JP2003347744A - Resin film for manufacturing multilayer printed circuit board - Google Patents

Resin film for manufacturing multilayer printed circuit board

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JP2003347744A
JP2003347744A JP2002154806A JP2002154806A JP2003347744A JP 2003347744 A JP2003347744 A JP 2003347744A JP 2002154806 A JP2002154806 A JP 2002154806A JP 2002154806 A JP2002154806 A JP 2002154806A JP 2003347744 A JP2003347744 A JP 2003347744A
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JP
Japan
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layer
insulating layer
circuit board
thermosetting resin
multilayer printed
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Application number
JP2002154806A
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Japanese (ja)
Inventor
Daisuke Kanetani
大介 金谷
Shuji Maeda
修二 前田
Shinya Nishimoto
晋也 西本
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Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin film for manufacturing a multilayer printed circuit board, which enables formation of an insulating layer having excellent insulation reliability, without damaging its adhesion to a conductive layer. <P>SOLUTION: The resin film 3 for manufacturing a multilayer printed circuit board is adhered to the surface of a circuit board 4 by vacuum lamination. In the lamination, stacking is performed using a first layer consisting of a thermosetting resin composition which comprises rubber constituents soluble in alkali and inorganic fillers, and a second layer consisting of a thermosetting resin composition which comprises neither the rubber constituents nor the inorganic fillers. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、電子機
器、電気機器、コンピュータ、通信機器などに使用され
る多層プリント配線板の絶縁層を形成するために用いら
れる多層プリント配線板製造用樹脂フィルムに関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resin film for producing a multilayer printed wiring board used for forming an insulating layer of a multilayer printed wiring board used for electronic equipment, electric equipment, computers, communication equipment and the like. It is about.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体チップやチップ部品等の電
子部品は軽薄小型化が進んでおり、これに伴い、導体回
路のライン幅及びライン間隔が200μ以下の狭ピッチ
となったいわゆるファインパターンを有するプリント配
線板の製造技術が求められてきている。特に、上記電子
部品等の実装部品が接続されるランドにおけるファイン
パターン化の要求が高いものであり、また、最近ではプ
リント配線板の低重量化、設計のし易さ、信号の高速化
などの要求にも応える必要があり、このために、一般的
なプリント配線板の構成上に絶縁層と導体層とを逐次積
層して形成していくビルドアップ多層プリント配線板
が、上記のファインパターン化(高密度化)等の有力な
対応策として用いられている。
2. Description of the Related Art In recent years, electronic components such as semiconductor chips and chip components have become lighter, thinner and smaller, and accordingly, so-called fine patterns in which the line width and line interval of a conductor circuit have a narrow pitch of 200 μ or less have been developed. There is a demand for a technique for manufacturing a printed wiring board having the same. In particular, there is a high demand for fine patterns on lands to which the mounted components such as the electronic components are connected, and recently, there have been demands for reducing the weight of printed wiring boards, ease of design, and increasing the speed of signals. It is necessary to meet the demands, and for this reason, the build-up multilayer printed wiring board, which is formed by sequentially laminating insulating layers and conductor layers on the structure of a general printed wiring board, (High density) is used as a major countermeasure.

【0003】このような技術背景に鑑み、近年では、内
層回路となる回路を有する回路板の表面に樹脂フィルム
(アディティブ接着剤)を貼り合わせた後硬化させて、
回路板の表面に絶縁層を形成し、この絶縁層の表面をア
ルカリ性酸化剤で粗面化した後、絶縁層の表面に外層回
路となる導体層を形成することによって、多層プリント
配線板を製造することが提案されている(例えば、特開
平8−64960号公報)。このように樹脂フィルムを
供給して絶縁層を形成する方法では、絶縁層にガラスク
ロス等の基材が含まれないために、電気信号の高速化な
どの電気特性の面や、多層プリント配線板の総重量を軽
減できることや、加工時に真空積層用の大型プレス設備
が不要である等のさまざまなメリットを有しているもの
である。
[0003] In view of such technical background, in recent years, a resin film (additive adhesive) is bonded to the surface of a circuit board having a circuit to be an inner layer circuit and then cured.
A multi-layer printed wiring board is manufactured by forming an insulating layer on the surface of a circuit board, roughening the surface of the insulating layer with an alkaline oxidizing agent, and then forming a conductor layer serving as an outer layer circuit on the surface of the insulating layer. (For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-64960). In the method of forming an insulating layer by supplying a resin film in this manner, since the insulating layer does not include a base material such as glass cloth, the electrical characteristics such as speeding up of an electric signal and the multilayer printed wiring board are reduced. It has various advantages, such as a reduction in the total weight of the device and the need for a large-scale press for vacuum lamination during processing.

【0004】上記のように樹脂フィルムにより絶縁層を
形成する場合、最も重要な性能として絶縁層とその表面
に形成される導体層との密着強度(接着強度)が挙げら
れる。絶縁層と導体層の密着強度を高める方法は、導体
層を形成する工法等によって対応手段が様々であるが、
より安価に多層プリント配線板を形成することができる
ように、過マンガン酸で絶縁層の表面を粗面化した後、
粗面化した絶縁層の表面に化学銅めっきを施し、この
後、電気めっきを施して導体層を形成する、といったプ
ロセスで用いることができる方法が要求されている。
[0004] When the insulating layer is formed of a resin film as described above, the most important performance is the adhesion strength (adhesion strength) between the insulating layer and the conductor layer formed on the surface thereof. There are various methods for increasing the adhesion strength between the insulating layer and the conductor layer depending on a method of forming the conductor layer, and the like.
After roughening the surface of the insulating layer with permanganic acid, so that a multilayer printed wiring board can be formed at lower cost,
There is a demand for a method that can be used in a process of performing chemical copper plating on the surface of a roughened insulating layer and then performing electroplating to form a conductor layer.

【0005】そこで、耐熱性樹脂等で形成される樹脂フ
ィルムのマトリックス中に以下ので示すような添加
物質を配合して、導体層に対するアンカー効果を絶縁層
に持たせることで絶縁層と導体層の密着強度を高く維持
することが現状の材料技術では略必須となっている。
[0005] Therefore, the following additive substances are blended in a matrix of a resin film formed of a heat-resistant resin or the like, and the insulating layer has an anchoring effect on the conductor layer so that the insulating layer and the conductor layer can be combined. Maintaining high adhesion strength is almost essential in the current material technology.

【0006】過マンガン酸による粗面化の工程で化学
的に溶解することにより、導体層が食い込む部分を絶縁
層に作製されやすくする樹脂成分や無機物質。
[0006] A resin component or an inorganic substance that can be easily formed in an insulating layer at a portion where a conductor layer bites by being chemically dissolved in a surface roughening step using permanganic acid.

【0007】過マンガン酸による粗面化の工程で絶縁
層から単純に脱落することにより、導体層が食い込む部
分を絶縁層に作製されやすくする無機物質。
[0007] An inorganic substance that is easily dropped from the insulating layer in the step of surface roughening with permanganic acid, thereby facilitating the formation of a portion where the conductor layer bites into the insulating layer.

【0008】上記の添加物質としては、特開平5−3
20924号公報に記載のエポキシ化ブタジエンゴム、
特開平5−320924号公報に記載のアクリロニトリ
ルブタジエンゴム、特開平8−139449号公報に記
載の架橋アクリロニトリルブタジエンゴム、特開平6−
237084号公報に記載のシリコーンゴム微粉末、特
開平7−34048号公報に記載の酸に可溶なエポキシ
微粉末、特開平11−340625号公報に記載の炭酸
カルシウムなどを例示することができ、また、上記の
添加物質としては、特開平11−340625号公報に
記載の微粉砕シリカ、特開2001−94261号公報
に記載の球状多孔質シリカなどを例示することができ
る。
[0008] As the above-mentioned additives, JP-A-5-3
Epoxidized butadiene rubber described in JP-A-20924;
Acrylonitrile butadiene rubber described in JP-A-5-320924, cross-linked acrylonitrile-butadiene rubber described in JP-A-8-139449,
Examples include silicone rubber fine powder described in 237084, acid-soluble epoxy fine powder described in JP-A-7-34048, and calcium carbonate described in JP-A-11-340625, Examples of the above-mentioned additive substance include finely divided silica described in JP-A-11-340625 and spherical porous silica described in JP-A-2001-94261.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】上記の添加物質を
絶縁層のマトリックス中に配合し、過マンガン酸等で絶
縁層の表面を化学的に粗面化することにより、絶縁層の
表面に凹凸を効率的に形成することができ、絶縁層と導
体層の密着強度を高くすることが可能である。
SUMMARY OF THE INVENTION The above additives are mixed in a matrix of an insulating layer, and the surface of the insulating layer is chemically roughened with permanganic acid or the like, thereby forming irregularities on the surface of the insulating layer. The insulating layer and the conductor layer can be efficiently formed, and the adhesion strength between the insulating layer and the conductor layer can be increased.

