JP2003300952A - スルフィド誘導体の製法 - Google Patents
スルフィド誘導体の製法Info
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Abstract
方法によって、高収率でスルフィド誘導体を製造する、
工業的に好適なスルフィド誘導体を提供することを課題
とする。 【解決手段】 本発明の課題は、銅(I)塩及び塩基の存
在下、一般式(1) 【化1】 (式中、R1は、水素原子又は一般式(2) 【化2】 (式中、R2及びR3は、水素原子又は炭化水素基を示
す。)で示されるカルボキシアルキル基を示し、Xは、
ハロゲン原子を示す。)で示されるフェニル酢酸誘導体
と一般式(3) 【化3】 (式中、R4は、炭化水素基を示す。)で示されるチオ
ール化合物とを、130〜250℃にて自己圧下で反応させる
ことを特徴とする、一般式(4) 【化4】 (式中、R1及びR4は、前記と同義である。)で示さ
れるスルフィド誘導体の製法。製法によって解決され
る。
Description
等)や農薬(殺虫剤、除草剤等)等の合成中間体として
有用なスルフィド誘導体の製法に関する。 【0002】 【従来の技術】従来、フェニル酢酸誘導体とチオール化
合物とを反応させてスルフィド誘導体を製造する方法と
しては、例えば、銅粉及び炭酸カリウムの存在下、2-(3
-カルボキシメチル-4-ヨードフェニル)プロピオン酸と
チオフェノールとをN,N-ジメチルホルムアミド中にて11
5℃で反応させ、収率49%で2-(3-カルボキシメチル-4-
フェニルチオフェニル)プロピオン酸を得る方法が開示
されている(特開平10-226683号公報)。しかしなが
ら、この方法では、反応時間が長い上に、目的物の収率
が低く、工業的な製法としては満足出来るものではなか
った。 【0003】 【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、即
ち、上記問題点を解決し、フェニル酢酸誘導体から、簡
便な方法によって、高収率でスルフィド誘導体を製造す
る、工業的に好適なスルフィド誘導体の製法を提供する
ものである。 【0004】 【課題を解決するための手段】本発明の課題は、銅(I)
塩及び塩基の存在下、一般式(1) 【0005】 【化5】 【0006】(式中、R1は、水素原子又は一般式
(2) 【0007】 【化6】 【0008】(式中、R2及びR3は、水素原子又は炭
化水素基を示す。)で示されるカルボキシアルキル基を
示し、Xは、ハロゲン原子を示す。)で示されるフェニ
ル酢酸誘導体と一般式(3) 【0009】 【化7】 【0010】(式中、R4は、炭化水素基を示す。)で
示されるチオール化合物とを、130〜250℃にて自己圧下
で反応させることを特徴とする、一般式(4) 【0011】 【化8】 【0012】(式中、R1及びR4は、前記と同義であ
る。)で示されるスルフィド誘導体の製法によって解決
される。 【0013】 【発明の実施の形態】本発明の反応において使用するフ
ェニル酢酸誘導体は、前記の一般式(1)で示される。
その一般式(1)において、R1は、水素原子又は一般
式(2)で示されるカルボキシアルキル基である。 【0014】前記一般式(2)において、R2及びR3
は、水素原子又は炭化水素基を示すが、炭化水素基とし
ては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基、ノニル基、デシル基等のアルキル基;シクロプロピ
ル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキ
シル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロ
ノニル基、シクロデシル基等のシクロアルキル基;ベン
ジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等のア
ラルキル基が挙げられる。なお、これらの基は、各種異
性体を含む。 【0015】又、Xは、ハロゲン原子であり、例えば、
フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子である
が、好ましくは塩素原子、臭素原子である。 【0016】本発明の反応において使用するチオール化
合物は、前記の一般式(3)で示される。その一般式
(3)において、R4は、炭化水素基であり、例えば、
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、
デシル基等のアルキル基;シクロプロピル基、シクロブ
チル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロ
ヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シク
ロデシル基等のシクロアルキル基;ベンジル基、フェニ
ルエチル基、フェニルプロピル基等のアラルキル基;フ
ェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリ
ール基が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体
を含む。 【0017】前記チオール化合物の使用量は、フェニル
酢酸誘導体1molに対して、好ましくは1.0〜5.0mol、更
に好ましくは1.0〜3.0molである。 【0018】本発明の反応において使用する銅(I)塩と
