JP2003285599A - 光回折層を有する転写箔 - Google Patents

光回折層を有する転写箔

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JP2003285599A
JP2003285599A JP2002090242A JP2002090242A JP2003285599A JP 2003285599 A JP2003285599 A JP 2003285599A JP 2002090242 A JP2002090242 A JP 2002090242A JP 2002090242 A JP2002090242 A JP 2002090242A JP 2003285599 A JP2003285599 A JP 2003285599A
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Shinji Tajima
真治 田島
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】部分的な高輝度インキ反射層を既存の印刷設備
で容易に製造でき、また、金属反射光回折画像と透明光
回折画像と印刷画像が、それぞれ任意で、かつ、それぞ
れが任意に組合わされている光回折層を有する転写箔を
提供する。 【解決手段】基材、剥離層、光回折層、少なくともセル
ロース誘導体で表面処理されている蒸着金属膜細片を含
有し、かつ、印刷法で部分的に設けられている高輝度イ
ンキ反射層、接着層が順次積層されていることを特徴と
する。また、光回折層と高輝度インキ反射層との間に透
明反射層が、剥離層と光回折層との間に透明及び/又は
不透明インキ層が、さらにまた、高輝度インキ反射層と
接着層との間に印刷層と透明高輝度インキ反射層を積層
されていることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、転写箔に関し、さ
らに詳しくは、金属の蒸着によらない高輝度インキ反射
層を有する光回折層を有する転写箔に関するものであ
る。
【0002】
【従来技術】従来、光回折層を有する転写箔の高輝度イ
ンキ反射層は、通常、真空成膜法で金属の薄膜を全面に
形成することが、知られている。しかしながら、真空成
膜法は特殊な真空設備を必要とする。また、意匠的に高
めるために、部分的な反射層を設けるには、一旦、真空
成膜法で金属薄膜の全面反射層を設けた後に、別工程
で、レジストを印刷しエッチングするので、小ロット生
産に向かず、また、コストがかかるという欠点がある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明はこの
ような問題点を解消するためになされたものである。そ
の目的は、反射層を少なくともセルロース誘導体で表面
処理した金属蒸着膜細片を含有させることで、部分的な
高輝度インキ反射層を、既存設備で容易に製造でき、ま
た、金属反射光回折画像と透明光回折画像と印刷画像
が、それぞれ任意で、かつ、それぞれが任意に組合わさ
れている光回折層を有する転写箔を提供することであ
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、請求項1の発明に係わる転写箔は、基材、剥離
層、光回折層、高輝度インキ反射層、接着層が順次積層
された転写箔において、前記高輝度インキ反射層が、少
なくともセルロース誘導体で表面処理した金属蒸着膜細
片を含有し、かつ、印刷法で部分的に設けられているよ
うにしたものである。本発明によれば、部分的な高輝度
インキ反射層を、高輝度インキを用いた印刷法で形成で
き、既存の印刷設備で容易に製造できる光回折層を有す
る転写箔が提供される。請求項2の発明に係わる転写箔
は、上記光回折層と高輝度インキ反射層との間に、透明
反射層が設けられているように、また、請求項3の発明
に係わる転写箔は、上記剥離層と光回折層との間に、透
明及び/又は不透明インキ層が設けられているようにし
たものである。本発明によれば、部分的で、着色された
金属光沢を有する高輝度インキ反射層、及び/又は透明
反射層を有する光回折層を有する転写箔が提供される。
請求項4の発明に係わる転写箔は、基材、剥離層、光回
折層、少なくともセルロース誘導体で表面処理した金属
蒸着膜細片を含有する高輝度インキ反射層、印刷層、透
明反射層、接着層が順次積層された転写箔において、金
属反射光回折画像、透明光回折画像、印刷画像がそれぞ
れ任意で、かつ、それぞれが任意に組合わされているよ
うに、請求項5の発明に係わる転写箔は、上記剥離層と
光回折層との間に、透明及び/又は不透明インキ層が設
けられているようにしたものである。本発明によれば、
部分的な高輝度インキ反射層を既存設備で容易に製造で
き、また、部分的、及び/又は着色された金属反射光回
折画像、透明光回折画像、印刷画像がそれぞれ任意で、
かつ、それぞれが任意に組合わされている、優れた意匠
性とセキュリティ性とを併せ持つ光回折層を有する転写
箔が提供される。
【0005】
【発明の実施の形態】本発明の実施態様について、図面
を参照して詳細に説明する。図1は、本発明の1実施例
を示す転写箔の断面図である。 (転写箔)光回折層を有する転写箔1は、転写基材2
1、剥離層22、光回折層24、高輝度インキ反射層2
5、熱接着層26が設けられている。また、必要に応じ
て、剥離層22と光回折層24との間に保護層を設けて
もよく、例えば、被転写体へ転写された光回折層24
に、外力による擦れ、キズなどの耐久性が要求される場
合である。
【0006】(転写基材)転写基材21の材料として
は、製造及び転写作業に耐える機械的強度、耐熱性など
があれば、用途に応じて種々の材料が適用できる。例え
ば、ポリエチレンテレフタレ−ト・ポリブチレンテレフ
タレ−ト・ポリエチレンナフタレ−ト・ポリエチレンテ
