JP2003292551A - 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 透明性が高く厚さの均一性の高いスペーサー
層を容易に形成せしめることが可能な感光性樹脂組成物
を提供する。 【解決手段】 （Ａ）不飽和基含有ポリヒドロキシエー
テル樹脂化合物と、（Ｂ）光重合性不飽和化合物と、
（Ｃ）光開始剤とを含む感光性樹脂組成物であって、
（Ａ）成分は、ポリヒドロキシエーテル樹脂と、エチレ
ン性不飽和基及びイソシアネート基をそれぞれ１つ有す
る不飽和イソシアネート化合物とを、前記ポリヒドロキ
シエーテル樹脂における水酸基１当量に対して、前記不
飽和イソシアネート化合物におけるイソシアネート基が
０．０１〜０．９当量となるように反応させてなるもの
であり、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の総量１００重量部に
対する（Ｃ）成分の重量が０．０１〜２０重量部、
（Ａ）成分と（Ｂ）成分の総量１００重量部に占める
（Ａ）成分の重量が２０〜９０重量部である感光性樹脂
組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感光性樹脂組成物
及びこれを用いた感光性エレメントに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年のコンピューター装置技術、ソフト
ウエア技術、通信技術等をはじめとする情報技術の発展
により、より多くの情報を高速に伝達することが可能と
なってきている。

【０００３】このような分野においては記録密度の高い
記録媒体が必要とされており、ＤＶＤ（デジタルバーサ
タイルディスク）が高密度記録媒体として注目されてい
る。ＤＶＤについては、光源の短波長化や対物レンズの
高開口化等によりＣＤ−ＲＯＭの約７倍の記録容量
（４．７Ｇバイト）が達成されているが、今後は青色半
導体レーザーの実用化に伴って更に記録密度を向上させ
得るものと考えられている。また、ＤＶＤ等の光ディス
クの更なる高密度化を図るために、情報を担持するピッ
トやグルーブが形成された情報記録層と透明樹脂からな
るスペーサー層が交互に積層された多層光ディスクの開
発が進められている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
光ディスクにおいては、単層光ディスク（情報記録層が
１層のみのものをいう。）及び多層光ディスクのいずれ
のタイプであっても、情報の読み取りエラーが生じる場
合があった。また、製造歩留まりを上昇させることが困
難であるという問題もあった。

【０００５】本発明者らは係る問題点について検討を行
った結果、上記問題点は、スペーサー層の透明性が不充
分であることや、スペーサー層の厚さが光ディスクの中
心部と外周部で異なっていること、或いは、スペーサー
層が液状硬化樹脂のスピンコートにより形成されている
こと等に起因していることを見出した。

【０００６】すなわち、光ディスクではレーザーを情報
記録層にフォーカスを合わせることで情報記録層上の情
報の読み出しが行われているため、スペーサー層には用
いるレーザーの波長において高い透明性が必要とされ、
情報を担持したピットあるいはグルーブを正確に転写す
る性質も要求されるが、従来スペーサー層に用いられて
いた樹脂では係る性能が不充分であることを見出した。
また、情報記録層上に液状硬化樹脂をスピンコートして
スペーサー層を形成しているために光ディスクの直径方
向で層厚のばらつきが生じやすく、このために製造歩留
まりが低くなっているとの知見を得た。

【０００７】本発明は、上記知見に基づきなされたもの
であり、光ディスクに用いられる記録及び／又は再生用
のレーザー光に対して透明性が高く、厚さの均一性の高
いスペーサー層を容易に形成せしめることが可能な感光
性樹脂組成物を提供することを目的とする。また、係る
感光性樹脂組成物からなる感光性エレメントを提供する
ことを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、所定の構造を有し
た不飽和基含有ポリヒドロキシエーテル樹脂化合物を所
定量含有する感光性樹脂組成物により上記目的が達成可
能であることを見出し、本発明を完成させた。

【０００９】すなわち、本発明の感光性樹脂組成物は、
（Ａ）不飽和基含有ポリヒドロキシエーテル樹脂化合物
と、（Ｂ）エチレン性不飽和基を少なくとも１つ含有す
る光重合性不飽和化合物と、（Ｃ）光により遊離ラジカ
ルを生成する光開始剤とを含む感光性樹脂組成物であっ
て、（Ａ）成分は、下記一般式（Ｉ）で表される繰り返
し単位を有するポリヒドロキシエーテル樹脂と、エチレ
ン性不飽和基及びイソシアネート基をそれぞれ１つ有す
る不飽和イソシアネート化合物とを、前記ポリヒドロキ
シエーテル樹脂における水酸基１当量に対して、前記不
飽和イソシアネート化合物におけるイソシアネート基が
０．０１〜０．９当量となるように反応させてなる不飽
和基含有ポリヒドロキシエーテル樹脂化合物であり、

【化２】 ［式中、Ｒ¹は２価の飽和脂肪族炭化水素基、Ｒ²及びＲ
³はそれぞれ独立に炭素数１〜４のアルキル基、炭素数
１〜４のアルコキシル基又はハロゲン原子、ｘ及びｙは
それぞれ独立に０〜４の整数、をそれぞれ示す。］ （Ａ）成分と（Ｂ）成分の総量１００重量部に対する
（Ｃ）成分の重量が０．０１〜２０重量部であり、
（Ａ）成分と（Ｂ）成分の総量１００重量部に占める
（Ａ）成分の重量が２０〜９０重量部であることを特徴
とするものである。

