JP2003338367A - El素子封止板、el表示装置、及びその製造方法 - Google Patents

El素子封止板、el表示装置、及びその製造方法

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JP2003338367A
JP2003338367A JP2002146227A JP2002146227A JP2003338367A JP 2003338367 A JP2003338367 A JP 2003338367A JP 2002146227 A JP2002146227 A JP 2002146227A JP 2002146227 A JP2002146227 A JP 2002146227A JP 2003338367 A JP2003338367 A JP 2003338367A
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Shigeru Senbonmatsu
茂 千本松
Takayoshi Hanami
孝義 葉波
Yoshio Iwata
芳夫 岩田
Mitsuru Suginoya
充 杉野谷
Yusho Izumisawa
勇昇 泉澤
Hidefumi Omori
英史 大森
Toshihiro Koike
俊弘 小池
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 エレクトロルミネッセント(EL)素子表示
装置を小型化、軽量化でき、その製造においては、部品
点数が少なくなると共に加工工程を簡略化することので
きるEL素子封止板と、その製造方法、及びEL素子表
示装置を提供する。 【解決手段】 蒸着法、又はスパッタ法で、平板52に
乾燥剤膜54を成膜してEL素子封止板100を製造す
る。乾燥剤膜の厚さは50μm以下で、乾燥剤膜はCa
O、又はBaOを含むことが好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電圧を印加するこ
とにより発光するエレクトロルミネッセント素子(EL
素子)を封止する際に用いる乾燥剤膜を備えた封止板、
そのEL素子を用いる表示装置、およびその製造方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】EL素子のうち、有機EL素子は比較的
低電圧で発光し、また製造が簡単なことから、将来性が
期待されている発光素子である。実用上問題があるとさ
れてきた素子寿命に関しても最近かなり改良されてきて
いる。
【0003】従来の有機EL素子の構成の一例を図3に
示す。この有機EL素子は、ガラス等の透明基板2上
に、透明電極であるインジウム錫オキサイド(ITO)
等からなる陽極4、正孔注入層6、正孔輸送層8、電子
輸送性発光層10、第1陰極層14、第2陰極層16を
順次積層してなる。このような有機EL素子では、正孔
注入層6、正孔輸送層8、及び電子輸送性発光層10に
より有機EL層12を構成している。また、第1陰極層
14および第2陰極層16で陰極18を構成している。
そして、陽極4、陰極18からなる一対の電極からそれ
ぞれ注入した正孔と電子とが有機EL層12内で再結合
して光を放射し、その光が透明基板2を透過して有機E
L素子の外に向かって放射するようになっている。
【0004】有機EL素子は、図3の構成以外にも、
(1)陽極/発光層/陰極、(2)陽極/正孔輸送層/
発光層/電子輸送層/陰極、(3)陽極/発光層/電子
輸送層/陰極、(4)陽極/正孔輸送層/発光層/陰
極、等の各種構造のものがある。
【0005】なお、従来の有機EL層の厚みは、通常1
00nm以上である。
【0006】有機EL素子を用いた表示装置では、図4
に示すように、有機EL素子を覆うように、ステンレス
スチール製の気密ケース90を透明基板2の上面に接着
剤92で接着している。気密ケース90には、その上部
中央に乾燥剤収納部93が形成されており、その中にB
aO、CaO等の乾燥剤94が配置されている。このた
め、気密ケース90の厚みPは通常2mm程度になり、
有機EL層自体の厚み100nmと比較し、遙かに厚
い。
【0007】図5は、EL素子がガラス製封止板95で
封止された有機EL表示装置の概略を示す。この例にお
けるガラス製封止板95は、ガラス平板の中央部に有機
EL素子及び乾燥剤の収納部96を形成してある。この
場合も、収納部96の深さQは0.5〜1mm程度とな
り、その結果ガラス製封止板95の厚みは1mm以上に
なる。
【0008】図6も、図5と同様にEL素子をガラス製
封止板97で封止して製品有機EL表示装置としている
他の例を示す。この例において、ガラス封止板97は、
ガラス平板の中央部を大きく研削加工され、有機EL素
子及び乾燥剤の収納部96を形成している。この場合
も、収納部96の深さRは0.5〜1mm程度であるか
ら、ガラス封止板97の厚みは1mm以上になる。
【0009】図4〜6に示したように、従来の気密ケー
スや封止板を用いる製品有機EL素子表示装置は、その
構造上その厚さが数mmになり、このため小型化、軽量
化が困難である。
【0010】更に、従来のガラス封止板の製造において
は、収納部は、収納部形成用の型を用いてガラス板を成
型して形成され、又はガラス板を切削加工することによ
り形成されている。次いで形成した収納部にBaO等の
乾燥剤を充填し、更にメンブレンフィルター等の透湿シ
ートをその上面に被せて乾燥剤を格納する等の工程が必
要である。これらは接着剤の塗布や乾燥等の煩雑な手間