【0010】しかしながら、絶縁層のマトリックスと添
加物質との界面の発生等の新たな技術課題が強調され、
上記の添加物質を配合するだけでは単純に解決できない
問題が発生している。特に、絶縁層が薄くなった場合の
絶縁信頼性の低下に及ぼす影響が深刻で、多層プリント
配線板を薄型化しながら高密度化していく上で大きな障
害となっていた。
However, new technical issues such as generation of an interface between the matrix of the insulating layer and the additive substance have been emphasized,
There is a problem that cannot be solved simply by blending the above-mentioned additive substances. In particular, when the thickness of the insulating layer is reduced, the influence on the insulation reliability is seriously reduced, which has been a major obstacle in increasing the density of the multilayer printed wiring board while reducing the thickness.

【0011】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あり、導体層との密着性を損なうことなく絶縁信頼性に
優れる絶縁層を形成することができる多層プリント配線
板製造用樹脂フィルムを提供することを目的とするもの
である。
[0011] The present invention has been made in view of the above points, and a resin film for manufacturing a multilayer printed wiring board capable of forming an insulating layer having excellent insulation reliability without impairing adhesion to a conductor layer. It is intended to provide.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
多層プリント配線板製造用樹脂フィルム3は、真空ラミ
ネートにより回路板4の表面に密着される多層プリント
配線板製造用樹脂フィルム3において、アルカリに可溶
なゴム成分と無機フィラーとを含む熱硬化性樹脂組成物
からなる第一層3aと、上記ゴム成分及び無機フィラー
を含まない熱硬化性樹脂組成物からなる第二層3bとを
積層して成ることを特徴とするものである。
The resin film for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the first aspect of the present invention is a resin film for manufacturing a multilayer printed wiring board adhered to the surface of a circuit board by vacuum lamination. A first layer 3a made of a thermosetting resin composition containing a rubber component soluble in alkali and an inorganic filler, and a second layer 3b made of a thermosetting resin composition containing no rubber component and no inorganic filler. Are laminated.

【0013】また、本発明の請求項2に係る多層プリン
ト配線板製造用樹脂フィルム3は、請求項1に加えて、
第一層3aの熱硬化性樹脂組成物がゴム成分を2〜40
質量%、無機フィラーを2〜20質量%それぞれ含有し
て成ることを特徴とするものである。
Further, the resin film 3 for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 2 of the present invention,
The thermosetting resin composition of the first layer 3a contains 2 to 40 rubber components.
% By mass, and 2 to 20% by mass of an inorganic filler.

【0014】また、本発明の請求項3に係る多層プリン
ト配線板製造用樹脂フィルム3は、請求項1又は2に加
えて、第一層3aの厚みを10〜50μm、第二層3b
の厚みを10〜30μmにそれぞれ形成して成ることを
特徴とするものである。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a resin film 3 for producing a multilayer printed wiring board, wherein the first layer 3a has a thickness of 10 to 50 μm and the second layer 3b
Is formed to have a thickness of 10 to 30 μm, respectively.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。
Embodiments of the present invention will be described below.

【0016】本発明において、第一層及び第二層を構成
する熱硬化性樹脂としてはビスフェノールA型エポキシ
樹脂、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、液状臭
素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂などのエポキシ樹
脂等を用いることができる。熱硬化性樹脂は一種又は複
数種組み合わせて用いることができる。
In the present invention, as the thermosetting resin constituting the first layer and the second layer, epoxy resins such as bisphenol A type epoxy resin, brominated bisphenol A type epoxy resin, liquid brominated bisphenol A type epoxy resin, etc. Can be used. The thermosetting resin can be used singly or in combination.

【0017】本発明において、アルカリに可溶なゴム成
分としては上記公報に記載されているものを一種又は複
数種組み合わせて用いることができ、末端エポキシ化ブ
タジエンゴム、アクリロニトリルブタジエンゴム、架橋
アクリロニトリルブタジエンゴム、シリコーンゴムなど
を例示することができる。
In the present invention, as the rubber component soluble in alkali, one or a combination of those described in the above-mentioned publications can be used. , Silicone rubber and the like.

【0018】本発明において、無機フィラーとしては上
記公報に記載されているものを一種又は複数種組み合わ
せて用いることができ、炭酸カルシウム粉末、微細シリ
カ、球状シリカ、球状多孔質シリカなどを例示すること
ができる。また、無機フィラーは粒径が0.1〜10μ
mのものを好適に用いることができるが、これに限定さ
れるものではない。
In the present invention, as the inorganic filler, those described in the above publications can be used alone or in combination of two or more. Examples thereof include calcium carbonate powder, fine silica, spherical silica, and spherical porous silica. Can be. The inorganic filler has a particle size of 0.1 to 10 μm.
m can be suitably used, but the present invention is not limited to this.

【0019】そして、第一層を形成するための熱硬化性
樹脂組成物は、上記の熱硬化性樹脂とゴム成分と無機フ
ィラーの両方及び熱硬化性樹脂の硬化剤とを配合するこ
とによって調製することができる。また、第二層を形成
するための熱硬化性樹脂組成物は、上記の熱硬化性樹脂
と硬化剤とを配合することによって調製することができ
る。すなわち、第二層を形成するための熱硬化性樹脂組
成物は第一層を形成するための熱硬化性樹脂組成物にお
いてゴム成分と無機フィラーの両方を配合しないもので
ある。上記の硬化剤としては熱硬化性樹脂の種類等によ
って適宜選択すればよいが、熱硬化性樹脂がエポキシ樹
脂の場合はフェノールノボラックなどを用いることがで
きる。また、熱硬化性樹脂と硬化剤の配合割合は熱硬化
性樹脂組成物が硬化するように適宜設定することが可能
であるが、熱硬化性樹脂がエポキシ樹脂の場合は、例え
ば、エポキシ基の1当量あたり0.8〜1.2当量の硬
化剤を配合するように熱硬化性樹脂と硬化剤の配合割合
を設定することができる。
The thermosetting resin composition for forming the first layer is prepared by blending the above-mentioned thermosetting resin, a rubber component, an inorganic filler and a curing agent for the thermosetting resin. can do. Further, a thermosetting resin composition for forming the second layer can be prepared by blending the above thermosetting resin and a curing agent. That is, the thermosetting resin composition for forming the second layer does not include both the rubber component and the inorganic filler in the thermosetting resin composition for forming the first layer. The curing agent may be appropriately selected depending on the type of the thermosetting resin or the like. When the thermosetting resin is an epoxy resin, phenol novolak or the like can be used. Further, the mixing ratio of the thermosetting resin and the curing agent can be appropriately set so that the thermosetting resin composition is cured, but when the thermosetting resin is an epoxy resin, for example, an epoxy group The blending ratio of the thermosetting resin and the curing agent can be set so that 0.8 to 1.2 equivalents of the curing agent are blended per equivalent.

【0020】また、第一層の熱硬化性樹脂組成物に用い
る熱硬化性樹脂及び硬化剤と、第二層の熱硬化性樹脂組
成物に用いる熱硬化性樹脂及び硬化剤とは同じであって
も良いし異なっていても良い。また、上記いずれの熱硬
化性樹脂組成物も溶剤に溶解及び分散させることによっ
てワニスにすることができる。ワニスにする場合の溶剤
としてはメチルエチルケトン(MEK)、ジメチルホル
アミド(DMF)などを用いることができる。
The thermosetting resin and the curing agent used for the thermosetting resin composition of the first layer are the same as the thermosetting resin and the curing agent used for the thermosetting resin composition of the second layer. May be different. In addition, any of the above thermosetting resin compositions can be made into a varnish by dissolving and dispersing in a solvent. As a solvent for forming a varnish, methyl ethyl ketone (MEK), dimethylformamide (DMF), or the like can be used.

【0021】第一層を形成するための熱硬化性樹脂組成
物はその全量に対してゴム成分を2〜40質量%、無機
フィラーを2〜20質量%それぞれ含有するのが好まし
い。ゴム成分の含有量が2質量%未満であったり無機フ
ィラーの含有量が2質量%未満であったりすると、絶縁
層の粗化面が十分に得られず、回路(導体層)の密着不
良という問題が生じる恐れがあり、また、ゴム成分の含
有量が40質量%より多かったり無機フィラーの含有量
が20質量%より多かったりすると、絶縁層の絶縁特性
の劣化が生じて絶縁信頼性が低下するという問題が生じ
る恐れがある。
The thermosetting resin composition for forming the first layer preferably contains 2 to 40% by mass of a rubber component and 2 to 20% by mass of an inorganic filler based on the total amount. When the content of the rubber component is less than 2% by mass or the content of the inorganic filler is less than 2% by mass, a roughened surface of the insulating layer cannot be sufficiently obtained, and the adhesion of the circuit (conductor layer) is poor. If the content of the rubber component is more than 40% by mass or the content of the inorganic filler is more than 20% by mass, the insulation property of the insulating layer is deteriorated, and the insulation reliability is reduced. There is a risk that the problem will occur.

