JP2003282421A - 露光装置及び露光方法 - Google Patents
露光装置及び露光方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 回折光による投影レンズ内部での乱反射を防
止することができるようにする。 【解決手段】 光源１からの光路上に配置される第１の
レチクルブラインド４の開口部４ａの光の進出側の開口
端部での回折現象による回折光を、第１のレチクルブラ
インド４の開口部４ａと同一開口形状及び同一開口サイ
ズとされている開口部１２ａを有する第２のレチクルブ
ラインド１２によって遮ることにより、レチクル８を通
過して投影レンズ９に進入する光に回折光をできるだけ
含ませないようにし、回折光による投影レンズ９内部で
の乱反射を防止することができるようにする。
止することができるようにする。 【解決手段】 光源１からの光路上に配置される第１の
レチクルブラインド４の開口部４ａの光の進出側の開口
端部での回折現象による回折光を、第１のレチクルブラ
インド４の開口部４ａと同一開口形状及び同一開口サイ
ズとされている開口部１２ａを有する第２のレチクルブ
ラインド１２によって遮ることにより、レチクル８を通
過して投影レンズ９に進入する光に回折光をできるだけ
含ませないようにし、回折光による投影レンズ９内部で
の乱反射を防止することができるようにする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置製造や
液晶装置製造におけるレチクルに形成されているパター
ンをウェハやガラス基板等の被転写物に対して露光によ
り転写する露光装置及び露光方法に関する。
液晶装置製造におけるレチクルに形成されているパター
ンをウェハやガラス基板等の被転写物に対して露光によ
り転写する露光装置及び露光方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置製造や液晶装置製造において
は、レチクルに形成されているパターンをウェハやガラ
ス基板等の被転写物に対して露光により転写する工程が
ある。このような露光により転写する工程においては、
たとえば図６に示すような露光装置が用いられている。
は、レチクルに形成されているパターンをウェハやガラ
ス基板等の被転写物に対して露光により転写する工程が
ある。このような露光により転写する工程においては、
たとえば図６に示すような露光装置が用いられている。
【０００３】すなわち、エキシマレーザー等の光源１か
らの光が第１のミラー２によりシャッター３側に折返さ
れてレチクルブラインド４の後述する開口部４ａを通過
すると、第２のミラー５によって光学系レンズ６側に折
返される。光学系レンズ６を通過した光は、レチクルス
テージ７上のレチクル８を通過すると、投影レンズ９に
よってウェハステージ１０上のウェハ１１に照射され
る。このとき、レチクル８上の図示しないパターンがウ
ェハ１１上の図示しないレジストに転写される。
らの光が第１のミラー２によりシャッター３側に折返さ
れてレチクルブラインド４の後述する開口部４ａを通過
すると、第２のミラー５によって光学系レンズ６側に折
返される。光学系レンズ６を通過した光は、レチクルス
テージ７上のレチクル８を通過すると、投影レンズ９に
よってウェハステージ１０上のウェハ１１に照射され
る。このとき、レチクル８上の図示しないパターンがウ
ェハ１１上の図示しないレジストに転写される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したレ
チクルブラインド４にあっては、図７（ａ）に示すよう
に、光路上に設けられた開口部４ａを有している。この
開口部４ａは、通常、レチクル８上の図示しないパター
ンの大きさに対応させて開口されている。
チクルブラインド４にあっては、図７（ａ）に示すよう
に、光路上に設けられた開口部４ａを有している。この
開口部４ａは、通常、レチクル８上の図示しないパター
ンの大きさに対応させて開口されている。
【０００５】ところが、開口部４ａを通過した光は、図
７（ｂ）に示すように、光の進出側の開口端部４ｂにて
回折現象を生じてしまう。そのため、回折現象による回
折光が投影レンズ９に進入すると、投影レンズ９内部に
て乱反射してしまう。この場合、乱反射した光が光路に
沿って進行する光に対し影響を及すことになり、ウェハ
１１上の図示しないレジストに転写されるレチクル８上
の図示しないパターンの解像度を低下させてしまうとい