を更に要し、作業能率が悪く、更に製造コストの上昇を
招くものである。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記事情に
鑑みなされたもので、その目的とするところはEL素子
表示装置を小型化、軽量化でき、その製造においては、
部品点数が少なくなると共に上記のような煩雑な加工工
程を簡略化することのできるEL素子封止板と、その製
造方法、及びEL素子表示装置を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明者等は種々検討した結果、乾燥剤を薄膜化する
こと、及び乾燥剤の薄膜化手段として蒸着法やスパッタ
法等の成膜方法を利用することにより、上記問題を解決
できることを知得した。本発明は上記発見に基づき完成
するに至ったものである。
【0013】従って、上記目的を達成する本発明は、以
下に示すものである。
【0014】〔1〕 平板と、前記平板上に形成した厚
さ50μm以下の乾燥剤膜を備えることを特徴とするE
L素子封止板。
【0015】〔2〕 EL素子を形成した基板と、前記
基板と積重して前記EL素子を封止する平板と、前記平
板の内表面に設けられた厚さ50μm以下の乾燥剤膜
と、を備えるEL表示装置。
【0016】〔3〕 〔2〕の乾燥剤膜の厚さが0.1
〜10μmであるEL表示装置。
【0017】〔4〕 〔2〕又は〔3〕の乾燥剤膜がL
i、Na、K、Rb、Ca、Sr、Ba、LiO、N
O、KO、RbO、MgO、SrO、Cs
O、CaO、又はBaOのうち、少なくとも一つを含
むEL表示装置。
【0018】〔5〕 蒸着法、又はスパッタ法で、平板
に乾燥剤膜を成膜する工程と、EL素子を基板上に設け
る工程と、乾燥剤膜とEL素子が対向するように、平板
と基板を所定の間隔で密閉接合する工程と、を備えるE
L表示装置の製造方法。
【0019】以下、図面を参照して本発明を詳細に説明
する。
【0020】
【発明の実施の形態】図1は、本発明によるEL素子封
止板の一例を示す側面図である。図示するように、EL
素子封止板100は、透明な平板52上に乾燥剤膜54
が設けられた構成である。透明な平板52は、合成樹
脂、ガラス等の無機セラミックス、等の材質で良い。し
かし、耐熱性、耐薬品性、透明性等にすぐれているガラ
ス製平板が特に好ましい。平板の厚さは、機械的強度の
許される限り小さいことが本発明の目的に合致する。具
体的には、ガラス平板の場合は、1mm未満から0.3
mm程度にすることが強度との兼合いで好ましい。
【0021】乾燥剤膜54は平板の片面に形成してあれ
ばよい。また、乾燥剤膜の厚さは、0.001〜50μ
mが好ましく、生産性と、乾燥効果を勘案すると、0.
1〜10μmがより好ましい。乾燥剤膜54の形成場
所、形状、形性面積は特に制限が無く、必要に応じて決
定する設計事項であり、後述するように、EL素子を封
止している封止空間内に在ればよい。
【0022】乾燥剤膜54の材質としては、蒸着法や、
スパッタ法で成膜できる材料で在れば何れのものでも良
い。具体的には、Ca、Li、Na、K、Rb、Cs、
Sr、Ba、LiO、NaO、KO、RbO、
MgO、CaO、SrO、BaO等を例示できる。成膜
方法は、前述のように蒸着法やスパッタ法を例示でき、
その成膜条件自体は常法に従う。
【0023】次に、本発明によるEL表示装置の模式的
な断面を図2に示す。図示するように、EL表示装置1
10は、EL素子58が設けられた基板56と封止板1
00とを所定の間隔を離して接着剤60で接着した構成
である。これにより、外部と気密に隔離した封止空間6
2を形成している。
【0024】EL素子58は基板56の上面に設けられ
ている。EL素子としては、特に制限はなく、無機EL
素子、有機EL素子の何れのものでも良い。封止板10
0は平板52の下面に乾燥剤膜54が設けられた構成で
ある。接着剤60は封止板100と基板56の周縁部に
設けられている。なお、平板52と基板56との間隔
は、EL素子58と乾燥剤膜54が接触しない程度に離
れていればよい。
【0025】次に、実施例により本発明を更に具体的に
説明する。
【0026】
【実施例】(実施例1)蒸着装置を用いて、厚さ0.5
mmのガラス平板の片面に厚さ1μmのCaOを蒸着し
て、封止板を製造した。
【0027】一方、ガラス透明基板上に、有機EL素子
を製造した。製造した有機EL素子の構成を表1に示し
た。
【0028】
【表1】
【0029】上記のように製造された封止板と、有機E
L素子が形成された基板とを、乾燥剤膜と有機EL素子
とを対向させた状態で、接着剤ナガセケムテックス
(株)商品名T470/UR7110を用いて封止し
た。なお、有機EL素子と乾燥剤膜とは20μmの間隔
を設けた。
【0030】この表示装置は厚さ1.2mmの薄いもの
であった。 (実施例2)MgOをターゲットとしてRFスパッタに
てMgOを300nm蒸着する以外は実施例1と同様に
して、封止板を製造した。
【0031】一方、ガラス透明基板上に、実施例1に記
載した有機EL素子を製造し、本実施例の方法で製造し
た封止板と、有機EL素子を形成した基板とを、実施例
1に記載した方法で封止した。このような表示装置は厚
さ1.2mmの薄いものであった。 (実施例3)スパッタ装置を用いて、厚さ0.5mmの
ガラス平板の片面に厚さ1μmのSrOを成膜して、封
止板を製造した。
【0032】一方、ガラス透明基板上に、実施例1に記
載した有機EL素子を製造し、本実施例の方法で製造し
た封止板と、有機EL素子を形成した基板とを、実施例
1に記載した方法で封止した。この表示装置は厚さ1.
