JP2003269929A

JP2003269929A - 欠陥検査装置

Info

Publication number: JP2003269929A
Application number: JP2002067059A
Authority: JP
Inventors: Akira Miyahara; 章宮原; Masaaki Yamamoto; 正昭山本
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 2002-03-12
Filing date: 2002-03-12
Publication date: 2003-09-25

Abstract

(57)【要約】【課題】検査対象物上の欠陥箇所に対するマーキング
を迅速に行うとともに、装置の小型化を図る。【解決手段】欠陥検査装置の撮像ユニット１７の側方
にマーキングユニット１８を取り付ける。マーキングユ
ニット１８には、検査対象物である基板９０に対してマ
ーキングを行うマーカ１８３、マーカ１８３を回転軸Ｐ
を中心に約９０°回動させるロータリーアクチュエータ
１８０、およびマーカ１８３を昇降させる昇降機構１８
２を設ける。マーキングを行う場合には、ロータリーア
クチュエータ１８０がマーカ１８３を回動させることに
より、マーカ１８３を欠陥箇所に対向する位置に進出さ
せ、昇降機構１８２がマーカ１８３を基板９０に当接す
る位置に降下させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プリント基板、プ
リント基板作成用のフィルムマスクやガラスマスクなど
の検査対象物上に形成された配線パターンなどのパター
ンを検査する検査装置に関し、特に検査装置によって検
出された検査対象物上の欠陥箇所にマーキングする技術
に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、前述のような検査対象物上の
欠陥箇所にマーキングするマーキング機能を備えた検査
装置（欠陥検出装置）が知られている。例えば、特開２
００１−１６５６３６公報には、水平に支持された検査
対象物上の欠陥箇所の画像を取り込むＣＣＤ（Charge C
oupled Device）カメラなどを有する撮像ユニットと、
前述のマーキング機能を有するマーキング機構とを備え
た検査装置が提案されている。図１５は、このような検
査装置における撮像ユニット１００およびマーキング機
構１０２を示す概略図である。この検査装置におけるマ
ーキング機構１０２は鉛直方向に進退自在とされてお
り、撮像ユニット１００が備えるＣＣＤカメラ１０１の
側方に配置される。なお、図１５では、図示していない
が、検出装置は、撮像ユニット１００を検査対象物の上
方で移動させる移動機構およびＣＣＤカメラ１０１が取
り込んだ画像を処理する画像処理ユニットを備えてい
る。

【０００３】上述の検査装置により検査対象物上の欠陥
箇所にマーキングする動作は次の通りである。まず、移
動機構によって撮像ユニット１００のＣＣＤカメラ１０
１を欠陥箇所の上方に移動させる。次に、ＣＣＤカメラ
１０１が欠陥箇所の画像を取り込み、この画像を画像処
理ユニットが処理することにより、欠陥箇所を検出す
る。移動機構は、画像処理ユニットが検出した欠陥箇所
の位置情報に基づいて、撮像ユニット１００を距離Ｄだ
け移動させ、当該欠陥箇所の上方にマーキング機構１０
２を配置する。そして、マーキング機構１０２は欠陥箇
所に当接するように降下して欠陥箇所にマーキングした
後、上昇する。

【０００４】なお、撮像の後、マーキング機構を欠陥箇
所に対向させてマーキングするために、検査対象物を保
持している検査ステージを移動させる検査装置も提案さ
れている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記公
報に記載されている検査装置では、マーキングのための
マーキング機構の移動も撮像ユニットと一体として行わ
れるため、比較的大型、かつ重量のある撮像ユニットを
移動させなければならない。そのため、マーキング機構
を迅速に欠陥箇所の上方に移動できないという問題があ
った。検査ステージが移動するように構成された検査装
置についても、検査ステージは大型、かつ重量があるた
め、同様の問題があった。

【０００６】この問題を解決するために、マーキング機
構１０２をＣＣＤカメラ１０１のレンズの視野のすぐ外
側に設置することにより、移動量を減らすことも可能で
はあるが、その場合は、マーキング機構１０２の退避位
置が十分ではなく、照明を遮る可能性があるとともに、
ＣＣＤカメラ１０１で欠陥箇所を撮像しながら検査対象
物の修正作業を行う場合に、作業者に対する十分な作業
空間を確保できないという問題があった。