レフタレート‐イソフタレート共重合体・テレフタル酸
‐シクロヘキサンジメタノール‐エチレングリコール共
重合体・ポリエチレンテレフタレート/ポリエチレンナ
フタレートの共押し出しフィルムなどのポリエステル系
樹脂、ナイロン6・ナイロン66・ナイロン610など
のポリアミド系樹脂、ポリエチレン・ポリプロピレン・
ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリ
塩化ビニルなどのビニル系樹脂、ポリアクリレート・ポ
リメタアクリレート・ポリメチルメタアクリレートなど
のアクリル系樹脂、ポリイミド・ポリアミドイミド・ポ
リエーテルイミドなどのイミド系樹脂、ポリアリレ−ト
・ポリスルホン・ポリエーテルスルホン・ポリフェニレ
ンエ−テル・ポリフェニレンスルフィド(PPS)・ポ
リアラミド・ポリエーテルケトン・ポリエーテルニトリ
ル・ポリエーテルエーテルケトン・ポリエーテルサルフ
ァイトなどのエンジニアリング樹脂、ポリカ−ボネ−
ト、ポリスチレン・高衝撃ポリスチレン・AS樹脂・A
BS樹脂などのスチレン系樹脂、セロファン・セルロー
ストリアセテート・セルロースダイアセテート・ニトロ
セルロースなどのセルロース系フィルム、などがある。
【0007】該転写基材21は、これら樹脂を主成分と
する共重合樹脂、または、混合体(アロイでを含む)、
若しくは複数層からなる積層体であっても良い。また、
該転写基材21は、延伸フィルムでも、未延伸フィルム
でも良いが、強度を向上させる目的で、一軸方向または
二軸方向に延伸したフィルムが好ましい。該転写基材2
1の厚さは、通常、2.5〜100μm程度が適用でき
るが、4〜50μmが好適で、6〜25μmが最適であ
る。この範囲を超える厚さでは、熱伝導性が悪くなっ
て、転写が安定せず、コストも高く、また、この範囲未
満では、機械的強度が不足し、転写時に切断などが発生
して、作業性が低下する。該転写基材21は、これら樹
脂の少なくとも1層からなるフィルム、シート、ボード
状として使用する。通常は、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系のフ
ィルムが、強度、耐熱性、価格面でバランスがよく、好
適に使用され、特にポリエチレンテレフタレートが最適
である。該転写基材21は、塗布に先立って塗布面へ、
コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム
処理、プライマー(アンカーコート、接着促進剤、易接
着剤とも呼ばれる)塗布処理、予熱処理、除塵埃処理、
蒸着処理、アルカリ処理、などの易接着処理を行っても
よい。また、該樹脂フィルムは、必要に応じて、充填
剤、可塑剤、着色剤、帯電防止剤などの添加剤を加えて
も良い。充填剤としては、シリカ、炭酸カルシウムなど
の体質顔料が適用できる。
【0008】(剥離層)転写基材21の保護層23、又
は光回折層24層を形成する面へ、剥離を容易にするた
めに、剥離層22を設ける。該剥離層22としては、離
型性樹脂、離型剤を含んだ樹脂、電離放射線で架橋する
硬化性樹脂などが適用できる。離型性樹脂としては、例
えば、弗素系樹脂、シリコーン、メラミン系樹脂、エポ
キシ樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル系樹脂、繊維素
系樹脂などがある。離型剤を含んだ樹脂は、例えば、弗
素系樹脂・シリコーン・各種のワックスなどの離型剤を
添加又は共重合させた、アクリル系樹脂、ビニル系樹
脂、ポリエステル樹脂、繊維素系樹脂などがある。電離
放射線で架橋する硬化性樹脂は、例えば、紫外線(U
V)、電子線(EB)などの電離放射線で重合(硬化)
する官能基を有するモノマー・オリゴマーなどを含有さ
せた樹脂がある。
【0009】(保護層)保護層23は、転写基材21と
光回折層24との剥離性を高め、かつ転写基材21の剥
離後に光回折層24を保護する作用を果たす。保護層2
3の材質としては、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹
脂、アミド系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂、
ウレタン系樹脂、オレフィン系樹脂、エポキシ系樹脂等
が例示でき、その膜厚は0.5〜5μmが好適である
が、これらに限定されることはない。該保護層23は、
用途などの必要に応じて設ければよい。
【0010】(光回折層)光回折層24は、無色または
着色された透明または半透明なもので、単層であっても
多層状であってもよく、凹凸を注型や型押しで再現でき
る熱可塑性樹脂、硬化性樹脂、あるいは、光回折パター
ン情報に応じて硬化部と未硬化部とを成形することがで
きる感光性樹脂組成物が利用できる。具体的には、例え
ば、ポリ塩化ビニル、アクリル(ポリメチルメタクリレ
ート)、ポリスチレン、またはポリカーボネート等の熱
可塑性樹脂、不飽和ポリエステル、メラミン、エポキ
シ、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メ
タ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポ
リエーテル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)
アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、または
トリアジン系アクリレート等の熱硬化性樹脂であり、そ
れぞれの単独、熱可塑性樹脂どうし、または熱硬化性樹
脂同志の混合、もしくは熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂の
混合等であってもよい。ラジカル重合性不飽和基を有
し、熱成形性を有するものや、ラジカル重合性不飽和モ