2mmの薄いものであった。
【0033】
【発明の効果】本発明封止板は、平板上に蒸着法やスパ
ッタ法等の成膜方法により乾燥剤膜を形成したので、乾
燥剤膜を薄く形成できる。このため、封止板に、乾燥剤
収納部を設ける必要が無く、その分だけ封止板の厚さを
薄くできる。従って、本発明封止板を用いて表示装置を
製造する場合、表示装置全体を薄くすることができ、全
体の重量も減少できる。更に、本発明封止板の製造方法
によれば、封止板製造の際に封止板に乾燥剤収納部を形
成する必要がないので、作業工数が減少し、また用いる
部品点数がすくなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明封止板の一例を示す概略側面図である。
【図2】本発明封止板を組込んだEL素子表示装置の一
例を示す概略側面図である。
【図3】従来の有機EL素子の構成例を示す説明図であ
る。
【図4】従来のEL素子表示装置の一例を示す説明図で
ある。
【図5】従来のEL素子表示装置の他の例を示す説明図
である。
【図6】従来のEL素子表示装置の更に他の例を示す説
明図である。
【符号の説明】
2 透明基板 4 陽極 6 正孔注入層 8 正孔輸送層 10 電子輸送性発光層 12 有機EL層 14 第1陰極層 16 第2陰極層 18 陰極 52 平板 54 乾燥剤膜 56 基板 58 EL素子 60 接着剤 62 封止空間 90 気密ケース 92 接着剤 93 乾燥剤収納部 94 乾燥剤 95 封止板 96 収納部 97 封止板 100 封止板 110 表示装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岩田 芳夫 千葉県千葉市美浜区中瀬1丁目8番地 セ イコーインスツルメンツ株式会社内 (72)発明者 杉野谷 充 千葉県千葉市美浜区中瀬1丁目8番地 セ イコーインスツルメンツ株式会社内 (72)発明者 泉澤 勇昇 神奈川県横浜市金沢区乙舳町10番2号 (72)発明者 大森 英史 神奈川県横浜市金沢区乙舳町10番3号 (72)発明者 小池 俊弘 神奈川県川崎市多摩区中野島2丁目19番5 号 Fターム(参考) 3K007 AB13 AB18 BB01 BB05 DB03 FA02

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 平板と、前記平板上に形成した厚さ50
    μm以下の乾燥剤膜とを備えることを特徴とするEL素
    子封止板。
  2. 【請求項2】 EL素子を形成した基板と、前記基板と
    積重して前記EL素子を封止する平板と、前記平板の内
    表面に設けられた厚さ50μm以下の乾燥剤膜と、を備
    えることを特徴とするEL表示装置。
  3. 【請求項3】 前記乾燥剤膜の厚さが0.1〜10μm
    であることを特徴とする請求項2に記載のEL表示装
    置。
  4. 【請求項4】 前記乾燥剤膜がLi、Na、K、Rb、
    Ca、Sr、Ba、LiO、NaO、KO、Rb
    O、MgO、SrO、CsO、CaO、又はBaO
    のうち、少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項
    2または3に記載のEL表示装置。
  5. 【請求項5】 蒸着法、又はスパッタ法で、平板に乾燥
    剤膜を成膜する工程と、EL素子を基板上に設ける工程
    と、前記乾燥剤膜と前記EL素子が対向するように、前
    記平板と前記基板を所定の間隔で密閉接合する工程と、
    を備えることを特徴とするEL表示装置の製造方法。
  6. 【請求項6】 乾燥剤膜の厚さが50μm以下であるこ
    とを特徴とする請求項5に記載のEL表示装置の製造方
    法。
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