JP2003289110A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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JP2003289110A
JP2003289110A JP2002300142A JP2002300142A JP2003289110A JP 2003289110 A JP2003289110 A JP 2003289110A JP 2002300142 A JP2002300142 A JP 2002300142A JP 2002300142 A JP2002300142 A JP 2002300142A JP 2003289110 A JP2003289110 A JP 2003289110A
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transistor
circuit
semiconductor integrated
integrated circuit
wiring
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Masahiro Shiina
正弘 椎名
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Sanyo Electric Co Ltd
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Sanyo Electric Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】配線同士の交差によるクロストークを防止し、
回路特性を向上した半導体集積回路を提供する。 【解決手段】差動アンプ1の中心線に対して線対称な位
置に、各々のエミッタフォロワ回路22,23をそれぞ
れ配置させることで、従来のように配線同士が交差する
領域が無くなり、回路ブロック内の配線及び接地ライン
Vssを1層メタル配線3で結線させることができる。こ
れにより、配線同士の交差によるクロストークの問題を
解消できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路に
関し、更に言えば、対称性を確保することで特性向上を
図る回路構成技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】以下、従来の半導体集積回路における回
路構成について図面を参照しながら説明する。尚、バイ
ポーラリニア集積回路において多用される差動アンプを
例にして説明する。
【0003】図6(a)に示すように、当該差動アンプ
11は、第1のトランジスタQ11と第2のトランジスタ
Q12のエミッタを共通にして定電流トランジスタQ13に
接続し、各トランジスタQ11,Q12の各コレクタを各々
負荷抵抗R11,R12を介して電源電位Vccに接続した構
成を基本構造としている。
【0004】入力端子である各トランジスタQ11,Q12
のベース間に印加される信号(Vin1,Vin2)の差を増
幅して、当該トランジスタQ11,Q12のコレクタから出
力信号(Vout1,Vout2)を取り出すことにより、各ト
ランジスタの変動要因を相殺してその出力に影響を出さ
ないようにすることが可能である。
【0005】このような差動アンプ11は、各素子のバ
ランスが崩れると出力の中点電位がシフトし、所望の回
路特性が得られなくなるので、トランジスタQ11,Q12
の特性のペア性及び負荷抵抗R11,R12の特性のペア性
が得られるように注意が払われていた。ここでペア性と
は、ペアを成す素子の特性に同一性があることをいう。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記回
路構成において、一対のトランジスタQ11,Q12の特性
のペア性及び一対の負荷抵抗R11,R12の特性のペア性
が揃うように十分に注意が払われているにも係わらず、
回路パターンをレイアウトする際に、回路設計図に従っ
て、例えば紙面の左から右に(あるいは、右から左に)
沿って、順を追って各半導体素子を配置させて、所望の
回路を構成した場合に、以下の問題があった。
【0007】即ち、図6(a)の回路構成図に示すよう
に、前記差動アンプ11の一対の差動出力端子に接続さ
れるエミッタフォロワ回路42,43が、差動アンプ1
1の中心線に対して紙面片側(右側)に集中して配置さ
れていた。ここでエミッタフォロワ回路42は、トラン
ジスタQ14、定電流トランジスタQ16、定電流トラ
ンジスタQ16のエミッタ抵抗R13から構成される。
