JP2003293178A - 水処理薬剤の製造法 - Google Patents
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Abstract
槽において、陽極液の循環工程や食塩水の精製装置を必
要とせず、Ca2+、Mg2+などの濃度1.0〜1
0.0ppmの範囲において長期にわたり高い電流効率
で有効塩素濃度2〜6重量%の次亜塩素酸アルカリ溶液
を製造することができる、水処理薬剤の製造法を提供す
る。 【解決手段】 隔膜式電解槽にて有効塩素濃度2〜6重
量%の次亜塩素酸アルカリを含む水処理剤を製造する。
使用する陽極が金属チタンまたはその合金からなる導電
性基材上に白金族金属またはその酸化物を含む電極活性
物質からなる被覆層を被着してなる。使用するイオン交
換膜は交換基としてスルホン酸基のみを有する。得られ
る塩化アルカリ溶液中の不純物Ca2+、Mg2+の濃
度は1.0〜10.0ppm、好ましくは1.0〜3.
0ppmの範囲にある。
Description
む水処理剤の製造法に関し、より詳しくは、水処理施設
に近接して塩化アルカリ電解槽を設け、次亜塩素酸アル
カリ溶液を生成させ、処理すべき水にこれを直接供給す
るオンサイト方式による水処理用薬剤の製造法に関す
る。
は通常塩素処理法が用いられているが、その塩素源とし
ては高圧での塩素ガスの液化により得られボンベに充填
された液体塩素、あるいは次亜塩素酸ソーダが使用され
ている。高圧ボンベの取り扱いはボンベ自体の重量が相
当あり、しかも内容物が高圧でかつ有毒であるので、そ
の取り扱いには熟練した専門家を必要とする。また、次
亜塩素酸ソーダ溶液の場合もこれを一定濃度の水溶液と
して製造工場より使用個所へ運搬し、使用に適した濃度
および添加量に調整するため、多くの手間や付帯設備が
必要である。更に次亜塩素酸ソーダ製品の濃度は通常1
2%程度であり、このような水溶液を運搬することは多
量の水を運ぶことになり不経済でもある。それ故、最近
では水処理施設に近接して小型の隔膜式塩化アルカリ電
解槽を設備して飽和食塩水を電解して陽極室より塩素ガ
スを、陰極室より苛性ソーダ溶液をそれぞれ生成し、別
に設けた反応室で塩素と苛性ソーダを反応させて次亜塩
素酸ソーダ溶液を得る方法が行われつつある。このオン
サイト方式によれば、通電量を調節することにより生産
量を調節しうる上に、上述のような多量の水を運ぶ無駄
も省ける。 このようなオンサイト方式の小型隔膜式電
解槽では、隔膜として合成樹脂製のものを用いて陽極液
を陰極液( 苛性アルカリ液)と混合し、陽極室で発生す
る塩素ガスを電解槽に付設した反応室で陰極液に添加し
て次亜塩素酸アルカリ溶液を製造し、これをそのまま水
処理用薬剤として使用する方法が一般的である( 特公昭
57−53436号、特開昭57−94579号) 。
亜塩素酸アルカリ溶液中の有効塩素濃度が1重量%以下
であれば好適な高電流効率を維持しうるが、有効塩素濃
度を3〜4重量%に上げ塩水の分解率を高めようとする
と、電流効率が大幅に低下する欠点がある。また隔膜と
して陽イオン交換膜を使用して陰極液中の苛性アルカリ
濃度を高め、これを塩素ガスと反応させて次亜塩素酸ア
ルカリ溶液を製造する方式は、電解後の陽極液を塩化ア
ルカリで再飽和させ電解槽へ循環させる工程を必要とす
る。さらに電解に用いる食塩水にはCa2+、Mg2+
などの不純物が1〜10ppm含まれているため、イオ
ン交換膜が短時間で使用不能に陥るという問題があっ
た。これを解決するために食塩水精製装置を付設するこ
とによりこれらの濃度を数十ppb〜0.1ppm程度
まで低下させる必要があった。その結果、電解設備が大
型化しかつ作業工程が煩雑となり、これを水処理施設に
近接して設けるには問題が多い。また隔膜としてアスベ
スト隔膜を使用する方式は、陽極液を循環させない利点
はあるが、陽イオン交換膜法に比較して相対的に電流効
率が低く、かつアスベスト隔膜の耐用年数が短いという
難点がある。
に鑑み、イオン交換膜を用いたオンサイト方式の電解槽
において、陽極液の循環工程や食塩水の精製装置を必要
とせず、Ca2+、Mg 2+などの濃度1.0〜10.