【0022】そして、本発明の多層プリント配線板製造
用樹脂フィルムは、アルカリに可溶なゴム成分と無機フ
ィラーとを含む熱硬化性樹脂組成物から第一層を形成す
ると共に上記ゴム成分及び無機フィラーを含まない熱硬
化性樹脂組成物から第二層を形成し、第一層と第二層を
積層することによって形成することができる。本発明を
製造するにあたっては次のようにして行なう。まず、ア
ルカリに可溶なゴム成分と無機フィラーとを含む熱硬化
性樹脂組成物を支持体の表面に塗布して乾燥させること
によって第一層を形成する。支持体としてはポリエチレ
ンテレフタレート(PET)などの合成樹脂製のフィル
ムを用いることができる。次に、支持体上に形成した第
一層の表面に、上記ゴム成分及び無機フィラーを含まな
い熱硬化性樹脂組成物を塗布して乾燥させることによっ
て第二層を形成する。上記いずれの熱硬化性樹脂組成物
もバーコートコーター、スクリーン印刷等の塗布手段に
より塗布することができる。また、上記いずれの熱硬化
性樹脂組成物もワニスであれば塗布しやすく所定の厚み
に設定しやすいものである。また、第二層の形成後にそ
の表面にカバー材を配置しても良い。カバー材としては
厚み10〜50μmのポリエチレンテレフタレート(P
ET)などの合成樹脂製のフィルムを用いることができ
る。また、第一層及び第二層は加熱等によりBステージ
状態に半硬化させても良い。
The resin film for producing a multilayer printed wiring board according to the present invention comprises a first layer formed from a thermosetting resin composition containing a rubber component soluble in alkali and an inorganic filler. It can be formed by forming a second layer from a thermosetting resin composition containing no filler and laminating the first layer and the second layer. The present invention is performed as follows. First, a first layer is formed by applying a thermosetting resin composition containing a rubber component soluble in an alkali and an inorganic filler to the surface of a support and drying it. As the support, a synthetic resin film such as polyethylene terephthalate (PET) can be used. Next, the second layer is formed by applying and drying the thermosetting resin composition containing no rubber component and no inorganic filler on the surface of the first layer formed on the support. Any of the above thermosetting resin compositions can be applied by an application means such as a bar coat coater or screen printing. In addition, any of the above thermosetting resin compositions is easy to apply if it is a varnish, and is easily set to a predetermined thickness. After the formation of the second layer, a cover material may be arranged on the surface. As the cover material, polyethylene terephthalate (P
A film made of a synthetic resin such as ET) can be used. Further, the first layer and the second layer may be semi-cured to a B-stage state by heating or the like.

【0023】第一層の厚みは10〜50μmに設定する
のが好ましい。第一層の厚みが10μm未満であれば、
第一層が薄すぎて粗面化の際に第一層が破損して粗面化
することができないという問題が生じる恐れがあり、第
一層の厚みが50μmより大きくなると、絶縁層の厚み
に占める第一層の厚みの割合が大きくなり過ぎて絶縁層
の絶縁特性が劣化しやすく絶縁信頼性が低下するという
問題が生じる恐れがある。また、第二層の厚みは10〜
30μmに設定するのが好ましい。第二層の厚みが10
μm未満であれば、第二層の厚みが薄すぎて絶縁層の絶
縁特性の劣化を防止して絶縁信頼性に優れる絶縁層を形
成するという本発明の効果が得られない恐れがある。第
二層の厚みを30μmより大きくしても特に問題はない
が、所定の厚みの絶縁層を形成する場合に絶縁層の厚み
に占める第二層の厚みの割合が大きくなり過ぎて相対的
に第一層の厚みが小さくなることがあり、これにより、
第一層の粗面化の際に第一層が破損して粗面化すること
ができなくなる恐れがある。
The thickness of the first layer is preferably set to 10 to 50 μm. If the thickness of the first layer is less than 10 μm,
When the first layer is too thin, the first layer may be damaged during the surface roughening and a problem may occur that the surface cannot be roughened. If the thickness of the first layer is more than 50 μm, the thickness of the insulating layer may be reduced. The ratio of the thickness of the first layer to the thickness of the insulating layer becomes too large, and the insulating characteristics of the insulating layer are likely to be deteriorated, which may cause a problem that the insulating reliability is reduced. The thickness of the second layer is 10 to
Preferably, it is set to 30 μm. The thickness of the second layer is 10
If the thickness is less than μm, the effect of the present invention of forming an insulating layer having excellent insulation reliability by preventing deterioration of the insulating properties of the insulating layer because the thickness of the second layer is too thin may not be obtained. There is no particular problem even if the thickness of the second layer is larger than 30 μm, but when the insulating layer having a predetermined thickness is formed, the ratio of the thickness of the second layer to the thickness of the insulating layer becomes too large, and the relative thickness becomes relatively large. The thickness of the first layer may be reduced,
When the first layer is roughened, the first layer may be damaged and may not be able to be roughened.

【0024】また、第一層及び第二層は後述の真空ラミ
ネータを用いた多層プリント配線板の製造工程において
積層(ラミネート)が可能な領域の溶融粘度を有するも
のであり、例えば、第一層の熱硬化性樹脂組成物と第二
層の熱硬化性樹脂組成物とを混ぜ合わせたときの溶融粘
度が110℃において500〜10000ポイズである
ことが好ましく、このような溶融粘度にするために、第
一層の熱硬化性樹脂組成物及び第二層の熱硬化性樹脂組
成物の組成を適宜設定するものである。
The first layer and the second layer have a melt viscosity in a region where lamination can be performed in a manufacturing process of a multilayer printed wiring board using a vacuum laminator to be described later. The melt viscosity when mixing the thermosetting resin composition of the second layer and the thermosetting resin composition of the second layer is preferably 500 to 10,000 poise at 110 ° C. The composition of the thermosetting resin composition of the first layer and the composition of the thermosetting resin composition of the second layer are appropriately set.

【0025】上記のように形成される多層プリント配線
板製造用樹脂フィルムは真空ラミネータを用いた多層プ
リント配線板の製造に供されるものである。
The resin film for manufacturing a multilayer printed wiring board formed as described above is used for manufacturing a multilayer printed wiring board using a vacuum laminator.

【0026】図1は真空ラミネータの一例を示すもので
あり、ヒーター等の発熱体18を内蔵する一対の熱盤
1、1が上下に対向させて配置されている。この上下一
対の熱盤1、1は、下の熱盤1を上昇・下降させること
によって、近接離反する方向に駆動されるものである。
下の熱盤1の上面には真空引き用凹部19が凹設されて
おり、真空引き用凹部19内に多数の小孔21を全面に
設けた孔明き金属板20が凸状に貼り付けられている。
この孔明き金属板20としてはステンレスのパンチング
メタル板を用いることができる。またこの下の熱盤1の
上面には真空引き用凹部19を囲むようにパッキン22
が設けられており、熱盤1、1を型締めして閉じたとき
に真空引き用凹部19が密閉されるものである。そし
て、上の熱盤1に真空引き用凹部19に連通する真空引
き用孔23が設けられており、真空引き用孔23から密
閉された真空引き用凹部19内の空気を抜くことによっ
て、真空引き用凹部19内を真空引きすることができる
ものである。
FIG. 1 shows an example of a vacuum laminator, in which a pair of heating plates 1 and 1 having a built-in heating element 18 such as a heater are arranged vertically. The pair of upper and lower heating plates 1, 1 are driven in the direction of approaching and separating by raising and lowering the lower heating plate 1.
A concave portion 19 for evacuation is provided on the upper surface of the lower heating plate 1, and a perforated metal plate 20 having a large number of small holes 21 provided on the entire surface thereof is affixed in a convex shape in the concave portion 19 for evacuation. ing.
As the perforated metal plate 20, a stainless steel punched metal plate can be used. A packing 22 is formed on the upper surface of the hot platen 1 so as to surround the recess 19 for evacuation.
Is provided, and when the hot plates 1 and 1 are closed by closing the mold, the evacuation concave portion 19 is sealed. The upper heating platen 1 is provided with a vacuum evacuation hole 23 communicating with the vacuum evacuation recess 19, and by evacuating the air in the sealed vacuum evacuation recess 19 from the vacuum evacuation hole 23, a vacuum is formed. The inside of the pulling recess 19 can be evacuated.

