JP2003277374A - ピリミドンアセタミド誘導体の新規製造法とその結晶 - Google Patents
ピリミドンアセタミド誘導体の新規製造法とその結晶Info
- Publication number
- JP2003277374A JP2003277374A JP2002075686A JP2002075686A JP2003277374A JP 2003277374 A JP2003277374 A JP 2003277374A JP 2002075686 A JP2002075686 A JP 2002075686A JP 2002075686 A JP2002075686 A JP 2002075686A JP 2003277374 A JP2003277374 A JP 2003277374A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- producing
- pyrimidone
- pyridyloxy
- phenyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】下記化学式(II)の化合物の短工程・高効率
で、シリカゲルおよび塩化メチレンを使用しない製造法
を見出すこと。 【解決手段】下記化学式(I) [式中、Dは酸性条件下で脱保護される保護基を示し、
Eは置換基を有していてもよい炭素数1乃至6のアルキ
ル基を示す]で表される化合物を蟻酸と反応させること
を特徴とする下記化学式(II) [式中、Eは上記とおなじ意味を示す]で表されるピリ
ミドンアセタミド誘導体の製造法を提供する。
で、シリカゲルおよび塩化メチレンを使用しない製造法
を見出すこと。 【解決手段】下記化学式(I) [式中、Dは酸性条件下で脱保護される保護基を示し、
Eは置換基を有していてもよい炭素数1乃至6のアルキ
ル基を示す]で表される化合物を蟻酸と反応させること
を特徴とする下記化学式(II) [式中、Eは上記とおなじ意味を示す]で表されるピリ
ミドンアセタミド誘導体の製造法を提供する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はキマーゼ阻害活性を
有する化合物を含むピリミドンアセタミド誘導体の新規
製造法、ピリミドンアセタミド誘導体の結晶の製造法お
よびその結晶に関する。
有する化合物を含むピリミドンアセタミド誘導体の新規
製造法、ピリミドンアセタミド誘導体の結晶の製造法お
よびその結晶に関する。
【0002】
【従来の技術】キモトリプシン型セリンプロテアーゼ、
特にキマーゼに対して強い阻害活性を有する2−(5−
ホルミルアミノ−6−オキソ−2−フェニル−1,6−
ジヒドロピリミジン−1−イル)−N−[3,4−ジオ
キソ−1−フェニル−7−(2−ピリジルオキシ)]−
2−ヘプチルアセタミド等の合成法が、WO98/09
949号公報に記載されている。
特にキマーゼに対して強い阻害活性を有する2−(5−
ホルミルアミノ−6−オキソ−2−フェニル−1,6−
ジヒドロピリミジン−1−イル)−N−[3,4−ジオ
キソ−1−フェニル−7−(2−ピリジルオキシ)]−
2−ヘプチルアセタミド等の合成法が、WO98/09
949号公報に記載されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】WO98/09949
号公報中に記載の製造法では、反応終了後にシリカゲル
カラムクロマトグラフィーを用いた単離精製操作を行っ
ていることおよび単離精製操作の溶媒に塩化メチレンを
用いていることが、工業的な製造において問題と考えら
れる。又、該公報において2−(5−ホルミルアミノ−
6−オキソ−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジ
ン−1−イル)−N−[3,4−ジオキソ−1−フェニ
ル−7−(2−ピリジルオキシ)]−2−ヘプチルアセ
タミドは、アモルファス状態で得られていた。シリカゲ
ルを用いた精製は、通常は目的物の量の数倍から数十倍
のシリカゲルを使用するが、使用後のシリカゲルは産業
廃棄物となるため環境に好ましい製造工程ではない。更
に、塩化メチレンは、水質汚濁の原因物質として規制値
が設定されており、工業的には使用しない事が望まれて
いる。従って、シリカゲルおよび塩化メチレンを使用せ
ず、単離精製操作を結晶化によって行う製造法が求めら
れていた。又、該公報中の製造法は保護基の導入および
除去工程を含む非効率的なものであった。
号公報中に記載の製造法では、反応終了後にシリカゲル
カラムクロマトグラフィーを用いた単離精製操作を行っ
ていることおよび単離精製操作の溶媒に塩化メチレンを
用いていることが、工業的な製造において問題と考えら
れる。又、該公報において2−(5−ホルミルアミノ−
6−オキソ−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジ
ン−1−イル)−N−[3,4−ジオキソ−1−フェニ
ル−7−(2−ピリジルオキシ)]−2−ヘプチルアセ
タミドは、アモルファス状態で得られていた。シリカゲ
ルを用いた精製は、通常は目的物の量の数倍から数十倍
のシリカゲルを使用するが、使用後のシリカゲルは産業
廃棄物となるため環境に好ましい製造工程ではない。更
に、塩化メチレンは、水質汚濁の原因物質として規制値
が設定されており、工業的には使用しない事が望まれて
いる。従って、シリカゲルおよび塩化メチレンを使用せ
ず、単離精製操作を結晶化によって行う製造法が求めら
れていた。又、該公報中の製造法は保護基の導入および
除去工程を含む非効率的なものであった。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者等は鋭意検討の
結果、高収率・短工程なピリミドンアセタミド誘導体の
製造法を創出する事により前記課題を解決した。即ち、
