JP2003286035A - ガラス母材の製造方法 - Google Patents
ガラス母材の製造方法Info
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/01202—Means for storing or carrying optical fibre preforms, e.g. containers
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- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01406—Deposition reactors therefor
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ガラス微粒子堆積体中に混入するか若しくは
該堆積体表面に付着する異物数を低減すること。 【解決手段】 ＶＡＤ法若しくはＯＶＤ法によるガラス
母材の製造方法において、作製されたガラス微粒子堆積
体を高温加熱して透明ガラス化するまでの間、上記ガラ
ス微粒子堆積体を隔離室内へ保管し、かつ隔離室内へは
クリーンガスを導入し、かつ隔離室内での保管時間を４
８時間以内とすることを特徴とするガラス母材の製造方
法。
該堆積体表面に付着する異物数を低減すること。 【解決手段】 ＶＡＤ法若しくはＯＶＤ法によるガラス
母材の製造方法において、作製されたガラス微粒子堆積
体を高温加熱して透明ガラス化するまでの間、上記ガラ
ス微粒子堆積体を隔離室内へ保管し、かつ隔離室内へは
クリーンガスを導入し、かつ隔離室内での保管時間を４
８時間以内とすることを特徴とするガラス母材の製造方
法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はＯＶＤ法及びＶＡＤ
法などによりガラス微粒子堆積体を作製し、次いで高温
加熱して透明ガラス化するまでの間のガラス微粒子堆積
体の保管方法を改良することに係るガラス母材の製造方
法において、ガラス微粒子堆積体をクリーン度の良い雰
囲気中で保管することでガラス微粒子堆積体中に混入す
るか若しくはガラス微粒子堆積体表面に付着する異物数
を低減することに関する。
法などによりガラス微粒子堆積体を作製し、次いで高温
加熱して透明ガラス化するまでの間のガラス微粒子堆積
体の保管方法を改良することに係るガラス母材の製造方
法において、ガラス微粒子堆積体をクリーン度の良い雰
囲気中で保管することでガラス微粒子堆積体中に混入す
るか若しくはガラス微粒子堆積体表面に付着する異物数
を低減することに関する。
【０００２】
【従来の技術】ガラス微粒子堆積体中の異物を低減させ
る先行技術としては特開平５−１１６９７９号公報、特
開平５−１１６９８０号公報、特開平８−２１７４８０
号公報等があるが、ガラス微粒子堆積体の保管に関する
記述はない。例えば、特開平５−１１６９７９号公報に
は、外付法（ＯＶＤ法）によってコア用ガラス棒の外周
に多孔質ガラスを堆積し、これを焼結透明ガラス化して
なる光ファイバ用プリフォーム母材の製造方法におい
て、多孔質ガラス母材の形成と同時にコア用ガラス棒の
全長に清浄ガス流を吹きつけながらガラス微粒子を堆積
させる方法が開示されている。
る先行技術としては特開平５−１１６９７９号公報、特
開平５−１１６９８０号公報、特開平８−２１７４８０
号公報等があるが、ガラス微粒子堆積体の保管に関する
記述はない。例えば、特開平５−１１６９７９号公報に
は、外付法（ＯＶＤ法）によってコア用ガラス棒の外周
に多孔質ガラスを堆積し、これを焼結透明ガラス化して
なる光ファイバ用プリフォーム母材の製造方法におい