ノマーを添加した電離放射線硬化性樹脂組成物も利用で
きる。
【0011】(光回折層)電離放射線硬化樹脂として
は、例えば、エポキシ変性アクリレート樹脂、ウレタン
変性アクリレート樹脂、アクリル変性ポリエステル等が
適用でき、好ましくはウレタン変性アクリレート樹脂
で、特に下記の一般式で表されるウレタン変性アクリル
系樹脂が好ましい。
【0012】
【化1】
【0013】ここで、6個のR1は夫々互いに独立して
水素原子またはメチル基を表わし、R2は炭素数が1〜
16個の炭化水素基を表わし、XおよびYは直鎖状また
は分岐鎖状のアルキレン基を表わす。l、m、n、o及
びpの合計を100とした場合に、lは20〜90、m
は0〜80、nは0〜50、o+pは10〜80、pは
0〜40の整数である。
【0014】上記式(1)で表わされるウレタン変性ア
クリル系樹脂は、例えば、好ましい1例として、メタク
リル酸メチル20〜90モルとメタクリル酸0〜50モ
ルと2−ヒドロキシエチルメタクリレート10〜80モ
ル、Zとしてイソボルニルメタクリレート0〜80モル
とを共重合して得られるアクリル共重合体であって、該
共重合体中に存在している水酸基にメタクリロイルオキ
シエチルイソシアネート(2−イソシアネートエチルメ
タクリレート)を反応させて得られる樹脂である。
【0015】従って、上記メタクリロイルオキシエチル
イソシアネートが共重合体中に存在している全ての水酸
基に反応している必要はなく、共重合体中の2−ヒドロ
キシエチルメタクリレート単位の水酸基の少なくとも1
0モル%以上、好ましくは50モル%以上がメタクリロ
イルオキシエチルイソシアネートと反応していればよ
い。上記の2−ヒドロキシエチルメタクリレートに代え
て又は併用して、N−メチロールアクリルアミド、N−
メチロールメタクリルアミド、2−ヒドロキシエチルア
クリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2
−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプ
ロピルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレ
ート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート等の水酸基
を有するモノマーも使用することができる。
【0016】以上の如く、水酸基含有アクリル系樹脂中
に存在している水酸基を利用して、分子中に多数のメタ
クリロイル基を導入したウレタン変性アクリル系樹脂を
主成分とする樹脂組成物によって、例えば、回析格子等
を形成する場合には、硬化手段として紫外線や電子線等
の電離放射線が使用でき、しかも高架橋密度でありなが
ら柔軟性および耐熱性等に優れた回析格子等を形成する
ことができる。
【0017】(光回折層の形成)剥離層22、保護層2
3、光回折層24の形成は、上述したそれぞれの材料を
溶剤に溶解または分散させて、適宜添加剤を添加するな
どした組成物を、印刷またはコーティング法で、少なく
とも1部に塗布し乾燥して、塗膜を形成すれば良い。ま
た、電離放射線で架橋する硬化性樹脂は、そのままの無
溶剤、または溶剤へ分散若しくは溶解した組成物インキ
を、印刷またはコーティング法で、少なくとも1部に塗
布し、必要に応じて乾燥し、後述するように表面凹凸パ
ターン(光回折パターン)を複製(エンボスともいう)
した後に、電離放射線を照射して硬化して形成する。乾
燥後の厚さとしては、剥離層22は、通常、0.01μ
m〜5.0μm程度、好ましくは0.5μm〜3.0μ
m程度である。該厚さは薄ければ薄い程良いが、0.1
μm以上であればより良い成膜が得られて剥離力が安定
する。保護層23の厚さは1μm〜10μm程度、光回
折層24の厚さは0.1μm〜10μm程度である。
【0018】印刷方法としては、グラビア印刷、スクリ
ーン印刷などが適用できる。コーティング方法として
は、ロールート、リバースロールコート、グラビアコー
ト、リバースグラビアコート、バーコート、ロッドコ−
ト、キスコート、ナイフコート、ダイコート、コンマコ
ート、フローコート、スプレーコートなどのコーティン
グ方法が適用できる。
【0019】(光回折=凹凸パターン)光回折層24
は、2次元または3次元画像を再生可能な表面凹凸パタ
ーン(光回折パターン)が形成されたものである。この
表面凹凸パターンとしては、物体光と参照光との光の干
渉による干渉縞の光の強度分布が凹凸模様で記録された
ホログラムや回折格子が適用できる。(ホログラム)ホ
ログラムとしては、フレネルホログラム、フラウンホー
ファーホログラム、レンズレスフーリエ変換ホログラ
ム、イメージホログラム等のレーザ再生ホログラム、及
びレインボーホログラム等の白色光再生ホログラム、さ
らに、それらの原理を利用したカラーホログラム、コン
ピュータホログラム、ホログラムディスプレイ、マルチ
プレックスホログラム、ホログラフィックステレオグラ
ム、ホログラフィック回折格子、電子線で直接描画する
等の機械的に形成された回折格子などがある。
【0020】(回折格子)回折格子としては、ホログラ
ム記録手段を利用したホログラフィック回折格子があげ
られ、その他、電子線描画装置等を用いて機械的に回折
格子を作成することにより、計算に基づいて任意の回折
光が得られる回折格子をあげることもできる。これらの
ホログラム、回折格子は、単一若しくは多重に記録して
も、組み合わせて記録しても良い。
【0021】(凹凸パターンの複製)ホログラムおよび
/または回折格子を記録する表面凹凸パターン(光回折
パターン)は、光回折層24の高輝度インキ反射層25
の側に設ける。光回折パターンを複製する際には、マス
ターそのものも使用できるが、摩耗や損傷の恐れがある
ため、アナログレコード等におけるのと同様、マスター
に金属メッキまたは紫外線硬化樹脂を塗布し、紫外線を