本願発明は、 (1)下記化学式(I)
結果、高収率・短工程なピリミドンアセタミド誘導体の
製造法を創出する事により前記課題を解決した。即ち、
本願発明は、 (1)下記化学式(I)
【0005】
【化3】
【0006】[式中、Dは酸性条件下で脱保護される保
護基を示し、Eは置換基を有していてもよい炭素数1乃
至6のアルキル基を示す]で表される化合物を蟻酸と反
応させることを特徴とする下記化学式(II)
護基を示し、Eは置換基を有していてもよい炭素数1乃
至6のアルキル基を示す]で表される化合物を蟻酸と反
応させることを特徴とする下記化学式(II)
【0007】
【化4】
【0008】[式中、Eは上記とおなじ意味を示す]で
表されるピリミドンアセタミド誘導体の製造法。
表されるピリミドンアセタミド誘導体の製造法。
【0009】(2)Dが3級アルコキシカルボニル基で
あり、Eにおける置換基を有していてもよい炭素数1乃
至6のアルキル基の置換基が、アリール基、窒素原子を
有する複素環オキシル基又は窒素原子を有する複素環基
である上記(1)のピリミドンアセタミド誘導体の製造
法。 (3)Dにおける3級アルコキシカルボニル基がt−ブ
トキシカルボニル基であり、Eにおける置換基を有して
いてもよい炭素数1乃至6のアルキル基の置換基が、2
−ピリジルオキシ基である上記(2)に記載のピリミド
ンアセタミド誘導体の製造法。 (4)Eが3−(2−ピリジルオキシ)プロピル基であ
る上記(3)記載のピリミドンアセタミド誘導体の製造
法。
あり、Eにおける置換基を有していてもよい炭素数1乃
至6のアルキル基の置換基が、アリール基、窒素原子を
有する複素環オキシル基又は窒素原子を有する複素環基
である上記(1)のピリミドンアセタミド誘導体の製造
法。 (3)Dにおける3級アルコキシカルボニル基がt−ブ
トキシカルボニル基であり、Eにおける置換基を有して
いてもよい炭素数1乃至6のアルキル基の置換基が、2
−ピリジルオキシ基である上記(2)に記載のピリミド
ンアセタミド誘導体の製造法。 (4)Eが3−(2−ピリジルオキシ)プロピル基であ
る上記(3)記載のピリミドンアセタミド誘導体の製造
法。
【0010】(5)上記(1)乃至(4)のいずれか1
項に記載の製造法において、蟻酸との反応後に蟻酸を除
去し、有機溶媒又は含水有機溶媒を加えて攪拌すること
を特徴とするピリミドンアセタミド誘導体の結晶の製造
法。 (6)有機溶媒が、酢酸エチル、メタノール又はアセト
ンである上記(5)に記載のピリミドンアセタミド誘導
体の結晶の製造法。
項に記載の製造法において、蟻酸との反応後に蟻酸を除
去し、有機溶媒又は含水有機溶媒を加えて攪拌すること
を特徴とするピリミドンアセタミド誘導体の結晶の製造
法。 (6)有機溶媒が、酢酸エチル、メタノール又はアセト
ンである上記(5)に記載のピリミドンアセタミド誘導
体の結晶の製造法。
【0011】(7)含水有機溶媒が含水アセトンである
上記(5)に記載のピリミドンアセタミド誘導体の結晶
の製造法。 (8)粉末X線結晶回折において下記のd面間隔パター
ン(オングストローム): 15.17、5.95、5.06、4.85、4.7
0、4.40、4.07、3.93、3.73、3.4
5 を本質的に有している2−(5−ホルミルアミノ−6−
オキソ−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−
1−イル)−N−[3,4−ジオキソ−1−フェニル−
7−(2−ピリジルオキシ)]−2−ヘプチルアセタミ
ドの結晶。に関する。
上記(5)に記載のピリミドンアセタミド誘導体の結晶
の製造法。 (8)粉末X線結晶回折において下記のd面間隔パター
ン(オングストローム): 15.17、5.95、5.06、4.85、4.7
0、4.40、4.07、3.93、3.73、3.4
5 を本質的に有している2−(5−ホルミルアミノ−6−
オキソ−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−
1−イル)−N−[3,4−ジオキソ−1−フェニル−
7−(2−ピリジルオキシ)]−2−ヘプチルアセタミ
ドの結晶。に関する。
【0012】
【発明の実施の形態】本願発明の上記化学式(II)で
表されるピリミドンアセタミド誘導体の製造法は、上記
化学式(I)で表される化合物と蟻酸を反応させること
を特徴とする。上記化学式(I)のDである酸性条件下
で脱保護されるアミノ基の保護基としては、通常の化学
反応や合成反応で用いられる、酸性条件下で脱保護され
るアミノ基の保護基であれば特に限定されないが、好ま
しくは3級アルコキシカルボニル基があげられ、特に好
ましくはt−ブトキシカルボニル基が挙げられる。
表されるピリミドンアセタミド誘導体の製造法は、上記
化学式(I)で表される化合物と蟻酸を反応させること
を特徴とする。上記化学式(I)のDである酸性条件下
で脱保護されるアミノ基の保護基としては、通常の化学
反応や合成反応で用いられる、酸性条件下で脱保護され
るアミノ基の保護基であれば特に限定されないが、好ま
しくは3級アルコキシカルボニル基があげられ、特に好
ましくはt−ブトキシカルボニル基が挙げられる。
【0013】上記化学式(I)および上記化学式(I
I)のEである置換基を有していてもよい炭素数1乃至
6のアルキル基における炭素数1乃至6のアルキル基と
しては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、
i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、s−ブ
チル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、s−ペンチル
基、t−アミル基、n−ヘキシル基、1,2−ジメチル
−ブチル基等が挙げられ、メチル基、エチル基、n−プ
ロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基等の炭素数1乃
至4のアルキル基が好ましい。Eにおける置換基を有し
ていてもよい炭素数1乃至6のアルキル基の置換基とし
ては、例えばアリール基、窒素原子を有する複素環オキ
シ基、窒素原子を有する複素環基等があげられる。
I)のEである置換基を有していてもよい炭素数1乃至
6のアルキル基における炭素数1乃至6のアルキル基と
しては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、
i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、s−ブ
チル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、s−ペンチル
基、t−アミル基、n−ヘキシル基、1,2−ジメチル
−ブチル基等が挙げられ、メチル基、エチル基、n−プ
ロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基等の炭素数1乃
至4のアルキル基が好ましい。Eにおける置換基を有し
ていてもよい炭素数1乃至6のアルキル基の置換基とし
ては、例えばアリール基、窒素原子を有する複素環オキ
シ基、窒素原子を有する複素環基等があげられる。
【0014】置換基としてのアリール基としては、例え
ば置換基を有していてもよいフェニル基があげられ、よ
り好ましくは無置換のフェニル基である。好ましいアリ
ール基置換の炭素数1乃至6のアルキル基としては、例
えばベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、
フェニルブチル基、フェニルペンチル基、フェニルヘキ
シル基等があげられ、フェニル置換の炭素数1乃至4の
アルキル基がより好ましい。特に好ましくは、フェネチ
ル基やフェニルプロピル基が挙げられる。
ば置換基を有していてもよいフェニル基があげられ、よ
り好ましくは無置換のフェニル基である。好ましいアリ
ール基置換の炭素数1乃至6のアルキル基としては、例
えばベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、
フェニルブチル基、フェニルペンチル基、フェニルヘキ
シル基等があげられ、フェニル置換の炭素数1乃至4の
アルキル基がより好ましい。特に好ましくは、フェネチ
ル基やフェニルプロピル基が挙げられる。
【0015】置換基としての複素環オキシ基としては窒
素原子を有する複素環オキシ基が好ましく、例えばピリ
ジルオキシ基、ピリミジルオキシ基、ピラジルオキシ
基、ピリダジルオキシ基、ピロリルオキシ基等があげら
れ、2−ピリジルオキシ基、3−ピリジルオキシ基、4
−ピリジルオキシ基等の窒素原子を有する6員複素環オ
キシ基が特に好ましい。複素環オキシ基で置換された炭
素数1乃至6のアルキル基としては、例えば3−ピリジ
ルオキシメチル基、3−(2−ピリジルオキシ)プロピ
ル基、2−ピリミジルオキシメチル基、3−(4−ピリ
ミジルオキシ)プロピル基、2−ピラジルオキシメチル
基、3−(2−ピラジルオキシ)ブチル基、2−(2−
ピリダジルオキシ)エチル基、2−(2−ピロリルオキ
シ)エチル基等のヘテロアリールオキシ基置換の炭素数
1乃至6のアルキル基があげられ、窒素原子を有する6
員複素環オキシ基置換の炭素数1乃至6のアルキル基が
好ましく、3−(2−ピリジルオキシ)プロピル基等の
2−ピリジルオキシ基置換の炭素数3又は4のアルキル
基が特に好ましい。
素原子を有する複素環オキシ基が好ましく、例えばピリ
ジルオキシ基、ピリミジルオキシ基、ピラジルオキシ
基、ピリダジルオキシ基、ピロリルオキシ基等があげら
れ、2−ピリジルオキシ基、3−ピリジルオキシ基、4
−ピリジルオキシ基等の窒素原子を有する6員複素環オ
キシ基が特に好ましい。複素環オキシ基で置換された炭
素数1乃至6のアルキル基としては、例えば3−ピリジ
ルオキシメチル基、3−(2−ピリジルオキシ)プロピ
ル基、2−ピリミジルオキシメチル基、3−(4−ピリ
ミジルオキシ)プロピル基、2−ピラジルオキシメチル
基、3−(2−ピラジルオキシ)ブチル基、2−(2−
ピリダジルオキシ)エチル基、2−(2−ピロリルオキ
シ)エチル基等のヘテロアリールオキシ基置換の炭素数
1乃至6のアルキル基があげられ、窒素原子を有する6
員複素環オキシ基置換の炭素数1乃至6のアルキル基が
好ましく、3−(2−ピリジルオキシ)プロピル基等の
2−ピリジルオキシ基置換の炭素数3又は4のアルキル
基が特に好ましい。
【0016】置換基としての複素環基としては、例えば
モルホリニル基、オキソジヒドロピリジニル基、ピペリ
ジニル基、ピペラジニル基、ジオキサニル基等が挙げら
れ、4−モルホリニル基、2−オキソ−1,2−ジヒド
ロピリジン−1−イル基が好ましく、2−オキソ−1,
2−ジヒドロピリジン−1−イル基等のヘテロ原子とし
て窒素原子を有する6員複素環基がより好ましい。複素
環基で置換された炭素数1乃至6のアルキル基として
は、好ましくは例えば、2−ピリジルメチル基、3−
(3−ピリジル)プロピル基、2−ピリミジルメチル
基、3−(4−ピリミジル)プロピル基、2−ピラジル
メチル基、3−(2−ピラジル)ブチル基、2−(3−
ピロリル)エチル基、3−(2−オキソ−1,2−ジヒ
ドロピリジン−1−イル)プロピル基等が挙げられ、3
−(2−オキソ−1,2−ジヒドロピリジン−1−イ
ル)プロピル基が特に好ましい。Eにおける置換基を有
する炭素数1乃至6のアルキル基としてもっとも好まし
くは、3−(2−ピリジルオキシ)プロピル基が挙げら
れる。本発明の製造法で使用される化学式(I)で表さ
れる化合物としては、例えば2−(5−t−ブトキシカ
ルボニルアミノ−6−オキソ−2−フェニル−1,6−
