JP2003287655A - 光コネクタ型波長フィルタ - Google Patents

光コネクタ型波長フィルタ

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JP2003287655A
JP2003287655A JP2002089389A JP2002089389A JP2003287655A JP 2003287655 A JP2003287655 A JP 2003287655A JP 2002089389 A JP2002089389 A JP 2002089389A JP 2002089389 A JP2002089389 A JP 2002089389A JP 2003287655 A JP2003287655 A JP 2003287655A
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ferrules
layer
optical connector
cavity
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JP2002089389A
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English (en)
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Takashi Yoshizawa
高志 吉澤
Masataka Hirai
正孝 平井
Tomio Tanaka
富三男 田中
Seitaro Matsuo
誠太郎 松尾
Shigeru Hirono
滋 廣野
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MES Afty Corp
Original Assignee
NTT Afty Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 製品歩留まりの高い光コネクタ型波長フィル
タを提供する。 【解決手段】 屈折率の異なる2つの誘電体層154,
155を交互に複数回繰り返し積層したミラー層とキャ
ビティ層151とを積層した1または複数のフィルタブ
ロックと、1つのミラー層と、該1つのミラー層の上に
積層した所定の厚さの1/2のハーフキャビティ層15
2とを、端面に順次積層した一対のフェルール14と、
ハーフキャビティ層152を対向して一対のフェルール
14を結合するための、フェルール13を内挿するスリ
ーブ17と、一対のフェルール14を端面方向に押圧す
る押圧手段16とを備えた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光コネクタ型波長
フィルタに関し、より詳細には、一対の光コネクタのフ
ェルール端面に誘電体多層膜を形成し、光コネクタの結
合により波長フィルタとして機能する光コネクタ型波長
フィルタに関する。
【0002】
【従来の技術】近年、光伝送システムの高速広帯域化を
図るために、波長分割多重伝送方式(WDM:Waveleng
th Division Multiplexing)が導入されている。WDM
方式においては、1nm程度の波長間隔で分割多重を行
うことから、波長選択性のよい狭帯域波長フィルタが必
要とされている。
【0003】このような狭帯域波長フィルタとして、誘
電体多層膜フィルタが知られている。誘電体多層膜フィ
ルタは、厚さが中心波長λの1/4n(nは屈折率)の
高屈折率誘電体層と低屈折率誘電体層とを、複数回繰り
返し積層したミラー層と、2つのミラー層に挟まれた厚
さがλ/2nのキャビティ層とから構成されている。こ
のような多層膜フィルタを、光コネクタのフェルールに
装着して、光ファイバを伝搬する光信号の波長選択を行
っている。
【0004】例えば、特開2000−9940号公報に
記載されたフィルタ付き光コネクタフェルールは、予め
凹部を設けたフェルールホールドに、光ファイバを貫
通、接着した後、光ファイバを含めて溝を形成して、こ
の溝に多層膜光フィルタを挿入している。このようなフ