しては、例えば、フッ化銅(I)、塩化銅(I)、臭化銅
(I)、ヨウ化銅(I)等のハロゲン化銅(I);酢酸銅(I)、硫
酸銅(I)、硝酸銅(I)等の銅酸塩(I);酸化銅(I);硫化銅
(I)が挙げられるが、好ましくはハロゲン化銅(I)、酸化
銅(I)、硫化銅(I)、更に好ましくはハロゲン化銅(I)、
硫化銅(I)が使用される。なお、これらの銅(I)塩は、単
独又は二種以上を混合して使用しても良い。 【0019】前記銅(I)塩の使用量は、フェニル酢酸誘
導体1molに対して、好ましくは0.001〜1mol、更に好ま
しくは0.01〜0.8molである。 【0020】本発明の反応において使用する塩基として
は、例えば、アンモニア(水溶液でも良い);水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物;
水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等のアルカリ土
類金属水酸化物が挙げられるが、好ましくはアルカリ金
属水酸化物、更に好ましくは水酸化ナトリウムが使用さ
れる。なお、これらの塩基は、単独又は二種以上を混合
して使用しても良い。 【0021】前記塩基の使用量は、フェニル酢酸誘導体
1molに対して、好ましくは1.0〜10mol、更に好ましくは
1.1〜5.0molである。 【0022】本発明の反応においては、反応液の均一性
や攪拌性を更に高めるために、溶媒を加えても良く、使
用する溶媒としては、反応を阻害しないものならば特に
限定されないが、水;メタノール、エタノール、イソプ
ロピルアルコール、t-ブチルアルコール等のアルコール
類;ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、1,
4-ジオキサン等のエーテル類が挙げられるが、好ましく
は水、アルコール類、更に好ましくは水が使用される。
なお、これらの溶媒は、単独又は二種以上を混合して使
用しても良い。 【0023】前記溶媒の使用量は、反応液の均一性や攪
拌性により適宜調節するが、フェニル酢酸誘導体1gに対
して、好ましくは1.0〜50g、更に好ましくは1.1〜20gで
ある。 【0024】本発明の反応は、例えば、不活性ガス雰囲
気にて、フェニル酢酸誘導体(アルカリ金属塩又はその
水溶液として使用しても良い)、チオール化合物、銅
(I)塩、塩基及び溶媒を混合し、130〜250℃にて自己圧
力下で攪拌しながら反応させる等の方法によって行われ
る。 【0025】本発明の反応は、密閉された反応器内で行
うのが好ましく、使用される反応器の具体例としては、
例えば、オートクレーブ等が挙げられる。 【0026】なお、本発明における自己圧力とは、反応
中に反応混合物又はその一部が気化することによって発
現する反応器内の圧力であり、通常、常圧よりも高い圧
力である。 【0027】なお、最終生成物であるスルフィド誘導体
は、反応終了後、例えば、濾過、抽出、濃縮、蒸留、再
結晶、晶析、カラムクロマトグラフィー等の一般的な方
法によって単離・精製される。 【0028】 【実施例】次に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明
するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではな
い。なお、実施例における定量は、以下の分析条件によ
り高速液体クロマトグラフィーを用いて絶対検量線法で
行った。 【0029】 高速液体クロマトグラフィーの分析条件: カラム ;COSMOSIL 5C18-AR(ナカライテスク社製) 4.6mmφ×250mm カラム温度;40℃ 溶出溶媒 ;アセトニトリル/水(=1/2(容量比)) (前記の水とは、リン酸水素二ナトリウム水溶液1.4g/l及びリン 酸でpH2.5に調整したものである。) 流速 ;1.0ml/min. 検出波長 ;250nm 保持時間 ;2-(3-カルボキシメチル-4-フェニルチオフェニル)プロピオン酸 20min. 2-フェニルチオフェニル酢酸 30min. 【0030】実施例1(2-(3-カルボキシメチル-4-フェ
ニルチオフェニル)プロピオン酸の合成) 攪拌装置、温度計及び圧力ゲージを備えた内容積2000ml
のオートクレーブに、純度97.5質量%の2-(4-ブロモ-3-
カルボキシメチルフェニル)プロピオン酸239g(811mmo
l)、95質量%チオフェノール110g(950mmol)、95質量%
臭化銅(I)7.3g(48mmol)、6mol/l水酸化ナトリウム水溶
液500ml(3.0mol)及び水500mlを加え、窒素雰囲気下、18
0℃にて自己圧力下(1.2MPa(ゲージ圧))で7時間反応さ
せた。反応終了後、室温まで冷却し、反応液を高速液体
クロマトグラフィーにより分析したところ、2-(3-カル
ボキシメチル-4-フェニルチオフェニル)プロピオン酸が
244g生成していた(反応収率:95%)。次いで、反応液に
6mol/l硫酸を加えてpH6.0とした後、水層を酢酸エチル
で洗浄した。更に、水層に6mol/l硫酸を加えてpH4.0と
した後、酢酸エチルで抽出し、有機層を分離して無水硫
酸マグネシウムで乾燥させた。濾過後、濾液を減圧下で
濃縮し、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(充填剤;ワコーゲルC-200(和光純薬社製)、展開溶
媒;酢酸エチル)により精製して、無色針状結晶として
2-(3-カルボキシメチル-4-フェニルチオフェニル)プロ
