CN103638884A - 一种用于吡喹酮生产的工艺改进系统 - Google Patents
一种用于吡喹酮生产的工艺改进系统 Download PDFInfo
- Publication number
- CN103638884A CN103638884A CN201310637029.6A CN201310637029A CN103638884A CN 103638884 A CN103638884 A CN 103638884A CN 201310637029 A CN201310637029 A CN 201310637029A CN 103638884 A CN103638884 A CN 103638884A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- praziquantel
- membrane
- electrodialysis
- improved system
- producing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
Abstract
本发明涉及一种用于吡喹酮生产的工艺改进系统,包括反应罐、进料管、电渗析池、电渗析装置、出料管,所述的电渗析装置包括逆变电源、阳极、阴极、阳离子膜、阴离子膜;所述的阳离子膜与所述的阴离子膜有多组对,且呈均匀间隔排列,将所述的电渗析池分成若干个区域;所述的进料管的出口有多个,间隔对应所述的区域。本发明采用电渗析装置,可将生产吡喹酮过程产生产碱液进行电渗析,可通过出料管回收99%的氢氧化钠溶液,回收的氢氧化钠溶液可循环用于吡喹酮的工业生产,减少对环境的污染。
Description
技术领域
本发明涉及化工领域。
背景技术
吡喹酮又名环吡异喹酮、8440,为广谱抗寄生虫病药物。目前合成吡喹酮以苯乙胺和氯乙酰氯为起始原料,经酰化、烷基化、Bischler-Napieralski环合反应、肼解还原,制得关键中间体(6),与环已烷甲酰氯酰化、再用氯乙酰氯酰化,最后在50%NaOH溶液中环合,制得目标物吡喹酮。在合成过程中,会产生大量的碱性废液,处理不当,会对环境造成污染,目前采取用酸来中和,但排放液体中含高浓度的盐,对环境产生不良影响。
发明内容
发明目的:为克服上述缺陷,本发明提供一种能高效回收碱液、减少对环境污染的工艺系统。
技术方案:一种用于吡喹酮生产的工艺改进系统,包括反应罐、进料管、电渗析池、电渗析装置、出料管,所述的电渗析装置包括逆变电源、阳极、阴极、阳离子膜、阴离子膜;所述的阳离子膜与所述的阴离子膜有多组对,且呈均匀间隔排列,将所述的电渗析池分成若干个区域;所述的进料管的出口有多个,间隔对应所述的区域。
作为优选,所述的电渗析池中装有多个离子膜槽,所述的阳离子膜、阴离子膜安装于该离子膜槽中。
有益的效果:由于采用电渗析装置,可将生产吡喹酮过程产生产碱液进行电渗析,可通过出料管回收99%的氢氧化钠溶液,回收的氢氧化钠溶液可循环用于吡喹酮的工业生产,减少对环境的污染;另外采用逆变电源可根据需要调节脉冲及电流方向,可避免离子膜被堵塞。
附图说明
图1为本发明的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实例对本发明型技术作进一步说明,但本发明的保护范围不限于下述的实例。
如图1所示,一种用于吡喹酮生产的工艺改进系统,包括反应罐1、进料管2、电渗析池3、电渗析装置、出料管9,所述的电渗析装置包括逆变电源4、阳极5、阴极6、阳离子膜7、阴离子膜8;所述的阳离子膜7与所述的阴离子膜8有多组对,且呈均匀间隔排列,将所述的电渗析池3分成若干个区域;所述的进料管2的出口有多个,间隔对应所述的区域。所述的电渗析池3中装有多个离子膜槽,所述的阳离子膜7、阴离子膜8间隔安装于该离子膜槽中。当生产吡喹酮的反应罐1中产生的碱液经进料管2进入电渗析池3中,电渗析装置通电工作,逆变电源4设定电流大小、电流脉冲频率,碱液中的钠离子、氢氧根离子在阳极5、阴极6的导向下,分别通过阳离子膜7、阴离子膜8进入电渗析池3中的相间隔的区域中,形成高浓度的氢氧化钠溶液,可通过出料管9回收利用,既节约了生产成本,经长时间电渗析,会有杂质堵塞阳离子膜7、阴离子膜8,可调整提高逆变电源4的脉冲频率,冲洗附在离子膜7、阴离子膜8上的杂质,达到清洁的作用。
Claims (2)
1.一种用于吡喹酮生产的工艺改进系统,其特征在于:包括反应罐(1)、进料管(2)、电渗析池(3)、电渗析装置、出料管(9),所述的电渗析装置包括逆变电源(4)、阳极(5)、阴极(6)、阳离子膜(7)、阴离子膜(8);所述的阳离子膜(7)与所述的阴离子膜(8)有多组对,且呈均匀间隔排列,将所述的电渗析池(3)分成若干个区域;所述的进料管(2)的出口有多个,间隔对应所述的区域。
2.根据权利要求1所述的用于吡喹酮生产的工艺改进系统,其特征在于:所述的电渗析池(3)中装有多个离子膜槽,所述的阳离子膜(7)、阴离子膜(8)间隔安装于该离子膜槽中。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201310637029.6A CN103638884A (zh) | 2013-11-29 | 2013-11-29 | 一种用于吡喹酮生产的工艺改进系统 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201310637029.6A CN103638884A (zh) | 2013-11-29 | 2013-11-29 | 一种用于吡喹酮生产的工艺改进系统 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN103638884A true CN103638884A (zh) | 2014-03-19 |
Family
ID=50244251
