JP2003302764A - ポジ画像形成材の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 支持体表面にポジ型感光性組成物の塗布液を
塗布し乾燥させて感光性層を形成し、しかる後、該感光
性層をレーザー光源により走査露光し現像処理してポジ
画像を現出させてポジ画像形成材を製造するにおいて、
高解像度の画像を形成することができるポジ画像形成材
の製造方法を提供する。 【構成】 支持体が、圧着したガムテープの剥離強度６
００ｇ／ｃｍ未満の表面を有すると共に、ポジ型感光性
組成物が、下記の（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び、（Ｃ
−１）成分、又は、（Ｃ−２）成分を含有するポジ画像
形成材の製造方法。 （Ａ）画像露光光源の光を吸収して熱に変換する光熱変
換物質 （Ｂ）アルカリ可溶性樹脂 （Ｃ−１）有機酸或いはその無水物 （Ｃ−２）ノニオン性界面活性剤

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ポジ画像形成材の
製造方法に関し、更に詳しくは、プリント配線板、液晶
表示素子、プラズマディスプレイ、カラーフィルター、
有機エレクトロルミネッセンス、薄型トランジスタ等に
おける導体回路や電極基板等の形成に有用であり、特
に、半導体レーザー等を用いた赤外レーザー光による直
接描画に好適なポジ画像形成材の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、例えば、プリント配線板等に
おける導体回路の形成は、感光性組成物からなるレジス
ト材として、液状レジスト材又はドライフィルムレジス
ト材が用いられ、絶縁基板上に銅張した銅張積層板等の
支持体の該銅張面上に、液状レジスト材を塗布し乾燥さ
せるか、或いは、支持フィルムと被覆フィルムでサンド
イッチしたドライフィルムレジスト材の被覆フィルムを
剥離してラミネートするかして形成された感光性レジス
ト材層を有する銅張積層板を、回路パターンが描かれた
マスクフィルムを通して露光した後、マスクフィルムを
剥離し、現像処理することによって回路パターンに対応
したレジスト画像を形成し、次いで、エッチング処理等
してレジスト材に覆われていない銅張部を除去した後、
レジスト材を除去することにより、マスクフィルムに描
かれた回路パターンを絶縁基板上に形成するという方法
が採られている。

【０００３】一方、近年、レーザー光線を用いることに
より、マスクフィルムを用いずに、コンピューターのデ
ジタル情報に基づいて直接描画できる方法が注目されて
おり、そのレジスト材として、例えば、特開平５−５３
３１９号公報には、感光性官能基を有する樹脂及び／又
は化合物、及び光重合開始剤からなる光硬化性樹脂組成
物の層を有するドライフィルムレジスト材が、又、特開
平５−２８９３３５号公報には、エチレン性不飽和結合
を有する付加重合可能な化合物、チタノセン化合物、及
びクマリン系化合物からなる光重合性組成物の層を有す
るドライフィルムレジスト材が、又、特開平６−４３６
４２号公報には、可視光線硬化型樹脂、特定の染料、ロ
イコ染料、及びラジカル発生剤からなる光重合性組成物
の層を有するドライフィルムレジスト材が、それぞれ開
示されており、更に、前記従来技術がドライフィルムレ
ジスト材であるのに対して、特開平１０−１４２７９０
号公報には、銅張積層板上に直接に、光硬化性樹脂、特
定構造のクマリン系色素、及びチタノセン化合物からな
る可視光レーザー硬化性樹脂組成物を塗布、乾燥するこ
とによってレジスト材層を形成した積層材が開示されて
いる。

【０００４】しかしながら、これらの従来技術は、開示
される樹脂組成物が、紫外から可視領域の光に対して感
応するため、白色蛍光灯下における取扱時に反応が進行
し、又、後者積層材においては、触媒活性を有する銅表
面上では著しく不安定化するため、保存安定性にも劣
り、それらの理由から安定した品質のものが得られ難い
という難点がある。

【０００５】これに対して、特開平９−４３８４７号公
報には、アルカリ現像液に対して難溶性の樹脂と赤外線
吸収剤を含有し、赤外線照射等により加熱されて結晶性
を変化させてアルカリ可溶性となるが紫外線照射では変
化しないレジスト材が開示されており、このレジスト材
は、露光により化学変化を生じる化合物を含有しその化
学変化によって露光部と非露光部の現像液溶解性に差異
を生ぜしめる前述の従来技術における組成物とは異な
り、化学変化以外の変化によって溶解性に差異を生ぜし
めるものであると共に、紫外線領域の光に感受性を有す
る化合物を含まないため、白色蛍光灯下における取扱性
に優れる等の利点を有する。

【０００６】しかしながら、本発明者の検討によれば、
いずれの従来技術も、レーザー光線に対する感度及び解
像性が必ずしも十分ではなく、特に、化学変化以外の変
化によって露光部と非露光部の溶解性に差異を生ぜしめ
るような、特開平９−４３８４７号公報に開示されるレ
ジスト材においては、その傾向が顕著であることが判明
した。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前述の従来
技術に鑑みてなされたもので、従って、本発明は、支持
体表面にポジ型感光性組成物の塗布液を塗布し乾燥させ
て感光性層を形成し、しかる後、該感光性層をレーザー
光源により走査露光し現像処理してポジ画像を現出させ
てポジ画像形成材を製造するにおいて、高解像度の画像
を形成することができるポジ画像形成材の製造方法を提
供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、前記課題
を解決すべく鋭意検討した結果、支持体表面の接着性を
制御すると共に、感光性層として光熱変換物質とアルカ
ル可溶性樹脂とに加えて、有機酸或いはその無水物、又
は、ノニオン性界面活性剤を含有するポジ型感光性組成
物を用いることにより、前記目的を達成できることを見
い出し本発明を完成したもので、即ち、本発明は、支持
体表面にポジ型感光性組成物の塗布液を塗布し乾燥させ
て感光性層を形成し、しかる後、該感光性層をレーザー
光源により走査露光し現像処理してポジ画像を現出させ
るポジ画像形成材の製造方法において、支持体が、圧着
したガムテープの剥離強度６００ｇ／ｃｍ未満の表面を
有すると共に、ポジ型感光性組成物が、下記の（Ａ）成
分、（Ｂ）成分、及び（Ｃ−１）成分を含有するポジ画
像形成材の製造方法、を要旨とする。 （Ａ）画像露光光源の光を吸収して熱に変換する光熱変
換物質 （Ｂ）アルカリ可溶性樹脂 （Ｃ−１）有機酸或いはその無水物

【０００９】又、本発明は、支持体表面にポジ型感光性
組成物の塗布液を塗布し乾燥させて感光性層を形成し、
しかる後、該感光性層をレーザー光源により走査露光し
現像処理してポジ画像を現出させるポジ画像形成材の製
造方法において、支持体が、圧着したガムテープの剥離
強度６００ｇ／ｃｍ未満の表面を有すると共に、ポジ型
感光性組成物が、下記の（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び
（Ｃ−２）成分を含有するポジ画像形成材の製造方法、
を要旨とする。 （Ａ）画像露光光源の光を吸収して熱に変換する光熱変
換物質 （Ｂ）アルカリ可溶性樹脂 （Ｃ−２）ノニオン性界面活性剤

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明のポジ画像形成材の製造方
法において、支持体としては、例えば、エポキシ樹脂、
ポリイミド樹脂、ビスマレイミド樹脂、不飽和ポリエス
テル樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂等の熱硬化性
樹脂、或いは、飽和ポリエステル樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、ポリスルフォン樹脂、アクリル樹脂、ポリアミ
ド樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ
オレフィン樹脂、弗素樹脂等の熱可塑性樹脂等の樹脂シ
ート、紙、前記樹脂を塗布した紙、ガラス板、及び、ア
ルミナ、シリカ、硫酸バリウム、炭酸カルシウム等の無
機質板、並びに、ガラス織布基材エポキシ樹脂、ガラス
不織布基材エポキシ樹脂、紙基材エポキシ樹脂、紙基材
フェノール樹脂等に代表される複合材シート等の、厚み
０．０２〜１０ｍｍ程度のものを絶縁基板とし、その基
板表面に導電層が形成されたものが好適に用いられ、そ
の導電層の構成材料としては、例えば、銅、金、銀、ク
ロム、亜鉛、錫、アルミニウム、鉛、ニッケル、酸化イ
ンジウム、酸化錫、酸化インジウムドープ酸化錫（ＩＴ
Ｏ）、半田等の金属が挙げられる。尚、前記絶縁基板表
面への導電層の形成方法としては、例えば、前記金属の
箔を加熱、圧着ラミネートするか、前記金属をスパッタ
リング、蒸着、メッキする等の方法が採られ、その厚み
は、通常、１〜１００μｍ程度である。