ピオン酸226gを得た(単離収率:88%)。なお、2-(3-カ
ルボキシメチル-4-フェニルチオフェニル)プロピオン酸
の物性値は以下の通りであった。 【0031】1H-NMR(CDCl3,δ(ppm));1.50(3H,d,J=7.3
Hz)、3.71(1H,q,J=7.3Hz)、3.81(1H,d,J=16.1Hz)、3.95
(1H,d,J=16.1Hz)、7.1〜7.4(8H,m)、8.0〜11.0(2H,brs) 【0032】実施例2(2-フェニルチオフェニル酢酸の
合成) 攪拌装置、温度計及び圧力ゲージを備えた内容積2000ml
のオートクレーブに、2-ブロモフェニル酢酸215g(1.0mo
l)、95質量%チオフェノール139g(1.2mol)、95質量%臭
化銅(I)9.1g(60mmol)、6mol/l水酸化ナトリウム水溶液3
30ml(2.0mol)及び水600mlを加え、窒素雰囲気下、180℃
にて自己圧力下(1.4MPa(ゲージ圧))で10時間反応させ
た。反応終了後、室温まで冷却し、反応液を高速液体ク
ロマトグラフィーにより分析したところ、2-フェニルチ
オフェニル酢酸が232g生成していた(反応収率:95%)。
次いで、反応液に6mol/l硫酸を加えてpH6.0とした後、
水層を酢酸エチルで洗浄した。更に、水層に6mol/l硫酸
を加えてpH4.0とした後、酢酸エチルで抽出し、有機層
を分離して無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。濾過
後、濾液を減圧下で濃縮し、濃縮物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(充填剤;ワコーゲルC-200(和光純
薬社製)、展開溶媒;トルエン/酢酸エチル=1/1(容量
比))により精製して、無色針状結晶として2-フェニル
チオフェニル酢酸220gを得た(単離収率:90%)。なお、
2-フェニルチオフェニル酢酸の物性値は以下の通りであ
った。 【0033】1H-NMR(CD3OD,δ(ppm));3.79(2H,s)、4.7
〜5.3(1H,brs)、7.0〜7.6(9H,m) 【0034】比較例1(2-フェニルチオフェニル酢酸の
合成) 攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積2000ml
のフラスコに、2-ブロモフェニル酢酸215g(1.0mol)、95
質量%チオフェノール139g(1.2mol)、95質量%臭化銅
(I)9.1g(60mmol)、6mol/l水酸化ナトリウム水溶液330ml
(2.0mol)及び水600mlを加え、窒素雰囲気下、100℃にて
常圧下で24時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却
し、反応液を高速液体クロマトグラフィーにより分析し
たところ、2-フェニルチオフェニル酢酸が4.6g生成して
いた(反応収率:2%)。 【0035】 【発明の効果】本発明により、フェニル酢酸誘導体か
ら、簡便な方法によって、高収率でスルフィド誘導体を
製造する、工業的に好適なスルフィド誘導体の製法を提
供することが出来る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項1】銅(I)塩及び塩基の存在下、一般式(1) 【化1】 (式中、R1は、水素原子又は一般式(2) 【化2】 (式中、R2及びR3は、水素原子又は炭化水素基を示
す。)で示されるカルボキシアルキル基を示し、Xは、
ハロゲン原子を示す。)で示されるフェニル酢酸誘導体
と一般式(3) 【化3】 (式中、R4は、炭化水素基を示す。)で示されるチオ
ール化合物とを、130〜250℃にて自己圧下で反応させる
ことを特徴とする、一般式(4) 【化4】 (式中、R1及びR4は、前記と同義である。)で示さ
れるスルフィド誘導体の製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002107498A JP3972715B2 (ja) | 2002-04-10 | 2002-04-10 | スルフィド誘導体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2002107498A JP3972715B2 (ja) | 2002-04-10 | 2002-04-10 | スルフィド誘導体の製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2003300952A true JP2003300952A (ja) | 2003-10-21 |
JP3972715B2 JP3972715B2 (ja) | 2007-09-05 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002107498A Expired - Fee Related JP3972715B2 (ja) | 2002-04-10 | 2002-04-10 | スルフィド誘導体の製法 |
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- 2002-04-10 JP JP2002107498A patent/JP3972715B2/ja not_active Expired - Fee Related
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