ジヒドロピリミジン−1−イル)−N−[3,4−ジオ
キソ−1−フェニル−7−(2−ピリジルオキシ)]−
2−ヘプチルアセタミド(Dがt−ブトキシカルボニル
基、Eが3−(2−ピリジルオキシ)プロピル基)、2
−(5−t−ブトキシカルボニルアミノ−6−オキソ−
2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イ
ル)−N−[3,4−ジオキソ−1−フェニル−8−
(2−ピリジルオキシ)]−2−オクチルアセタミド
(Dがt−ブトキシカルボニル基、Eが4−(2−ピリ
ジルオキシ)ブチル基)等が挙げられる。
モルホリニル基、オキソジヒドロピリジニル基、ピペリ
ジニル基、ピペラジニル基、ジオキサニル基等が挙げら
れ、4−モルホリニル基、2−オキソ−1,2−ジヒド
ロピリジン−1−イル基が好ましく、2−オキソ−1,
2−ジヒドロピリジン−1−イル基等のヘテロ原子とし
て窒素原子を有する6員複素環基がより好ましい。複素
環基で置換された炭素数1乃至6のアルキル基として
は、好ましくは例えば、2−ピリジルメチル基、3−
(3−ピリジル)プロピル基、2−ピリミジルメチル
基、3−(4−ピリミジル)プロピル基、2−ピラジル
メチル基、3−(2−ピラジル)ブチル基、2−(3−
ピロリル)エチル基、3−(2−オキソ−1,2−ジヒ
ドロピリジン−1−イル)プロピル基等が挙げられ、3
−(2−オキソ−1,2−ジヒドロピリジン−1−イ
ル)プロピル基が特に好ましい。Eにおける置換基を有
する炭素数1乃至6のアルキル基としてもっとも好まし
くは、3−(2−ピリジルオキシ)プロピル基が挙げら
れる。本発明の製造法で使用される化学式(I)で表さ
れる化合物としては、例えば2−(5−t−ブトキシカ
ルボニルアミノ−6−オキソ−2−フェニル−1,6−
ジヒドロピリミジン−1−イル)−N−[3,4−ジオ
キソ−1−フェニル−7−(2−ピリジルオキシ)]−
2−ヘプチルアセタミド(Dがt−ブトキシカルボニル
基、Eが3−(2−ピリジルオキシ)プロピル基)、2
−(5−t−ブトキシカルボニルアミノ−6−オキソ−
2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イ
ル)−N−[3,4−ジオキソ−1−フェニル−8−
(2−ピリジルオキシ)]−2−オクチルアセタミド
(Dがt−ブトキシカルボニル基、Eが4−(2−ピリ
ジルオキシ)ブチル基)等が挙げられる。
【0017】上記化学式(I)の化合物を蟻酸中で反応
させる際に用いる蟻酸の純度は、90%以上のものが好
ましい。蟻酸の量は、化学式(I)の化合物1モル当り
1から100リットル、好ましくは2から10リットル
がよい。反応温度は室温から100℃、好ましくは20
℃から60℃、特に好ましくは40℃から55℃がよ
い。
させる際に用いる蟻酸の純度は、90%以上のものが好
ましい。蟻酸の量は、化学式(I)の化合物1モル当り
1から100リットル、好ましくは2から10リットル
がよい。反応温度は室温から100℃、好ましくは20
℃から60℃、特に好ましくは40℃から55℃がよ
い。
【0018】又、上記記載のピリミドンアセタミド誘導
体の製造法における蟻酸との反応後に、蟻酸を除去し有
機溶媒又は含水有機溶媒を加えて攪拌することを特徴と
するピリミドンアセタミド誘導体の結晶の製造法も本発
明に含まれる。蟻酸を除去するには、反応溶液を減圧濃
縮する方法により可能である。蟻酸をより完全に除去す
るために、必要に応じて1回乃至5回程度、減圧流去可
能な有機溶媒を加え溶媒を減圧流去する操作をしてもよ
い。減圧濃縮は室温から100℃、好ましくは30℃か
ら80℃で行うのがよい。蟻酸除去の際に用いる有機溶
媒としては、例えば酢酸エチル、メタノール、アセトン
等が好ましい。続いて、有機溶媒又は含水有機溶媒を加
えて攪拌する。以上の操作により、上記化学式(II)
の化合物を結晶として得る事ができる。攪拌の際に用い
る溶媒は蟻酸で分解する事が無く、且つ上記化学式(I
I)の化合物を結晶として得る事ができれば特に制限は
無いが、特に好ましい有機溶媒としては酢酸エチル、メ
タノール又はアセトンが挙げられ、又、含水有機溶媒と
しては含水アセトンが好ましい。含水アセトンにおける
アセトンと水の比率に関しては、容量比で90から0.
01、好ましくは10から0.1、特に好ましくは1か
ら0.2がよい。攪拌の際に用いる溶媒の量は、化学式
(II)の化合物1モル当り1から30リットル程度、
好ましくは2から20リットル程度がよい。攪拌温度
は、0℃から溶媒の沸点、好ましくは室温から60℃が
好ましい。本発明に使用される上記化学式(I)の化合
物の製造法は、WO98/09949号公報中に記載さ
れているが、この製造法に限定されるものではない。
体の製造法における蟻酸との反応後に、蟻酸を除去し有
機溶媒又は含水有機溶媒を加えて攪拌することを特徴と
するピリミドンアセタミド誘導体の結晶の製造法も本発
明に含まれる。蟻酸を除去するには、反応溶液を減圧濃
縮する方法により可能である。蟻酸をより完全に除去す
るために、必要に応じて1回乃至5回程度、減圧流去可
能な有機溶媒を加え溶媒を減圧流去する操作をしてもよ
い。減圧濃縮は室温から100℃、好ましくは30℃か
ら80℃で行うのがよい。蟻酸除去の際に用いる有機溶
媒としては、例えば酢酸エチル、メタノール、アセトン
等が好ましい。続いて、有機溶媒又は含水有機溶媒を加
えて攪拌する。以上の操作により、上記化学式(II)
の化合物を結晶として得る事ができる。攪拌の際に用い
る溶媒は蟻酸で分解する事が無く、且つ上記化学式(I
I)の化合物を結晶として得る事ができれば特に制限は
無いが、特に好ましい有機溶媒としては酢酸エチル、メ
タノール又はアセトンが挙げられ、又、含水有機溶媒と
しては含水アセトンが好ましい。含水アセトンにおける
アセトンと水の比率に関しては、容量比で90から0.
