JP2003329826A - カラーフィルタを構成する透明膜形成用感光性樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明は、露光量を高くしてもパターンを形成
することができ、２０μｍ以下の微細パターンを抜くこ
とができ、解像度も良好であるカラーフィルタを構成す
る透明膜形成用感光性樹脂組成物を提供することを目的
とする。また本発明の別の目的は、前記感光性樹脂組成
物を用いて形成されたカラーフィルタおよび前記カラー
フィルタを使用した液晶表示装置を提供することであ
る。 【解決手段】（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）光重合
性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）光重合開始助
剤、（Ｅ）溶剤および（Ｆ）ベンジリデン骨格を有する
化合物を含有するカラーフィルタを構成する透明膜形成
用感光性樹脂組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーフィルタを
構成する透明膜形成用感光性樹脂組成物およびそれを用
いるカラーフィルタに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、携帯電話等の用途で、半透過型カ
ラーフィルタを用いた液晶パネルが用いられている。半
透過型とは、液晶パネルのセル内部に反射型部分と透過
型部分の両方が存在することを意味する。半透過型カラ
ーフィルタにおいて、同じ着色感光性樹脂組成物を用い
て、反射型を基本に半透過型を設計すると、光が２回通
る反射部では問題ないが、光が１回だけ通る透過部で
は、透過部の着色層の色が薄くなってしまうという問題
があった。また、透過型を基本に設計すると、透過部で
は問題ないが、反射部では２回光が通るため着色層の色
が濃くなりすぎるという問題があった。そこで、透過型
を基本に、反射部の着色層の厚みを薄くし、前記該反射
部の着色層の上または下に透明層を配置して透過部と同
じ厚みにして全体の平坦性を付与し、かつ透過部からの
透過光の色と反射部からの反射光の色とを同等にする半
透過型カラーフィルタが提案されている。

【０００３】しかしながら、反射部の透明層を作成する
ための従来の透明レジストでは、マスクを通過した斜め
入射光がカラーフィルタ層の下部にある反射板で斜めに
反射し、この斜め反射光によりレジストが露光して、パ
ターンがポストベーク後に順テーパー形状になり、２０
μｍ以下の微細パターンを抜くことが難しいという問題
があった。順テーパー形状になると反射部と透過部の境
で色が異なり、これがカラー液晶表示装置により表示さ
れるカラー画像やカラー固体撮像素子により撮影される
カラー画像などの品質を低下させる。また、一般に、開
発当初のパターンの線幅管理は、使用するレジストにマ
ッチするよう専用に設計したマスクを使用するのではな
く、既存のマスクを使用して線幅調整を行うことが行わ
れている。そして、通常は、使用線幅より幾分か線幅の
細いマスクを使用し、露光量を調整する（線幅を太くす
る場合には露光量を増加させる）ことにより線幅をコン
トロールしている。実際は、数μｍレベルで線幅を太ら
せるので、使用するレジストはオーバー露光でも微細パ
ターンの抜け性が大きく低下しないものが必要とされて
いる。

【０００４】一方、本発明で用いられるベンジリデン骨
格を有する化合物は、特開平２−２６９３４６号公報で
は、５５０ｎｍ以下の領域に吸収を示しその付近の光を
吸収して基板からの反射を防止する作用があるというこ
とから、基板からの光の反射を防止するための吸光剤と
して用いられている。また、特開平１１−１１９４２５
号公報では、ベンジリデン系の化合物は感光剤の経時安
定性をよくすることが知られている。しかし、前記した
２件の出願は、いずれもフォトレジストに関するもので
あり、フォトレジストを用いてパターンを形成後、エッ
チング等を行った後には除かれ、最終的な構造物中には
残らない。一方、本願は、カラーフィルタを構成する透
明膜形成用感光性樹脂組成物に関するものであり、本発
明の組成物は透明膜を形成し、そのままカラーフィルタ
中に残存することから、ベンジリデン系の化合物が、パ
ターン形成において、２０μｍ以下の微細パターンを解
像することに寄与することは、従来知られてはいなかっ
た。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、露光量を高
くしてもパターンを形成することができ、２０μｍ以下
の微細パターンを抜くことができ、解像度も良好である
カラーフィルタを構成する透明膜形成用感光性樹脂組成
物を提供することを目的とする。また本発明の別の目的
は、前記感光性樹脂組成物を用いて形成されたカラーフ
ィルタおよび前記カラーフィルタを使用した液晶表示装
置を提供することである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意検討の
結果、ベンジリデン骨格を有する化合物を含有する化合
物を特定の割合で含む感光性樹脂組成物を用いることに
より、露光量を高くしてもパターンを形成しうることお
よび２０μｍ以下の微細パターンを抜くことができるこ
とを見出し、本発明に至った。すなわち本発明は、
（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物、
（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）光重合開始助剤、（Ｅ）溶
剤および（Ｆ）ベンジリデン骨格を有する化合物を含有
するカラーフィルタを構成する透明膜形成用感光性樹脂
組成物、前記感光性樹脂組成物を、基板または先に形成
された着色感光性樹脂組成物の固形分からなる層の上に
塗布し、塗布された感光性樹脂組成物層から揮発成分を
除去し、フォトマスクを介して前記層を露光し、現像す
るパターンの形成方法、前記方法で形成されたパターン
を含むカラーフィルタおよび前記カラーフィルタを使用
した液晶表示装置を提供するものである。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明のカラーフィルタを構成す
る透明膜形成用感光性樹脂組成物は、（Ａ）バインダー
ポリマー、（Ｂ）光重合性化合物、（Ｃ）光重合開始
剤、（Ｄ）光重合開始助剤、（Ｅ）溶剤を含む感光性樹
脂組成物および（Ｆ）ベンジリデン骨格を有する化合物
を含有する。

【０００８】本発明で用いられる（Ｅ）ベンジリデン骨
格を有する化合物のベンジリデン骨格としては、式
（Ｉ）で示される構造が挙げられる。

【０００９】

【００１０】また、ベンジリデン骨格を有する化合物と
しては、式（ＩＩ）で示される化合物が挙げられる。

【００１１】

【００１２】式（Ｉ）および式（ＩＩ）において、
Ｑ¹、Ｑ²およびＱ³はそれぞれ独立して、水素原子、水
酸基、アルキル基またはアルコキシル基を示す。式（Ｉ
Ｉ）において、Ｑ⁴はアルキル基であり、Ｘはシアノ基
またはアルコキシカルボニル基である。これらの定義に
おけるアルキル基、アルコキシル基およびアルコキシカ
ルボニル基は、それぞれ炭素数１〜６であることができ
る。また式（ＩＩ）において、Ｘがアルコキシカルボニ
ル基の場合、二つのエステル部分は同じでも異なっても
よい。式（ＩＩ）で示される不飽和カルボン酸エステル
化合物のうち、Ｘがシアノ基である化合物は、対応する
ベンズアルデヒド類とシアノ酢酸エステル類との反応に
より製造することができる。またＸがアルコキシカルボ
ニル基である化合物は、対応するベンズアルデヒド類と
マロン酸ジエステル類との反応により製造することがで
きる。