【0027】下の熱盤1の真空引き用凹部19内には、
孔明き金属板20の上面を覆うようにダイヤフラム16
が張り付けて設けられている。ダイヤフラム16として
は、クロロプレンゴム、シリコン系ゴム、フッ素系樹脂
などの軟質のゴム状弾性体のシートを用いることができ
る。このダイヤフラム16と下の熱盤1の真空引き用凹
部19の底面との間に空気が封入される密閉空間25が
形成されるものであり、この密閉空間25に連通して下
の熱盤1に形成した流通孔26から加圧空気などを密閉
空間25に供給することによって、ダイヤフラム16を
風船のように膨らませることができるものである。さら
に、ダイヤフラム16の上面には表面を平滑に形成した
成形板2が接着等して取り付けられている。上記の孔明
き金属板20は、ダイヤフラム16を膨らませないとき
に、ダイヤフラム16がこれ以上下がらないようにする
ためのものである。
In the concave portion 19 for evacuation of the lower hot platen 1,
In order to cover the upper surface of the perforated metal plate 20, the diaphragm 16
Is attached. As the diaphragm 16, a sheet of a soft rubber-like elastic material such as chloroprene rubber, silicon-based rubber, or fluorine-based resin can be used. A sealed space 25 in which air is sealed is formed between the diaphragm 16 and the bottom surface of the evacuation recess 19 of the lower hot platen 1. The lower hot platen 1 communicates with the closed space 25. The diaphragm 16 can be inflated like a balloon by supplying pressurized air or the like to the closed space 25 from the flow hole 26 formed in the airtight space 25. Further, a molded plate 2 having a smooth surface is attached to the upper surface of the diaphragm 16 by bonding or the like. The above-described perforated metal plate 20 is for preventing the diaphragm 16 from lowering further when the diaphragm 16 is not expanded.

【0028】一方、上の熱盤1の下面にはクッションゴ
ムで形成される弾性板15が取り付けられており、弾性
板15の下面に表面を平滑に形成した成形板2が接着等
して取り付けられている。下の熱盤1と上の熱盤1にそ
れぞれ設けられる成形板2は、上下に対向する位置に配
置されており、この成形板2としてはSUS板、真鍮
板、銅板などの鏡面金属板を用いることができる。ま
た、成形板2はその外形寸法が回路板4の外形寸法より
小さく且つ樹脂フィルム3の外形寸法より大きいものを
用いる。
On the other hand, an elastic plate 15 made of cushion rubber is attached to the lower surface of the upper heating plate 1, and a molded plate 2 having a smooth surface is attached to the lower surface of the elastic plate 15 by bonding or the like. Have been. Formed plates 2 provided on the lower hot platen 1 and the upper hot platen 1, respectively, are disposed at positions vertically opposed to each other. As the formed plate 2, a mirror-finished metal plate such as a SUS plate, a brass plate, or a copper plate is used. Can be used. Also, the molded plate 2 whose outer size is smaller than the outer size of the circuit board 4 and larger than the outer size of the resin film 3 is used.

【0029】また、上の熱盤1には離型用シリンダー8
が設けられている。離型用シリンダー8はエアーシリン
ダーなどのシリンダー37にシリンダーロッド38を下
方へ突出するように設けて形成されるものであり、熱盤
1の両側部にそれぞれ取り付けられている。図1のもの
では、振動を発生させるバイブレータ9を熱盤1の側面
に取り付け、このバイブレータ9に離型用シリンダー8
を取り付けており、離型用シリンダー8を振動させるこ
とができるように形成されている。この離型用シリンダ
ー8にあって、シリンダーロッド38はその下端が上の
熱盤1に設けた成形板2の下面より上に位置するように
シリンダー37内に没入しているが、離型用シリンダー
8を作動させてシリンダーロッド38をシリンダー37
から突出させることによって、シリンダーロッド38の
下端がこの成形板2の下面よりも下方へ突出するように
形成されている。
The upper heating plate 1 includes a release cylinder 8.
Is provided. The release cylinder 8 is formed by providing a cylinder rod 38 to a cylinder 37 such as an air cylinder so as to protrude downward, and is attached to both sides of the hot platen 1, respectively. In FIG. 1, a vibrator 9 for generating vibration is attached to the side surface of the hot platen 1, and the release cylinder 8 is attached to the vibrator 9.
Is formed so that the release cylinder 8 can be vibrated. In this release cylinder 8, the cylinder rod 38 is immersed in the cylinder 37 so that the lower end is located above the lower surface of the forming plate 2 provided on the upper hot platen 1. Activate the cylinder 8 to move the cylinder rod 38 to the cylinder 37
, The lower end of the cylinder rod 38 is formed to protrude below the lower surface of the forming plate 2.

【0030】図2は搬送用フィルム5を用いた搬送装置
の一例を示すものであり、長尺に形成される一対の搬送
用フィルム5、5が上下に対向して配置されており、上
の搬送用フィルム5は繰り出しロール28aから繰り出
し、上下に対向配置される熱盤1、1間を通して巻取り
ロール29aによって巻き取られるものである。また、
下の搬送用フィルム5は繰り出しロール28bから繰り
出し、セットテーブル30の上を通過させた後に上下に
対向配置される熱盤1、1間を通して、巻取りロール2
9bによって巻き取られるものである。この搬送用フィ
ルム5としては耐熱性を有する薄いフィルムが好まし
く、例えば、PETフィルムを用いることができる。
FIG. 2 shows an example of a transport device using the transport film 5, in which a pair of elongated transport films 5, 5 are vertically opposed to each other. The transport film 5 is unwound from an unwinding roll 28a, and is wound up by a winding roll 29a through a space between the hot plates 1 and 1 which are arranged vertically. Also,
The lower transporting film 5 is unwound from the unwinding roll 28b, passes over the set table 30, passes through the hot plates 1, 1 which are vertically opposed to each other, and takes up the winding roll 2.
9b. As the transport film 5, a thin film having heat resistance is preferable, and for example, a PET film can be used.

【0031】一方、内層コア材として用いられる回路板
4は、図3に示すように、絶縁板32の表面に内層回路
となる回路33を設けて形成されるものであり、回路板
4の端部には回路形成工程などで位置決め用等として用
いられるガイド孔34が設けてある。また、樹脂フィル
ム3は上記のような第一層3aと第二層3bとからなる
ものである。この樹脂フィルム3は、配線板において回
路形成する必要のある範囲に対応する寸法に形成してあ
る。従って、樹脂フィルム3の外形寸法は回路板4の外
形寸法よりも小さく形成してあり、樹脂フィルム3を回
路板4に重ねたときに、回路板4のガイド孔34を設け
た外周端部にまで樹脂フィルム3の端部が及ばないよう
になっている。
On the other hand, as shown in FIG. 3, the circuit board 4 used as the inner layer core material is formed by providing a circuit 33 serving as an inner layer circuit on the surface of an insulating plate 32. The portion is provided with a guide hole 34 used for positioning or the like in a circuit forming step or the like. The resin film 3 includes the first layer 3a and the second layer 3b as described above. The resin film 3 is formed in a size corresponding to a range where a circuit needs to be formed on the wiring board. Therefore, the outer dimensions of the resin film 3 are formed smaller than the outer dimensions of the circuit board 4, and when the resin film 3 is stacked on the circuit board 4, the outer peripheral end of the circuit board 4 where the guide holes 34 are provided is provided. The end of the resin film 3 does not extend to the end.

【0032】そして、回路板4に樹脂フィルム3からな
る絶縁層6を積層して多層プリント配線板をビルドアッ
プ工法により成形するにあたっては、まず、図3(a)
のように回路板4の上下両面にそれぞれ樹脂フィルム3
を重ね、これをセットテーブル30の上で下の搬送用フ
ィルム5の上に載置する。この時、樹脂フィルム3から
は支持体及びカバー材が取り除かれている。また、樹脂
フィルム3は第二層3b側が回路板4の表面に接触する
ようにして載置されるものである。また、上下一対の各
搬送用フィルム5、5は熱盤1、1が開いている際に繰
り出しロール28a、28bから繰り出して移送される
ようになっており、各搬送用フィルム5、5を移送する
ことによって、この回路板4と樹脂フィルム3を重ねた
ものを搬送用フィルム5、5の間に挟んだ状態で図1
(a)のように熱盤1、1間に導入してセットすること
ができるものである。
In laminating the insulating layer 6 made of the resin film 3 on the circuit board 4 and forming a multilayer printed wiring board by the build-up method, first, FIG.
Resin films 3 on both upper and lower sides of circuit board 4
Are placed on a set table 30 and placed on a lower transport film 5. At this time, the support and the cover material have been removed from the resin film 3. The resin film 3 is placed so that the second layer 3b side contacts the surface of the circuit board 4. Further, the pair of upper and lower transport films 5, 5 are fed out from the feeding rolls 28a, 28b when the hot plates 1, 1 are open, and are transported. As a result, the circuit board 4 and the resin film 3 are sandwiched between the transfer films 5 and 5 in FIG.
As shown in (a), it can be introduced and set between the hot plates 1, 1.

