JP2003315197A - ウエハ収納治具の検査方法および検査装置、ならびに半導体装置の製造方法 - Google Patents
ウエハ収納治具の検査方法および検査装置、ならびに半導体装置の製造方法Info
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- JP2003315197A JP2003315197A JP2002125562A JP2002125562A JP2003315197A JP 2003315197 A JP2003315197 A JP 2003315197A JP 2002125562 A JP2002125562 A JP 2002125562A JP 2002125562 A JP2002125562 A JP 2002125562A JP 2003315197 A JP2003315197 A JP 2003315197A
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Abstract
密性の劣化を検出することのできる技術を提供する。 【解決手段】 FOUP検査装置14のキネマティック
プレート15上に固定したFOUP1の内部を微陰圧に
真空引きし、同時に圧力の変化を圧力計19によって測
定する。またはトップフランジ4を引き上げてFOUP
1を変形させた後にFOUP1の内部を微陰圧に真空引
きし、同時に圧力の変化を圧力計19によって測定す
る。得られた真空引き時間と圧力との関係から、FOU
P1のリークの有無を判断する。
Description
技術に関し、特に、半導体製造時に直径が300mmの
半導体ウエハを保管または搬送するためのウエハ収納治
具の検査方法および検査装置、ならびにこのウエハ収納
治具を用いた半導体装置の製造方法に適用して有効な技
術に関する。
(以下、300mm径と記す)の半導体ウエハの保管ま
たは搬送には、たとえば半導体ウエハを挿入したり取り
出したりするための開口ドアが前部に設けられたFOU
P(Front Open Unified Pod)と呼ばれる横ドア一体型
のウエハ収納治具などが使用されている。FOUPは、
半導体ウエハの保持部であるシェルと開閉扉部であるド
アとで構成され、密閉空間中に半導体ウエハを保持する
ことで、半導体ウエハを隔離することができる。
ウェア(FLUOROWARE)社製F300ウエハキャリア(Wa
fer Carrier)を挙げることができ、その寸法などに関
しては、セミスタンダード(SEMI Standard E57, E1.9,
E47.1)等に記載されている。また、FOUPの構造な
どに関して詳しく述べてある特許の例として、たとえば
特開平11−91864号公報がある。
収納するFOUPは重量が約8kgと重く、人が搬送す
ることが難しいため、300mm径の半導体ウエハを使
用する半導体装置の製造現場では、通常FOUPは自動
搬送されている。たとえば複数のロードポートと複数の
FOUPとが組み合わせて使用され、半導体製造装置の
重要部が配置されている区域(プロセスエリア)間のF
OUPの搬送に、たとえばOHT(Overhead Hoist Tra
nsfer)を用いた自動搬送を行う。このOHTでは、F
OUPの上部に設けられたトップフランジを掴むことで
FOUPは搬送される。
径の半導体ウエハを収納する上記FOUPにおいては、
以下の課題があることを本発明者は見いだした。
びドアは、たとえばポリカーボネートまたはポリエーテ
ルイミドなどの樹脂から成るため、強度的に弱く、かつ
乾燥する際の熱によって変形を起こしやすい。このた
め、トップフランジを掴んで、FOUPを引き上げる
際、FOUP(およびそれに収納されている半導体ウエ
ハ)の重量によって、FOUP自体が伸びて変形してし
まう。
となった場合は、FOUPの内部が陰圧となるため、外
部から汚れた空気がFOUPの内部に流れ込み、半導体
ウエハの汚染につながる。
るシール材はゴム性であるので、使用しているうちに弾
性が落ち、また傷ついて、FOUPの気密性に影響を及
ぼしてしまう。
し、交換することによってFOUPの気密性の劣化を防
止することができるが、見落としも多く、気密性が損な
われたFOUPを用いて半導体装置を製造することも散
見される。
であるFOUPの気密性の劣化を検出することのできる
技術を提供することにある。
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
次のとおりである。
エハ収納治具の内部を陰圧にして、圧力の変化またはウ
エハ収納治具に保持された半導体ウエハ上の異物数を測
定するものである。
なくともウエハ収納治具を載置する台と、ウエハ収納治
具の底部の一部につながる接続口を有する真空引き配管
と、真空引き配管を通じてウエハ収納治具の内部を真空
に引く真空装置とを備えており、台上にウエハ収納治具
を固定した後、真空装置を用いてウエハ収納治具の内部
を陰圧にして、真空引き配管に備わる圧力計によりウエ