【０００７】また、上記公報に記載されている検査装置
では、例えば、欠陥箇所が検査対象物の端部（図１５に
おいて左端）に存在した場合、当該欠陥箇所にマーキン
グ機構１０２を対向させるよう撮像ユニット１００を左
方向に移動させると、ＣＣＤカメラ１０１が基板９０の
上方よりも左側にはみ出ることとなる。つまり、従来の
検査装置では、当該はみ出る部分を考慮して撮像ユニッ
ト１００の移動可能領域を検査対象物の面積よりも広く
確保する必要があるため、装置が大型化するという問題
があった。この問題は、検査ステージを移動させる検査
装置についても同様に発生する。

【０００８】本発明は、上記課題に鑑みなされたもので
あり、欠陥箇所を迅速にマーキングするとともに、小型
化が可能な検査装置を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、請求項１の発明は、検査対象物上の欠陥箇所を検査
する欠陥検査装置であって、前記検査対象物を保持する
保持手段と、前記保持手段に保持された前記検査対象物
上の前記欠陥箇所の画像を取り込む画像取り込み手段
と、前記画像取り込み手段が前記検査対象物上の前記欠
陥箇所に対向するように、前記画像取り込み手段の光学
系の光軸に略垂直な面内で前記検査対象物と前記画像取
り込み手段とを相対移動させる第１移動手段と、前記画
像取り込み手段によって取り込まれた前記欠陥箇所の画
像を表示する表示手段と、前記画像取り込み手段に並設
配置され、前記欠陥箇所にマーキングするマーキング手
段と、前記画像取り込み手段と前記検査対象物との間の
空間に対して、前記マーキング手段を進退させる第２移
動手段とを備え、前記マーキング手段が、前記第１移動
手段によって前記画像取り込み手段と一体に移動させら
れるとともに、前記画像取り込み手段と前記欠陥箇所と
が対向する位置で、前記画像取り込み手段と前記保持手
段とが静止した状態で、前記第２移動手段によって進退
させられる。

【００１０】また、請求項２の発明は、請求項１の発明
に係る欠陥検査装置であって、前記第２移動手段が、前
記光軸に略垂直方向の移動を伴って、前記マーキング手
段を前記空間に対して進退させる。

【００１１】また、請求項３の発明は、請求項２の発明
に係る欠陥検査装置であって、前記第２移動手段が、旋
回運動を伴って、前記マーキング手段を前記空間に対し
て進退させる。

【００１２】また、請求項４の発明は、請求項１ないし
３のいずれかの発明に係る欠陥検査装置であって、前記
マーキング手段が、前記空間内で前記光軸に略平行方向
に進退する。

【００１３】また、請求項５の発明は、請求項１ないし
４のいずれかの発明に係る欠陥検査装置であって、前記
マーキング手段が、前記画像取り込み手段におけるフォ
ーカス調整および／またはズーム調整のための前記光学
系の動作に連動して移動する。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
について、添付の図面を参照しつつ、詳細に説明する。

【００１５】＜１．実施の形態＞図１は、本実施の形
態における欠陥検査装置１の正面図であり、図２は、欠
陥検査装置１の側面図である。なお、図１においては、
水平Ｘ０軸およびＹ軸、鉛直Ｚ０軸とが定義されてお
り、図２以下では、(1) 水平Ｘ０軸から鉛直面内で下
向きに若干傾きつつＹ軸と直交するＸ軸、および、(2)
Ｘ軸およびＹ軸と直交するＺ軸、も定義されている。
この実施形態ではＸ軸およびＺ軸は、それぞれＸ０軸お
よびＺ０軸から傾いているが、Ｘ軸がＸ０軸、Ｚ軸がＺ
０軸とそれぞれ一致していてもよい。

【００１６】欠陥検査装置１は、検査対象物である基板
（プリント基板、プリント基板作成用のフィルムマスク
やガラスマスクなど）９０を載置する検査ステージ１
０、作業者の指示を入力するためのボタンやジョイステ
ィックなどからなる操作部１１、欠陥検査装置１を操作
するために必要な情報や、撮像ユニット１７によって取
り込まれた欠陥箇所の画像を画面に表示する操作モニタ
１２、操作モニタ１２を欠陥検査装置１の上方に支持す
る支持部材１３、検査ステージ１０の両側に配置される
左右一対の移動機構１４、検査ステージ１０の両側部分
から略水平に掛け渡された架橋構造を有する支持架台１
５、Ｙ軸方向に沿って支持架台１５上に設けられた移動
機構１６、基板９０上の欠陥箇所を画像データとして撮
像する撮像ユニット１７、マーキングユニット１８、お
よび作業者の安全を確保するために撮像ユニット１７お
よびマーキングユニット１８の移動空間を覆う保護カバ
ー１９を備える。また、欠陥検査装置１は、制御部２０
を内部に備える。