う問題があった。ここで、回折光は、光路に対して傾い
たものであり、図７（ｂ）にて点線矢印で示すようなも
のである。
７（ｂ）に示すように、光の進出側の開口端部４ｂにて
回折現象を生じてしまう。そのため、回折現象による回
折光が投影レンズ９に進入すると、投影レンズ９内部に
て乱反射してしまう。この場合、乱反射した光が光路に
沿って進行する光に対し影響を及すことになり、ウェハ
１１上の図示しないレジストに転写されるレチクル８上
の図示しないパターンの解像度を低下させてしまうとい
う問題があった。ここで、回折光は、光路に対して傾い
たものであり、図７（ｂ）にて点線矢印で示すようなも
のである。
【０００６】このような解像度の低下は、レチクル８上
の図示しないパターンが微細であればあるほど、顕著な
問題となっている。
の図示しないパターンが微細であればあるほど、顕著な
問題となっている。
【０００７】本発明は、このような状況に鑑みてなされ
たものであり、回折光による投影レンズ内部での乱反射
を防止することができる露光装置及び露光方法を提供す
ることができるようにするものである。
たものであり、回折光による投影レンズ内部での乱反射
を防止することができる露光装置及び露光方法を提供す
ることができるようにするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の露光装置は、レ
チクルに形成されているパターンを光源からの光路上に
配置される投影レンズにより被転写物に転写する露光装
置であって、光路上に配置される開口部を有する第１及
び第２のレチクルブラインドを備え、第１のレチクルブ
ラインドの開口部と第２のレチクルブラインドの開口部
とが同一開口形状とされていることを特徴とする。
チクルに形成されているパターンを光源からの光路上に
配置される投影レンズにより被転写物に転写する露光装
置であって、光路上に配置される開口部を有する第１及
び第２のレチクルブラインドを備え、第１のレチクルブ
ラインドの開口部と第２のレチクルブラインドの開口部
とが同一開口形状とされていることを特徴とする。
【０００９】本発明の露光装置は、レチクルに形成され
ているパターンを光源からの光路上に配置される投影レ
ンズにより被転写物に転写する露光装置であって、光路
上に配置される開口部を有する第１及び第２のレチクル
ブラインドを備え、第１のレチクルブラインドは光源と
レチクルとの間に配置され、第２のレチクルブラインド
は第１のレチクルブラインドとレチクルとの間に配置さ
れていることを特徴とする。
ているパターンを光源からの光路上に配置される投影レ
ンズにより被転写物に転写する露光装置であって、光路
上に配置される開口部を有する第１及び第２のレチクル
ブラインドを備え、第１のレチクルブラインドは光源と
レチクルとの間に配置され、第２のレチクルブラインド
は第１のレチクルブラインドとレチクルとの間に配置さ
れていることを特徴とする。
【００１０】また、本発明の露光装置は、第１及び第２
のレチクルブラインドの何れか一方の開口部の開口サイ
ズが可変とされているようにすることができる。
のレチクルブラインドの何れか一方の開口部の開口サイ
ズが可変とされているようにすることができる。
【００１１】また、本発明の露光装置は、第１及び第２
のレチクルブラインドの両方の開口部の開口サイズが可
変とされているようにすることができる。
のレチクルブラインドの両方の開口部の開口サイズが可
変とされているようにすることができる。
【００１２】また、本発明の露光装置は、第１及び第２
のレチクルブラインドの何れか一方は、移動自在な複数
のレチクルブラインド片からなり、これらのレチクルブ
ラインド片の移動により、何れか一方の開口部の開口サ
イズが変えられるようにすることができる。
のレチクルブラインドの何れか一方は、移動自在な複数
のレチクルブラインド片からなり、これらのレチクルブ
ラインド片の移動により、何れか一方の開口部の開口サ
イズが変えられるようにすることができる。
【００１３】また、本発明の露光装置は、第１及び第２
のレチクルブラインドの両方は、移動自在な複数のレチ
クルブラインド片からなり、これらのレチクルブライン
ド片の移動により、両方の開口部の開口サイズが変えら
れるようにすることができる。
のレチクルブラインドの両方は、移動自在な複数のレチ
クルブラインド片からなり、これらのレチクルブライン
ド片の移動により、両方の開口部の開口サイズが変えら
れるようにすることができる。