【0033】次に、下の熱盤1を上昇駆動させて上下の
熱盤1、1を型締めすることによって、上の熱盤1の成
形板2と下の熱盤1の成形板2の間に回路板4と樹脂フ
ィルム3を挟み込み、この状態で加熱加圧成形が行なわ
れるものである。このとき、上下の熱盤1、1を型締め
することによって密閉される真空引き用凹部19内を真
空引き用孔23から真空引きすると共に、ダイヤフラム
16の背面の密閉空間25に流通孔26から加圧空気を
供給してダイヤフラム16を膨らませる。すると図1
(b)に示すように、回路板4の両面に重ねた各樹脂フ
ィルム3、3の表面に搬送用フィルム5、5を介して成
形板2、2が密着すると共に、回路板4のうち樹脂フィ
ルム3の外方に位置する四周の端部の両面にはそれぞれ
加圧空気で膨らんだダイヤフラム16が弾性的に変形し
て密着される。
Next, the lower hot platen 1 is driven upward to clamp the upper and lower hot plates 1, 1 to form a molded plate 2 of the upper hot platen 1 and a molded plate 2 of the lower hot platen 1. The circuit board 4 and the resin film 3 are sandwiched between them, and the heating and pressing is performed in this state. At this time, the inside of the evacuation recess 19, which is closed by clamping the upper and lower heating plates 1, 1, is evacuated from the evacuation hole 23, and from the circulation hole 26 to the sealed space 25 on the back surface of the diaphragm 16. The diaphragm 16 is expanded by supplying pressurized air. Then Figure 1
As shown in FIG. 2B, the molded plates 2 and 2 are brought into close contact with the surfaces of the resin films 3 and 3 stacked on both sides of the circuit board 4 via the transfer films 5 and 5, respectively. Diaphragms 16 swelled by pressurized air are elastically deformed and adhere to both surfaces of the four circumferential ends located outside the film 3.

【0034】そして、この状態で回路板4の両面に重ね
た樹脂フィルム3を成形板2で加圧しながら熱盤1、1
で加熱して、加熱加圧成形をすることができるものであ
り、図3(b)に示すように、樹脂フィルム3が加熱加
圧で溶融・硬化することによって形成される絶縁層6が
回路板4の両面に積層した絶縁層付き回路板7を形成す
ることができるものである。ここで、上記のように成形
を行なうにあたって、樹脂フィルム3の表面は平滑で硬
い成形板2で加圧されているので、樹脂フィルム3が加
熱されることによって溶融状態になった樹脂を成形板2
で押圧して、強制的に回路33間に流入させて充填する
ことができるものであり、回路33間に気泡が残って絶
縁層6内に気泡残りが発生することを防ぐことができる
ものである。また、平滑な成形板2で押圧されるため
に、絶縁層6の表面を平滑に仕上げることができ、絶縁
層6の表面に凹凸が発生することを防ぐことができるも
のである。さらに、回路板4の周縁端部にはダイヤフラ
ム16が密着した状態で成形が行なわれるので、樹脂フ
ィルム3が溶融した樹脂が回路板4の端部へ流れ出すこ
とをダイヤフラム16が回路板4に密着していることに
よって防ぐことができ、樹脂フィルム3の溶融樹脂が回
路板4の端部に流れてはみ出すことを規制することがで
きるものであり、回路板4の端部に設けられているガイ
ド孔34がこのはみ出した絶縁層6の樹脂で埋まってし
まうことを防ぐことができるものである。尚、上記の真
空ラミネータによる成形条件は温度が60〜150℃、
圧力0.1〜2.0MPa、時間10〜600秒間にそれ
ぞれ設定することができるが、これに限定されるもので
はない。
Then, in this state, the resin films 3 stacked on both sides of the circuit board 4 are pressed with
In this case, the insulating layer 6 formed by melting and curing the resin film 3 by heating and pressing is formed as shown in FIG. 3 (b). The circuit board 7 with an insulating layer laminated on both sides of the board 4 can be formed. Here, in performing the molding as described above, the surface of the resin film 3 is pressed by the smooth and hard molding plate 2, so that the resin which has been melted by the heating of the resin film 3 is molded. 2
And can be forced to flow between the circuits 33 to be filled, thereby preventing bubbles from remaining between the circuits 33 and remaining bubbles in the insulating layer 6. is there. In addition, since the surface of the insulating layer 6 is pressed smoothly by the smooth formed plate 2, the surface of the insulating layer 6 can be prevented from being uneven. Further, since the molding is performed in a state where the diaphragm 16 is in close contact with the peripheral edge of the circuit board 4, the diaphragm 16 is in close contact with the circuit board 4 so that the resin in which the resin film 3 has melted flows out to the end of the circuit board 4. This prevents the molten resin of the resin film 3 from flowing to and protruding from the end of the circuit board 4, and a guide provided at the end of the circuit board 4. The hole 34 can be prevented from being filled with the protruding resin of the insulating layer 6. The molding conditions using the above vacuum laminator are as follows:
The pressure can be set to 0.1 to 2.0 MPa and the time can be set to 10 to 600 seconds, but is not limited thereto.

【0035】また、上記の成形は、真空引き用凹部19
内において真空引きされた系内で行なわれるものであ
り、空気が存在しない状態で樹脂フィルム3の加熱加圧
成形を行なうことができるために、絶縁層6内に気泡残
りが発生することを防ぐことができるものである。尚、
図1のものでは、熱盤1に真空引き用凹部19を設けて
熱盤1、1間を真空引き系にして成形を行なうようにし
たが、図2のように熱盤1、1の全体を真空チャンバー
35に収容し、真空チャンバー35内を真空引き系にし
て成形を行なうようにしてもよい。
The above-mentioned molding is performed by using the concave portion 19 for evacuation.
This is performed in a vacuum-evacuated system, and since the heat and pressure molding of the resin film 3 can be performed in the absence of air, the generation of air bubbles in the insulating layer 6 is prevented. Is what you can do. still,
In FIG. 1, the hot platen 1 is provided with a concave portion 19 for evacuation and the hot platen 1 is formed into a vacuum evacuation system. May be housed in the vacuum chamber 35 and the inside of the vacuum chamber 35 may be evacuated to perform molding.

【0036】そして、上記のように成形が終了した後、
下の熱盤1を下動させて図1(c)のように熱盤1、1
を上下に開き、各搬送用フィルム5、5を巻取りロール
29a、29bに巻き取ることによって搬送用フィルム
5、5を移送し、搬送用フィルム5、5間に保持された
配線板7を熱盤1、1間から送り出して取り出すことが
できる。熱盤1の側方にフィルム送りチャック39を設
けておき、このフィルム送りチャック39で搬送用フィ
ルム5、5をチャックして移動させることによって、搬
送用フィルム5、5を移送させるようになっていてもよ
い。
After the molding is completed as described above,
The lower hot platen 1 is moved downward, as shown in FIG.
The transporting films 5 and 5 are transported by winding the transporting films 5 and 5 around winding rolls 29a and 29b, and the wiring board 7 held between the transporting films 5 and 5 is heated. It can be sent out from between the boards 1 and 1 and taken out. A film feed chuck 39 is provided on the side of the hot platen 1, and the transfer films 5, 5 are chucked and moved by the film feed chuck 39, so that the transfer films 5, 5 are transferred. You may.

【0037】このとき、上記の成形の際に成形板2と搬
送用フィルム5とが真空密着した状態になり、上下の熱
盤1、1を開いても成形板2に搬送用フィルム5が密着
したままになっていることがあり、特に成形を真空系で
行なう場合にこのような成形板2と搬送用フィルム5と
の真空密着が生じ易い。また、図1のものでは、下の熱
盤1は上下に駆動され、上の熱盤1は固定状態にあるの
で、上下の熱盤1、1を開いた際に、上の熱盤1の成形
板2に搬送用フィルム5が密着していることが多い。そ
こで、成形が終了した後に上下の熱盤1、1を開く際
に、この型開きに連動して、上の熱盤1に付設した離型
用シリンダー8を作動させ、図1(c)のように離型用
シリンダー8のシリンダーロッド38を下方へ突出させ
ることによって、シリンダーロッド38の先端で搬送用
フィルム5を押圧し、搬送用フィルム5を上の熱盤1の
成形板2から離す方向に移動させて、成形板2から搬送
用フィルム5を離型させるようにしてある。このとき、
離型用シリンダー8を作動させると同時にバイブレータ
9も作動して離型用シリンダー8に振動が与えられるよ
うにしてあり、振動を加えながら搬送用フィルム5を押
圧することによって、搬送用フィルム5が成形板2から
容易に剥がれるようにしてある。このようにして、成形
板2に搬送用フィルム5が密着しても容易に剥がすこと
ができるので、搬送用フィルム5を移送する際に搬送用
フィルム5が破れるようなことがなくなると共に、成形
板2から搬送用フィルム5を剥がすのに手間取って成形
の生産性が低下したりするようなことがなくなるもので
ある。
At this time, the molding plate 2 and the transfer film 5 come into close contact with each other in vacuum during the above-mentioned molding, and the transfer film 5 adheres to the formation plate 2 even when the upper and lower hot plates 1, 1 are opened. In particular, when the forming is performed in a vacuum system, such a close contact between the formed plate 2 and the transfer film 5 is likely to occur. In FIG. 1, the lower hot platen 1 is driven up and down, and the upper hot platen 1 is in a fixed state. In many cases, the transfer film 5 is in close contact with the molded plate 2. Therefore, when the upper and lower hot plates 1 and 1 are opened after the molding is completed, the mold release cylinder 8 attached to the upper hot plate 1 is operated in conjunction with the opening of the molds, and as shown in FIG. The cylinder rod 38 of the release cylinder 8 is projected downward, thereby pressing the transporting film 5 with the tip of the cylinder rod 38 and separating the transporting film 5 from the upper forming plate 2 of the hot platen 1. To release the transfer film 5 from the molded plate 2. At this time,
At the same time as the release cylinder 8 is activated, the vibrator 9 is also activated to apply vibration to the release cylinder 8. By pressing the transport film 5 while applying vibration, the transport film 5 is It is designed to be easily peeled off from the molded plate 2. In this way, even if the transfer film 5 is in close contact with the forming plate 2, the transfer film 5 can be easily peeled off, so that the transfer film 5 is not broken when transferring the transfer film 5, and the forming plate 2 is not broken. This eliminates the need to take extra time to peel off the transport film 5 from 2, thereby lowering the molding productivity.