【００１７】検査ステージ１０の上面は、ＸＹ平面に略
平行とされており、作業者や図示しない搬送機構などに
より、欠陥検査装置１に移送された基板９０を所定の位
置に載置する。

【００１８】移動機構１４は、検査ステージ１０の両側
にそれぞれ設けられ、主に図示しない回転モータとボー
ルネジとから構成される。当該ボールネジは、Ｘ軸方向
に沿って延設され、当該回転モータの回転駆動力をＸ軸
方向の駆動力に変換し、それぞれが支持架台１５をＸ軸
方向に移動させる。支持架台１５の移動量および位置
は、制御部２０が回転モータの回転角を制御することに
より、制御可能とされている。

【００１９】図３および図４は、支持架台１５をその他
の構成とともに示す正面図および側面図である。支持架
台１５は、両端が前述の移動機構１４に取り付けられて
おり、移動機構１６、撮像ユニット１７、およびマーキ
ングユニット１８を検査ステージ１０の上方に支持する
機能を有する。

【００２０】移動機構１６は、回転駆動力を生成するサ
ーボモータ１６０、Ｙ軸方向に延接されたボールネジ１
６１、および撮像ユニット１７とマーキングユニット１
８とが固定される移動子１６２を有している。移動機構
１６は、サーボモータ１６０の回転駆動力によってボー
ルネジ１６１を回転させることにより、移動子１６２を
Ｙ軸方向に移動させる。すなわち、移動機構１６は、撮
像ユニット１７およびマーキングユニット１８を支持架
台１５上で共にＹ軸方向に移動させる機能を有する。な
お、移動子１６２の移動量および位置についても、制御
部２０がサーボモータ１６０の回転角を制御することに
より、制御可能とされている。

【００２１】図５は、撮像ユニット１７およびマーキン
グユニット１８を示す図である。また、図６は、マーキ
ングユニット１８の詳細を示すとともに、マーカ１８３
が基板９０に当接する様子を示した図である。以下、図
５に示すマーカ１８３の位置を「退避位置」、図６に示
すマーカ１８３の位置を「マーキング位置」と称する。

【００２２】撮像ユニット１７は、基板９０の画像を所
定の位置に結像させるための光学系１７０、固定部材１
７１、被写体である基板９０を照明するライト１７２、
作業者に撮像箇所を示すポインタ１７３、および基板９
０を固定するための基板押さえ１７４を備える。また、
フォーカス調整機構１７５を内部に備え、さらに光学系
１７０のズーム調整を行うズーム調整機構１７６を備え
る。なお、図５では、基板９０を照明するための構成と
してライト１７２のみを示しているが、基板９０に対す
る照明は、適宜、他の構成を用いて行ってもよい。

【００２３】撮像ユニット１７は、一般的なデジタルカ
メラの機能を有するユニットであって、撮像レンズなど
からなる光学系１７０により、入射する光を光軸ＯＰに
沿って、内部に有するＣＣＤなどの受像素子（図示せ
ず）に導き、光電変換することによって、検査ステージ
１０上に保持された基板９０上の欠陥箇所付近の画像を
画像データとして撮像する。

【００２４】フォーカス調整機構１７５は、光学系１７
０を光軸ＯＰ方向に昇降することにより、撮像ユニット
１７が撮像する際のフォーカス調整を行う。また、ズー
ム調整機構１７６は、光学系１７０に含まれるズームレ
ンズをモータなどの駆動力により回動させて、撮像ユニ
ット１７のズーム調整を行う。さらに、光学系１７０に
は、固定部材１７１を介してマーキングユニット１８が
取り付けられる。

【００２５】マーキングユニット１８は、固定部材１７
１により撮像ユニット１７に並設配置されており、ロー
タリーアクチュエータ１８０、スプライン軸１８１、昇
降機構１８２、マーカ１８３、およびマーカ支持部材１
８４を備える。