て、多孔質ガラス母材の形成と同時にコア用ガラス棒の
全長に清浄ガス流を吹きつけながらガラス微粒子を堆積
させる方法が開示されている。
【０００３】また、特開２０００−３２７３５９号公報
では、更なる改良方法が提案された。すなわち、ファイ
バ表面に付着した異物が原因となって光ファイバの破断
をもたらすので、線引き前の光ファイバガラス母材は通
常クリーンルーム内に保管されるが、この方法では静電
気が発生するため塵埃の付着量が却って増加してしま
う。そこで該提案は、線引きの直前までイオン化された
ガス体若しくはイオン化された清浄空気を光ファイバ用
ガラス母材へ吹き付けることを特徴としている。
では、更なる改良方法が提案された。すなわち、ファイ
バ表面に付着した異物が原因となって光ファイバの破断
をもたらすので、線引き前の光ファイバガラス母材は通
常クリーンルーム内に保管されるが、この方法では静電
気が発生するため塵埃の付着量が却って増加してしま
う。そこで該提案は、線引きの直前までイオン化された
ガス体若しくはイオン化された清浄空気を光ファイバ用
ガラス母材へ吹き付けることを特徴としている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記先行技術としての
ガラス微粒子堆積体中の異物低減方法では、保管方法自
体の改善に指向されたものが少なく、イオン化されたガ
ス体若しくはイオン化された清浄空気を用いる方法は、
イオン発生装置などの複雑で高価な装置を必要とする
上、異物の減少効果も充分とはいえない問題を有してい
る。本発明は、このような従来技術の問題点を解消し、
ガラス微粒子堆積体をクリーン度の良い雰囲気中で保管
することでガラス微粒子堆積体中に混入するか、若しく
はガラス微粒子堆積体表面に付着する異物数を低減する
ことからなるガラス母材の製造方法を提供することを目
的とする。
ガラス微粒子堆積体中の異物低減方法では、保管方法自
体の改善に指向されたものが少なく、イオン化されたガ
ス体若しくはイオン化された清浄空気を用いる方法は、
イオン発生装置などの複雑で高価な装置を必要とする
上、異物の減少効果も充分とはいえない問題を有してい
る。本発明は、このような従来技術の問題点を解消し、
ガラス微粒子堆積体をクリーン度の良い雰囲気中で保管
することでガラス微粒子堆積体中に混入するか、若しく
はガラス微粒子堆積体表面に付着する異物数を低減する
ことからなるガラス母材の製造方法を提供することを目
的とする。
【０００５】従って、本発明は、上記の目的を達成する
ために、ＯＶＤ法やＶＡＤ法により作製したガラス微粒
子堆積体を高温加熱して透明ガラス化するまでの間、上
記ガラス微粒子堆積体をクリーン度の高い雰囲気中に保
持して、ガラス微粒子堆積体中に混入するか、若しくは
ガラス微粒子堆積体表面に付着する異物を低減させるこ
とにより、最終的に得られるガラス母材の品質を上げる
手段を提供するものである。具体的には以下の手段で上
記目的を達成する。
ために、ＯＶＤ法やＶＡＤ法により作製したガラス微粒
子堆積体を高温加熱して透明ガラス化するまでの間、上
記ガラス微粒子堆積体をクリーン度の高い雰囲気中に保
持して、ガラス微粒子堆積体中に混入するか、若しくは
ガラス微粒子堆積体表面に付着する異物を低減させるこ
とにより、最終的に得られるガラス母材の品質を上げる
手段を提供するものである。具体的には以下の手段で上
記目的を達成する。
【０００６】
【課題を解決するための手段】（１）ＶＡＤ法若しくは
ＯＶＤ法によるガラス母材の製造方法において、作製さ
れたガラス微粒子堆積体を高温加熱して透明ガラス化す
るまでの間、上記ガラス微粒子堆積体を隔離室内へ保管
し、かつ隔離室内へはクリーンガス（以下ＣＧという）