01、好ましくは10から0.1、特に好ましくは1か
ら0.2がよい。攪拌の際に用いる溶媒の量は、化学式
(II)の化合物1モル当り1から30リットル程度、
好ましくは2から20リットル程度がよい。攪拌温度
は、0℃から溶媒の沸点、好ましくは室温から60℃が
好ましい。本発明に使用される上記化学式(I)の化合
物の製造法は、WO98/09949号公報中に記載さ
れているが、この製造法に限定されるものではない。
【0019】又、本願発明には上記製造法で得られるピ
リミドンアセタミド誘導体の結晶も含まれる。特に、上
記一般式(II)でEが3−(2−ピリジルオキシ)プ
ロピル基である2−(5−ホルミルアミノ−6−オキソ
−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イ
ル)−N−[3,4−ジオキソ−1−フェニル−7−
(2−ピリジルオキシ)]−2−ヘプチルアセタミドの
結晶は、その粉末X線回折パターンにおいて、以下のd
面間隔パターン(オングストローム)を示す。 15.17、5.95、5.06、4.85、4.7
0、4.40、4.07、3.93、3.73、3.4
5 測定は、理学電気社製粉末X線結晶解析装置RINT−
1100Vを用いた。測定されるd面間隔が、例えば粉
末サンプルが詰められた程度に応じてやや変動しうるこ
とは、明らかであろう。そのような結晶体も本発明に含
まれる。
リミドンアセタミド誘導体の結晶も含まれる。特に、上
記一般式(II)でEが3−(2−ピリジルオキシ)プ
ロピル基である2−(5−ホルミルアミノ−6−オキソ
−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イ
ル)−N−[3,4−ジオキソ−1−フェニル−7−
(2−ピリジルオキシ)]−2−ヘプチルアセタミドの
結晶は、その粉末X線回折パターンにおいて、以下のd
面間隔パターン(オングストローム)を示す。 15.17、5.95、5.06、4.85、4.7
0、4.40、4.07、3.93、3.73、3.4
5 測定は、理学電気社製粉末X線結晶解析装置RINT−
1100Vを用いた。測定されるd面間隔が、例えば粉
末サンプルが詰められた程度に応じてやや変動しうるこ
とは、明らかであろう。そのような結晶体も本発明に含
まれる。
【0020】なお、いかなる結晶形の分子も、以下のB
ragg式を用いてその粉末X線回折パターンから求め
られ、それ自体の独特なd面間隔パターンを有している
ことが知られている。 nλ=2dsinθ nは回折の次数である(通常1である) λは照射光の波長である dはd面間隔(オングストローム)である θは照射光の偏向の角度である
ragg式を用いてその粉末X線回折パターンから求め
られ、それ自体の独特なd面間隔パターンを有している
ことが知られている。 nλ=2dsinθ nは回折の次数である(通常1である) λは照射光の波長である dはd面間隔(オングストローム)である θは照射光の偏向の角度である
【0021】
【実施例】以下に本願発明の実施例を記述するが、本願
発明はこれらに限定されるものではない。特に断りの無
い場合次の操作法を用いた。 (1)溶媒の濃縮はロータリーエバポレーターを用い、
生成物により室温から摂氏100度の湯浴上で5〜50
mmHgの減圧下に行った。 (2)核磁気共鳴(NMR)スペクトルはVarian
社製Gemini−200(200MHz)を用い、内
部標準物質としてテトラメチルシラン(TMS)を基準
としたppmで記載した。検出されたシグナルの形に関
しては慣用的な略称を用いた。
発明はこれらに限定されるものではない。特に断りの無
い場合次の操作法を用いた。 (1)溶媒の濃縮はロータリーエバポレーターを用い、
生成物により室温から摂氏100度の湯浴上で5〜50
mmHgの減圧下に行った。 (2)核磁気共鳴(NMR)スペクトルはVarian
社製Gemini−200(200MHz)を用い、内
部標準物質としてテトラメチルシラン(TMS)を基準
としたppmで記載した。検出されたシグナルの形に関
しては慣用的な略称を用いた。
【0022】2−(5−ホルミルアミノ−6−オキソ−
2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イ
ル)−N−[3,4−ジオキソ−1−フェニル−7−
(2−ピリジルオキシ)]−2−ヘプチルアセタミドを
結晶として得る際に使用する溶媒として、酢酸エチル、
メタノール、アセトン又は含水アセトンを用いた実施例
を以下に記載する。
2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イ
ル)−N−[3,4−ジオキソ−1−フェニル−7−
(2−ピリジルオキシ)]−2−ヘプチルアセタミドを
結晶として得る際に使用する溶媒として、酢酸エチル、
メタノール、アセトン又は含水アセトンを用いた実施例
を以下に記載する。
【0023】実施例1
2−(5−t−ブトキシカルボニルアミノ−6−オキソ
−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イ
ル)−N−[3,4−ジオキソ−1−フェニル−7−
(2−ピリジルオキシ)]−2−ヘプチルアセタミド
(3.08g)を蟻酸(23ml)に加え、40℃で
7.5時間攪拌した。反応溶液をエバポレートして得ら
れた残渣に酢酸エチル(6ml)を加えて、再度エバポ
レートした。この操作を2度繰り返した。得られた個体
性残渣に酢酸エチル(21ml)を加えて40℃で40
分攪拌した後、室温で一晩静置した。析出固体を濾取
し、続いて酢酸エチル(15ml)に加えて室温で2時
間攪拌した後、濾取する事により2−(5−ホルミルア
ミノ−6−オキソ−2−フェニル−1,6−ジヒドロピ
リミジン−1−イル)−N−[3,4−ジオキソ−1−
フェニル−7−(2−ピリジルオキシ)]−2−ヘプチ
ルアセタミド(2.13g、収率78%)を結晶として
得た。
−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イ
ル)−N−[3,4−ジオキソ−1−フェニル−7−
(2−ピリジルオキシ)]−2−ヘプチルアセタミド
(3.08g)を蟻酸(23ml)に加え、40℃で
7.5時間攪拌した。反応溶液をエバポレートして得ら
れた残渣に酢酸エチル(6ml)を加えて、再度エバポ
レートした。この操作を2度繰り返した。得られた個体
性残渣に酢酸エチル(21ml)を加えて40℃で40
分攪拌した後、室温で一晩静置した。析出固体を濾取
し、続いて酢酸エチル(15ml)に加えて室温で2時
間攪拌した後、濾取する事により2−(5−ホルミルア
ミノ−6−オキソ−2−フェニル−1,6−ジヒドロピ
リミジン−1−イル)−N−[3,4−ジオキソ−1−
フェニル−7−(2−ピリジルオキシ)]−2−ヘプチ
ルアセタミド(2.13g、収率78%)を結晶として
得た。
【0024】実施例2