【００１４】また、本発明の露光装置は、第２のレチク
ルブラインドの開口部は、光の進出側が進入側に比べて
広い開口サイズとされているようにすることができる。
ルブラインドの開口部は、光の進出側が進入側に比べて
広い開口サイズとされているようにすることができる。
【００１５】本発明の露光方法は、レチクルに形成され
ているパターンを光源からの光路上に配置される投影レ
ンズにより被転写物に転写する露光方法であって、光路
上に配置される第１のレチクルブラインドの開口部の光
の進出側の開口端部での回折現象による回折光を、第１
のレチクルブラインドの開口部と同一開口形状とされて
いる開口部を有する第２のレチクルブラインドによって
遮ることにより、レチクルを通過して投影レンズに進入
する光に回折光を含ませないようにすることを特徴とす
る。
ているパターンを光源からの光路上に配置される投影レ
ンズにより被転写物に転写する露光方法であって、光路
上に配置される第１のレチクルブラインドの開口部の光
の進出側の開口端部での回折現象による回折光を、第１
のレチクルブラインドの開口部と同一開口形状とされて
いる開口部を有する第２のレチクルブラインドによって
遮ることにより、レチクルを通過して投影レンズに進入
する光に回折光を含ませないようにすることを特徴とす
る。
【００１６】また、本発明の露光方法は、第１及び第２
のレチクルブラインドの何れか一方の開口部の開口サイ
ズを可変とすることにより、何れか一方の開口部の開口
サイズに他方の開口部の開口サイズを合わせるようにす
ることができる。
のレチクルブラインドの何れか一方の開口部の開口サイ
ズを可変とすることにより、何れか一方の開口部の開口
サイズに他方の開口部の開口サイズを合わせるようにす
ることができる。
【００１７】また、本発明の露光方方法は、装置は、第
１及び第２のレチクルブラインドの両方の開口部の開口
サイズを可変とすることにより、両方の開口部の開口サ
イズを合わせるようにすることができる。
１及び第２のレチクルブラインドの両方の開口部の開口
サイズを可変とすることにより、両方の開口部の開口サ
イズを合わせるようにすることができる。
【００１８】また、本発明の露光方法は、第２のレチク
ルブラインドの開口部は、光の進出側が進入側に比べて
広い開口サイズとされているようにすることができる。
ルブラインドの開口部は、光の進出側が進入側に比べて
広い開口サイズとされているようにすることができる。
【００１９】本発明に係る露光装置及び露光方法におい
ては、光源からの光路上に配置される第１のレチクルブ
ラインドの開口部の光の進出側の開口端部での回折現象
による回折光を、第１のレチクルブラインドの開口部と
同一開口形状とされている開口部を有する第２のレチク
ルブラインドによって遮ることにより、レチクルを通過
して投影レンズに進入する光に含まれる回折光を減少さ
せることができる。
ては、光源からの光路上に配置される第１のレチクルブ
ラインドの開口部の光の進出側の開口端部での回折現象
による回折光を、第１のレチクルブラインドの開口部と
同一開口形状とされている開口部を有する第２のレチク
ルブラインドによって遮ることにより、レチクルを通過
して投影レンズに進入する光に含まれる回折光を減少さ
せることができる。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。
て説明する。
【００２１】図１は、本発明の露光装置の一実施の形態
を示す図、図２及び図３は、図１の第１及び第２のレチ
クルブラインドの詳細を説明するための図、図４及び図
５は、図１の第２のレチクルブラインドの構成を変えた
場合の他の実施の形態を説明するための図である。な
お、以下に説明する図において、図６及び図７と共通す
る部分には同一符号を付すものとする。
を示す図、図２及び図３は、図１の第１及び第２のレチ
クルブラインドの詳細を説明するための図、図４及び図
５は、図１の第２のレチクルブラインドの構成を変えた
場合の他の実施の形態を説明するための図である。な
お、以下に説明する図において、図６及び図７と共通す
る部分には同一符号を付すものとする。
【００２２】図１に示す露光装置は、光源１からの光路
上に、第１のミラー２、シャッター３、第１のレチクル
ブラインド４、第２のミラー５、第２のレチクルブライ
ンド１２、光学系レンズ６、レチクルステージ７、投影
レンズ９、ウェハステージ１０を配置した構成となって
いる。
上に、第１のミラー２、シャッター３、第１のレチクル
ブラインド４、第２のミラー５、第２のレチクルブライ