【００１３】本発明で用いるのに好適なベンジリデン骨
格を有する化合物として、具体的には、ベンジリデンマ
ロン酸ジアルキル、４−ヒドロキシ−３−メトキシベン
ジリデンマロン酸ジアルキル、４−ヒドロキシベンジリ
デンマロン酸ジアルキル、２，４−ジヒドロキシベンジ
リデンマロン酸ジアルキル、２−シアノ−３−（４−ヒ
ドロキシ−３−メトキシフェニル）プロペン酸アルキル
などを挙げることができる。ベンジリデン骨格を有する
化合物の添加量は、感光性樹脂組成物の固形中、通常
０．００１〜３質量％、好ましくは０．０１〜２質量
％、さらに好ましくは０．１〜１質量％である。０．０
０１〜３質量％であると、解像度および抜け性が良好に
なる傾向があり、好ましい。

【００１４】本発明において用いられる（Ａ）バインダ
ーポリマーとしては、アクリル系共重合体が使用でき、
例えば、カルボキシル基含有モノマーおよびこれと共重
合可能な他のモノマーとの共重合体などが挙げられる。

【００１５】カルボキシル基含有モノマーとしては、例
えば、不飽和モノカルボン酸や、不飽和ジカルボン酸、
不飽和トリカルボン酸などの不飽和多価カルボン酸など
の分子中に少なくとも１個のカルボキシル基を有する不
飽和カルボン酸が挙げられる。ここで、不飽和モノカル
ボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、
クロトン酸、α−クロルアクリル酸、けい皮酸などが挙
げられる。不飽和ジカルボン酸としては、例えば、マレ
イン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコ
ン酸などが挙げられる。不飽和多価カルボン酸は、その
酸無水物、具体的には無水マレイン酸、無水イタコン
酸、無水シトラコン酸などであってもよい。また、不飽
和多価カルボン酸は、そのモノ（２−メタクリロイロキ
シアルキル）エステルであってもよく、例えば、こはく
酸モノ（２−アクリロイロキシエチル）、こはく酸モノ
（２−メタクリロイロキシエチル）、フタル酸モノ（２
−アクリロイロキシエチル）、フタル酸モノ（２−メタ
クリロイロキシエチル）などであってもよい。不飽和多
価カルボン酸は、その両末端ジカルボキシポリマーのモ
ノ（メタ）アクリレートであってもよく、例えば、ω−
カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレート、ω−
カルボキシポリカプロラクトンモノメタクリレートなど
であってもよい。これらのカルボキシル基含有モノマー
は、それぞれ単独でまたは２種以上を混合して用いるこ
とができる。

【００１６】前記カルボキシル基含有モノマーと共重合
可能な他のモノマーとしては、例えば、スチレン、α−
メチルスチレン、ｏ−ビニルトルエン、ｍ−ビニルトル
エン、ｐ−ビニルトルエン、ｐ−クロルスチレン、ｏ−
メトキシスチレン、ｍ−メトキシスチレン、ｐ−メトキ
シスチレン、ｏ−ビニルベンジルメチルエーテル、ｍ−
ビニルベンジルメチルエーテル、ｐ−ビニルベンジルメ
チルエーテル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテ
ル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニ
ルベンジルグリシジルエーテル、インデンなどの芳香族
ビニル化合物、メチルアクリレート、メチルメタクリレ
ート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、ｎ
−プロピルアクリレート、ｎ−プロピルメタクリレー
ト、ｉ−プロピルアクリレート、ｉ−プロピルメタクリ
レート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−ブチルメタクリ
レート、ｉ−ブチルアクリレート、ｉ−ブチルメタクリ
レート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチル
メタクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、ｔ−ブチル
メタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、
２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシ
プロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタク
リレート、３−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−
ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシブ
チルアクリレート、２−ヒドロキシブチルメタクリレー
ト、３−ヒドロキシブチルアクリレート、３−ヒドロキ
シブチルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリ
レート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、アリル
アクリレート、アリルメタクリレート、ベンジルアクリ
レート、ベンジルメタクリレート、シクロヘキシルアク
リレート、シクロヘキシルメタクリレート、フェニルア
クリレート、フェニルメタクリレート、２−メトキシエ
チルアクリレート、２−メトキシエチルメタクリレー
ト、２−フェノキシエチルアクリレート、２−フェノキ
シエチルメタクリレート、メトキシジエチレングリコー
ルアクリレート、メトキシジエチレングリコールメタク
リレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレー
ト、メトキシトリエチレングリコールメタクリレート、
メトキシプロピレングリコールアクリレート、メトキシ
プロピレングリコールメタクリレート、メトキシジプロ
ピレングリコールアクリレート、メトキシジプロピレン
グリコールメタクリレート、イソボルニルアクリレー
ト、イソボルニルメタクリレート、ジシクロペンタジエ
ニルアクリレート、ジシクロペンタジエニルメタクリレ
ート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリ
レート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルメタ
クリレート、グリセロールモノアクリレート、グリセロ
ールモノメタクリレートなどの不飽和カルボン酸エステ
ル類、２−アミノエチルアクリレート、２−アミノエチ
ルメタクリレート、２−ジメチルアミノエチルアクリレ
ート、２−ジメチルアミノエチルメタクリレート、２−
アミノプロピルアクリレート、２−アミノプロピルメタ
クリレート、２−ジメチルアミノプロピルアクリレー
ト、２−ジメチルアミノプロピルメタクリレート、３−
アミノプロピルアクリレート、３−アミノプロピルメタ
クリレート、３−ジメチルアミノプロピルアクリレー
ト、３−ジメチルアミノプロピルメタクリレートなどの
不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル類、グリシジ
ルアクリレート、グリシジルメタクリレートなどの不飽
和カルボン酸グリシジルエステル類、酢酸ビニル、プロ
ピオン酸ビニル、酪酸ビニル、安息香酸ビニルなどのカ
ルボン酸ビニルエステル類、ビニルメチルエーテル、ビ
ニルエチルエーテル、アリルグリシジルエーテルなどの
不飽和エーテル類、アクリロニトリル、メタクリロニト
リル、α−クロロアクリロニトリル、シアン化ビニリデ
ンなどのシアン化ビニル化合物、アクリルアミド、メタ
クリルアミド、α−クロロアクリルアミド、Ｎ−２−ヒ
ドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−２−ヒドロキシエ
チルメタクリルアミドなどの不飽和アミド類、マレイミ
ド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレ
イミドなどの不飽和イミド類、１，３−ブタジエン、イ
ソプレン、クロロプレンなどの脂肪族共役ジエン類、ポ
リスチレン、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタ
クリレート、ポリ−ｎ−ブチルアクリレート、ポリ−ｎ
−ブチルメタクリレート、ポリシロキサンの重合体分子
鎖の末端にモノアクリロイル基あるいはモノメタクリロ
イル基を有するマクロモノマー類などを挙げることがで
きる。これらのモノマーは、それぞれ単独でまたは２種
以上を混合して使用することができる。