ィルタ作製方法は、高い溝加工精度が要求され、製作工
程が複雑であり、生産性が低かった。
【0005】例えば、特開2000−180630号公
報には、光コネクタフェルールの先端面に接着剤を介し
て光学フィルタを接着する光コネクタの製造方法が記載
されている。光学フィルタは、基板上に誘電体多層膜を
成膜して作製する。この製造方法においては、他の光コ
ネクタと接続を行う際の接続損失を低減するために、光
学フィルタの薄片化と接着剤の厚みを薄くすることが重
要な課題として残っていた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上述した課題を解決す
るために、例えば、特開2000−266939号公報
には、光コネクタのフェルールの先端面に、直接誘電体
多層膜を成膜する方法が記載されている。この方法は、
光学フィルタを作製するための基板を必要としないこと
から、接続損失の低減を図ることができる。しかしなが
ら、フェルールの先端面への成膜精度が、光学フィルタ
の特性に大きく影響し、製品の歩留まりが悪いという問
題があった。
【0007】図1は、従来のフィルタ付き光コネクタを
示す構成図である。図1(a)に、光コネクタの全体構
成を示す。光コネクタ1に固定された光ファイバ2のフ
ァイバ心線3は、フェルール4に固定されている。フェ
ルール4の先端面には、誘電体多層膜を成膜した光学フ
ィルタ5が形成されている。図1(b)に、フェルール
4の先端面の拡大図を示す。フェルール4の先端面に形
成された光学フィルタ5は、3つのキャビティ層51〜
53を有するマルチキャビティ型波長フィルタである。
光学フィルタ5は、厚さがλ/4nの高屈折率誘電体層
54と低屈折率誘電体層55とを、複数回繰り返し積層
したミラー層と、厚さがλ/2nのキャビティ層とを、
交互に成膜して作製する。
【0008】図2に、従来のフィルタ付き光コネクタの
透過率特性を示す。図2(a)に、誘電体層の膜厚に誤
差が無い場合の光学フィルタ5の透過率特性を示す。膜
厚に誤差が無い場合には、光学フィルタ5の設計上の透
過中心波長1550nmに対して±0.35nmの波長
域で、良好な透過率特性を有している。図2(b)に
は、キャビティ層51とキャビティ層53との厚みが、
0.01%の誤差を有する場合の光学フィルタ5の透過
率特性を示す。1550±0.35nmの波長域で、透
過率−0.3dB以下の透過率を示しており、透過率特
性も非対称である。図2(b)では、WDM方式におい
て、200GHz帯域のバンドパスフィルタに要求され
る条件を満たすことができない。
【0009】本発明は、このような問題に鑑みてなされ
たもので、その目的とするところは、フェルール端面に
高精度な成膜を行うことにより、製品歩留まりの高い光
コネクタ型波長フィルタを提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、請求項1に記載の発明は、屈折率
の異なる2つの誘電体層を交互に複数回繰り返し積層し
たミラー層と、該ミラー層の上に積層した所定の厚さの
1/2のハーフキャビティ層とを、端面に積層した一対
のフェルールと、前記ハーフキャビティ層を対向して前
記一対のフェルールを結合するための、前記フェルール
を内挿するスリーブと、前記一対のフェルールを前記端
面方向に押圧する押圧手段とを備えたことを特徴とす
る。
【0011】請求項2に記載の発明は、屈折率の異なる
2つの誘電体層を交互に複数回繰り返し積層したミラー
層とキャビティ層とを積層した1または複数のフィルタ
ブロックと、1つのミラー層と、該1つのミラー層の上
に積層した所定の厚さの1/2のハーフキャビティ層と
を、端面に順次積層した一対のフェルールと、前記ハー
フキャビティ層を対向して前記一対のフェルールを結合
するための、前記フェルールを内挿するスリーブと、前
記一対のフェルールを前記端面方向に押圧する押圧手段
とを備えたことを特徴とする。
【0012】請求項3に記載の発明は、屈折率の異なる
2つの誘電体層を交互に複数回繰り返し積層したミラー
層を、端面に積層した一対のフェルールと、前記ミラー
層を対向して前記一対のフェルールを結合するための、