【0038】上記のようにして熱盤1、1間から送り出
された絶縁層付き回路板7を搬送用フィルム5、5間か
ら離脱させて取り出した後、各搬送用フィルム5、5は
巻取りロール29a、29bに巻き取られる。また、こ
のように成形して得られた図3(b)の絶縁層付き回路
板7において、回路板4の表面に設けた回路33は絶縁
層6によって覆われている。そして、この絶縁層6の表
面に次工程で外層回路となる回路を形成する。
After the circuit board 7 with the insulating layer sent out between the hot plates 1 and 1 as described above is separated from the transport films 5 and 5 and taken out, each transport film 5 and 5 is wound up. It is wound on rolls 29a and 29b. In addition, in the circuit board 7 with an insulating layer obtained by molding in this manner, the circuit 33 provided on the surface of the circuit board 4 is covered with the insulating layer 6. Then, a circuit to be an outer layer circuit in the next step is formed on the surface of the insulating layer 6.

【0039】絶縁層6の表面に回路を形成するにあたっ
ては、従来からプリント配線板の製造で行なわれている
アディティブ法などを採用することができる。まず、絶
縁層6に回路板4の回路33にまで連通するビアホール
や絶縁層6及び回路板4を貫通するスルーホールを形成
する。この時、レーザーやドリル等を用いて孔あけ加工
を行うことができる。次に、過マンガン酸のようなアル
カリ性の酸化剤を絶縁層6の表面に供給する。この時、
酸化剤は水に溶解させた水溶液の状態で供給されるもの
である。そして、絶縁層6の表面はアルカリに可溶なゴ
ム成分と無機フィラーとを含む第一層で形成されている
ために、ゴム成分がアルカリ性の酸化剤で溶解されると
共に無機フィラーが絶縁層6の表面から脱落するもので
あり、これにより、絶縁層6の表面(バイアホールやス
ルーホールの内周面も含む)を容易に粗面化することが
できるものである。この後、絶縁層6の表面に銅めっき
等を施して外層回路となる回路を形成すると共にバイア
ホールやスルーホールの孔に銅めっき等を施して回路板
4の回路と外層回路とを導通させる。この後、ソルダー
レジスト等の表面処理を施すことにより、ビルドアップ
工法で多層プリント配線板を形成することができる。
尚、ソルダーレジストを施す前に、上記と同様に絶縁層
6とその表面の回路とを逐次的に形成することによっ
て、さらに多層のプリント配線板として仕上げることが
できるものである。
In forming a circuit on the surface of the insulating layer 6, an additive method conventionally used in the manufacture of printed wiring boards can be employed. First, a via hole communicating with the circuit 33 of the circuit board 4 and a through hole penetrating the insulating layer 6 and the circuit board 4 are formed in the insulating layer 6. At this time, drilling can be performed using a laser or a drill. Next, an alkaline oxidizing agent such as permanganate is supplied to the surface of the insulating layer 6. At this time,
The oxidizing agent is supplied in the form of an aqueous solution dissolved in water. Since the surface of the insulating layer 6 is formed of the first layer containing the rubber component soluble in alkali and the inorganic filler, the rubber component is dissolved by the alkaline oxidizing agent and the inorganic filler is removed by the insulating layer 6. Thus, the surface of the insulating layer 6 (including the inner peripheral surfaces of via holes and through holes) can be easily roughened. Thereafter, copper plating or the like is performed on the surface of the insulating layer 6 to form a circuit to be an outer layer circuit, and copper holes or the like are formed in via holes or through holes to conduct the circuit of the circuit board 4 and the outer layer circuit. . Thereafter, by performing a surface treatment such as a solder resist, a multilayer printed wiring board can be formed by a build-up method.
Incidentally, before the solder resist is applied, the insulating layer 6 and the circuit on the surface thereof are sequentially formed in the same manner as described above, so that a multilayer printed wiring board can be finished.

【0040】そして、本発明の多層プリント配線板製造
用樹脂フィルム3は、ゴム成分及び無機フィラーを含ま
ない熱硬化性樹脂組成物からなる第二層3bを回路板4
の表面に接着して硬化させることによって絶縁層6に形
成するので、絶縁層6と回路板4の回路33との密着強
化のために回路33に黒化処理等の化学処理を施した場
合であっても、微細な凹凸形状を有する回路(内層回
路)の隅々にまで第二層3bの樹脂成分を効果的に行き
渡らせてコーティングすることができ、これにより、絶
縁層6の厚み(第一層3aと第二層3bの厚みの合計
量)を薄くしても絶縁信頼性を損なわないようにするこ
とができるものである。しかも、絶縁層6の表面はアル
カリに可溶なゴム成分と無機フィラーとを含む熱硬化性
樹脂組成物からなる第一層3aで形成されているため
に、アルカリ性の酸化剤で絶縁層6の表面を容易に粗面
化することができ、粗面化された絶縁層6の表面に導体
層(回路)を形成することによってアンカー効果により
絶縁層6と導体層との密着性を高くすることができるも
のである。そして、本発明の多層プリント配線板製造用
樹脂フィルムで形成される絶縁層6において、JIS
C 6481に規定された方法で外層の導体層のピール
強度(密着強度)を測定した結果、従来例のようにゴム
成分や無機フィラーを含有させた熱硬化性樹脂組成物の
みで絶縁層6を形成した場合と同程度の密着強度(約
1.0kN/m)を得られるものであり、導体層との密
着性が損なわれないものである。
The resin film 3 for producing a multilayer printed wiring board according to the present invention comprises a second layer 3b made of a thermosetting resin composition containing no rubber component and no inorganic filler.
Is formed on the insulating layer 6 by adhering to the surface of the circuit board and hardening it, so that the circuit 33 is subjected to a chemical treatment such as a blackening process in order to strengthen the adhesion between the insulating layer 6 and the circuit 33 of the circuit board 4. Even if it does, the resin component of the second layer 3b can be effectively spread to every corner of the circuit (the inner layer circuit) having the fine unevenness and coated, whereby the thickness of the insulating layer 6 (the Even if the total thickness of the first layer 3a and the second layer 3b is reduced, the insulation reliability can be maintained. In addition, since the surface of the insulating layer 6 is formed of the first layer 3a made of a thermosetting resin composition containing a rubber component soluble in alkali and an inorganic filler, the insulating layer 6 is coated with an alkaline oxidizing agent. The surface can be easily roughened, and the adhesion between the insulating layer 6 and the conductive layer is increased by the anchor effect by forming the conductive layer (circuit) on the roughened surface of the insulating layer 6. Can be done. In the insulating layer 6 formed of the resin film for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention, JIS
As a result of measuring the peel strength (adhesion strength) of the outer conductor layer by the method specified in C 6481, the insulating layer 6 was formed only with the thermosetting resin composition containing a rubber component and an inorganic filler as in the conventional example. The same adhesive strength (about 1.0 kN / m) as when formed is obtained, and the adhesion to the conductor layer is not impaired.

【0041】尚、第一層3aと同様に第二層3bにゴム
成分や無機フィラーを含有させた場合は、ゴム成分や無
機フィラーを樹脂成分のマトリックスとなじみ良くする
ために処理しても、ゴム成分や無機フィラーとマトリッ
クスとの間にマイクロクラックが生じてこのクラックが
回路板4の回路(内層回路)33の凹凸の周辺に生じて
しまい、絶縁層6の絶縁性能の劣化につながって多層プ
リント配線板の各種の信頼性試験に不合格となることが
ある。また、第二層3bはその熱硬化性樹脂組成物を回
路板4の表面に印刷等の手段で形成してもよいが、第一
層3aと積層してフィルム化した方が一度の操作で第一
層3aと第二層3bを回路板4へ積層することができて
効率的である。
When a rubber component or an inorganic filler is contained in the second layer 3b as in the case of the first layer 3a, even if the rubber component or the inorganic filler is treated to make it compatible with the matrix of the resin component, Microcracks occur between the rubber component or the inorganic filler and the matrix, and these cracks occur around the irregularities of the circuit (inner circuit) 33 of the circuit board 4, which leads to deterioration of the insulation performance of the insulating layer 6 and multi-layering. The printed wiring board may fail various reliability tests. The second layer 3b may be formed by printing the thermosetting resin composition on the surface of the circuit board 4 by means such as printing, but it is better to laminate the first layer 3a and form a film by a single operation. The first layer 3a and the second layer 3b can be laminated on the circuit board 4, which is efficient.

