JP2003300952A - スルフィド誘導体の製法 - Google Patents

スルフィド誘導体の製法

Info

Publication number
JP2003300952A
JP2003300952A JP2002107498A JP2002107498A JP2003300952A JP 2003300952 A JP2003300952 A JP 2003300952A JP 2002107498 A JP2002107498 A JP 2002107498A JP 2002107498 A JP2002107498 A JP 2002107498A JP 2003300952 A JP2003300952 A JP 2003300952A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
general formula
group
reaction
copper
mol
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002107498A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3972715B2 (ja
Inventor
Shigeyoshi Nishino
繁栄 西野
Kenji Hirotsu
健二 弘津
Shuji Yokoyama
修司 横山
Hiroshi Sasaki
浩史 佐々木
Takeshi Takahashi
高橋  毅
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ube Corp
Original Assignee
Ube Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ube Industries Ltd filed Critical Ube Industries Ltd
Priority to JP2002107498A priority Critical patent/JP3972715B2/ja
Publication of JP2003300952A publication Critical patent/JP2003300952A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3972715B2 publication Critical patent/JP3972715B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、フェニル酢酸誘導体から、簡便な
方法によって、高収率でスルフィド誘導体を製造する、
工業的に好適なスルフィド誘導体を提供することを課題
とする。 【解決手段】 本発明の課題は、銅(I)塩及び塩基の存
在下、一般式(1) 【化1】 (式中、Rは、水素原子又は一般式(2) 【化2】 (式中、R及びRは、水素原子又は炭化水素基を示
す。)で示されるカルボキシアルキル基を示し、Xは、
ハロゲン原子を示す。)で示されるフェニル酢酸誘導体
と一般式(3) 【化3】 (式中、Rは、炭化水素基を示す。)で示されるチオ
ール化合物とを、130〜250℃にて自己圧下で反応させる
ことを特徴とする、一般式(4) 【化4】 (式中、R及びRは、前記と同義である。)で示さ
れるスルフィド誘導体の製法。製法によって解決され
る。

