JP2003332098A - Ｘ線発生装置 - Google Patents
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- H05G1/26—Measuring, controlling or protecting
- H05G1/30—Controlling
- H05G1/36—Temperature of anode; Brightness of image power
Abstract
(57)【要約】
【課題】 Ｘ線の線量を一定にすることが可能であっ
て、かつ、拡大率の高いＸ線画像の取得が可能なＸ線発
生装置を提供する。 【解決手段】 第一出射窓３１でＸ線が出射される面よ
りも、ターゲット２７で電子線が入射される面側に、タ
ーゲット２７から発生するＸ線の状態を監視するＸ線モ
ニタ３０を備える。これにより、ターゲット２７から発
生するＸ線の状態をリアルタイムに監視することがで
き、Ｘ線の状態を一定にすることが可能とされる。ま
た、Ｘ線モニタ３０を第一出射窓３１でＸ線が出射され
る面よりも被検査物５側に設置する場合に比して、第一
出射窓３１から被検査物等へＸ線を照射する際にＸ線モ
ニタ３０が邪魔にならず、第一出射窓３１と被検査物と
を近接できる。
て、かつ、拡大率の高いＸ線画像の取得が可能なＸ線発
生装置を提供する。 【解決手段】 第一出射窓３１でＸ線が出射される面よ
りも、ターゲット２７で電子線が入射される面側に、タ
ーゲット２７から発生するＸ線の状態を監視するＸ線モ
ニタ３０を備える。これにより、ターゲット２７から発
生するＸ線の状態をリアルタイムに監視することがで
き、Ｘ線の状態を一定にすることが可能とされる。ま
た、Ｘ線モニタ３０を第一出射窓３１でＸ線が出射され
る面よりも被検査物５側に設置する場合に比して、第一
出射窓３１から被検査物等へＸ線を照射する際にＸ線モ
ニタ３０が邪魔にならず、第一出射窓３１と被検査物と
を近接できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ターゲットに電子
線を照射してＸ線を発生させるＸ線発生装置に関する。
線を照射してＸ線を発生させるＸ線発生装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、被検査物に対してＸ線を照射
し、被検査物を透過したＸ線の画像を取得して被検査物
の検査等を行う検査装置が知られている。このような検
査装置のＸ線源としては、ターゲットに電子線を照射し
てＸ線を発生させるＸ線発生装置が用いられるが、その
Ｘ線の線量は、電子線の加速電圧や、電子線の電流値等
の変動、あるいは、ターゲットの損傷やターゲット支持
部材の熱変形等により変動してしまう。
し、被検査物を透過したＸ線の画像を取得して被検査物
の検査等を行う検査装置が知られている。このような検
査装置のＸ線源としては、ターゲットに電子線を照射し
てＸ線を発生させるＸ線発生装置が用いられるが、その
Ｘ線の線量は、電子線の加速電圧や、電子線の電流値等
の変動、あるいは、ターゲットの損傷やターゲット支持
部材の熱変形等により変動してしまう。
【０００３】このように、被検査物に照射されるＸ線の
線量が変動すると、被検査物を透過したＸ線の画像が変
化し、その変化が被検査物の特性等に起因するのか、照
射したＸ線の変化に起因するのかが判別できず、精度よ
く被検査物を検査することができない。
線量が変動すると、被検査物を透過したＸ線の画像が変
化し、その変化が被検査物の特性等に起因するのか、照
射したＸ線の変化に起因するのかが判別できず、精度よ
く被検査物を検査することができない。
【０００４】このため、例えば、特開昭５５−１２４９
９７号公報には、Ｘ線管の出射窓から出射されたＸ線の
線量を半導体Ｘ線検出器によって監視し、これをフィー
ドバックすることによりＸ線の線量を一定にするＸ線発
生装置が開示されている。
９７号公報には、Ｘ線管の出射窓から出射されたＸ線の
線量を半導体Ｘ線検出器によって監視し、これをフィー
ドバックすることによりＸ線の線量を一定にするＸ線発
生装置が開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】近年、Ｘ線によって電
子部品等の小型、高密度な被検査物の検査が行われるよ
うになり、これに伴って拡大率の高いＸ線画像を得るこ
とが望まれている。ところが、上述の特開昭５５−１２
４９９７号のＸ線発生装置においては、Ｘ線の線量の変
動を低減できるものの、拡大率の高いＸ線画像を得にく
いという問題が生じていた。
子部品等の小型、高密度な被検査物の検査が行われるよ
うになり、これに伴って拡大率の高いＸ線画像を得るこ
とが望まれている。ところが、上述の特開昭５５−１２
４９９７号のＸ線発生装置においては、Ｘ線の線量の変
動を低減できるものの、拡大率の高いＸ線画像を得にく
いという問題が生じていた。
【０００６】本発明は、上記課題に鑑みてなされたもの
であり、Ｘ線の線量を一定にすることが可能であって、
かつ、拡大率の高いＸ線画像の取得が可能なＸ線発生装
置を提供することを目的とする。
であり、Ｘ線の線量を一定にすることが可能であって、
かつ、拡大率の高いＸ線画像の取得が可能なＸ線発生装
置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明のＸ線発生装置
は、電子銃から出射される電子線をターゲットに入射さ
せ、ターゲットから発生するＸ線を第一出射窓を介して
出射させるＸ線発生装置において、第一出射窓でＸ線が
出射される面よりも、ターゲットで電子線が入射される
面側に設置され、ターゲットから発生するＸ線の状態を
監視するＸ線監視手段を備えることを特徴とする。
は、電子銃から出射される電子線をターゲットに入射さ
せ、ターゲットから発生するＸ線を第一出射窓を介して
出射させるＸ線発生装置において、第一出射窓でＸ線が
出射される面よりも、ターゲットで電子線が入射される
面側に設置され、ターゲットから発生するＸ線の状態を
監視するＸ線監視手段を備えることを特徴とする。
【０００８】本発明のＸ線発生装置によれば、ターゲッ
トから発生するＸ線の状態をＸ線監視手段によってリア
ルタイムに監視し取得することができる。そして、この
ようにして取得されたＸ線の状態に基づいて、電子銃や
ターゲット等に印加される電圧や電流等を制御したり、
電子線を偏向させてターゲットにおける電子線の入射位
置を移動したりすること等により、ターゲットから発生
するＸ線の状態を一定にすることができ、第一出射窓か
ら安定したＸ線を被検査物等に対して照射することがで
きる。
トから発生するＸ線の状態をＸ線監視手段によってリア
ルタイムに監視し取得することができる。そして、この
ようにして取得されたＸ線の状態に基づいて、電子銃や
ターゲット等に印加される電圧や電流等を制御したり、
電子線を偏向させてターゲットにおける電子線の入射位
置を移動したりすること等により、ターゲットから発生
するＸ線の状態を一定にすることができ、第一出射窓か
ら安定したＸ線を被検査物等に対して照射することがで
きる。
【０００９】また、Ｘ線監視手段が、第一出射窓のＸ線
出射面よりも、ターゲットの電子線入射面側に設置され
るので、Ｘ線監視手段を第一出射窓のＸ線出射面よりも
被検査物側に設置する場合に比して、第一出射窓から被
検査物等へＸ線を照射する際にＸ線監視手段が邪魔にな
らない。このため、第一出射窓と被検査物とを近接させ
ることが可能とされ、拡大率の大きなＸ線画像が得られ
る。
出射面よりも、ターゲットの電子線入射面側に設置され
るので、Ｘ線監視手段を第一出射窓のＸ線出射面よりも
被検査物側に設置する場合に比して、第一出射窓から被
検査物等へＸ線を照射する際にＸ線監視手段が邪魔にな
らない。このため、第一出射窓と被検査物とを近接させ
ることが可能とされ、拡大率の大きなＸ線画像が得られ
る。
【００１０】ここで、ターゲットから発生するＸ線を出
射させる第二出射窓を備え、Ｘ線監視手段は、第二出射
窓から出射されるＸ線の状態を監視することが好まし
い。
射させる第二出射窓を備え、Ｘ線監視手段は、第二出射
窓から出射されるＸ線の状態を監視することが好まし
い。
【００１１】このように、ターゲットから発生するＸ線
をこの第二出射窓を介してＸ線監視手段に入射させるこ
とにより、容器等を透過したＸ線を測定するのに比して
Ｘ線監視手段が監視するＸ線の強度が高くなり、Ｘ線の
状態の監視精度が向上される。
をこの第二出射窓を介してＸ線監視手段に入射させるこ
とにより、容器等を透過したＸ線を測定するのに比して
Ｘ線監視手段が監視するＸ線の強度が高くなり、Ｘ線の
状態の監視精度が向上される。
【００１２】また、第二出射窓は、ターゲットで電子線
が入射される面を臨むように設置されることが好まし
い。
が入射される面を臨むように設置されることが好まし
い。