【００１０】また、本発明の感光性エレメントは、支持
体と、該支持体上に形成された上記本発明の感光性樹脂
組成物からなる感光性樹脂組成物層と、を備えることを
特徴とするものである。

【００１１】本発明は、更に以下の光ディスクを提供す
る。 （１）互いに平行に配置された２つの透明基板と該透明
基板の間に配置された情報記録層及びスペーサー層とを
備える光ディスクにおいて、上記スペーサー層が上記本
発明の感光性樹脂組成物の硬化物からなることを特徴と
する光ディスク。 （２）互いに平行に配置された２つの透明基板と該透明
基板の間に配置された情報記録層及びスペーサー層とを
備える光ディスクにおいて、上記スペーサー層が上記本
発明の感光性エレメントにおける感光性樹脂組成物層の
硬化物であることを特徴とする光ディスク。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。なお、（メタ）アクリル酸とはアク
リル酸又はそれに対応するメタクリル酸を意味し、（メ
タ）アクリレートとはアクリレート又はそれに対応する
メタクリレートを意味し、（メタ）アクリロイル基とは
アクリロイル基又はメタクリロイル基を意味する。

【００１３】（感光性樹脂組成物）本発明の感光性樹脂
組成物に含まれる（Ａ）不飽和基含有ポリヒドロキシエ
ーテル樹脂化合物（以下「（Ａ）成分」ともいう。）
は、上記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する
ポリヒドロキシエーテル樹脂と、エチレン性不飽和基及
びイソシアネート基をそれぞれ１つ有する不飽和イソシ
アネート化合物とを、ポリヒドロキシエーテル樹脂にお
ける水酸基１当量に対して、不飽和イソシアネート化合
物におけるイソシアネート基が０．０１〜０．９当量と
なるように反応させてなるものである。

【００１４】硬化物の透明性、光ディスク作製時の情報
記録層及び透明基板の接着性等の観点から、一般式
（Ｉ）における、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、ｘ及びｙは、以下に
述べる基又は数値であることが好ましい。

【００１５】すなわち、Ｒ¹は、炭素数１〜１２の２価
の飽和脂肪族炭化水素基であることが好ましい。この場
合において、炭素数は１〜６がより好ましく、１〜３が
更に好ましい。特に好ましいとＲ¹としては、−Ｃ（Ｃ
Ｈ₃）₂−基が挙げられる。Ｒ²及びＲ³はそれぞれ独立に
炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ
ル基又はハロゲン原子であるが、アルキル基及びアルコ
キシル基の炭素数は１〜３が好ましく、ハロゲン原子と
しては臭素原子が好ましい。

【００１６】また、ｘ及びｙの数はそれぞれ独立であ
り、０〜４の範囲の整数をとることができる。合成の容
易性の観点からはｘ及びｙは同一の整数であることが好
ましく、その配置はＲ¹に対して対称であることが好ま
しい。そして、Ｒ¹が−Ｃ（ＣＨ ₃）₂−基である場合は
ｘ及びｙはいずれも０であることが好ましい。

【００１７】ポリヒドロキシエーテル樹脂として、特に
好ましいものは以下の式（Ｉａ）で表される繰り返し単
位を有するポリヒドロキシエーテル樹脂であり、係る樹
脂は２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン
及びエピクロロヒドリンから誘導することができる。

【化３】

【００１８】ポリヒドロキシエーテル樹脂は、フィルム
性付与、コールドフロー等の点から、重量平均分子量
（Ｍｗ）が５，０００〜２００，０００であることが好
ましく１０，０００〜１５０，０００であることがより
好ましく、４０，０００〜１２０，０００であることが
特に好ましい。

【００１９】ポリヒドロキシエーテル樹脂は、例えばエ
ピハロヒドリン約０．９８５〜約１．０１５モルと二価
多核フェノール１モルとを、水酸化アルカリ金属、例え
ば、水酸化ナトリウムあるいは水酸化カリウム約０．６
〜１．５モルと共に、通常、水性媒体中、温度１０〜５
０℃、エピハロヒドリンの少なくとも約６０モル％が消
費されるまで混合することにより製造することが可能で
ある。

【００２０】ここで用いられる二価多核フェノールとし
ては、ビス（ヒドロキシフェニル）アルカン、例えば、
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
２，４′−ジヒドロキシジフェニルメタン、ビス（２−
ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，６−ジメ
チル−３−メトキシフェニル）メタン、１，１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，２−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒ
ドロキシ−２−クロロフェニル）エタン、１，１−ビス
（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，
３−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロ
パン、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパン、２，２−ビス（３−イソプロピル−
４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（２
−イソプロピル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
２，２−ビス（４−ヒドロキシナフチル）プロパン、
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、
３，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、ビス
（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシルメタン、
１，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，２−ビ
ス（フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）−１−フェニルプロパンが好ましい。