前記フェルールを内挿するスリーブと、対向した前記ミ
ラー層によりキャビティ層となるギャップを設けるため
のスペーサと、前記一対のフェルールを前記端面方向に
押圧する押圧手段とを備えたことを特徴とする。
【0013】請求項4に記載の発明は、屈折率の異なる
2つの誘電体層を交互に複数回繰り返し積層したミラー
層とキャビティ層とを積層した1または複数のフィルタ
ブロックと、1つのミラー層とを、端面に順次積層した
一対のフェルールと、前記1つのミラー層を対向して前
記一対のフェルールを結合するための、前記フェルール
を内挿するスリーブと、対向した前記1つのミラー層に
よりキャビティ層となるギャップを設けるためのスペー
サと、前記一対のフェルールを前記端面方向に押圧する
押圧手段とを備えたことを特徴とする。
【0014】請求項5に記載の発明は、請求項3または
4に記載の前記スペーサは、前記一対の光コネクタに接
続された圧電アクチュエータであることを特徴とする。
【0015】請求項6に記載の発明は、請求項3または
4に記載の前記スペーサは、前記一対の光コネクタに接
続された弾性部材であることを特徴とする。
【0016】請求項7に記載の発明は、請求項3ないし
6のいずれかに記載の前記ギャップに、屈折率整合材を
充填したことを特徴とする。
【0017】請求項8に記載の発明は、請求項1ないし
7のいずれかに記載の光コネクタ型波長フィルタにおい
て、前記一対の光コネクタの前記フェルールに、前記ミ
ラー層と前記キャビティ層と前記ハーフキャビティ層と
を、成膜装置内で同時に形成したことを特徴とする。
【0018】請求項9に記載の発明は、請求項1ないし
8のいずれかに記載の前記誘電体層は、SiOxNyで
あることを特徴とする。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
の実施形態について詳細に説明する。図3に、本発明の
第1の実施形態にかかる光コネクタ型波長フィルタのフ
ェルールの先端面を示す。本実施形態は、図1に示した
光学フィルタと同様に、3つのキャビティ層を有するマ
ルチキャビティ型波長フィルタを例に説明する。なお、
各ミラー層は、Taを使用した高屈折率誘電体層
5層と、SiOを使用した低屈折率誘電体層4層とを
積層する。
【0020】波長フィルタ15a,15bは、最初にフ
ェルール14a,14bの先端面に、高屈折率誘電体層
154a,154bと低屈折率誘電体層155a,15
5bとを繰り返し積層したミラー層を形成する。次に、
第1及び第3のキャビティ層となるキャビティ層151
a,151bを積層し、その上にミラー層を形成する。
さらに、第2のキャビティ層となるキャビティ層152
a,152bを積層する。キャビティ層152a,15
2bの厚さは、各々λ/4nの厚さとなるように成膜す
る。すなわち、キャビティ層152aとキャビティ層1
52bとが対向接触したときに、第2のキャビティ層と
して所望の厚さλ/2nとなるように、各々半分の厚さ
のキャビティ層を成膜する。
【0021】同一の成膜装置内で、同時にフェルール1
4a,14bの先端面に成膜することにより、対向接触
面に対して、鏡面対称の波長フィルタを作製することが
できる。多層膜であるミラー層の厚みのばらつきが少な
く、特に、第1及び第3のキャビティ層となるキャビテ
ィ層151a,151bの厚さを、原理的に等しくでき
るので、波長フィルタの製品歩留まりを向上することが
できる。
【0022】図4は、本発明の第1の実施形態にかかる
光コネクタ型波長フィルタを示す全体構成図である。光
コネクタ11a,11bに固定された光ファイバ12
a,12bのファイバ心線13a,13bは、フェルー
ル14a,14bに固定されている。フェルール14
a,14bの先端面には、誘電体多層膜を成膜した波長
フィルタ15a,15bが形成されている。
【0023】このような構成により、フェルール14
a,14bを精密スリーブ17に挿入して、光コネクタ
11a,11bを結合する。光コネクタ11a,11b
をコイルばね16a,16bにより押圧して、波長フィ
ルタ15a,15bを、対向接触面で結合する。このよ
