JP2003320581A

JP2003320581A - インク受像層易接着性ポリエステルフィルム

Info

Publication number: JP2003320581A
Application number: JP2002132432A
Authority: JP
Inventors: Koji Kubo; 耕司久保; Satoshi Kitazawa; 諭北澤
Original assignee: Teijin DuPont Films Japan Ltd
Current assignee: Toyobo Film Solutions Ltd
Priority date: 2002-05-08
Filing date: 2002-05-08
Publication date: 2003-11-11

Abstract

(57)【要約】【課題】インク受像層との接着性に優れ、かつ透明
性、耐候性に優れ、インクジェットプリンター用受像紙
などに有用なインク受像層易接着性ポリエステルフィル
ムを提供する。【解決手段】紫外線吸収剤を含有するポリエステルフ
ィルムの少なくとも片面に皮膜を塗設したフィルムであ
って、該皮膜が（Ａ）スルホン酸塩基を有するジカルボ
ン酸成分の割合が、全酸成分当り、１〜１６モル％であ
り、かつポリマーの二次転移点が２０〜９０℃であるコ
ポリエステル５０〜８０重量％、（Ｂ）数平均分子量が
６００〜２０００のポリアルキレンオキサイド１０〜３
０重量％及び（Ｃ）平均粒径が２０〜８０ｎｍの微粒子
３〜２５重量％からなる成分を主成分とし、該皮膜の表
面エネルギーが５４〜７０ｄｙｎｅ／ｃｍであることを
特徴とする、耐候性に優れた、インク受像層易接着性ポ
リエステルフィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は耐候性に優れたイン
ク受像層易接着性ポリエステルフィルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】ポリエチレンテレフタレートフィルムに
代表されるポリエステルフィルムは、受像紙用フィルム
のベースフィルムとして、従来より広く使用されてい
る。

【０００３】近年、カラープリンターの需要に伴い、イ
ンクジェット方式等の新しい印字方式が発展してきた。
このような印字方式用の受像紙用フィルムでは、特開昭
６４―３６４７９号公報、特開平１―９５０９１号公報
で提案されているように、フィルム上にインク受像層の
形成が必要となる。このインク受像層には多孔質でイン
クの吸収性が良好なものが使用されるが、このインク受
像層はベースフィルムとして用いるポリエステルフィル
ムに対する接着性が乏しい。

【０００４】そこで、インク受像層との接着性を向上さ
せる目的で、フィルムの表面にインク受像層との接着性
を高める皮膜を設ける方法が数多く提案されている。し
かしながら、いずれのフィルムも耐候性が劣るために、
商業用の大型ポスターなど屋外で使用される場合には、
フィルムの劣化や、インクの変色などが生じ、長期間の
使用に耐えるものではなかった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、イン
ク受像層との接着性に優れ、かつ透明性および耐候性に
優れ、インクジェットプリンター用受像紙に有用なイン
ク受像層易接着性ポリエステルフィルムを提供すること
にある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、紫外
線吸収剤を含有するポリエステルフィルムの少なくとも
片面に皮膜を塗設したフィルムであって、皮膜は組成物
１００重量％あたり、（Ｂ）数平均分子量が６００〜２
０００のポリアルキレンオキサイドを１０〜３０重量％
及び（Ｃ）平均粒径が２０〜８０ｎｍの微粒子を３〜２
５重量％含有する組成物からなり、皮膜の表面エネルギ
ーが５４〜７０ｄｙｎｅ／ｃｍであることを特徴とす
る、インク受像層易接着性ポリエステルフィルムであ
る。

【０００７】本発明は、好ましい態様として、皮膜の組
成物が組成物１００重量％あたり、（Ａ）スルホン酸塩
基を有するジカルボン酸成分の割合が全酸成分当り１〜
１６モル％でありかつポリマーの二次転移点が２０〜９
０℃であるコポリエステル、を５０〜８０重量％含有す
る態様を包含する。

【０００８】以下、本発明を詳細に説明する。

【０００９】［ポリエステルフィルム］本発明における
ポリエステルフィルムを構成するポリエステルとして
は、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、２，６―ナフ
タリンジカルボン酸、４，４′―ジフェニルジカルボン
酸等の芳香族ジカルボン酸成分と、例えばエチレングリ
コール、１，４―ブタンジオール、１，４―シクロヘキ
サンジメタノール、１，６―ヘキサンジオール等のグリ
コール成分とから構成される芳香族ポリエステルが好ま
しく、特にポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン
―２，６―ナフタリンジカルボキシレートが好ましい。
また、上記成分等の共重合ポリエステルであっても良
い。

【００１０】前記ポリエステルには、製膜時のフィルム
の巻取り性や、インク受像層等を塗設する際のフイルム
の搬送性等を良くするため、必要に応じて滑剤としての
有機又は無機の微粒子を含有させることが好ましい。か
かる微粒子としては、炭酸カルシウム、酸化カルシウ
ム、酸化アルミニウム、カオリン、酸化珪素、酸化亜
鉛、架橋アクリル樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒
子、尿素樹脂粒子、メラミン樹脂粒子、架橋シリコーン
樹脂粒子が例示される。また、微粒子以外にも着色剤、
帯電防止剤、酸化防止剤、潤滑剤、触媒、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、エチレン―プロピレン―ポリマ
ー、オレフィン系アイオノマーのような他の樹脂も透明
性を損なわない範囲で任意に含有させることができる。

【００１１】［紫外線吸収剤］本発明におけるポリエス
テルフィルムを構成するポリエステルには、フィルムの
耐候性を向上させるために、紫外線吸収剤を含有させる
必要がある。この紫外線吸収剤としては、下記式（I)

【００１２】

【化５】

【００１３】（式中、Ｘ¹は上記式に表わされたＸ¹から
の２本の結合手が1位、２位の位置関係にある、２価の
芳香族残基であり；ｎは１、２又は３であり；Ｒ¹はｎ
価の炭化水素残基で、これは更にヘテロ原子を含有して
いてもよい、又はＲ¹はｎ＝２のとき直接結合であるこ
とができる。）で表わされる環状イミノエステル及び下
記式（II)