【００２１】ポリヒドロキシエーテル樹脂として好まし
い上記式（Ｉａ）で表される繰り返し単位を有するポリ
ヒドロキシエーテル樹脂は、インケムコーポレーション
社からフェノキシ樹脂（商品名 UCARPhenoxy ＰＫＨ
Ｈ、ＰＫＨＪ又はＰＫＦＥ、繰り返し数ｐは、ｐ≧５０
の整数）として市販されている。

【００２２】本発明の感光性樹脂組成物の（Ａ）成分は
以上説明したポリヒドロキシエーテル樹脂と、エチレン
性不飽和基及びイソシアネート基をそれぞれ１つ有する
不飽和イソシアネート化合物とを、ポリヒドロキシエー
テル樹脂における水酸基１当量に対して、不飽和イソシ
アネート化合物におけるイソシアネート基が０．０１〜
０．９当量となるように反応させてなるものである。

【００２３】係る反応により、ポリヒドロキシエーテル
樹脂と不飽和イソシアネート化合物とがウレタン結合を
介して結合し、ポリヒドロキシエーテル樹脂にエチレン
性不飽和二重結合が導入される。この場合において、水
酸基の当量数に対するイソシアネート基の当量数（ＮＣ
Ｏ／ＯＨ）が０．０１未満である場合は、ポリヒドロキ
シエーテル樹脂に充分なエチレン性不飽和二重結合が導
入されず、感光性樹脂組成物の光硬化性が不充分にな
る。また、光ディスクにおける情報記録層や透明基板へ
の密着性も低下する。一方、ＮＣＯ／ＯＨが０．９当量
を越す場合は、不飽和基含有ポリヒドロキシエーテル樹
脂化合物を安定に作製することができず、作製中にゲル
化が発生する場合がある。なお、ＮＣＯ／ＯＨは０．１
〜０．５が好ましい。

【００２４】不飽和イソシアネート化合物におけるエチ
レン性不飽和基は、（メタ）アクリロイル基に由来する
ものであることが好ましい。したがって、ポリヒドロキ
シエーテル樹脂に反応させる不飽和イソシアネート化合
物は、（メタ）アクリル酸イソシアネート、（メタ）ア
クリル酸アルキルイソシアネート（（メタ）アクリル酸
エチルイソシアネート等）等が好ましい。

【００２５】不飽和基含有ポリヒドロキシエーテル樹脂
化合物は、ポリヒドロキシエーテル樹脂をテトラヒドロ
フラン、モノグライム、ジメチルホルムアミド等の可溶
性有機溶媒に溶解させ、必要によりジブチルチンジラウ
レート等の触媒を用い、温度４０〜１１５℃で不飽和イ
ソシアネート化合物と反応（付加反応）させることによ
り得ることができる。

【００２６】このようにして得られた（Ａ）成分の使用
量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）エチレン性不飽和基を少な
くとも１つ含有する光重合性不飽和化合物の総量１００
重量部に対して２０〜９０重量部とする。２０重量部未
満ではベタ付きにより取り扱い性が低下し、９０重量部
を超えると光ディスクにおける情報記録層や透明基板と
の接着力が低く実用的でない。

【００２７】次に、本発明の感光性樹脂組成物に含まれ
る（Ｂ）エチレン性不飽和基を少なくとも１つ含有する
光重合性不飽和化合物（以下「（Ｂ）成分」ともい
う。）について説明する。

【００２８】（Ｂ）成分としては、例えば、ジシクロペ
ンテニル（メタ）アクリレート；テトラヒドロフルフリ
ル（メタ）アクリレート；ベンジル（メタ）アクリレー
ト；多価アルコールにα，β−不飽和カルボン酸を反応
させて得られる化合物（例えば、ポリエチレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート（エチレン基の数が２〜１４
のもの）、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレ
ート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレー
ト、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メタ）アク
リレート、トリメチロールプロパンプロポキシトリ（メ
タ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メ
タ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メ
タ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メ
タ）アクリレート（プロピレン基の数が２〜１４のも
の）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレ
ート、ビスフェノールＡポリオキシエチレンジ（メタ）
アクリレート、ビスフェノールＡジオキシエチレンジ
（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡトリオキシエ
チレンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡデカ
オキシエチレンジ（メタ）アクリレート等）；グリシジ
ル基含有化合物にα，β−不飽和カルボン酸を付加して
得られる化合物（例えば、トリメチロールプロパントリ
グリシジルエーテルトリアクリレート、ビスフェノール
Ａジグリシジルエーテルジアクリレート等）；多価カル
ボン酸（例えば、無水フタル酸）と水酸基及びエチレン
性不飽和基を有する物質（例えば、β−ヒドロキシエチ
ル（メタ）アクリレート）とのエステル化物；アクリル
酸若しくはメタクリル酸のアルキルエステル（例えば、
（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル
酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステ
ル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステ
ル）；ウレタン（メタ）アクリレート（例えば、トリレ
ンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）ア
クリル酸エステルとの反応物、トリメチルヘキサメチレ
ンジイソシアネートとシクロヘキサンジメタノールと２
−ヒドロキシエチル（メタ）アクリル酸エステルとの反
応物等）を挙げることができる。

【００２９】特に好ましい（Ｂ）成分としては、トリメ
チロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタ
エリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ビスフェ
ノールＡポリオキシエチレンジメタクリレートが挙げら
れる。なお、上記化合物は単独で又は２種以上を組み合
わせて用いられる。