またエミッタフォロワ回路43は、トランジスタQ1
5、定電流トランジスタQ17、定電流トランジスタQ
17のエミッタ抵抗R14から構成される。
【0008】そのため、当該差動アンプ11から成る半
導体集積回路のペア性が崩れ、回路ブロック間を相互配
線接続する際に、インピーダンスのオフセットが発生
し、回路特性の劣化を引き起こすおそれがあった。
【0009】更には、上述したように前記差動アンプ1
1の各出力段に接続されるエミッタフォロワ回路42,
43が、差動アンプ11の中心位置に対して紙面片側
(右側)に集中して配置されているため、図6(b)に
示すように、例えばトランジスタQ11のコレクタからエ
ミッタフォロワ回路42のトランジスタQ14のベース
に入力させるための配線12が、抵抗R12とトランジス
タQ12のコレクタとを接続させるための配線13と交差
し、また同様にトランジスタQ12のコレクタからエミッ
タフォロワ回路43のトランジスタQ15のベースに入
力させるための配線14が、エミッタフォロワ回路42
のトランジスタQ14のエミッタとトランジスタQ16の
コレクタとを接続させるための配線15と交差すること
になり、前記配線12,14と当該配線13,15とを
別の階層で構成する必要があった(上記構成では、配線
13,15を1層配線で構成し、配線12,14を2層
配線で構成している。)。このように配線が交差する
と、信号クロストークにより高周波特性が悪化する。し
かも、前記配線12,14とは配線長が異なるため、ペ
ア性が崩れてしまうことになる。そのため、回路ブロッ
ク間を相互配線接続した際に、インピーダンスによるオ
フセットの影響を受け、所望の回路特性が得られないこ
とがあった。
【0010】
【課題を解決するための手段】そこで本発明は、複数の
半導体素子を含む回路ブロックを有し、前記複数の半導
体素子が前記回路ブロックの中心線に対して線対称に配
置されていることを特徴とするものである。かかる構成
によれば、配線同士のクロスする領域を無くし、クロス
トークのない良好な回路特性を得ることができる。
【0011】
【発明の実施の形態】本発明の半導体集積回路に係る一
実施形態について図面を参照しながら説明する。以下で
は、バイポーラリニア集積回路において多用される差動
アンプ1を例にして説明する。
【0012】図1において、1はバイポーラトランジス
タから成る回路ブロック(本実施形態では、差動アン
プ)で、その一対の差動出力端子に一対のエミッタフォ
ロワ回路22,23が接続されている。ここで、各エミ
ッタフォロワ回路22,23が、当該回路ブロックの中
心線に対して線対称な位置と成るように配置されてい
る。
【0013】これにより、従来の(図6に示す)ように
差動アンプ11の一対の差動出力端子に接続された各エ
ミッタフォロワ回路42,43が当該差動アンプの中心
線から左右非対称な位置に配置された構成のものに比し
て、そのペア性が向上する。したがって、差動アンプの
ようにその信号にペア性を持たせたい回路構成に本発明
を適用した場合に、半導体集積回路の特性向上が図れ
る。尚、差動アンプ以外にも、例えばフィルタ等のよう
な回路あっても良く、その回路の一対の出力に、一対の
エミッタフォロワ回路が接続されて成る回路構成を有す
る半導体集積回路に適用可能である。
【0014】図1の回路構成図に示すように、当該差動
アンプ1は、第1のトランジスタQ1と第2のトランジ
スタQ2のエミッタを共通にして定電流トランジスタQ3
に接続し、各トランジスタQ1,Q2の各コレクタを各々
負荷抵抗R1,R2を介して電源電位Vccに接続されてい
る。
【0015】また、入力端子である各トランジスタQ
1,Q2のベース間に印加される信号(Vin1,Vin2)の
差を増幅して、当該トランジスタQ1,Q2のコレクタか
ら出力信号(Vout1,Vout2)を取り出すことにより、
各トランジスタの変動要因を相殺してその出力に影響を
出さないようにすることが可能である。
【0016】そして、差動アンプ1の出力に接続される
各々のエミッタフォロワ回路22,23が、差動アンプ
1の中心線に対して線対称な位置にそれぞれ配置されて
いる。ここで、エミッタフォロワ回路22は、トランジ
スタQ1のコレクタがベースに接続されたトランジスタ
Q4と、トランジスタQ4に定電流を供給する定電流ト
ランジスタQ6と、この定電流トランジスタQ6のエミ
ッタ抵抗R3から構成されている。また、エミッタフォ
ロワ回路23は、同様にトランジスタQ2のコレクタが
ベースに接続されたトランジスタQ5と、トランジスタ
Q5に定電流を供給する定電流トランジスタQ7と、こ
の定電流トランジスタQ7のエミッタ抵抗R4から構成
されている。
【0017】このように本発明では、差動アンプ1の中