ンド１２、光学系レンズ６、レチクルステージ７、投影
レンズ９、ウェハステージ１０を配置した構成となって
いる。
【００２３】光源１は、水銀ランプ、エキシマレーザ
ー、ＡｒＦレーザーの何れかからなるものである。第１
のミラー２は、光源１からの光をシャッター３側に折返
すものである。シャッター３は、後述のウェハ１１上の
図示しないレジストへの転写動作に合わせ、第１のミラ
ー２によって折返された光の通過を制御するものであ
る。
ー、ＡｒＦレーザーの何れかからなるものである。第１
のミラー２は、光源１からの光をシャッター３側に折返
すものである。シャッター３は、後述のウェハ１１上の
図示しないレジストへの転写動作に合わせ、第１のミラ
ー２によって折返された光の通過を制御するものであ
る。
【００２４】第１のレチクルブラインド４は、後述のレ
チクル８上の図示しないパターンの大きさに対応させた
後述する開口部４ａを有している。また、その開口部４
ａの開口サイズは、後述するように可変されるようにな
っていてもよい。第２のミラー５は、第１のレチクルブ
ラインド４の開口部４ａを通過した光を第２のレチクル
ブラインド１２側に折返すものである。第２のレチクル
ブラインド１２は、後述するように、第１のレチクルブ
ラインド４の開口部４ａから投影レンズ９に進入する回
折光を減少させるためのものであるが、その詳細は後述
する。
チクル８上の図示しないパターンの大きさに対応させた
後述する開口部４ａを有している。また、その開口部４
ａの開口サイズは、後述するように可変されるようにな
っていてもよい。第２のミラー５は、第１のレチクルブ
ラインド４の開口部４ａを通過した光を第２のレチクル
ブラインド１２側に折返すものである。第２のレチクル
ブラインド１２は、後述するように、第１のレチクルブ
ラインド４の開口部４ａから投影レンズ９に進入する回
折光を減少させるためのものであるが、その詳細は後述
する。
【００２５】光学系レンズ６は、第２のレチクルブライ
ンド１２の開口部１２ａを通過した光を後述のレチクル
８に集光させるものである。レチクルステージ７は、レ
チクル８を搭載するとともに、ｘ又はｙ方向に移動自在
とされている。投影レンズ９は、レチクル８を通過した
光を、後述のウェハ１１上の図示しないレジストに集光
させるものである。ウェハステージ１０は、被転写物で
あるウェハ１１を搭載するとともに、ｘ又はｙ方向に移
動自在とされていてもよい。
ンド１２の開口部１２ａを通過した光を後述のレチクル
８に集光させるものである。レチクルステージ７は、レ
チクル８を搭載するとともに、ｘ又はｙ方向に移動自在
とされている。投影レンズ９は、レチクル８を通過した
光を、後述のウェハ１１上の図示しないレジストに集光
させるものである。ウェハステージ１０は、被転写物で
あるウェハ１１を搭載するとともに、ｘ又はｙ方向に移
動自在とされていてもよい。
【００２６】第１のレチクルブラインド４及び第２のレ
チクルブラインド１２は、図２に示すように、開口形状
及び開口サイズが同一とされた矩形状の開口部４ａ及び
１２ａを有している。また、これらの開口部４ａ及び１
２ａは、光路上に位置している。
チクルブラインド１２は、図２に示すように、開口形状
及び開口サイズが同一とされた矩形状の開口部４ａ及び
１２ａを有している。また、これらの開口部４ａ及び１
２ａは、光路上に位置している。
【００２７】これにより、第１のレチクルブラインド４
の開口部４ａの光の進出側の開口端部での回折現象によ
る点線矢印で示す回折光を第２のレチクルブラインド１
２によって遮ることにより、第２のレチクルブラインド
１２を通過する回折光を減少することができる。
の開口部４ａの光の進出側の開口端部での回折現象によ
る点線矢印で示す回折光を第２のレチクルブラインド１
２によって遮ることにより、第２のレチクルブラインド
１２を通過する回折光を減少することができる。
【００２８】また、第１のレチクルブラインド４及び第
２のレチクルブラインド１２は、図３に示すように、複
数個、たとえば４個のレチクルブラインド片４ｂ及び１
２ｂからなり、これらは位置可変機構１３によって位置
が変えられるようになっている。これは、開口部４ａ及
び１２ａの開口サイズを露光パターンの大きさに対応さ
せるとともに、両者の開口サイズを同一とするためであ
る。位置可変機構１３による開口部４ａ及び１２ａの開
口サイズの調整は、同期させてもよいし、個別に行うよ
うにしてもよい。
２のレチクルブラインド１２は、図３に示すように、複