【００１１】又、本発明における支持体としては、前記
導電層の構成材料として挙げた金属の板、及び、前記導
電層を表面に形成していない、前記絶縁基板として挙げ
た樹脂シート、紙、前記樹脂を塗布した紙、ガラス板、
無機質板、複合材シート等も用いることができる。

【００１２】そして、本発明における支持体としては、
圧着したガムテープの剥離強度が６００ｇ／ｃｍ未満の
表面を有することが必須であり、５０〜５００ｇ／ｃｍ
であるのが好ましく、８０〜４００ｇ／ｃｍであるのが
更に好ましい。ガムテープの剥離強度が前記範囲超過で
は、ポジ画像形成材として、高解像度のポジ画像を得る
ことが困難となる。

【００１３】尚、ここで、ガムテープの剥離強度とは、
支持体の表面にガムテープ（ＳＬＩＯＮＴＥＣ社製「Ｓ
ＬＩＯＮ ＴＡＰＥ」）を２５℃、５ｋｇ／ｃｍ² 、５
０ｃｍ／分で圧着した後、該支持体を固定台上に固定
し、支持体表面よりガムテープを１８０度方向に３０ｃ
ｍ／分の速度で引っ張って剥離する１８０度剥離試験に
おける最大応力をガムテープの幅で除して得られる線張
力（ｇ／ｃｍ）を言うものである。

【００１４】本発明において、前記支持体表面に形成さ
れる感光性層は、下記の（Ａ）成分（Ｂ）成分、及び、
（Ｃ−１）成分、又は／及び、（Ｃ−２）成分を含有す
るポジ型感光性組成物からなるものであることが必須で
ある。 （Ａ）画像露光光源の光を吸収して熱に変換する光熱変
換物質 （Ｂ）アルカリ可溶性樹脂 （Ｃ−１）有機酸或いはその無水物 （Ｃ−２）ノニオン性界面活性剤

【００１５】その（Ａ）成分の光熱変換物質としては、
画像露光光源の光を吸収して熱に変換し得る化合物であ
れば特に限定されないが、波長域６００〜１，３００ｎ
ｍに吸収極大を有する有機又は無機の染顔料、有機色
素、金属、金属酸化物、金属炭化物、金属硼化物等が挙
げられる中で、光吸収色素が特に有効である。これらの
光吸収色素は、前記波長域の光を効率よく吸収する一
方、紫外線領域の光は殆ど吸収しないか、吸収しても実
質的に感応せず、白色灯に含まれるような弱い紫外線に
よっては感光性組成物を変性させる作用のない化合物で
ある。

【００１６】これらの光吸収色素としては、窒素原子、
酸素原子、又は硫黄原子等の複素原子がポリメチン（−
ＣＨ＝）_n 鎖で結合された構造のものであり、代表的に
は、その複素原子が複素環を形成し、ポリメチン鎖を介
して複素環が結合された構造の所謂、広義のシアニン系
色素、具体的には、例えば、キノリン系（所謂、狭義の
シアニン系）、インドール系（所謂、インドシアニン
系）、ベンゾチアゾール系（所謂、チオシアニン系）、
ピリリウム系、チオピリリウム系、スクアリリウム系、
クロコニウム系、アズレニウム系等、及び、ポリメチン
鎖を介して非環式複素原子が結合された構造の所謂、ポ
リメチン系色素等が挙げられ、中で、キノリン系、イン
ドール系、ベンゾチアゾール系、ピリリウム系、チオピ
リリウム系等のシアニン系色素、及びポリメチン系色素
が好ましい。

【００１７】又、その他の光吸収色素として、ジイミニ
ウム系色素、フタロシアニン系色素等も代表的なものと
して挙げられ、中で、ジイミニウム系色素が好ましい。

【００１８】本発明においては、前記シアニン系色素の
中で、キノリン系色素としては、特に、下記一般式（I
a) 、(Ib)、又は(Ic)で表されるものが好ましい。

【００１９】

【化１】

【００２０】〔式(Ia)、(Ib)、及び(Ic)中、Ｒ¹ 及びＲ
² は各々独立して、置換基を有していてもよいアルキル
基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を
有していてもよいアルキニル基、又は置換基を有してい
てもよいフェニル基を示し、Ｌ¹ は置換基を有していて
もよいトリ、ペンタ、ヘプタ、ノナ、又はウンデカメチ
ン基を示し、該ペンタ、ヘプタ、ノナ、又はウンデカメ
チン基上の２つの置換基が互いに連結して炭素数５〜７
のシクロアルケン環を形成していてもよく、キノリン環
は置換基を有していてもよく、その場合、隣接する２つ
の置換基が互いに連結して縮合ベンゼン環を形成してい
てもよい。Ｘ^- は対アニオンを示す。〕

【００２１】ここで、式(Ia)、(Ib)、及び(Ic)中のＲ¹
及びＲ² がアルキル基であるときの炭素数は通常１〜１
５、好ましくは１〜１０、アルケニル基、アルキニル基
であるときの炭素数は通常２〜１５、好ましくは２〜１
０であり、フェニル基も含めたそれらの置換基として
は、炭素数が通常１〜１５、好ましくは１〜１０のアル
コキシ基、フェノキシ基、ヒドロキシ基、又はフェニル
基等が挙げられ、Ｌ¹ における置換基としては、同上炭
素数のアルキル基、アミノ基、又はハロゲン原子等が挙
げられ、キノリン環における置換基としては、同上炭素
数のアルキル基、同上炭素数のアルコキシ基、ニトロ
基、又はハロゲン原子等が挙げられる。

【００２２】又、インドール系、及びベンゾチアゾール
系色素としては、特に、下記一般式(II)で表されるもの
が好ましい。

【００２３】

【化２】

【００２４】〔式(II)中、Ｙ¹ 及びＹ² は各々独立し
て、ジアルキルメチレン基又は硫黄原子を示し、Ｒ³ 及
びＲ⁴ は各々独立して、置換基を有していてもよいアル
キル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換
基を有していてもよいアルキニル基、又は置換基を有し
ていてもよいフェニル基を示し、Ｌ² は置換基を有して
いてもよいトリ、ペンタ、ヘプタ、ノナ、又はウンデカ
メチン基を示し、該ペンタ、ヘプタ、ノナ、又はウンデ
カメチン基上の２つの置換基が互いに連結して炭素数５
〜７のシクロアルケン環を形成していてもよく、縮合ベ
ンゼン環は置換基を有していてもよく、その場合、隣接
する２つの置換基が互いに連結して縮合ベンゼン環を形
成していてもよい。Ｘ^- は対アニオンを示す。〕

【００２５】ここで、式(II)中のＲ³ 及びＲ⁴ がアルキ
ル基であるときの炭素数は通常１〜１５、好ましくは１
〜１０、アルケニル基、アルキニル基であるときの炭素
数は通常２〜１５、好ましくは２〜１０であり、フェニ
ル基も含めたそれらの置換基としては、炭素数が通常１
〜１５、好ましくは１〜１０のアルコキシ基、フェノキ
シ基、ヒドロキシ基、又はフェニル基等が挙げられ、Ｌ
² における置換基としては、同上炭素数のアルキル基、
アミノ基、又はハロゲン原子等が挙げられ、縮合ベンゼ
ン環における置換基としては、同上炭素数のアルキル
基、同上炭素数のアルコキシ基、ニトロ基、又はハロゲ
ン原子等が挙げられる。