【００１４】

【化６】

【００１５】（式中、Ａは下記式（II)-ａ

【００１６】

【化７】

【００１７】で表わされる基であるか又は下記式（II)-
ｂ

【００１８】

【化８】

【００１９】で表わされる基であり；Ｒ²およびＲ³は同
一もしくは異なり１価の炭化水素残基であり；Ｘ²は４
価の芳香族残基で、これは更にヘテロ原子を含有してい
てもよい。）で表わされる環状イミノエステルから選ば
れる少なくとも１種の化合物を用いるのが好ましく、未
反応の形態で用いるのが特に好ましい。

【００２０】かかる環状イミノエステルは紫外線吸収剤
として公知の化合物であり、例えば特開昭５９−１２９
５２号公報に記載されている。

【００２１】前記一般式（Ｉ）中、Ｘ¹は式（Ｉ）に表
わされたＸ¹からの２本の結合手が1位、２位の位置関係
にある２価の芳香族残基であり；ｎは１、２又は３であ
り；Ｒ¹はｎ価の炭化水素残基で、これは更にヘテロ原
子を含有していてもよい、又はＲ¹はｎ＝２のとき直接
結合であることができる。

【００２２】Ｘ¹としては、好ましくは例えば１，２−
フェニレン、１，２−ナフチレン、２，３−ナフチレ
ン、下記式

【００２３】

【化９】

【００２４】（式中、Ｒは−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、
−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−（ＣＨ₂）−または−Ｃ（Ｃ
Ｈ₃）₂−である。）で表わされる基を挙げることができ
る。これらのうち、特に１，２−フェニレンが好まし
い。

【００２５】Ｘ¹について例示した上記芳香族残基は、
例えば炭素数１〜１０のアルキル例えばメチル、エチ
ル、プロピル、ヘキシル、デシル等；炭素数６〜１２の
アリール例えばフェニル、ナフチル等；炭素数５〜１２
のシクロアルキル例えばシクロペンチル、シクロヘキシ
ル等；炭素数８〜２０のアラルキル例えばフェニルエチ
ル等；炭素数１〜１０のアルコキシ例えばメトキシ、エ
トキシ、デシルオキシ等；ニトロ；ハロゲン例えば塩
素、臭素等；炭素数２〜１０のアシル例えばアセチル、
プロポニル、ゼンゾイル、デカノイル等；などの置換基
で置換されていてもよい。

【００２６】Ｒ¹はｎ価（ただし、ｎは１、２又は３で
ある）の炭化水素残基であるか、又はｎが２であるとき
に限り直接結合であることができる。

【００２７】１価の炭化水素残基（ｎ＝１の場合）とし
ては、第一に、例えば炭素数１〜１０の未置換脂肪族
基、炭素数６〜１２の未置換芳香族基、炭素数５〜１２
の未置換脂環族基が挙げられる。

【００２８】炭素数１〜１０の未置換脂肪族基として
は、例えばメチル、エチル、プロピル、ヘキシル、デシ
ルを、炭素数６〜１２の未置換芳香族基としては、例え
ばフェニル、ナフチル、ビフェニルを；炭素数５〜１２
の未置換脂環族基としては、例えばシクロペンチル、シ
クロヘキシルを挙げることができる。

【００２９】また、上記１価の炭化水素残基としては、
第二に、例えば下記式（ｃ）

【００３０】

【化１０】

【００３１】（式中、Ｒ⁴は炭素数２〜１０のアルキレ
ン、フェニレン又はナフチレンである。）で表わされる
基、下記式（ｄ）

【００３２】

【化１１】

【００３３】（式中、Ｒ⁵は炭素数１〜１０のアルキル
基、フェニル基又はナフチル基である。）で表わされる
基、下記式（ｅ）

【００３４】

【化１２】

【００３５】（式中、Ｒ⁴およびＲ⁵の定義は上記に同じ
であり、Ｒ⁶は水素原子又はＲ⁵に定義された基のいずれ
かである。）で表わされる基、下記式（ｆ）

【００３６】

【化１３】

【００３７】（式中、Ｒ⁴およびＲ⁶の定義は上記に同じ
であり、Ｒ⁷は水素原子又はＲ⁵に定義された基のいずれ
かである。）で表わされる、置換された脂肪族残基又は
芳香族残基を挙げることができる。

【００３８】また、上記１価の炭化水素残基としては、
第三に、上記未置換の芳香族残基が例えば上記Ｘ¹を表
わす芳香族残基の置換基として例示したと同じ置換基で
置換されているものを挙げることができる。それ故、か
かる置換基で置換された場合の例としては、例えばトリ
ル、メチルナフチル、ニトロフェニル、ニトロナフチ
ル、クロロフェニル、ベンゾイルフェニイル、アセチル
フェニル又はアセチルナフチルを挙げることができる。

【００３９】１価の炭化水素残基としては、上記式
（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）又は（ｆ）で表わされる基、す
なわち置換された脂肪族残基又は芳香族残基、特にその
うち置換された芳香族残基が好ましい。

【００４０】２価の炭化水素残基（ｎ＝２の場合）とし
ては、第一に、例えば２価の、炭素数２〜１０の未置換
の脂肪族残基、炭素数６〜１２の未置換の芳香族残基、
炭素数５〜１２の未置換の脂環族残基が挙げられる。

【００４１】２価の炭素数２〜１０の未置換の脂肪族基
としては、例えばエチレン、トリメチレン、テトラメチ
レン、デカメチレン等を、２価の炭素数６〜１２の未置
換の芳香族残基としては、例えばフェニレン、ナフチレ
ン、Ｐ，Ｐ’−ビフェニレン等を；２価の炭素数５〜１
２の未置換の脂環族残基としては、例えばシクロペンチ
レン、シクロヘキシレンを挙げることができる。

【００４２】また、上記２価の炭化水素残基としては、
第二に、例えば下記式（ｇ）

【００４３】

【化１４】

【００４４】（式中、Ｒ⁸はＲ⁴に定義された基のいずれ
かである。）で表わされる基、又は下記式（ｈ）

【００４５】

【化１５】

【００４６】（式中、Ｒ⁸の定義は上記に同じであり、
Ｒ⁹はＲ⁴に定義された基のいずれかであり、そしてＲ¹⁰
はＲ⁶に定義された基のいずれかである。）で表わされ
る、置換された脂肪族残基又は芳香族残基を挙げること
ができる。