うにして、3つのキャビティ層を有するマルチキャビテ
ィ型波長フィルタを構成する。なお、コイルばね16
a,16bに代えて、波長フィルタ15a,15bを、
対向する接触面の方向に押圧することができる手段を用
いることができる。
【0024】図5に、本発明の第2の実施形態にかかる
光コネクタ型波長フィルタのフェルールの先端面を示
す。第2の実施形態は、図1に示した光学フィルタと同
様に、3つのキャビティ層を有するマルチキャビティ型
波長フィルタを例に説明する。なお、各ミラー層は、T
を使用した高屈折率誘電体層5層と、SiO
を使用した低屈折率誘電体層4層とを積層する。第2の
キャビティ層は空気層で構成する。
【0025】波長フィルタ19a,19bは、最初にフ
ェルール14a,14bの先端面に、高屈折率誘電体層
154a,154bと低屈折率誘電体層155a,15
5bとを繰り返し積層したミラー層を形成する。次に、
第1及び第3のキャビティ層となるキャビティ層151
a,151bを積層し、その上にミラー層を形成する。
第2のキャビティ層は、フェルール14a,14bを精
密スリーブ17に挿入したときに生ずるギャップ156
で構成する。
【0026】このようにして、同一の成膜装置内で、同
時にフェルール14a,14bの先端面に成膜すること
により、対向接触面に対して、鏡面対称の波長フィルタ
を作製することができる。多層膜であるミラー層の厚み
のばらつきが少なく、特に、第1及び第3のキャビティ
層となるキャビティ層151a,151bの厚さを、原
理的に等しくできるので、波長フィルタの製品歩留まり
を向上することができる。
【0027】図6は、本発明の第2の実施形態にかかる
光コネクタ型波長フィルタを示す全体構成図である。光
コネクタ11a,11bに固定された光ファイバ12
a,12bのファイバ心線13a,13bは、フェルー
ル14a,14bに固定されている。フェルール14
a,14bの先端面には、誘電体多層膜を成膜した波長
フィルタ19a,19bが形成されている。
【0028】このような構成により、フェルール14
a,14bを精密スリーブ17に挿入して、光コネクタ
11a,11bを、圧電アクチュエータ18を介して結
合する。光コネクタ11a,11bをコイルばね16
a,16bにより押圧し、圧電アクチュエータ18によ
り、ギャップ156の間隔を調整しながら、波長フィル
タ19a,19bを対向させる。このようにして、3つ
のキャビティ層を有するマルチキャビティ型波長フィル
タを構成する。
【0029】波長フィルタ19a,19bの成膜工程に
おいて、膜厚のばらつきが生じた場合でも、第2のキャ
ビティ層であるギャップ156の間隔を調整することに
よって、透過中心波長を所望の波長に設定することがで
きる。なお、ギャップ156の間隔を調整するためスペ
ーサとして、圧電アクチュエータ18を用いたが、これ
に限定されない。例えば、弾性部材を介して光コネクタ
11a,11bを結合し、コイルばね16a,16bの
押圧力により、ギャップ156の間隔を調整してもよ
い。
【0030】図7に、本発明の第3の実施形態にかかる
光コネクタ型波長フィルタのフェルールの先端面を示
す。第3の実施形態は、図1に示した光学フィルタと同
様に、3つのキャビティ層を有するマルチキャビティ型
波長フィルタを例に説明する。第2のキャビティ層は屈
折率整合材157で構成する点で、第2の実施形態と異
なる。
【0031】図8は、本発明の第3の実施形態にかかる
光コネクタ型波長フィルタを示す全体構成図である。光
コネクタ型波長フィルタの構成は、第2の実施形態と同
じであり、フェルール14a,14bを精密スリーブ1
7に挿入して、光コネクタ11a,11bを、圧電アク
チュエータ18を介して結合する。光コネクタ11a,
11bをコイルばね16a,16bにより押圧し、圧電
アクチュエータ18により、屈折率整合材157の厚さ
を調整しながら、波長フィルタ19a,19bを対向さ
せる。
【0032】波長フィルタ19a,19bの成膜工程に
おいて、膜厚のばらつきが生じた場合でも、第2のキャ
ビティ層である屈折率整合材157の間隔を調整するこ
とによって、透過中心波長を所望の波長に設定すること