【００１７】前記共重合体におけるカルボキシル基含有
モノマー単位の含有量は、質量分率で通常１０〜５０質
量％、好ましくは１５〜４０質量％、とりわけ好ましく
は２５〜４０質量％である。前記した、カルボキシル基
含有モノマー単位の含有量が、１０〜５０質量％である
と、現像液に対する溶解性が良好であり、現像時にパタ
ーンが正確に形成される傾向があり、好ましい。前記ア
クリル系重合体としては、例えば、（メタ）アクリル酸
／メチル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アク
リル酸／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、（メ
タ）アクリル酸／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリ
レート／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、（メ
タ）アクリル酸／メチル（メタ）アクリレート／ポリス
チレンマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／
メチル（メタ）アクリレート／ポリメチル（メタ）アク
リレートマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸
／ベンジル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロ
モノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジル（メ
タ）アクリレート／ポリメチル（メタ）アクリレートマ
クロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／２−ヒド
ロキシエチル（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）
アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー共重合体、
（メタ）アクリル酸／２−ヒドロキシエチル（メタ）ア
クリレート／ベンジル（メタ）アクリレート／ポリメチ
ル（メタ）アクリレートマクロモノマー共重合体、（メ
タ）アクリル酸／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレ
ート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、（メタ）アク
リル酸／こはく酸モノ（２−アクリロイロキシエチル）
／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェ
ニルマレイミド共重合体、（メタ）アクリル酸／こはく
酸モノ（２−アクリロイロキシエチル）／スチレン／ア
リル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共
重合体（メタ）アクリル酸／ベンジル（メタ）アクリレ
ート／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／グリセロー
ルモノ（メタ）アクリレート共重合体などが挙げられ
る。なお、（メタ）アクリレートとは、アクリレートま
たはメタクリレートであることを示す。

【００１８】中でも（メタ）アクリル酸／ベンジル（メ
タ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベン
ジル（メタ）アクリレート／スチレン共重合体、（メ
タ）アクリル酸／メチル（メタ）アクリレート共重合
体、（メタ）アクリル酸／メチル（メタ）アクリレート
／スチレン共重合体などが好ましい。

【００１９】前記アクリル系重合体は、そのポリスチレ
ン換算重量平均分子量が通常３，０００〜４００，００
０であり、好ましくは５，０００〜１００，０００、と
りわけ好ましくは２０，０００〜４０，０００である。
前記したポリスチレン換算重量平均分子量が３，０００
〜４００，０００であると、塗膜硬度が向上し、残膜率
も高く、未露光部の現像液に対する溶解性が良好で、解
像度が向上する傾向にあり、好ましい。また、酸価は通
常３０〜２５０であり、より好ましくは６０〜１８０、
とりわけ好ましくは９０〜１６０である。前記した酸価
が、３０〜２５０であると、現像液に対する溶解性が向
上して未露光部が溶解しやすくなり、また高感度化して
現像時に露光部のパターンが残って残膜率が向上する傾
向があり、好ましい。ここで酸価はアクリル系重合体１
ｇを中和するに必要な水酸化カリウムの量（ｍｇ）とし
て測定される値であり、通常は水酸化カリウム水溶液を
用いて滴定することにより求めることができる。前記バ
インダーポリマーは、着色感光性樹脂組成物の固形分に
対して質量分率で通常５質量％以上９０質量％以下、好
ましくは１０質量％以上８０質量％以下、とりわけ好ま
しくは２０質量％以上７０質量％以下の範囲で用いられ
る。前記したバインダーポリマーの含有量が、５質量％
以上９０質量％以下であると、パターンにアンダーカッ
トが入りにくくなって密着性が良好になる傾向があり、
また解像度および残膜率が向上する傾向にあり好まし
い。

【００２０】本発明において用いられる（Ｂ）光重合性
化合物は、光を照射されることによって光重合開始剤か
ら発生した活性ラジカル、酸などによって重合しうる化
合物であって、例えば、重合性の炭素−炭素不飽和結合
を有する化合物などが挙げられる。

【００２１】前記光重合性化合物は、３官能以上の多官
能の光重合性化合物であることが好ましい。３官能以上
の多官能の光重合性化合物としては、例えば、ペンタエ
リスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペン
タアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタク
リレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレートなど
が挙げられる。前記光重合性化合物は、それぞれ単独で
または２種以上を組み合わせて用いられ、その含有量は
着色感光性樹脂組成物の質量分率で通常５質量％以上９
０質量％以下、好ましくは１０質量％以上８０質量％以
下、とりわけ好ましくは２０質量％以上７０質量％以下
の範囲で用いられる。前記した、光重合性化合物の含有
量が、５質量％以上９０質量％以下であると、硬化が十
分におこり残膜率が向上し、パターンにアンダーカット
が入りにくくなって密着性が良好になる傾向があり、好
ましい。

【００２２】本発明において用いられる（Ｃ）光重合開
始剤は、アセトフェノン系化合物としては、例えば、ジ
エトキシアセトフェノン、２−メチル−２−モルホリノ
−１−（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オ
ン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパ
ン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロ
キシ−２−メチル−１−〔４−（２−ヒドロキシエトキ
シ）フェニル〕プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシ
クロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メ
チル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロ
パン−１−オンのオリゴマーなどが挙げられ、好ましく
は２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルチオ
フェニル）プロパン−１−オンなどが挙げられる。ま
た、複数のアセトフェノン系およびその他の光重合開始
剤を組み合わせて使用してもよい。アセトフェノン系以
外の光重合開始剤は、光を照射されることによって活性
ラジカルを発生する活性ラジカル発生剤、増感剤などが
挙げられる。活性ラジカル発生剤としては、例えば、ベ
ンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサ
ントン系化合物、トリアジン系化合物などが挙げられ
る。

【００２３】ベンゾイン系化合物としては、例えば、ベ
ンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチ
ルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾ
インイソブチルエーテルなどが挙げられる。

【００２４】ベンゾフェノン系化合物としては、例え
ば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、
４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−
メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−
テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェ
ノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノンなどが挙
げられる。