【００１３】ターゲットの電子線入射面及びその近傍か
らはＸ線が強く発生するため、この面を臨む位置に第二
出射窓を設置することにより、第二出射窓を介してＸ線
監視手段にＸ線が効率よく入射され、監視精度がより向
上される。
らはＸ線が強く発生するため、この面を臨む位置に第二
出射窓を設置することにより、第二出射窓を介してＸ線
監視手段にＸ線が効率よく入射され、監視精度がより向
上される。
【００１４】また、電子銃と電気的に接続された端子が
貫通固定されるステム基板を備え、第二出射窓はステム
基板であることが好ましい。
貫通固定されるステム基板を備え、第二出射窓はステム
基板であることが好ましい。
【００１５】Ｘ線発生装置において、Ｘ線管等を採用す
る場合には、電子銃と電子銃を駆動する駆動手段とを電
気的に接続すべくこのようなステム基板を備える場合が
多い。ここで、ステム基板は、絶縁性のセラミクス製等
であってＸ線を透過しやすいので、このステム基板を第
二出射窓とすることにより、このようなステム基板を備
えるＸ線管等に大きな改造を施すことなく上記発明が好
適に実施できる。
る場合には、電子銃と電子銃を駆動する駆動手段とを電
気的に接続すべくこのようなステム基板を備える場合が
多い。ここで、ステム基板は、絶縁性のセラミクス製等
であってＸ線を透過しやすいので、このステム基板を第
二出射窓とすることにより、このようなステム基板を備
えるＸ線管等に大きな改造を施すことなく上記発明が好
適に実施できる。
【００１６】また、第二出射窓とＸ線監視手段との間
に、Ｘ線の透過／遮断を切り替え可能なシャッタを備え
ることが好ましい。
に、Ｘ線の透過／遮断を切り替え可能なシャッタを備え
ることが好ましい。
【００１７】このようなシャッタによってＸ線を遮断す
ることにより、例えば、Ｘ線の発生開始直後等Ｘ線の状
態を制御する必要がない場合にＸ線監視手段をＸ線に被
爆されないようにすることができ、Ｘ線監視手段の寿命
を延ばすことができる。
ることにより、例えば、Ｘ線の発生開始直後等Ｘ線の状
態を制御する必要がない場合にＸ線監視手段をＸ線に被
爆されないようにすることができ、Ｘ線監視手段の寿命
を延ばすことができる。
【００１８】また、Ｘ線監視手段は、電子銃及び第一出
射窓及びターゲットと一体に構成されていてもよい。
射窓及びターゲットと一体に構成されていてもよい。
【００１９】このように、Ｘ線監視手段と電子銃等とが
一体に構成されることにより、構造が簡略化されると共
に、設置が容易とされる。
一体に構成されることにより、構造が簡略化されると共
に、設置が容易とされる。
【００２０】また、Ｘ線監視手段は、電子銃及びターゲ
ットで電子線が入射される面と共に、真空にされる容器
内に収容されていてもよい。
ットで電子線が入射される面と共に、真空にされる容器
内に収容されていてもよい。
【００２１】ここで、Ｘ線監視手段が、真空にされる容
器内に収容されることにより、Ｘ線監視手段の温度、湿
度等の雰囲気管理が容易とされ、Ｘ線の状態の監視の精
度がさらに高められる。
器内に収容されることにより、Ｘ線監視手段の温度、湿
度等の雰囲気管理が容易とされ、Ｘ線の状態の監視の精
度がさらに高められる。
【００２２】また、Ｘ線監視手段は、さらに、ターゲッ
トで電子線が入射される面を臨むように設置されること
が好ましい。
トで電子線が入射される面を臨むように設置されること
が好ましい。
【００２３】ターゲットの電子線入射面及びその近傍か
らは強いＸ線が発生するため、この面を臨む位置にＸ線
監視手段を設置することにより、Ｘ線監視手段にＸ線が
効率よく入射され、監視精度がより向上される。
らは強いＸ線が発生するため、この面を臨む位置にＸ線
監視手段を設置することにより、Ｘ線監視手段にＸ線が
効率よく入射され、監視精度がより向上される。
【００２４】また、Ｘ線監視手段が取得するＸ線の状態
に基づいて、ターゲットから発生するＸ線の状態を一定
に制御するＸ線状態制御手段を備えてもよい。
に基づいて、ターゲットから発生するＸ線の状態を一定
に制御するＸ線状態制御手段を備えてもよい。
【００２５】これにより、Ｘ線の線量等の状態が一定に
制御される。
制御される。
【００２６】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照しながら、
本発明に係るＸ線発生装置の好適な実施形態について詳
細に説明する。なお、図面の説明において、同一または
相当要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略す
る。
本発明に係るＸ線発生装置の好適な実施形態について詳
細に説明する。なお、図面の説明において、同一または
相当要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略す
る。
【００２７】図１は、本発明の第一実施形態に係るＸ線
発生装置を備えた非破壊検査システムを示す概略構成図
である。本非破壊検査システム８０は、被検査物５が多
数載置されると共に水平方向に移動される移動ステージ
２と、移動ステージ２の下方に設置され移動ステージ２
に対してＸ線を出射するマイクロフォーカス型のＸ線発
生装置１００と、移動ステージ２及び被検査物５を透過
したＸ線を検出し透過Ｘ線の画像を取得するＸ線カメラ
１と、を備えており、被検査物５の非破壊検査を行うも
のである。
発生装置を備えた非破壊検査システムを示す概略構成図
である。本非破壊検査システム８０は、被検査物５が多
数載置されると共に水平方向に移動される移動ステージ
２と、移動ステージ２の下方に設置され移動ステージ２
に対してＸ線を出射するマイクロフォーカス型のＸ線発
生装置１００と、移動ステージ２及び被検査物５を透過
したＸ線を検出し透過Ｘ線の画像を取得するＸ線カメラ
１と、を備えており、被検査物５の非破壊検査を行うも
のである。
【００２８】Ｘ線発生装置１００は、主として、反射型
ターゲット（ターゲット）２７から発生するＸ線を上方
へ出射するＸ線管１０と、Ｘ線管１０で発生するＸ線の
線量を測定するＸ線モニタ（Ｘ線監視手段）３０と、Ｘ
線管１０に対して所定の電流電圧を供給しＸ線を発生さ
せる電流電圧制御装置（駆動手段）４０と、を備えてい
る。
ターゲット（ターゲット）２７から発生するＸ線を上方
へ出射するＸ線管１０と、Ｘ線管１０で発生するＸ線の
線量を測定するＸ線モニタ（Ｘ線監視手段）３０と、Ｘ
線管１０に対して所定の電流電圧を供給しＸ線を発生さ
せる電流電圧制御装置（駆動手段）４０と、を備えてい
る。
【００２９】Ｘ線管１０は、略円筒形状で上下に延在す
ると共に、ほぼ真空状態に封止された真空外囲器（容
器）２０で外郭が構成されている。この真空外囲器２０
の上部は、銅等の金属によって形成された外囲器本体２
１とされている。この外囲器本体２１は、後述する反射
型ターゲット２７を収容する縦型円筒形状の胴部２１ａ
を備えると共に、胴部２１ａに対して直交するように接
続された横型円筒形状の電子銃収容筒２１ｂを備え、胴
部２１ａと電子銃収容筒２１ｂとは連通されている。
ると共に、ほぼ真空状態に封止された真空外囲器（容
器）２０で外郭が構成されている。この真空外囲器２０
の上部は、銅等の金属によって形成された外囲器本体２
１とされている。この外囲器本体２１は、後述する反射
型ターゲット２７を収容する縦型円筒形状の胴部２１ａ
を備えると共に、胴部２１ａに対して直交するように接
続された横型円筒形状の電子銃収容筒２１ｂを備え、胴
部２１ａと電子銃収容筒２１ｂとは連通されている。
【００３０】電子銃収容筒２１ｂで胴部２１ａから離間
する側の端部には、セラミクス製のステム基板２４がは
め込まれている。また、電子銃収容筒２１ｂ内には、胴
部２１ａの中心軸に向けて略水平に電子線を出射する電
子銃２３が配設され、この電子銃２３はステム基板２４
に貫通固定されたステムピン（端子）２５によって支持
されている。そして、このステムピン２５は電子銃２３
内の電極やフィラメント等と電気的に接続されると共
に、電流電圧制御装置４０と電気的に接続されており、
電子銃２３に所定の電流電圧を供給して電子銃２３を駆
動する。
する側の端部には、セラミクス製のステム基板２４がは
め込まれている。また、電子銃収容筒２１ｂ内には、胴
部２１ａの中心軸に向けて略水平に電子線を出射する電
子銃２３が配設され、この電子銃２３はステム基板２４
に貫通固定されたステムピン（端子）２５によって支持
されている。そして、このステムピン２５は電子銃２３
内の電極やフィラメント等と電気的に接続されると共
に、電流電圧制御装置４０と電気的に接続されており、
電子銃２３に所定の電流電圧を供給して電子銃２３を駆
動する。
【００３１】一方、真空外囲器２０の下部は、ガラスや
セラミクス等の絶縁体によって形成され、胴部２１ａと
同軸の略円筒形状を有し、胴部２１ａと接続されるバル
ブ２２とされている。バルブ２２の下端からは、軸に沿