0ppmの範囲において長期にわたり高い電流効率で有
効塩素濃度2〜6重量%の次亜塩素酸アルカリ溶液を製
造することができる、水処理薬剤の製造法を提供するこ
とを課題とする。
膜により陽極室と陰極室に仕切られてなる隔膜式電解槽
にて、陽極室に塩化アルカリ溶液、陰極室に水を供給し
ながら塩化アルカリの分解率50〜70%で電解を行
い、上記電解槽から陽極液、陰極液および塩素ガスを反
応槽へ導いて反応させ、有効塩素濃度2〜6重量%の次
亜塩素酸アルカリを含む水処理剤を製造する方法におい
て、使用する陽極が金属チタンまたはその合金からなる
導電性基材上に白金族金属またはその酸化物を含む電極
活性物質からなる被覆層を被着してなり、使用するイオ
ン交換膜が交換基としてスルホン酸基のみを有し、得ら
れる塩化アルカリ溶液中の不純物Ca2+、Mg2+の
濃度が1.0〜10.0ppm、好ましくは1.0〜
3.0ppmの範囲にあることを特徴とする水処理薬剤
の製造法である。
好ましくは、白金族金属またはその酸化物に加えてさら
にバルブ金属酸化物を含む。電極活性物質は、酸化イリ
ジウムを電極活性物質中の全金属量中金属イリジウムと
して10〜70重量%、酸化ルテニウムを電極活性物質
中の全金属量中金属ルテニウムとして5〜50重量%、
白金を電極活性物質中の全金属量中白金金属として5〜
50重量%、および/または、バルブ金属酸化物を電極
活性物質中の全金属量中バルブ金属として20〜60重
量%含むものであってよい。バルブ金属酸化物は酸化チ
タンであってよい。
詳しく説明する。
より陽極室(5) と陰極室(6) に仕切られ、陽極室(5) に
は陽極(3) が、陰極室(6) には陰極(4) がいずれも垂直
に配置されている。塩化アルカリ溶液は導管(7) より塩
素ガス分離器(8) を経て陽極室(5) の下部に導入され
る。注加用水は導管(9) より水素ガス分離器(10)を経て
陰極室(6) の下部に導入される。電解後、陽極液は発生
塩素ガスのガスリフト効果により塩素ガス分離器(8) に
循環され、ここで分離された塩素ガスは導管(11)によ
り、陽極液は導管(12)によりいずれも反応槽(13)に導か
れる。他方、陰極室(6) において生成した苛性アルカリ
溶液(陰極液)は発生水素ガスのガスリフト効果により
水素ガス分離器(10)に循環され、ここで分離された水素
ガスは導管(16)より取り出され、陰極液は導管(14)によ
り反応槽(13)に導かれる。反応槽(13)においては、塩素
ガス、陽極液および陰極液が反応して所定濃度の次亜塩
素酸アルカリ溶液が生成され、水処理薬剤として導管(1
5)より取り出される。
50%未満であると塩化アルカリの利用率が悪く、逆に
70%を超えると電解電圧が上昇して好ましくない。ま
た生成する次亜塩素酸アルカリ溶液の有効塩素濃度を2
〜6重量%、好ましくは3〜5重量%に保つには、陰極
液の苛性アルカリ濃度を3〜12重量%、好ましくは
4.5〜9重量%に保つ必要がある。この場合、電流効
率は85〜95%程度の高い値を示す。苛性アルカリ濃
度が上記範囲より低い場合は電解電圧が上昇し、逆に上
記範囲より高い場合は電流効率が低下する。電流密度は
10〜50A/dm2 で運転される。本発明における
有効塩素濃度は、一般的によう素滴定法(例えばKI水
溶液と反応して生成するI2 の量からCl2量を算出
する)により求められる。
ンまたはその合金からなる導電性基材上に白金族金属ま
たはその酸化物を含む電極活性物質からなる被覆層を被
着することにより構成されている。
ることができる。被覆層中の白金量は好ましくは5〜5
0重量%、より好ましくは10〜40重量%である。白
金量がこの範囲より少ないと電極が耐久性に劣り、この