【００２５】チオキサントン系化合物としては、例え
ば、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピ
ルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、
２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プ
ロポキシチオキサントンなどが挙げられる。

【００２６】トリアジン系化合物としては、例えば、
２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキ
シフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス
（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシナフチル）
−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロ
メチル）−６−（４−メトキシスチリル）−１，３，５
−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６
−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル〕−
１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメ
チル）−６−〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−
１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメ
チル）−６−〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチル
フェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，
４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（３，４−
ジメトキシフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリア
ジンなどが挙げられる。

【００２７】活性ラジカル発生剤として、例えば、２，
４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオ
キサイド、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイ
ミダゾール、１０−ブチル−２−クロロアクリドン、２
−エチルアントラキノン、ベンジル、９，１０−フェナ
ンスレンキノン、カンファーキノン、フェニルグリオキ
シル酸メチル、チタノセン化合物などを用いることもで
きる。

【００２８】酸発生剤としては、例えば、４−ヒドロキ
シフェニルジメチルスルホニウムｐ−トルエンスルホナ
ート、４−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムヘ
キサフルオロアンチモネート、４−アセトキシフェニル
ジメチルスルホニウムｐ−トルエンスルホナート、４−
アセトキシフェニル・メチル・ベンジルスルホニウムヘ
キサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウ
ムｐ−トルエンスルホナート、トリフェニルスルホニウ
ムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニ
ウムｐ−トルエンスルホナート、ジフェニルヨードニウ
ムヘキサフルオロアンチモネートなどのオニウム塩類
や、ニトロベンジルトシレート類、ベンゾイントシレー
ト類などを挙げることができる。

【００２９】また、活性ラジカル発生剤として上記した
化合物の中には、活性ラジカルと同時に酸を発生する化
合物もあり、例えば、トリアジン系光重合開始剤は、酸
発生剤としても使用される。

【００３０】（Ｄ）光重合開始剤の含有量は、（Ｂ）バ
インダーポリマーおよび（Ｃ）光重合性化合物の合計量
１００質量部に対して通常０．１質量部以上２０質量部
以下、好ましくは１質量部以上１５質量部以下である。
光重合開始剤の含有量が０．１質量部以上２０質量部以
下であると、高感度化して露光時間が短縮され生産性が
向上し、一方高感度過ぎて解像度が不良にならない傾向
があり、好ましい。

【００３１】本発明において用いられる（Ｄ）光重合開
始助剤は、光重合開始剤と組み合わせて用いられ、光重
合開始剤によって重合が開始された光重合性化合物の重
合を促進するために用いられる化合物である。光重合開
始助剤としては、少なくとも１種のアミン系を含む。ア
ミン系化合物としては、例えば、トリエタノールアミ
ン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノール
アミン、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメ
チルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香
酸イソアミル、安息香酸２−ジメチルアミノエチル、４
−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、Ｎ，Ｎ
−ジメチルパラトルイジン、４，４’−ビス（ジメチル
アミノ）ベンゾフェノン（通称ミヒラーズケトン）、
４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、
４，４’−ビス（エチルメチルアミノ）ベンゾフェノン
などが挙げられ、中でも４，４’−ビス（ジエチルアミ
ノ）ベンゾフェノンが好ましい。また、複数のアミン系
やその他の光重合開始助剤を組み合わせて使用してもよ
い。その他の光重合開始助剤としては、例えば、アルコ
キシアントラセン系化合物、チオキサントン系化合物な
どが挙げられる。

【００３２】アルコキシアントラセン系化合物として
は、例えば、９，１０−ジメトキシアントラセン、２−
エチル−９，１０−ジメトキシアントラセン、９，１０
−ジエトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジ
エトキシアントラセンなどが挙げられる。

【００３３】チオキサントン系化合物としては、例え
ば、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピ
ルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、
２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プ
ロポキシチオキサントンなどが挙げられる。

【００３４】光重合開始助剤として市販のものを用いる
こともでき、市販の光重合開始助剤としては、例えば、
商品名「ＥＡＢ−Ｆ」（保土谷化学工業（株）製）など
が挙げられる。

【００３５】これらの光重合開始助剤を用いる場合、そ
の使用量は、光重合開始剤１モルあたり通常１０モル以
下、好ましくは０．０１モル以上５モル以下である。

【００３６】本発明の感光性樹脂組成物における光重合
開始剤および光重合開始助剤の組み合わせとしては、ジ
エトキシアセトフェノン／４，４’−ビス（ジエチルア
ミノ）ベンゾフェノン、２−メチル−２−モルホリノ−
１−（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オン／
４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２
−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１
−オン／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェ
ノン、ベンジルジメチルケタール／４，４’−ビス（ジ
エチルアミノ）ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−２−
メチル−１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニ
ル〕プロパン−１−オン／４，４’−ビス（ジエチルア
ミノ）ベンゾフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシル
フェニルケトン／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベ
ンゾフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４
−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパン−１−オン
のオリゴマー／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベン
ゾフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン／４，
４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンの組み合
わせなどが挙げられ、好ましくは２−メチル−２−モル
ホリノ−１−（４−メチルチオフェニル）プロパン−１
−オン／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェ
ノンの組み合わせが挙げられる。

【００３７】本発明で用いられる（Ｅ）溶剤としては、
例えば、エーテル類、芳香族炭化水素類、ケトン類、ア
ルコール類、エステル類、アミド類などが挙げられる。

【００３８】エーテル類としては、例えば、テトラヒド
ロフラン、テトラヒドロピラン、１，４−ジオキサン、
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプ
ロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、
ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレン
グリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモ
ノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモ
ノプロピルエーテルアセテート、メチルセロソルブアセ
テート、エチルセロソルブアセテート、エチルカルビト
ールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロ
ピレングリコールメチルエーテルアセテート、メトキシ
ブチルアセテート、メトキシペンチルアセテート、アニ
ソール、フェネトール、メチルアニソールなどが挙げら
れる。芳香族炭化水素類としては、例えば、ベンゼン、
トルエン、キシレン、メシチレンなどが挙げられる。ケ
トン類としては、例えば、アセトン、２−ブタノン、２
−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、４−
メチル−２−ペンタノン、シクロヘキサノンなどが挙げ
られる。アルコール類としては、例えば、メタノール、
エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノー
ル、シクロヘキサノール、エチレングリコール、グリセ
リンなどが挙げられる。エステル類としては、例えば、
酢酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸
アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン
酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチ
ル、アルキルエステル類、乳酸メチル、乳酸エチル、オ
キシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチ
ル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキ
シ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチ
ル、３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピ
オン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−
メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン
酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキ
シプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチ
ル、２−オキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプ
ロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、
２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロ
ピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２
−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ
−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−
メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチル
プロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エ
チル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト
酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブ
タン酸エチル、３−メトキシブチルアセテート、３−メ
チル−３−メトキシブチルアセテート、γ−ブチロラク
トンなどが挙げられる。アミド類としては、例えば、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセ
トアミドなどが挙げられる。その他の溶剤としては、例
えば、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホオキシド
などが挙げられる。