数個、たとえば４個のレチクルブラインド片４ｂ及び１
２ｂからなり、これらは位置可変機構１３によって位置
が変えられるようになっている。これは、開口部４ａ及
び１２ａの開口サイズを露光パターンの大きさに対応さ
せるとともに、両者の開口サイズを同一とするためであ
る。位置可変機構１３による開口部４ａ及び１２ａの開
口サイズの調整は、同期させてもよいし、個別に行うよ
うにしてもよい。
【００２９】次に、このような構成の露光装置による露
光方法について説明する。
光方法について説明する。
【００３０】なお、以下の露光においては、ステップ＆
リピート方式による場合について説明する。まず、第１
のレチクルブラインド４及び第２のレチクルブラインド
１２の開口部４ａ及び１２ａは、その開口サイズが上述
したように位置可変機構１３によってレチクル８上の図
示しないパターンの大きさに対応しているとともに、両
者の開口サイズが同一とされている。
リピート方式による場合について説明する。まず、第１
のレチクルブラインド４及び第２のレチクルブラインド
１２の開口部４ａ及び１２ａは、その開口サイズが上述
したように位置可変機構１３によってレチクル８上の図
示しないパターンの大きさに対応しているとともに、両
者の開口サイズが同一とされている。
【００３１】そして、光源１からの光が第１のミラー２
によりシャッター３側に折返されて第１のレチクルブラ
インド４の開口部４ａを通過すると、第２のミラー５に
よって第２のレチクルブラインド１２側に折返される。
このとき、図２で説明したように、第１のレチクルブラ
インド４の開口部４ａの光の進出側の開口端部での回折
現象による点線矢印で示した回折光は、両者の開口形状
及び開口サイズが同一とされているため、第２のレチク
ルブラインド１２の開口部１２ａを通過するのを防ぐこ
とができるため、第２のレチクルブラインド１２によっ
て遮ることができる。その結果、回折光のない光のみが
レチクルステージ７上のレチクル８を通過し、投影レン
ズ９へ進入する。そして、投影レンズ９を通過した光に
より、ウェハステージ１０上のウェハ１１上の図示しな
いレジストへの露光が行われる。
によりシャッター３側に折返されて第１のレチクルブラ
インド４の開口部４ａを通過すると、第２のミラー５に
よって第２のレチクルブラインド１２側に折返される。
このとき、図２で説明したように、第１のレチクルブラ
インド４の開口部４ａの光の進出側の開口端部での回折
現象による点線矢印で示した回折光は、両者の開口形状
及び開口サイズが同一とされているため、第２のレチク
ルブラインド１２の開口部１２ａを通過するのを防ぐこ
とができるため、第２のレチクルブラインド１２によっ
て遮ることができる。その結果、回折光のない光のみが
レチクルステージ７上のレチクル８を通過し、投影レン
ズ９へ進入する。そして、投影レンズ９を通過した光に
より、ウェハステージ１０上のウェハ１１上の図示しな
いレジストへの露光が行われる。
【００３２】このとき、回折光の少ない光のみが投影レ
ンズ９に進入するため、投影レンズ９内部での乱反射が
減少することから、光路に沿って進行する光に対しての
乱反射による影響を少なくすることができる。その結
果、ウェハ１１上の図示しないレジストへはレチクル８
上の図示しないパターンの解像度を低下させない転写を
行うことができる。次いで、ウェハステージ１０がｘ又
はｙ方向に移動し、上記同様にしてウェハ１１上の図示
しないレジストの次の露光領域に対する転写が行われ
る。
ンズ９に進入するため、投影レンズ９内部での乱反射が
減少することから、光路に沿って進行する光に対しての
乱反射による影響を少なくすることができる。その結
果、ウェハ１１上の図示しないレジストへはレチクル８
上の図示しないパターンの解像度を低下させない転写を
行うことができる。次いで、ウェハステージ１０がｘ又
はｙ方向に移動し、上記同様にしてウェハ１１上の図示
しないレジストの次の露光領域に対する転写が行われ
る。
【００３３】このように、本実施の形態では、光源１か
らの光路上に配置される第１のレチクルブラインド４の
開口部４ａの光の進出側の開口端部での回折現象による
回折光を、第１のレチクルブラインド４の開口部４ａと
同一開口形状及び同一開口サイズとされている開口部１
２ａを有する第２のレチクルブラインド１２によって遮
ることにより、レチクル８を通過して投影レンズ９に進
入する光に回折光をできるだけ含ませないようにしたの
で、回折光による投影レンズ９内部での乱反射を防止す