【００４７】また、上記２価の炭化水素残基としては、
第三に、上記未置換の２価の芳香族残基が、例えば上記
Ｘ¹を表わす芳香族基の置換基として例示したと同じ置
換基で置換されているものを挙げることができる。

【００４８】ｎが２の場合には、Ｒ¹としては、これら
のうち直接結合又は上記第一から第三の群の未置換又は
置換された２価の芳香族炭化水素残基が好ましく、特に
２本の結合手が最も離れた位置から出ている第一又は第
三の群の未置換又は置換された芳香族炭化水素残基が好
ましく、就中Ｐ−フェニレン、Ｐ，Ｐ’−ビフェニレン
又は２，６−ナフチレンが好ましい。

【００４９】３価の炭化水素残基（ｎ＝３の場合）とし
ては、例えば３価の炭素数６〜１２の芳香族残基を挙げ
ることができる。

【００５０】かかる芳香族残基としては、例えば

【００５１】

【化１６】

【００５２】を挙げることができる。

【００５３】かかる芳香族残基は、上記１価の芳香族残
基の置換基として例示したと同じ置換基で置換されてい
てもよい。

【００５４】上記一般式（Ｉ）中、Ｒ²およびＲ³は同一
もしくは異なり１価の炭化水素残基であり、Ｘ²は４価
の芳香族炭化水素残基である。

【００５５】Ｒ²およびＲ³としては、上記式（Ｉ）の説
明において、ｎ＝１の場合のＲ¹について例示したと同
じ基を例として挙げることができる。

【００５６】４価の芳香族炭化水素残基としては、例え
ば

【００５７】

【化１７】

【００５８】（ここで、Ｒの定義は式（ａ）に同じ。）
で表わされる基を挙げることができる。

【００５９】上記４価の芳香族残基は、上記式（Ｉ）の
説明において、Ｒ¹を表わす１価の芳香族残基の置換基
として例示したと同じ置換基で置換されていてもよい。

【００６０】本発明において用いられる上記式（Ｉ）お
よび（II）で表わされる環状イミノエステルの具体例と
しては、例えば下記の化合物を挙げることができる。

【００６１】上記式（Ｉ）の化合物ｎ＝１の場合の化合物２−メチル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２
−ブチル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−
フェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−
（１−又は２−ナフチル）−３，１−ベンゾオキサジン
−４−オン、２−（４−ビフェニル）−３，１−ベンゾ
オキサジン−４−オン、２−ｐ−ニトロフェニル−３，
１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｍ−ニトロフェ
ニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｐ−
ベンゾイルフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−
オン、２−ｐ−メトキシフェニル−３，１−ベンゾオキ
サジン−４−オン、２−ｏ−メトキシフェニル−３，１
−ベンゾオキサジン−４−オン、２−シクロヘキシル−
３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ｐ−（又は
ｍ−）フタルイミドフェニル−３，１−ベンゾオキサジ
ン−４−オン、N−フェニル−４−（３，１−ベンゾオ
キサジン−４−オン−２−イル）フタルイミド、N−ベ
ンゾイル−４−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン
−２−イル）アニリン、N−ベンゾイル−N−メチル−４
−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）
アニリン、２−（ｐ−（N−メチルカルボニル）フェニ
ル）−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン。

【００６２】ｎ＝２の場合の化合物２，２’−ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オ
ン）、２，２’−エチレンビス（３，１−ベンゾオキサ
ジン−４−オン）、２，２’−テトラメチレンビス
（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−
デカメチレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オ
ン）、２，２’−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾ
オキサジン−４−オン）、２，２’−ｍ−フェニレンビ
ス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’
−（４，４’−ジフェニレン）ビス（３，１−ベンゾオ
キサジン−４−オン）、２，２’−（２，６−又は１，
５−ナフチレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４
−オン）、２，２’−（２−メチル-ｐ-フェニレン）ビ
ス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’
−（２−ニトロ−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベン
ゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２−クロロ−
ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４
−オン）、２，２’−（１，４−シクロヘキシレン）ビ
ス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、N−ｐ−
（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）フ
ェニル、４−（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−
２−イル）フタルイミド、N−ｐ−（３，１−ベンゾオ
キサジン−４−オン−２−イル）ベンゾイル、４−
（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）ア
ニリン。

【００６３】ｎ＝３の場合の化合物１，３，５−トリ（３，１−ベンゾオキサジン−４−オ
ン−２−イル）ベンゼン、１，３，５−トリ（３，１−
ベンゾオキサジン−４−オン−２−イル）ナフタレン、
２，４，６−トリ（３，１−ベンゾオキサジン−４−オ
ン−２−イル）ナフタレン上記式(II)の化合物２，８−ジメチル−４H，６H−ベンゾ（１，２−ｄ；
５，４−ｄ’）ビス（１，３）−オキサジン−４，６−
ジオン、２，７−ジメチル−４H，９H−ベンゾ（１，２
−ｄ；４，５−ｄ’）ビス（１，３）−オキサジン−
４，９−ジオン、２，８−ジフェニル−４H，８H−ベン
ゾ（１，２−ｄ；５，４−ｄ’）ビス（１，３）−オキ
サジン−４，６−ジオン、２，７−ジフェニル−４H，
９H−ベンゾ（１，２−ｄ；４，５−ｄ’）ビス（１，
３）−オキサジン−４，６−ジオン、６，６’−ビス
（２−メチル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−
オン）、６，６’−ビス（２−エチル−４H，３，１−
ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−ビス（２−
フェニル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オ
ン）、６，６’−メチレンビス（２−メチル−４H，
３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−メ
チレンビス（２−フェニル−４H，３，１−ベンゾオキ
サジン−４−オン）、６，６’−エチレンビス（２−メ
チル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、
６，６’−エチレンビス（２−フェニル−４H，３，１
−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−ブチレン
ビス（２−メチル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−
４−オン）、６，６’−ブチレンビス（２−フェニル−
４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，
６’−オキシビス（２−メチル−４H，３，１−ベンゾ
オキサジン−４−オン）、６，６’−オキシビス（２−
フェニル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オ
ン）、６，６’−スルホニルビス（２−メチル−４H，
３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，６’−ス
ルホニルビス（２−フェニル−４H，３，１−ベンゾオ
キサジン−４−オン）、６，６’−カルボニルビス（２
−メチル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オ
ン）、６，６’−カルボニルビス（２−フェニル−４
H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’
−メチレンビス（２−メチル−４H，３，１−ベンゾオ
キサジン−４−オン）、７，７’−メチレンビス（２−
フェニル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オ
ン）、７，７’−ビス（２−メチル−４H，３，１−ベ
ンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−エチレンビス
（２−メチル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−
オン）、７，７’−オキシビス（２−メチル−４H，
３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、７，７’−ス
ルホニルビス（２−メチル−４H，３，１−ベンゾオキ
サジン−４−オン）、７，７’−カルボニルビス（２−
メチル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オ
ン）、６，７’−ビス（２−メチル−４H，３，１−ベ
ンゾオキサジン−４−オン）、６，７’−ビス（２−フ
ェニル−４H，３，１−ベンゾオキサジン−４−オ
ン）、６，７’−メチレンビス（２−メチル−４H，
３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、６，７’−メ
チレンビス（２−フェニル−４H，３，１−ベンゾオキ
サジン−４−オン）。