【００３９】上記した溶剤の中でも、３−メトキシプロ
ピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３
−エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセ
テート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメテルエ
ーテル、酢酸ブチル、エチルカルビトールアセテート、
ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコール
メチルエーテルアセテート、２−ヘプタノンなどが好ま
しく用いられる。

【００４０】前記溶剤は、それぞれ単独でまたは２種類
以上を組み合わせて用いることができ、感光性樹脂組成
物中の前記溶剤の含有量は、質量分率で、通常５０質量
％以上９０質量％以下、好ましくは６０質量％以上８５
質量％以下である。溶剤の含有量が５０質量％以上９０
質量％以下であると、平坦性が良好で、カラーフィルタ
としたきに十分な色濃度が得られ、好ましい。

【００４１】本発明の感光性樹脂組成物は、充填剤、バ
インダーポリマー以外の高分子化合物、密着促進剤、酸
化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤、有機酸、有機ア
ミノ化合物、硬化剤などの添加剤を含有していてもよ
い。

【００４２】充填剤としては、例えば、ガラス、アルミ
ナなどの微粒子が挙げられる。

【００４３】バインダーポリマー以外の高分子化合物と
しては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリアクリル
酸、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポ
リフロロアルキルアクリレート、分散剤などが挙げられ
る。前記分散剤としては、例えば、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ
−１１５、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６０、Ｄｉｓｐｅｒ
ｂｙｋ−１６１、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６２、Ｄｉｓ
ｐｅｒｂｙｋ−１６３、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６４、
Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６６、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１
６７、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６９、Ｄｉｓｐｅｒｂｙ
ｋ−１７０、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１７１、Ｄｉｓｐｅ
ｒｂｙｋ−１７４、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１８２（いず
れもＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製）などが挙げられる。

【００４４】密着促進剤としては、例えば、ビニルトリ
メトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルト
リス（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミ
ノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラ
ン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルト
リメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
３−グリシドキシメチルジメトキシシラン、２−（３，
４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラ
ン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−
クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキ
シプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピ
ルトリメトキシシランなどが挙げられる。

【００４５】酸化防止剤としては、例えば、４，４’−
チオビス（６−ｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、
２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノールなどが
挙げられる。

【００４６】紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２
−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）
−５−クロロベンゾトリアゾールなどのベンゾトリアゾ
ール系、２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフ
ェノンなどのベンゾフェノン系、２，４−ジ−ｔ−ブチ
ルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
ベンゾエートなどのベンゾエート系、２−（４，６−ジ
フェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−
ヘキシルオキシフェノールなどのトリアジン系などが挙
げられる。

【００４７】凝集防止剤としては、例えば、ポリアクリ
ル酸ナトリウムなどが挙げられる。

【００４８】有機酸としては、例えば、蟻酸、酢酸、プ
ロピオン酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、カプロン酸、ジ
エチル酢酸、エナント酸、カプリル酸などの脂肪族モノ
カルボン酸類、しゅう酸、マロン酸、こはく酸、グルタ
ル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライ
ン酸、セバシン酸、ブラシル酸、メチルマロン酸、エチ
ルマロン酸、ジメチルマロン酸、メチルこはく酸、テト
ラメチルこはく酸、シクロヘキサンジカルボン酸、イタ
コン酸、シトラコン酸、マレイン酸、フマル酸、メサコ
ン酸などの脂肪族ジカルボン酸類、トリカルバリル酸、
アコニット酸、カンホロン酸などの脂肪族トリカルボン
酸類、安息香酸、トルイル酸、クミン酸、ヘメリト酸、
メシチレン酸などの芳香族モノカルボン酸類、フタル
酸、イソフタル酸、テレフタル酸などの芳香族ジカルボ
ン酸類、トリメリット酸、トリメシン酸、メロファン
酸、ピロメリット酸などの芳香族ポリカルボン酸類など
が挙げられる。