【００２６】又、ピリリウム系、及びチオピリリウム系
色素としては、特に、下記一般式(IIIa)、(IIIb)、又は
(IIIc)で表されるものが好ましい。

【００２７】

【化３】

【００２８】〔式(IIIa)、(IIIb)、及び(IIIc)中、Ｚ¹
及びＺ² は各々独立して、酸素原子又は硫黄原子を示
し、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、及びＲ⁸ は各々独立して、水素
原子又はアルキル基、又は、Ｒ⁵ とＲ⁷ 、及びＲ⁶ とＲ
⁸ が互いに連結して炭素数５又は６のシクロアルケン環
を形成していてもよく、Ｌ³ は置換基を有していてもよ
いモノ、トリ、ペンタ、又はヘプタメチン基を示し、該
トリ、ペンタ、又はヘプタメチン基上の２つの置換基が
互いに連結して炭素数５〜７のシクロアルケン環を形成
していてもよく、ピリリウム環及びチアピリリウム環は
置換基を有していてもよく、その場合、隣接する２つの
置換基が互いに連結して縮合ベンゼン環を形成していて
もよい。Ｘ^- は対アニオンを示す。〕

【００２９】ここで、式(IIIa)、(IIIb)、及び(IIIc)中
のＲ⁵ 、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、及びＲ⁸ がアルキル基であるとき
の炭素数は通常１〜１５、好ましくは１〜１０であり、
Ｌ³における置換基としては、同上炭素数のアルキル
基、アミノ基、又はハロゲン原子等が挙げられ、ピリリ
ウム環及びチアピリリウム環における置換基としては、
フェニル基、ナフチル基等のアリール基等が挙げられ
る。

【００３０】又、ポリメチン系色素としては、特に、下
記一般式(IV)で表されるものが好ましい。

【００３１】

【化４】

【００３２】〔式(IV)中、Ｒ⁹ 、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、及びＲ¹²
は各々独立して、アルキル基を示し、Ｒ¹³及びＲ¹⁴は各
々独立して、置換基を有していてもよいアリール基、フ
リル基、又はチエニル基を示し、Ｌ⁴ は置換基を有して
いてもよいモノ、トリ、ペンタ、又はヘプタメチン基を
示し、該トリ、ペンタ、又はヘプタメチン基上の２つの
置換基が互いに連結して炭素数５〜７のシクロアルケン
環を形成していてもよく、キノン環及びベンゼン環は置
換基を有していてもよい。Ｘ^- は対アニオンを示す。〕

【００３３】ここで、式(IV)中のＲ⁹ 、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、及
びＲ¹²のアルキル基の炭素数は通常１〜１５、好ましく
は１〜１０、Ｒ¹³及びＲ¹⁴がアリール基であるときの炭
素数は通常６〜２０、好ましくは６〜１５であり、Ｒ¹³
及びＲ¹⁴として具体的には、フェニル基、１−ナフチル
基、２−ナフチル基、２−フリル基、３−フリル基、２
−チエニル基、３−チエニル基等が挙げられ、それらの
置換基としては、同上炭素数のアルキル基、同上炭素数
のアルコキシ基、ジアルキルアミノ基、ヒドロキシ基、
又はハロゲン原子等が挙げられ、Ｌ⁴ における置換基と
しては、同上炭素数のアルキル基、アミノ基、又はハロ
ゲン原子等が挙げられ、キノン環及びベンゼン環におけ
る置換基としては、同上炭素数のアルキル基、同上炭素
数のアルコキシ基、ニトロ基、又はハロゲン原子等が挙
げられる。

【００３４】更に、ジイミニウム系色素としては、特
に、Ｎ，Ｎ−ジアリールイミニウム塩骨格を少なくとも
１個有する下記一般式(Va)、又は(Vb)で表されるものが
好ましい。

【００３５】

【化５】

【００３６】〔式(Va)、及び(Vb)中、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、
Ｒ¹⁷、及びＲ¹⁸は各々独立して、水素原子、ハロゲン原
子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有
していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよ
いアルキニル基、又は置換基を有していてもよいアルコ
キシ基を示し、Ｒ¹⁹、及びＲ²⁰は各々独立して、置換基
を有していてもよいアルキル基、置換基を有していても
よいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニ
ル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基
を有していてもよいアシルオキシ基、又は置換基を有し
ていてもよいフェニル基を示し、ベンゼン環及びイミノ
キノン環は置換基を有していてもよい。Ｘ^-は対アニオ
ンを示す。尚、式(Vb)中の電子結合（点線）は他の電子
結合との共鳴状態を示す。〕

【００３７】ここで、式(Va)、及び(Vb)中のＲ¹⁵、
Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷、Ｒ¹⁸、Ｒ¹⁹、及びＲ²⁰がアルキル基、アル
コキシ基であるときの炭素数は通常１〜１５、好ましく
は１〜１０、アルケニル基、アルキニル基であるときの
炭素数は通常２〜１５、好ましくは２〜１０であり、そ
れらにおける置換基としては、同上炭素数のアルキル
基、同上炭素数のアルコキシ基、カルボキシ基、アシル
オキシ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、ア
ミノ基、アルキルアミノ基、ハロゲン化アルキル基、又
はハロゲン原子等が挙げられ、ベンゼン環及びイミノキ
ノン環における置換基としては、同上炭素数のアルキル
基、同上炭素数のアルコキシ基、アシル基、ニトロ基、
又はハロゲン原子等が挙げられる。

【００３８】これらのジイミニウム系色素の中では、前
記一般式(Va)、及び(Vb)中のＲ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷、及びＲ
¹⁸がアルキル基で、Ｒ¹⁹、及びＲ²⁰もアルキル基である
か、Ｒ¹⁹、及びＲ²⁰がジアルキルアミノ基を置換基とし
て有するフェニル基であるものが、特に好ましい。

【００３９】尚、前記一般式(Ia 〜c)、(II)、(IIIa 〜
c)、(IV)、及び(Va 〜b)における対アニオンＸ^- として
は、例えば、Ｃｌ^- 、Ｂｒ^- 、Ｉ^- 、ＣｌＯ₄ ^- 、ＰＦ
₆ ^-、ＳｂＦ₆ ^- 、ＡｓＦ₆ ^- 、及び、ＢＦ₄ ^- 、ＢＣ
ｌ₄ ^- 等の無機硼酸等の無機酸アニオン、並びに、ベン
ゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ナフタレンスル
ホン酸、酢酸、及び、メチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、フェニル、メトキシフェニル、ナフチル、フルオロ
フェニル、ジフルオロフェニル、ペンタフルオロフェニ
ル、チエニル、ピロリル等の有機基を有する有機硼酸等
の有機酸アニオンを挙げることができる。

【００４０】又、前記一般式(Ia 〜c)、(II)、(IIIa 〜
c)、及び(IV)においては、Ｌ¹ 、Ｌ ² 、Ｌ³ 、及びＬ⁴
のポリメチン鎖上に、下記一般式(VI)で表されるバルビ
ツル酸アニオン基又はチオバルビツル酸アニオン基を置
換基として有することにより、又は、Ｌ¹ 、Ｌ² 、
Ｌ³ 、及びＬ⁴ のポリメチン鎖中に、下記一般式(VII)
で表されるスクエア酸アニオン基又はチオスクエア酸ア
ニオン基、或いは、下記一般式(VIII)で表されるクロコ
ン酸アニオン基又はチオクロコン酸アニオン基を形成す
ることにより、分子内塩を形成していてもよい。

【００４１】

【化６】

【００４２】〔式(VI)、(VII) 、及び(VIII)中、Ｚ³ 、
Ｚ⁴ 、Ｚ⁵ 、Ｚ⁶ 、Ｚ⁷ 、及びＺ⁸は各々独立して、酸
素原子又は硫黄原子を示し、Ｒ²¹及びＲ²²は各々独立し
て、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有し
ていてもよいアルコキシ基、又は置換基を有していても
よいフェニル基を示す。〕

【００４３】ここで、式(VI)中のＲ²¹及びＲ²²がアルキ
ル基、アルコキシ基であるときの炭素数は通常１〜１
５、好ましくは１〜５、アルケニル基であるときの炭素
数は通常２〜１５、好ましくは２〜５であるが、アルキ
ル基であるのが好ましく、そのアルキル基として具体的
には、メチル基、エチル基、プロピル基、又はブチル基
等が挙げられる。

【００４４】以上の前記一般式(Ia 〜c)で表されるキノ
リン系、前記一般式(II)で表されるインドール系又はベ
ンゾチアゾール系、前記一般式(IIIa 〜c)で表されるピ
リリウム系又はチオピリリウム系等のシアニン系色素、
前記一般式(IV)で表されるポリメチン系色素、及び前記
一般式(Va 〜b)で表されるジイミニウム系色素の中で、
本発明においては、前記一般式(II)で表されるインドー
ル系又はベンゾチアゾール系のシアニン色素が特に好ま
しい。