【００２６】ロータリーアクチュエータ１８０は、一般
にエアー式と呼ばれるアクチュエータであり、圧縮空気
が送り込まれることにより、回転軸Ｐを中心に約９０°
だけ回動する。スプライン軸１８１は、ロータリーアク
チュエータ１８０の回転力のみを伝える一般的なスプラ
イン構造であり、回転軸Ｐを中心とする口径の異なる複
数の軸が組み合わされた構造となっており、Ｚ軸方向に
伸縮自在にされている。マーカ支持部材１８４は、図６
に示すように一方の先端部にマーカ１８３が固定され、
他方はスプライン軸１８１に固定されている。

【００２７】このように、ロータリーアクチュエータ１
８０が約９０°回動することにより、マーカ支持部材１
８４がＸＹ平面に略平行な平面内で回動し、マーカ１８
３が撮像ユニット１７と基板９０との間の空間に対して
旋回移動を伴って進退を行う。すなわち、ロータリーア
クチュエータ１８０が主に本発明における第２移動手段
に相当する。

【００２８】また、マーカ１８３の進退をこのような構
成により実現することによって、例えば、当該面内にお
けるマーカ１８３の進退を直動シリンダなどの機構によ
り実現する場合に比べて、駆動軸を減らすことができる
ことから設計を容易にすることができる。なお、ロータ
リーアクチュエータ１８０の代わりに、例えば、サーボ
モータなどによってマーカ１８３を回動させて進退させ
る構成も可能であるが、その場合は、ギヤやストッパー
などの構成を用いて回転速度や回転量を調整することが
望ましい。

【００２９】昇降機構１８２は、一般的なシリンダとし
ての構成を有し、マーカ１８３とマーカ支持部材１８４
とをＺ軸方向に支持するとともに、Ｚ軸方向に昇降させ
る。もちろん、昇降機構１８２は、マーカ１８３をＺ軸
方向に昇降させることができるものであれば、どのよう
な周知の構成により実現されてもよい。

【００３０】マーカ１８３は、図５および図６に示すよ
うに、ペンタイプのマーカとなっており、基板９０の欠
陥箇所に当接することにより、欠陥箇所のマーキングを
行う。すなわち、マーカ１８３が本発明におけるマーキ
ング手段に相当する。なお、マーカとしては、例えばス
タンプタイプのマーカが用いられてもよい。

【００３１】保護カバー１９は、前述のように、作業者
の安全を確保するだけでなく、他からの入射光を防ぐこ
とにより、撮像ユニット１７が鮮明に画像データを撮像
できるようにする機能を有する。また、保護カバー１９
は、支持架台１５に固設されており、移動機構１４によ
って支持架台１５とともにＸ軸方向に移動させられ、常
に、撮像ユニット１７およびマーキングユニット１８の
上方を覆うようにされる。

【００３２】制御部２０は、図示を省略しているが、欠
陥検査装置１の他の構成と信号の送受が可能な状態で接
続されており、作業者からの指示やプログラム、および
取得される各種データなどを記憶したり、各種演算を実
行することにより、欠陥検査装置１が備える他の構成を
それぞれ制御する。

【００３３】以上が、本実施の形態における欠陥検査装
置１の構成である。以下、欠陥検査装置１を用いて基板
９０の検査を行う場合の欠陥検査装置１の動作について
説明する。

【００３４】まず、欠陥検査装置１では、移送されてき
た基板９０が検査ステージ１０により所定の位置に載置
される。続いて、基板９０上の位置決め用の穴やパター
ンを撮像ユニット１７が撮像し、撮像した画像データか
ら位置決め用の穴等を認識して、基板９０に対する撮像
ユニット１７の位置決めを行う。なお、操作モニタ１２
の画面には、欠陥検査装置１を操作するための各種操作
データが表示されており、作業者は当該画面を見ながら
操作部１１を操作することにより、欠陥検査装置１に必
要な指示（例えば、確認作業の開始指示や、欠陥箇所の
マーキング指示など）を与えることができる。