【００４９】有機アミノ化合物としては、例えば、ｎ―
プロピルアミン、ｉ−プロピルアミン、ｎ−ブチルアミ
ン、ｉ−ブチルアミン、ｓｅｃ−ブチルアミン、ｔ−ブ
チルアミン、ｎ−ペンチルアミン、ｎ−ヘキシルアミ
ン、ｎ−ヘプチルアミン、ｎ−オクチルアミン、ｎ−ノ
ニルアミン、ｎ−デシルアミン、ｎ−ウンデシルアミ
ン、ｎ−ドデシルアミンなどのモノアルキルアミン類、
シクロヘキシルアミン、２−メチルシクロヘキシルアミ
ン、３−メチルシクロヘキシルアミン、４−メチルシク
ロヘキシルアミンなどのモノシクロアルキルアミン類、
メチルエチルアミン、ジエチルアミン、メチルｎ−プロ
ピルアミン、エチルｎ−プロピルアミン、ジｎ−プロピ
ルアミン、ジｉ−プロピルアミン、ジｎ−ブチルアミ
ン、ジｉ−ブチルアミン、ジｓｅｃ−ブチルアミン、ジ
ｔ−ブチルアミン、ジｎ−ペンチルアミン、ジｎ−ヘキ
シルアミンなどのジアルキルアミン類、メチルシクロヘ
キシルアミン、エチルシクロヘキシルアミンなどのモノ
アルキルモノシクロアルキルアミン類、ジシクロヘキシ
ルアミンなどのジシクロアルキルアミン類、ジメチルエ
チルアミン、メチルジエチルアミン、トリエチルアミ
ン、ジメチルｎ−プロピルアミン、ジエチルｎ−プロピ
ルアミン、メチルジｎ−プロピルアミン、エチルジｎ−
プロピルアミン、トリｎ−プロピルアミン、トリｉ−プ
ロピルアミン、トリｎ−ブチルアミン、トリｉ−ブチル
アミン、トリｓｅｃ−ブチルアミン、トリｔ−ブチルア
ミン、トリｎ−ペンチルアミン、トリｎ−ヘキシルアミ
ンなどのトリアルキルアミン類、ジメチルシクロヘキシ
ルアミン、ジエチルシクロヘキシルアミンなどのジアル
キルモノシクロアルキルアミン類、メチルジシクロヘキ
シルアミン、エチルジシクロヘキシルアミン、トリシク
ロヘキシルアミンなどのモノアルキルジシクロアルキル
アミン類、２−アミノエタノール、３−アミノ−１−プ
ロパノール、１−アミノ−２−プロパノール、４−アミ
ノ−１−ブタノール、５−アミノ−１−ペンタノール、
６−アミノ−１−ヘキサノールなどのモノアルカノール
アミン類、４−アミノ−１−シクロヘキサノールなどの
モノシクロアルカノールアミン類、ジエタノールアミ
ン、ジｎ−プロパノールアミン、ジｉ−プロパノールア
ミン、ジｎ−ブタノールアミン、ジｉ−ブタノールアミ
ン、ジｎ−ペンタノールアミン、ジｎ−ヘキサノールア
ミンなどのジアルカノールアミン類、ジ（４−シクロヘ
キサノール）アミンなどのジシクロアルカノールアミン
類、トリエタノールアミン、トリｎ−プロパノールアミ
ン、トリｉ−プロパノールアミン、トリｎ−ブタノール
アミン、トリｉ−ブタノールアミン、トリｎ−ペンタノ
ールアミン、トリｎ−ヘキサノールアミンなどのトリア
ルカノールアミン類、トリ（４−シクロヘキサノール）
アミンなどのトリシクロアルカノールアミン類、３−ア
ミノ−１，２−プロパンジオール、２−アミノ−１，３
−プロパンジオール、４−アミノ−１，２−ブタンジオ
ール、４−アミノ−１，３−ブタンジオール、３−ジメ
チルアミノ−１，２−プロパンジオール、３−ジエチル
アミノ−１，２−プロパンジオール、２−ジメチルアミ
ノ−１，３−プロパンジオール、２−ジエチルアミノ−
１，３−プロパンジオールなどのアミノアルカンジオー
ル類、４−アミノ−１，２−シクロヘキサンジオール、
４−アミノ−１，３−シクロヘキサンジオールなどのア
ミノシクロアルカンジオール類、１−アミノシクロペン
タノンメタノール、４−アミノシクロペンタノンメタノ
ールなどのアミノ基含有シクロアルカノンメタノール
類、１−アミノシクロヘキサノンメタノール、４−アミ
ノシクロヘキサノンメタノール、４−ジメチルアミノシ
クロペンタンメタノール、４−ジエチルアミノシクロペ
ンタンメタノール、４−ジメチルアミノシクロヘキサン
メタノール、４−ジエチルアミノシクロヘキサンメタノ
ールなどのアミノ基含有シクロアルカンメタノール類、
β−アラニン、２−アミノ酪酸、３−アミノ酪酸、４−
アミノ酪酸、２−アミノイソ酢酸、３−アミノイソ酢
酸、２−アミノ吉草酸、５−アミノ吉草酸、６−アミノ
カプロン酸、１−アミノシクロプロパンカルボン酸、１
−アミノシクロヘキサンカルボン酸、４−アミノシクロ
ヘキサンカルボン酸などのアミノカルボン酸類、アニリ
ン、ｏ−メチルアニリン、ｍ−メチルアニリン、ｐ−メ
チルアニリン、ｐ−エチルアニリン、ｐ−ｎ−プロピル
アニリン、ｐ−ｉ−プロピルアニリン、ｐ−ｎ−ブチル
アニリン、ｐ−ｔ−ブチルアニリン、１−ナフチルアミ
ン、２−ナフチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、
Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、ｐ−メチル−Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアニリンなどの芳香族アミン類、ｏ−アミノベンジ
ルアルコール、ｍ−アミノベンジルアルコール、ｐ−ア
ミノベンジルアルコール、ｐ−ジメチルアミノベンジル
アルコール、ｐ−ジエチルアミノベンジルアルコールな
どのアミノベンジルアルコール類、ｏ−アミノフェノー
ル、ｍ−アミノフェノール、ｐ−アミノフェノール、ｐ
−ジメチルアミノフェノール、ｐ−ジエチルアミノフェ
ノールなどのアミノフェノール類、ｍ−アミノ安息香
酸、ｐ−アミノ安息香酸、ｐ−ジメチルアミノ安息香
酸、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸などのアミノ安息香酸
類などが挙げられる。

【００５０】硬化剤としては、例えば、加熱されること
によってバインダーポリマー中のカルボキシル基と反応
してバインダーポリマーを架橋することができる化合物
が挙げられる。また、それ単独で重合して着色パターン
を硬化させ得る化合物も挙げられる。前記化合物として
は、例えば、エポキシ化合物、オキセタン化合物などが
挙げられる。

【００５１】エポキシ化合物としては、例えば、ビスフ
ェノールＡ系エポキシ樹脂、水素化ビスフェノールＡ系
エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ系エポキシ樹脂、水素
化ビスフェノールＦ系エポキシ樹脂、ノボラック型エポ
キシ樹脂、他の芳香族系エポキシ樹脂、脂環族系エポキ
シ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル系
樹脂、グリシジルアミン系樹脂、エポキシ化油等のエポ
キシ樹脂や、これらのエポキシ樹脂の臭素化誘導体、エ
ポキシ樹脂およびその臭素化誘導体以外の脂肪族、脂環
族または芳香族のエポキシ化合物、ブタジエンの（共）
重合体のエポキシ化物、イソプレンの（共）重合体のエ
ポキシ化物、グリシジル（メタ）アクリレートの（共）
重合体、トリグリシジルイソシアヌレートなどが挙げら
れる。

【００５２】オキセタン化合物としては、例えば、カー
ボネートビスオキセタン、キシリレンビスオキセタン、
アジペートビスオキセタン、テレフタレートビスオキセ
タン、シクロヘキサンジカルボン酸ビスオキセタンなど
が挙げられる。

【００５３】本発明の感光性組成物は、硬化剤としてエ
ポキシ化合物、オキセタン化合物などを含有する場合に
は、エポキシ化合物のエポキシ基、オキセタン化合物の
オキセタン骨格を開環重合させ得る化合物を含んでいて
もよい。前記該化合物としては、例えば、多価カルボン
酸類、多価カルボン酸無水物類、酸発生剤などが挙げら
れる。

【００５４】多価カルボン酸類としては、例えば、フタ
ル酸、３，４−ジメチルフタル酸、イソフタル酸、テレ
フタル酸、ピロメリット酸、トリメリット酸、１，４，
５，８−ナフタレンテトラカルボン酸、３，３’，４，
４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸などの芳香族多
価カルボン酸類、こはく酸、グルタル酸、アジピン酸、
１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸、マレイン
酸、フマル酸、イタコン酸などの脂肪族多価カルボン酸
類、ヘキサヒドロフタル酸、３，４−ジメチルテトラヒ
ドロフタル酸、ヘキサヒドロイソフタル酸、ヘキサヒド
ロテレフタル酸、１，２，４−シクロペンタントリカル
ボン酸、１，２，４−シクロヘキサントリカルボン酸、
シクロペンタンテトラカルボン酸、１，２，４，５−シ
クロヘキサンテトラカルボン酸などの脂環族多価カルボ
ン酸類などが挙げられる。