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、医薬(消炎鎮痛剤
等)や農薬(殺虫剤、除草剤等)等の合成中間体として
有用なスルフィド誘導体の製法に関する。 【0002】 【従来の技術】従来、フェニル酢酸誘導体とチオール化
合物とを反応させてスルフィド誘導体を製造する方法と
しては、例えば、銅粉及び炭酸カリウムの存在下、2-(3
-カルボキシメチル-4-ヨードフェニル)プロピオン酸と
チオフェノールとをN,N-ジメチルホルムアミド中にて11
5℃で反応させ、収率49%で2-(3-カルボキシメチル-4-
フェニルチオフェニル)プロピオン酸を得る方法が開示
されている(特開平10-226683号公報)。しかしなが
ら、この方法では、反応時間が長い上に、目的物の収率
が低く、工業的な製法としては満足出来るものではなか
った。 【0003】 【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、即
ち、上記問題点を解決し、フェニル酢酸誘導体から、簡
便な方法によって、高収率でスルフィド誘導体を製造す
る、工業的に好適なスルフィド誘導体の製法を提供する
ものである。 【0004】 【課題を解決するための手段】本発明の課題は、銅(I)
塩及び塩基の存在下、一般式(1) 【0005】 【化5】 【0006】(式中、Rは、水素原子又は一般式
(2) 【0007】 【化6】 【0008】(式中、R及びRは、水素原子又は炭
化水素基を示す。)で示されるカルボキシアルキル基を
示し、Xは、ハロゲン原子を示す。)で示されるフェニ
ル酢酸誘導体と一般式(3) 【0009】 【化7】 【0010】(式中、Rは、炭化水素基を示す。)で
示されるチオール化合物とを、130〜250℃にて自己圧下
で反応させることを特徴とする、一般式(4) 【0011】 【化8】 【0012】(式中、R及びRは、前記と同義であ
る。)で示されるスルフィド誘導体の製法によって解決
される。 【0013】 【発明の実施の形態】本発明の反応において使用するフ
ェニル酢酸誘導体は、前記の一般式(1)で示される。
その一般式(1)において、Rは、水素原子又は一般
式(2)で示されるカルボキシアルキル基である。 【0014】前記一般式(2)において、R及びR
は、水素原子又は炭化水素基を示すが、炭化水素基とし
ては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基、ノニル基、デシル基等のアルキル基;シクロプロピ
ル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキ
シル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロ
ノニル基、シクロデシル基等のシクロアルキル基;ベン
ジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等のア
ラルキル基が挙げられる。なお、これらの基は、各種異
性体を含む。 【0015】又、Xは、ハロゲン原子であり、例えば、
フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子である
が、好ましくは塩素原子、臭素原子である。 【0016】本発明の反応において使用するチオール化
合物は、前記の一般式(3)で示される。その一般式
(3)において、Rは、炭化水素基であり、例えば、
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、
デシル基等のアルキル基;シクロプロピル基、シクロブ
チル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロ
ヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シク
ロデシル基等のシクロアルキル基;ベンジル基、フェニ
ルエチル基、フェニルプロピル基等のアラルキル基;フ
ェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリ
ール基が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体
を含む。 【0017】前記チオール化合物の使用量は、フェニル
酢酸誘導体1molに対して、好ましくは1.0〜5.0mol、更
に好ましくは1.0〜3.0molである。 【0018】本発明の反応において使用する銅(I)塩と
しては、例えば、フッ化銅(I)、塩化銅(I)、臭化銅
(I)、ヨウ化銅(I)等のハロゲン化銅(I);酢酸銅(I)、硫
酸銅(I)、硝酸銅(I)等の銅酸塩(I);酸化銅(I);硫化銅
(I)が挙げられるが、好ましくはハロゲン化銅(I)、酸化
銅(I)、硫化銅(I)、更に好ましくはハロゲン化銅(I)、
硫化銅(I)が使用される。なお、これらの銅(I)塩は、単
独又は二種以上を混合して使用しても良い。 【0019】前記銅(I)塩の使用量は、フェニル酢酸誘
導体1molに対して、好ましくは0.001〜1mol、更に好ま
しくは0.01〜0.8molである。 【0020】本発明の反応において使用する塩基として
は、例えば、アンモニア(水溶液でも良い);水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物;
水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等のアルカリ土
類金属水酸化物が挙げられるが、好ましくはアルカリ金
属水酸化物、更に好ましくは水酸化ナトリウムが使用さ
れる。なお、これらの塩基は、単独又は二種以上を混合
して使用しても良い。 【0021】前記塩基の使用量は、フェニル酢酸誘導体
1molに対して、好ましくは1.0〜10mol、更に好ましくは
1.1〜5.0molである。 【0022】本発明の反応においては、反応液の均一性
や攪拌性を更に高めるために、溶媒を加えても良く、使
用する溶媒としては、反応を阻害しないものならば特に
限定されないが、水;メタノール、エタノール、イソプ
ロピルアルコール、t-ブチルアルコール等のアルコール
類;ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、1,
4-ジオキサン等のエーテル類が挙げられるが、好ましく
は水、アルコール類、更に好ましくは水が使用される。
なお、これらの溶媒は、単独又は二種以上を混合して使
用しても良い。 【0023】前記溶媒の使用量は、反応液の均一性や攪
拌性により適宜調節するが、フェニル酢酸誘導体1gに対
して、好ましくは1.0〜50g、更に好ましくは1.1〜20gで
ある。 【0024】本発明の反応は、例えば、不活性ガス雰囲
気にて、フェニル酢酸誘導体(アルカリ金属塩又はその