2−(5−t−ブトキシカルボニルアミノ−6−オキソ
−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イ
ル)−N−[3,4−ジオキソ−1−フェニル−7−
(2−ピリジルオキシ)]−2−ヘプチルアセタミド
(2.41g)を蟻酸(18ml)に加え、43℃で1
2時間攪拌した。反応溶液をエバポレートして得られた
残渣にメタノール(6ml)を加えて、再度エバポレー
トした。この操作を3度繰り返した。得られた個体性残
渣にメタノール(12ml)を加えて38℃で10分攪
拌した後、室温で一晩攪拌した。析出固体を濾取し、7
5%含水メタノールで洗浄して2−(5−ホルミルアミ
ノ−6−オキソ−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリ
ミジン−1−イル)−N−[3,4−ジオキソ−1−フ
ェニル−7−(2−ピリジルオキシ)]−2−ヘプチル
アセタミド(1.63g、収率76%)を結晶として得
た。
−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イ
ル)−N−[3,4−ジオキソ−1−フェニル−7−
(2−ピリジルオキシ)]−2−ヘプチルアセタミド
(2.41g)を蟻酸(18ml)に加え、43℃で1
2時間攪拌した。反応溶液をエバポレートして得られた
残渣にメタノール(6ml)を加えて、再度エバポレー
トした。この操作を3度繰り返した。得られた個体性残
渣にメタノール(12ml)を加えて38℃で10分攪
拌した後、室温で一晩攪拌した。析出固体を濾取し、7
5%含水メタノールで洗浄して2−(5−ホルミルアミ
ノ−6−オキソ−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリ
ミジン−1−イル)−N−[3,4−ジオキソ−1−フ
ェニル−7−(2−ピリジルオキシ)]−2−ヘプチル
アセタミド(1.63g、収率76%)を結晶として得
た。
【0025】実施例3
2−(5−t−ブトキシカルボニルアミノ−6−オキソ
−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イ
ル)−N−[3,4−ジオキソ−1−フェニル−7−
(2−ピリジルオキシ)]−2−ヘプチルアセタミド
(3.88g)を蟻酸(29ml)に加え、42℃で
8.5時間攪拌した。反応溶液をエバポレートして得ら
れた残渣にアセトン(10ml)を加えて、再度エバポ
レートした。この操作を3度繰り返した。得られた個体
性残渣にアセトン(40ml)を加えて42℃で7時間
攪拌した後、室温へ冷却し析出固体を濾取する事によ
り、2−(5−ホルミルアミノ−6−オキソ−2−フェ
ニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)−N−
[3,4−ジオキソ−1−フェニル−7−(2−ピリジ
ルオキシ)]−2−ヘプチルアセタミド(2.95g、
収率86%)を結晶として得た。
−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イ
ル)−N−[3,4−ジオキソ−1−フェニル−7−
(2−ピリジルオキシ)]−2−ヘプチルアセタミド
(3.88g)を蟻酸(29ml)に加え、42℃で
8.5時間攪拌した。反応溶液をエバポレートして得ら
れた残渣にアセトン(10ml)を加えて、再度エバポ
レートした。この操作を3度繰り返した。得られた個体
性残渣にアセトン(40ml)を加えて42℃で7時間
攪拌した後、室温へ冷却し析出固体を濾取する事によ
り、2−(5−ホルミルアミノ−6−オキソ−2−フェ
ニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)−N−
[3,4−ジオキソ−1−フェニル−7−(2−ピリジ
ルオキシ)]−2−ヘプチルアセタミド(2.95g、
収率86%)を結晶として得た。
【0026】実施例4
2−(5−t−ブトキシカルボニルアミノ−6−オキソ
−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イ
ル)−N−[3,4−ジオキソ−1−フェニル−7−
(2−ピリジルオキシ)]−2−ヘプチルアセタミド
(66.4g)を蟻酸(498ml)に加え、41℃で
6時間攪拌した。反応溶液をエバポレートして得られた
残渣にアセトン(200ml)を加えて、再度エバポレ
ートした。この操作を2度繰り返した。得られた個体性
残渣にアセトン(700ml)を加えて35℃でエバポ
レートした後、更にアセトン(400ml)を加えて3
5℃でエバポレートした。得られた個体性残渣にアセト
ン(750ml)を加え、50℃で2時間攪拌した。こ
の懸濁液に水(750ml)を加えて2時間攪拌した
後、室温で8.5時間攪拌を続けた。析出固体を濾取す
る事により、2−(5−ホルミルアミノ−6−オキソ−
2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イ
ル)−N−[3,4−ジオキソ−1−フェニル−7−
(2−ピリジルオキシ)]−2−ヘプチルアセタミド
(52.3g、収率89%)を結晶として得た。
−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イ
ル)−N−[3,4−ジオキソ−1−フェニル−7−
(2−ピリジルオキシ)]−2−ヘプチルアセタミド
(66.4g)を蟻酸(498ml)に加え、41℃で
6時間攪拌した。反応溶液をエバポレートして得られた
残渣にアセトン(200ml)を加えて、再度エバポレ
ートした。この操作を2度繰り返した。得られた個体性
残渣にアセトン(700ml)を加えて35℃でエバポ
レートした後、更にアセトン(400ml)を加えて3
5℃でエバポレートした。得られた個体性残渣にアセト
ン(750ml)を加え、50℃で2時間攪拌した。こ
の懸濁液に水(750ml)を加えて2時間攪拌した
後、室温で8.5時間攪拌を続けた。析出固体を濾取す
る事により、2−(5−ホルミルアミノ−6−オキソ−
2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イ
ル)−N−[3,4−ジオキソ−1−フェニル−7−
(2−ピリジルオキシ)]−2−ヘプチルアセタミド
(52.3g、収率89%)を結晶として得た。
【0027】1H−NMR(CDCl3);2.00−
2.16(2H,m)、2.76−3.09(3H,c
omplex)、3.23(1H,dd,J=5.4,
14.1Hz)、4.32(2H,t,J=6.4H
z)、4.50(2H,d,J=1.3Hz)、5.2
1−5.33(1H,m)、6.50(1H,d,J=
6.6Hz)、6.70(1H,d,J=8.3H
z)、6.85(1H,ddd,J=0.9,5.1,
7.1Hz)、7.00−7.11(2H,m)、7.