ハ収納治具の内部圧力の変化を測定する、またはウエハ
収納治具に保持された半導体ウエハ上の異物数を測定す
ることにより、ウエハ収納治具の気密性を評価するもの
である。
収納治具の内部を陰圧にして、圧力の変化またはウエハ
収納治具に保持された半導体ウエハ上の異物数を測定す
ることにより、相対的に高い気密性が確認されたウエハ
収納治具を用いて、製造工程の間に半導体ウエハを貯蔵
する、または半導体製造装置の間で半導体ウエハを搬送
するものである。
に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明す
るための全図において、同一の機能を有する部材には同
一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。
斜視図である。
るシェル2と開閉扉部であるドア3とで構成されるが、
シェル2およびドア3は樹脂から成り、強度的に弱く、
かつ熱変形を起こしやすい。シェル2の上部には、FO
UP1をロボットにより自動搬送する際に掴むトップフ
ランジ4が設けられており、シェル2の側部には、マニ
ュアルハンド5およびサイドレール6が備わっている。
マニュアルハンド5は、たとえばFOUP1を手動によ
り持ち上げる際に用いられ、サイドレール6は、たとえ
ばFOUP1をロボットによりすくい上げる際に用いら
れる。また、シェル2の底部には、図示はしないが、ブ
リージングフィルタが設けられている。
置を決めるためのレジストレーションピン穴7、および
ロボットによってドア3を開けるためのラッチキー穴8
が備わっている。
を示す斜視図である。
ール材(パッキン)9、リテーナ10およびクランピン
グ機構11が備わっている。ゴム材からなるシール材9
はFOUPの密閉性を保つため設けられている。またリ
テーナ10はFOUP内に収納された半導体ウエハを押
さえるために設けられており、成形プラスチックから成
る可撓性の歯から形成されている。
に固定するために設けられており、ラッチキー穴を介し
て動作する。すなわち図示はしないが、ドア3はシェル
に設けられたドアフランジの内側に係合され、ドア3の
外周部から出たり引っ込んだりしてドアフランジの溝と
係合するラッチを有している。
の位置関係の一例を示す正面概略図である。
ハ12は、ウエハティース13と呼ばれる梁に1枚づつ
載せることができて、複数の半導体ウエハ12が軸方向
に配列されて支持されている。
Pの気密性の検査方法について図4を用いて説明する。
図4は、FOUPの気密性を検査するFOUP検査装置
の概略図である。
は、キネマティックプレート15、キネマティックピン
16、接続口17、真空引き配管17a、バルブ18、
圧力計19、真空装置20およびトップフランジ引き上
げ機構21を備えている。
のように行うことができる。まず、FOUP検査装置1
4に備わる台、たとえばキネマティックプレート15上
にFOUP1を載せて、キネマティックピン16により
位置決めし、さらにクランプ機構などでFOUP1を固
定する。その後、シェル2の底部に設けられたブリージ
ングフィルタ22と係合する接続口17がキネマティッ
クプレート15から上昇して、ブリージングフィルタ2
2と接続する。接続口17は真空引き配管17aの一端
であり、この真空引き配管17aには、バルブ18を介
して圧力計19および真空装置20がつながっている。
内部を微陰圧、たとえば700Torr程度に真空引き
し、同時に圧力の変化を圧力計19によって測定する。
得られた真空引き時間と圧力との関係から、FOUP1
のリーク、特にドアシール部におけるリークの有無を判
断する(第1の検査方法)。
して気密性が保てなくなると、その場所を通じてFOU
P1の内部に空気が流入するため、FOUP1の内部の
圧力は高くなる。この圧力を検知することによりドアシ
ール部のリークを検出することができる。
掴み、引き上げた状態でFOUP1の気密性を検査して
もよい。FOUP1の引き上げには、たとえば図4に示
したトップフランジ引き上げ機構21を用いることがで
きる。すなわちトップフランジ4を引き上げてFOUP
1を変形させた後、FOUP1の内部を微陰圧に真空引
きし、得られた真空引き時間と圧力との関係からFOU
P1のリークの有無を判断する(第2の検査方法)。
エハ12を保持した状態で、たとえば前記第1または第
2の検査方法によるFOUP1の気密性検査を行っても
よい。FOUP1にリークが有ると、外部の汚れた空気
がFOUP1の内部に浸入して半導体ウエハ12上に異
物として堆積する。FOUP1の内部を陰圧に真空引き
した後、常圧に戻し、その後半導体ウエハ12上の異物
の数を測定し、得られた異物数によってFOUP1のリ
ークの有無を評価することができる。
P検査装置におけるFOUPの位置決め方法を、図5に
示す模式図を用いて説明する。
置のキネマティックプレート15には、複数(たとえば
3つ)のキネマティックピン16が形成されている。一
方、シェルの底部には、一対の斜面を有し、キネマティ