ることができる。
らの光路上に配置される第１のレチクルブラインド４の
開口部４ａの光の進出側の開口端部での回折現象による
回折光を、第１のレチクルブラインド４の開口部４ａと
同一開口形状及び同一開口サイズとされている開口部１
２ａを有する第２のレチクルブラインド１２によって遮
ることにより、レチクル８を通過して投影レンズ９に進
入する光に回折光をできるだけ含ませないようにしたの
で、回折光による投影レンズ９内部での乱反射を防止す
ることができる。
【００３４】また、回折光による投影レンズ９内部での
乱反射を防止することができるので、レチクル８上の図
示しないパターンがさらに微細化された場合であって
も、ウェハ１１上の図示しないレジストへのパターンの
転写の際の解像度の低下を防止することができる。
乱反射を防止することができるので、レチクル８上の図
示しないパターンがさらに微細化された場合であって
も、ウェハ１１上の図示しないレジストへのパターンの
転写の際の解像度の低下を防止することができる。
【００３５】なお、本実施の形態では、第２のレチクル
ブラインド１２の開口部１２ａの開口形状を図２に示し
たように、矩形状とした場合について説明したが、この
例に限らず、たとえば図４に示すように、光の進出側が
進入側に比べて広い開口サイズとされたハの字形状とす
ることもできる。
ブラインド１２の開口部１２ａの開口形状を図２に示し
たように、矩形状とした場合について説明したが、この
例に限らず、たとえば図４に示すように、光の進出側が
進入側に比べて広い開口サイズとされたハの字形状とす
ることもできる。
【００３６】この場合には、たとえば図５に示すよう
に、ステップ＆スキャン方式による露光において、レチ
クルステージ７が矢印右方向に移動し、ウェハステージ
１０が矢印左方向に移動するとき、露光エネルギーの分
布における露光領域の端の部分ａが重なるような露光が
行われる。これにより、露光領域の端の部分ａが重なる
ことで、その端の部分ａのエネルギーの低下を抑制する
ことができる。
に、ステップ＆スキャン方式による露光において、レチ
クルステージ７が矢印右方向に移動し、ウェハステージ
１０が矢印左方向に移動するとき、露光エネルギーの分
布における露光領域の端の部分ａが重なるような露光が
行われる。これにより、露光領域の端の部分ａが重なる
ことで、その端の部分ａのエネルギーの低下を抑制する
ことができる。
【００３７】また、本実施の形態では、第２のレチクル
ブラインド１２を１個とした場合について説明したが、
この例に限らず、複数個としてもよい。
ブラインド１２を１個とした場合について説明したが、
この例に限らず、複数個としてもよい。
【００３８】また、本実施の形態では、図３で説明した
ように、第１のレチクルブラインド４及び第２のレチク
ルブラインド１２が各々４個のレチクルブラインド片４
ｂ及び１２ｂから構成されている場合について説明した
が、何れか一方のみが４個のレチクルブラインド片４ｂ
又は１２ｂから構成されるようにしてもよく、併せて何
れか一方の開口部４ａ又は１２ａの開口サイズが可変さ
れるようにしてもよい。また、ブラインド片は、複数個
からなるものであれば４個に限定されず、２個であって
もよい。
ように、第１のレチクルブラインド４及び第２のレチク
ルブラインド１２が各々４個のレチクルブラインド片４
ｂ及び１２ｂから構成されている場合について説明した
が、何れか一方のみが４個のレチクルブラインド片４ｂ
又は１２ｂから構成されるようにしてもよく、併せて何
れか一方の開口部４ａ又は１２ａの開口サイズが可変さ
れるようにしてもよい。また、ブラインド片は、複数個
からなるものであれば４個に限定されず、２個であって
もよい。
【００３９】また、本実施の形態では、露光装置によっ
てレチクル８の図示しないパターンが転写される被転写
物を半導体装置製造におけるウェハ１１とした場合につ
いて説明したが、この例に限らず、被転写物を液晶装置
製造におけるガラス基板としてもよい。
てレチクル８の図示しないパターンが転写される被転写
物を半導体装置製造におけるウェハ１１とした場合につ
いて説明したが、この例に限らず、被転写物を液晶装置
製造におけるガラス基板としてもよい。
【００４０】
【発明の効果】以上の如く本発明に係る露光装置及び露
光方法によれば、光源からの光路上に配置される第１の
レチクルブラインドの開口部の光の進出側の開口端部で
の回折現象による回折光を、第１のレチクルブラインド
の開口部と同一開口形状とされている開口部を有する第