14−7.65(9H,complex)、8.10
(1H,ddd,J=0.7,2.0,5.0Hz)、
8.24(1H,br s)、9.10(1H,s):
MS;m/z=568(M+1)
2.16(2H,m)、2.76−3.09(3H,c
omplex)、3.23(1H,dd,J=5.4,
14.1Hz)、4.32(2H,t,J=6.4H
z)、4.50(2H,d,J=1.3Hz)、5.2
1−5.33(1H,m)、6.50(1H,d,J=
6.6Hz)、6.70(1H,d,J=8.3H
z)、6.85(1H,ddd,J=0.9,5.1,
7.1Hz)、7.00−7.11(2H,m)、7.
14−7.65(9H,complex)、8.10
(1H,ddd,J=0.7,2.0,5.0Hz)、
8.24(1H,br s)、9.10(1H,s):
MS;m/z=568(M+1)
【0028】実施例5
2−(5−t−ブトキシカルボニルアミノ−6−オキソ
−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イ
ル)−N−[3,4−ジオキソ−1−フェニル−7−
(2−ピリジルオキシ)]−2−ヘプチルアセタミド
(1.92g)を蟻酸(14ml)に加え、室温で48
時間攪拌した。反応溶液をエバポレートして得られた残
渣にアセトン(6ml)および水(24ml)を加え
て、室温で一日攪拌した。析出固体を濾取する事によ
り、2−(5−ホルミルアミノ−6−オキソ−2−フェ
ニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)−N−
[3,4−ジオキソ−1−フェニル−7−(2−ピリジ
ルオキシ)]−2−ヘプチルアセタミド(1.65g、
収率97%)を結晶として得た。
−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イ
ル)−N−[3,4−ジオキソ−1−フェニル−7−
(2−ピリジルオキシ)]−2−ヘプチルアセタミド
(1.92g)を蟻酸(14ml)に加え、室温で48
時間攪拌した。反応溶液をエバポレートして得られた残
渣にアセトン(6ml)および水(24ml)を加え
て、室温で一日攪拌した。析出固体を濾取する事によ
り、2−(5−ホルミルアミノ−6−オキソ−2−フェ
ニル−1,6−ジヒドロピリミジン−1−イル)−N−
[3,4−ジオキソ−1−フェニル−7−(2−ピリジ
ルオキシ)]−2−ヘプチルアセタミド(1.65g、
収率97%)を結晶として得た。
【0029】実施例6 粉末X線回折結果
以下に実施例1および5で得られた結晶に関する粉末X
線結晶回折の測定結果を表1として記載する。 測定装置:理学電気社製粉末X線結晶解析装置RINT
−1100V
線結晶回折の測定結果を表1として記載する。 測定装置:理学電気社製粉末X線結晶解析装置RINT
−1100V
【0030】表1
【0031】
【発明の効果】本発明により、上記化学式(II)の化
合物を短工程で効率よく得られた。即ち、WO98/0
9949号公報中の2−(5−t−ブトキシカルボニル
アミノ−6−オキソ−2−フェニル−1,6−ジヒドロ
ピリミジン−1−イル)−N−[3−ヒドロキシ−4−
オキソ−1−フェニル−7−(2−ピリジルオキシ)]
−2−ヘプチルアセタミドからの製造法では保護基の導
入および除去を行う3工程を含む5工程を要し収率45
%であったが、本発明では1工程で収率76%以上であ
った。更に、生成物を結晶として製造可能となった結
果、濾過等の操作が容易となり、精製単離操作において
シリカゲルを用いるクロマトグラフィーが不要となり、
従って塩化メチレンも使わなくてよくなり、環境に優し
い製造法が確立された。
合物を短工程で効率よく得られた。即ち、WO98/0
9949号公報中の2−(5−t−ブトキシカルボニル
アミノ−6−オキソ−2−フェニル−1,6−ジヒドロ
ピリミジン−1−イル)−N−[3−ヒドロキシ−4−
オキソ−1−フェニル−7−(2−ピリジルオキシ)]
−2−ヘプチルアセタミドからの製造法では保護基の導
入および除去を行う3工程を含む5工程を要し収率45
%であったが、本発明では1工程で収率76%以上であ
った。更に、生成物を結晶として製造可能となった結
果、濾過等の操作が容易となり、精製単離操作において
シリカゲルを用いるクロマトグラフィーが不要となり、
従って塩化メチレンも使わなくてよくなり、環境に優し
い製造法が確立された。
Claims (8)
- 【請求項1】下記化学式(I) 【化1】 [式中、Dは酸性条件下で脱保護される保護基を示し、
Eは置換基を有していてもよい炭素数1乃至6のアルキ
ル基を示す]で表される化合物を蟻酸と反応させること
を特徴とする下記化学式(II) 【化2】 [式中、Eは上記とおなじ意味を示す]で表されるピリ
ミドンアセタミド誘導体の製造法。 - 【請求項2】Dが3級アルコキシカルボニル基であり、
Eにおける置換基を有していてもよい炭素数1乃至6の
アルキル基の置換基が、アリール基、窒素原子を有する
複素環オキシル基又は窒素原子を有する複素環基である
請求項1のピリミドンアセタミド誘導体の製造法。 - 【請求項3】Dにおける3級アルコキシカルボニル基が
t−ブトキシカルボニル基であり、Eにおける置換基を
有していてもよい炭素数1乃至6のアルキル基の置換基
が、2−ピリジルオキシ基である請求項2に記載のピリ
ミドンアセタミド誘導体の製造法。 - 【請求項4】Eが3−(2−ピリジルオキシ)プロピル
基である請求項3記載のピリミドンアセタミド誘導体の
製造法。 - 【請求項5】請求項1乃至4のいずれか1項に記載の製
造法において、蟻酸との反応後に蟻酸を除去し、有機溶
媒又は含水有機溶媒を加えて攪拌することを特徴とする
ピリミドンアセタミド誘導体の結晶の製造法。 - 【請求項6】有機溶媒が、酢酸エチル、メタノール又は
アセトンである請求項5に記載のピリミドンアセタミド
誘導体の結晶の製造法。 - 【請求項7】含水有機溶媒が含水アセトンである請求項
5に記載のピリミドンアセタミド誘導体の結晶の製造
法。 - 【請求項8】粉末X線結晶回折において下記のd面間隔
パターン(オングストローム): 15.17、5.95、5.06、4.85、4.7
0、4.40、4.07、3.93、3.73、3.4
5 を本質的に有している2−(5−ホルミルアミノ−6−