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201310637029.6A Pending CN103638884A (zh) | 2013-11-29 | 2013-11-29 | 一种用于吡喹酮生产的工艺改进系统 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN103638884A (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018063472A1 (en) | 2016-09-27 | 2018-04-05 | Reyoung Corporation | Compositions for treating parasitic diseases and methods thereof |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN2361641Y (zh) * | 1999-01-28 | 2000-02-02 | 袁启桓 | 生产酸碱的电泳池 |
JP2003293178A (ja) * | 2002-04-04 | 2003-10-15 | Daiso Co Ltd | 水処理薬剤の製造法 |
WO2010013519A1 (ja) * | 2008-07-31 | 2010-02-04 | 三菱電機株式会社 | 殺菌・抗菌装置 |
CN202744628U (zh) * | 2012-08-03 | 2013-02-20 | 库特勒自动化系统(苏州)有限公司 | 硅晶片碱腐蚀废液的回收处理系统 |
CN203591790U (zh) * | 2013-11-29 | 2014-05-14 | 南通诚信氨基酸有限公司 | 一种用于吡喹酮生产的工艺改进系统 |
-
2013
- 2013-11-29 CN CN201310637029.6A patent/CN103638884A/zh active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN2361641Y (zh) * | 1999-01-28 | 2000-02-02 | 袁启桓 | 生产酸碱的电泳池 |
JP2003293178A (ja) * | 2002-04-04 | 2003-10-15 | Daiso Co Ltd | 水処理薬剤の製造法 |
WO2010013519A1 (ja) * | 2008-07-31 | 2010-02-04 | 三菱電機株式会社 | 殺菌・抗菌装置 |
CN202744628U (zh) * | 2012-08-03 | 2013-02-20 | 库特勒自动化系统(苏州)有限公司 | 硅晶片碱腐蚀废液的回收处理系统 |
CN203591790U (zh) * | 2013-11-29 | 2014-05-14 | 南通诚信氨基酸有限公司 | 一种用于吡喹酮生产的工艺改进系统 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018063472A1 (en) | 2016-09-27 | 2018-04-05 | Reyoung Corporation | Compositions for treating parasitic diseases and methods thereof |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101475276B (zh) | 氧化铁生产废水的处理方法 | |
CN104278288A (zh) | 一种连续电解制备高纯四丁基氢氧化铵的方法 | |
KR101955889B1 (ko) | 담수설비 농축수를 이용한 이산화탄소 제거장치 및 이를 이용한 이산화탄소 제거방법 | |
JP2013173629A (ja) | 高純度水酸化リチウムの製造方法 | |
CN104724795B (zh) | 一种处理含镍废水的电化学处理系统和电化学方法 | |
CN202400859U (zh) | 一种氯酸盐分解装置 | |
CN104310543B (zh) | 电渗析法分离络合态dtpa与硬度离子的方法 | |
CN106865833B (zh) | 一种粘胶纤维纺丝中酸性废水的电渗析膜回收工艺 | |
CN203591790U (zh) | 一种用于吡喹酮生产的工艺改进系统 | |
JP2009231238A (ja) | 廃棄電解液のリサイクル方法 | |
CN103638884A (zh) | 一种用于吡喹酮生产的工艺改进系统 | |
CN102698603A (zh) | 一种酒石酸的生产方法 | |
CN102295330A (zh) | 一种同步处理重金属废液与废酸的反应方法 | |
CN107602394A (zh) | 双极膜电渗析制备n,n,n‑三甲基‑1‑金刚烷基氢氧化铵的方法 | |
CN208320492U (zh) | 一种用于工业废水处理的电渗析装置 | |
CN102839396A (zh) | 一种用于金属氯化物精炼的膜电积槽 | |
CN101812700A (zh) | 一种用于酯类水解的双极膜电解方法 | |
CN108452681A (zh) | 一种用于工业废水处理的电渗析装置 | |
CN211620029U (zh) | 一种高效除杂的电化学装置 | |
JP2016503343A (ja) | 電気透析によって水溶液の脱塩を行う方法、および装置 | |
CN209752632U (zh) | 一种制备高纯度有机碱的两隔室双极膜电渗析装置 | |
CN204162487U (zh) | 电渗析法分离络合态dtpa与硬度离子的装置 | |
CN108409577B (zh) | 一种由三乙胺盐酸盐回收三乙胺的双极膜电渗析方法 | |
CN108622858B (zh) | 一种季胺酯溴盐的清洁生产零排放方法 | |
CN112191103A (zh) | 一种利用双极膜电渗析系统精制聚醚多元醇的方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20140319 |