を導入し、かつ隔離室内での保管時間を４８時間以内と
することを特徴とするガラス母材の製造方法。 （２）上記ガラス微粒子堆積体が保管されている隔離室
内の圧力が、隔離室外の圧力より圧力が高いことを特徴
とする上記（１）に記載のガラス母材製造方法、
ＯＶＤ法によるガラス母材の製造方法において、作製さ
れたガラス微粒子堆積体を高温加熱して透明ガラス化す
るまでの間、上記ガラス微粒子堆積体を隔離室内へ保管
し、かつ隔離室内へはクリーンガス（以下ＣＧという）
を導入し、かつ隔離室内での保管時間を４８時間以内と
することを特徴とするガラス母材の製造方法。 （２）上記ガラス微粒子堆積体が保管されている隔離室
内の圧力が、隔離室外の圧力より圧力が高いことを特徴
とする上記（１）に記載のガラス母材製造方法、
【０００７】（３）上記ＣＧ中に存在する０．３μｍ以
上の大きさを有するダスト数が１０００個／ＣＦ以下で
あることを特徴とする上記（１）又は（２）に記載のガ
ラス母材の製造方法、 （４）ＶＡＤ法若しくはＯＶＤ法を用いて作製されたガ
ラス微粒子堆積体を高温加熱して透明ガラス化するまで
の間、上記ガラス微粒子堆積体をＣＧ雰囲気中に保管
し、保管時間を２４時間以内とすることを特徴とするガ
ラス母材の製造方法及び （５）上記ＣＧ中に存在する０．３μｍ以上の大きさを
有するダスト数が１００００個／ＣＦ以下であることを
特徴とする上記（４）に記載のガラス母材の製造方法。 （６）クリーンガスがクリーンエアである上記（１）〜
（５）のいずれかに記載のガラス母材の製造方法。
上の大きさを有するダスト数が１０００個／ＣＦ以下で
あることを特徴とする上記（１）又は（２）に記載のガ
ラス母材の製造方法、 （４）ＶＡＤ法若しくはＯＶＤ法を用いて作製されたガ
ラス微粒子堆積体を高温加熱して透明ガラス化するまで
の間、上記ガラス微粒子堆積体をＣＧ雰囲気中に保管
し、保管時間を２４時間以内とすることを特徴とするガ
ラス母材の製造方法及び （５）上記ＣＧ中に存在する０．３μｍ以上の大きさを
有するダスト数が１００００個／ＣＦ以下であることを
特徴とする上記（４）に記載のガラス母材の製造方法。 （６）クリーンガスがクリーンエアである上記（１）〜
（５）のいずれかに記載のガラス母材の製造方法。
【０００８】上記の発明（１）〜（３）において、ＶＡ
Ｄ法若しくはＯＶＤ法により作製されたガラス微粒子堆
積体を透明ガラス化するまでの間に隔離室内で保管し、
隔離室内へはＣＧを導入し、かつ隔離室内での保管時間
は４８時間以内とする。４８時間を超えても所定の効果
以上は上がらず、却って異物がガラス微粒子堆積体の表
面に付着するという問題が生じる。
Ｄ法若しくはＯＶＤ法により作製されたガラス微粒子堆
積体を透明ガラス化するまでの間に隔離室内で保管し、
隔離室内へはＣＧを導入し、かつ隔離室内での保管時間
は４８時間以内とする。４８時間を超えても所定の効果
以上は上がらず、却って異物がガラス微粒子堆積体の表
面に付着するという問題が生じる。
【０００９】上記の特定条件により、さらにガラス微粒
子堆積体中へ混入する又は表面に付着する異物数は低減
する。また、隔離室内の圧力を隔離室外の圧力より高く
管理することで、隔離室内のクリーン度はさらに上が
り、ガラス微粒子堆積体中への異物混入をさらに抑制で
きる。クリーンガスのクリーン度は０．３μｍ以上の大
きさを有するダスト数が１０００個／ＣＦ以下とするこ
とが異物数を低減する上で望ましい。
子堆積体中へ混入する又は表面に付着する異物数は低減
する。また、隔離室内の圧力を隔離室外の圧力より高く
管理することで、隔離室内のクリーン度はさらに上が
り、ガラス微粒子堆積体中への異物混入をさらに抑制で
きる。クリーンガスのクリーン度は０．３μｍ以上の大