【００４５】本発明において、ポジ型感光性組成物にお
ける前記（Ａ）成分の光熱変換物質の含有割合は、０．
０５〜３０重量％であるのが好ましく、０．１〜２０重
量％であるのが更に好ましく、０．２〜１０重量％であ
るのが特に好ましい。

【００４６】又、その（Ｂ）成分のアルカリ可溶性樹脂
としては、フェノール性水酸基を有する樹脂、具体的に
は、例えば、ノボラック樹脂、レゾール樹脂等のフェノ
ール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂、フェノール性水
酸基を有するアクリル酸誘導体の共重合体、ポリビニル
アセタール樹脂等が好ましく、中で、ノボラック樹脂、
レゾール樹脂等のフェノール樹脂、又はポリビニルフェ
ノール樹脂が好ましく、フェノール樹脂が更に好まし
く、ノボラック樹脂が特に好ましい。

【００４７】ノボラック樹脂は、例えば、フェノール、
ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、
２，５−キシレノール、３，５−キシレノール、ｏ−エ
チルフェノール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフ
ェノール、プロピルフェノール、ｎ−ブチルフェノー
ル、ｔ−ブチルフェノール、１−ナフトール、２−ナフ
トール、４，４’−ビフェニルジオール、ビスフェノー
ル−Ａ、ピロカテコール、レゾルシノール、ハイドロキ
ノン、ピロガロール、１，２，４−ベンゼントリオー
ル、フロログルシノール等のフェノール類の少なくとも
１種を、酸触媒下、例えば、ホルムアルデヒド、アセト
アルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒ
ド、フルフラール等のアルデヒド類（尚、ホルムアルデ
ヒドに代えてパラホルムアルデヒドを、アセトアルデヒ
ドに代えてパラアルデヒドを、用いてもよい。）、又
は、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン等のケトン類、の少なくとも１種と重縮合させた
樹脂であって、中で、本発明においては、フェノール類
としてのフェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾー
ル、ｐ−クレゾール、２，５−キシレノール、３，５−
キシレノール、レゾルシノールと、アルデヒド類又はケ
トン類としてのホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、
プロピオンアルデヒドとの重縮合体が好ましい。

【００４８】特に、ｍ−クレゾール：ｐ−クレゾール：
２，５−キシレノール：３，５−キシレノール：レゾル
シノールの混合割合がモル比で４０〜１００：０〜５
０：０〜２０：０〜２０：０〜２０の混合フェノール
類、又は、フェノール：ｍ−クレゾール：ｐ−クレゾー
ルの混合割合がモル比で１〜１００：０〜７０：０〜６
０の混合フェノール類と、ホルムアルデヒドとの重縮合
体が好ましく、又、後述する如く本発明における感光性
組成物は溶解抑止剤を含有していてもよく、その場合、
ｍ−クレゾール：ｐ−クレゾール：２，５−キシレノー
ル：３，５−キシレノール：レゾルシノールの混合割合
がモル比で７０〜１００：０〜３０：０〜２０：０〜２
０：０〜２０の混合フェノール類、又は、フェノール：
ｍ−クレゾール：ｐ−クレゾールの混合割合がモル比で
１０〜１００：０〜６０：０〜４０の混合フェノール類
と、ホルムアルデヒドとの重縮合体が好ましい。

【００４９】前記ノボラック樹脂は、ゲルパーミエーシ
ョンクロマトグラフィー測定によるポリスチレン換算の
重量平均分子量（Ｍ_W ）が、１，０００〜１５，０００
のものが好ましく、１，５００〜１０，０００のものが
更に好ましい。

【００５０】又、レゾール樹脂は、ノボラック樹脂の重
縮合における酸触媒に代えてアルカリ触媒を用いる以外
は同様にして重縮合させた樹脂であって、本発明におい
ては、前記ノボラック樹脂におけると同様の、フェノー
ル類及びその混合組成、及び、アルデヒド類又はケトン
類が好ましく、又、同様の重量平均分子量（Ｍ_W ）のも
のが好ましい。

【００５１】又、ポリビニルフェノール樹脂は、例え
ば、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレ
ン、ｐ−ヒドロキシスチレン、ジヒドロキシスチレン、
トリヒドロキシスチレン、テトラヒドロキシスチレン、
ペンタヒドロキシスチレン、２−（ｏ−ヒドロキシフェ
ニル）プロピレン、２−（ｍ−ヒドロキシフェニル）プ
ロピレン、２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）プロピレン
等のヒドロキシスチレン類（尚、これらは、ベンゼン環
に塩素、臭素、沃素、弗素等のハロゲン原子、或いは炭
素数１〜４のアルキル基を置換基として有していてもよ
い。）の単独又は２種以上を、ラジカル重合開始剤又は
カチオン重合開始剤の存在下で重合させた樹脂であっ
て、中で、本発明においては、ベンゼン環に炭素数１〜
４のアルキル基を置換基として有していてもよいヒドロ
キシスチレン類の重合体が好ましく、特に、無置換のベ
ンゼン環のヒドロキシスチレン類の重合体が好ましい。
又、重量平均分子量（Ｍ_W ）が、１，０００〜１００，
０００のものが好ましく、１，５００〜５０，０００の
ものが更に好ましい。

【００５２】本発明において、ポジ型感光性組成物にお
ける前記（Ｂ）成分のアルカリ可溶性樹脂の含有割合
は、５０〜９９重量％であるのが好ましく、６０〜９８
重量％であるのが更に好ましく、７０〜９７重量％であ
るのが特に好ましい。

【００５３】又、その（Ｃ−１）成分の有機酸或いはそ
の無水物としては、ｐＫａが２以上であるものが好まし
く、例えば、特開昭６０−８８９４２号、特開昭６３−
２７６０４８号、特開平２−９６７５４号各公報等に記
載されたもの、具体的には、グリセリン酸、メチルマロ
ン酸、ジメチルマロン酸、プロピルマロン酸、コハク
酸、リンゴ酸、メソ酒石酸、グルタル酸、β−メチルグ
ルタル酸、β，β−ジメチルグルタル酸、β−エチルグ
ルタル酸、β，β−ジエチルグルタル酸、β−プロピル
グルタル酸、β，β−メチルプロピルグルタル酸、ピメ
リン酸、スベリン酸、セバシン酸等の脂肪族飽和カルボ
ン酸、マレイン酸、フマル酸、グルタコン酸等の脂肪族
不飽和カルボン酸、１，１−シクロブタンジカルボン
酸、１，３−シクロブタンジカルボン酸、１，１−シク
ロペンタンジカルボン酸、１，２−シクロペンタンジカ
ルボン酸、１，１−シクロヘキサンジカルボン酸、１，
２−シクロヘキサンジカルボン酸、１，３−シクロヘキ
サンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン
酸等の炭素環式飽和カルボン酸、１，２−シクロヘキセ
ンジカルボン酸、２，３−ジヒドロキシ安息香酸、３，
４−ジメチル安息香酸、３，４−ジメトキシ安息香酸、
３，５−ジメトキシ安息香酸、ｐ−トルイル酸、２−ヒ
ドロキシ−ｐ−トルイル酸、２−ヒドロキシ−ｍ−トル
イル酸、２−ヒドロキシ−ｏ−トルイル酸、マンデル
酸、没食子酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸
等の炭素環式不飽和カルボン酸、及び、メルドラム酸、
アスコルビン酸、無水コハク酸、無水グルタル酸、無水
マレイン酸、シクロヘキセンジカルボン酸無水物、シク
ロヘキサンジカルボン酸無水物、無水フタル酸等の無水
物が挙げられる。中で、本発明においては、シクロヘキ
サンジカルボン酸或いはその無水物が特に好ましい。

【００５４】本発明において、ポジ型感光性組成物にお
ける前記（Ｃ−１）成分の有機酸或いはその無水物の含
有割合は、０．０５〜３０重量％であるのが好ましく、
０．１〜２０重量％であるのが更に好ましく、０．５〜
１０重量％であるのが特に好ましい。この有機酸或いは
その無水物の含有割合が前記範囲未満及び超過のいずれ
の場合においても、ポジ画像形成材として、高解像度の
ポジ画像を得ることが困難となる。