範囲より多いとコストの面で不利である。
ムが特に好ましい。被覆層中の酸化イリジウム量は電極
活性物質中の全金属量中金属イリジウム換算で好ましく
は10〜70重量%、より好ましくは20〜65重量%
である。イリジウム量がこの範囲より少ないと電極が耐
久性に劣り、この範囲より多いとコストの面で不利とな
る。それ以外の白金族金属酸化物としてたとえば酸化ル
テニウムを用いることができる。被覆層中の酸化ルテニ
ウム量は電極活性物質中の全金属量中金属ルテニウム換
算で好ましくは5〜50重量%、より好ましくは10〜
40重量%である。ルテニウム量がこの範囲より少ない
と電極が耐久性に劣る上に電解電圧が上昇して電力の浪
費となり、この範囲より多いとコストの面で不利であ
る。
属の酸化物を含む。バルブ金属はチタン、タンタル、ニ
オブ、もしくはこれらの合金であってよい。被覆層中の
バルブ金属酸化物量は、電極活性物質中の全金属量中バ
ルブ金属換算で好ましくは20〜60重量%、より好ま
しくは25〜50重量%である。バルブ金属量がこの範
囲よりも少ないと白金族金属酸化物の密着力が低下し、
電極寿命が短くなり、この範囲よりも多いと白金族金属
またはその酸化物の量が少なくなるため、電極の寿命が
短くなる。
金属、白金属金属の酸化物、およびバブル金属の酸化物
から選ばれた2種以上を用いるのが好ましい。
a2+、Mg2+などの濃度は1.0〜10.0ppm
の範囲であり、かつ使用するイオン交換膜は、交換基が
スルホン酸基のみにより構成されたものである必要があ
る。イオン交換膜が交換基としてスルホン酸基以外に、
たとえばカルボン酸基などを含んでいる場合、食塩水に
含まれる1.0〜10.0ppmという高濃度の不純物
Ca2+、Mg2+などの影響で短時間で使用不能に陥
るため、このようなイオン交換膜は本発明に使用できな
い。
明はこれに限定されるものではない。
ソーダ溶液を連続的に製造した。電解槽はチタンおよび
ステンレス製のフィルタープレス型であり、反応槽は約
20Lのチタンおよびポリ塩化ビニル製であり、陽イオ
ン交換膜としてナフィオン324(デュポン社製品の商
品名)を使用した。また陽極はメッシュ状のチタンに酸
化イリジウム、白金、酸化ルテニウムおよび酸化チタン
を混合物として担持させたものであり、その比率は金属
換算でイリジウム20%、白金20%、ルテニウム10
%、チタン50%である。(350×500mm有効面
積17.5dm 2)陰極はSUS316製である。以下
に示すような電解条件にて電解を行った。
注加水量を上記の範囲で調節することにより、次亜塩素
酸ソーダ溶液の生産量を7〜13L/hrの範囲で変化
させた。この間、食塩分解率61〜70%、電解電圧
4.5〜5.0V、電流効率85〜95%、有効塩素濃
度3〜5重量%の範囲を保持した。
化ルテニウムを混合物として担持させ、これらの比率が
金属換算で白金50%、ルテニウム50%である以外
は、実施例1と同様にして次亜塩素酸ソーダ溶液を連続
的に製造した。実施例1と同様の性能が得られた。
ジウム、白金および酸化チタンを混合物として担持さ
せ、これらの比率が金属換算でイリジウム60%、白金
10%、酸化チタン30%である以外は、実施例1と同
様にして次亜塩素酸ソーダ溶液を連続的に製造した。実
施例1と同様の性能が得られた。
る。
ける苛性アルカリ濃度が従来の場合(約30重量%)よ
りはるかに低く約7重量%であるので、該濃度の高い場
合に起こりやすい陰極液の陽極室へのバックマイグレー
ション現象の恐れがなく、高い電流効率を維持しうる。
電解効率で製造される苛性アルカリ溶液を陰極液と反応
させ、得られた反応液をそのまま水処理薬剤として使用