きさを有するダスト数が１０００個／ＣＦ以下とするこ
とが異物数を低減する上で望ましい。
【００１０】上記の発明（４）〜（５）において、ガラ
ス微粒子堆積体の作製後から上記隔離室内へガラス微粒
子堆積体が保管されるまでの間若しくは保管後から焼結
装置へ投入されるまでの間若しくは隔離室内がない場合
においてガラス微粒子堆積体の作製後から焼結装置内へ
投入されるまでの間、上記ガラス微粒子堆積体回りの環
境雰囲気をクリーンガス、例えばクリーンエア（以下Ｃ
Ａという）雰囲気とし、保管時間を２４時間以内とす
る。これにより、ガラス微粒子堆積体中へ混入若しくは
表面に付着する異物を低減することができる。さらにＣ
Ａのクリーン度としては０．３μｍ以上の大きさを有す
るダスト数が１００００個／ＣＦであることが異物数を
低減する上で好ましい。なお、クリーンエア以外のクリ
ーンガスとしてはＮ2 、Ｈｅ、Ａｒ、Ｏ2 等を用いるこ
とができる。
ス微粒子堆積体の作製後から上記隔離室内へガラス微粒
子堆積体が保管されるまでの間若しくは保管後から焼結
装置へ投入されるまでの間若しくは隔離室内がない場合
においてガラス微粒子堆積体の作製後から焼結装置内へ
投入されるまでの間、上記ガラス微粒子堆積体回りの環
境雰囲気をクリーンガス、例えばクリーンエア（以下Ｃ
Ａという）雰囲気とし、保管時間を２４時間以内とす
る。これにより、ガラス微粒子堆積体中へ混入若しくは
表面に付着する異物を低減することができる。さらにＣ
Ａのクリーン度としては０．３μｍ以上の大きさを有す
るダスト数が１００００個／ＣＦであることが異物数を
低減する上で好ましい。なお、クリーンエア以外のクリ
ーンガスとしてはＮ2 、Ｈｅ、Ａｒ、Ｏ2 等を用いるこ
とができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明を添付の図に従って
具体的に説明する。図１に示されるように、ハウジング
４０内に設けられた、反応容器１と上、下煙突２，３を
有するガラス微粒子堆積装置１０を用いてガラス微粒子
の堆積を行う。一般には、コア／クラッド部を有するコ
アロッドを用いて両側に石英ガラス製ダミーロッドを溶
着して出発ロッド５を作製し、該出発ロッドを昇降装置
７により支持棒６を介して回転させながら鉛直に設置
し、上下に相対的にトラバース運動させながらガラス微
粒子合成用バーナー４から生成するガラス微粒子堆積体
を順次堆積させてガラス微粒子堆積体９を作製する。所
定のガラス重量に達した時点でガラス微粒子の堆積を停
止し、作製完了後にガラス微粒子堆積体９を隔離室２０
へ投入する。作製完了から２時間以内にガラス微粒子堆
積体９を隔離室２０へ供給するのが好ましい。なお、反
応容器１中のダスト含有ガスは排気管８より排出させ
る。
具体的に説明する。図１に示されるように、ハウジング
４０内に設けられた、反応容器１と上、下煙突２，３を
有するガラス微粒子堆積装置１０を用いてガラス微粒子
の堆積を行う。一般には、コア／クラッド部を有するコ
アロッドを用いて両側に石英ガラス製ダミーロッドを溶
着して出発ロッド５を作製し、該出発ロッドを昇降装置
７により支持棒６を介して回転させながら鉛直に設置
し、上下に相対的にトラバース運動させながらガラス微
粒子合成用バーナー４から生成するガラス微粒子堆積体
を順次堆積させてガラス微粒子堆積体９を作製する。所
定のガラス重量に達した時点でガラス微粒子の堆積を停
止し、作製完了後にガラス微粒子堆積体９を隔離室２０
へ投入する。作製完了から２時間以内にガラス微粒子堆
積体９を隔離室２０へ供給するのが好ましい。なお、反
応容器１中のダスト含有ガスは排気管８より排出させ
る。
【００１２】図１に示されるように、ハウジング４０内