心線に対して線対称な位置に、各々のエミッタフォロワ
回路22,23をそれぞれ配置させることで、従来の
(図6に示す)ように配線同士が交差する領域が無くな
るため、図2のレイアウト図に示すように回路ブロック
内の配線及び接地ラインVssを1層メタル配線3で結線
させることができる。これにより、配線同士の交差によ
るクロストークの問題を解消できる。また差動アンプ1
とエミッタフォロワ回路との間の配線6、7の長さも等
しくできる。そして、回路ブロック間の信号配線は2層
メタル配線4で構成し、Vcc電源線として3層メタル配
線5を割り当てることができ、このような階層構造を有
する半導体集積回路のレイアウト方法を構築する上で、
より高精度な半導体集積回路を実現できる。
【0018】次に、本発明の第2の実施形態について図
面を参照しながら説明する。
【0019】ここで、第2の実施形態は、いわゆるダブ
ル差動アンプと呼ばれるギルバートセルに本発明を適用
した実施形態について説明する。
【0020】図3及び図4は、ダブル差動アンプ2の回
路構成図及びレイアウト図で、本実施形態では2段のダ
ブル差動アンプ2から構成されている。即ち、図3に示
すように1段目のダブル差動アンプ2の出力信号(Vou
t1,Vout2)が次段である2段目のダブル差動アンプ
2の入力信号(入力段トランジスタQ6AのベースにVin
3,入力段トランジスタQ6BのベースにVin4)となり、
両者が連続して構成され、2段目のダブル差動アンプ2
からは出力信号(Vout3,Vout4)が出力される。尚、
重複した説明を避けるため、同等の構成については同符
号を付し、その説明は省略する。
【0021】図3において、第1のトランジスタQ1Aと
第2のトランジスタQ2Aのエミッタを共通にして入力段
トランジスタQ6Aのコレクタが接続され、第3のトラン
ジスタQ1Bと第4のトランジスタQ2Bのエミッタを共通
にして入力段トランジスタQ6Bのコレクタが接続され、
当該各入力段トランジスタQ6A,Q6Bのエミッタを共通
にして定電流トランジスタQ3に接続し、各トランジス
タQ2A,Q1Bの各コレクタを各々負荷抵抗R1A,R2Aを
介して電源電位Vccに接続した構成を基本構造としてい
る。尚、前記各トランジスタQ1A,Q2A,Q1B,Q2Bの
各コレクタを各々負荷抵抗を介して電源電位Vccに接続
する構成としても構わない。
【0022】入力端子からの入力信号(Vin1,Vin2)
である各トランジスタQ6A,Q6Bのベース間に印加され
る信号の差を増幅して、各トランジスタQ2A,Q1Bのコ
レクタから、トランジスタQ4A、Q5Aを通して出力信号
(Vout1,Vout2)を取り出すことにより、各トランジ
スタの変動要因を相殺してその出力に影響を出さないよ
うにすることが可能である。
【0023】そして、その差動出力端子に接続される各
々のエミッタフォロワ回路31,32が、当該ダブル差
動アンプ2の中心線(不図示)に対して線対称な位置に
それぞれ配置されて、本発明の半導体集積回路が構成さ
れている。ここでエミッタフォロワ回路31は、トラン
ジスタQ2Aのコレクタがベースに接続されたトランジス
タQ4Aと、トランジスタQ4Aに定電流を供給する定電流
トランジスタQ7と、定電流トランジスタQ7のエミッ
タ抵抗R9から構成されている。エミッタフォロワ回路
32は、同様にトランジスタQ1Bのコレクタにベースが
接続されたトランジスタQ5Aと、トランジスタQ5Aに定
電流を供給する定電流トランジスタQ8と、定電流トラ
ンジスタQ8のエミッタ抵抗R10から構成されてい
る。
【0024】このように上記構成のダブル差動アンプ2
では、その中心線に対して線対称な位置に、複数の出力
段に接続される各々のエミッタフォロワ回路31,32
をそれぞれ配置させることで、その回路構成のペア性が
向上するため、当該ダブル差動アンプのようにその信号
にペア性を持たせたい回路構成に適用した場合に、半導
体集積回路の特性向上が図れる。
【0025】また、抵抗R5,R6,R7,R8はトリミン
グ用で、当該トリミング用の抵抗素子も、差動アンプ2
の中心線に対して線対称の位置に配置しておく。これに
より、当該トリミング用の抵抗素子を使用する際にも、
ペア性を維持できるため、回路特性が崩れることがな
い。
【0026】このように本発明では、ダブル差動アンプ
2の中心線に対して線対称な位置に、差動出力端子に接
続される各々のエミッタフォロワ回路31,32をそれ
ぞれ配置させることで、図4のレイアウト図に示すよう
に回路ブロック内の配線を1層メタル配線3で結線させ
ることができる。そして、回路ブロック間の信号配線は
2層メタル配線4で構成し、Vcc電源線として3層メタ