するので、従来のイオン交換膜電解のごとく電解後の塩
素を含む陽極液を塩化アルカリで再飽和させ電解槽へ循
環させる工程を必要とせず、工程の簡易化が図られ、か
つ環境汚染防止に有効である。
複合膜を使用するイオン交換膜電解法においては、溶液
中のカルシウム、マグネシウムなどの不純物により、イ
オン交換膜が使用不能になるなどの問題があるため、使
用する塩水を高度に精製する必要があるが、本発明では
イオン交換膜としてスルホン酸基のみを有するものを用
いるため、塩水の高度の精製を必要とせず、処理設備の
簡素化が図られる。
化イリジウムを金属イリジウムとして10〜70重量%
含む電極活性物質からなる被覆層で覆われているので、
電極の長寿命化が達成される。
る。
Claims (7)
- 【請求項1】 陽イオン交換膜により陽極室と陰極室に
仕切られてなる隔膜式電解槽にて、陽極室に塩化アルカ
リ溶液、陰極室に水を供給しながら塩化アルカリの分解
率50〜70%で電解を行い、上記電解槽から陽極液、
陰極液および塩素ガスを反応槽へ導いて反応させ、有効
塩素濃度2〜6重量%の次亜塩素酸アルカリを含む水処
理剤を製造する方法において、 使用する陽極が金属チタンまたはその合金からなる導電
性基材上に白金族金属またはその酸化物を含む電極活性
物質からなる被覆層を被着してなり、使用するイオン交
換膜は交換基としてスルホン酸基のみを有し、得られる
塩化アルカリ溶液中の不純物Ca2+およびMg2+の
濃度が1.0〜10.0ppmの範囲にあることを特徴
とする水処理薬剤の製造法。 - 【請求項2】 電極活性物質がさらにバルブ金属酸化物
を含むことを特徴とする請求項1記載の水処理薬剤の製
造法。 - 【請求項3】 電極活性物質が酸化イリジウムを電極活
性物質中の全金属量中金属イリジウムとして10〜70
重量%含む請求項1または2記載の水処理薬剤の製造
法。 - 【請求項4】 電極活性物質が酸化ルテニウムを電極活
性物質中の全金属量中金属ルテニウムとして5〜50重
量%含む請求項1または2記載の水処理薬剤の製造法。 - 【請求項5】 電極活性物質が白金を電極活性物質中の
全金属量中白金金属として5〜50重量%含む請求項1
または2記載の水処理薬剤の製造法。 - 【請求項6】 電極活性物質がバルブ金属酸化物を電極
活性物質中の全金属量中バルブ金属として20〜60重
量%含む請求項1または2記載の水処理薬剤の製造法。 - 【請求項7】 バルブ金属酸化物が酸化チタンである請
求項6記載の水処理薬剤の製造法。
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|---|---|---|---|
| JP2002102207A JP2003293178A (ja) | 2002-04-04 | 2002-04-04 | 水処理薬剤の製造法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003293178A true JP2003293178A (ja) | 2003-10-15 |
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| JP2002102207A Pending JP2003293178A (ja) | 2002-04-04 | 2002-04-04 | 水処理薬剤の製造法 |
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| JP (1) | JP2003293178A (ja) |
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