【００３５】次に、制御部２０が、予め取得し、記憶し
ておいた当該基板９０上の欠陥箇所の位置情報に含まれ
る欠陥箇所の位置と、現在の撮像ユニット１７の位置と
の相対距離に基づいて、撮像ユニット１７が当該欠陥箇
所を撮像できる位置（撮像ユニット１７の撮像範囲に当
該欠陥箇所が含まれる位置）に撮像ユニット１７を移動
させるために必要なＸ軸方向およびＹ軸方向の移動量を
算出する。なお、当該欠陥箇所の位置情報は、予め欠陥
検査装置１が検出することにより取得されていてもよい
し、他の装置で検出し、ネットワークまたは可搬性の記
録媒体などによって欠陥検査装置１に入力されることに
より取得されていてもよい。

【００３６】さらに、制御部２０は、算出した各移動量
に基づいて移動機構１４、１６に対する駆動パルス信号
を生成し、移動機構１４、１６にそれぞれ出力する。Ｘ
軸方向の移動量に相当する駆動パルス信号を受信した一
対の移動機構１４は、左右の移動機構１４が協調して支
持架台１５をＸ軸方向に移動させる。また、Ｙ軸方向の
移動量に相当する駆動パルスを受信した移動機構１６
は、移動子１６２をＹ軸方向に移動させることにより、
移動子１６２に固定されている撮像ユニット１７をＹ軸
方向に移動させる。

【００３７】このように、移動機構１４が支持架台１５
をＸ軸方向に移動させ、移動機構１６が撮像ユニット１
７をＹ軸方向に移動させることにより、撮像ユニット１
７が基板９０上の欠陥箇所に対向するように、撮像ユニ
ット１７の光学系の光軸ＯＰに略垂直な面内（ＸＹ平面
に略平行な面内）で基板９０と撮像ユニット１７とを相
対移動させることができる。すなわち、移動機構１４、
１６が本発明における第１移動手段に相当する。また、
マーキングユニット１８は、移動子１６２に固定されて
いることから、移動機構１４、１６によって撮像ユニッ
ト１７と一体に移動させられる。

【００３８】撮像ユニット１７が欠陥箇所の上方に配置
されると、撮像ユニット１７は、フォーカス調整機構１
７５により、欠陥箇所を撮像するために適切な位置に光
学系１７０を移動（フォーカス調整動作）させるととも
に、ズーム調整機構１７６により撮像ユニット１７のズ
ーム調整を行ってから当該欠陥箇所付近の撮像を行う。
このとき、光学系１７０には、固定部材１７１によりマ
ーキングユニット１８が取り付けられているため、光学
系１７０のフォーカス調整動作に連動してマーキングユ
ニット１８が移動する。なお、フォーカス調整およびズ
ーム調整は、基板９０として同じ条件の基板が検査され
る間は逐次行う必要はなく、基板の種類が変更されるな
どにより、例えば基板の厚さ寸法が変更されたときなど
にのみ行うようにしてもよい。

【００３９】撮像ユニット１７により撮像された画像デ
ータは、制御部２０により必要な画像処理が行われ、操
作モニタ１２の画面に画像として表示される。作業者
は、操作モニタ１２の画面に表示される当該画像によっ
て当該欠陥箇所を確認することにより、当該欠陥箇所に
マーキングが必要であるか否かを判断する。そして、マ
ーキングが必要であると判断した場合には、操作部１１
を操作して当該欠陥箇所にマーキングを行うよう欠陥検
査装置１に指示を入力する。

【００４０】図７ないし図１０は、マーキングユニット
１８がマーキングを行う一連の動作を撮像ユニット１７
とともに示す正面図である。図１１ないし図１４は、マ
ーキングユニット１８がマーキングを行う一連の動作を
撮像ユニット１７とともに示す斜視図である。なお、マ
ーキングユニット１８がマーキングを行う間、移動機構
１４、１６はともに移動せず、撮像ユニット１７は欠陥
箇所の画像を撮像した位置（撮像ユニット１７と欠陥箇
所とが対向する位置）で静止している。

【００４１】まず、撮像ユニット１７が欠陥箇所の撮像
を行っている間は、マーキングユニット１８は、退避位
置で待機する（図７および図１１）。当該退避位置は、
撮像ユニット１７の視野および照明を遮らず、かつ、基
板９０の修正作業を行う場合には、作業者の修正作業の
妨げにならない位置である。

【００４２】作業者からマーキングを行うよう指示が入
力されると、ロータリーアクチュエータ１８０が図１２
に示す方向に約９０°回動する。これにより、マーカ１
８３がＸＹ平面に略平行な面内（撮像ユニット１７の光
軸ＯＰに略垂直な面内）で旋回移動して、撮像ユニット
１７と基板９０との間の空間に対して進出する（図８お
よび図１２）。

