JP2003300227A - ディスク成形用金型 - Google Patents

ディスク成形用金型

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JP2003300227A
JP2003300227A JP2002105327A JP2002105327A JP2003300227A JP 2003300227 A JP2003300227 A JP 2003300227A JP 2002105327 A JP2002105327 A JP 2002105327A JP 2002105327 A JP2002105327 A JP 2002105327A JP 2003300227 A JP2003300227 A JP 2003300227A
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Japan
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film
mold
stamper plate
chromium nitride
molding die
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JP2002105327A
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English (en)
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Yasuyoshi Sakamoto
泰良 坂本
Makoto Iijima
良 飯島
Masahiko Sakurai
雅彦 桜井
Yuichi Inada
雄一 稲田
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Seikoh Giken Co Ltd
Sumitomo Heavy Industries Ltd
JFE Precision Corp
Original Assignee
Seikoh Giken Co Ltd
Sumitomo Heavy Industries Ltd
NKK Precision KK
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 金型基材に対する密着性および耐食性に優れ
るとともに、オレンジピールの発生がなく、長期間安定
して使用することのできるディスク成形用金型を提供す
る。 【解決手段】 スタンパプレート2の裏面を支持する金
型10のスタンパプレート支持面に、クロム窒化物を含
む皮膜3を形成してある。このクロム窒化物はCrNま
たはCr2Nを含み、少なくとも皮膜3の最表面に形成
される。また、皮膜3はアークイオンプレーティング法
によって形成される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、例えば光ディス
ク、光磁気ディスクなどの成形に用いられるディスク成
形用金型に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、この種のディスクの成形は、ス
タンパプレートを取り付けた金型のキャビティに溶融樹
脂を射出充填することで、ディスク基板の成形と同時に
スタンパプレートの表面形状をディスク基板に転写する
ことによって行われている。
【0003】このような成形工程では、高温状態の溶融
樹脂がキャビティに射出充填された瞬間、スタンパプレ
ートはその裏面を支持する金型のスタンパプレート支持
面に強く圧着しながら半径方向に延びようとする。その
ため、成形工程が繰り返し行われると、スタンパプレー
トが金型の支持面に強く圧着しながら半径方向に延びる
伸縮を繰り返すことになり、この過程で金型のスタンパ
プレート支持面は、スタンパプレートの裏面との摩擦に
より摩耗して摩耗粉が発生し、それがまとまって核とな
る固まりができる。すると、この固まりの跡が、スタン
パプレートの裏側からスタンパプレートを介してディス
ク基板に転写される(これを一般にオレンジピールとい
う。)という不具合が生じることになる。
【0004】そこで、従来のディスク成形用金型では、
このような摩耗を防止することで金型の耐久性を向上さ
せることを企図して、金型のスタンパプレート支持面
に、DLCなどのダイヤモンド状薄膜を被覆したり、ま
たは、TiNなどの薄膜を被覆することが行われてい
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の金型のスタンパプレート支持面に被覆される
薄膜には、つぎのような問題があった。
【0006】すなわち、DLCの場合は、皮膜が硬いう
えに摩擦係数が小さいことから、長期間継続して使用で
きるという利点があるが、金型基材に対する皮膜の密着
性が悪いうえに密着特性のばらつきが多いため、使用途
中で皮膜が突然剥離することがある。
【0007】また、TiNの場合は、DLCのような皮
膜剥離の虞はないが、硬度、摩擦係数ともDLCに劣る
うえ比較的短期間でオレンジピールを発生し易いため、