【００３０】（Ｂ）成分の使用量は（Ａ）成分及び
（Ｂ）成分の総量１００重量部に対して、１０〜８０重
量部とする必要がある。１０重量部未満では感光性樹脂
組成物の光硬化性が低下し、８０重量部を超えるとベタ
付きにより取り扱い性が低下する傾向がある。

【００３１】次に、本発明の感光性樹脂組成物に含まれ
る（Ｃ）光により遊離ラジカルを生成する光開始剤（以
下「（Ｃ）成分」ともいう。）について説明する。

【００３２】（Ｃ）成分としては、紫外線又は可視光線
により遊離ラジカルを生成する光開始剤が好ましく、例
えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエ
ーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソ
ブチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベン
ゾインエーテル類、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラ
メチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラー
ケトン）、Ｎ，Ｎ′−テトラエチル−４，４′−ジアミ
ノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類、ベンジルジメ
チルケタール（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社
製、イルガキュア６５１）、ベンジルジエチルケタール
等のベンジルケタール類、２，２−ジメトキシ−２−フ
ェニルアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロ
アセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン等
のアセトフェノン類、２，４−ジメチルチオキサント
ン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン等のキサン
トン類、あるいはヒドロキシシクロヘキシルフェニルケ
トン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、イルガ
キュア１８４）、１−（４−イソプロピルフェニル）−
２−ビトロキシ−２−メチルプロパン−１−オン（メル
ク社製、ダロキュア１１１６）、２−ヒドロキシ−２−
メチル−１−フェニルプロパン−１−オン（メルク社
製、ダロキュア１１７３）等が挙げられ、これらは単独
で又は２種以上を組み合わせて用いられる。

【００３３】また、（Ｃ）成分として使用しうる光開始
剤としては、例えば、２，４，５−トリアリルイミダゾ
ール二量体と２−メルカプトベンゾオキサゾール、ロイ
コクリスタルバイオレット、トリス（４−ジエチルアミ
ノ−２−メチルフェニル）メタン等との組み合わせも挙
げられる。また、それ自体では光開始性はないが、前記
物質と組み合わせて用いることにより全体として光開始
性能のより良好な増感剤系となるような添加剤、例え
ば、ベンゾフェノンに対するトリエタノールアミン等の
三級アミンを用いることができる。

【００３４】感光性樹脂組成物においては、（Ａ）成分
と（Ｂ）成分の総量１００重量部に対する（Ｃ）成分の
重量が０．０１〜２０重量部でなければならない。
（Ｃ）成分が０．０１重量部未満では光硬化性が低下
し、ベタ付きにより取り扱い性が低下する。また、
（Ｃ）成分が２０重量部を超すと未反応成分が残留して
硬化後の感光性樹脂組成物の透明性が損なわれる場合が
ある。（Ａ）成分と（Ｂ）成分の総量１００重量部に対
する（Ｃ）成分の重量は、１．０〜１０重量部が好まし
く、１〜８重量部がより好ましい。

【００３５】感光性樹脂組成物は、さらに他の副次的成
分を含有してもよい。副次的成分としては、例えば、熱
重合防止剤、染料、顔料、塗工性向上剤、密着性向上剤
等が挙げられ、これらの選択は、通常の感光性樹脂組成
物と同様の考慮の下に行われる。副次的成分としては、
また、本発明の目的を損なわない範囲で少量のエポキシ
樹脂を含有することもできる。

【００３６】（感光性エレメント）本発明の感光性エレ
メントは、支持体と、該支持体上に形成された上記感光
性樹脂組成物からなる感光性樹脂組成物層と、を備える
ものであり、感光性樹脂組成物層上には、該感光性樹脂
組成物層を被覆する保護フィルムを更に備えていてもよ
い。

【００３７】感光性樹脂組成物層は、上述した本発明の
感光性樹脂組成物をメチルエチルケトン、トルエン、塩
化メチレン等の有機溶剤に溶解して例えば固形分３０〜
６０重量％程度の溶液とした後に、かかる溶液をナイフ
コート法、ロールコート法等公知の方法で支持体上に塗
布した後に乾燥することにより製造することができる。
保護フィルムを備える感光性エレメントにおいては、上
記有機溶剤溶液の乾燥が終了した後に、形成された感光
性樹脂組成物層上に保護フィルムを被覆して製造するこ
とが好ましい。

【００３８】感光性エレメントにおける感光性樹脂組成
物層の厚さは、５〜１００μｍが好ましい。厚さが係る
範囲外である場合は、光ディスクのスペーサー層に用い
た場合の層の均一性を維持することが困難になる傾向に
ある。感光性樹脂組成物層の厚さは５〜７０μｍである
ことがより好ましく、５〜２０μｍであることが更に好
ましい。