【００６４】上記例示化合物のうち、上記式（I)の化合
物、より好ましくはｎ＝２の場合の上記式（Ｉ）の化合
物、特に好ましくは下記式（Ｉ）-１

【００６５】

【化１８】

【００６６】（式中、Ｒ¹¹は２価の芳香族炭化水素残基
である。）で表わされる化合物が有利に用いられる。

【００６７】式（Ｉ）-１の化合物としては、就中２，
２’−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン
−４−オン）、２，２’−（４，４’−ジフェニレン）
ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）および
２，２’−（２，６−ナフチレン）ビス（３，１−ベン
ゾオキサジン−４−オン）が好ましい。

【００６８】これら環状イミノエステルの紫外線吸収特
性は、例えばその代表的化合物について特開昭５９−１
２９５２号公報に記載されているので、それを援用す
る。

【００６９】前記環状イミノエステルは、ポリエステル
に対して優れた相溶性を有するが、前記特開昭５９−１
２９５２号公報や米国特許第４２９１１５２号明細書に
記載されているように、ポリエステルの末端水酸基と反
応する能力を有する。そこで、環状イミノエステルが実
質的に未反応な状態で含有されるように、環状イミノエ
ステルとポリエステルとを注意深く混合させることが求
められる。ただし、ポリエステルとして、主たる割合の
末端基がカルボキシル基であるポリエステルや、末端水
酸基が該環状イミノエステルと反応性の無い末端封鎖剤
で封鎖されているポリエステルを用いる場合、環状イミ
ノエステルを未反応の状態で含有する組成物を製造する
のに特別の注意を払う必要は無い。末端基の主たる割合
が水酸基であるポリエステルを用いる場合には、溶融混
合の時間は、下記式

【００７０】

【数１】Logｔ≦−０．００８Ｔ＋４．８及び

【００７１】

【数２】Ｔｍ＜Ｔ＜３２０（式中、ｔは溶融混合時間（秒）、Ｔは溶融混合温度
（℃）及びＴｍはポリエステルの溶融温度（℃）であ
る。）を満足するように、短時間で完了するようにする
のが望ましい。この場合、環状イミノエステルとポリエ
ステルとが少しの割合で反応する可能性があるが、この
反応によってポリエステルの分子量は大きくなるので、
この割合によっては可視光吸収剤によるポリエステルの
劣化による分子量低下を防ぐことが可能である。なお、
環状イミノエステルがポリエステルと反応した場合、紫
外線吸収波長領域が、一般に、未反応の状態の紫外線吸
収波長領域より低波長側にずれる傾向を示し、それ故高
波長側の紫外線を透過する傾向をもつ。

【００７２】前記環状イミノエステルは、適量を添加す
る場合、昇華物が殆どないので、製膜でダイ周辺を汚す
ことが少なく、紫外線から３８０ｎｍ付近の光線を吸収
するのでフィルムの着色が無く、可視光線吸収剤やフィ
ルムの劣化を防止する特性に優れている。

【００７３】前記紫外線吸収剤の含有量は、フィルムの
ポリエステル１００重量％あたり、０．１〜５重量％が
好ましく、さらには０．２〜３重量％が好ましい。この
量が０．１％未満では紫外線劣化防止効果が小さく、一
方５重量％を超えるとポリエステルの製膜特性が低下
し、好ましくない。

【００７４】前記紫外線吸収剤のポリエステルへの添加
方法は特に限定されないが、ポリエステル重合工程、フ
ィルム製膜前の溶融工程でのポリマー中への練込み、二
軸延伸フィルムへの含浸、などを挙げることができ、特
にポリエステル重合度低下を防止する意味でもフィルム
製膜前の溶融工程でのポリマー中への練込みが好まし
い。その際、紫外線吸収剤の練込みは、化合物粉体の直
接添加法、マスターバッチ法などにより行うことができ
る。

【００７５】［熱収縮率］本発明におけるポリエステル
フィルムは、１５０℃で３０分間保持したときの熱収縮
率が１％以下であることが好ましい。熱収縮率がこの範
囲内にあると、ポリエステルフィルムを受像紙に用いた
際に寸法安定性が良好であり、印字のずれ等を抑制する
ことができる。このような熱収縮率を有するポリエステ
ルフィルムは、例えば二軸延伸後に熱固定やポリエステ
ルのＴｇ以上の温度での熱処理により、フィルムの密度
を高める、例えばポリエチレンテレフタレートフィルム
の場合、フィルムの密度を１．３９０ｇ／ｃｍ³以上と
することにより得ることができる。

【００７６】［皮膜］本発明におけるポリエステルフィ
ルムは、その少なくとも片面に皮膜が塗説される。皮膜
を構成する成分としては（Ａ）コポリエステル、（Ｂ）
ポリアルキレンオキサイド及び（Ｃ）微粒子を主成分と
する塗料を用いた皮膜が塗設されている。