水溶液として使用しても良い)、チオール化合物、銅
(I)塩、塩基及び溶媒を混合し、130〜250℃にて自己圧
力下で攪拌しながら反応させる等の方法によって行われ
る。 【0025】本発明の反応は、密閉された反応器内で行
うのが好ましく、使用される反応器の具体例としては、
例えば、オートクレーブ等が挙げられる。 【0026】なお、本発明における自己圧力とは、反応
中に反応混合物又はその一部が気化することによって発
現する反応器内の圧力であり、通常、常圧よりも高い圧
力である。 【0027】なお、最終生成物であるスルフィド誘導体
は、反応終了後、例えば、濾過、抽出、濃縮、蒸留、再
結晶、晶析、カラムクロマトグラフィー等の一般的な方
法によって単離・精製される。 【0028】 【実施例】次に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明
するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではな
い。なお、実施例における定量は、以下の分析条件によ
り高速液体クロマトグラフィーを用いて絶対検量線法で
行った。 【0029】 高速液体クロマトグラフィーの分析条件: カラム ;COSMOSIL 5C18-AR(ナカライテスク社製) 4.6mmφ×250mm カラム温度;40℃ 溶出溶媒 ;アセトニトリル/水(=1/2(容量比)) (前記の水とは、リン酸水素二ナトリウム水溶液1.4g/l及びリン 酸でpH2.5に調整したものである。) 流速 ;1.0ml/min. 検出波長 ;250nm 保持時間 ;2-(3-カルボキシメチル-4-フェニルチオフェニル)プロピオン酸 20min. 2-フェニルチオフェニル酢酸 30min. 【0030】実施例1(2-(3-カルボキシメチル-4-フェ
ニルチオフェニル)プロピオン酸の合成) 攪拌装置、温度計及び圧力ゲージを備えた内容積2000ml
のオートクレーブに、純度97.5質量%の2-(4-ブロモ-3-
カルボキシメチルフェニル)プロピオン酸239g(811mmo
l)、95質量%チオフェノール110g(950mmol)、95質量%
臭化銅(I)7.3g(48mmol)、6mol/l水酸化ナトリウム水溶
液500ml(3.0mol)及び水500mlを加え、窒素雰囲気下、18
0℃にて自己圧力下(1.2MPa(ゲージ圧))で7時間反応さ
せた。反応終了後、室温まで冷却し、反応液を高速液体
クロマトグラフィーにより分析したところ、2-(3-カル
ボキシメチル-4-フェニルチオフェニル)プロピオン酸が
244g生成していた(反応収率:95%)。次いで、反応液に
6mol/l硫酸を加えてpH6.0とした後、水層を酢酸エチル
で洗浄した。更に、水層に6mol/l硫酸を加えてpH4.0と
した後、酢酸エチルで抽出し、有機層を分離して無水硫
酸マグネシウムで乾燥させた。濾過後、濾液を減圧下で
濃縮し、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(充填剤;ワコーゲルC-200(和光純薬社製)、展開溶
媒;酢酸エチル)により精製して、無色針状結晶として
2-(3-カルボキシメチル-4-フェニルチオフェニル)プロ
ピオン酸226gを得た(単離収率:88%)。なお、2-(3-カ
ルボキシメチル-4-フェニルチオフェニル)プロピオン酸
の物性値は以下の通りであった。 【0031】1H-NMR(CDCl3,δ(ppm));1.50(3H,d,J=7.3
Hz)、3.71(1H,q,J=7.3Hz)、3.81(1H,d,J=16.1Hz)、3.95
(1H,d,J=16.1Hz)、7.1〜7.4(8H,m)、8.0〜11.0(2H,brs) 【0032】実施例2(2-フェニルチオフェニル酢酸の
合成) 攪拌装置、温度計及び圧力ゲージを備えた内容積2000ml
のオートクレーブに、2-ブロモフェニル酢酸215g(1.0mo
l)、95質量%チオフェノール139g(1.2mol)、95質量%臭
化銅(I)9.1g(60mmol)、6mol/l水酸化ナトリウム水溶液3
30ml(2.0mol)及び水600mlを加え、窒素雰囲気下、180℃
にて自己圧力下(1.4MPa(ゲージ圧))で10時間反応させ
た。反応終了後、室温まで冷却し、反応液を高速液体ク
ロマトグラフィーにより分析したところ、2-フェニルチ
オフェニル酢酸が232g生成していた(反応収率:95%)。
次いで、反応液に6mol/l硫酸を加えてpH6.0とした後、
水層を酢酸エチルで洗浄した。更に、水層に6mol/l硫酸
を加えてpH4.0とした後、酢酸エチルで抽出し、有機層
を分離して無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。濾過
後、濾液を減圧下で濃縮し、濃縮物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(充填剤;ワコーゲルC-200(和光純
薬社製)、展開溶媒;トルエン/酢酸エチル=1/1(容量
比))により精製して、無色針状結晶として2-フェニル
チオフェニル酢酸220gを得た(単離収率:90%)。なお、
2-フェニルチオフェニル酢酸の物性値は以下の通りであ
った。 【0033】1H-NMR(CD3OD,δ(ppm));3.79(2H,s)、4.7
〜5.3(1H,brs)、7.0〜7.6(9H,m) 【0034】比較例1(2-フェニルチオフェニル酢酸の
合成) 攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積2000ml
のフラスコに、2-ブロモフェニル酢酸215g(1.0mol)、95
質量%チオフェノール139g(1.2mol)、95質量%臭化銅
(I)9.1g(60mmol)、6mol/l水酸化ナトリウム水溶液330ml
(2.0mol)及び水600mlを加え、窒素雰囲気下、100℃にて
常圧下で24時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却
し、反応液を高速液体クロマトグラフィーにより分析し
たところ、2-フェニルチオフェニル酢酸が4.6g生成して
いた(反応収率:2%)。 【0035】 【発明の効果】本発明により、フェニル酢酸誘導体か
ら、簡便な方法によって、高収率でスルフィド誘導体を
製造する、工業的に好適なスルフィド誘導体の製法を提
供することが出来る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐々木 浩史 山口県宇部市大字小串1978番地の5 宇部 興産株式会社宇部研究所内 (72)発明者 高橋 毅 山口県宇部市大字小串1978番地の5 宇部 興産株式会社宇部研究所内 Fターム(参考) 4H006 AA02 AC63 BC10 BC11 TA04 TB61