って、略円柱状の導電性のターゲット支持体２６が内部
に挿通され、胴部２１ａの上端近傍まで延在している。
セラミクス等の絶縁体によって形成され、胴部２１ａと
同軸の略円筒形状を有し、胴部２１ａと接続されるバル
ブ２２とされている。バルブ２２の下端からは、軸に沿
って、略円柱状の導電性のターゲット支持体２６が内部
に挿通され、胴部２１ａの上端近傍まで延在している。
【００３２】ターゲット支持体２６の上端部で電子銃２
３からの電子線が入射する部分及びその周辺は、電子銃
２３側に向かって下に傾斜する斜面とされ、この斜面に
はタングステン等の反射型ターゲット（ターゲット）２
７が設置されている。
３からの電子線が入射する部分及びその周辺は、電子銃
２３側に向かって下に傾斜する斜面とされ、この斜面に
はタングステン等の反射型ターゲット（ターゲット）２
７が設置されている。
【００３３】反射型ターゲット２７は、ターゲット支持
体２６を介して電流電圧制御装置４０と電気的に接続さ
れ、電子銃２３に対して所定の正の電圧が印加される。
体２６を介して電流電圧制御装置４０と電気的に接続さ
れ、電子銃２３に対して所定の正の電圧が印加される。
【００３４】また、胴部２１ａの上端で、反射型ターゲ
ット２７を臨む部分には、反射型ターゲット２７から発
生するＸ線を真空外囲器２０の外に上に向かって出射さ
せる第一出射窓３１が設けられている。
ット２７を臨む部分には、反射型ターゲット２７から発
生するＸ線を真空外囲器２０の外に上に向かって出射さ
せる第一出射窓３１が設けられている。
【００３５】そして、本実施形態のＸ線発生装置１００
においては、図１及び図２に示すように、反射型ターゲ
ット２７から発生するＸ線の線量を監視するＸ線モニタ
３０を備えている。このＸ線モニタ３０は、ステム基板
２４に面し、図１に示すように、第一出射窓３１のＸ線
出射面よりも下側、すなわち、第一出射窓３１でＸ線が
出射される面よりも反射型ターゲット２７で電子線の入
射する面側に設置されている。このＸ線モニタ３０は、
反射型ターゲット２７で発生しセラミクス製のステム基
板２４を透過して出射したＸ線を検出し、このＸ線の線
量をリアルタイムに測定する。
においては、図１及び図２に示すように、反射型ターゲ
ット２７から発生するＸ線の線量を監視するＸ線モニタ
３０を備えている。このＸ線モニタ３０は、ステム基板
２４に面し、図１に示すように、第一出射窓３１のＸ線
出射面よりも下側、すなわち、第一出射窓３１でＸ線が
出射される面よりも反射型ターゲット２７で電子線の入
射する面側に設置されている。このＸ線モニタ３０は、
反射型ターゲット２７で発生しセラミクス製のステム基
板２４を透過して出射したＸ線を検出し、このＸ線の線
量をリアルタイムに測定する。
【００３６】さらに、本実施形態のＸ線発生装置１００
は、反射型ターゲット２７から発生するＸ線の線量が一
定となるように、電流電圧制御装置４０を制御するＸ線
線量制御装置４１（Ｘ線状態制御手段）を備えている。
このＸ線線量制御装置４１は、Ｘ線モニタ３０によって
取得されたＸ線の線量に基づいて、Ｘ線の線量が一定と
なるように、電流電圧制御装置４０が反射型ターゲット
２７や電子銃２３に印加する電流や電圧の設定値を制御
する。
は、反射型ターゲット２７から発生するＸ線の線量が一
定となるように、電流電圧制御装置４０を制御するＸ線
線量制御装置４１（Ｘ線状態制御手段）を備えている。
このＸ線線量制御装置４１は、Ｘ線モニタ３０によって
取得されたＸ線の線量に基づいて、Ｘ線の線量が一定と
なるように、電流電圧制御装置４０が反射型ターゲット
２７や電子銃２３に印加する電流や電圧の設定値を制御
する。
【００３７】なお、Ｘ線管１０、電流電圧制御装置４
０、Ｘ線線量制御装置４１及びＸ線モニタ３０は、構造
を簡略化して設置コスト等を削減すべく筐体４内に一体
に構成されている。
０、Ｘ線線量制御装置４１及びＸ線モニタ３０は、構造
を簡略化して設置コスト等を削減すべく筐体４内に一体
に構成されている。
【００３８】次に、このようなＸ線発生装置１００を有
する非破壊検査システム８０の作用について説明する。
する非破壊検査システム８０の作用について説明する。
【００３９】まず、電流電圧制御装置４０によってＸ線
管１０の電子銃２３と反射型ターゲット２７とに所定の
電流電圧を印加し、電子銃２３から電子線を出射させて
反射型ターゲット２７に入射させ、反射型ターゲット２
７からＸ線を発生させる。一方、移動ステージ２上に所
望の被検査物５を載置すると共に、移動ステージ２を被
検査物５が第一出射窓３１に対向するように移動させ
る。
管１０の電子銃２３と反射型ターゲット２７とに所定の
電流電圧を印加し、電子銃２３から電子線を出射させて
反射型ターゲット２７に入射させ、反射型ターゲット２
７からＸ線を発生させる。一方、移動ステージ２上に所
望の被検査物５を載置すると共に、移動ステージ２を被
検査物５が第一出射窓３１に対向するように移動させ
る。
【００４０】反射型ターゲット２７から発生したＸ線
は、電子線と略９０°方向を変えられて第一出射窓３１
から出射され、移動ステージ２や被検査物５を透過し、
透過Ｘ線はＸ線カメラ１によって検出されてＸ線画像が
得られる。そして、このＸ線画像に基づいて、目視や、
この画像の２値化処理等の画像処理等により被検査物５
の非破壊検査を行う。
は、電子線と略９０°方向を変えられて第一出射窓３１
から出射され、移動ステージ２や被検査物５を透過し、
透過Ｘ線はＸ線カメラ１によって検出されてＸ線画像が
得られる。そして、このＸ線画像に基づいて、目視や、
この画像の２値化処理等の画像処理等により被検査物５
の非破壊検査を行う。
【００４１】ここで、本実施形態においては、Ｘ線モニ
タ３０によって反射型ターゲット２７から発生するＸ線
の線量がリアルタイムに監視され、この線量に基づい
て、Ｘ線線量制御装置４１が反射型ターゲット２７から
発生するＸ線の線量が一定になるように電流電圧制御装
置４０を制御する。
タ３０によって反射型ターゲット２７から発生するＸ線
の線量がリアルタイムに監視され、この線量に基づい
て、Ｘ線線量制御装置４１が反射型ターゲット２７から
発生するＸ線の線量が一定になるように電流電圧制御装
置４０を制御する。
【００４２】これにより、反射型ターゲット２７の発熱
によるターゲット支持体２６の熱膨張や、電子線の照射
による反射型ターゲット２７表面の損傷等、あるいは、
電流や電圧の予期しない変動等によって、反射型ターゲ
ット２７から発生するＸ線の線量が変動しても、これが
直ちにフィードバック補正されるため、Ｘ線発生装置１
００の第一出射窓３１から被検査物５等に対して出射さ
れるＸ線の線量が一定とされる。このため、Ｘ線カメラ
１に取得されるＸ線画像のバックグランド等がほぼ一定
とされ、このＸ線画像に基づいて目視により検査をする
場合に好適であり、特に、このＸ線画像を画像処理して
判定する際には、最適な閾値等の設定が容易とされ、Ｘ
線画像による非破壊検査を好適に行うことができる。
によるターゲット支持体２６の熱膨張や、電子線の照射
による反射型ターゲット２７表面の損傷等、あるいは、
電流や電圧の予期しない変動等によって、反射型ターゲ
ット２７から発生するＸ線の線量が変動しても、これが
直ちにフィードバック補正されるため、Ｘ線発生装置１
００の第一出射窓３１から被検査物５等に対して出射さ
れるＸ線の線量が一定とされる。このため、Ｘ線カメラ
１に取得されるＸ線画像のバックグランド等がほぼ一定
とされ、このＸ線画像に基づいて目視により検査をする
場合に好適であり、特に、このＸ線画像を画像処理して
判定する際には、最適な閾値等の設定が容易とされ、Ｘ
線画像による非破壊検査を好適に行うことができる。
【００４３】また、このＸ線モニタ３０は、第一出射窓
３１でＸ線が出射される面よりも、反射型ターゲット２
７で電子線が入射される面側に設置されているので、こ
のようなＸ線モニタ３０が、Ｘ線が出射される側の移動
ステージ２や被検査物５等の邪魔となることがない。こ
のため、移動ステージ２や被検査物５を第一出射窓３１
でＸ線が出射される面に近接させることができるので、
Ｘ線カメラ１によって高倍率のＸ線画像を取得すること
ができる。特に、電子部品等の小型で高密度な被検査物
の非破壊検査には最適である。
３１でＸ線が出射される面よりも、反射型ターゲット２
７で電子線が入射される面側に設置されているので、こ
のようなＸ線モニタ３０が、Ｘ線が出射される側の移動
ステージ２や被検査物５等の邪魔となることがない。こ
のため、移動ステージ２や被検査物５を第一出射窓３１
でＸ線が出射される面に近接させることができるので、
Ｘ線カメラ１によって高倍率のＸ線画像を取得すること
ができる。特に、電子部品等の小型で高密度な被検査物
の非破壊検査には最適である。
【００４４】また、本実施形態におけるＸ線管１０のよ
うな、いわゆる、反射型のＸ線管１０は、外部からＸ線