【００７７】［コポリエステル］この皮膜を形成する成
分として用いるコポリエステル（Ａ）は、分子内の全酸
成分に対し、スルホン酸塩基を有するジカルボン酸成分
の割合が１〜１６モル％であるコポリエステルである。
かかるコポリエステルは、テレフタル酸、イソフタル
酸、２，６―ナフタリンジカルボン酸、ヘキサヒドロテ
レフタル酸、４，４′―ジフェニルジカルボン酸、フェ
ニルインダンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、
５―スルホイソフタル酸、トリメリット酸、ジメチロー
ルプロピオン酸等のカルボン酸成分及び５―Ｎａスルホ
イソフタル酸、５―Ｋスルホイソフタル酸、５―Ｋスル
ホテレフタル酸等のスルホン酸塩基を有するジカルボン
酸成分と、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、ネオペンチレングコール、１，４―ブタンジオー
ル、１，６―ヘキサンジオール、１，４―シクロヘキサ
ンジメタノール、グリセリン、トリメチロールプロパ
ン、ビスフェノール―Ａのアルキレンオキシド付加物等
のヒドロキシ化合物成分とから構成されるコポリエステ
ルであって、水溶液、水分散液又は乳化液として使用さ
れる。

【００７８】コポリエステル（Ａ）では、親水性を付与
するための、スルホン酸塩基を有するジカルボン酸成分
が、分子内の全酸成分に対し、１〜１６モル％である必
要があるが、好ましくは５〜１５モル％である。スルホ
ン酸塩基を有するジカルボン酸成分が１モル％未満で
は、コポリエステルの親水性が不足し、一方１６モル％
を超えると、皮膜の耐湿性が低下するので好ましくな
い。

【００７９】また、コポリエステル（Ａ）の二次転移点
（Ｔｇ）は２０〜９０℃、好ましくは３０〜７０℃であ
る必要がある。このＴｇが２０℃未満では、フィルムが
ブロッキングしやすく、一方９０℃を超えると、フィル
ムの削れ性や接着性が低下するので好ましくない。

【００８０】［ポリアルキレンオキサイド］上記皮膜を
形成する成分として用いるポリアルキレンオキサイド
（Ｂ）としては、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピ
レンオキサイド、ポリエチレン・プロピレンオキサイド
を好ましく挙げることができる。

【００８１】ポリアルキレンオキサイド（Ｂ）の分子量
は、数平均分子量が６００〜２０００である必要があ
る。この分子量が６００未満ではフイルムのブロッキン
グ性、皮膜の耐湿性が低下し、一方２０００を超えると
インク受像層に対する接着性が低下する。

【００８２】［微粒子］上記皮膜を形成する成分として
用いる微粒子（Ｃ）は有機又は無機の微粒子であり、平
均粒径が２０〜８０ｎｍのものである。かかる微粒子と
しては、炭酸カルシウム、酸化カルシウム、酸化アルミ
ニウム、カオリン、酸化珪素、酸化亜鉛、架橋アクリル
樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、メラミン樹脂粒
子、架橋シリコーン樹脂粒子が例示される。微粒子の平
均粒径が２０ｎｍ未満では、フイルムがブロッキングし
やすく、一方８０ｎｍを超えると、削れ性が低下する。

【００８３】［配合量］皮膜を構成する組成物におい
て、組成物は、組成物１００重量％あたり、（Ｂ）ポリ
アルキレンオキサイドを１０〜３０重量％、（Ｃ）微粒
子を３〜３５重量％含有する必要がある。この組成物は
組成物１００重量％あたり、さらに（Ａ）コポリエステ
ルを５０〜８０重量％含有することが好ましい。コポリ
エステル（Ａ）が５０重量％未満ではポリエステルフイ
ルムとの接着性が不足し、一方８０重量％を超えるとイ
ンク受像層との接着性が低下するので好ましくない。ポ
リアルキレンオキサイド（Ｂ）が１０重量％未満ではイ
ンク受像層との接着性が不足し、一方３０重量％を超え
ると耐ブロッキング性が低下する。微粒子（Ｃ）が３重
量％未満ではフイルムの滑性（搬送性）が不足し、一方
２５重量％をこえると削れ性が低下する。

【００８４】［表面エネルギー］皮膜を構成する組成物
には、上記以外の成分として、オキサゾリン基含有ポリ
マー、尿素系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂等
の架橋剤、帯電防止剤、着色剤、界面活性剤を配合して
もよく、界面活性剤を配合することが好ましい。

【００８５】また、本発明における皮膜は、その表面エ
ネルギーが５４〜７０ｄｙｎｅ／ｃｍであることが必要
であり、特に６０〜６５ｄｙｎｅ／ｃｍであることが好
ましい。この表面エネルギーが５４ｄｙｎｅ／ｃｍ未満
であると、水性インク受像層の塗工性及び接着性が不良
となり、７０ｄｙｎｅ／ｃｍを超えると基体であるポリ
エステルフィルムとの密着性が不足したり、皮膜の耐湿
性が不足することがあるため好ましくない。

【００８６】表面エネルギーが５４〜７０ｄｙｎｅ／ｃ
ｍの皮膜は、皮膜を構成する上記組成物を例えば０．０
２〜１μｍの厚さでフィルムの上に積層することにより
得ることができる。

【００８７】［中心線平均粗さ］本発明のインク受像層
易接着性ポリエステルフィルムは、皮膜表面の中心線平
均粗さ（Ｒａ）が２ｎｍ〜４０ｎｍの範囲にあることが
好ましく、４ｎｍ〜３０ｎｍにあることが特に好まし
い。Ｒａが２ｎｍ未満であると、積層フィルムの耐ブロ
ッキング性が劣ることがあり、４０ｎｍを超えると、積
層フィルムの透明性が低下することがあり好ましくな
い。Ｒａは、ポリエステルフィルムに含有させる滑剤の
種類、大きさ、量、および皮膜成分である微粒子（Ｃ）
の種類、大きさ、量によって調整することができる。

【００８８】［ヘーズ］本発明のインク受像層易接着性
ポリエステルフィルムは、ヘーズが５％未満、更には３
％未満、特に１．５％未満であることが好ましい。この
ヘーズが５％以上であると、印刷の鮮映性を損なうこと
がある。

【００８９】［製造方法］本発明においては、ポリエス
テルフィルムの少なくとも片面に、これまでに説明した
組成物から成る皮膜を塗設するが、例えば延伸可能なポ
リエステルフィルムに皮膜を上記組成物を含む水性液を
塗布した後、乾燥、延伸し、必要に応じて熱処理するこ
とにより塗設することができる。この水性液の固形分濃
度は、通常３０重量％以下であり、１０重量％以下がさ
らに好ましい。