【００３９】感光性エレメントにおける感光性樹脂組成
物層は、表面粗さ精度であるＲａ値が、０〜０．３０μ
ｍの感光性樹脂組成物層であることが好ましい。ここで
表面粗さ精度Ｒａ値は、感光性樹脂組成物層表面からラ
ンダムに抜き取った各部の断面曲線から求められる値で
あり、Ｒａ値が０に近い場合は表面粗さ精度が高いこと
を意味する。Ｒａ値は０〜０．２５μｍであることが好
ましく、０〜０．２０μｍであることが更に好ましい。
この表面粗さ精度が０〜０．３０μｍの範囲外である場
合は、感光性エレメントを用いて光ディスクを作製する
場合に気泡を巻き込みやすくなる。したがって、Ｒａ値
が上記範囲内にある感光性エレメントは、光ディスクの
スペーサー層の層厚の均一性及び透明性を高めるため
に、光ディスクの製造歩留まりを高めることができ、ま
た、光ディスクの品質を向上させることができる。

【００４０】また、感光性エレメントにおける感光性樹
脂組成物層は、硬化後の４００ｎｍにおける光透過度が
９０％以上（好ましくは９３％以上）であることが好ま
しい。光透過度が上記％以上である場合は、感光性エレ
メントを用いて作製した光ディスクにおいて、情報の記
録又は読み取り時にエラー等が生じ難くなる。なお、本
発明における光透過度は、透明基板に感光性樹脂組成物
層をラミネートして該層を硬化させた基板と、感光性樹
脂組成物層を備えていない透明基板と、の光透過度（光
の波長：４００ｎｍ）の差から求められるものである。

【００４１】感光エレメントにおける支持体は、厚さが
５〜５０μｍであることが好ましく、８〜２０μｍであ
ることがより好ましい。厚さが５μｍ未満では支持体は
く離の際に、支持体が破れやすくなる傾向があり、５０
μｍを超えると廉価性に劣る傾向にある。また、支持体
は、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポ
リエチレン、ポリエステル、ポリイミド等の耐熱性及び
耐溶剤性を有する重合体フィルムからなることが好まし
い。

【００４２】感光エレメントに使用される保護フィルム
は、厚さが５〜３０μｍであることが好ましく、１０〜
３０μｍであることがより好ましい。厚さが５μｍ未満
ではラミネートの際、保護フィルムが破れやすくなる傾
向があり、３０μｍを超えると廉価性に劣る傾向があ
る。

【００４３】感光性エレメントは、例えば、シート状、
又は保護フィルムを介在させた上で巻芯にロール状に巻
きとって保管することができる。そしてロール状に巻き
取った感光性エレメントの端面には、端面保護の見地か
ら端面セパレータを設置することが好ましく、耐エッジ
フュージョンの見地から防湿端面セパレータを設置する
ことが好ましい。また、梱包方法として、透湿性の低い
ブラックシートに包んで包装することが好ましい。

【００４４】（光ディスク）本発明は、上記本発明の感
光性樹脂組成物又は感光性エレメントを用いた光ディス
クを提供する。すなわち、互いに平行に配置された２つ
の透明基板と該透明基板の間に配置された情報記録層及
びスペーサー層とを備える光ディスクにおいて、スペー
サー層が、（１）上記本発明の感光性樹脂組成物の硬化
物からなることを特徴とする光ディスク、又は（２）上
記本発明の感光性エレメントにおける感光性樹脂組成物
層の硬化物であることを特徴とする光ディスク、を提供
するものである。

【００４５】図１、２、３及び４は、それぞれ、本発明
の光ディスクの第１、第２、第３及び第４実施形態を示
す断面図である。図１に示す光ディスク１（単層光ディ
スク）は、透明基板１０上に情報記録層１２とスペーサ
ー層１４とがこの順に各一層形成されており、スペーサ
ー層１４上には透明基板１０を備えている。図２に示す
光ディスク（多層光ディスク）は図１におけるスペーサ
ー層１４と透明基板１０との間に情報記録層１２を１層
備えている。そして、図３に示す光ディスク（多層光デ
ィスク）は、透明基板１０上に情報記録層１２とスペー
サー層１４とがこの順に交互に各二層形成されており、
スペーサー層１４上には透明基板１０を備えている。ま
た、図４に示す光ディスク（多層光ディスク）は、図３
におけるスペーサー層１４と透明基板１０との間に情報
記録層１２を１層備えている。

【００４６】図１〜４に示す第１〜第４実施形態におい
てはスペーサー層１２が本発明の感光性樹脂組成物の硬
化物又は本発明の感光性エレメントにおける感光性樹脂
組成物層の硬化物である。また、透明基板１０は、典型
的にはポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメタクリル酸メ
チル（ＰＭＭＡ）等の透明樹脂からなっている。そし
て、情報記録層１２は典型的には金属薄膜からなってお
り、金属薄膜は通常透明基板１０又はスペーサー層に蒸
着されている。なお、情報記録層１２は、情報担持のた
めにピットやグルーブ等の凹凸を有していてもよい。ま
た、本発明の光ディスクにおいては、互いに平行に配置
された２つの透明基板の間に、情報記録層１２とスペー
サー層１４とを例えば交互に何層形成させてもよく、各
層間にはシランカップリング剤等の他の成分が少量存在
していてもよい。

【００４７】本発明の光ディスクにおいては、スペーサ
ー層１２は本発明の感光性樹脂層からなることが好まし
いことから、その厚さは５〜１００μｍが好ましく、５
〜７０μｍであることがより好ましく、５〜２０μｍで
あることが更に好ましい。また、表面粗さ精度であるＲ
ａ値が、０〜０．３０μｍ（好ましくは、０〜０．２
５、より好ましくは０〜０．２）であることが好まし
く、光透過度が９０％以上（好ましくは９３％以上）で
あることが好ましい。

【００４８】光ディスクは、感光性樹脂組成物を用いる
場合は、以下のようにして製造することができる。ま
ず、情報記録層が形成された透明基板（情報記録用凸凹
状ピットが形成された透明基板であって、該ピット表面
に金属薄膜が形成されている透明基板。なお、係る基板
における金属薄膜が形成された凹凸上ピットが情報記録
層である。）を準備する。該基板の上（典型的には、情
報記録層の面）に、感光性樹脂組成物をメチルエチルケ
トン、トルエン、塩化メチレン等の溶剤に均一に溶解又
は分散させた溶液を、ディップコート法、フローコート
法等で塗布して乾燥し、感光性樹脂組成物層を形成させ
る。そして、光（紫外線、可視光線等）を感光性樹脂組
成物層に照射して感光性樹脂組成物を硬化させた後、他
の透明基板を積層する。また、感光性樹脂組成物層に光
を照射しないで他の透明基板を積層して、透明基板を通
して感光性樹脂組成物層を光硬化してもよい。あるいは
これらの方法を組み合わせてもよい。なお、光源として
は、超高圧水銀灯、高圧水銀灯等を用いることができ
る。

【００４９】一方、光ディスクは、感光性エレメントを
用いる場合は、以下のようにして製造することができ
る。すなわち、上記と同様の透明基板を準備して、感光
性エレメントの感光性樹脂組成物層を加熱しながら、該
層が透明基板に接触するようにして（典型的には、情報
記録層の面）、好ましくは減圧下で圧着して透明基板上
に感光性樹脂組成物層を形成する。なお、感光性エレメ
ントが保護フィルムを有する場合は、該フィルムを除去
した後にこの作業を行う。そして、必要により支持フィ
ルムを通して又は支持フィルムを剥離して、感光性樹脂
組成物層に光（紫外線、可視光線等）を照射して硬化さ
せた後、支持フィルムが存在する場合はそれを除去して
他の透明基板を積層する。また、感光性樹脂組成物層が
形成された透明基板に光を照射しないで、感光性樹脂組
成物層と接触するようにして他の透明基板を積層して、
透明基板を通して感光性樹脂組成物層を光硬化してもよ
い。あるいはこれらの方法を組み合わせてもよい。

【００５０】感光性エレメントを用いる場合において、
感光性樹脂組成物層の加熱温度は、３０〜１３０℃が好
ましい。３０℃未満では感光性樹脂組成物の流動性が低
く、凸凹状ピットへの追従性が不十分になる傾向があ
り、１５０℃を超えると樹脂組成物中における低沸点物
質あるいは低沸点溶媒等が気化したり基板の変形をもた
らす場合がある。また、圧着圧力は、０．１〜１．０Ｍ
Ｐａが好ましいが、この条件は適宜変更することができ
る。積層性をさらに向上させるため基板の予熱処理を行
うこともできる。

【００５１】上記製造方法は、単層光ディスクの製造に
も多層光ディスクの製造にも適用可能であるが、多層光
ディスクの製造方法の具体例としては、図５（ａ）〜
（ｅ）に示す方法が挙げられる。

【００５２】すなわち、ピットを有する透明基板１０
（図５（ａ））におけるピット面に、金属薄膜からなる
情報記録層１２を形成する（図５（ｂ））。次に、情報
記録層１２上に上述した方法によりスペーサー層１４を
形成させた後に、スタンパ１６をスペーサー層１４に接
触させることで（図５（ｃ））、スペーサー層１４にピ
ットを形成させる（図５（ｄ））。次いで、真空蒸着や
スパッタリング等によりスペーサー層１４に金属薄膜か
らなる情報記録層１２を形成させる。そして、図５にお
ける（ｂ）〜（ｅ）を繰り返すことで多層化が可能にな
る。

【００５３】本発明の感光性樹脂組成物は、ＰＣやＰＭ
ＭＡ等の透明樹脂、アルミニウム等の情報記録層を構成
する材料に良好な接着力を示し透明度も高いために、こ
れを用いた光ディスクは読み取りエラーの発生が抑制さ
れる。そして、光ディスクのスペーサー層形成を本発明
の感光性エレメントを用いて行った場合には、厚さの均
一性の高いスペーサー層が特に容易に形成されるため、
製造歩留まりを顕著に向上させることができ、高品質の
光ディスクを得ることができる。

【００５４】

【実施例】次に、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれによって制限されるものではない。
なお、実施例及び比較例中の「部」は、特に断わらない
限り、「重量部」を示す。

【００５５】［（Ａ）成分の合成］ （合成例１）温度計、撹拌装置、冷却管、乾燥空気導入
管及び滴下器の付属した、加熱及び冷却可能な容積約１
リットルの反応容器に、表１のＡを入れ、７５℃に昇温
し、反応温度を７３〜７５℃に保ちながら、０．５時間
かけて均一に表１のＢを滴下した。Ｂの滴下後７５℃で
約４時間反応を続けた。その後、室温に冷却して不飽和
基含有含有ポリヒドロキシエーテル樹脂化合物（Ａ−
１）の溶液を得た。なお、合成の際反応の当量比（ＮＣ
Ｏ／ＯＨ）は０．１であった。