照射して硬化させて剥がす等の方法により、金属または
樹脂による複製を行ない、複製された型を使用して商業
的複製を行なう。
【0022】(大量複製)商業的複製の方法は、金型ま
たは樹脂型を利用し、熱可塑性の合成樹脂、又は常温で
固体状の電離放射線硬化性樹脂を素材として使用し、プ
レス(エンボスともいう)によりホログラムを複製する
か、または、金型または樹脂型面に電離放射線硬化性樹
脂などの液状の樹脂を塗布し、紫外線や電子線を照射し
て硬化させた後に、剥離して複製する。この商業的な複
製は、長尺状で行うことで連続な複製作業ができて、ホ
ログラムを一方の表面に有する光回折層24が得られ
る。
【0023】(高輝度インキ反射層)光回折層24に設
けた光回折パターンは、該光回折パターン面に高輝度イ
ンキ反射層25を設けることにより、ホログラムの再生
像および/または回折格子が明瞭に視認できるようにな
る。従来、金属光沢の高輝度インキ反射層25として
は、通常、特殊機能を発揮させるものを除いては、真空
蒸着法で形成したアルミニウムの金属薄膜が用いられて
きた。他の、例えば、圧延法のアルミニウム箔では、真
空薄膜法の金属薄膜ほどの金属光沢が、得られなかっ
た。また、他の金属では、色調を帯びていたり、高コス
トためである。このように、真空蒸着法のアルミニウム
薄膜が、実際に実用されている汎用用途では、全てと言
って良いほどに、また、長期間にわたって用いられてき
た。また、従来からも、金属光沢を付与する印刷インキ
がったが、該インキはアルミニウムペーストやアルミニ
ウム粉等の金属顔料を用いた、シルバーまたはゴールド
等のメタリック調印刷インキである。アルミニウムペー
ストには、リーフィングタイプとノンリーフィングタイ
プがあるが、いずれを用いても、真空薄膜法の金属薄膜
の金属光沢には、はるかに及ばなかった。さらにまた、
蒸着アルミニウム薄膜を粉砕した粉末を用いたインキが
あったが、表面処理が異なり分散性が悪く、十分な高輝
度が得られなかった。
【0024】ところが、本発明では、印刷法で、真空薄
膜法の金属薄膜に匹敵する金属光沢が得られることを見
出した。即ち、少なくともセルロース誘導体で表面処理
した金属蒸着膜細片を含有させた高輝度インキを用い
て、印刷法で高輝度を発揮でき、光回折画像の反射層に
使用することができることを見出した。さらに、印刷法
なので、部分的な高輝度インキ反射層を、また、他の印
刷層があればこの印刷絵柄に同調させて、高輝度インキ
反射層を設けることが容易である。さらに高価な真空蒸
着機を用いず、既存の印刷設備で製造することができ
る。上記高輝度インキ反射層を用いて印刷法で部分的に
設け、また、印刷絵柄と同調するように設けることで、
意匠効果が高まる。さらにまた、光回折層と高輝度イン
キ反射層との間に、透明反射層を設けてもよい。このよ
うに、光回折層、高輝度インキ反射層、透明反射層、透
明及び/又は不透明インキ層を組み合わせたり、上記し
た高輝度インキ反射層を部分的に設けたり、また、印刷
絵柄と同調するように設けたりすることで、より一層意
匠効果が高まる。部分的とは、文字、数字、記号、イラ
スト、模様、写真などのすべての絵柄が使用できる。少
なくとも、セルロース誘導体で表面処理した金属蒸着膜
細片とバインダとからなる高輝度インキ反射層25は、
意匠性が高く、かつ、目視で容易に真偽が判定できてセ
キュリティ性も高まり、小ロット生産にも対応でき、ま
た、コストも低くできるという著しい効果を発揮する。
【0025】また、従来の真空蒸着法で形成したアルミ
ニウムの金属薄膜は、十分な金属光沢が得られる。しか
しながら、意匠的に高めるために、部分的なアルミニウ
ムの金属薄膜を設けるには、一旦、真空成膜法でアルミ
ニウム金属薄膜を全面に設けた後に、別工程で、レジス
トを印刷しエッチングするので、コストが非常に高く、
また、製造工程が多くなって小ロット生産に向かない。
【0026】(高輝度インキ)そこで、本発明の高輝度
インキ反射層25としては、金属蒸着膜に匹敵する金属
光沢を有する高輝度インキを用いた印刷法によって、任
意な画像絵柄の高輝度インキ反射層25とする。該任意
な画像絵柄の高輝度インキ反射層25が得られること
で、これに対応する光回折層24部分の光回折画像が視
認できるようになる。該インキは、金属蒸着膜細片をセ
ルロース誘導体で表面処理してインキ中への分散性を向
上させて、インキ塗膜の金属光沢を高輝度としたもので
ある。該インキは、セルロース誘導体で表面処理した金
属蒸着膜細片、バインダ、添加剤、及び溶剤からなり、
必要に応じてグラビアインキ、スクリーンインキ、又は
フレキソインキ化すればよい。
【0027】金属蒸着膜細片の金属としては、アルミニ
ウムが適用できるが、必要に応じて、金、銀、銅、真
鍮、チタン、クロム、ニッケル、ニッケルクロム、ステ
ンレス等も使用できる。金属蒸着膜の厚さは、0.01
〜0.1μmが好ましく、さらに好ましくは0.03〜
0.08μmであり、インキ中に分散させた金属蒸着膜
細片の大きさは、5〜25μmが好ましく、さらに好ま
しくは10〜15μmである。大きさが、この範囲未満
の場合はインキ塗膜の輝度が不十分となり、この範囲を
超えると、グラビア版のセルに入りにくく、またスクリ
ーン版が目詰まりし易く、印刷塗膜の光沢が低下する。
【0028】金属蒸着膜細片は、まず、ポリエステルフ
ィルム/剥離層/蒸着膜/表面の酸化防止トップコート
層からなる蒸着フィルムを作成する。剥離層、トップコ
ート層は、特に限定されないが、例えば、セルロース誘
導体、アクリル樹脂、塩素化ポリプロピレンなどが適用
できる。上記蒸着フィルムを、溶剤中に浸積して、金属
蒸着膜を剥離、撹拌、濾別、乾燥して、金属蒸着膜細片
を得る。該金属蒸着膜細片を温度10〜35℃、30分
程度、撹拌しながら、セルロース誘導体溶液を加え、金
属蒸着膜細片の表面にセルロース誘導体を吸着させて、