管１０内の電子銃２３に電源を供給するためのステムピ
ン２５を有するステム基板２４を通常備えており、この
ステム基板２４を監視用のＸ線を出射させる第二出射窓
として利用することにより、反射型ターゲット２７から
のＸ線が十分な強度でＸ線モニタ３０に入射されると共
に、従来のＸ線管自体に改造を加えることなく本実施形
態に係るＸ線発生装置１００が実施されている。
うな、いわゆる、反射型のＸ線管１０は、外部からＸ線
管１０内の電子銃２３に電源を供給するためのステムピ
ン２５を有するステム基板２４を通常備えており、この
ステム基板２４を監視用のＸ線を出射させる第二出射窓
として利用することにより、反射型ターゲット２７から
のＸ線が十分な強度でＸ線モニタ３０に入射されると共
に、従来のＸ線管自体に改造を加えることなく本実施形
態に係るＸ線発生装置１００が実施されている。
【００４５】続いて、図３及び図４を参照して、第二実
施形態に係るＸ線発生装置２００について説明する。本
実施形態のＸ線発生装置２００が、第一実施形態のＸ線
発生装置１００と異なる点は、Ｘ線管として、反射型タ
ーゲット２７から発生するＸ線を外部に出射させる第二
出射窓５０を有するＸ線管１１を備える点であり、これ
に対応して、Ｘ線モニタ３０はステム基板２４に面する
のではなく、第二出射窓５０に面している。
施形態に係るＸ線発生装置２００について説明する。本
実施形態のＸ線発生装置２００が、第一実施形態のＸ線
発生装置１００と異なる点は、Ｘ線管として、反射型タ
ーゲット２７から発生するＸ線を外部に出射させる第二
出射窓５０を有するＸ線管１１を備える点であり、これ
に対応して、Ｘ線モニタ３０はステム基板２４に面する
のではなく、第二出射窓５０に面している。
【００４６】この第二出射窓は、Ｂｅ等のＸ線の透過率
の高い物質からなり、真空外囲器２０の胴部２１ａの周
壁にはめ込まれている。ここで、第二出射窓５０の位置
は特に限定されないが、十分な強さのＸ線を出射させる
べく、反射型ターゲット２７で電子線が入射される面を
臨む位置に設置されることが好ましい。
の高い物質からなり、真空外囲器２０の胴部２１ａの周
壁にはめ込まれている。ここで、第二出射窓５０の位置
は特に限定されないが、十分な強さのＸ線を出射させる
べく、反射型ターゲット２７で電子線が入射される面を
臨む位置に設置されることが好ましい。
【００４７】なお、反射型ターゲット２７を臨む面を具
体的に示すと、図４に示すように、Ｘ線管１０を上から
見た場合に、反射型ターゲット２７と電子銃２３とを結
ぶ線と、反射型ターゲット２７とＸ線モニタ３０とを結
ぶ線と、のなす角度が±９０°の範囲となる。
体的に示すと、図４に示すように、Ｘ線管１０を上から
見た場合に、反射型ターゲット２７と電子銃２３とを結
ぶ線と、反射型ターゲット２７とＸ線モニタ３０とを結
ぶ線と、のなす角度が±９０°の範囲となる。
【００４８】このようなＸ線発生装置２００によれば、
反射型ターゲット２７から発生するＸ線は、第一実施形
態のステム基板２４から出射されるＸ線と同等以上の強
さで第二出射窓５０を介してＸ線モニタ３０に入射さ
れ、Ｘ線の状態が精度よく監視される。
反射型ターゲット２７から発生するＸ線は、第一実施形
態のステム基板２４から出射されるＸ線と同等以上の強
さで第二出射窓５０を介してＸ線モニタ３０に入射さ
れ、Ｘ線の状態が精度よく監視される。
【００４９】次に、図５を参照して、第三実施形態に係
るＸ線発生装置３００について説明する。本実施形態の
Ｘ線発生装置３００が第二実施形態のＸ線発生装置２０
０と異なる点は、Ｘ線管として、反射型ターゲット２７
及び第一出射窓３１に代え、胴部２１ａの上端に略水平
にはめ込まれた透過型ターゲット６０を有する、透過型
のＸ線管１２を備えている点である。この透過型ターゲ
ット６０は、第二実施形態のＸ線管１１のターゲット２
７と第一出射窓３１とを兼ねており、下面がターゲット
の電子線入射面とされ、上面が第一出射窓のＸ線出射面
とされている。
るＸ線発生装置３００について説明する。本実施形態の
Ｘ線発生装置３００が第二実施形態のＸ線発生装置２０
０と異なる点は、Ｘ線管として、反射型ターゲット２７
及び第一出射窓３１に代え、胴部２１ａの上端に略水平
にはめ込まれた透過型ターゲット６０を有する、透過型
のＸ線管１２を備えている点である。この透過型ターゲ
ット６０は、第二実施形態のＸ線管１１のターゲット２
７と第一出射窓３１とを兼ねており、下面がターゲット
の電子線入射面とされ、上面が第一出射窓のＸ線出射面
とされている。
【００５０】また、これに対応して、電子銃２３は、胴
部２１ａ内で透過型ターゲット６０より下方に位置し、
上方の透過型ターゲット６０に向かって電子線を出射す
るように設置され、第二出射窓５０は、透過型ターゲッ
ト６０の電子線入射面を臨むように胴部２１ａの周壁に
設置されている。
部２１ａ内で透過型ターゲット６０より下方に位置し、
上方の透過型ターゲット６０に向かって電子線を出射す
るように設置され、第二出射窓５０は、透過型ターゲッ
ト６０の電子線入射面を臨むように胴部２１ａの周壁に
設置されている。
【００５１】本実施形態のＸ線発生装置３００において
は、電子銃２３から出射された電子線は、透過型ターゲ
ット６０の下面の電子線入射面に入射し、発生したＸ線
はこの透過型ターゲット６０の上面のＸ線出射面から出
射される。また、透過型ターゲット６０で発生したＸ線
の一部は第二出射窓５０から出射されてＸ線モニタ３０
に入射し、Ｘ線の線量が検出される。これによって、い
わゆる、透過型のＸ線管１２を備えるＸ線発生装置３０
０においても、上記実施形態と同様の作用効果が得られ
る。
は、電子銃２３から出射された電子線は、透過型ターゲ
ット６０の下面の電子線入射面に入射し、発生したＸ線
はこの透過型ターゲット６０の上面のＸ線出射面から出
射される。また、透過型ターゲット６０で発生したＸ線
の一部は第二出射窓５０から出射されてＸ線モニタ３０
に入射し、Ｘ線の線量が検出される。これによって、い
わゆる、透過型のＸ線管１２を備えるＸ線発生装置３０
０においても、上記実施形態と同様の作用効果が得られ
る。
【００５２】次に、図６を参照して、第四実施形態に係
るＸ線発生装置４００について説明する。本実施形態の
Ｘ線発生装置４００が、第二実施形態のＸ線発生装置２
００、第三実施形態のＸ線発生装置３００と異なる点
は、第二出射窓５０とＸ線モニタ３０との間に、第二出
射窓５０から出射されるＸ線の透過／遮断を切り替え可
能なシャッタ７０を備える点である。
るＸ線発生装置４００について説明する。本実施形態の
Ｘ線発生装置４００が、第二実施形態のＸ線発生装置２
００、第三実施形態のＸ線発生装置３００と異なる点
は、第二出射窓５０とＸ線モニタ３０との間に、第二出
射窓５０から出射されるＸ線の透過／遮断を切り替え可
能なシャッタ７０を備える点である。
【００５３】これによれば、シャッタ７０を遮断するこ
とによって、Ｘ線の発生開始直後等Ｘ線の線量を制御す
る必要がない場合にＸ線モニタ３０にＸ線が入射せず、
Ｘ線モニタ３０の被爆が防止されてＸ線モニタ３０の寿
命を延ばすことができる。
とによって、Ｘ線の発生開始直後等Ｘ線の線量を制御す
る必要がない場合にＸ線モニタ３０にＸ線が入射せず、
Ｘ線モニタ３０の被爆が防止されてＸ線モニタ３０の寿
命を延ばすことができる。
【００５４】次に、図７を参照して、第五実施形態に係
るＸ線発生装置５００について説明する。本実施形態の
Ｘ線発生装置５００が、第三実施形態のＸ線発生装置３
００や、第４実施形態のＸ線発生装置４００と異なる点
は、予め真空状態で封止された真空外囲器２０に代え
て、電子銃２３や透過型ターゲット６０の電子線入射面
を収容すると共に、必要に応じて内部を真空状態とした
り大気圧下での開放をしたりすることが可能なステンレ
ス製等の開放外囲器（容器）１０１を備えている点であ
る。
るＸ線発生装置５００について説明する。本実施形態の
Ｘ線発生装置５００が、第三実施形態のＸ線発生装置３
００や、第４実施形態のＸ線発生装置４００と異なる点
は、予め真空状態で封止された真空外囲器２０に代え
て、電子銃２３や透過型ターゲット６０の電子線入射面
を収容すると共に、必要に応じて内部を真空状態とした
り大気圧下での開放をしたりすることが可能なステンレ
ス製等の開放外囲器（容器）１０１を備えている点であ
る。
【００５５】これに対応して、このＸ線発生装置５００
は、電子銃２３から透過型ターゲット６０へ向かう電子
線の通路を周りから環状に囲み、電子線の焦点調節をす
るコイル１０３を備えると共に、Ｘ線照射時に開放外囲
器１０１内を真空状態に保つべくガスを排気する排気ポ
ンプ１０２を備えている。このような、いわゆる、開放
型のＸ線発生装置では、内部の電子銃２３や透過型ター
ゲット６０を交換可能となっている。
は、電子銃２３から透過型ターゲット６０へ向かう電子
線の通路を周りから環状に囲み、電子線の焦点調節をす