ができる。
【0033】次に、誘電体多層膜の材料について説明す
る。誘電体多層膜を用いて波長フィルタを作製する場合
に、設計式に従って多層膜の膜厚と屈折率とを適正に選
択する必要がある。このうち、膜厚は、成膜時間により
制御することができるが、屈折率は物質固有の定数であ
るために、設計値にできる限り近い屈折率を有する材料
を選択することによっていた。
【0034】そこで、多層膜材料としてSiOxNyを
用いると、例えば、ECRプラズマ成膜装置において、
成膜時の炉内ガス条件によって、屈折率を制御すること
ができる。図9に、ECRプラズマ成膜装置における炉
内ガス条件と屈折率の関係を示す。炉内ガス条件を変え
ることにより、屈折率を1.47〜1.93の範囲で制
御することができる。従って、設計値に等しい屈折率の
多層膜を形成することができるので、従来の材料を用い
た場合に比較して、多層膜の層数を削減することができ
る。さらに、多層膜の層数を削減することにより、波長
フィルタの製造工数を削減することができ、歩留まりを
向上することができる。
【0035】なお、本実施形態においては、単一光ファ
イバのコネクタについて説明したが、複数ファイバを同
時に接続する多芯光コネクタ、ファイバアレイにも適用
することができる。
【0036】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ミラー層と、ミラー層の上に積層した所定の厚さの1/
2のハーフキャビティ層とを、端面に積層した一対のフ
ェルールと、ハーフキャビティ層を対向して一対のフェ
ルールを結合するための、フェルールを内挿するスリー
ブと、一対のフェルールを端面方向に押圧する押圧手段
とを備えたので、対向接触面に対して、鏡面対称の波長
フィルタを作製することができ、多層膜であるミラー層
の厚みのばらつきが少なく、波長フィルタの製品歩留ま
りを向上することが可能となる。
【0037】また、本発明によれば、ミラー層をフェル
ールの端面に積層した一対のフェルールと、ミラー層を
対向して一対のフェルールを結合するための、フェルー
ルを内挿するスリーブと、対向したミラー層によりキャ
ビティ層となるギャップを設けるためのスペーサと、一
対のフェルールを端面方向に押圧する押圧手段とを備え
たので、成膜工程において膜厚のばらつきが生じた場合
でも、キャビティ層の間隔を調整することによって、透
過中心波長を所望の波長に設定することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来のフィルタ付き光コネクタを示す構成図で
ある。
【図2】従来のフィルタ付き光コネクタの透過率特性を
示す図である。
【図3】本発明の第1の実施形態にかかる光コネクタ型
波長フィルタのフェルールの先端面を示す拡大図であ
る。
【図4】本発明の第1の実施形態にかかる光コネクタ型
波長フィルタを示す全体構成図である。
【図5】本発明の第2の実施形態にかかる光コネクタ型
波長フィルタのフェルールの先端面を示す拡大図であ
る。
【図6】本発明の第2の実施形態にかかる光コネクタ型
波長フィルタを示す全体構成図である。
【図7】本発明の第3の実施形態にかかる光コネクタ型
波長フィルタのフェルールの先端面を示す拡大図であ
る。
【図8】本発明の第3の実施形態にかかる光コネクタ型
波長フィルタを示す全体構成図である。
【図9】ECRプラズマ成膜装置における炉内ガス条件
と屈折率の関係を示す図である。
【符号の説明】
1,11a,11b 光コネクタ 2,12a,12b 光ファイバ 3,13a,13b ファイバ心線 4,14a,14b フェルール 5 光学フィルタ 15a,15b,19a,19b 波長フィルタ 16a,16b コイルばね 17 精密スリーブ 18 圧電アクチュエータ 51〜53,151a,151b,152a,152b
キャビティ層 54,154a,154b 高屈折率誘電体層 55,155a,155b 低屈折率誘電体層 156 ギャップ 157 屈折率整合層