【００４３】マーカ１８３が当該空間に対して進出する
間、撮像ユニット１７および検査ステージ１０は、撮像
ユニット１７が欠陥箇所の上方に対向する位置関係とな
る状態で静止しており、上記動作により、マーカ１８３
は、欠陥箇所に対向する位置に進出することとなる。

【００４４】このように、マーカ１８３がＸＹ平面に略
平行な面内で進退することにより、マーカ１８３がＺ軸
方向に進退する場合に比べて、マーカ１８３を十分に退
避させることができ、前述のように、退避位置を、撮像
ユニット１７の視野および照明を遮らず、かつ、基板９
０の修正作業を行う作業者の修正作業の妨げにならない
位置とすることができる。また、撮像ユニット１７と基
板９０との距離を接近させることができるため、装置の
小型化を図ることができるとともに、撮像ユニット１７
の撮像の際の拡大倍率を向上させることができる。

【００４５】なお、マーキングユニット１８を配置する
高さ位置は、マーカ１８３の旋回移動時にマーカ支持部
材１８４などが光学系１７０と干渉しない位置であり、
かつ、マーカ１８３が退避位置にあるときに修正作業な
どのスペースを確保できる位置とすることが好ましい。
欠陥検査装置１では、前述のように、フォーカス調整機
構１７５のフォーカス調整動作に連動してマーキングユ
ニット１８が移動するため、光学系１７０がフォーカス
調整動作によってどの位置に配置されていても、マーカ
１８３を適切な位置に保つことができる。したがって、
例えば、基板９０の厚さ寸法が変更され、フォーカス調
整動作により光学系１７０が移動した場合であっても正
確にマーキングすることができる。

【００４６】次に、昇降機構１８２がマーカ１８３を
（−Ｚ）方向に降下させることによりマーキング位置に
移動し（図９および図１３）、マーカ１８３が基板９０
に当接することにより当該欠陥箇所にマーキングが行わ
れる。

【００４７】このように、マーカ１８３が、光軸ＯＰに
略平行方向に進退しつつ、マーキングすることにより、
例えば、光軸ＯＰに対して傾斜した斜め方向に沿ってマ
ーカ１８３を進退させる構成と比較して、次のような利
点がある。すなわち、例えば基板９０の厚さ寸法の変更
等により、マーカ１８３と基板９０との間隔が若干変動
したとしても、基板９０上でのマーキング位置の位置ず
れが発生することはなく、正確な位置にマーキングを行
うことができる。また、基板９０上でマーカ１８３のペ
ン先が滑ることがなく、ペン先を安定して基板９０上に
当接させることができる。

【００４８】マーキングが終了すると、昇降機構１８２
がマーカ１８３をＺ方向に上昇させ、さらにロータリー
アクチュエータ１８０が図１４に示す方向に約９０°回
動することにより、マーカ１８３を欠陥箇所と対向する
位置から退出させて、退避位置に戻る（図１０および図
１４）。

【００４９】マーキングユニット１８によるマーキング
処理が終了すると、作業者は次の欠陥箇所を撮像するよ
う指示を入力し、当該指示の入力に基づいて制御部２０
が移動機構１４、１６を制御して撮像ユニット１７を移
動させる。あるいは、欠陥箇所に対して修正作業が必要
と判断した場合には、当該欠陥箇所に対する修正作業を
開始する。このとき、マーカ１８３は、図１４に示すよ
うに欠陥箇所から十分に退避しており、作業者の作業ス
ペースは十分に確保できる。その後、基板９０上のすべ
ての欠陥箇所について検査が終了すると、基板９０が検
査ステージ１０から搬出され、次の工程などに搬送され
る。

【００５０】以上により、欠陥検査装置１では、マーカ
１８３による欠陥箇所に対するマーキングを、マーキン
グユニット１８のロータリーアクチュエータ１８０およ
び昇降機構１８２が撮像ユニット１７から独立して行う
ことにより、比較的大型で重量のある撮像ユニット１７
を移動させる必要がないため、当該マーキングを迅速に
行うことができる。