２のレチクルブラインドによって遮ることにより、レチ
クルを通過して投影レンズに進入する光に含まれる回折
光を減少させることができるので、回折光による投影レ
ンズ内部での乱反射を防止することができる。
光方法によれば、光源からの光路上に配置される第１の
レチクルブラインドの開口部の光の進出側の開口端部で
の回折現象による回折光を、第１のレチクルブラインド
の開口部と同一開口形状とされている開口部を有する第
２のレチクルブラインドによって遮ることにより、レチ
クルを通過して投影レンズに進入する光に含まれる回折
光を減少させることができるので、回折光による投影レ
ンズ内部での乱反射を防止することができる。
【図１】 本発明の露光装置の一実施の形態を示す図で
ある。
ある。
【図２】 図１の第１及び第２のレチクルブラインドの
詳細を説明するための図である。
詳細を説明するための図である。
【図３】 図１の第１及び第２のレチクルブラインドの
詳細を説明するための図である。
詳細を説明するための図である。
【図４】 図１の第２のレチクルブラインドの構成を変
えた場合の他の実施の形態を説明するための図である。
えた場合の他の実施の形態を説明するための図である。
【図５】 図４の第２のレチクルブラインドの作用を説
明するための図である。
明するための図である。
【図６】 従来の露光装置の一例を示す図である。
【図７】 図６のレチクルブラインドの作用を説明する
ための図である。
ための図である。
１ 光源
４ 第１のレチクルブラインド
４ａ，１２ａ 開口部
４ｂ，１２ｂ レチクルブラインド片
７ レチクルステージ
８ レチクル
９ 投影レンズ
１０ ウェハステージ
１１ ウェハ
１２ 第２のレチクルブラインド
１３ 位置可変機構
Claims (11)
- 【請求項１】 レチクルに形成されているパターンを光
源からの光路上に配置される投影レンズにより被転写物
に転写する露光装置であって、 前記光路上に配置される開口部を有する第１及び第２の
レチクルブラインドを備え、 前記第１のレチクルブラインドの開口部と前記第２のレ
チクルブラインドの開口部とが同一開口形状とされてい
ることを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】 レチクルに形成されているパターンを光
源からの光路上に配置される投影レンズにより被転写物
に転写する露光装置であって、 前記光路上に配置される開口部を有する第１及び第２の
レチクルブラインドを備え、 前記第１のレチクルブラインドは前記光源と前記レチク
ルとの間に配置され、前記第２のレチクルブラインドは
前記第１のレチクルブラインドと前記レチクルとの間に
配置されていることを特徴とする露光装置。 - 【請求項３】 前記第１及び第２のレチクルブラインド
の何れか一方の開口部の開口サイズが可変とされている
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。 - 【請求項４】 前記第１及び第２のレチクルブラインド
の両方の開口部の開口サイズが可変とされていることを
特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。 - 【請求項５】 前記第１及び第２のレチクルブラインド
の何れか一方は、移動自在な複数のレチクルブラインド
片からなり、これらのレチクルブラインド片の移動によ
り、前記何れか一方の開口部の開口サイズが変えられる
ことを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の露光装
置。 - 【請求項６】 前記第１及び第２のレチクルブラインド
の両方は、移動自在な複数のレチクルブラインド片から
なり、これらのレチクルブラインド片の移動により、前
記両方の開口部の開口サイズが変えられることを特徴と
する請求項１、２、４の何れかに記載の露光装置。 - 【請求項７】 前記第２のレチクルブラインドの開口部
は、光の進出側が進入側に比べて広い開口サイズとされ
ていることを特徴とする請求項１〜６の何れかに記載の
露光装置。 - 【請求項８】 レチクルに形成されているパターンを光
源からの光路上に配置される投影レンズにより被転写物
に転写する露光方法であって、 前記光路上に配置される第１のレチクルブラインドの開
口部の光の進出側の開口端部での回折現象による回折光
を、前記第１のレチクルブラインドの開口部と同一開口
形状とされている開口部を有する第２のレチクルブライ