金属蒸着膜細片の表面処理を行う。セルロース誘導体と
しては、ニトロセルロース、セルロースアセテートプロ
ピオネート、セルロースアセテートブチレート、エチル
セルロース等が適用できる。セルロース誘導体の添加量
は、金属がアルミニウムの場合は、蒸着膜細片に対して
1〜20質量%が好ましい。
【0029】該表面処理の後、金属蒸着膜細片を分離、
又は金属蒸着膜細片スラリーをそのまま、バインダ及び
溶剤へ配合、分散させてインキ化する。該バインダとし
ては、公知のインキ使われているものでよく、例えば、
(メタ)アクリル樹脂、ポリエステル、ポリアミド、ポ
リウレタン、セラック、アルキッド樹脂等がある。該イ
ンキには、必要に応じて、着色用顔料、染料、ワック
ス、可塑剤、レベリング剤、界面活性剤、分散剤、消泡
剤、キレート化剤などの添加剤を添加してもよい。イン
キの溶剤は、公知のインキ用溶剤を使用することがで
き、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族系炭化水
素、n−ヘキサン、シクロヘキサン等の脂肪族または脂
環式炭化水素、酢酸エチル、酢酸プロピル等のエステル
類、メタノール、エタノール、IPA等のアルコール
類、アセトン、MEK等のケトン類、エチレングリコー
ルモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチ
ルエーテル等のアルキレングリコールモノアルキルエー
テル等がある。
【0030】また、通常のインキは、ロールミル、ボー
ルミルなどで混練して、顔料た添加剤をサブミクロンま
で微粒子化し高度に分散させて、印刷適性を持たせる。
しかしながら、本発明で使用する高輝度インキは、混練
工程を必要とせず、攪拌機で混合するだけでよく分散
し、金属光沢が損なわれない。即ち、高輝度の金属光沢
を発現させるためには、金属蒸着膜細片の大きさが5〜
25μm程度が必要で、上記混練工程を行うと金属光沢
が極端に低下してしまう。
【0031】(高輝度インキ印刷)以上のようにして得
られたインキを、公知のグラビ印刷、スクリーン印刷、
又はフレキソ印刷で、所要の絵柄を製版して、印刷し、
乾燥、必要に応じて硬化すればよい。このようにして、
部分的、又は任意の画像の高輝度インキ反射層25が得
られる。また、高輝度インキ反射層25を着色してもよ
く、高輝度インキ中に染料及び/又は顔料を添加した
り、金属蒸着膜細片へセルロース誘導体を吸着させる表
面処理を行う際に、セルロース誘導体溶液に染料及び/
又は顔料を添加したり、すればよい。また、該着色は透
明でも不透明でもよく、不透明であればパール調、パス
テル調の外観が得られる。(熱接着層)次に、高輝度イ
ンキ反射層25面に熱接着層26を設ける。該熱接着層
26の材料としては、公知の加熱されると溶融または軟
化して接着効果を発揮する感熱接着剤が適用でき、具体
的には、塩化ビニール酢酸ビニール共重合樹脂、アクリ
ル系樹脂、ポリエステル系樹脂などが挙げられる。該材
料樹脂を溶剤に溶解または分散させて、適宜顔料などの
添加剤を添加して、公知のロールコーティング、グラビ
アコーティングなどの方法で塗布し乾燥させて、厚さ
0.1〜30μm程度、好ましくは0.5〜10μmの
層とする。
【0032】(部分的な金属反射光回折画像部)このよ
うにして、基材21、剥離層22、光回折層24、高輝
度インキ反射層25、接着層26が順次積層された転写
箔が得られる。この高輝度インキ反射層は従来の蒸着ア
ルミニウムではなく、少なくともセルロース誘導体で表
面処理されている蒸着金属膜細片を含有するインキで、
印刷法で部分的に設けられている光回折層を有する転写
箔である。図1に図示するようには、高輝度インキを印
刷した図1(A部)は、十分な金属光沢が得られてお
り、光回折層24に記録された光回折画像が、明確に視
認できるので、「金属反射光回折画像部」となる。しか
し、図1(C部)は反射層がなく、直接、熱接着層26
が積層されているために、光回折層24と熱接着層26
との屈折率に差がなく、光が回折しないので、「光回折
画像不可視部」となる。光回折画像が視認できず、何も
見えない、ただ下が透けて見えるだけである。図1(A
部)のみが、例えば、二次元又は三次元画像を表わすホ
ログラムや回折格子、即ち、部分的に光回折画像を、可
視的に見ることができる。図1(A部)は任意の部分
(絵柄)とすることで、部分的な「金属反射光回折画像
部」を得ることができる。
【0033】図2は、本発明の1実施例を示す転写箔の
断面図である。 (透明光回折画像部)図2は他の実施例を示し、光回折
層24と高輝度インキ反射層25との間に透明反射層2
7を設けたものである。該透明反射層27は、その光学
的な屈折率が光回折層24のそれとは異なることによ
り、光回折画像、ホログラムを視認できるものとでき
る。該透明反射層27として、光回折層24とは異なる
屈折率を有するものを用いると、ほぼ無色透明な色相
で、金属光沢が無いにもかかわらず、ホログラムが視認
できるから、透明なホログラムを作製することができ
る。例えば、光回折層24と屈折率に差のある透明金属
化合物が適用でき、光回折層24よりも光の屈折率の高
い薄膜、および光の屈折率の低い薄膜とがあり、前者の
例としては、ZnS、TiO2、Al23、Sb23
SiO、SnO2、ITO等があり、後者の例として
は、LiF、MgF2、AlF3がある。透明金属化合物
の形成は、光回折層24面に、0.01〜0.1μm程
度、好ましくは0.03〜0.08μmの厚みになるよ
う、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティングなど
の真空薄膜法などにより設ければよい。
【0034】(金属反射光回折画像部、透明反射光回折
画像部の混在)このようにすると、図2(A部)は、図
1(A部)と同様に十分な金属光沢が得られており、光