【００５５】多価カルボン酸無水物類としては、例え
ば、無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水トリメリ
ット酸、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸二無水物などの芳香族多価カルボン酸無水物
類、無水イタコン酸、無水こはく酸、無水シトラコン
酸、無水ドデセニルコハク酸、無水トリカルバリル酸、
無水マレイン酸、１，２，３，４−ブタンテトラカルボ
ン酸二無水物などの脂肪族多価カルボン酸無水物類、無
水ヘキサヒドロフタル酸、３，４−ジメチルテトラヒド
ロフタル酸無水物、１，２，４−シクロペンタントリカ
ルボン酸無水物、１，２，４−シクロヘキサントリカル
ボン酸無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水
物、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸
二無水物、無水ハイミック酸、無水ナジン酸などの脂環
族多価カルボン酸無水物類、エチレングリコールビスト
リメリテイト酸、グリセリントリストリメリテイト無水
物などのエステル基含有カルボン酸無水物類などが挙げ
られる。

【００５６】カルボン酸無水物類として、エポキシ樹脂
硬化剤として市販されているものを用いてもよい。前記
エポキシ樹脂硬化剤としては、例えば、商品名「アデカ
ハードナーＥＨ−７００」（旭電化工業（株）製）、商
品名「リカシッドＨＨ」（新日本理化（株）製）、商品
名「ＭＨ−７００」（新日本理化（株）製）などが挙げ
られる。

【００５７】前記硬化剤は、それぞれ単独でまたは２種
以上を組み合わせて用いることができる。

【００５８】本発明の感光性樹脂組成物を用いてパター
ンを形成する方法としては、具体的には、本発明の感光
性樹脂組成物を、基板または基板の上に先に形成した固
体の着色感光性樹脂組成物層（以下、これを基板等とい
うことがある。）の上に塗布し、塗布された感光性樹脂
組成物層から溶剤など揮発成分を除去し、フォトマスク
を介して揮発成分が除去された層を露光したのち、現像
する方法が挙げられる。

【００５９】基板としては、例えば、ガラス基板、シリ
コン基板、ポリカーボネート基板、ポリエステル基板、
芳香族ポリアミド基板、ポリアミドイミド基板、ポリイ
ミド基板、Ａｌ基板、ＧａＡｓ基板などの表面が平坦な
基板が挙げられる。これらの基板は、シランカップリン
グ剤などの薬品による薬品処理、プラズマ処理、イオン
プレーティング処理、スパッタリング処理、気相反応処
理、真空蒸着処理などの前処理が施されていてもよい。
基板としてシリコン基板などを用いる場合、前記該シリ
コン基板などの表面には電荷結合素子（ＣＣＤ）、薄膜
トランジスタ（ＴＦＴ）などが形成されていてもよい。

【００６０】前記基板の上に感光性樹脂組成物を塗布す
るには、例えば、本発明の感光性樹脂組成物を回転塗布
法（スピンコート法）、流延塗布法、ロール塗布法、ス
リット＆スピンコート法などの通常の塗布方法で基板等
の上に塗布し、次いで溶剤などの揮発成分を加熱により
揮発させればよい。このようにして、基板等の上に感光
性樹脂組成物の固形分からなる層が形成される。

【００６１】次いで、感光性樹脂組成物の固形分からな
る層（以下、これを感光性樹脂組成物層ということがあ
る。）を露光する。露光するには、例えば、フォトマス
クを介して光線を照射すればよい。光線としては通常、
ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）と呼
ばれる紫外線などが用いられる。光線はフォトマスクを
介して照射されるが、ここでフォトマスクは、例えば、
ガラス板の表面に光線を遮蔽する遮光層が設けられたも
のである。ガラス板のうちの遮光層が設けられていない
部分は光線が透過する透光部であって、この透光部のパ
ターンに従ったパターンで感光性樹脂組成物層が露光さ
れて、光線が照射されなかった未照射領域と、光線が照
射された照射領域とが生ずる。照射領域における光線の
照射量は、バインダーポリマーの重量平均分子量、単量
体比、含有量、光重合性化合物の種類や含有量、光重合
開始剤の種類や含有量、光重合開始助剤の種類や含有量
などによって適宜選択される。

【００６２】露光後、現像する。現像するには、例え
ば、露光後の感光性樹脂組成物層を現像液と接触させれ
ばよく、具体的にはその表面上に感光性樹脂組成物層が
形成された状態の基板を現像液に浸漬すればよい。現像
液としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、テトラメチルアン
モニウムハイドロオキサイドなどのアルカリ性化合物の
水溶液などが挙げられる。現像によって、感光性樹脂組
成物層のうちの光線が照射されなかった未照射領域は除
去される。その一方で、光線照射領域はそのまま残って
パターンを構成する。

【００６３】現像後、通常は水洗し、乾燥することによ
り、目的とするパターンを得ることができる。乾燥後、
加熱してもよい。パターンを加熱することによって硬化
して、その機械的強度が向上する傾向にあり、感光性樹
脂組成物として硬化剤を含有するものを用いた場合に
は、機械的強度をより向上することができる。加熱温度
は通常１８０℃以上、好ましくは２００℃以上であり、
通常２５０℃以下である。

【００６４】このようにして得られるカラーフィルタ
は、パターンを含むものであり、前記該カラーフィルタ
を使用することにより、好適な液晶表示装置が得られ
る。

【００６５】

【実施例】上記において、本発明の実施の形態について
説明を行なったが、上記に開示された本発明の実施の形
態は、あくまで例示であって、本発明の範囲はこれらの
実施の形態に限定されない。本発明の範囲は、特許請求
の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲の記載と
均等の意味及び範囲内でのすべての変更を含むものであ
る。以下、実施例によって本発明をより詳細に説明する
が、本発明はこれらの実施例によって限定されるもので
はない。

【００６６】本実施例で用いる成分は以下の通りで、以
下、省略して表示することがある。 （Ａ）バインダーポリマー：メタクリル酸とベンジルメ
タクリレートとの共重合体〔メタクリル酸単位とベンジ
ルメタクリレート単位との比は物質量比（モル比）で２
７：７３、酸価は１０５、ポリスチレン換算重量平均分
子量は３０，０００ （Ｂ）光重合性化合物：ジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレート （Ｃ）光重合開始剤：２−メチル−２−モルホリノ−１
−（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オン （Ｄ）光重合開始助剤：２，４−ジエチルチオキサント
ン （Ｅ）溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテート 界面活性剤：１％ポリエーテル変性シリコンオイルＳＨ
８４００（商品名：トーレシリコーン（株）製） 分散剤：ＢＹＫ−１７０（固型分３０質量％）（ＢＹＫ
Ｃｈｅｍｉｅ社製） エポキシ化合物：オルソクレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂、「スミエポキシＥＳＣＮ−１９５ＸＬ−８０」
（住友化学工業（株）製） ベンジリデン骨格を有する化合物：４−ヒドロキシ−３
−メトキシベンジリデンマロン酸ジエチル