【表１】

【００５６】（合成例２）Ｂを１０．９部とした他は、
合成例１と同様にして不飽和基含有含有ポリヒドロキシ
エーテル樹脂化合物（Ａ−２）の溶液を得た。なお、合
成の際反応の当量比（ＮＣＯ／ＯＨ）は０．２０であっ
た。

【００５７】（合成例３）Ｂを２１．８部とした他は、
合成例１と同様にして不飽和基含有含有ポリヒドロキシ
エーテル樹脂化合物（Ａ−３）の溶液を得た。なお、合
成の際反応の当量比（ＮＣＯ／ＯＨ）は０．４０であっ
た。

【００５８】（比較合成例１）表１におけるポリヒドロ
キシエーテル樹脂（インケムコーポレーション社製、、
商品名 UCARPhenoxy ＰＫＨＪ）をN,N−ジメチルホルム
アミドに溶解したものを、（Ａ−１）〜（Ａ−３）との
比較のために用いた。以下、係る溶液を（Ａ−４）と呼
ぶ。

【００５９】［感光性樹脂組成物の作製］ （実施例１〜３、比較例１）（Ａ）成分として上記（Ａ
−１）〜（Ａ−４）を用い、（Ｂ）成分としてＦＡ−３
２１Ｍ(日立化成工業社製、ビスフェノールＡポリオキ
シジエチレンジメタクリレート)、（Ｃ）成分としてIRG
ACURE 184（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製１−
ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン）を用
い、これらを有機溶剤成分であるメチルエチルケトンと
共に混合して、実施例１〜３及び比較例１の感光性樹脂
組成物溶液を得た。なお、各成分の配合量は表２に記載
のとおりである。

【表２】

【００６０】（実施例４〜８、比較例２）上記のように
して得られた感光性樹脂組成物溶液のそれぞれを、一定
速度で進行する２５μｍの厚さのポリエチレンテレフタ
レートフィルム（支持体）上に均一に塗布し、８０〜１
００℃の熱風対流式乾燥機を通過させ約１０分間かけて
乾燥した。次いで、感光性樹脂組成物層の上に厚さ約２
５μｍのポリエチレンフィルム（保護フィルム）を連続
的に張り合わせて、実施例４〜８及び比較例２の感光性
エレメントを作製した。用いた感光性樹脂組成物溶液の
種類と乾燥後の感光性樹脂組成物の厚さを以下の表３に
示す。

【表３】

【００６１】次いで、実施例４〜８及び比較例２の感光
性エレメントについて、表面粗さ精度（Ｒａ）、光透過
度、接着性を以下のようにして評価した。

【００６２】［表面粗さ精度（Ｒａ）］基板は、プライ
マー処理（ＫＢＭ５０３（信越化学工業社製）の３ｗｔ
％メタノール溶液を基板に塗布）したあと、室温で約３
０分放置し、アセトンにて浸漬洗浄後、乾燥した６イン
チのシリコンウェハーを用い、感光性エレメントは、膜
厚２０μｍのものを使用した。常圧ラミネータＨＬＭ−
３０００（日立エーアイシー（株））を用いて、保護フ
ィルムを剥離した感光性エレメントをロール温度：１１
０℃、ラミネート速度：１．０ｍ／分、ラミネート圧
力：０．５ＭＰａの条件でプライマー処理されたシリコ
ンウウェハー上にラミネートした。サンプルを１５分以
上放置した後、支持体フィルム（ポリエチレンテレフタ
レートフィルム）を剥離し、大型ＵＶ照射機（ＱＲＭ−
２３１７−Ｆ−００、オーク社製）を用いて１Ｊ／ｃｍ
²紫外線照射した。表面粗さ精度は、２００ＭＭウェハ
ー表面形状測定装置（Ｖｅｅｃｏ社製、接触型ＤＥＫＴ
ＡＫ Ｖ２００−Ｓｉ、荷重：３ｍｇ、測定範囲：５ｍ
ｍ）にて測定した。なお表面粗さ精度は、測定により得
られた断面曲線より、測定範囲から抜き取った部分にお
いて、山頂（断面曲線の山における最も高い標高の所）
から谷底（断面曲線の谷における最も低い標高の所）の
差の平均値を求めた。表４に上記条件をまとめて示す。

【表４】

【００６３】［光透過度］透明基板としてポリカーボネ
ート透明基板を用い、感光性エレメントは膜厚２０μｍ
のものを使用した。常圧ラミネータＨＬＭ−３０００
（日立エーアイシー（株））を用いて、保護フィルムを
剥離した感光性エレメントを、感光性樹脂組成物層がポ
リカーボネート透明基板に接触するようにして、ロール
温度：１１０℃、ラミネート速度：１．０ｍ／ｍｉｎ、
ラミネート圧力：０．５ＭＰａの条件でポリカーボネー
ト透明基板上にラミネートした。得られたサンプルを１
５分以上放置した後、ポリエチレンテレフタレート（支
持体）を剥離し、大型ＵＶ照射機（ＱＲＭ−２３１７−
Ｆ−００ オーク社製）を用いて１Ｊ／cm²紫外線照射
した後の０．５時間後の４００ｎｍにおける光透過度を
２２８Ａ Spectrophotometer（日立製作所製）にて測
定した。なお、光透過度（％）は、硬化後の感光性樹脂
組成物層を備えたポリカーボネート透明基板と、感光性
樹脂組成物層を備えていないポリカーボネート透明基板
との光透過度の差から求めた。表５に上記条件をまとめ
て示す。