【００５５】又、その（Ｃ−２）成分のノニオン性界面
活性剤としては、具体的には、例えば、ポリエチレング
リコール、ポリエチレングリコールポリプロピレングリ
コールブロックコポリマー等のポリエチレングリコール
類、ポリエチレングリコールセチルエーテル、ポリエチ
レングリコールステアリルエーテル、ポリエチレングリ
コールオレイルエーテル、ポリエチレングリコールベヘ
ニルエーテル等のポリエチレングリコールアルキルエー
テル類、ポリエチレングリコールポリプロピレングリコ
ールセチルエーテル、ポリエチレングリコールポリプロ
ピレングリコールデシルテトラデシルエーテル等のポリ
エチレングリコールポリプロピレングリコールアルキル
エーテル類、ポリエチレングリコールオクチルフェニル
エーテル、ポリエチレングリコールノニルフェニルエー
テル等のポリエチレングリコールアルキルフェニルエー
テル類、モノステアリン酸エチレングリコール、ジステ
アリン酸エチレングリコール、ステアリン酸ジエチレン
グリコール、ジステアリン酸ポリエチレングリコール、
モノラウリン酸ポリエチレングリコール、モノステアリ
ン酸ポリエチレングリコール、モノオレイン酸ポリエチ
レングリコール等のポリエチレングリコール脂肪酸エス
テル類、モノミリスチン酸グリセリル、モノステアリン
酸グリセリル、モノイソステアリン酸グリセリル、ジス
テアリン酸グリセリル、モノオレイン酸グリセリル、ジ
オレイン酸グリセリル等の（ポリ）グリセリン脂肪酸エ
ステル類、及びそのポリエチレンオキサイド付加物類、
モノステアリン酸ペンタエリスリット、トリステアリン
酸ペンタエリスリット、モノオレイン酸ペンタエリスリ
ット、トリオレイン酸ペンタエリスリット等のペンタエ
リスリット脂肪酸エステル類、及びそのポリエチレンオ
キサイド付加物類、モノパルミチン酸ソルビタン、モノ
ステアリン酸ソルビタン、トリステアリン酸ソルビタ
ン、モノオレイン酸ソルビタン、トリオレイン酸ソルビ
タン等のソルビタン脂肪酸エステル類、及びそのポリエ
チレンオキサイド付加物類、モノラウリン酸ソルビッ
ト、テトラステアリン酸ソルビット、ヘキサステアリン
酸ソルビット、テトラオレイン酸ソルビット等のソルビ
ット脂肪酸エステル類、及びそのポリエチレンオキサイ
ド付加物類、ポリエチレングリコールアルキルアミン
類、ポリエチレングリコールアルキルアミノエーテル
類、ヒマシ油のポリエチレンオキサイド付加物類、ラノ
リンのポリエチレンオキサイド付加物類等が挙げられ
る。中で、本発明においては、ポリエチレングリコール
脂肪酸エステル類、ソルビット脂肪酸エステル類或いは
そのポリエチレンオキサイド付加物類、又は、（ポリ）
グリセリン脂肪酸エステル類或いはそのポリエチレンオ
キサイド付加物類が好ましい。

【００５６】本発明において、ポジ型感光性組成物にお
ける前記（Ｃ−２）成分のノニオン性界面活性剤の含有
割合は、０．０１〜２０重量％であるのが好ましく、
０．１〜１５重量％であるのが更に好ましく、１〜１０
重量％であるのが特に好ましい。このノニオン性界面活
性剤の含有割合が前記範囲未満及び超過のいずれの場合
においても、ポジ画像形成材として、高解像度のポジ画
像を得ることが困難となる。

【００５７】尚、本発明において、前記（Ａ）成分の光
熱変換物質と前記（Ｂ）成分のアルカリ可溶性樹脂、及
び、前記（Ｃ−１）成分の有機酸或いはその無水物、又
は／及び、前記（Ｃ−２）成分のノニオン性界面活性剤
を含有するポジ型感光性組成物には、露光部と非露光部
のアルカリ現像液に対する溶解性の差を増大させる目的
で、赤外領域の光で分解されない溶解抑止剤（Ｄ）成分
が含有されていてもよい。

【００５８】その（Ｄ）成分の溶解抑止剤としては、例
えば、特開平１０−２６８５１２号及び特開平１１−２
８８０８９号各公報に詳細に記載されているスルホン酸
エステル類、燐酸エステル類、芳香族カルボン酸エステ
ル類、芳香族ジスルホン類、カルボン酸無水物類、芳香
族ケトン類、芳香族アルデヒド類、芳香族アミン類、芳
香族エーテル類、トリアリールメタン骨格を有する化合
物類等、特開平１１−１９０９０３号公報に詳細に記載
されている、ラクトン骨格、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミド
骨格、ジアリールメチルイミノ骨格を有する酸発色性色
素類、特開平１１−１４３０７６号公報に詳細に記載さ
れている、ラクトン骨格、チオラクトン骨格、スルホラ
クトン骨格を有する塩基発色性色素類等が挙げられる。

【００５９】本発明において、ポジ型感光性組成物にお
ける前記（Ｄ）成分の溶解抑止剤の含有割合は、５０重
量％以下であるのが好ましく、０．０１〜３０重量％で
あるのが更に好ましく、０．１〜２０重量％であるのが
特に好ましい。

【００６０】又、本発明において、ポジ型感光性組成物
には、例えば、ビクトリアピュアブルー（４２５９
５）、クリスタルバイオレット（４２５５５）、クリス
タルバイオレットラクトン、オーラミンＯ（４１００
０）、カチロンブリリアントフラビン（ベーシック１
３）、ローダミン６ＧＣＰ（４５１６０）、ローダミン
Ｂ（４５１７０）、サフラニンＯＫ７０：１００（５０
２４０）、エリオグラウシンＸ（４２０８０）、ファー
ストブラックＨＢ（２６１５０）、Ｎｏ．１２０／リオ
ノールイエロー（２１０９０）、リオノールイエローＧ
ＲＯ（２１０９０）、シムラーファーストイエロー８Ｇ
Ｆ（２１１０５）、ベンジジンイエロー４Ｔ−５６４Ｄ
（２１０９５）、シムラーファーストレッド４０１５
（１２３５５）、リオノールレッドＢ４４０１（１５８
５０）、ファーストゲンブルーＴＧＲ−Ｌ（７４１６
０）、リオノールブルーＳＭ（２６１５０）等の染顔料
等の着色剤（Ｅ）成分が含有されていてもよい。尚、こ
こで、括弧内の数字はカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）
を意味する。

【００６１】本発明において、ポジ型感光性組成物にお
ける前記（Ｅ）成分の着色剤の含有割合は、５０重量％
以下であるのが好ましく、０．５〜３０重量％であるの
が更に好ましく、２〜２０重量％であるのが特に好まし
い。

【００６２】又、本発明において、ポジ型感光性組成物
には、（Ｂ）成分のアルカリ可溶性樹脂が前記フェノー
ル樹脂であるとき、露光及び現像後の後加熱により該樹
脂を架橋させてポジ画像に耐薬品性、耐刷性等を付与す
ることを目的として、フェノール樹脂を架橋させる作用
を有する架橋剤（Ｆ）成分が含有されていてもよく、そ
の（Ｆ）成分の架橋剤としては、代表的には、官能基と
してメチロール基、それをアルコール縮合変性したアル
コキシメチル基、その他、アセトキシメチル基等を少な
くとも２個有するアミノ化合物が挙げられ、具体的に
は、メラミン誘導体、例えば、メトキシメチル化メラミ
ン〔三井サイテック社製、サイメル３００シリーズ
（１）等〕、ベンゾグアナミン誘導体〔メチル／エチル
混合アルコキシ化ベンゾグアナミン樹脂（三井サイテッ
ク社製、サイメル１１００シリーズ（２）等〕、グリコ
ールウリル誘導体〔テトラメチロールグリコールウリル
樹脂（三井サイテック社製、サイメル１１００シリーズ
（３）等〕や、尿素樹脂誘導体、レゾール樹脂等が挙げ
られる。