【００６７】実施例１ 〔感光性樹脂組成物の製造〕 （Ａ） １．５８８質量部 （Ｂ） １．５８８質量部 （Ｃ） ０．０８０質量部 （Ｄ） ０．０４０質量部 （Ｅ） １１．２５０質量部 ベンジリデン骨格を有する化合物 ０．００６質量部 界面活性剤 ０．０８０質量部 分散剤 １．００７質量部 エポキシ化合物 ０．３０２質量部 を混合して感光性樹脂組成物を得た。

【００６８】〔パターンの形成〕ガラス基板〔コーニン
グ社製、「＃７０５９」〕の上に、上記で得た感光性樹
脂組成物をスピンコート法で塗布したのち、１００℃で
３分間乾燥して揮発分を揮発させて、感光性樹脂組成物
層を形成した。冷却後、この感光性樹脂組成物層にフォ
トマスクを介してｉ線〔波長３６５ｎｍ〕を照射して露
光した。ｉ線の光源としては、超高圧水銀ランプを用
い、照射光量は１５０ｍＪ／ｃｍ²とした。フォトマス
クとしては、線幅３μｍ、４μｍ、５μｍ、６μｍ、７
μｍ、８μｍ、９μｍ、１０μｍ、２０μｍ、３０μ
ｍ、４０μｍ、５０μｍおよび１００μｍの線状の色画
素を形成するためのフォトマスクを用いた。

【００６９】次いで露光後のガラス基板〔表面には感光
性樹脂組成物層が形成されている〕を現像液〔質量分率
で水酸化カリウムを０．０５％、ブチルナフタレンスル
ホン酸ナトリウムを０．２％それぞれ含む水溶液〕に浸
漬して現像し、純水で洗浄した。その後、２３０℃で２
０分間加熱して、透明なパターンを形成した。

【００７０】〔評価〕各線幅のパターンで解像できた最
も小さい線幅を解像度とした。また、１０μｍ、２０μ
ｍ、５０μｍ、１００μｍの各パターンの解像後の線幅
を測定した。ガラス基板上に１０μｍマスクを使用して
形成したパターンの抜け性は良好で、露光量が１５０ｍ
J／cm^２の場合、パターンのサイズは１４．１μｍであ
った。また、解像度は８μｍであった。露光量が３００
ｍJ／cm^２の場合、パターンのサイズは１４．２μｍ、
解像度は８μｍであった。

【００７１】実施例２〜５ 実施例１のベンジリデン骨格を有する化合物の添加量を
次のように変更して、感光性樹脂組成物を得て、これを
用いて、実施例１と同様にしてパターンを形成した。 実施例２：０．００３０質量部 実施例３：０．０１２０質量部 実施例４：０．０２４０質量部 実施例５：０．０４８０質量部 実施例６：０．００１５質量部 〔評価〕実施例１と同様に評価したところ、抜け性はい
ずれも良好であり、解像度については表１に記載の結果
を得た。

【００７２】比較例１ 実施例１のベンジリデン骨格を有する化合物を無添加に
する以外は実施例１と同様にして感光性樹脂組成物を得
て、これを用いて、実施例１と同様にしてパターンを形
成した。 〔評価〕実施例１と同様に評価したところ、抜け性は不
良であり、表１に記載の結果を得た。

【００７３】

【表１】

【００７４】

【発明の効果】本発明の感光性樹脂組成物によれば、露
光量を高くしてもパターンを形成することができ、また
２０μｍ以下の微細パターンを抜くことができ、解像度
も良好であるパターンを形成することができ、カラーフ
ィルタを構成する透明膜、例えば、オーバーコート、フ
ォトスペーサー、着色パターンの膜厚を合わせるための
透明コート層などを形成するのに有用である。

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）光重合
   性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）光重合開始助
   剤、（Ｅ）溶剤および（Ｆ）ベンジリデン骨格を有する
   化合物を含有するカラーフィルタを構成する透明膜形成
   用感光性樹脂組成物。
2. 【請求項２】（Ｆ）ベンジリデン骨格を有する化合物の
   ベンジリデン骨格が、式（Ｉ）で表される請求項１記載
   のカラーフィルタを構成する透明膜形成用感光性樹脂組
   成物。 （式中、Ｑ¹、Ｑ²およびＱ³は、それぞれ独立に、水素
   原子、水酸基、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数
   １〜６のアルコキシル基を表す。）
3. 【請求項３】（Ｆ）ベンジリデン骨格を有する化合物
   が、式（ＩＩ）で表される不飽和カルボン酸エステル化
   合物である請求項１または２記載のカラーフィルタを構
   成する透明膜形成用感光性樹脂組成物。 （式中、Ｑ¹、Ｑ²およびＱ³はそれぞれ独立に、水素原
   子、水酸基、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数１
   〜６のアルコキシル基を表し、Ｑ⁴は炭素数１〜６のア
   ルキル基を表し、Ｘはシアノ基または炭素数１〜６のア
   ルコキシカルボニル基を表す。）
4. 【請求項４】Ｘが炭素数１〜６のアルコキシカルボニル
   基である請求項３に記載のカラーフィルタを構成する透
   明膜形成用感光性樹脂組成物。
5. 【請求項５】（Ｆ）ベンジリデン骨格を有する化合物
   が、４−ヒドロキシ−３−メトキシベンジリデンマロン
   酸ジエチルである請求項１〜４のいずれかに記載のカラ
   ーフィルタを構成する透明膜形成用感光性樹脂組成物。
6. 【請求項６】感光性樹脂組成物の固形分１００質量部
   中、（Ｆ）ベンジリデン骨格を有する化合物を０．００
   １〜３質量％含有させる請求項１〜５のいずれかに記載
   のカラーフィルタを構成する透明膜形成用感光性樹脂組
   成物。
7. 【請求項７】請求項１〜６に記載のカラーフィルタを構
   成する透明膜形成用感光性樹脂組成物を、基板または先
   に形成された着色感光性樹脂組成物の固形分からなる層
   の上に塗布し、塗布された感光性樹脂組成物層から揮発
   成分を除去し、フォトマスクを介して前記該層を露光
   し、現像するパターンの形成方法。
8. 【請求項８】請求項７に記載の方法で形成されたパター
   ンを含むカラーフィルタ。
9. 【請求項９】請求項８に記載されたカラーフィルタを使
   用した液晶表示装置。