【表５】

【００６４】［接着性］上記と同様にして実施例４〜８
及び比較例２の感光性エレメントをポリカーボネート透
明基板にラミネートし、ＪＩＳ Ｋ５４００のＸカット
テープ法に準じて接着性を評価した。なお、接着性は点
数で評価した（点数が大きいほど接着性が高いことを意
味する）。

【００６５】表面粗さ精度（Ｒａ）、光透過度及び接着
性の評価結果をまとめて以下の表６に示す。なお、上記
評価から、読み取りエラーが低減され製造歩留まりの高
い光ディスクが作製可能であるかどうか（「ディスク
化」と記す）を総合評価し、その結果を表６に示した。
表６における○はディスク化が可能であることを意味
し、×はディスク化が困難であることを意味する。

【表６】

【００６６】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
光ディスクに用いられる記録及び／又は再生用のレーザ
ー光に対して透明性が高く、厚さの均一性の高いスペー
サー層を容易に形成せしめることが可能な感光性樹脂組
成物が提供可能となる。また、係る感光性樹脂組成物か
らなる感光性エレメントを提供することが可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光ディスクの第１実施形態を示す断面
図である。

【図２】本発明の光ディスクの第２実施形態を示す断面
図である。

【図３】本発明の光ディスクの第３実施形態を示す断面
図である。

【図４】本発明の光ディスクの第４実施形態を示す断面
図である。

【図５】多層光ディスクの製造方法を示す断面図であ
る。

【符号の説明】

１…光ディスク、１０…透明基板、１２…情報記録層、
１４…スペーサー層、１６…スタンパ。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 7/24 Ｇ１１Ｂ 7/24 ５３５Ｇ ５３８ ５３８Ｓ (72)発明者 土屋 勝則 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社山崎事業所内 Ｆターム(参考） 2H025 AB11 AB17 AB20 BC14 BC31 BC51 BC65 BC66 CA01 CA27 CA28 EA08 4J027 AC01 AC08 BA07 BA09 BA10 BA11 BA19 BA20 BA24 BA26 BA28 CA25 CB10 CC05 CD10 5D029 LA04 LB07 LC04

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）不飽和基含有ポリヒドロキシエー
   テル樹脂化合物と、（Ｂ）エチレン性不飽和基を少なく
   とも１つ含有する光重合性不飽和化合物と、（Ｃ）光に
   より遊離ラジカルを生成する光開始剤とを含む感光性樹
   脂組成物であって、 （Ａ）成分は、下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単
   位を有するポリヒドロキシエーテル樹脂と、エチレン性
   不飽和基及びイソシアネート基をそれぞれ１つ有する不
   飽和イソシアネート化合物とを、前記ポリヒドロキシエ
   ーテル樹脂における水酸基１当量に対して、前記不飽和
   イソシアネート化合物におけるイソシアネート基が０．
   ０１〜０．９当量となるように反応させてなる不飽和基
   含有ポリヒドロキシエーテル樹脂化合物であり、 【化１】 ［式中、Ｒ¹は２価の飽和脂肪族炭化水素基、Ｒ²及びＲ
   ³はそれぞれ独立に炭素数１〜４のアルキル基、炭素数
   １〜４のアルコキシル基又はハロゲン原子、ｘ及びｙは
   それぞれ独立に０〜４の整数、をそれぞれ示す。］ （Ａ）成分と（Ｂ）成分の総量１００重量部に対する
   （Ｃ）成分の重量が０．０１〜２０重量部であり、
   （Ａ）成分と（Ｂ）成分の総量１００重量部に占める
   （Ａ）成分の重量が２０〜９０重量部であることを特徴
   とする感光性樹脂組成物。
2. 【請求項２】 支持体と、該支持体上に形成された請求
   項１記載の感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂組成物
   層と、を備えることを特徴とする感光性エレメント。
3. 【請求項３】 前記感光性樹脂組成物層上に、該感光性
   樹脂組成物層を被覆する保護フィルムを更に備えること
   を特徴とする請求項２記載の感光性エレメント。
4. 【請求項４】 前記感光性樹脂組成物層の厚さが、５〜
   １００μｍであることを特徴とする請求項２又は３記載
   の感光性エレメント。
5. 【請求項５】 前記感光性樹脂組成物層は、表面粗さ精
   度であるＲａ値が、０〜０．３０μｍの感光性樹脂組成
   物層であることを特徴とする請求項２〜４のいずれか一
   項に記載の感光性エレメント。
6. 【請求項６】 前記感光性樹脂組成物層の硬化後の４０
   ０ｎｍにおける光透過度が９０％以上であることを特徴
   とする請求項２〜５のいずれか一項に記載の感光性エレ
   メント。