【００６３】本発明において、ポジ型感光性組成物にお
ける前記（Ｆ）成分の架橋剤の含有割合は、２０重量％
以下であるのが好ましく、１０重量％以下であるのが更
に好ましく、５重量％以下であるのが特に好ましい。

【００６４】又、本発明において、ポジ型感光性組成物
には、感度の向上や現像性の改良等を目的として、前記
（Ｃ−２）成分のノニオン性界面活性剤以外の、アニオ
ン性、両性、或いは弗素系等の界面活性剤（Ｇ）成分が
含有されていてもよい。

【００６５】又、その（Ｇ）成分のアニオン性界面活性
剤としては、例えば、ラウリン酸ナトリウム、ステアリ
ン酸ナトリウム、オレイン酸ナトリウム等の高級脂肪酸
塩類、ラウリルスルホン酸ナトリウム等のアルキルスル
ホン酸塩類、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等
のアルキルベンゼンスルホン酸塩類、イソプロピルナフ
タレンスルホン酸ナトリウム等のアルキルナフタレンス
ルホン酸塩類、アルキルジフェニルエーテルジスルホン
酸ナトリウム等のアルキルジフェニルエーテルジスルホ
ン酸塩類、ポリオキシエチレンラウリルエーテルスルホ
ン酸ナトリウム等のポリオキシエチレンアルキルエーテ
ルスルホン酸塩類、ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリ
ル硫酸ナトリウム等のアルキル硫酸エステル塩類、オク
チルアルコール硫酸エステルナトリウム、ラウリルアル
コール硫酸エステルナトリウム、ラウリルアルコール硫
酸エステルアンモニウム等の高級アルコール硫酸エステ
ル塩類、アセチルアルコール硫酸エステルナトリウム等
の脂肪族アルコール硫酸エステル塩類、ポリオキシエチ
レンラウリルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチ
レンラウリルエーテル硫酸アンモニウム、ポリオキシエ
チレンラウリルエーテル硫酸トリエタノールアミン等の
ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩類、ポリオ
キシエチレンノニルフェニルエーテル硫酸ナトリウム等
のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸塩
類、ラウリル燐酸ナトリウム、ステアリル燐酸ナトリウ
ム等のアルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレン
ラウリルエーテル燐酸ナトリウム、ポリオキシエチレン
ステアリルエーテル燐酸ナトリウム等のポリオキシエチ
レンアルキルエーテル燐酸塩類、ポリオキシエチレンノ
ニルフェニルエーテル燐酸ナトリウム等のポリオキシエ
チレンアルキルフェニルエーテル燐酸塩類、スルホコハ
ク酸類、不飽和脂肪酸硫酸化油類、タウリン塩類、ヒマ
シ油硫酸エステル塩類等が挙げられる。

【００６６】又、その（Ｇ）成分の両性界面活性剤とし
ては、例えば、Ｎ−ラウリル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−
カルボキシメチルアンモニウム、Ｎ−ステアリル−Ｎ，
Ｎ−ジメチル−Ｎ−カルボキシメチルアンモニウム、Ｎ
−ラウリル−Ｎ，Ｎ−ジヒドロキシエチル−Ｎ−カルボ
キシメチルアンモニウム、Ｎ−ラウリル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−
トリス（カルボキシメチル）アンモニウム等のベタイン
型化合物類、２−アルキル−Ｎ−カルボキシメチル−Ｎ
−ヒドロキシエチルイミダゾリウム等のイミダゾリウム
塩類、イミダゾリン−Ｎ−ナトリウムエチルスルホネー
ト、イミダゾリン−Ｎ−ナトリウムエチルスルフェート
等のイミダゾリン類、アミノカルボン酸類、アミノ硫酸
エステル類等が挙げられる。

【００６７】本発明において、ポジ型感光性組成物にお
ける前記（Ｇ）成分の界面活性剤の含有割合は、５重量
％以下であるのが好ましく、３重量％以下であるのが更
に好ましく、１重量％以下であるのが特に好ましい。

【００６８】又、本発明において、ポジ型感光性組成物
には、前記成分以外に、例えば、帯電防止剤、塗布性改
良剤、密着性改良剤、感度改良剤、感脂化剤、現像性改
良剤等の感光性組成物に通常用いられる各種の添加剤が
更に２０重量％以下、好ましくは１０重量％以下の範囲
で含有されていてもよい。

【００６９】本発明のポジ画像形成材の製造方法は、前
記支持体表面に前記ポジ型感光性組成物の塗布液を塗布
し乾燥させて感光性層を形成し、しかる後、該感光性層
をレーザー光源により走査露光し現像処理してポジ画像
を現出させるものである。

【００７０】その際の塗布液は、前記ポジ型感光性組成
物の各成分を溶剤に溶解或いは分散させた溶液或いは分
散液であって、その溶剤としては、使用成分に対して十
分な溶解度を持ち、良好な塗膜性を与えるものであれば
特に制限はないが、例えば、メチルセロソルブ、エチル
セロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロ
ソルブアセテート等のセロソルブ系溶剤、プロピレング
リコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセ
テート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセ
テート、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等の
プロピレングリコール系溶剤、酢酸ブチル、酢酸アミ
ル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ジエチルオキサレート、
ピルビン酸エチル、エチル−２−ヒドロキシブチレー
ト、エチルアセトアセテート、乳酸メチル、乳酸エチ
ル、３−メトキシプロピオン酸メチル等のエステル系溶
剤、ヘプタノール、ヘキサノール、ジアセトンアルコー
ル、フルフリルアルコール等のアルコール系溶剤、シク
ロヘキサノン、メチルアミルケトン等のケトン系溶剤、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メ
チルピロリドン等の高極性溶剤、或いはこれらの混合溶
剤、更にはこれらに芳香族炭化水素を添加したもの等が
挙げられる。又、溶剤の使用割合は、感光性組成物の総
量に対して、通常、重量比で１〜２０倍程度の範囲であ
る。

【００７１】又、前記ポジ型感光性組成物塗布液の前記
支持体表面への塗布方法としては、従来公知の方法、例
えば、回転塗布、ワイヤーバー塗布、スプレー塗布、デ
ィップ塗布、エアーナイフ塗布、ロール塗布、ブレード
塗布、スクリーン塗布、及びカーテン塗布等を用いるこ
とができる。その際の塗布量は、乾燥膜厚として０．５
〜１５μｍ程度とするのが好ましく、１〜１２μｍ程度
とするのが特に好ましい。尚、その際の乾燥は、例え
ば、熱風循環式オーブン、ホットプレート等を用いて、
６０〜１７０℃程度、好ましくは７０〜１５０℃程度の
温度で、５秒〜１０分間程度、好ましくは１０秒〜５分
間程度の乾燥時間でなすこととしてもよいが、本発明に
おけるポジ型感光性組成物の光熱変換機能を利用し、例
えば、加熱装置付光照射機を用いて、７０℃程度以上、
好ましくは９０〜２００℃程度の温度で、１００Ｗ／ｃ
ｍ² 以下、好ましくは１０Ｗ／ｃｍ² 以下の光強度密度
で光照射することにより光熱変換させ乾燥させるのが好
ましい。

【００７２】尚、その光照射の光源としては、例えば、
ハロゲンランプ、キセノンランプ、タングステンラン
プ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯等のランプ
光源、及び、ＹＡＧレーザー、半導体レーザー等のレー
ザー光源等が挙げられ、中で、ランプ光源が好ましく、
ハロゲンランプが特に好ましい。

【００７３】又、支持体表面に形成された感光性層を走
査露光するレーザー光源としては、例えば、ＨｅＮｅレ
ーザー、アルゴンイオンレーザー、ＹＡＧレーザー、Ｈ
ｅＣｄレーザー、半導体レーザー、ルビーレーザー等が
挙げられるが、特に、６００〜１，３００ｎｍの波長域
の赤外レーザー光を発生する光源が好ましく、特に限定
されるものではないが、具体的には、例えば、８３０ｎ
ｍを発振する半導体レーザー、１０６４ｎｍを発振する
ＹＡＧレーザー等が挙げられる。又、その走査露光方法
も、特に限定されるものではなく、例えば、平面走査露
光方式、外面ドラム走査露光方式、内面ドラム走査露光
方式等が挙げられる。