ル配線5を割り当てることができ、階層構造を有する半
導体集積回路のレイアウト方法を構築する上で、より高
精度な半導体集積回路を実現できる。
【0027】また、上記第1,第2の実施形態では、左
右対称となるように各回路ブロック同士を相互接続し、
従来の(図6に示す)ように下層に位置する配線13,
15との重なりを避けるために、当該配線13,15の
上層に配線12,14を構成し、しかも当該配線12,
14の配線長が異なるような構成となることを避け、そ
れらの配線を同層(1層メタル配線3)で形成すること
で、半導体集積回路の回路特性を向上させることができ
る。
【0028】しかし、本発明はこれに限定されるもので
はなく、以下に示すような下層配線と上層配線とを上手
く共存させた構成としても良い。尚、図5に示すギルバ
ートセルのレイアウト図は、上述した図4に示すギルバ
ートセルのレイアウト図に比して、トランジスタQ2A,
Q1BのコレクタとトランジスタQ4A,Q5Bのベース間を
接続する配線として2層メタル配線4a,4bを用いて
いる点で異なる。
【0029】即ち、図5に示すように上記構成(トラン
ジスタQ2A,Q1BのコレクタとトランジスタQ4A,Q5B
のベース間)部分において、2層メタル配線4a,4b
を用いたとしても、当該領域での構成は、一対のスルー
ホールTHを介して下層配線(本実施形態では、1層メ
タル配線3)にコンタクトする2層メタル配線4a,4
bを左右対称に同じ配線長で構成しているため、従来の
ような配線間のインピーダンスによるオフセットの発生
を抑止でき、半導体集積回路の回路特性を向上させるこ
とができる。
【0030】加えて、本発明の各実施形態では、バイポ
ーラデバイスやMOSデバイス等の能動素子を含む半導
体装置、Mixer、AGC回路等のギルバートCel
l構造をもつ対称性が必要な半導体装置、高周波領域に
使用される半導体装置、SiGe Processを使
用したときに使用される半導体装置、衛星テレビ、地上
波テレビ、ケーブルテレビ、無線LAN用の半導体装置
等に利用されるものも含まれる。
【0031】
【発明の効果】本発明の半導体集積回路によれば、複数
の半導体素子を含む回路ブロックを有し、前記複数の半
導体素子が前記回路ブロックの中心線に対して線対称に
配置されているので、配線同士のクロスする領域を無く
し、クロストークのない良好な回路特性を得ることがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態の半導体集積回路を示
す回路構成図である。
【図2】本発明の第1の実施形態の半導体集積回路を示
すレイアウト図である。
【図3】本発明の第2の実施形態の半導体集積回路を示
す回路構成図である。
【図4】本発明の第2の実施形態の半導体集積回路を示
すレイアウト図である。
【図5】本発明の第3の実施形態の半導体集積回路を示
すレイアウト図である。
【図6】従来の半導体集積回路を示す図である。
【符号の説明】
1 差動アンプ 2 ダブル差動アンプ 3 1層メタル配線 4 2層メタル配線 5 3層メタル配線

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の半導体素子を含む回路ブロックを
    有し、前記複数の半導体素子が前記回路ブロックの中心
    線に対して線対称に配置されていることを特徴とする半
    導体集積回路。
  2. 【請求項2】 前記半導体素子がバイポーラトランジス
    タであることを特徴とする請求項1記載の半導体集積回
    路。
  3. 【請求項3】 前記回路ブロックが差動アンプを含むこ
    とを特徴とする請求項1記載の半導体集積回路。
  4. 【請求項4】 前記回路ブロックが、前記差動アンプの
    一対の差動出力が供給された一対のエミッタフォロワ回
    路を含むことを特徴とする請求項3記載の半導体集積回
    路。
  5. 【請求項5】 一対の差動トランジスタペアと、この一
    対の差動トランジスタペアの差動出力が供給されたエミ
    ッタフォロワ回路とを含む回路ブロックを有し、前記一
    対の差動トランジスタペア及び前記一対のエミッタフォ
    ロワ回路が前記回路ブロックの中心線に対して線対称に
    配置されたことを特徴をする半導体集積回路。
  6. 【請求項6】 前記エミッタフォロワ回路は、前記差動
    トランジスタのコレクタがベースに接続された第1のト
    ランジスタと、前記第1のトランジスタに電流を供給す
    る第2のトランジスタを含むことを特徴とする請求項5
    記載の半導体集積回路。
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