にはガラス微粒子堆積装置（ＯＶＤ装置）１０と焼結装
置３２及びガラス微粒子堆積体１５を保管する隔離室２
０を設置し、ハウジング４０内の隔離室内へは吸気口１
１及びクリーンエア発生器１２より大きさが０．３μｍ
以上のダスト数が特定の範囲にあるクリーンガスを導入
し、隔離室２０内の圧力をハウジング４０内の圧力（隔
離室２０外の圧力）より高く管理する。ガラス微粒子堆
積体の保管中、クリーンエア発生器１２から大きさ０．
３μｍ以上のダスト数が数十〜数百個／ＣＦのクリーン
エアを風量１０〜５０ｍ3 ／分で導入する。なお、隔離
室２０の外側の雰囲気中の大きさ０．３μｍ以上のダス
ト数は数千個／ＣＦとする。ダスト数はＭｅｔ・Ｏｎｅ
社製パーティクルカウンター、モデル２３７Ｂにより測
定した。
にはガラス微粒子堆積装置（ＯＶＤ装置）１０と焼結装
置３２及びガラス微粒子堆積体１５を保管する隔離室２
０を設置し、ハウジング４０内の隔離室内へは吸気口１
１及びクリーンエア発生器１２より大きさが０．３μｍ
以上のダスト数が特定の範囲にあるクリーンガスを導入
し、隔離室２０内の圧力をハウジング４０内の圧力（隔
離室２０外の圧力）より高く管理する。ガラス微粒子堆
積体の保管中、クリーンエア発生器１２から大きさ０．
３μｍ以上のダスト数が数十〜数百個／ＣＦのクリーン
エアを風量１０〜５０ｍ3 ／分で導入する。なお、隔離
室２０の外側の雰囲気中の大きさ０．３μｍ以上のダス
ト数は数千個／ＣＦとする。ダスト数はＭｅｔ・Ｏｎｅ
社製パーティクルカウンター、モデル２３７Ｂにより測
定した。
【００１３】次に、好ましくは４８時間以内に、隔離室
２０からガラス微粒子堆積体１５を取り出して、焼結装
置３２内へ投入し透明ガラス化する。焼結温度は一般に
１５２０〜１５７０℃の範囲とする。該焼結装置３２で
は、上下に上蓋２３、下蓋３０を有する炉心管２７中に
ガラス微粒子堆積体２５を回転保持しヒーター２９を装
着した炉体２８により加熱、焼結させる。焼結装置３２
外の雰囲気は吸気口２１、ＣＡ発生器２２により所定の
クリーン度に保つ。こうして、作製されたガラス母材を
使って、ファイバ化を行う。このときのファイバ外径変
動の発生頻度とスクリーニング試験時の断線頻度との合
計は約２０回／Ｍｍ（外径変動１０回／Ｍｍ、断線１０
回／Ｍｍ）程度と予想される。
２０からガラス微粒子堆積体１５を取り出して、焼結装
置３２内へ投入し透明ガラス化する。焼結温度は一般に
１５２０〜１５７０℃の範囲とする。該焼結装置３２で
は、上下に上蓋２３、下蓋３０を有する炉心管２７中に
ガラス微粒子堆積体２５を回転保持しヒーター２９を装
着した炉体２８により加熱、焼結させる。焼結装置３２
外の雰囲気は吸気口２１、ＣＡ発生器２２により所定の
クリーン度に保つ。こうして、作製されたガラス母材を
使って、ファイバ化を行う。このときのファイバ外径変
動の発生頻度とスクリーニング試験時の断線頻度との合
計は約２０回／Ｍｍ（外径変動１０回／Ｍｍ、断線１０
回／Ｍｍ）程度と予想される。
【００１４】上記の実施形態において、隔離室２０を設
置しない場合は、ＣＡ雰囲気中の保管時間を２４時間以
内とし、しかも該ＣＡ中に存在する０．３μｍ以上の大
きさのダスト数が１００００個／ＣＦ以下であることが
好ましい。
置しない場合は、ＣＡ雰囲気中の保管時間を２４時間以
内とし、しかも該ＣＡ中に存在する０．３μｍ以上の大
きさのダスト数が１００００個／ＣＦ以下であることが
好ましい。
【００１５】
【実施例】以下に本発明を実施例により更に詳細に説明
するが限定を意図するものではない。 （実施例１）ハウジング内にはガラス微粒子堆積装置と
焼結装置及びガラス微粒子堆積体を保管する隔離室を設
置し、ハウジング内雰囲気中における０．３μｍ以上の