【００７４】尚、レーザー光源は、通常、レンズにより
集光された高強度の光線（ビーム）として感光性層表面
を走査するが、それに感応する本発明での感光性層の感
度特性（ｍＪ／ｃｍ² ）は受光するレーザービームの光
強度（ｍＪ／ｓ・ｃｍ² ）に依存することがある。ここ
で、レーザービームの光強度は、光パワーメーターによ
り測定したレーザービームの単位時間当たりのエネルギ
ー量（ｍＪ／ｓ）を感光性層表面におけるレーザービー
ムの照射面積（ｃｍ² ）で除することにより求めること
ができる。レーザービームの照射面積は、通常、レーザ
ーピーク強度の１／ｅ² 強度を越える部分の面積で定義
されるが、簡易的には相反則を示す感光性組成物を感光
させて測定することもできる。

【００７５】本発明において、レーザー光源の光強度と
しては、２．０×１０⁶ ｍＪ／ｓ・ｃｍ² 以上とするこ
とが好ましく、１．０×１０⁷ ｍＪ／ｓ・ｃｍ² 以上と
することが更に好ましい。光強度が前記範囲であれば、
本発明での感光性層の感度特性を向上させ得て、走査露
光時間を短くすることができ実用的に大きな利点とな
る。

【００７６】又、前記レーザー露光後、現像処理に用い
る現像液としては、例えば、珪酸ナトリウム、珪酸カリ
ウム、珪酸リチウム、珪酸アンモニウム、メタ珪酸ナト
リウム、メタ珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、第二燐酸ナトリウム、第三燐
酸ナトリウム、第二燐酸アンモニウム、第三燐酸アンモ
ニウム、硼酸ナトリウム、硼酸カリウム、硼酸アンモニ
ウム等の無機アルカリ塩、モノメチルアミン、ジメチル
アミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチ
ルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミ
ン、ジイソプロピルアミン、モノブチルアミン、モノエ
タノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノール
アミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノ
ールアミン等の有機アミン化合物、或いは、水酸化テト
ラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウ
ム等の水酸化テトラアルキルアンモニウム化合物等の
０．１〜５重量％程度の水溶液からなるアルカリ現像液
が用いられる。中で、無機アルカリ塩である珪酸ナトリ
ウム、珪酸カリウム等のアルカリ金属の珪酸塩が好まし
い。尚、現像液には、現像条件の幅を安定して広げ得る
等の点から、前記ポジ型感光性組成物の成分として挙げ
たと同様のノニオン性界面活性剤、又は、アニオン性界
面活性剤、或いは両性界面活性剤等の界面活性剤や、ア
ルコール等の有機溶媒を加えることができる。

【００７７】又、現像処理は、従来公知の方法、例え
ば、浸漬現像、スプレー現像、スピン現像、ブラシ現
像、超音波現像等により、好ましくは１０〜５０℃程
度、特に好ましくは１５〜４５℃程度の温度で、通常５
秒〜３分程度の時間でなされる。現像後は、乾燥し、更
に、その後、必要に応じて、形成された画像の密着性向
上等を目的として、１００〜２５０℃程度の温度範囲で
ポストベーク処理を施すこともできる。

【００７８】以上の本発明のポジ画像形成材の製造方法
により得られるポジ画像形成材は、高解像度の画像を形
成することができ、特に、高解像性が要求されるエッチ
ング用レジスト材、電解或いは無電解メッキ用レジスト
材、ソルダー用レジスト材等として好適に用いられる。

【００７９】

【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実
施例に限定されるものではない。

【００８０】実施例１ 厚さ０．１ｍｍのポリイミド樹脂絶縁基板の表面に厚さ
１８μｍの電解銅箔の導電層がラミネートされ、その表
面のガムテープ剥離強度が１００ｇ／ｃｍの銅張積層板
（サンハヤト社製）を支持体とし、その銅箔上に、
（Ａ）成分の光熱変換物質として、下記(a) のインドー
ル系色素７重量部、（Ｂ）成分のアルカリ可溶性樹脂と
して、フェノール：ｍ−クレゾール：ｐ−クレゾールの
混合割合がモル比で５０：３０：２０の混合フェノール
類とホルムアルデヒドとの重縮合体からなるノボラック
樹脂（Ｍ_W ９，４００）１００重量部、（Ｃ−１）成分
の有機酸或いはその無水物として、１，２−シクロヘキ
サンジカルボン酸３．５重量部、（Ｃ−２）成分のノニ
オン性界面活性剤として、テトラオレイン酸ソルビット
のポリエチレンオキサイド付加物（日光ケミカルズ社製
「ＮＩＫＫＯＬ ＧＯ−４」）４重量部、（Ｄ）成分の
溶解抑止剤として、下記(b) の構成繰返し単位からなる
スルホン酸エステル化合物（Ｍ_W ３，０００）１０重量
部、（Ｅ）成分の着色剤として、クリスタルバイオレッ
トラクトン１０重量部、及び（Ｇ）成分の界面活性剤と
して、弗素系界面活性剤（旭硝子社製「サーフロンＳ−
３８１」）０．２重量部を、プロピレングリコールモノ
メチルエーテル９３０重量部に室温で攪拌することによ
り調液したポジ型感光性組成物塗布液をワイヤーバーを
用いて塗布し、室温にて２分間風乾し、更にコンベクシ
ョンオーブンにて１００℃で２分間乾燥させることによ
り、膜厚１．５μｍのポジ型感光性組成物層を有する導
体回路形成用の感光性画像形成材を作製した。

【００８１】

【化７】

【００８２】得られた感光性画像形成材につき、波長８
３０ｎｍの半導体レーザーを光源とする露光装置（Ｃｒ
ｅｏ社製「Ｔｒｅｎｄ Ｓｅｔｔｅｒ ３２４４Ｔ」）
を用いて、感光性層表面の露光量が１５０ｍＪ／ｃｍ²
となる露光エネルギーで走査露光し、次いで、アルカリ
現像液（富士写真フィルム社製「ＤＰ−４」の８倍希釈
液）を２８℃で３０秒間接触させることにより現像処理
し水洗して、細線画像のポジ画像を現出させたポジ画像
形成材を製造した。

【００８３】得られたポジ画像形成材を、そのポジ画像
をレジストとして、酸化鉄タイプ銅エッチング溶液（サ
ンハトヤ社製）に５分間浸漬して、非画像部（露光部）
の銅のエッチング処理を行い、次いで、ポジ画像部をア
セトンで溶解除去することにより、絶縁基板上に回路パ
ターンを有するプリント配線板を作製し、その回路パタ
ーンの形成状態を観察したところ、非画像部（露光部）
の銅は全面積にわたり完全にエッチングされており、且
つ、画像部（非露光部）の銅のエッチングは全く認めら
れず、所望の回路パターンを形成していた。

【００８４】実施例２ 支持体として、表面のガムテープ剥離強度が１０４ｇ／
ｃｍのガラス板（コーニング社製「Ｎｏ．７０５９」）
を用いた外は、実施例１と同様にしてポジ画像形成材を
製造し、そのパターンの形成状態を観察したところ、非
画像部の抜け不良は認められず、且つ、画像部は完全に
残存しており、所望の高解像のパターンを形成してい
た。

【００８５】実施例３ 支持体として、ジアゾ含有ネガ型感光性組成物の露光、
現像により得られたネガ画像を除去して再生し、表面の
ガムテープ剥離強度が３５０ｇ／ｃｍのアルミニウム板
を用いた外は、実施例１と同様にしてポジ画像形成材を
製造し、そのパターンの形成状態を観察したところ、非
画像部の抜け不良は認められず、且つ、画像部は完全に
残存しており、所望の高解像のパターンを形成してい
た。

【００８６】比較例１ 支持体として、燐酸を用いて陽極酸化処理し、表面のガ
ムテープ剥離強度が１，１００ｇ／ｃｍのアルミニウム
板を用いた外は、実施例１と同様にしてポジ画像形成材
を製造し、その回路パターンの形成状態を観察したとこ
ろ、非画像部の抜け不良は認められなかったが、画像部
は一部の欠如が認められた。

【００８７】実施例４ ポジ型感光性組成物において（Ｄ）成分の溶解抑止剤を
用いなかった外は、実施例１と同様にしてポジ画像形成
材を製造し、エッチング処理を行ってプリント配線板を
作製し、その回路パターンの形成状態を観察したとこ
ろ、非画像部の銅は全面積にわたり完全にエッチングさ
れており、且つ、画像部の銅のエッチングは全く認めら
れず、所望の回路パターンを形成していた。