ックピン16と係合するV字型の溝(以下、V溝と記
す)23が複数(たとえば3つ)形成されている。同図
(b)に示すように、V溝23にキネマティックピン1
6を収めることにより、FOUPの位置を固定すること
ができる。
Pの管理方法を、図6に示す模式図および図7に示す工
程図を用いて説明する。
FOUP24を、たとえば水によって洗浄し、乾燥させ
た後(図7の工程100)、半導体装置の製造現場へ投
入する(図7の工程101)。その後、半導体装置の複
数の製造工程における半導体ウエハの保管または搬送に
第1のFOUP24を用いる(図7の工程102)。第
1のFOUP24を所定数の製造工程で使用した後、半
導体ウエハを第1のFOUP24から、洗浄、乾燥が終
わった他のFOUP、ここでは第2のFOUP25に移
し替える(図7の工程103)。
いて、第1のFOUP24の気密性を検査し(図7の工
程104)、気密性が確認されると、再び第1のFOU
P24は洗浄されて、半導体装置の製造現場へ投入され
る。なお、気密性検査において、第1のFOUP24に
リークが検出された場合、第1のFOUP24は除外さ
れる。
されたFOUPを用いた半導体装置の製造方法について
図8および図9を用いて説明する。図8は、OHTを用
いたFOUPの自動搬送の概略図、図9は、半導体製造
装置のロードポート上に載置されたFOUPの開閉方法
を説明するための構成図である。
込まれる所定枚数の半導体ウエハが収納されたFOUP
は、たとえば製造工程内に設置されたストッカから半導
体製造装置へと運ばれる。さらに半導体ウエハは、FO
UPに入れられて半導体製造装置の間を移動する。しか
し、300mm径の半導体ウエハを収納したFOUPは
8kg以上の重量があるため、人手による搬送は安全上
難しい。そこで、たとえば図8に示すOHT26などを
用いたFOUPの自動搬送が行われる。OHT26で
は、OHT26に備わるホイスト(Hoist)機構27を
用いて半導体製造装置28のロードポート29上にFO
UPが降ろされる。
部に形成されたV溝23をロードポート29上に形成さ
れたキネマティックピン30に収めて、FOUP1の位
置を固定する。その後、ホイスト機構が外れてFOUP
1がロードポート29上の移載場所に残される。
1のドア3と半導体製造装置側のロードポートドア31
とを合わせる。これによりラッチキー32をFOUP1
のドア3に設けられたラッチキー穴8に挿入し、回転さ
せることにより、ドア3に備わるクランピング機構11
が外れて、ドア3がロードポートドア31に固定され
る。
動させて、ドア3をFOUP1のシェル2から取り外
し、半導体製造装置の下部へ移動させる。ドア3が外れ
た状態で、半導体製造装置に備わるウエハ搬送ロボット
によって半導体ウエハ12はFOUP1の前面から取り
出され、半導体製造装置の処理室へ運ばれて、所定の製
造処理が半導体ウエハ12に施される。
よって半導体ウエハは再びFOUP1へ戻される。FO
UP1に収納されている所定枚数の半導体ウエハに製造
処理を施した後、ロードポート開閉機構33を駆動させ
て、ドア3をシェル2と係合させる。さらにラッチキー
32を回転させてクランピング機構11によりドア3を
シェル2に固定させる。
に移動させる。搬送の要求により空のOHTがロードポ
ート29上に停止し、ホイスト機構によりロボットハン
ドがトップフランジ4を掴み、FOUP1を引き上げ
る。その後、FOUP1は、OHTによりストッカに搬
送されて、そこで一時保管される、または次の製造工程
の半導体製造装置へ運ばれる。
り、必要な回路が半導体ウエハ上に形成される。
0mm径の半導体ウエハ12を保管または搬送するFO
UP1の気密性を簡便に検査することができる。これに
より、シール性が劣化したFOUP1を検出し、除外す
ることができるので、FOUP1内における半導体ウエ
ハ12への異物の付着または汚染の混入などを防いで半
導体装置の製造歩留まりを向上させることができる。さ
らにFOUP1を用いた自動搬送の信頼性を向上させる
ことができる。
明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は
前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を
逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでも
ない。
としてOHTを例示したが、AGV(Automated Guided
Vehicle)またはRGV(Rail Guided Vehicle)など
を用いてもよく、あるいはPGV(Person Guided Vehi
cle)などの手動搬送を用いてもよい。
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば以
下のとおりである。
あるFOUPの気密性の劣化を検出することができる。
これにより、FOUPの不完全な封止に起因した半導体