大きさを有するダスト数は平均８０００個／ＣＦとす
る。また、隔離室内へは大きさが０．３μｍ以上のダス
ト数が平均で２０個／ＣＦのＣＡを導入し、隔離室内の
圧力を隔離室外の圧力より５０Ｐａ高く管理する。反応
容器と上、下煙突を有するガラス微粒子堆積装置を用い
てガラス微粒子の堆積を行う。コア／クラッド部を有す
る直径２０ｍｍのコアロッドを用いて両側に石英ガラス
製ダミーロッドを溶着して出発ロッドを作製し、出発ロ
ッドを４０ｒｐｍで回転させながら鉛直に設置し、上下
にトラバース運動させながらガラス微粒子合成用バーナ
ーから生成するガラス微粒子堆積体を順次堆積させてガ
ラス微粒子堆積体を作製する。目標のガラス重量１０ｋ
ｇでガラス微粒子の堆積を停止し、作製完了から２時間
後にガラス微粒子堆積体を隔離室へ投入する。さらに２
時間後、隔離装置からガラス微粒子堆積体を取り出し
て、焼結装置内へ投入し透明ガラス化する。作製された
ガラス母材を使って、ファイバ化を行う。このときのフ
ァイバ外径変動の発生頻度とスクリーニング試験時の断
線頻度との合計は約２０回／Ｍｍ（外径変動１０回／Ｍ
ｍ、断線１０回／Ｍｍ）と予想される。
するが限定を意図するものではない。 （実施例１）ハウジング内にはガラス微粒子堆積装置と
焼結装置及びガラス微粒子堆積体を保管する隔離室を設
置し、ハウジング内雰囲気中における０．３μｍ以上の
大きさを有するダスト数は平均８０００個／ＣＦとす
る。また、隔離室内へは大きさが０．３μｍ以上のダス
ト数が平均で２０個／ＣＦのＣＡを導入し、隔離室内の
圧力を隔離室外の圧力より５０Ｐａ高く管理する。反応
容器と上、下煙突を有するガラス微粒子堆積装置を用い
てガラス微粒子の堆積を行う。コア／クラッド部を有す
る直径２０ｍｍのコアロッドを用いて両側に石英ガラス
製ダミーロッドを溶着して出発ロッドを作製し、出発ロ
ッドを４０ｒｐｍで回転させながら鉛直に設置し、上下
にトラバース運動させながらガラス微粒子合成用バーナ
ーから生成するガラス微粒子堆積体を順次堆積させてガ
ラス微粒子堆積体を作製する。目標のガラス重量１０ｋ
ｇでガラス微粒子の堆積を停止し、作製完了から２時間
後にガラス微粒子堆積体を隔離室へ投入する。さらに２
時間後、隔離装置からガラス微粒子堆積体を取り出し
て、焼結装置内へ投入し透明ガラス化する。作製された
ガラス母材を使って、ファイバ化を行う。このときのフ
ァイバ外径変動の発生頻度とスクリーニング試験時の断
線頻度との合計は約２０回／Ｍｍ（外径変動１０回／Ｍ
ｍ、断線１０回／Ｍｍ）と予想される。
【００１６】実施例１と同様の装置を用いて実施例１と
同様にガラス微粒子堆積体の製造を行う。ただしハウ
ジング内のクリーン度、ガラス微粒子堆積体作製後か
ら焼結装置投入までの時間、隔離室内のクリーン度、
隔離室内の圧力、隔離室内での保管時間を以下の表
に示すように変更する場合の、外径変動頻度、断線
頻度を予想する。
同様にガラス微粒子堆積体の製造を行う。ただしハウ
ジング内のクリーン度、ガラス微粒子堆積体作製後か
ら焼結装置投入までの時間、隔離室内のクリーン度、
隔離室内の圧力、隔離室内での保管時間を以下の表
に示すように変更する場合の、外径変動頻度、断線
頻度を予想する。
【００１７】
【表１】
【００１８】
【発明の効果】本発明によりＶＡＤ法若しくはＯＶＤ法
によるガラス母材の製造方法において、まず、作製され
たガラス微粒子堆積体を透明ガラス化するまでの間に隔
離室内で保管し、隔離室内へはクリーンガスを導入し、
かつ隔離室内での保管時間を４８時間以内とすることに
よりガラス微粒子堆積体中に混入するか、若しくはガラ
ス微粒子堆積体表面に付着する異物を効果的に減少させ
ることができ、最終的に得られるガラス母材の品質を向