るコイル１０３を備えると共に、Ｘ線照射時に開放外囲
器１０１内を真空状態に保つべくガスを排気する排気ポ
ンプ１０２を備えている。このような、いわゆる、開放
型のＸ線発生装置では、内部の電子銃２３や透過型ター
ゲット６０を交換可能となっている。
【００５６】また、本実施形態のＸ線発生装置５００
が、第三実施形態のＸ線発生装置３００、第４実施形態
のＸ線発生装置４００と異なる他の点は、Ｘ線モニタ３
０が、開放外囲器１０１内に収容されている点である。
なお、本実施形態においても、上述と同様に、Ｘ線モニ
タ３０は、透過型ターゲット６０の電子線入射面を臨む
位置に設置されることが好ましい。
が、第三実施形態のＸ線発生装置３００、第４実施形態
のＸ線発生装置４００と異なる他の点は、Ｘ線モニタ３
０が、開放外囲器１０１内に収容されている点である。
なお、本実施形態においても、上述と同様に、Ｘ線モニ
タ３０は、透過型ターゲット６０の電子線入射面を臨む
位置に設置されることが好ましい。
【００５７】このようなＸ線発生装置５００によって
も、上記実施形態と同様の作用効果を奏すると共に、Ｘ
線モニタ３０が開放外囲器１０１内に収容され、Ｘ線照
射時にはＸ線モニタ３０が真空雰囲気にさらされてＸ線
モニタの温度、湿度等の雰囲気管理が容易とされ、Ｘ線
モニタによるＸ線の状態の監視の精度がさらに高められ
ている。
も、上記実施形態と同様の作用効果を奏すると共に、Ｘ
線モニタ３０が開放外囲器１０１内に収容され、Ｘ線照
射時にはＸ線モニタ３０が真空雰囲気にさらされてＸ線
モニタの温度、湿度等の雰囲気管理が容易とされ、Ｘ線
モニタによるＸ線の状態の監視の精度がさらに高められ
ている。
【００５８】なお、本発明に係るＸ線発生装置は、上記
実施形態に限定されるものではなく、種々の変形態様を
とることが可能である。
実施形態に限定されるものではなく、種々の変形態様を
とることが可能である。
【００５９】例えば、上記実施形態において、Ｘ線線量
制御装置４１は、Ｘ線の線量が一定となるように電流電
圧制御装置４０の電流値や電圧値を制御しているが、例
えば、Ｘ線の線量がある程度以上落ちた場合に、ターゲ
ットが寿命を迎えたとして、電子線を偏向させてターゲ
ットの新たな部分に電子線が入射されるようにし、Ｘ線
の線量を回復させ線量が一定になるように制御してもよ
く、また、ターゲットを自動的に交換するようにしても
よい。
制御装置４１は、Ｘ線の線量が一定となるように電流電
圧制御装置４０の電流値や電圧値を制御しているが、例
えば、Ｘ線の線量がある程度以上落ちた場合に、ターゲ
ットが寿命を迎えたとして、電子線を偏向させてターゲ
ットの新たな部分に電子線が入射されるようにし、Ｘ線
の線量を回復させ線量が一定になるように制御してもよ
く、また、ターゲットを自動的に交換するようにしても
よい。
【００６０】また、上記実施形態において、Ｘ線モニタ
３０は、Ｘ線の線量をＸ線の状態として監視しているが
他の性質を監視してもよく、例えば、複数の波長のＸ線
を発生させるべく数種類の素材を備える複合ターゲット
等を採用する際等には、Ｘ線の波長を監視してもよい。
３０は、Ｘ線の線量をＸ線の状態として監視しているが
他の性質を監視してもよく、例えば、複数の波長のＸ線
を発生させるべく数種類の素材を備える複合ターゲット
等を採用する際等には、Ｘ線の波長を監視してもよい。
【００６１】また、第一実施形態において、ステム基板
２４をセラミクス製としているが、絶縁性でＸ線を透過
しやすい部材ならよく、例えば、ガラス等でも構わな
い。
２４をセラミクス製としているが、絶縁性でＸ線を透過
しやすい部材ならよく、例えば、ガラス等でも構わな
い。
【００６２】また、第二〜四実施形態において、反射型
ターゲット２７や透過型ターゲット６０で発生するＸ線
を好適にＸ線モニタ３０に対して出射させるべく、第二
出射窓５０を胴部２１ａの周壁で反射型ターゲット２７
や透過型ターゲット６０で電子線が入射される面を臨む
位置に設置しているが、例えば、反射型ターゲット２７
から発生するＸ線が強い場合等には、胴部２１ａの他の
位置等に設けてもよい。
ターゲット２７や透過型ターゲット６０で発生するＸ線
を好適にＸ線モニタ３０に対して出射させるべく、第二
出射窓５０を胴部２１ａの周壁で反射型ターゲット２７
や透過型ターゲット６０で電子線が入射される面を臨む
位置に設置しているが、例えば、反射型ターゲット２７
から発生するＸ線が強い場合等には、胴部２１ａの他の
位置等に設けてもよい。
【００６３】また、第一〜四実施形態において、Ｘ線管
１０，１１，１２が大きい場合等は、真空外囲器２０内
に、Ｘ線モニタ３０を設置してもよく、この場合、第５
実施形態のように、ターゲットの電子線入射面を臨むよ
うにＸ線モニタ３０を設置することが好ましい。また、
第５実施形態において、開放外囲器１０１に設けた第二
出射窓を介して外部のＸ線モニタ３０がＸ線を監視する
ようにしてもよい。
１０，１１，１２が大きい場合等は、真空外囲器２０内
に、Ｘ線モニタ３０を設置してもよく、この場合、第５
実施形態のように、ターゲットの電子線入射面を臨むよ
うにＸ線モニタ３０を設置することが好ましい。また、
第５実施形態において、開放外囲器１０１に設けた第二
出射窓を介して外部のＸ線モニタ３０がＸ線を監視する
ようにしてもよい。
【００６４】また、第一〜四実施形態においては、Ｘ線
を精度よく監視すべく、Ｘ線を出射させる第二出射窓５
０やステム基板２４を備えたり、Ｘ線モニタ３０を開放
外囲器１０１内に設置したりしているが、例えば、反射
型ターゲット２７や透過型ターゲット６０から発生する
Ｘ線が強い場合等には、これに代えて、窓等を介さずに
真空外囲器２０や開放外囲器１０１の外から、これらを
透過して出射されるＸ線の状態をＸ線モニタ３０で監視
してもよく、要は、Ｘ線モニタ３０が第一出射窓でＸ線
が出射する面よりも、ターゲットの電子線入射面側にあ
ればよい。
を精度よく監視すべく、Ｘ線を出射させる第二出射窓５
０やステム基板２４を備えたり、Ｘ線モニタ３０を開放
外囲器１０１内に設置したりしているが、例えば、反射
型ターゲット２７や透過型ターゲット６０から発生する
Ｘ線が強い場合等には、これに代えて、窓等を介さずに
真空外囲器２０や開放外囲器１０１の外から、これらを
透過して出射されるＸ線の状態をＸ線モニタ３０で監視
してもよく、要は、Ｘ線モニタ３０が第一出射窓でＸ線
が出射する面よりも、ターゲットの電子線入射面側にあ
ればよい。
【００６５】また、上記実施形態では、被検査物５を透
過した透過Ｘ線の画像を撮影しているが、例えば、ＣＴ
によって断層画像を撮影してもよく、この場合でも、拡
大率が高く、かつ、安定したＸ線によって得られたＸ線
画像に基づいて演算ができるので断層撮影の精度等が上
される。
過した透過Ｘ線の画像を撮影しているが、例えば、ＣＴ
によって断層画像を撮影してもよく、この場合でも、拡
大率が高く、かつ、安定したＸ線によって得られたＸ線
画像に基づいて演算ができるので断層撮影の精度等が上
される。
【００６６】
【発明の効果】上述したように、本発明のＸ線発生装置
は、第一出射窓でＸ線が出射される面よりも、ターゲッ
トで電子線が入射される面側に、ターゲットから発生す
るＸ線の状態を監視するＸ線監視手段を備える。これに
より、ターゲットから発生するＸ線の状態をＸ線監視手
段によってリアルタイムに監視し取得することができ、
このようにして取得されたＸ線の状態に基づいて、電子
銃やターゲット等に印加される電圧や電流等を制御した
り、ターゲットの電子線入射位置を移動したりすること
等により、ターゲットから発生するＸ線の状態を一定に
することが可能とされ、第一出射窓から安定したＸ線を
被検査物等に対して照射することができる。
は、第一出射窓でＸ線が出射される面よりも、ターゲッ
トで電子線が入射される面側に、ターゲットから発生す
るＸ線の状態を監視するＸ線監視手段を備える。これに
より、ターゲットから発生するＸ線の状態をＸ線監視手
段によってリアルタイムに監視し取得することができ、
このようにして取得されたＸ線の状態に基づいて、電子
銃やターゲット等に印加される電圧や電流等を制御した
り、ターゲットの電子線入射位置を移動したりすること
等により、ターゲットから発生するＸ線の状態を一定に
することが可能とされ、第一出射窓から安定したＸ線を
被検査物等に対して照射することができる。
【００６７】また、Ｘ線監視手段が、第一出射窓のＸ線
が出射される面よりも、ターゲットの電子線が入射され
る面側に設置されるので、Ｘ線監視手段を第一出射窓で
Ｘ線が出射される面よりも被検査物側に側に設置する場
合に比して、第一出射窓から被検査物へＸ線を照射する
際にＸ線監視手段が邪魔にならず、第一出射窓と被検査
物とを近接させることが可能とされ、拡大率の大きなＸ
線画像が得られる。
が出射される面よりも、ターゲットの電子線が入射され
る面側に設置されるので、Ｘ線監視手段を第一出射窓で