ンドによって遮ることにより、前記レチクルを通過して
前記投影レンズに進入する光に前記回折光を含ませない
ようにすることを特徴とする露光方法。 - 【請求項９】 前記第１及び第２のレチクルブラインド
の何れか一方の開口部の開口サイズを可変とすることに
より、前記何れか一方の開口部の開口サイズに他方の開
口部の開口サイズを合わせるようにすることを特徴とす
る請求項８に記載の露光方法。 - 【請求項１０】 前記第１及び第２のレチクルブライン
ドの両方の開口部の開口サイズを可変とすることによ
り、前記両方の開口部の開口サイズを合わせるようにす
ることを特徴とする請求項８に記載の露光方法。 - 【請求項１１】 前記第２のレチクルブラインドの開口
部は、光の進出側が進入側に比べて広い開口サイズとさ
れていることを特徴とする請求項８〜１０の何れかに記
載の露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002087125A JP2003282421A (ja) | 2002-03-26 | 2002-03-26 | 露光装置及び露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002087125A JP2003282421A (ja) | 2002-03-26 | 2002-03-26 | 露光装置及び露光方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003282421A true JP2003282421A (ja) | 2003-10-03 |
Family
ID=29233472
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002087125A Withdrawn JP2003282421A (ja) | 2002-03-26 | 2002-03-26 | 露光装置及び露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003282421A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005258437A (ja) * | 2004-03-13 | 2005-09-22 | Samsung Electronics Co Ltd | 露光装置及び方法 |
| JP2006285199A (ja) * | 2005-03-09 | 2006-10-19 | Nsk Ltd | 近接露光装置 |
| JP2011023471A (ja) * | 2009-07-14 | 2011-02-03 | Seiko Instruments Inc | 半導体露光装置 |
| CN107065445A (zh) * | 2017-01-22 | 2017-08-18 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种曝光装置 |
-
2002
- 2002-03-26 JP JP2002087125A patent/JP2003282421A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005258437A (ja) * | 2004-03-13 | 2005-09-22 | Samsung Electronics Co Ltd | 露光装置及び方法 |
| CN100465791C (zh) * | 2004-03-13 | 2009-03-04 | 三星电子株式会社 | 曝光装置及方法 |
| JP2006285199A (ja) * | 2005-03-09 | 2006-10-19 | Nsk Ltd | 近接露光装置 |
| JP4720483B2 (ja) * | 2005-03-09 | 2011-07-13 | 日本精工株式会社 | 近接露光装置 |
| JP2011023471A (ja) * | 2009-07-14 | 2011-02-03 | Seiko Instruments Inc | 半導体露光装置 |
| CN107065445A (zh) * | 2017-01-22 | 2017-08-18 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种曝光装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050607 |