回折層24に記録された光回折画像が明確に視認できる
ので、「金属反射光回折画像部」となる。図2(B部)
には、透明反射層があるために、光回折層24に記録さ
れた光回折画像が明確に視認できるが、金属反射はない
ので、「透明光回折画像部」となる。即ち、「金属反射
光回折画像部」と「透明光回折画像部」とをそれぞれ任
意の画像とすることができ、かつ、「金属反射光回折画
像部」と「透明光回折画像部」とを異なる画像とすれ
ば、任意に混在した画像が得られる。
【0035】図3は、本発明の1実施例を示す転写箔の
断面図である。 (着色有・無の金属反射光回折画像部、着色有・無の透
明反射光回折画像部の混在)図3は他の実施例を示し、
剥離層22又は必要に応じて保護層23と、光回折層2
4との間にインキ層31を設けたものである。該インキ
層31は、単独または複数の、透明及び/又は不透明イ
ンキ層31でもよい。透明及び/又は不透明インキ層3
1としては、染料、顔料を溶解又は分散した公知のグラ
ビアインキ、オフセットインキ、スクリーンインキ、フ
レキソインキなどのインキを用いて、公知のグラビア印
刷、オフセット印刷、スクリーン印刷、フレキソ印刷な
どの印刷法で印刷すればよい。また、該インキ層31の
絵柄は、光回折層24の画像と同調させたり、相互に共
通又は連続させたり、絵柄によっては下地に白や黒など
のベタ印刷をしたりすると、さらに効果的である。この
ようにすると、図3(A部)は、図1(A部)と同様に
十分な金属光沢が得られており、光回折層24に記録さ
れた光回折画像が明確に視認できるので、「金属反射光
回折画像部」となる。図3(AA部)には、透明及び/
又は不透明インキ層31があるために、例えば透明イン
キ部31の色調が黄色とすると、高輝度インキ反射層2
5の金属光沢と合わせて金色に見えるために、該部分に
対応する光回折層24に記録された光回折画像が「着色
有の金属反射光回折画像部」、即ち、金色に見える。一
方、図3(B部)には、透明反射層があるために、光回
折層24に記録された光回折画像が明確に視認できる
が、金属反射はないので、「透明光回折画像部」とな
る。図3(BB部)には、透明インキ層31があるため
に、例えば透明インキ部31の色調が青色とすると、該
部分に対応する光回折層24に記録された光回折画像が
見えるために、「着色有の透明反射光回折画像部」、即
ち、青色光回折画像に見える。従って、「金属反射光回
折画像部」、「着色有の金属反射光回折画像部」、「透
明光回折画像部」、「着色有の透明反射光回折画像部」
とをそれぞれ任意の画像とすることができ、かつ、「金
属反射光回折画像部」、「着色有の金属反射光回折画像
部」、「透明光回折画像部」、「着色有の透明反射光回
折画像部」とが任意に混在した画像を得ることができ
る。
【0036】また、不透明インキからなる画像を形成す
れば、該不透明インキが光回折層24及び/又は透明反
射層27及び/又は高輝度インキ反射層25を覆って隠
蔽し、光回折層24を隠し込むことができる。該隠し込
み光回折画像は不透明インキを除去することで視認でき
るが、偽造者には隠してあることが判らずセキュリティ
性が高まる。さらにまた、隠蔽された部分は「印刷画
像」が、また、不透明インキがなく、隠蔽されていない
部分は「金属反射光回折画像」、「着色有の金属反射光
回折画像」、「透明光回折画像」、「着色有の透明反射
光回折画像部」などの「光回折画像」が見える。即ち、
「光回折画像」と「印刷画像」とが連続して見ることが
できる。このように、透明及び/又は不透明インキ層3
1、光回折層24、透明反射層27、高輝度インキ反射
層25を組み合わせることで、意匠性を著しく高めるこ
とができる。かつ、目視で容易に真偽が判定できるが、
「金属反射光回折画像、透明光回折画像、印刷画像」
が、複雑かつ相互に入り組んだ絵柄を構成しているの
で、偽造することは極めて困難で、セキュリティ性が高
まる。また、印刷法のために小ロット生産にも対応で
き、また、コストも低くできるという優れた効果を発揮
する。
【0037】図4は、本発明の1実施例を示す転写箔の
断面図である。 (金属反射光回折画像部、透明光回折画像部、無光回折
画像部の混在)図4は他の実施例を示し、基材21、剥
離層22、光回折層24、少なくともセルロース誘導体
で表面処理されている蒸着金属膜細片を含有する高輝度
インキ反射層25、印刷層33、透明反射層27、接着
層26が順次積層された転写箔である。印刷層33は、
公知の印刷法で印刷すればよく、他の層については、前
述と同様に形成すればよい。印刷法としては、例えば、
平版印刷、凹版印刷、凸版印刷、孔版印刷の基本印刷
法、および、それらの応用印刷法が適用できる。応用印
刷法としては、フレキソ印刷、樹脂凸版印刷、グラビア
オフセット印刷、タコ印刷などや、インクジェット印
刷、転写箔を用いる転写印刷、熱溶融または昇華型イン
キリボンを用いる転写印刷、静電印刷などが適用でき
る。また、技法では、インキを紫外線で硬化する紫外線
(UV)硬化印刷、インキを高温で硬化する焼き付け印
刷、湿し水を用いない水なしオフセット印刷、などがあ
る。
【0038】印刷インキは、少なくともビヒクルと着色
料とを含み、その粘度は、0.1〜3000ポアズが好
ましい。着色料は、無機顔料、有機顔料のうち1種類以
上を含有する。無機顔料としては、フェロシアン化鉄、
酸化鉄、カドミウム系顔料、酸化チタン、アルミナ、炭
酸カルシウム、硫酸バリウムなどがあり、有機顔料とし
ては、不溶性アゾ色素系、アゾレーキ系、スタロシアニ
ン系、ケレート系、ニトロ系、ジオインジゴー系、アン
スラキノン系、ペリレン系、キナクリドン系、スレン
系、ジオキサジン系顔料としては縮合型アゾ系などがあ
る。
【0039】ビヒクルとしては、乾燥油、合成樹脂、天
然樹脂、繊維系、ゴム誘導体のうち1種類以上が適用で
きる。乾燥油としては、亜麻仁油、シナキリ油、エノ
油、大豆油、魚油、脱水ヒマシ油、スチレン化油、ビニ