【0042】[0042]

【実施例】以下本発明を実施例によって具体的に説明す
る。
The present invention will be described below in detail with reference to examples.

【0043】(第一層を形成するための熱硬化性樹脂組
成物の調製)液状臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹
脂(東都化成社製「YDF−8170」)と、臭素化ビ
スフェノールA型エポキシ樹脂(東都化成社製「YDB
−400」)と、末端エポキシ化ポリブタジエンゴム
(ダイセイル化学社製「PB3600」)とを表1に示
す量で配合し、これをMEKに溶解させながら撹拌し、
さらにこの溶液にフェノールノボラック型硬化剤(明和
化成社製「MEH−7500」)と、球状シリカ(電気
化学工業社製「SFP−10X」、平均粒径0.3μ
m)とを表1に示す量で配合することによって、第一層
の熱硬化性樹脂組成物を調製した。
(Preparation of Thermosetting Resin Composition for Forming First Layer) A liquid brominated bisphenol A type epoxy resin ("YDF-8170" manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.) and a brominated bisphenol A type epoxy resin ( "YDB made by Toto Kasei Co., Ltd.
-400 ") and terminal epoxidized polybutadiene rubber (" PB3600 "manufactured by Daisail Chemical Co., Ltd.) in the amounts shown in Table 1, and stirred while dissolving them in MEK.
Further, a phenol novolak type curing agent ("MEH-7500" manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.) and spherical silica ("SFP-10X" manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., average particle size 0.3 μm) were added to this solution.
m) was blended in the amounts shown in Table 1 to prepare a thermosetting resin composition for the first layer.

【0044】(第二層を形成するための熱硬化性樹脂組
成物の調製)球状シリカを配合しなかった以外は上記の
第一層を形成するための熱硬化性樹脂組成物の調製と同
様にして、第二層の熱硬化性樹脂組成物を調製した。
(Preparation of thermosetting resin composition for forming second layer) Same as the preparation of thermosetting resin composition for forming first layer described above except that spherical silica was not blended. Thus, a thermosetting resin composition of the second layer was prepared.

【0045】[0045]

【表1】 [Table 1]

【0046】(実施例1〜12及び比較例1〜30の樹
脂フィルムの作製)厚み38μmのPETフィルム(支
持体)上にバーコートコーター法にて第一層の熱硬化性
樹脂組成物を塗布(コーティング)し、これを80℃で
乾燥することによって第一層を形成した。次に、PET
フィルム上に形成した第一層の表面にバーコートコータ
ー法にて第二層の熱硬化性樹脂組成物を塗布(コーティ
ング)し、これを80℃で乾燥することによって第二層
を形成した。このようにして第一層と第二層の厚みが異
なる複数種の樹脂フィルムを作製した。表2には第一層
と第二層の厚みを示す。尚、比較例25〜30について
は第二層を形成しなかった。
(Preparation of Resin Films of Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 to 30) A first-layer thermosetting resin composition was applied on a 38 μm-thick PET film (support) by a bar coater method. (Coating) and dried at 80 ° C. to form a first layer. Next, PET
The surface of the first layer formed on the film was coated (coated) with the second layer of the thermosetting resin composition by a bar coater method, and dried at 80 ° C. to form the second layer. Thus, a plurality of types of resin films having different thicknesses of the first layer and the second layer were produced. Table 2 shows the thickness of the first layer and the second layer. In addition, about Comparative Examples 25-30, the 2nd layer was not formed.

【0047】[0047]

【表2】 [Table 2]

【0048】(多層プリント配線板の作製)松下電工社
製の銅張り積層板(「R1766T」厚み1mm、銅箔
厚さ35μm)の銅箔にエッチング等の回路形成工程を
施して内層回路となる回路を形成し、これを内層コア材
となる回路板4として用いた。ここで形成した回路はJ
IEP規格のビルドアップ配線板技術標準におけるビル
ドアップ層間絶縁性評価用パターンとした。
(Preparation of Multilayer Printed Wiring Board) A circuit forming step such as etching is performed on a copper foil of a copper-clad laminated board (“R1766T” thickness 1 mm, copper foil thickness 35 μm) manufactured by Matsushita Electric Works to form an inner layer circuit. A circuit was formed, and this was used as a circuit board 4 serving as an inner core material. The circuit formed here is J
This was used as a pattern for evaluating build-up interlayer insulation in the technical standard for build-up wiring boards of the IEP standard.

【0049】次に、上記と同様にして多層プリント配線
板を形成した。すなわち、回路を形成した上記の回路板
4の表面に第二層が接触するように実施例1〜12及び
比較例1〜24の樹脂フィルムを載置し、比較例25〜
30については第一層を接触するように上記の回路板4
の表面に樹脂フィルムを載置し、これを名機製作所製の
真空ラミネータにて110℃、0.1MPa、60秒に
て成形し、この後、乾燥機にて170℃、30分間加熱
することによって、樹脂フィルム3を硬化させて絶縁層
6を回路板4の表面に形成して絶縁層付きプリント配線
板を形成した。次に、絶縁層6にレーザー加工によりビ
アホールを形成した。次に、シプレイ社のデスミアプロ
セス装置にて、膨潤処理、過マンガン酸処理、中和処理
を行なって、絶縁層6の表面を粗面化した後、パネルめ
っき工法にて絶縁層6の表面に厚み20μmの銅めっき
を形成した後、ドライフィルム工程にて銅めっきから回
路を形成した。
Next, a multilayer printed wiring board was formed in the same manner as described above. That is, the resin films of Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 to 24 were placed such that the second layer was in contact with the surface of the circuit board 4 on which the circuit was formed.
As for the circuit board 30, the first layer is in contact with the circuit board 4.
A resin film is placed on the surface of the substrate and molded at 110 ° C. and 0.1 MPa for 60 seconds using a vacuum laminator manufactured by Meiki Seisakusho, and then heated at 170 ° C. for 30 minutes using a dryer. Thus, the resin film 3 was cured to form the insulating layer 6 on the surface of the circuit board 4 to form a printed wiring board with an insulating layer. Next, via holes were formed in the insulating layer 6 by laser processing. Next, the surface of the insulating layer 6 is roughened by swelling treatment, permanganic acid treatment, and neutralization treatment with a desmear process device manufactured by Shipley Co., Ltd. After forming a copper plating having a thickness of 20 μm, a circuit was formed from the copper plating in a dry film process.

【0050】そして、実施例1〜12及び比較例1〜3
0の樹脂フィルムを用いた多層プリント配線板をそれぞ
れ12ピースずつ作製し、これらについて85℃85%
の恒温恒湿条件下で外層回路と内層回路間に50Vの直
流電圧を印加して絶縁抵抗を測定した。この後、絶縁抵
抗が10Ωとなった時点で絶縁抵抗が不良と見なして
測定を打ちきった。そして、1000時間未満の期間内
に絶縁抵抗が不良となった多層プリント配線板の個数を
測定した。
Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 to 3
12 pieces each of a multilayer printed wiring board using a resin film of No.
Under a constant temperature and humidity condition, a DC voltage of 50 V was applied between the outer layer circuit and the inner layer circuit to measure the insulation resistance. Thereafter, it broke off measurement is regarded insulation resistance defective when the insulation resistance became 10 8 Omega. Then, the number of multilayer printed wiring boards whose insulation resistance became defective within a period of less than 1000 hours was measured.

【0051】また、実施例1〜12及び比較例1〜30
の樹脂フィルムを用いた多層プリント配線板について、
JIS C 6481に規定された方法で外層の導体層
のピール強度(密着強度)を測定した。
Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 to 30
About the multilayer printed wiring board using the resin film of
The peel strength (adhesion strength) of the outer conductor layer was measured by the method specified in JIS C6481.

【0052】結果を表3に示す。Table 3 shows the results.