【００９０】前記の延伸可能なポリエステルフィルムと
は、未延伸ポリエステルフィルム、一軸延伸ポリエステ
ルフィルム又は二軸延伸ポリエステルフィルムである。
このうちフィルムの押出し方向（縦方向）に一軸延伸し
た縦延伸ポリエステルフィルムが特に好ましい。

【００９１】ポリエステルフィルムへ水性液を塗布する
場合は、通常の塗工工程、即ち二軸延伸熱固定したポリ
エステルフイルムに該フィルムの製造工程と切り離した
工程で行うと、芥、塵埃等を巻込み易く、好ましくな
い。かかる観点より、クリーンな雰囲気での塗布、即ち
フィルム製造工程での塗布が好ましい。そして、この塗
布によれば、皮膜（皮膜）のポリエステルフィルムへの
密着性がさらに向上する。

【００９２】塗布方法としては、公知の任意の塗布法が
適用できる。例えばロールコート法、グラビアコート
法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアーナ
イフコート法、含浸法及びカーテンコート法などを単独
または組合せて用いることができる。塗布量は走行して
いるフイルム１ｍ²当り、０．５〜２０ｇ、さらには１
〜１０ｇが好ましい。水性液は水分散液又は乳化液とし
て用いるのが好ましい。

【００９３】水性液を塗布した延伸可能なポリエステル
フィルムは、乾燥、延伸処理工程に導かれるが、かかる
処理は、従来から当業界に蓄積された条件で行うことが
できる。好ましい条件としては、例えば乾燥条件は９０
〜１３０℃×２〜１０秒であり、延伸温度は９０〜１３
０℃、延伸倍率は縦方向３〜５倍、横方向３〜５倍、必
要ならば再縦方向１〜３倍であり、熱固定する場合は１
８０〜２４０℃×２〜２０秒である。

【００９４】かかる処理後の二軸配向ポリエステルフィ
ルムの厚さは５０〜１５０μｍであること、また皮膜の
厚さは０．０２〜１μｍであることが好ましい。

【００９５】

【実施例】以下、実施例により本発明を更に説明する。
なお、各特性値は以下の方法で測定した。

【００９６】１．接着性ポリエステルフィルムの一方の表面に、球状シリカ（平
均粒径１８μ、平均細孔径２００オングストローム、平
均細孔容積１．５ｃｃ／ｇ）３０重量％、ポリビニルア
ルコール（クラレ製ＰＶＡ１１７）７０重量％を混合し
た水性スラリーを乾燥厚さで２０μｍ塗設し、その上に
幅１２．７ｍｍ、長さ１５０ｍｍのスコッチテープ（ス
リーエム社製・Ｎｏ．６００）を気泡が入らないよう粘
着し、この上をＪＩＳ・Ｃ２７０１（１９７５）記載の
手動式荷重ロールでならして密着させた後、テープ幅に
切り出す。このようにして作成したサンプルからスコッ
チテープを剥離する際の、インク受像層のポリエステル
フィルムからの剥離状態を観察して、接着性を下記の通
り評価する。Ａ：剥離が全く認められず、密着性良好Ｂ：異物部分で僅かに剥離が認められるＣ：剥離が顕著に認められる。

【００９７】２．摩擦係数ＡＳＴＭ・Ｄ１８９４―６３に準じ、東洋テスター社製
のスリッパ―測定器を使用し、フィルムの表面と裏面を
合わせ、荷重１ｋｇを加えて静摩擦係数を測定する。摩
擦係数が０．６を超えると、フィルム搬送性に支障をき
たす。

【００９８】３．ブロッキング性５０ｍｍ幅に切断したフィルムを２枚重ね、５０ｋｇ／
ｃｍ² の荷重下４０℃×５０％ＲＨ×１７時間処理した
後、引張り試験機にて荷重を加えた箇所の剥離強度（ｇ
／５０ｍｍ）を測定する。剥離強度の値により、下記の
通り評価する。剥離強度≦１０ｇ／５０ｍｍ…ブロッキング性良好１０ｇ／５０ｍｍ＜剥離強度≦３０ｇ／５０ｍｍ…ブロッキング性やや良好３０ｇ／５０ｍｍ＜剥離強度 …ブロッキング性不良。

【００９９】４．表面エネルギー W. A. Zisman：“Contact Augle, Wettability and Adh
esion ”，Am. Chem.Soc., （１９６４）に従い、測定
した臨界表面張力γｃをもって、表面エネルギーとす
る。

【０１００】５．二次転移点（Ｔｇ）デュポン製 Thermal Analyst ２０００型示差熱量計
にて、２０℃／分の昇温速度にて測定する。

【０１０１】６．固有粘度オルソクロロフェノール溶媒による溶液の粘度を３５℃
にて測定し求める。

【０１０２】７．水分散性塗布剤を水で希釈して０．２重量％の水分散体とし、石
英製セルを用いて、日立製作所製ダブルビーム分光光
度計（２２８Ａ型機）にて光線透過率を測定する。測定
結果より下記の通り評価する。光線透過率≧８０％ ……水分散性良好８０％＞光線透過率≧３０％ ……水分散性やや良好３０％＞光線透過率 ……水分散性不良。

【０１０３】８．耐湿性前記ブロッキング性の評価において、処理条件を６０℃
×７０％ＲＨ×１７時間としたほかは同様の方法で剥離
強度（ｇ／５０ｍｍ）を測定する。測定結果より下記の
通り評価する。剥離強度≦１０ｇ／５０ｍｍ …耐湿性良好１０ｇ／５０ｍｍ＜剥離強度≦３０ｇ／５０ｍｍ …耐湿性やや良好３０ｇ／５０ｍｍ≦剥離強度 …耐湿性不良。