オキソ−2−フェニル−1,6−ジヒドロピリミジン−
1−イル)−N−[3,4−ジオキソ−1−フェニル−
7−(2−ピリジルオキシ)]−2−ヘプチルアセタミ
ドの結晶。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002075686A JP2003277374A (ja) | 2002-03-19 | 2002-03-19 | ピリミドンアセタミド誘導体の新規製造法とその結晶 |
PCT/JP2002/009912 WO2003029246A1 (fr) | 2001-09-28 | 2002-09-26 | Procede de production de derive d'acetamide pyrimidone et des cristaux de celui-ci |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002075686A JP2003277374A (ja) | 2002-03-19 | 2002-03-19 | ピリミドンアセタミド誘導体の新規製造法とその結晶 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003277374A true JP2003277374A (ja) | 2003-10-02 |
Family
ID=29227724
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002075686A Pending JP2003277374A (ja) | 2001-09-28 | 2002-03-19 | ピリミドンアセタミド誘導体の新規製造法とその結晶 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003277374A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006121151A1 (ja) * | 2005-05-13 | 2006-11-16 | Daiichi Sankyo Company, Limited | 1-メチルカルバペネム化合物の結晶 |
-
2002
- 2002-03-19 JP JP2002075686A patent/JP2003277374A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006121151A1 (ja) * | 2005-05-13 | 2006-11-16 | Daiichi Sankyo Company, Limited | 1-メチルカルバペネム化合物の結晶 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
ES2260503T3 (es) | Procedimiento par apreparar derivados de 1-(carboximetil)- y 1-(aminocarbonil)- pirimidin-4-ona. | |
JP6811717B2 (ja) | トピロキソスタット及びその中間体の調製のための方法 | |
JP2020528916A (ja) | タンパク質キナーゼに対する選択的阻害剤の合成に有用な中間体及びそれを調製するためのプロセス | |
JP2013531004A (ja) | トロンビン特異的インヒビターの調製のための中間体及び方法 | |
CN110214139B (zh) | 用于生产三唑并吡啶化合物的方法 | |
JP7205059B2 (ja) | エボジアミンの製造方法 | |
JP2003277374A (ja) | ピリミドンアセタミド誘導体の新規製造法とその結晶 | |
CA2975072A1 (en) | Method for producing pyrazinecarboxamide compound and synthetic intermediate thereof | |
JPS5867676A (ja) | シメチジンの新しい結晶変異体およびその製造方法 | |
WO2020009132A1 (ja) | ジアリールピリジン誘導体の製造方法 | |
Ivanova | A modification of the plöchl-erlenmeyer reaction. I. Synthesis of 2-phenyl-4-diphenylmethylene-5 (4H)-oxazolone | |
EP1930324A1 (en) | Process for the preparation of atazanavir | |
JP7447291B2 (ja) | ヘテロサイクリックアミン誘導体の製造方法 | |
CA2523233C (en) | Salt of (2s,3s)-3-[[(1s)-1-isobutoxymethyl-3-methylbutyl]carbamoyl]oxirane-2-carboxylic acid | |
JPS62286964A (ja) | オキシラセタムの製造方法 | |
KR20130134407A (ko) | 게피티닙의 제조방법 및 이의 제조에 사용되는 중간체 | |
CN112135820B (zh) | 制备二氨基嘧啶衍生物或其酸加成盐的新方法 | |
JP4425366B2 (ja) | N−ベンジル−3−ヒドロキシアゼチジンの製造法 | |
JPH0446175A (ja) | 5―ヒドロキシ―3,4―メチレンジオキシ安息香酸誘導体の製造法 | |
JP3259196B2 (ja) | 2−ヒドラジノ−4,6−ジメトキシピリミジンの製造法 | |
JP3127505B2 (ja) | ピラゾロピリジン誘導体の製造法 | |
JP3719269B2 (ja) | 2−アルキル−4−オキソ−5、6、7、8−テトラヒドロ−シクロヘプトイミダゾールの製造方法 | |
JPH0285237A (ja) | 3‐アミノクロトン酸メチルの製造方法 | |
JP2022502511A (ja) | アピキサバンの製造方法 | |
JPH06145168A (ja) | 4−(4−クロロベンジル)−2−〔n−メチル−パーヒドロアゼピニル−(4)〕−1−(2h)−フタラジノン及びその酸付加塩の製造方法 |