Ｘ線が出射される面よりも被検査物側に側に設置する場
合に比して、第一出射窓から被検査物へＸ線を照射する
際にＸ線監視手段が邪魔にならず、第一出射窓と被検査
物とを近接させることが可能とされ、拡大率の大きなＸ
線画像が得られる。
【００６８】これによって、Ｘ線の線量を一定にするこ
とが可能であって、かつ、拡大率の高いＸ線画像の取得
が可能なＸ線発生装置が提供される。
とが可能であって、かつ、拡大率の高いＸ線画像の取得
が可能なＸ線発生装置が提供される。
【図１】第一実施形態に係るＸ線発生装置を有する非破
壊検査システムを示す部分断面図である。
壊検査システムを示す部分断面図である。
【図２】図１中のＸ線発生装置の上面図である。
【図３】第二実施形態に係るＸ線発生装置のターゲット
付近の縦断面図である。
付近の縦断面図である。
【図４】図３のＸ線発生装置の上面図である。
【図５】第三実施形態に係るＸ線発生装置を有する非破
壊検査システムを示す部分断面図である。
壊検査システムを示す部分断面図である。
【図６】第四実施形態に係るＸ線発生装置のターゲット
付近の縦断面図である。
付近の縦断面図である。
【図７】第五実施形態に係るＸ線発生装置の部分断面図
である。
である。
２０…真空外囲器（容器）、２３…電子銃、２４…ステ
ム基板、２５…ステムピン（端子）、２７…反射型ター
ゲット（ターゲット）、３０…Ｘ線モニタ（Ｘ線監視手
段）、３１…第一出射窓、４０…電流電圧制御装置（駆
動手段）、４１…Ｘ線線量制御装置（Ｘ線状態制御手
段）、５０…第二出射窓、６０…透過型ターゲット（タ
ーゲット、第一出射窓）、７０…シャッタ、８０…非破
壊検査システム、１００，２００，３００，４００，５
００…Ｘ線発生装置、１０１…開放外囲器（容器）。
ム基板、２５…ステムピン（端子）、２７…反射型ター
ゲット（ターゲット）、３０…Ｘ線モニタ（Ｘ線監視手
段）、３１…第一出射窓、４０…電流電圧制御装置（駆
動手段）、４１…Ｘ線線量制御装置（Ｘ線状態制御手
段）、５０…第二出射窓、６０…透過型ターゲット（タ
ーゲット、第一出射窓）、７０…シャッタ、８０…非破
壊検査システム、１００，２００，３００，４００，５
００…Ｘ線発生装置、１０１…開放外囲器（容器）。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
// Ｇ０１Ｎ 23/04 Ｇ０１Ｎ 23/04
Claims (9)
- 【請求項１】 電子銃から出射される電子線をターゲッ
トに入射させ、前記ターゲットから発生するＸ線を第一
出射窓を介して出射させるＸ線発生装置において、 前記第一出射窓で前記Ｘ線が出射される面よりも、前記
ターゲットで前記電子線が入射される面側に設置され、
前記ターゲットから発生するＸ線の状態を監視するＸ線
監視手段を備えることを特徴とする、Ｘ線発生装置。 - 【請求項２】 前記ターゲットから発生するＸ線を出射
させる第二出射窓を備え、前記Ｘ線監視手段は、前記第
二出射窓から出射されるＸ線の状態を監視することを特
徴とする、請求項１に記載のＸ線発生装置。 - 【請求項３】 前記第二出射窓は、前記ターゲットで前
記電子線が入射される面を臨むように設置されることを
特徴とする、請求項２に記載のＸ線発生装置。 - 【請求項４】 前記電子銃と電気的に接続された端子が
貫通固定されるステム基板を備え、前記第二出射窓は前
記ステム基板であることを特徴とする、請求項２又は３
に記載のＸ線発生装置。 - 【請求項５】 前記第二出射窓と前記Ｘ線監視手段との
間に、Ｘ線の透過／遮断を切り替え可能なシャッタを備
えることを特徴とする、請求項２〜４の何れか一項に記
載のＸ線発生装置。 - 【請求項６】 前記Ｘ線監視手段は、前記電子銃及び前
記第一出射窓及び前記ターゲットと一体に構成されてい
ることを特徴とする、請求項１〜５の何れか一項に記載
のＸ線発生装置。 - 【請求項７】 前記Ｘ線監視手段は、前記電子銃及び前
記ターゲットで前記電子線が入射される面と共に、真空
にされる容器内に収容されていることを特徴とする、請
求項１に記載のＸ線発生装置。 - 【請求項８】 前記Ｘ線監視手段は、さらに、前記ター
ゲットで前記電子線が入射される面を臨むように設置さ
れることを特徴とする、請求項７に記載のＸ線発生装
置。 - 【請求項９】 前記Ｘ線監視手段が監視する前記Ｘ線の
状態に基づいて、前記ターゲットから発生するＸ線の状
態を一定に制御するＸ線状態制御手段を備えることを特
徴とする、請求項１〜８の何れか一項に記載のＸ線発生
装置。
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Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006066075A (ja) * | 2004-08-24 | 2006-03-09 | Keyence Corp | 光除電装置 |
| WO2007043390A1 (ja) * | 2005-10-07 | 2007-04-19 | Hamamatsu Photonics K.K. | Ｘ線管および非破壊検査装置 |
| JP2008538003A (ja) * | 2005-04-08 | 2008-10-02 | ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | 包装機械のセンサ装置 |
| JP2013020788A (ja) * | 2011-07-11 | 2013-01-31 | Canon Inc | 放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影装置 |
| JP2013092498A (ja) * | 2011-10-27 | 2013-05-16 | Yokogawa Electric Corp | 放射線検査装置 |
| JP2013541374A (ja) * | 2010-10-02 | 2013-11-14 | ヴァリアン メディカル システムズ インコーポレイテッド | Ｘ線システムおよび方法 |
| JP2017502447A (ja) * | 2013-10-21 | 2017-01-19 | エクスロン インターナショナル ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングＹｘｌｏｎ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｇｍｂｈ | Ｘ線管用のターゲット及び／又はフィラメント、ｘ線管、ターゲット及び／又はフィラメントの識別方法並びにターゲット及び／又はフィラメントの特性設定方法 |
| JP2019186095A (ja) * | 2018-04-12 | 2019-10-24 | 浜松ホトニクス株式会社 | Ｘ線管 |
| US10660190B2 (en) | 2017-02-06 | 2020-05-19 | Canon Medical Systems Corporation | X-ray computed tomography apparatus |
Families Citing this family (39)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1997256B (zh) * | 2005-12-31 | 2010-08-25 | 清华大学 | 一种高低能x射线输出装置 |
| US7684540B2 (en) * | 2006-06-20 | 2010-03-23 | Schlumberger Technology Corporation | Apparatus and method for fluid phase fraction determination using x-rays |
| US7542543B2 (en) * | 2006-09-15 | 2009-06-02 | Schlumberger Technology Corporation | Apparatus and method for well services fluid evaluation using x-rays |
| DE102006048608A1 (de) * | 2006-10-13 | 2008-04-17 | Siemens Ag | Verfahren zur Kontrolle eines Leistungszustands eines Röntgenstrahlers und/oder eines Röntgendetektors und System zur Durchführung des Verfahrens |
| DE102006062452B4 (de) | 2006-12-28 | 2008-11-06 | Comet Gmbh | Röntgenröhre und Verfahren zur Prüfung eines Targets einer Röntgenröhre |