DLCのように長期間継続して使用することができな
い。また、耐食性もDLCに劣る。
【0008】この発明の課題は、上記従来のもののもつ
問題点を排除して、金型基材に対する密着性および耐食
性に優れるとともに、オレンジピールの発生がなく、長
期間安定して使用することのできるディスク成形用金型
を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】この発明は上記課題を解
決するものであって、請求項1に係る発明は、スタンパ
プレートの裏面を支持する金型のスタンパプレート支持
面に、クロム窒化物を含む皮膜を形成したディスク成形
用金型である。
【0010】請求項2に係る発明は、請求項1記載の発
明において、前記クロム窒化物はCrNまたはCr2N
を含み、このクロム窒化物が少なくとも前記皮膜の最表
面に形成されるディスク成形用金型である。
【0011】請求項3に係る発明は、請求項1または請
求項2記載の発明において、前記皮膜の表面をX線回折
したときに同定されるクロム窒化物がCrNまたはCr
2Nを含むディスク成形用金型である。
【0012】請求項4に係る発明は、請求項1、2また
は3記載の発明において、前記皮膜はアークイオンプレ
ーティング法によって形成されるディスク成形用金型で
ある。
【0013】
【発明の実施の形態】この発明の実施の形態を、図面を
参照して説明する。図1は、この発明によるディスク成
形用金型の一実施の形態を示す要部の断面図であり、こ
のディスク成形用金型1は、スタンパプレート2を装着
する固定側金型10のスタンパプレート支持面に、クロ
ム窒化物を含む皮膜3を形成したものである。
【0014】固定側金型10は、中央にスプルーブッシ
ュ11を備えるとともに、周囲に突き当てリング13を
備えている。一方、可動側金型20は、中央にカットパ
ンチ21が配置されるとともに、周囲に外周リング23
を備えている。そして、突き当てリング13に外周リン
グ23を突き当てたとき両金型10、20間に形成され
るキャビティ30に、スプルー12から溶融樹脂をその
樹脂の流れを制御するゲート部31を通って射出し、加
圧充填することで、ディスク基板を成形すると同時にそ
のディスク基板にスタンパプレート2の表面形状を転写
して所定のディスクを成形するものである。
【0015】皮膜3に用いられるクロム窒化物はCrN
またはCr2Nを含み、このクロム窒化物CrNまたは
Cr2Nが少なくとも皮膜3の最表面に形成されてい
る。また、皮膜3の表面をX線回折したときに同定され
るクロム窒化物がCrNまたはCr2Nを含む。具体的
には、CrN、Cr+Cr2N、Cr+Cr2N+Cr
N、Cr2N+CrN、のいずれかからなる薄膜材料を
固定側金型10のスタンパプレート支持面に被覆するこ
とで、皮膜3を形成する。このような皮膜3の形成は、
図2に示すようなアークイオンプレーティング(AI
P)法によって実現される。
【0016】アークイオンプレーティング(AIP)法
は、真空アーク放電を利用してターゲットとなる皮膜材
料を蒸気化・イオン化し、被コーティング物の表面に密
着力に優れた各種硬質皮膜を形成するものであり、図2
に示すような成膜装置50を用いて実行される。
【0017】図2に示すように、成膜装置50は真空チ
ャンバ51を備え、真空チャンバ51内には、皮膜材料
である金属ターゲット(蒸発源)52が、アーク電源5
3の陰極側に接続されてカソードとして適宜の位置に配
置されるとともに、アーク電源53の陽極側に接続され
たアノードもカソードの近傍適宜位置に配置されてい
る。また、真空チャンバ51内には、被コーティング物
54を保持する回転テーブル55が、被コーティング物
に負のバイアス電圧を印加するバイアス電源56に接続
されて適宜の位置に配置されている。さらに、真空チャ
ンバ51には、反応ガスの導入口57および排出口58
が設けられ、それぞれ図示しないガス供給源および排気
ポンプに接続されている。
【0018】アークイオンプレーティング法によれば、
真空中で、金属ターゲット(蒸発源)52を陰極として
アーク放電を起こすと、アークはターゲット表面上にア
ークスポットを形成し、ターゲット表面上をランダムに
走り回る。アークスポットに集中するアーク電流(例え
ば70〜200A)のエネルギにより、金属ターゲット
(蒸発源)52は瞬時に蒸発すると同時に金属イオンと
なり、真空中に飛び出す。一方、バイアス電圧を被コー
ティング物54に印加することにより、この金属イオン
は加速され、反応ガス粒子とともに被コーティング物5
4の表面に密着し、緻密な膜を生成する。
【0019】このように、アークイオンプレーティング
法によれば、アークスポットに集中する極めて高いエネ
ルギを利用しているため、各種の硬質皮膜をはじめほと
んどすべての金属皮膜を簡単にコーティングすることが
できる。また、蒸発源の蒸発はアークスポットの近傍で
のみ起こり、他の部分は冷却状態であるため、蒸発源全
体としてはつねに固体のままに保たれる。また、被コー
ティング物54に応じてカソードの取付位置・姿勢を自
由に選ぶことができる。
【0020】図3は、この発明によるディスク成形用金
型1に用いる皮膜3の材料(CrN、Cr2N)と、従