【００５１】また、欠陥検査装置１では、例えば、欠陥
箇所が基板９０の端部（左側）に存在した場合であって
も、撮像ユニット１７は、常に基板９０の上方に配置さ
れており、基板９０の上方から撮像ユニット１７がはみ
出ることがないため、従来の検査装置のように余分なス
ペースを設ける必要がなく、装置を小型化することがで
きる。

【００５２】さらに、マーキングを行わない間は、マー
カ１８３がＸＹ平面に略平行な面内で十分に退避してお
り、撮像ユニット１７の照明を遮ったり、修正作業を行
う作業者の妨害になったりしないようにすることができ
る。

【００５３】＜２．変形例＞以上、本発明の実施の形
態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に
限定されるものではなく様々な変形が可能である。

【００５４】例えば、上記実施の形態における欠陥検査
装置１では、移動機構１４、１６が撮像ユニット１７を
移動させることにより、撮像ユニット１７と欠陥箇所と
を対向させるように構成していたが、これに限られるも
のではなく、検査ステージ１０を移動させるための機構
を設けて、基板９０を撮像ユニット１７に対して移動さ
せることにより、撮像ユニット１７と欠陥箇所とを対向
させるように構成してもよい。すなわち、欠陥検査装置
１は、撮像ユニット１７と基板９０とを相対移動させる
機能を有していればどのような構成であってもよい。

【００５５】また、昇降機構１８２によるマーカ１８３
の下降動作中に、ロータリーアクチュエータ１８０によ
る進出動作を行い、昇降機構１８２による上昇動作中
に、ロータリーアクチュエータ１８０による退出動作を
行うことにより、マーカ１８３をＺ軸に対して螺旋方向
に移動させるようにしてもよい。すなわち、撮像ユニッ
ト１７による撮像の際には、撮像ユニット１７と一体と
して移動させられるマーキングユニット１８が、マーキ
ング動作を行う場合には撮像ユニット１７と独立して動
作するように構成されていれば、他の手法が用いられて
もよい。

【００５６】また、マーキングを行う手法はマーカ１８
３を基板９０に当接させる構成に限られるものではな
い。すなわち、基板９０を損傷させることなく、目印を
付することができる手法であれば、どの周知な手法が用
いられてもよく、例えば、インクジェット方式のように
インクを基板９０の欠陥箇所に吹き付けることにより、
マーキングしてもよい。また、熱転写プリントなどのよ
うに熱を用いるマーキングであってもよい。なお、この
ような手法によりマーキングする場合には、昇降機構１
８２を省略することができるという利点がある。

【００５７】また、上記実施の形態では、フォーカス調
整機構１７５が基板９０の厚さ寸法が変更された場合な
どに行うフォーカス調整動作に連動して、マーキングユ
ニット１８が移動すると説明したが、同様にズーム調整
機構１７６のズーム調整動作に連動してマーキングユニ
ット１８が移動するように構成してもよい。その場合も
基板９０の厚さ寸法などの変更に柔軟に対応することが
できるため、正確なマーキングを行うことができる。

【００５８】

【発明の効果】請求項１ないし５に記載の発明では、マ
ーキング手段が、第１移動手段によって画像取り込み手
段と一体に移動させられるとともに、画像取り込み手段
と欠陥箇所とが対向する位置で、画像取り込み手段と保
持手段とが静止した状態で、第２移動手段によって進退
させられることにより、画像取り込み手段を移動させる
ことなくマーキングすることができる。

【００５９】請求項２に記載の発明は、第２移動手段
が、光軸に略垂直方向の移動を伴って、マーキング手段
を進退させることにより、画像取り込み手段と検査対象
物との距離を近くすることができるため、装置の小型化
を図ることができるとともに、画像取り込み手段の拡大
倍率を向上させることができる。

【００６０】請求項３に記載の発明では、第２移動手段
が、旋回運動を伴って、マーキング手段を進退させるこ
とにより、駆動軸を減らすことができることから、設計
が容易となる。

【００６１】請求項４に記載の発明では、マーキング手
段が、光軸に略平行方向に進退することにより、位置決
めの際に、マーキング手段と検査対象物との距離を考慮
する必要がないため、斜め方向から当接する場合に比べ
て、正確な位置にマーキングを行うことができる。

【００６２】請求項５に記載の発明では、マーキング手
段が、画像取り込み手段におけるフォーカス調整および
／またはズーム調整のための光学系の動作に連動して移
動することにより、画像取り込み手段の光学系の位置に
かかわらず、光学系とマーキング手段との相対位置を適
切に配置することができて、正確にマーキングすること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施の形態における欠陥検査装置の正面図で
ある。