| US7903782B2 (en) * | 2007-12-19 | 2011-03-08 | Schlumberger Technology Corporation | Apparatus and method for fluid phase fraction determination using x-rays optimized for wet gas |
| TWI394490B (zh) * | 2008-09-10 | 2013-04-21 | Omron Tateisi Electronics Co | Ｘ射線檢查裝置及ｘ射線檢查方法 |
| US20100172471A1 (en) * | 2009-01-05 | 2010-07-08 | Sivathanu Yudaya R | Method and apparatus for characterizing flame and spray structure in windowless chambers |
| US9459216B2 (en) | 2009-01-05 | 2016-10-04 | En'urga, Inc. | Method for characterizing flame and spray structures in windowless chambers |
| RU2013126530A (ru) | 2010-11-08 | 2014-12-20 | Конинклейке Филипс Электроникс Н.В. | Определение изменений выхода рентгеновского источника |
| EP2574919B1 (en) * | 2011-09-29 | 2014-05-07 | Service Pétroliers Schlumberger | Apparatus and method for fluid phase fraction determination using X-rays |
| US20150117599A1 (en) | 2013-10-31 | 2015-04-30 | Sigray, Inc. | X-ray interferometric imaging system |
| ITVR20120035A1 (it) * | 2012-03-05 | 2012-06-04 | Roberto Molteni | Sorgenti radiografiche compatte per carico moderato utilizzanti tubo radiogeno con catodo a nanotubi di carbonio. |
| EP2674240A1 (de) * | 2012-06-14 | 2013-12-18 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zum Herstellen einer Schweißverbindung mit Erstellen einer Aufnahme der Schweissverbindung mit gekühlten Röntgenröhren |
| CN106683964B (zh) * | 2013-01-22 | 2018-11-09 | 上海联影医疗科技有限公司 | 双窗x射线球管及x射线摄影系统 |
| US10297359B2 (en) | 2013-09-19 | 2019-05-21 | Sigray, Inc. | X-ray illumination system with multiple target microstructures |
| US10269528B2 (en) | 2013-09-19 | 2019-04-23 | Sigray, Inc. | Diverging X-ray sources using linear accumulation |
| US10416099B2 (en) | 2013-09-19 | 2019-09-17 | Sigray, Inc. | Method of performing X-ray spectroscopy and X-ray absorption spectrometer system |
| US10295485B2 (en) | 2013-12-05 | 2019-05-21 | Sigray, Inc. | X-ray transmission spectrometer system |
| US9390881B2 (en) * | 2013-09-19 | 2016-07-12 | Sigray, Inc. | X-ray sources using linear accumulation |
| JP6166145B2 (ja) * | 2013-10-16 | 2017-07-19 | 浜松ホトニクス株式会社 | Ｘ線発生装置 |
| USRE48612E1 (en) | 2013-10-31 | 2021-06-29 | Sigray, Inc. | X-ray interferometric imaging system |
| US10304580B2 (en) | 2013-10-31 | 2019-05-28 | Sigray, Inc. | Talbot X-ray microscope |
| US9594036B2 (en) | 2014-02-28 | 2017-03-14 | Sigray, Inc. | X-ray surface analysis and measurement apparatus |
| US10401309B2 (en) | 2014-05-15 | 2019-09-03 | Sigray, Inc. | X-ray techniques using structured illumination |
| WO2016021030A1 (ja) | 2014-08-07 | 2016-02-11 | 株式会社ニコン | Ｘ線装置および構造物の製造方法 |
| JP6320898B2 (ja) * | 2014-10-27 | 2018-05-09 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | Ｘ線発生源及び蛍光ｘ線分析装置 |
| US10352880B2 (en) | 2015-04-29 | 2019-07-16 | Sigray, Inc. | Method and apparatus for x-ray microscopy |
| CN104964992B (zh) * | 2015-07-03 | 2017-10-20 | 中国计量科学研究院 | X射线标准检测系统 |
| US10295486B2 (en) | 2015-08-18 | 2019-05-21 | Sigray, Inc. | Detector for X-rays with high spatial and high spectral resolution |
| US10247683B2 (en) | 2016-12-03 | 2019-04-02 | Sigray, Inc. | Material measurement techniques using multiple X-ray micro-beams |
| US10578566B2 (en) | 2018-04-03 | 2020-03-03 | Sigray, Inc. | X-ray emission spectrometer system |
| US10845491B2 (en) | 2018-06-04 | 2020-11-24 | Sigray, Inc. | Energy-resolving x-ray detection system |
| GB2591630B (en) | 2018-07-26 | 2023-05-24 | Sigray Inc | High brightness x-ray reflection source |
| US10656105B2 (en) | 2018-08-06 | 2020-05-19 | Sigray, Inc. | Talbot-lau x-ray source and interferometric system |
| CN112638261A (zh) | 2018-09-04 | 2021-04-09 | 斯格瑞公司 | 利用滤波的x射线荧光的系统和方法 |
| DE112019004478T5 (de) | 2018-09-07 | 2021-07-08 | Sigray, Inc. | System und verfahren zur röntgenanalyse mit wählbarer tiefe |