来用いられている皮膜の材料(DLC、TiN)との比
較を各種特性について示す図表である。
【0021】図3から明らかなように、クロム窒化物
(CrN、Cr2N)を含む皮膜を形成した金型は、皮
膜を厚く形成しても反りなどの問題を生じることがな
く、また、皮膜が比較的軟らかいため、表面に傷がつい
ても再研磨することによって容易に再使用できる。した
がって、DLCを被覆した金型のように、皮膜剥離した
金型を修理するために、皮膜剥離→基材の肉盛り→研磨
→再コートという修理作業が不要となるので、修理費用
を含めた金型の費用を低減することができる。また、デ
ィスクのショット数が数十万(50万)枚以上でも、D
LCのように皮膜剥離を起こすことがなく、また、Ti
N皮膜のように数万ショットでオレンジピールを発生す
ることもないため、長期間安定した品質のディスクを製
造することができる。また、耐食性に優れているため、
成形過程で樹脂などから腐食性のガスが発生した場合で
も、孔食などの問題を生じることがない。
【0022】なお、上記の実施の形態では、スタンパプ
レート2を装着する固定側金型10のスタンパプレート
支持面に、クロム窒化物を含む皮膜3を形成したが、こ
れに限定するものでなく、例えば、可動側金型20にス
タンパプレート2を装着する場合は、スタンパプレート
2を装着する可動側金型20のスタンパプレート支持面
に、クロム窒化物を含む皮膜3を形成することはもちろ
んである。
【0023】また、上記の実施の形態におけるクロム窒
化物は、クロムと窒素からなるものだけに限定されるも
のではなく、目的によってはその固溶限界内において、
クロムの一部をB,Al,Si,Y,Ti,Zr,H
f,V,Nb,Ta,Mo,W等の1種以上で置換し、
皮膜物性を微妙に変化させてもよい。
【0024】さらに、この発明のクロム窒化物皮膜の形
成には、アークイオンプレーティング法が好適に用いら
れるが、目的によっては、例えばスパッタ法などのPV
D法を用いてもよいことはもちろんである。
【0025】
【発明の効果】この発明は以上のように、スタンパプレ
ートの裏面を支持する金型のスタンパプレート支持面
に、クロム窒化物を含む皮膜を形成することでディスク
成形用金型を構成したので、金型基材に対する密着性お
よび耐食性に優れるとともに、オレンジピールの発生が
なく、そのためディスク成形用金型を長期間安定して使
用することができるとともに、スタンパプレートも長期
間安定して使用することができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明によるディスク成形用金型の一実施の
形態を示す要部の断面図である。
【図2】アークイオンプレーティング法による皮膜の形
成方法に用いる成膜装置の基本構成を示す概略的説明図
である。
【図3】この発明によるディスク成形用金型に用いる皮
膜の材料と、従来用いられている皮膜の材料との比較を
各種特性について示す図表である。
【符号の説明】
1 ディスク成形用金型 2 スタンパプレート 3 皮膜 10 固定側金型 11 スプルーブッシュ 12 スプルー 13 突き当てリング 20 可動側金型 21 カットパンチ 23 外周リング 30 キャビティ 31 ゲート部 50 成膜装置 51 真空チャンバ 52 金属ターゲット(蒸発源) 53 アーク電源 54 被コーティング物 55 回転テーブル 56 バイアス電源 57 反応ガス導入口 58 排気口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 坂本 泰良 千葉県松戸市松飛台286番地の23 株式会 社精工技研内 (72)発明者 飯島 良 千葉県松戸市松飛台286番地の23 株式会 社精工技研内 (72)発明者 桜井 雅彦 新潟県新潟市上王瀬町2番3号 エヌケー ケー精密株式会社内 (72)発明者 稲田 雄一 千葉県千葉市稲毛区長沼原町731番地の1 住友重機械工業株式会社千葉製造所内 Fターム(参考) 4F202 AG19 AH38 AH79 AJ02 AJ09 AJ11 CA11 CB01 CD22

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 スタンパプレートの裏面を支持する金型
    のスタンパプレート支持面に、クロム窒化物を含む皮膜
    を形成したことを特徴とするディスク成形用金型。
  2. 【請求項2】 前記クロム窒化物はCrNまたはCr2
    Nを含み、このクロム窒化物が少なくとも前記皮膜の最
    表面に形成されることを特徴とする請求項1記載のディ
    スク成形用金型。
  3. 【請求項3】 前記皮膜の表面をX線回折したときに同
    定されるクロム窒化物がCrNまたはCr2Nを含むこ
    とを特徴とする請求項1または請求項2記載のディスク
    成形用金型。
  4. 【請求項4】 前記皮膜はアークイオンプレーティング
    法によって形成されることを特徴とする請求項1、2ま
    たは3記載のディスク成形用金型。
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