【図２】欠陥検査装置の側面図である。

【図３】支持架台をその他の構成とともに示す正面図で
ある。

【図４】支持架台をその他の構成とともに示す側面図で
ある。

【図５】撮像ユニットおよびマーキングユニットを示す
図である。

【図６】マーキングユニットの詳細を示すとともに、マ
ーカが基板に当接する様子を示した図である。

【図７】マーキングユニットがマーキングを行う一連の
動作を撮像ユニットとともに示す正面図である。

【図８】マーキングユニットがマーキングを行う一連の
動作を撮像ユニットとともに示す正面図である。

【図９】マーキングユニットがマーキングを行う一連の
動作を撮像ユニットとともに示す正面図である。

【図１０】マーキングユニットがマーキングを行う一連
の動作を撮像ユニットとともに示す正面図である。

【図１１】マーキングユニットがマーキングを行う一連
の動作を撮像ユニットとともに示す斜視図である。

【図１２】マーキングユニットがマーキングを行う一連
の動作を撮像ユニットとともに示す斜視図である。

【図１３】マーキングユニットがマーキングを行う一連
の動作を撮像ユニットとともに示す斜視図である。

【図１４】マーキングユニットがマーキングを行う一連
の動作を撮像ユニットとともに示す斜視図である。

【図１５】従来の検査装置における撮像ユニットを示す
概略図である。

【符号の説明】

１欠陥検査装置１０検査ステージ１２操作モニタ１３支持部材１４移動機構１５支持架台１６移動機構１７撮像ユニット１７０光学系１７５フォーカス調整機構１７６ズーム調整機構１８マーキングユニット１８０ロータリーアクチュエータ１８２昇降機構１８３マーカ２０制御部９０基板ＯＰ光軸

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者山本正昭京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神北町１番地の１大日本スクリーン製造株式会社内Ｆターム(参考） 2F065 AA56 BB02 CC01 DD02 FF04 JJ03 JJ26 LL06 PP11 QQ31 SS02 SS13 TT08 2G051 AA65 AB02 CA03 CB01 CD04 DA15

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】検査対象物上の欠陥箇所を検査する欠陥
検査装置であって、前記検査対象物を保持する保持手段と、前記保持手段に保持された前記検査対象物上の前記欠陥
箇所の画像を取り込む画像取り込み手段と、前記画像取り込み手段が前記検査対象物上の前記欠陥箇
所に対向するように、前記画像取り込み手段の光学系の
光軸に略垂直な面内で前記検査対象物と前記画像取り込
み手段とを相対移動させる第１移動手段と、前記画像取り込み手段によって取り込まれた前記欠陥箇
所の画像を表示する表示手段と、前記画像取り込み手段に並設配置され、前記欠陥箇所に
マーキングするマーキング手段と、前記画像取り込み手段と前記検査対象物との間の空間に
対して、前記マーキング手段を進退させる第２移動手段
と、を備え、前記マーキング手段が、前記第１移動手段によって前記画像取り込み手段と一体
に移動させられるとともに、前記画像取り込み手段と前
記欠陥箇所とが対向する位置で、前記画像取り込み手段
と前記保持手段とが静止した状態で、前記第２移動手段
によって進退させられることを特徴とする欠陥検査装
置。
【請求項２】請求項１に記載の欠陥検査装置であっ
て、前記第２移動手段が、前記光軸に略垂直方向の移動を伴って、前記マーキング
手段を前記空間に対して進退させることを特徴とする欠
陥検査装置。
【請求項３】請求項２に記載の欠陥検査装置であっ
て、前記第２移動手段が、旋回運動を伴って、前記マーキング手段を前記空間に対
して進退させることを特徴とする欠陥検査装置。
【請求項４】請求項１ないし３のいずれかに記載の欠
陥検査装置であって、前記マーキング手段が、前記空間内で前記光軸に略平行
方向に進退することを特徴とする欠陥検査装置。
【請求項５】請求項１ないし４のいずれかに記載の欠
陥検査装置であって、前記マーキング手段が、前記画像取り込み手段における
フォーカス調整および／またはズーム調整のための前記
光学系の動作に連動して移動することを特徴とする欠陥
検査装置。