【００８８】実施例５ ポジ型感光性組成物において、（Ｃ−２）成分のノニオ
ン性界面活性剤として、テトラオレイン酸ソルビットの
ポリエチレンオキサイド付加物（日光ケミカルズ社製
「ＮＩＫＫＯＬ ＧＯ−４」）４重量部とポリグリセリ
ン脂肪酸エステル（日光ケミカルズ社製「Ｄｅｃａｇｌ
ｙｎ １０−０」０．２重量部を用いたこと、及び、
（Ｄ）成分の溶解抑止剤を用いなかったこと、の外は実
施例１と同様にしてポジ画像形成材を製造し、エッチン
グ処理を行ってプリント配線板を作製し、その回路パタ
ーンの形成状態を観察したところ、非画像部の銅は全面
積にわたり完全にエッチングされており、且つ、画像部
の銅のエッチングは全く認められず、所望の回路パター
ンを形成していた。

【００８９】実施例６ ポジ型感光性組成物において、（Ｃ−２）成分のノニオ
ン性界面活性剤として、テトラオレイン酸ソルビットの
ポリエチレンオキサイド付加物（日光ケミカルズ社製
「ＮＩＫＫＯＬ ＧＯ−４」）４重量部とポリエチレン
グリコール脂肪酸エステル（日本エマルジョン社製「Ｒ
ＷＩＳ−３０５」０．２重量部を用いたこと、及び、
（Ｄ）成分の溶解抑止剤を用いなかったこと、の外は実
施例１と同様にしてポジ画像形成材を製造し、エッチン
グ処理を行ってプリント配線板を作製し、その回路パタ
ーンの形成状態を観察したところ、非画像部の銅は全面
積にわたり完全にエッチングされており、且つ、画像部
の銅のエッチングは全く認められず、所望の回路パター
ンを形成していた。

【００９０】比較例２ 支持体として、燐酸を用いて陽極酸化処理し、表面のガ
ムテープ剥離強度が１，１００ｇ／ｃｍのアルミニウム
板を用いた外は、実施例４と同様にしてポジ画像形成材
を製造し、そのパターンの形成状態を観察したところ、
非画像部の抜け不良は認められなかったが、画像部は一
部の欠如が認められた。

【００９１】比較例３ ポジ型感光性組成物において、（Ｃ−１）成分の有機酸
或いはその無水物、（Ｃ−２）成分のノニオン性界面活
性剤、及び（Ｇ）成分の界面活性剤のいずれも用いなか
ったこと、の外は実施例４と同様にしてポジ画像形成材
を製造し、エッチング処理を行ってプリント配線板を作
製し、その回路パターンの形成状態を目視観察したとこ
ろ、非画像部の銅は全面積にわたり完全にエッチングさ
れていたが、画像部の銅の一部にもエッチングが認めら
れ、所望の回路パターンを形成していなかった。

【００９２】実施例７ ポジ型感光性組成物において、（Ｃ−２）成分のノニオ
ン性界面活性剤を用いなかったこと、の外は実施例４と
同様にしてポジ画像形成材を製造し、エッチング処理を
行ってプリント配線板を作製し、その回路パターンの形
成状態を観察したところ、非画像部の銅は全面積にわた
り完全にエッチングされており、且つ、画像部の銅のエ
ッチングは全く認められず、所望の回路パターンを形成
していた。

【００９３】実施例８ ポジ型感光性組成物において、（Ｃ−１）成分の有機酸
或いはその無水物を用いなかったこと、の外は実施例４
と同様にしてポジ画像形成材を製造し、エッチング処理
を行ってプリント配線板を作製し、その回路パターンの
形成状態を観察したところ、非画像部の銅は全面積にわ
たり完全にエッチングされており、且つ、画像部の銅の
エッチングは全く認められず、所望の回路パターンを形
成していた。

【００９４】

【発明の効果】本発明によれば、支持体表面にポジ型感
光性組成物の塗布液を塗布し乾燥させて感光性層を形成
し、しかる後、該感光性層をレーザー光源により走査露
光し現像処理してポジ画像を現出させてポジ画像形成材
を製造するにおいて、高解像度の画像を形成することが
できるポジ画像形成材の製造方法を提供することができ
る。

フロントページの続き (72)発明者 瑞穂 右二 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地 三菱化学株式会社内 Ｆターム(参考） 2H025 AA02 AB13 AB15 AB20 AC08 AD03 BG00 CB42 CC04 CC11 CC20 DA17 FA10 FA17 5E339 BE13 CD01 CE11 CE16 CF15 DD02

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体表面にポジ型感光性組成物の塗布
   液を塗布し乾燥させて感光性層を形成し、しかる後、該
   感光性層をレーザー光源により走査露光し現像処理して
   ポジ画像を現出させるポジ画像形成材の製造方法におい
   て、支持体が、圧着したガムテープの剥離強度６００ｇ
   ／ｃｍ未満の表面を有すると共に、ポジ型感光性組成物
   が、下記の（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び（Ｃ−１）成
   分を含有することを特徴とするポジ画像形成材の製造方
   法。 （Ａ）画像露光光源の光を吸収して熱に変換する光熱変
   換物質 （Ｂ）アルカリ可溶性樹脂 （Ｃ−１）有機酸或いはその無水物
2. 【請求項２】 ポジ型感光性組成物における（Ｃ−１）
   成分の有機酸或いはその無水物が、シクロヘキサンジカ
   ルボン酸或いはその無水物である請求項１に記載のポジ
   画像形成材の製造方法。
3. 【請求項３】 支持体表面にポジ型感光性組成物の塗布
   液を塗布し乾燥させて感光性層を形成し、しかる後、該
   感光性層をレーザー光源により走査露光し現像処理して
   ポジ画像を現出させるポジ画像形成材の製造方法におい
   て、支持体が、圧着したガムテープの剥離強度６００ｇ
   ／ｃｍ未満の表面を有すると共に、ポジ型感光性組成物
   が、下記の（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び（Ｃ−２）成
   分を含有することを特徴とするポジ画像形成材の製造方
   法。 （Ａ）画像露光光源の光を吸収して熱に変換する光熱変
   換物質 （Ｂ）アルカリ可溶性樹脂 （Ｃ−２）ノニオン性界面活性剤
4. 【請求項４】 ポジ型感光性組成物における（Ｃ−２）
   成分のノニオン性界面活性剤が、ポリエチレングリコー
   ル脂肪酸エステル類、ソルビット脂肪酸エステル類或い
   はそのポリエチレンオキサイド付加物類、及び、（ポ
   リ）グリセリン脂肪酸エステル類或いはそのポリエチレ
   ンオキサイド付加物類からなる群より選択されたいずれ
   かである請求項３に記載のポジ画像形成材の製造方法。
5. 【請求項５】 支持体表面に塗布したポジ型感光性組成
   物塗布液の乾燥を、光照射により行う請求項１乃至４の
   いずれかに記載のポジ画像形成材の製造方法。
6. 【請求項６】 ポジ型感光性組成物における（Ａ）成分
   の光熱変換物質が、波長域６００〜１，３００ｎｍに吸
   収極大を有する光吸収色素である請求項１乃至５のいず
   れかに記載のポジ画像形成材の製造方法。
7. 【請求項７】 ポジ型感光性組成物における（Ａ）成分
   の光熱変換物質としての光吸収色素が、ポリメチン鎖を
   介して複素環が結合された構造のシアニン系色素である
   請求項６に記載のポジ画像形成材の製造方法。
8. 【請求項８】 ポジ型感光性組成物における（Ｂ）成分
   のアルカリ可溶性樹脂が、ノボラック樹脂である請求項
   １乃至７のいずれかに記載のポジ画像形成材の製造方
   法。
9. 【請求項９】 レーザー光源が、６００〜１，３００ｎ
   ｍの波長域の光を発生するものである請求項１乃至８の
   いずれかに記載のポジ画像形成材の製造方法。
10. 【請求項１０】 支持体が、絶縁基板上に導電層を有す
    るものであり、該導電層表面に現出させたポジ画像が、
    導電層のエッチングのためのレジストである請求項１乃
    至９のいずれかに記載のポジ画像形成材の製造方法。