【0053】[0053]

【表3】 [Table 3]

【0054】表3から明らかなように、実施例1〜12
の樹脂フィルムを用いた多層プリント配線板は比較例2
5〜30の樹脂フィルム(第二層を形成していない樹脂
フィルム)を用いた多層プリント配線板に比較して絶縁
抵抗が高くなり、絶縁信頼性に優れるものであった。ま
た、第二層の厚みが10μm未満の実施例3、6、9、
12と比較例3、6、9、12、15、18、21、2
4は第二層の熱硬化性樹脂組成物の組成が同じ他の実施
例や比較例と比較して絶縁信頼性がやや低くなった。ま
た、実施例1〜12を用いた多層プリント配線板は比較
例1〜30を用いた多層プリント配線板と比較して、同
等以上の密着強度を有するものであった。従って、実施
例1〜12を用いて形成される絶縁層は比較例1〜30
を用いて形成される絶縁層に比べて、導体層との密着性
を損なうことなく絶縁信頼性に優れるものである。
As is clear from Table 3, Examples 1 to 12
Comparative Example 2 of multilayer printed wiring board using resin film
The insulation resistance was higher than that of a multilayer printed wiring board using 5 to 30 resin films (resin films on which the second layer was not formed), and the insulation reliability was excellent. Examples 3, 6, 9, and 10 in which the thickness of the second layer is less than 10 μm.
12 and Comparative Examples 3, 6, 9, 12, 15, 18, 21, 2
In No. 4, the insulation reliability was slightly lower than that of the other Examples and Comparative Examples in which the composition of the thermosetting resin composition of the second layer was the same. Further, the multilayer printed wiring boards using Examples 1 to 12 had an adhesion strength equal to or higher than that of the multilayer printed wiring boards using Comparative Examples 1 to 30. Therefore, the insulating layers formed by using Examples 1 to 12 are comparative examples 1 to 30.
As compared with the insulating layer formed by using the same, the insulation reliability is excellent without impairing the adhesion to the conductor layer.

【0055】[0055]

【発明の効果】上記のように本発明の請求項1の発明
は、真空ラミネートにより回路板の表面に密着される多
層プリント配線板製造用樹脂フィルムにおいて、アルカ
リに可溶なゴム成分と無機フィラーとを含む熱硬化性樹
脂組成物からなる第一層と、上記ゴム成分及び無機フィ
ラーを含まない熱硬化性樹脂組成物からなる第二層とを
積層するので、回路板の表面に第二層を接着した状態で
第一層と第二層を硬化させて絶縁層を形成することによ
って、ゴム成分及び無機フィラーを含まない熱硬化性樹
脂組成物からなる第二層を回路板の表面に接着して硬化
させることによって絶縁層に形成するので、絶縁層と回
路板の回路との密着強化のために回路に黒化処理等の化
学処理を施した場合であっても、微細な凹凸形状を有す
る回路の隅々にまで第二層の樹脂成分を行き渡らせてコ
ーティングすることができ、厚みを薄くしても絶縁信頼
性に優れる絶縁層を形成することができるものである。
しかも絶縁層の表面はアルカリに可溶なゴム成分と無機
フィラーとを含む熱硬化性樹脂組成物からなる第一層で
形成されているために、アルカリ性の酸化剤で絶縁層の
表面を容易に粗面化することができ、粗面化された絶縁
層の表面に導体層を形成することによってアンカー効果
により絶縁層と導体層との密着性を高くすることができ
るものである。従って、本発明は導体層との密着性を損
なうことなく絶縁信頼性に優れる絶縁層を形成すること
ができるものである。
As described above, according to the first aspect of the present invention, an alkali-soluble rubber component and an inorganic filler are used in a resin film for producing a multilayer printed wiring board which is adhered to the surface of a circuit board by vacuum lamination. And a second layer made of a thermosetting resin composition containing no rubber component and no inorganic filler, so that the second layer is formed on the surface of the circuit board. By bonding the first layer and the second layer in a state of being bonded to form an insulating layer, the second layer made of a thermosetting resin composition containing no rubber component and no inorganic filler is bonded to the surface of the circuit board And cured to form an insulating layer, so even if the circuit is subjected to chemical treatment such as blackening to enhance the adhesion between the insulating layer and the circuit on the circuit board, fine irregularities Every corner of the circuit Thereby spread the resin component of the two-layer can be coated, but also by reducing the thickness can be formed an insulating layer excellent in insulation reliability.
Moreover, since the surface of the insulating layer is formed of the first layer made of a thermosetting resin composition containing a rubber component soluble in alkali and an inorganic filler, the surface of the insulating layer can be easily treated with an alkaline oxidizing agent. The surface can be roughened, and the adhesion between the insulating layer and the conductor layer can be increased by the anchor effect by forming the conductor layer on the surface of the roughened insulating layer. Therefore, the present invention can form an insulating layer having excellent insulation reliability without impairing the adhesion to the conductor layer.

【0056】また、本発明の請求項2の発明は、第一層
の熱硬化性樹脂組成物がゴム成分を2〜40質量%、無
機フィラーを2〜20質量%それぞれ含有するので、絶
縁層と導体層との密着性をより高くすることができるも
のである。
Further, according to the invention of claim 2 of the present invention, since the thermosetting resin composition of the first layer contains 2 to 40% by mass of a rubber component and 2 to 20% by mass of an inorganic filler, respectively, And the adhesion between the conductive layer and the conductive layer can be further improved.

【0057】また、本発明の請求項3の発明は、第一層
の厚みを10〜50μm、第二層の厚みを10〜30μ
mにそれぞれ形成するので、絶縁層の絶縁信頼性をより
高くすることができるものである。
According to a third aspect of the present invention, the thickness of the first layer is 10 to 50 μm, and the thickness of the second layer is 10 to 30 μm.
m, the insulating reliability of the insulating layer can be further increased.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明を用いた多層プリント配線板の製造工程
の一例を示し、(a)(b)(c)はそれぞれ断面図で
ある。
FIG. 1 shows an example of a manufacturing process of a multilayer printed wiring board using the present invention, and (a), (b) and (c) are cross-sectional views, respectively.

【図2】同上の搬送装置を示す概略図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing a transport device according to the first embodiment;

【図3】同上の(a)は回路板と樹脂フィルムを示す断
面図、(b)は絶縁層付きプリント配線板を示す断面図
である。
FIG. 3A is a cross-sectional view showing a circuit board and a resin film, and FIG. 3B is a cross-sectional view showing a printed wiring board with an insulating layer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

3 多層プリント配線板製造用樹脂フィルム 3a 第一層 3b 第二層 4 回路板 3 Resin film for manufacturing multilayer printed wiring boards 3a First layer 3b Second layer 4 Circuit board

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西本 晋也 大阪府門真市大字門真1048番地松下電工株 式会社内 Fターム(参考) 4F100 AA01A AA20 AG00A AK01A AK01B AK29 AK42 AK53 AL05A BA02 BA25 CA02 CA23 DE01 DE01A EH46 EH462 EJ86 EJ862 GB43 JB13A JB13B JG04 JL11 YY00A 5E346 AA02 AA12 CC04 CC08 CC09 CC32 CC46 DD12 DD32 EE02 EE35 FF03 FF04 GG27 GG28   ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page    (72) Inventor Shinya Nishimoto             1048 Kadoma Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Works, Ltd.             In the formula company F term (reference) 4F100 AA01A AA20 AG00A AK01A                       AK01B AK29 AK42 AK53                       AL05A BA02 BA25 CA02                       CA23 DE01 DE01A EH46                       EH462 EJ86 EJ862 GB43                       JB13A JB13B JG04 JL11                       YY00A                 5E346 AA02 AA12 CC04 CC08 CC09                       CC32 CC46 DD12 DD32 EE02                       EE35 FF03 FF04 GG27 GG28

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 真空ラミネートにより回路板の表面に密
着される多層プリント配線板製造用樹脂フィルムにおい
て、アルカリに可溶なゴム成分と無機フィラーとを含む
熱硬化性樹脂組成物からなる第一層と、上記ゴム成分及
び無機フィラーを含まない熱硬化性樹脂組成物からなる
第二層とを積層して成ることを特徴とする多層プリント
配線板製造用樹脂フィルム。
1. A resin film for producing a multilayer printed wiring board which is adhered to a surface of a circuit board by vacuum lamination, wherein a first layer comprising a thermosetting resin composition containing an alkali-soluble rubber component and an inorganic filler. And a second layer comprising a thermosetting resin composition containing no rubber component and no inorganic filler.
【請求項2】 第一層の熱硬化性樹脂組成物がゴム成分
を2〜40質量%、無機フィラーを2〜20質量%それ
ぞれ含有して成ることを特徴とする請求項1に記載の多
層プリント配線板製造用樹脂フィルム。
2. The multilayer according to claim 1, wherein the first layer of the thermosetting resin composition contains 2 to 40% by mass of a rubber component and 2 to 20% by mass of an inorganic filler. Resin film for manufacturing printed wiring boards.
【請求項3】 第一層の厚みを10〜50μm、第二層
の厚みを10〜30μmにそれぞれ形成して成ることを
特徴とする請求項1又は2に記載の多層プリント配線板
製造用樹脂フィルム。
3. The resin according to claim 1, wherein the first layer has a thickness of 10 to 50 μm and the second layer has a thickness of 10 to 30 μm. the film.
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