | 2007-09-12 | Saint-Gobain Glass France | Vitrage avec un element rigide incorpore dans une piece en plastique surmoulee |
| US7372610B2 (en) | 2005-02-23 | 2008-05-13 | Sage Electrochromics, Inc. | Electrochromic devices and methods |
| CN103814107B (zh) | 2011-07-21 | 2017-08-04 | Sage电致变色显示有限公司 | 同时掺杂有锂和金属掺杂物的电致变色的镍氧化物 |
| AT14157U1 (de) | 2013-12-20 | 2015-05-15 | Plansee Se | W-Ni-Sputtertarget |
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| FR3140955A1 (fr) | 2022-10-13 | 2024-04-19 | Saint-Gobain Glass France | Vitrage electrochrome |
Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5424231A (en) * | 1977-07-25 | 1979-02-23 | Motorola Inc | Method and apparatus for magnetronnsputtering ferro magnetic materials |
| JPH02199429A (ja) * | 1988-11-21 | 1990-08-07 | Saint Gobain Vitrage Internatl | エレクトロクロミック集成体 |
| JPH0728098A (ja) * | 1993-07-14 | 1995-01-31 | Asahi Glass Co Ltd | エレクトロクロミック調光体の製造方法および製造装置 |
| JPH07321069A (ja) * | 1994-05-26 | 1995-12-08 | Nec Corp | 半導体集積回路装置の製造方法 |
| JPH09152634A (ja) * | 1995-03-03 | 1997-06-10 | Canon Inc | エレクトロクロミック素子及びその製造方法 |
| JPH09249962A (ja) * | 1996-03-14 | 1997-09-22 | Toshiba Corp | 酸化物薄膜の形成方法および酸化物薄膜 |
| JPH10195643A (ja) * | 1996-12-26 | 1998-07-28 | Toshiba Corp | スパッタターゲット、スパッタ装置、半導体装置およびその製造方法 |
| JPH10206902A (ja) * | 1996-09-18 | 1998-08-07 | Saint Gobain Vitrage | 電気化学装置及びその製造方法 |
| JPH10251848A (ja) * | 1997-03-17 | 1998-09-22 | Japan Energy Corp | スパッタリング用ターゲットおよび皮膜形成方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2746934B1 (fr) * | 1996-03-27 | 1998-05-07 | Saint Gobain Vitrage | Dispositif electrochimique |
| DE19640515A1 (de) * | 1996-10-01 | 1998-04-09 | Flachglas Ag | Elektrochromer Spiegel und Verfahren zum Herstellen eines elektrochromen Spiegels |
-
1999
- 1999-05-20 FR FR9906408A patent/FR2793888B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2000
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- 2000-05-19 KR KR1020017000771A patent/KR100686611B1/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5424231A (en) * | 1977-07-25 | 1979-02-23 | Motorola Inc | Method and apparatus for magnetronnsputtering ferro magnetic materials |
| JPH02199429A (ja) * | 1988-11-21 | 1990-08-07 | Saint Gobain Vitrage Internatl | エレクトロクロミック集成体 |
| JPH0728098A (ja) * | 1993-07-14 | 1995-01-31 | Asahi Glass Co Ltd | エレクトロクロミック調光体の製造方法および製造装置 |
| JPH07321069A (ja) * | 1994-05-26 | 1995-12-08 | Nec Corp | 半導体集積回路装置の製造方法 |
| JPH09152634A (ja) * | 1995-03-03 | 1997-06-10 | Canon Inc | エレクトロクロミック素子及びその製造方法 |
| JPH09249962A (ja) * | 1996-03-14 | 1997-09-22 | Toshiba Corp | 酸化物薄膜の形成方法および酸化物薄膜 |
| JPH10206902A (ja) * | 1996-09-18 | 1998-08-07 | Saint Gobain Vitrage | 電気化学装置及びその製造方法 |
| JPH10195643A (ja) * | 1996-12-26 | 1998-07-28 | Toshiba Corp | スパッタターゲット、スパッタ装置、半導体装置およびその製造方法 |
| JPH10251848A (ja) * | 1997-03-17 | 1998-09-22 | Japan Energy Corp | スパッタリング用ターゲットおよび皮膜形成方法 |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009545765A (ja) * | 2006-08-04 | 2009-12-24 | サン−ゴバン グラス フランス | 可変の光学および／またはエネルギー特性を有するグレイジングタイプの電気化学的なおよび／または電気制御可能な素子 |
| JP2008216744A (ja) * | 2007-03-06 | 2008-09-18 | Nissan Motor Co Ltd | エレクトロクロミック膜 |
| JP2009155722A (ja) * | 2007-12-05 | 2009-07-16 | Hitachi Metals Ltd | Ｎｉ−Ｗ系焼結ターゲット材 |
| JP2012530026A (ja) * | 2009-06-15 | 2012-11-29 | セイジ・エレクトロクロミクス，インコーポレイテッド | 積層ガラス板およびその使用 |
| US11097513B2 (en) | 2009-06-15 | 2021-08-24 | Sage Electrochromics, Inc. | Laminated glass pane and use thereof |
| JP2014052611A (ja) * | 2012-09-10 | 2014-03-20 | Kitami Institute Of Technology | エレクトロクロミック素子及びその製造方法 |
| JP2015534127A (ja) * | 2012-10-12 | 2015-11-26 | セイジ・エレクトロクロミクス，インコーポレイテッド | エレクトロクロミック素子の改善された色及び太陽熱入射制御のための部分的に色合いをつけた透明な状態 |
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