【０１０４】９．ヘーズ村上色彩技術研究所製ＨＲ―１００型ヘーズメータ
ーにより、ＡＳＴＭ・Ｄ１００３に準じて測定する。

【０１０５】１０．熱収縮率ポリエステルフィルムを１５０℃×３０分熱処理した後
の収縮率を標点間距離３０ｃｍで測定する。

【０１０６】１１．中心線平均粗さ（Ｒａ）ＪＩＳＢ０６０１に準じて、（株）小坂研究所製の高
精度表面粗さ計ＳＥ―３ＦＡＴを使用して、針の半径２
μｍ、荷重３０ｍｇで拡大倍率５万倍、カットオフ０．
０８ｍｍの条件下に、チロートを描かせ表面粗さ曲線か
らその中心線方向に測定長さＬの部分を抜きとり、この
抜きとり部分の中心線をＸ軸、縦倍率の方向をＹ軸とし
て、粗さ曲線をＹ＝ｆ（ｘ）で表した時、次式で与えら
れた値をｎｍ単位で表わした。

【０１０７】

【数３】

【０１０８】１２．鮮映性インク受像層を塗布したポリエステルフィルムについ
て、インクジェットプリンター（ＥＰＳＯＮ製ＰＭ−
７５０Ｃ）でパソコン等のＣＡＤで作成した設計製図を
印刷し、印刷物の鮮明性を目視で観察し、下記の通り評
価する。Ａ：鮮明性が極めて良好・・・鮮映性が極めて良好Ｂ：鮮明性が良好・・・鮮映性が良好Ｃ：鮮明性が不良・・・鮮映性が不良。

【０１０９】１３．耐候性鮮映性評価で用いた印刷フィルムの印刷面が内側になる
よう、黒色の台紙に貼りあわせて四隅をアルミ蒸着テー
プでしっかり止め、サンシャインウェザーメーター（ス
ガ試験機（株）性、ＷＥＬ−ＳＵＮ−ＨＣＬ型）を使用
し、ＪＩＳ−Ｋ−６７８３ｂに準じて、１０００時間
（屋外曝露１年間に相当）照射することにより屋外曝露
促進試験を行う。

【０１１０】このサンプルの印刷物の変色を目視観察
し、下記の通り評価する。

【０１１１】Ａ：ほとんど変色が認められない。・・・・耐候性が極めて良好Ｂ：わずかに変色が認められるが、印刷の鮮映性には影響しない。・・・・耐候性が良好Ｃ：変色が顕著であり、印刷の鮮映性も失われる。・・・・耐候性が不良。

【０１１２】［実施例１］下記式（Ａ）に示す紫外線吸
収剤を１重量％含有するポリエチレンテレフタレート
（固有粘度：０．６２）を２０℃に維持した回転冷却ド
ラム上に溶融押出しして未延伸フィルムとした。

【０１１３】

【化１９】

【０１１４】次に、該未延伸フィルムを機械軸方向に１
００℃で３．５倍延伸した後、酸成分がテレフタル酸
［５０モル％］、イソフタル酸［４０モル％］および５
―Ｎａスルホイソフタル酸［１０モル％］、グリコール
成分がエチレングリコール［３０モル％］、ジエチレン
グリコール［２０モル％］およびネオペンチルグリコー
ル［５０モル％］よりなる共重合ポリエステル（Ｔｇ＝
５３℃、以下、単に［Ｅ］という）６０重量％、分子量
１０００のポリエチレンオキシド２０重量％、平均粒径
４０ｎｍの架橋アクリル樹脂粒子１０重量％並びにポリ
オキシエチレンラウリルエーテル（界面活性剤）１０重
量％からなる組成の、固形分濃度４重量％の水性液をロ
ールコーターにて塗布した。

【０１１５】次いで、水性液を塗布した縦延伸フイルム
を乾燥しつつ横方向に１２０℃で３．８倍延伸し、更に
２３０℃で熱固定して厚さ１００μｍの二軸配向フィル
ムを得た。

【０１１６】このフィルムでの皮膜厚さは０．０３μ
ｍ、表面エネルギーは６１ｄｙｎｅ／ｃｍ、熱収縮率は
縦方向で０．８％、横方向で０．３％であった。このフ
ィルムの特性を表１に示す。

【０１１７】［比較例１］水性液を塗布しない以外は、
実施例１と同様に行なった。得られた二軸配向ポリエス
テルフィルムの特性を表１に示す。

【０１１８】［実施例２〜７］塗布剤の種類と比率を表
１に示すように変える以外は、実施例１と同様に行なっ
た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの特性を表
１に示す。

【０１１９】

【表１】

【０１２０】表１に示す結果から明らかなように、本発
明の二軸配向ポリエステルフィルムは耐候性に優れ、か
つ接着性に優れ、インク受像層易接着性ポリエステルフ
ィルムとして有用である。

【０１２１】なお、表１においてコポリエステルの種類
ＥおよびＦ（注１）は、下記の共重合ポリエステルであ
る。

【０１２２】Ｅ：テレフタル酸［５０モル％］・イソフ
タル酸［４０モル％］・５―Ｎａスルホイソフタル酸
［１０モル％］／エチレングリコール［３０モル％］・
ジエチレングリコール［２０モル％］・ネオペンチルグ
リコール［５０モル％］の共重合ポリエステル（Ｔｇ＝
５３℃）Ｆ：２，６―ナフタリンジカルボン酸［２０モル％］・
イソフタル酸［６５モル％］・５―Ｋスルホテレフタル
酸［１５モル％］／エチレングリコール［５０モル％］
・ネオペンチルグリコール［５０モル％］の共重合ポリ
エステル（Ｔｇ＝６６℃）表１においてポリアルキレンオキサイドの種類Ｐおよび
Ｑ（注２）は、下記の化合物である。

【０１２３】Ｐ：分子量１０００のポリエチレンオキサイドＱ：分子量１２００のポリプロピレンオキサイド表１において微粒子の種類ＭおよびＮ（注３）は、下記
の粒子である。

【０１２４】Ｍ：平均粒径４０ｎｍの架橋アクリル粒子Ｎ：平均粒径４０ｎｍのコロイダルシリカ粒子

【０１２５】［実施例８〜１１及び比較例２、３］
（Ａ）コポリエステルの種類を表２および表３に示すよ
うに変えて、Ｔｇの異なるコポリエステルを用いた外は
実施例１と同様にして二軸配向ポリエステルフィルムを
得た。得られたフィルムの特性を表２に示す。

【０１２６】

【表２】

【０１２７】

【表３】

【０１２８】表２に示す結果から明らかなように、本発
明の二軸配向ポリエステルフィルムは、耐候性、耐ブロ
ッキング性及び接着性に優れ、インク受像層易接着性ポ
リエステルフィルムとして有用である。