上させるものである。
によるガラス母材の製造方法において、まず、作製され
たガラス微粒子堆積体を透明ガラス化するまでの間に隔
離室内で保管し、隔離室内へはクリーンガスを導入し、
かつ隔離室内での保管時間を４８時間以内とすることに
よりガラス微粒子堆積体中に混入するか、若しくはガラ
ス微粒子堆積体表面に付着する異物を効果的に減少させ
ることができ、最終的に得られるガラス母材の品質を向
上させるものである。
【図１】本発明のガラス母材の製造方法を実施するのに
適するガラス母材の製造装置の一具体化例を示す概念
図。
適するガラス母材の製造装置の一具体化例を示す概念
図。
Claims (6)
- 【請求項１】 ＶＡＤ法若しくはＯＶＤ法によるガラス
母材の製造方法において、作製されたガラス微粒子堆積
体を高温加熱して透明ガラス化するまでの間、上記ガラ
ス微粒子堆積体を隔離室内へ保管し、かつ隔離室内へは
クリーンガスを導入し、かつ隔離室内での保管時間を４
８時間以内とすることを特徴とするガラス母材の製造方
法。 - 【請求項２】 上記ガラス微粒子堆積体が保管されてい
る隔離室内の圧力が、隔離室外の圧力より圧力が高いこ
とを特徴とする請求項１に記載のガラス母材製造方法。 - 【請求項３】 上記クリーンガス中に存在する０．３μ
ｍ以上の大きさを有するダスト数が１０００個／ＣＦ以
下であることを特徴とする請求項１又は２に記載のガラ
ス母材の製造方法。 - 【請求項４】 ＶＡＤ法若しくはＯＶＤ法を用いて作製
されたガラス微粒子堆積体を高温加熱して透明ガラス化
するまでの間、上記ガラス微粒子堆積体をクリーンエア
雰囲気中に保管し、保管時間を２４時間以内とすること
を特徴とするガラス母材の製造方法。 - 【請求項５】 上記クリーンガス中に存在する０．３μ
ｍ以上の大きさを有するダスト数が１００００個／ＣＦ
以下であることを特徴とする請求項４に記載のガラス母
材の製造方法。 - 【請求項６】 クリーンガスがクリーンエアである請求
項１〜５のいずれかに記載のガラス母材の製造方法。
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|---|---|---|---|
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| CNA038002205A CN1533366A (zh) | 2002-01-24 | 2003-01-24 | 用于制造玻璃颗粒沉积物的方法以及用于制造玻璃预制件的方法 |
| PCT/JP2003/000628 WO2003062159A1 (fr) | 2002-01-24 | 2003-01-24 | Procede de fabrication d'un corps sedimentaire constitue de particules de verre et procede de fabrication de materiau a base de verre |
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|---|---|---|---|
| JP2002091824A JP2003286035A (ja) | 2002-03-28 | 2002-03-28 | ガラス母材の製造方法 |
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-
2002
- 2002-03-28 JP JP2002091824A patent/JP2003286035A/ja active Pending
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