| CN110794875B (zh) * | 2019-10-25 | 2022-03-04 | 中国电子科技集团公司第三十八研究所 | 一种用于射线源的浮动靶驱动机构及控制方法 |
| CN111513746B (zh) * | 2020-04-23 | 2023-05-02 | 东软医疗系统股份有限公司 | Ct扫描方法、装置、ct设备及ct系统 |
Family Cites Families (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5413316B2 (ja) * | 1974-03-08 | 1979-05-30 | ||
| JPS5929294B2 (ja) * | 1976-07-02 | 1984-07-19 | 旭硝子株式会社 | アルカリ電解用含フツ素陽イオン交換樹脂膜の性能回復方法 |
| JPS5413316A (en) | 1977-07-02 | 1979-01-31 | Victor Co Of Japan Ltd | Method for recording information signals in original of grooveless information recording medium disc |
| JPS55124997A (en) | 1979-03-19 | 1980-09-26 | Toshiba Corp | X-ray device |
| JPS5937453A (ja) * | 1982-08-26 | 1984-02-29 | Kenji Shimizu | 非破壊検査装置 |
| JPS6132998A (ja) * | 1984-07-25 | 1986-02-15 | Fujitsu Ltd | Ｘ線転写装置 |
| EP0432568A3 (en) | 1989-12-11 | 1991-08-28 | General Electric Company | X ray tube anode and tube having same |
| JP3371444B2 (ja) * | 1992-04-28 | 2003-01-27 | 株式会社ニコン | Ｘ線発生方法及びｘ線発生装置及びこれを有するｘ線露光装置 |
| JP3168824B2 (ja) * | 1994-04-30 | 2001-05-21 | 株式会社島津製作所 | Ｘ線ｃｔ装置 |
| US5550886A (en) * | 1994-11-22 | 1996-08-27 | Analogic Corporation | X-Ray focal spot movement compensation system |
| US5729583A (en) * | 1995-09-29 | 1998-03-17 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of Commerce | Miniature x-ray source |
| JP3775840B2 (ja) * | 1995-12-28 | 2006-05-17 | 株式会社ニコン | パルスｘ線照射装置、ｘ線縮小露光装置 |
| JP4574755B2 (ja) | 1998-02-06 | 2010-11-04 | 浜松ホトニクス株式会社 | Ｘ線発生装置及び検査システム |
| US6137860A (en) * | 1998-08-18 | 2000-10-24 | Lockheed Martin Corporation | Digital radiographic weld inspection system |
| JP3934837B2 (ja) | 1999-10-29 | 2007-06-20 | 浜松ホトニクス株式会社 | 開放型ｘ線発生装置 |
| US6320935B1 (en) * | 2000-02-28 | 2001-11-20 | X-Technologies, Ltd. | Dosimeter for a miniature energy transducer for emitting X-ray radiation |
| US6333968B1 (en) * | 2000-05-05 | 2001-12-25 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Transmission cathode for X-ray production |
| US6542576B2 (en) * | 2001-01-22 | 2003-04-01 | Koninklijke Philips Electronics, N.V. | X-ray tube for CT applications |
-
2002
- 2002-05-09 JP JP2002134488A patent/JP4322470B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-04-25 US US10/513,610 patent/US7298826B2/en not_active Expired - Lifetime
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Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006066075A (ja) * | 2004-08-24 | 2006-03-09 | Keyence Corp | 光除電装置 |
| JP2008538003A (ja) * | 2005-04-08 | 2008-10-02 | ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | 包装機械のセンサ装置 |
| WO2007043390A1 (ja) * | 2005-10-07 | 2007-04-19 | Hamamatsu Photonics K.K. | Ｘ線管および非破壊検査装置 |
| JP2007128848A (ja) * | 2005-10-07 | 2007-05-24 | Hamamatsu Photonics Kk | Ｘ線管および非破壊検査装置 |
| JP2013541374A (ja) * | 2010-10-02 | 2013-11-14 | ヴァリアン メディカル システムズ インコーポレイテッド | Ｘ線システムおよび方法 |
| JP2013020788A (ja) * | 2011-07-11 | 2013-01-31 | Canon Inc | 放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影装置 |
| US9070529B2 (en) | 2011-07-11 | 2015-06-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Radiation generating apparatus and radiation imaging apparatus |
| JP2013092498A (ja) * | 2011-10-27 | 2013-05-16 | Yokogawa Electric Corp | 放射線検査装置 |
| JP2017502447A (ja) * | 2013-10-21 | 2017-01-19 | エクスロン インターナショナル ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングＹｘｌｏｎ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｇｍｂｈ | Ｘ線管用のターゲット及び／又はフィラメント、ｘ線管、ターゲット及び／又はフィラメントの識別方法並びにターゲット及び／又はフィラメントの特性設定方法 |
| US10660190B2 (en) | 2017-02-06 | 2020-05-19 | Canon Medical Systems Corporation | X-ray computed tomography apparatus |
| US11089667B2 (en) | 2017-02-06 | 2021-08-10 | Canon Medical Systems Corporation | X-ray computed tomography apparatus |
| JP2019186095A (ja) * | 2018-04-12 | 2019-10-24 | 浜松ホトニクス株式会社 | Ｘ線管 |
| CN110379695A (zh) * | 2018-04-12 | 2019-10-25 | 浜松光子学株式会社 | X射线管 |
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