JP2003280202A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2003280202A5
JP2003280202A5 JP2002084074A JP2002084074A JP2003280202A5 JP 2003280202 A5 JP2003280202 A5 JP 2003280202A5 JP 2002084074 A JP2002084074 A JP 2002084074A JP 2002084074 A JP2002084074 A JP 2002084074A JP 2003280202 A5 JP2003280202 A5 JP 2003280202A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
action
resist film
resist composition
positive resist
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002084074A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP3949479B2 (ja
JP2003280202A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2002084074A priority Critical patent/JP3949479B2/ja
Priority claimed from JP2002084074A external-priority patent/JP3949479B2/ja
Publication of JP2003280202A publication Critical patent/JP2003280202A/ja
Publication of JP2003280202A5 publication Critical patent/JP2003280202A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3949479B2 publication Critical patent/JP3949479B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

JP2002084074A 2002-03-25 2002-03-25 ポジ型レジスト組成物 Expired - Lifetime JP3949479B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002084074A JP3949479B2 (ja) 2002-03-25 2002-03-25 ポジ型レジスト組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002084074A JP3949479B2 (ja) 2002-03-25 2002-03-25 ポジ型レジスト組成物

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2003280202A JP2003280202A (ja) 2003-10-02
JP2003280202A5 true JP2003280202A5 (enExample) 2005-04-07
JP3949479B2 JP3949479B2 (ja) 2007-07-25

Family

ID=29231588

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002084074A Expired - Lifetime JP3949479B2 (ja) 2002-03-25 2002-03-25 ポジ型レジスト組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3949479B2 (enExample)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4295052B2 (ja) * 2003-07-23 2009-07-15 ダイセル化学工業株式会社 フッ素原子含有重合性不飽和単量体、フッ素原子含有高分子化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物
JP4347110B2 (ja) 2003-10-22 2009-10-21 東京応化工業株式会社 電子線又はｅｕｖ用ポジ型レジスト組成物
JP5518394B2 (ja) * 2008-08-13 2014-06-11 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
JP5560115B2 (ja) * 2010-06-28 2014-07-23 富士フイルム株式会社 パターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物、及び、レジスト膜
KR101776320B1 (ko) * 2010-08-30 2017-09-07 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 레지스트 조성물 및 레지스트 패턴의 제조 방법
JP5194135B2 (ja) * 2011-02-04 2013-05-08 富士フイルム株式会社 化学増幅ポジ型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法
JP5829943B2 (ja) * 2011-02-25 2015-12-09 住友化学株式会社 レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP5829940B2 (ja) * 2011-02-25 2015-12-09 住友化学株式会社 レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP5833948B2 (ja) * 2011-02-25 2015-12-16 住友化学株式会社 レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP5829941B2 (ja) * 2011-02-25 2015-12-09 住友化学株式会社 レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP5829942B2 (ja) * 2011-02-25 2015-12-09 住友化学株式会社 レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP2013079232A (ja) * 2011-09-30 2013-05-02 Rohm & Haas Electronic Materials Llc 光酸発生剤およびこれを含むフォトレジスト
JP6326825B2 (ja) * 2013-02-18 2018-05-23 住友化学株式会社 塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
JP2018072358A (ja) * 2015-03-02 2018-05-10 富士フイルム株式会社 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び感活性光線性又は感放射線性膜
US11782345B2 (en) * 2019-08-05 2023-10-10 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Bottom antireflective coating materials
DE102019134535B4 (de) * 2019-08-05 2023-09-07 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Materialien für unteren antireflexbelag

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2003280202A5 (enExample)
JP2003167333A5 (enExample)
JP2001281849A5 (enExample)
EP2019334A3 (en) Positive resist composition and method of pattern formation with the same
JP2004004557A5 (enExample)
JP2004302198A5 (enExample)
EP1515186A3 (en) Positive resist composition and pattern formation method using the same
JP2001183837A5 (enExample)
JP2004287262A5 (enExample)
JP2009258506A5 (enExample)
JP2000231194A5 (enExample)
JP2004334107A5 (enExample)
JP2003262952A5 (enExample)
JP2003270791A5 (enExample)
JP2002323768A5 (enExample)
JPH11338150A5 (enExample)
JP2003207886A5 (enExample)
JPH11327145A5 (enExample)
EP2031445A3 (en) Chemical amplification resist composition and pattern-forming method using the same
JP2000187327A5 (enExample)
JP2004053822A5 (enExample)
JP2003177537A5 (enExample)
JP2000019737A5 (enExample)
JP2000352822A5 (enExample)
JP2003173022A5 (enExample)