【０１２９】［実施例１２〜１６及び比較例４、５］（Ａ）コポリエステルのスルホン酸塩基を含有するジカ
ルボン酸成分の割合を表４に示すように変えた外は実施
例１と同様にして二軸配向ポリエステルフィルムを得
た。得られたフィルムの特性を表４に示す。

【０１３０】

【表４】

【０１３１】表４に示す結果から明らかなように、本発
明における塗布剤は水分散性に優れ、本発明の二軸配向
ポリエステルフィルムは耐湿性に優れる。

【０１３２】［実施１７〜１９及び比較例６、７］（Ａ）コポリエステル、（Ｂ）ポリアルキレンオキサイ
ド及び（Ｃ）微粒子の比率を表５に示すように変えた外
は実施例１と同様にして二軸配向ポリエステルフィルム
を得た。得られたフィルムの特性を表５に示す。

【０１３３】

【表５】

【０１３４】表５に示す結果から明らかなように、本発
明の二軸配向ポリエステルフィルムは接着性、搬送性、
耐候性に優れる。

【０１３５】［実施例２０、２１及び比較例８、９］（Ｃ）微粒子の粒径を表６に示すように変えた外は実施
例１と同様にして二軸配向ポリエステルフィルムを得
た。得られたフィルムの特性を表６に示す。

【０１３６】

【表６】

【０１３７】表６に示す結果から明らかなように、本発
明の二軸配向ポリエステルフィルムは耐ブロッキング性
に優れる。

【０１３８】［実施例２２、２３及び比較例１０、１
１］（Ａ）コポリエステル、（Ｂ）ポリアルキレンオキサイ
ド及び（Ｃ）微粒子の比率を表７に示すように変えた外
は実施例１と同様にして二軸配向ポリエステルフィルム
を得た。得られたフィルムの特性を表７に示す。

【０１３９】

【表７】

【０１４０】表７に示す結果から明らかなように、本発
明の二軸配向ポリエステルフィルムは接着性及び搬送性
に優れる。

【０１４１】［実施例２４、２５および比較例１２］ポ
リエステルに含有させる紫外線吸収剤を下記の通り変更
する他は、実施例１と同様にして二軸延伸ポリエステル
フィルムを得た。実施例２４・・・下記式（Ｂ）の紫外線吸収剤を１重量
％含有実施例２５・・・構造式（Ｃ）の紫外線吸収剤を１重量
％含有比較例１２・・・紫外線吸収性剤を含まないポリエステ
ルを使用

【０１４２】

【化２０】

【０１４３】

【化２１】

【０１４４】これらのフィルムを用いて耐候性試験を行
った結果、実施例２４と２５を用いた場合には耐候性試
験結果はＡランクで非常に良かったが、比較例１２を用
いた場合には耐候性試験結果はＣランクであり、非常に
悪化した。

【０１４５】

【発明の効果】本発明のインク受像層易接着性ポリエス
テルフィルムは、透明性、耐候性に優れ、インクジェッ
トプリンター用の水性インク受像層に対する接着性に優
れたものであり、インクジェットプリンター用受像紙用
として有用である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｂ２９Ｌ 7:00 Ｂ２９Ｌ 7:00 9:00 9:00 Ｃ０８Ｌ 67:00 Ｃ０８Ｌ 67:00 (72)発明者北澤諭神奈川県相模原市小山３丁目37番19号帝人デュポンフィルム株式会社相模原研究センター内Ｆターム(参考） 2H086 BA19 BA33 BA34 BA38 BA41 BA44 4F006 AA35 AB32 AB35 AB54 AB74 BA01 CA01 4F210 AA24 AB14 AB24 AG01 AG03 AH33 QC06 QD08 QG01 QG18 QW07

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】紫外線吸収剤を含有するポリエステルフ
ィルムの少なくとも片面に皮膜を塗設したフィルムであ
って、皮膜は組成物１００重量％あたり、（Ｂ）数平均
分子量が６００〜２０００のポリアルキレンオキサイド
を１０〜３０重量％及び（Ｃ）平均粒径が２０〜８０ｎ
ｍの微粒子を３〜２５重量％含有する組成物からなり、
皮膜の表面エネルギーが５４〜７０ｄｙｎｅ／ｃｍであ
ることを特徴とする、インク受像層易接着性ポリエステ
ルフィルム。
【請求項２】皮膜を構成する組成物が組成物１００重
量％あたり、（Ａ）スルホン酸塩基を有するジカルボン
酸成分の割合が全酸成分当り１〜１６モル％でありかつ
ポリマーの二次転移点が２０〜９０℃であるコポリエス
テルを５０〜８０重量％含有する、請求項１に記載のイ
ンク受像層易接着性ポリエステルフィルム。
【請求項３】ヘーズが５％未満である請求項１に記載
のインク受像層易接着性ポリエステルフィルム。
【請求項４】皮膜表面の中心線平均粗さＲａが２ｎｍ
〜４０ｎｍの範囲にある、請求項１に記載のインク受像
層易接着性ポリエステルフィルム。
【請求項５】紫外線吸収剤が、下記式（I) 【化１】（ここで、Ｘ¹は、上記式に表わされたＸ¹からの２本の
結合手が1位、２位の位置関係にある、２価の芳香族残
基であり；ｎは１、２又は３であり；Ｒ¹はｎ価の炭化
水素残基で、これは更にヘテロ原子を含有していてもよ
い、又はＲ¹はｎ＝２のとき直接結合であることができ
る。）で表わされる環状イミノエステル及び下記式（I
I) 【化２】（ここで、Ａは下記式（II)-ａ【化３】で表わされる基であるか又は下記式（II)-ｂ【化４】で表わされる基であり；Ｒ²およびＲ³は同一もしくは異
なり１価の炭化水素残基であり；Ｘ²は４価の芳香族残
基で、これは更にヘテロ原子を含有していてもよい。）
で表わされる環状イミノエステルから選ばれる少なくと
も１種の化合物である請求項１に記載のインク受像層易
接着性ポリエステルフィルム。
【請求項６】インクジェットプリンター用受像紙に用
いる請求項１に記載のインク受像層易接着性ポリエステ
ルフィルム。