ルトルエン化油、マレイン油などがある。天然樹脂とし
ては、ウッドロジン、重合ロジン、石灰硬化ロジン、亜
鉛硬化ロジン、ロジンエステル、セラックなどがある。
合成樹脂としては、フェノール樹脂、変性アルキド樹
脂、ポリアミド樹脂、コールタールピッチ、ステアリン
ピッチなどがある。繊維系としては、ニトロセルロー
ス、エチルセルロース、セルロースアセテート、セルロ
ースアセテートプロピオネート、などがある。ゴム誘導
体としては、環化ゴム、塩化ゴムなどがある。
【0040】該インキ組成物には、必要に応じて、充填
剤、可塑剤、分散剤、潤滑剤、帯電防止剤、酸化防止
剤、防黴剤、などの添加剤を、適宜加えても良い。これ
らの組成物を、分散・混練して、また、必要に応じて、
溶剤で固形分量や粘度を調整して、インキ組成物とす
る。該インキを、前記印刷法で印刷して、乾燥し、必要
に応じて、温度30℃〜70℃で適宜エージング、また
は、電離放射線(紫外線、電子線)を照射して、形成す
れば良い。
【0041】このようにすると、前述した原理によっ
て、図4(A部)は「金属反射光回折画像部」となり、
図4(B部)は「透明光回折画像部」となり、図4(C
部)は「光回折画像不可視部」となる。「光回折画像不
可視部」には、光回折層24があるが、該光回折層24
の表面にある光回折する凹凸パターンが印刷層33のイ
ンキで埋まってしまい、光回折層24と印刷層33の屈
折率差が少ないので光が回折しない。従って、光回折画
像が視認できず、印刷層33の絵柄などの画像が見える
「印刷画像部」となる。また、高輝度インキ反射層25
と印刷層33の画像を任意にすることによって、「金属
反射光回折画像部」、「透明光回折画像部」、「印刷画
像部」の画像がそれぞれ任意で、かつ、それぞれが任意
に組合わすことができる。
【0042】さらに、図4の構成の剥離層22と光回折
層24との間に透明インキ層31を設けると、「金属反
射光回折画像部」、「着色有の金属反射光回折画像
部」、「透明光回折画像部」、「着色有の透明反射光回
折画像部」、「印刷画像部」の画像がそれぞれ任意で、
かつ、それぞれを任意に組合わすことができる。
【0043】
【実施例】(実施例1)まず、転写基材21として、厚
さ12μmのルミラーFタイプ(東レ社製、ポリエステ
ルフィルム商品名)を用いた。この一方の面へ、剥離ニ
ス45−3(昭和インク社製、アクリル系樹脂の剥離イ
ンキ商品名)を固形分10質量%となるように溶剤で稀
釈して、ロールコーティング法で、乾燥後の厚さが1μ
mになるように塗布し乾燥して、剥離層22を形成し
た。該剥離層22面へ、ユピマーLZ065(三菱化学
社製、紫外線硬化樹脂商品名)を固形分25質量%とな
るように溶剤で稀釈して、リバースロールコーティング
法で、乾燥後の厚さが3μmになるように塗布し乾燥し
て、光回折層24を形成した。該光回折層24面へ、ス
タンパを加圧(エンボス)してレリーフを賦形する。別
途レーザー光を用いて作ったマスターホログラムから、
2P法で複製したスタンパを複製装置のエンボスローラ
ーに貼着して、150℃で相対するローラーと間で加熱
プレス(エンボス)して、微細な凹凸パターンからなる
レリーフを賦形させた。賦形後直ちに、高圧水銀灯で波
長が200〜400nmの紫外線を照射して硬化させ
た。該光回折層24面へ、ファインラップスーパーメタ
リックシルバーインキ(大日本インキ化学工業社製、高
輝度インキ商品名)を用いて、グラビア印刷法で、乾燥
後の厚さが5μmになるように印刷して、高輝度インキ
反射層25を形成した。該高輝度インキ反射層25面
へ、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体が25質量%、マイ
クロシリカ25質量%となるように溶剤で稀釈して、グ
ラビア印刷法で、乾燥後の厚さが2μmになるように、
全面に塗布し乾燥して、熱接着層26を形成して、本発
明の光回折層を有する転写箔1(転写基材/剥離層/光
回折層/高輝度インキ反射層/熱接着層)を得た。該転
写箔は、部分的な高輝度インキ反射層を既存設備で容易
に製造できた。また、「金属反射光回折画像部」の画像
が得られた。
【0044】(実施例2)光回折層24面と高輝度イン
キ反射層25との間へ透明反射層27を設ける以外は、
実施例1と同様にして、実施例2の発明の光回折層を有
する転写箔1(転写基材/剥離層/光回折層/透明反射
層/高輝度インキ反射層/熱接着層)を得た。透明反射
層27は、光回折層24面へ厚さ600nmの硫化亜鉛
を真空蒸着法で形成した。該転写箔は、「金属反射光回
折画像部」、「透明光回折画像部」の画像が得られた。
【0045】(実施例3)高輝度インキ反射層を着色す
る以外は、実施例2と同様にして、実施例3の本発明の
光回折層を有する転写箔1(転写基材/剥離層/光回折
層/透明反射層/着色高輝度インキ反射層/熱接着層)
を得た。着色高輝度インキ反射層は、高輝度インキへ青
色グラビアインキを添加して着色した。該転写箔は、部
分的な高輝度インキ反射層を既存設備で容易に製造でき
る。また、「金属反射光回折画像部」、「青着色有の金
属反射光回折画像部」、「透明光回折画像部」の画像が
それぞれ任意で、かつ、それぞれを任意に組合わすこと
ができた。
【0046】(実施例4)剥離層22と光回折層24と
の間へ透明及び不透明インキ層を設ける以外は、実施例
2と同様にして、実施例4の本発明の光回折層を有する
転写箔1(転写基材/剥離層/透明及び不透明インキ層
/光回折層/透明反射層/高輝度インキ反射層/熱接着
層)を得た。透明及び不透明インキ層は、剥離層面へ公
知のグラビア印刷法で、赤色透明グラビアインキ、並び
にイエロー、シアン、マゼンタ、墨色の一般的な不透明
グラビアインキを用いて、カラー写真調の印刷層を形成
した。また、写真調印刷部には、下地として白色インキ
部を設けた。該転写箔は、「金属反射光回折画像部」、