フロントページの続き (72)発明者 田中 富三男 東京都三鷹市下連雀4丁目16番30号 エ ヌ・ティ・ティ・アフティ株式会社内 (72)発明者 松尾 誠太郎 東京都三鷹市下連雀4丁目16番30号 エ ヌ・ティ・ティ・アフティ株式会社内 (72)発明者 廣野 滋 東京都三鷹市下連雀4丁目16番30号 エ ヌ・ティ・ティ・アフティ株式会社内 Fターム(参考) 2H036 QA22 QA43 QA44 2H038 AA21 BA23 2H048 GA04 GA13 GA23 GA24 GA26 GA43 GA56 GA62

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 屈折率の異なる2つの誘電体層を交互に
    複数回繰り返し積層したミラー層と、該ミラー層の上に
    積層した所定の厚さの1/2のハーフキャビティ層と
    を、端面に積層した一対のフェルールと、 前記ハーフキャビティ層を対向して前記一対のフェルー
    ルを結合するための、前記フェルールを内挿するスリー
    ブと、 前記一対のフェルールを前記端面方向に押圧する押圧手
    段とを備えたことを特徴とする光コネクタ型波長フィル
    タ。
  2. 【請求項2】 屈折率の異なる2つの誘電体層を交互に
    複数回繰り返し積層したミラー層とキャビティ層とを積
    層した1または複数のフィルタブロックと、1つのミラ
    ー層と、該1つのミラー層の上に積層した所定の厚さの
    1/2のハーフキャビティ層とを、端面に順次積層した
    一対のフェルールと、 前記ハーフキャビティ層を対向して前記一対のフェルー
    ルを結合するための、前記フェルールを内挿するスリー
    ブと、 前記一対のフェルールを前記端面方向に押圧する押圧手
    段とを備えたことを特徴とする光コネクタ型波長フィル
    タ。
  3. 【請求項3】 屈折率の異なる2つの誘電体層を交互に
    複数回繰り返し積層したミラー層を、端面に積層した一
    対のフェルールと、 前記ミラー層を対向して前記一対のフェルールを結合す
    るための、前記フェルールを内挿するスリーブと、 対向した前記ミラー層によりキャビティ層となるギャッ
    プを設けるためのスペーサと、 前記一対のフェルールを前記端面方向に押圧する押圧手
    段とを備えたことを特徴とする光コネクタ型波長フィル
    タ。
  4. 【請求項4】 屈折率の異なる2つの誘電体層を交互に
    複数回繰り返し積層したミラー層とキャビティ層とを積
    層した1または複数のフィルタブロックと、1つのミラ
    ー層とを、端面に順次積層した一対のフェルールと、 前記1つのミラー層を対向して前記一対のフェルールを
    結合するための、前記フェルールを内挿するスリーブ
    と、 対向した前記1つのミラー層によりキャビティ層となる
    ギャップを設けるためのスペーサと、 前記一対のフェルールを前記端面方向に押圧する押圧手
    段とを備えたことを特徴とする光コネクタ型波長フィル
    タ。
  5. 【請求項5】 前記スペーサは、前記一対の光コネクタ
    に接続された圧電アクチュエータであることを特徴とす
    る請求項3または4に記載の光コネクタ型波長フィル
    タ。
  6. 【請求項6】 前記スペーサは、前記一対の光コネクタ
    に接続された弾性部材であることを特徴とする請求項3
    または4に記載の光コネクタ型波長フィルタ。
  7. 【請求項7】 前記ギャップに、屈折率整合材を充填し
    たことを特徴とする請求項3ないし6のいずれかに記載
    の光コネクタ型波長フィルタ。
  8. 【請求項8】 前記一対の光コネクタの前記フェルール
    に、前記ミラー層と前記キャビティ層と前記ハーフキャ
    ビティ層とを、成膜装置内で同時に形成したことを特徴
    とする請求項1ないし7のいずれかに記載の光コネクタ
    型波長フィルタ。
  9. 【請求項9】 前記誘電体層は、SiOxNyであるこ
    とを特徴とする請求項1ないし8のいずれかに記載の光
    コネクタ型波長フィルタ。
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