装置の製造歩留まりの劣化を防ぐことができる。さらに
FOUPを用いた自動搬送の信頼性を向上させることが
できる。
る。
である。
一例を示す正面概略図である。
を検査するFOUP検査装置の概略図である。
であるFOUP検査装置におけるFOUPの位置決め方
法を説明するための模式図である。
法を説明するための模式図である。
法を説明するための工程図である。
る。
FOUPの開閉方法を説明するための構成図である。
Claims (5)
- 【請求項1】 ウエハ収納治具の内部を陰圧にして、圧
力の変化または前記ウエハ収納治具に保持された半導体
ウエハ上の異物数を測定することにより、前記ウエハ収
納治具の気密性を評価することを特徴とするウエハ収納
治具の検査方法。 - 【請求項2】 ウエハ収納治具を変形させた後、前記ウ
エハ収納治具の内部を陰圧にして、圧力の変化または前
記ウエハ収納治具に保持された半導体ウエハ上の異物数
を測定することにより、前記ウエハ収納治具の気密性を
評価することを特徴とするウエハ収納治具の検査方法。 - 【請求項3】 少なくともウエハ収納治具を載置する台
と、前記ウエハ収納治具の底部の一部につながる接続口
を有する真空引き配管と、前記真空引き配管を通じて前
記ウエハ収納治具の内部を真空に引く真空装置とを備え
ており、 前記台上に前記ウエハ収納治具を固定した後、前記真空
装置を用いて前記ウエハ収納治具の内部を陰圧にして、
前記真空引き配管に備わる圧力計により前記ウエハ収納
治具の内部圧力の変化を測定する、または前記ウエハ収
納治具に保持された半導体ウエハ上の異物数を測定する
ことにより、前記ウエハ収納治具の気密性を評価するこ
とを特徴とするウエハ収納治具の検査装置。 - 【請求項4】 少なくともウエハ収納治具を載置する台
と、前記ウエハ収納治具の底部の一部につながる接続口
を有する真空引き配管と、前記真空引き配管を通じて前
記ウエハ収納治具の内部を真空に引く真空装置と、前記
ウエハ収納治具の上部に設けられたトップフランジを引
き上げる機構とを備えており、 前記台上に前記ウエハ収納治具を固定し、次いで前記ト
ップフランジを引き上げて前記ウエハ収納治具を変形さ
せた後、前記真空装置を用いて前記ウエハ収納治具の内
部を陰圧にして、前記真空引き配管に備わる圧力計によ
り前記ウエハ収納治具の内部圧力の変化を測定する、ま
たは前記ウエハ収納治具に保持された半導体ウエハ上の
異物数を測定することにより、前記ウエハ収納治具の気
密性を評価することを特徴とするウエハ収納治具の検査
装置。 - 【請求項5】 ウエハ収納治具の内部を陰圧にして、圧
力の変化または前記ウエハ収納治具に保持された半導体
ウエハ上の異物数を測定することにより、相対的に高い
気密性が確認された前記ウエハ収納治具を用いて、製造
工程の間に半導体ウエハを貯蔵する、または半導体製造
装置の間で半導体ウエハを搬送することを特徴とする半
導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002125562A JP2003315197A (ja) | 2002-04-26 | 2002-04-26 | ウエハ収納治具の検査方法および検査装置、ならびに半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002125562A JP2003315197A (ja) | 2002-04-26 | 2002-04-26 | ウエハ収納治具の検査方法および検査装置、ならびに半導体装置の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003315197A true JP2003315197A (ja) | 2003-11-06 |
Family
ID=29540244
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002125562A Pending JP2003315197A (ja) | 2002-04-26 | 2002-04-26 | ウエハ収納治具の検査方法および検査装置、ならびに半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003315197A (ja) |
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-
2002
- 2002-04-26 JP JP2002125562A patent/JP2003315197A/ja active Pending
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A711 | Notification of change in applicant |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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