「着色有の金属反射光回折画像部」、「透明光回折画像
部」、「着色有の透明反射光回折画像部」、「写真印刷
画像」の画像がそれぞれ任意で、かつ、それぞれを任意
に組合わすことができた。
【0047】(実施例5)実施例3の層構成の透明反射
層と高輝度インキ反射層とを逆にし、かつ、該高輝度イ
ンキ反射層と透明反射層との間に、印刷層を設けて、な
おかつ、高輝度インキ反射層として、印刷層絵柄に輪郭
を延在させたパターン絵柄として、実施例5の本発明の
光回折層を有する転写箔1(転写基材/剥離層/透明及
び不透明インキ層/光回折層/高輝度インキ反射層/印
刷層/透明反射層/熱接着層)を得た。透明及び不透明
インキ層は、剥離層面へ公知のグラビア印刷法で、赤色
透明グラビアインキ、並びにイエロー、シアン、マゼン
タ、墨色の一般的な不透明グラビアインキを用いて、カ
ラー写真調の印刷層を形成した。また、「金属反射光回
折画像部」、「着色有の金属反射光回折画像部」、「透
明光回折画像部」、「着色有の透明反射光回折画像
部」、「印刷画像部」の画像がそれぞれ任意で、かつ、
それぞれを任意に組合わされ、なおかつ、「金属反射光
回折画像部」、「着色有の金属反射光回折画像部」と
「印刷画像部」の画像とは、同調して形成できた。
【0048】
【発明の効果】本発明の光回折層を有する転写箔によれ
ば、部分的な高輝度インキ反射層を既存設備で容易に製
造できる。また、「金属反射光回折画像部」、及び/又
は「着色有の金属反射光回折画像部」、及び/又は「透
明光回折画像部」、及び/又は「着色有の透明反射光回
折画像部」、及び/又は「印刷画像部」の画像がそれぞ
れ任意で、かつ、それぞれを任意に組合わすことがで
き、優れた意匠性及びセキュリティ性を併せ持った光回
折層を有する転写箔が提供される。即ち、例えば、不透
明インキからなる印刷画像を形成すれば、光回折層24
を隠し込むことができる。該隠し込み光回折画像は不透
明インキを除去することで視認できるが、偽造者には隠
してあることが判らずセキュリティ性が高まる。また、
隠蔽された部分は「印刷画像」が見え、また、隠蔽され
ていない部分は「金属反射光回折画像」、「着色有の金
属反射光回折画像」、「透明光回折画像」、「着色有の
透明反射光回折画像部」などの「光回折画像」が見え
る。即ち、「光回折画像」と「印刷画像」とが連続して
見ることができ、意匠性を著しく高まる。さらにまた、
目視で容易に真偽が判定できるが、「金属反射光回折画
像、透明光回折画像、印刷画像」が、複雑かつ相互に入
り組んだ絵柄を構成しているので、偽造することは極め
て困難でセキュリティ性が高まる。また、印刷法のため
に小ロット生産にも対応でき、また、コストも低くでき
るという優れた効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の1実施例を示す転写箔の断面図であ
る。
【図2】 本発明の1実施例を示す転写箔の断面図であ
る。
【図3】 本発明の1実施例を示す転写箔の断面図であ
る。
【図4】 本発明の1実施例を示す転写箔の断面図であ
る。
【符号の説明】
21 転写基材 22 剥離層 23 保護層 24 光回折層 25 光輝度インキ反射層 26 熱接着層 27 透明反射層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03H 1/18 G03H 1/18 // C09J 7/02 C09J 7/02 B Fターム(参考) 2H049 AA03 AA07 AA25 AA39 AA56 CA05 CA09 2K008 AA04 EE01 EE04 FF11 GG05 HH19 3B005 EA04 EA06 EA12 EB01 EC14 FB01 FB11 FB22 FB38 FB39 FB42 FB55 FB57 FB61 FE00 FE21 FE31 FF00 GA02 4J004 CC03 CD01 DB02 FA01 4J039 BE01 BE02 FA01 GA05

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基材、剥離層、光回折層、高輝度インキ
    反射層、接着層が順次積層された転写箔において、前記
    高輝度インキ反射層が、少なくともセルロース誘導体で
    表面処理した金属蒸着膜細片を含有し、かつ、印刷法で
    部分的に設けられていることを特徴とする光回折層を有
    する転写箔。
  2. 【請求項2】 上記光回折層と高輝度インキ反射層との
    間に、透明反射層が設けられていることを特徴とする請
    求項1記載の光回折層を有する転写箔。
  3. 【請求項3】 上記剥離層と光回折層との間に、透明及
    び/又は不透明インキ層が設けられていることを特徴と
    する請求項1〜2のいずれかに記載の光回折層を有する
    転写箔。
  4. 【請求項4】 基材、剥離層、光回折層、少なくともセ
    ルロース誘導体で表面処理した金属蒸着膜細片を含有す
    る高輝度インキ反射層、印刷層、透明反射層、接着層が
    順次積層された転写箔において、金属反射光回折画像、
    透明光回折画像、及び印刷画像が、それぞれ任意で、か
    つ、それぞれが任意に組合わされていることを特徴とす
    る光回折層を有する転写箔。
  5. 【請求項5】 上記剥離層と光回折層との間に、透明及
    び/又は不透明インキ層が設けられていることを特徴と
    する請求項4に記載の光回折層を有する転写箔。
  6. 【請求項6】 上記少なくともセルロース誘導体で表面
    処理した金属蒸着膜細片を含有する高輝度インキ反射層
    が、着色されたいることを特徴とする請求項1〜3のい
    ずれかに記載の光回折層を有する転写箔。
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