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】銅(I)塩及び塩基の存在下、一般式(1) 【化1】 (式中、Rは、水素原子又は一般式(2) 【化2】 (式中、R及びRは、水素原子又は炭化水素基を示
    す。)で示されるカルボキシアルキル基を示し、Xは、
    ハロゲン原子を示す。)で示されるフェニル酢酸誘導体
    と一般式(3) 【化3】 (式中、Rは、炭化水素基を示す。)で示されるチオ
    ール化合物とを、130〜250℃にて自己圧下で反応させる
    ことを特徴とする、一般式(4) 【化4】 (式中、R及びRは、前記と同義である。)で示さ
    れるスルフィド誘導体の製法。
JP2002107498A 2002-04-10 2002-04-10 スルフィド誘導体の製法 Expired - Fee Related JP3972715B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002107498A JP3972715B2 (ja) 2002-04-10 2002-04-10 スルフィド誘導体の製法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002107498A JP3972715B2 (ja) 2002-04-10 2002-04-10 スルフィド誘導体の製法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003300952A true JP2003300952A (ja) 2003-10-21
JP3972715B2 JP3972715B2 (ja) 2007-09-05

Family

ID=29391506

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002107498A Expired - Fee Related JP3972715B2 (ja) 2002-04-10 2002-04-10 スルフィド誘導体の製法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3972715B2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JP3972715B2 (ja) 2007-09-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
HU228197B1 (en) Stable salts of 3,3-diphenylpropylamines derivatives and preparation thereof
TW202000643A (zh) 製備一氧化氮供體型前列腺素類似物之方法
WO2008078482A1 (ja) アセナピン合成中間体の製造方法
TWI823808B (zh) 草銨膦的製備方法
WO2002014325A1 (fr) Cristaux de penicilline et procede de production correspondant
JP6478447B2 (ja) アダマンチル(メタ)アクリレート系化合物の製造方法
JP2003300952A (ja) スルフィド誘導体の製法
US7015353B2 (en) Process for the production of 9-(Z)-retinoic acid
EP3181545A1 (en) Method for producing triphenylbutene derivative
US7473803B2 (en) Process for production of optically active 2-halogeno-carboxylic acids
JP4109446B2 (ja) ジアステレオ異性体として純粋なトランス−2−[(α−メチルベンジル)アミノ]シクロペンタノールの製造方法
JPH0558970A (ja) 含窒素ペルフルオロカルボン酸の光学活性体及びその製造方法
JP3855686B2 (ja) 3,3−ジアルコキシ−2−ヒドロキシイミノ誘導体及びその製造法
JPS59110649A (ja) α−ビニルプロピオン酸エステルの製法
US10472312B2 (en) Method for producing phenoxyethanol derivative
JP2000034275A (ja) 13―シス―レチノイン酸の製造方法
JPH08333327A (ja) 1,4−架橋シクロヘキサン系カルボン酸誘導体の製造方法
SU963462A3 (ru) Способ получени 2-арилпропионовой кислоты
EP4371992A1 (en) Methods of preparing glufosinate
JPS60181066A (ja) 含フツ素及び含イオウα,β−不飽和カルボニル化合物及びその製造方法
JP2000212125A (ja) 含フッ素カルボン酸誘導体の製造法
JPH07224033A (ja) 光学活性アザスピロ化合物の製法
SK21993A3 (en) (r)-4-nitro-alfa-methyl-benzenemethanamine salts
JP2001322951A (ja) アルケン類の製造方法
JPH053870B2 (ja)

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040819

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070213

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070413

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Effective date: 20070522

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20070604

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 3

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100622

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110622

Year of fee payment: 4

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees