JP2003269550A - サイレントチェーン - Google Patents
サイレントチェーンInfo
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- JP2003269550A JP2003269550A JP2002066354A JP2002066354A JP2003269550A JP 2003269550 A JP2003269550 A JP 2003269550A JP 2002066354 A JP2002066354 A JP 2002066354A JP 2002066354 A JP2002066354 A JP 2002066354A JP 2003269550 A JP2003269550 A JP 2003269550A
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- pin hole
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16G—BELTS, CABLES, OR ROPES, PREDOMINANTLY USED FOR DRIVING PURPOSES; CHAINS; FITTINGS PREDOMINANTLY USED THEREFOR
- F16G13/00—Chains
- F16G13/02—Driving-chains
- F16G13/06—Driving-chains with links connected by parallel driving-pins with or without rollers so called open links
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16G—BELTS, CABLES, OR ROPES, PREDOMINANTLY USED FOR DRIVING PURPOSES; CHAINS; FITTINGS PREDOMINANTLY USED THEREFOR
- F16G13/00—Chains
- F16G13/02—Driving-chains
- F16G13/04—Toothed chains
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Heat Treatment Of Articles (AREA)
- Devices For Conveying Motion By Means Of Endless Flexible Members (AREA)
- Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 耐摩耗性が向上したサイレントチェーンを提
供する。 【解決手段】 サイレントチェーンのリンクプレートの
ピン穴に、Ｒ付ポンチを用いた仕上加工を施す。連結ピ
ンの母材となる鋼の最表部に、バナジウム炭化物を主成
分としかつ少量のクロム炭化物を含む炭化物層を形成す
るとともに、当該炭化物層と母材との間の境界領域に、
バナジウム炭化物の含有率が急激に減少しかつクロム炭
化物の含有率が急激に増加している境界層を形成する。
この場合には、ピン穴の仕上加工により、ピン穴の面粗
度を向上でき、ピン穴の摩耗を低減できる。また、母材
最表部に形成される炭化物層がバナジウム炭化物を主成
分としており、炭化物層の表層から剥離が起こるのを防
止できる。さらに、炭化物層と母材との間の境界層がク
ロムを比較的多く含んでいるので、炭化物層と母材との
結合性が向上しており、炭化物層が母材から剥離するの
を防止できる。
供する。 【解決手段】 サイレントチェーンのリンクプレートの
ピン穴に、Ｒ付ポンチを用いた仕上加工を施す。連結ピ
ンの母材となる鋼の最表部に、バナジウム炭化物を主成
分としかつ少量のクロム炭化物を含む炭化物層を形成す
るとともに、当該炭化物層と母材との間の境界領域に、
バナジウム炭化物の含有率が急激に減少しかつクロム炭
化物の含有率が急激に増加している境界層を形成する。
この場合には、ピン穴の仕上加工により、ピン穴の面粗
度を向上でき、ピン穴の摩耗を低減できる。また、母材
最表部に形成される炭化物層がバナジウム炭化物を主成
分としており、炭化物層の表層から剥離が起こるのを防
止できる。さらに、炭化物層と母材との間の境界層がク
ロムを比較的多く含んでいるので、炭化物層と母材との
結合性が向上しており、炭化物層が母材から剥離するの
を防止できる。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、耐摩耗性を向上さ
せたサイレントチェーンに関する。
せたサイレントチェーンに関する。
【０００２】
【従来の技術およびその課題】一般に、サイレントチェ
ーンは、一対のピン穴および歯部をそれぞれ有する多数
のリンクプレートを厚み方向および長手方向に積層する
とともに、ピン穴内に挿入した連結ピンで各リンクプレ
ートを枢支可能に連結することにより構成されている。
ーンは、一対のピン穴および歯部をそれぞれ有する多数
のリンクプレートを厚み方向および長手方向に積層する
とともに、ピン穴内に挿入した連結ピンで各リンクプレ
ートを枢支可能に連結することにより構成されている。
【０００３】このようなサイレントチェーンにおいて
は、チェーンの運転中にリンクがピンの回りを回転摺動
することによってピンが摩耗する。そこで、従来よりピ
ンの耐摩耗性を向上させるための種々の方法が提案され
ている。
は、チェーンの運転中にリンクがピンの回りを回転摺動
することによってピンが摩耗する。そこで、従来よりピ
ンの耐摩耗性を向上させるための種々の方法が提案され
ている。
【０００４】たとえば、特開昭５６−４１３７０号公報
に示すものでは、ピン素材にクロマイジング処理を施す
ことにより、ピン素材の表面にクロム炭化物からなる硬
化層を形成している。
に示すものでは、ピン素材にクロマイジング処理を施す
ことにより、ピン素材の表面にクロム炭化物からなる硬
化層を形成している。
【０００５】また、特開平１０−１６９７２３号公報に
示すものでは、ピン素材の表面にクロム、チタニウム、
バナジウム、ニオビウムのうちの少なくとも一つの炭化
物からなる硬化層を形成している。
示すものでは、ピン素材の表面にクロム、チタニウム、
バナジウム、ニオビウムのうちの少なくとも一つの炭化
物からなる硬化層を形成している。
【０００６】本件出願に係る発明者らは、クロム炭化物
（ＣｒＣ）層が形成されたピン（以下、クロマイジング
ピンという）と、ピン素材の表面にバナジウム炭化物
（ＶＣ）層が形成されたピン（以下、ＶＣピンという）
について、それぞれ耐摩耗試験を繰り返し行った結果、
各ピンの耐摩耗性について以下のことが検証された。
（ＣｒＣ）層が形成されたピン（以下、クロマイジング
ピンという）と、ピン素材の表面にバナジウム炭化物
（ＶＣ）層が形成されたピン（以下、ＶＣピンという）
について、それぞれ耐摩耗試験を繰り返し行った結果、
各ピンの耐摩耗性について以下のことが検証された。
【０００７】クロマイジングピンの場合、高面圧が繰り
返し作用する使用状態下では、クロム炭化物層の表面に
剥離が起こり、剥離の進行とともにピンの摩耗も進行す
る。また、ＶＣピンの場合には、高面圧の作用下で、バ
ナジウム炭化物層と母材（ピン素材）との間の境界面で
剥離が起こり、すなわち、硬化層であるバナジウム炭化
物層全体が一度に剥離し、その結果、摩耗が急激に進行
する。これらのことから、クロム炭化物は、母材との密
着性（結合性）は良いが、面圧強度は低く、一方、バナ
ジウム炭化物は、それ自体の表面からは剥離が起こりに
くいため面圧強度は高いが、母材との密着性は低いとい
うことが検証された。
返し作用する使用状態下では、クロム炭化物層の表面に
剥離が起こり、剥離の進行とともにピンの摩耗も進行す
る。また、ＶＣピンの場合には、高面圧の作用下で、バ
ナジウム炭化物層と母材（ピン素材）との間の境界面で
剥離が起こり、すなわち、硬化層であるバナジウム炭化
物層全体が一度に剥離し、その結果、摩耗が急激に進行
する。これらのことから、クロム炭化物は、母材との密
着性（結合性）は良いが、面圧強度は低く、一方、バナ
ジウム炭化物は、それ自体の表面からは剥離が起こりに
くいため面圧強度は高いが、母材との密着性は低いとい
うことが検証された。
【０００８】また、上記特開平１０−１６９７２３号公
報には、リンクプレートのピン穴にシェービング加工を
行う点も記載されている。シェービング加工は、同公報
の第３欄第１〜８行に記載されているように、ブランク
材の打抜き面を切削することにより、打抜き加工時に打
抜き面に生じた粗面やだれを削り取る加工法をいう。
報には、リンクプレートのピン穴にシェービング加工を
行う点も記載されている。シェービング加工は、同公報
の第３欄第１〜８行に記載されているように、ブランク
材の打抜き面を切削することにより、打抜き加工時に打
抜き面に生じた粗面やだれを削り取る加工法をいう。
【０００９】このようなシェービング加工をピン穴に施
すことによって、ピン穴の穴開け加工時にピン穴内周面
に生じていた破断面の大部分が除去されるが、シェービ
ング加工自体があくまで切削加工であってピン穴内周面
の切削しか行わないため、シェービング加工後のピン穴
内周面の面粗度は、必ずしも良好なものとはいえない。
すことによって、ピン穴の穴開け加工時にピン穴内周面
に生じていた破断面の大部分が除去されるが、シェービ
ング加工自体があくまで切削加工であってピン穴内周面
の切削しか行わないため、シェービング加工後のピン穴
内周面の面粗度は、必ずしも良好なものとはいえない。
【００１０】本発明は、このような従来の実情に鑑みて
なされたもので、耐摩耗性を向上させることができるサ
イレントチェーンを提供することを目的とする。
なされたもので、耐摩耗性を向上させることができるサ
イレントチェーンを提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、各々
一対の歯部およびピン穴を有する多数のリンクプレート
を厚み方向および長手方向に積層するとともにピン穴内
に挿入した連結ピンで枢支可能に連結してなるサイレン
トチェーンにおいて、リンクプレートのピン穴には、下
穴加工後に、先端外周縁部にアールが形成されたＲ付ポ
ンチを用いて仕上加工が施されている。さらに、連結ピ
ンの母材となる鋼の最表部に、バナジウム炭化物を主成
分としかつ少量のクロム炭化物を含む炭化物層が形成さ
れるとともに、炭化物層と母材との間の境界領域に、バ
ナジウム炭化物の含有率が急激に減少しかつクロム炭化
物の含有率が急激に増加している境界層が形成されてい
る。
一対の歯部およびピン穴を有する多数のリンクプレート
を厚み方向および長手方向に積層するとともにピン穴内
に挿入した連結ピンで枢支可能に連結してなるサイレン
トチェーンにおいて、リンクプレートのピン穴には、下
穴加工後に、先端外周縁部にアールが形成されたＲ付ポ
ンチを用いて仕上加工が施されている。さらに、連結ピ
ンの母材となる鋼の最表部に、バナジウム炭化物を主成
分としかつ少量のクロム炭化物を含む炭化物層が形成さ
れるとともに、炭化物層と母材との間の境界領域に、バ
ナジウム炭化物の含有率が急激に減少しかつクロム炭化
物の含有率が急激に増加している境界層が形成されてい
る。
【００１２】請求項２の発明に係るサイレントチェーン
は、請求項１の発明と同様に、リンクプレートのピン穴
の下穴加工後に、先端外周縁部にアールが形成されたＲ
付ポンチを用いて仕上加工が施されている。さらに、連
結ピンの母材となる鋼の最表部に、バナジウム炭化物、
チタニウム炭化物、ニオビウム炭化物およびタングステ
ン炭化物のうちのいずれか一つ以上の炭化物を主成分と
しかつ少量のクロム炭化物を含む炭化物層が形成される
とともに、炭化物層と母材との間の境界領域に、バナジ
ウム炭化物、チタニウム炭化物、ニオビウム炭化物およ
びタングステン炭化物のうちのいずれか一つ以上の炭化
物の含有率が急激に減少しかつクロム炭化物の含有率が
急激に増加している境界層が形成されている。
は、請求項１の発明と同様に、リンクプレートのピン穴
の下穴加工後に、先端外周縁部にアールが形成されたＲ
付ポンチを用いて仕上加工が施されている。さらに、連
結ピンの母材となる鋼の最表部に、バナジウム炭化物、
チタニウム炭化物、ニオビウム炭化物およびタングステ
ン炭化物のうちのいずれか一つ以上の炭化物を主成分と
しかつ少量のクロム炭化物を含む炭化物層が形成される
とともに、炭化物層と母材との間の境界領域に、バナジ
ウム炭化物、チタニウム炭化物、ニオビウム炭化物およ
びタングステン炭化物のうちのいずれか一つ以上の炭化
物の含有率が急激に減少しかつクロム炭化物の含有率が
急激に増加している境界層が形成されている。
【００１３】請求項３の発明に係るサイレントチェーン
は、請求項１または２において、前記仕上加工が、Ｒ付
ポンチを用いて、ピン穴の下穴の内周面をしごきつつ内
周面をバニシ仕上加工することにより、行われている。
は、請求項１または２において、前記仕上加工が、Ｒ付
ポンチを用いて、ピン穴の下穴の内周面をしごきつつ内
周面をバニシ仕上加工することにより、行われている。
【００１４】請求項４の発明に係るサイレントチェーン
は、請求項１または２において、連結ピンの炭化物層の
厚みが１０μｍ以上であることを特徴としている。
は、請求項１または２において、連結ピンの炭化物層の
厚みが１０μｍ以上であることを特徴としている。
【００１５】請求項５の発明に係るサイレントチェーン
は、請求項１または２において、連結ピンの境界層の厚
みが１０μｍ以下であることを特徴としている。
は、請求項１または２において、連結ピンの境界層の厚
みが１０μｍ以下であることを特徴としている。
【００１６】請求項６の発明に係るサイレントチェーン
は、請求項１または２において、リンクプレートの各歯
部が各々内側フランク面および外側フランク面から構成
され、各内側フランク面がクロッチ部により接続される
とともに、歯部の逆側に背部が配置されており、歯部、
クロッチ部および背部に同時にシェービング加工が施さ
れていることを特徴としている。
は、請求項１または２において、リンクプレートの各歯
部が各々内側フランク面および外側フランク面から構成
され、各内側フランク面がクロッチ部により接続される
とともに、歯部の逆側に背部が配置されており、歯部、
クロッチ部および背部に同時にシェービング加工が施さ
れていることを特徴としている。
【００１７】請求項１の発明によれば、リンクプレート
のピン穴には、その下穴加工後に、先端外周縁部にアー
ルが形成されたＲ付ポンチを用いて仕上加工が施されて
いる。この仕上加工により、ピン穴内周面の粗面が押し
つぶされてピン穴内周面に仕上面が形成されるので、ピ
ン穴内周面の面粗度を向上できる。その結果、サイレン
トチェーンの運転時にピン穴内周面に作用する面圧を低
減でき、耐摩耗性を向上できる。
のピン穴には、その下穴加工後に、先端外周縁部にアー
ルが形成されたＲ付ポンチを用いて仕上加工が施されて
いる。この仕上加工により、ピン穴内周面の粗面が押し
つぶされてピン穴内周面に仕上面が形成されるので、ピ
ン穴内周面の面粗度を向上できる。その結果、サイレン
トチェーンの運転時にピン穴内周面に作用する面圧を低
減でき、耐摩耗性を向上できる。
【００１８】また、請求項１の発明においては、連結ピ
ンの母材となる鋼の最表部に、バナジウム炭化物を主成
分としかつ少量のクロム炭化物を含む炭化物層が形成さ
れるとともに、炭化物層と母材との間の境界領域に、バ
ナジウム炭化物の含有率が急激に減少しかつクロム炭化
物の含有率が急激に増加している境界層が形成されてい
る。
ンの母材となる鋼の最表部に、バナジウム炭化物を主成
分としかつ少量のクロム炭化物を含む炭化物層が形成さ
れるとともに、炭化物層と母材との間の境界領域に、バ
ナジウム炭化物の含有率が急激に減少しかつクロム炭化
物の含有率が急激に増加している境界層が形成されてい
る。
【００１９】この場合には、面圧強度の高いバナジウム
炭化物を主成分とする炭化物層が母材の最表部に形成さ
れることにより、高面圧下でも炭化物層の表面剥離が生
じにくくなっており、これにより、ピンの耐摩耗性を向
上できる。さらに、母材およびバナジウム炭化物との結
合性（密着性）が高いクロム炭化物を比較的多く含むク
ロムリッチ層が炭化物層と母材との間の境界層に形成さ
れることにより、高面圧下でも炭化物層が母材から剥離
しにくくなっており、これにより、ピンの耐摩耗性を一
層向上できる。
炭化物を主成分とする炭化物層が母材の最表部に形成さ
れることにより、高面圧下でも炭化物層の表面剥離が生
じにくくなっており、これにより、ピンの耐摩耗性を向
上できる。さらに、母材およびバナジウム炭化物との結
合性（密着性）が高いクロム炭化物を比較的多く含むク
ロムリッチ層が炭化物層と母材との間の境界層に形成さ
れることにより、高面圧下でも炭化物層が母材から剥離
しにくくなっており、これにより、ピンの耐摩耗性を一
層向上できる。
【００２０】請求項２の発明によれば、請求項１の発明
と同様に、Ｒ付ポンチを用いた仕上加工がリンクプレー
トのピン穴に施されており、これにより、ピン穴内周面
の面粗度を向上でき、耐摩耗性を向上できる。
と同様に、Ｒ付ポンチを用いた仕上加工がリンクプレー
トのピン穴に施されており、これにより、ピン穴内周面
の面粗度を向上でき、耐摩耗性を向上できる。
【００２１】また、請求項２の発明においては、連結ピ
ンの母材となる鋼の最表部に、バナジウム炭化物、チタ
ニウム炭化物、ニオビウム炭化物およびタングステン炭
化物のうちのいずれか一つ以上の炭化物を主成分としか
つ少量のクロム炭化物を含む炭化物層が形成されるとと
もに、炭化物層と母材との間の境界領域に、バナジウム
炭化物、チタニウム炭化物、ニオビウム炭化物およびタ
ングステン炭化物のうちのいずれか一つ以上の炭化物の
含有率が急激に減少しかつクロム炭化物の含有率が急激
に増加している境界層が形成されている。
ンの母材となる鋼の最表部に、バナジウム炭化物、チタ
ニウム炭化物、ニオビウム炭化物およびタングステン炭
化物のうちのいずれか一つ以上の炭化物を主成分としか
つ少量のクロム炭化物を含む炭化物層が形成されるとと
もに、炭化物層と母材との間の境界領域に、バナジウム
炭化物、チタニウム炭化物、ニオビウム炭化物およびタ
ングステン炭化物のうちのいずれか一つ以上の炭化物の
含有率が急激に減少しかつクロム炭化物の含有率が急激
に増加している境界層が形成されている。
【００２２】この場合には、面圧強度の高いバナジウム
炭化物、チタニウム炭化物、ニオビウム炭化物およびタ
ングステン炭化物のうちのいずれか一つ以上の炭化物を
主成分とする炭化物層が母材の最表部に形成されること
により、請求項１の発明と同様に、高面圧下でも炭化物
層の表面剥離が生じにくくなっており、これにより、ピ
ンの耐摩耗性を向上できる。さらに、母材およびバナジ
ウム炭化物との結合性（密着性）が高いクロム炭化物を
比較的多く含むクロムリッチ層が炭化物層と母材との間
の境界層に形成されることにより、請求項１の発明と同
様に、高面圧下でも炭化物層が母材から剥離しにくくな
っており、これにより、ピンの耐摩耗性を一層向上でき
る。
炭化物、チタニウム炭化物、ニオビウム炭化物およびタ
ングステン炭化物のうちのいずれか一つ以上の炭化物を
主成分とする炭化物層が母材の最表部に形成されること
により、請求項１の発明と同様に、高面圧下でも炭化物
層の表面剥離が生じにくくなっており、これにより、ピ
ンの耐摩耗性を向上できる。さらに、母材およびバナジ
ウム炭化物との結合性（密着性）が高いクロム炭化物を
比較的多く含むクロムリッチ層が炭化物層と母材との間
の境界層に形成されることにより、請求項１の発明と同
様に、高面圧下でも炭化物層が母材から剥離しにくくな
っており、これにより、ピンの耐摩耗性を一層向上でき
る。
【００２３】前記仕上加工は、請求項３の発明に記載さ
れているように、Ｒ付ポンチを用いて、ピン穴の下穴の
内周面をしごきつつ内周面を仕上加工することにより行
われるのが好ましい。
れているように、Ｒ付ポンチを用いて、ピン穴の下穴の
内周面をしごきつつ内周面を仕上加工することにより行
われるのが好ましい。
【００２４】なお、シェービング加工に用いられるポン
チの先端外周縁部には、アールが形成されておらず、尖
端状のエッジ部が形成されており、このため、ピン穴の
シェービング加工においては、ピン穴の下穴の内周面の
切削加工のみが行われるようになっている。
チの先端外周縁部には、アールが形成されておらず、尖
端状のエッジ部が形成されており、このため、ピン穴の
シェービング加工においては、ピン穴の下穴の内周面の
切削加工のみが行われるようになっている。
【００２５】連結ピンの炭化物層の厚みは、請求項４の
発明に記載されているように、１０μｍ以上であるのが
好ましい。また、連結ピンの境界層の厚みは、請求項５
の発明に記載されているように、１０μｍ以下であるの
が好ましい。
発明に記載されているように、１０μｍ以上であるのが
好ましい。また、連結ピンの境界層の厚みは、請求項５
の発明に記載されているように、１０μｍ以下であるの
が好ましい。
【００２６】また、請求項６の発明に記載されているよ
うに、リンクプレートの歯部、クロッチ部および背部に
は、シェービング加工が同時に施されていてもよい。こ
のシェービング加工により、リンクプレートの打抜き加
工時に打抜き面に生じていた粗面やダレが切削されて除
去されるが、この場合、歯部、クロッチ部および背部へ
の各シェービング加工が同時に行われるので、シェービ
ング加工時にリンクプレートの外周面に対して板厚方向
の力が局所的に作用することがなくなって、シェービン
グ加工にともなうリンクプレートのひずみや曲げ変形の
発生を抑制できる。これにより、リンクプレートのピン
穴の平行度を向上でき、その結果、ピン穴の偏摩耗を防
止して、耐摩耗性を向上できる。
うに、リンクプレートの歯部、クロッチ部および背部に
は、シェービング加工が同時に施されていてもよい。こ
のシェービング加工により、リンクプレートの打抜き加
工時に打抜き面に生じていた粗面やダレが切削されて除
去されるが、この場合、歯部、クロッチ部および背部へ
の各シェービング加工が同時に行われるので、シェービ
ング加工時にリンクプレートの外周面に対して板厚方向
の力が局所的に作用することがなくなって、シェービン
グ加工にともなうリンクプレートのひずみや曲げ変形の
発生を抑制できる。これにより、リンクプレートのピン
穴の平行度を向上でき、その結果、ピン穴の偏摩耗を防
止して、耐摩耗性を向上できる。
【００２７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施態様を添付
図面に基づいて説明する。図１は本発明の一実施態様に
よるサイレントチェーンの平面概略図、図２はその正面
概略図、図３はリンクプレートのプレス加工工程の概要
を説明するための工程図、図４および図５は、図１の加
工工程においてピン穴の仕上加工法を示す図、図６およ
び図７は、比較例としてピン穴のシェービング加工法を
示す図、図８は連結ピンの組成を示すグラフ、図９はそ
の一部拡大図、図１０および図１１は、比較例としてそ
れぞれ従来のクロマイジングピンおよびＶＣピンの組成
を示すグラフ、図１２はピンの摩耗試験方法を説明する
ための図、図１３は本実施態様によるサイレントチェー
ンの摩耗試験結果を従来のサイレントチェーンと比較し
て示すグラフである。なお、図８ないし図１１において
は、波長分散型Ｘ線マイクロアナライザによるＸ線線分
析法により元素分析された結果が示されている。
図面に基づいて説明する。図１は本発明の一実施態様に
よるサイレントチェーンの平面概略図、図２はその正面
概略図、図３はリンクプレートのプレス加工工程の概要
を説明するための工程図、図４および図５は、図１の加
工工程においてピン穴の仕上加工法を示す図、図６およ
び図７は、比較例としてピン穴のシェービング加工法を
示す図、図８は連結ピンの組成を示すグラフ、図９はそ
の一部拡大図、図１０および図１１は、比較例としてそ
れぞれ従来のクロマイジングピンおよびＶＣピンの組成
を示すグラフ、図１２はピンの摩耗試験方法を説明する
ための図、図１３は本実施態様によるサイレントチェー
ンの摩耗試験結果を従来のサイレントチェーンと比較し
て示すグラフである。なお、図８ないし図１１において
は、波長分散型Ｘ線マイクロアナライザによるＸ線線分
析法により元素分析された結果が示されている。
【００２８】図１および図２に示すように、サイレント
チェーン１は、各々一対の歯部２１およびピン穴２２を
有する多数のリンクプレート２を厚み方向および長手方
向に積層するとともに、各ピン穴２２内に挿入した連結
ピン３で各リンクプレート２を枢支可能に連結すること
により構成されている。リンクプレート２の最外側に
は、ガイドリンク４が配置されており、ガイドリンク４
のピン穴４１内には、連結ピン３の端部が固定されてい
る。なお、ここでは、ガイドリンクとして、その背面側
にクロッチ部４２が形成されたいわゆる低剛性ガイドを
例にとっている。
チェーン１は、各々一対の歯部２１およびピン穴２２を
有する多数のリンクプレート２を厚み方向および長手方
向に積層するとともに、各ピン穴２２内に挿入した連結
ピン３で各リンクプレート２を枢支可能に連結すること
により構成されている。リンクプレート２の最外側に
は、ガイドリンク４が配置されており、ガイドリンク４
のピン穴４１内には、連結ピン３の端部が固定されてい
る。なお、ここでは、ガイドリンクとして、その背面側
にクロッチ部４２が形成されたいわゆる低剛性ガイドを
例にとっている。
【００２９】次に、リンクプレート２のプレス加工工程
について図３を用いて説明する。同図に示すように、ブ
ランク材Ｂを矢印方向に搬送して順次加工位置に移動さ
せつつ、まず、第１の工程（ａ）において、斜線部分Ｓ
を打ち抜くことにより、リンクプレートの一対のピン穴
を形成することになる下穴２２′を開ける。なお、図中
の斜線部分は、抜きかす（スクラップ）となる部分を示
している。また、図３では、各工程（ａ）〜（ｅ）にお
いて一度に２枚のリンクプレートに加工が行われるよう
な板取りの例を示している。
について図３を用いて説明する。同図に示すように、ブ
ランク材Ｂを矢印方向に搬送して順次加工位置に移動さ
せつつ、まず、第１の工程（ａ）において、斜線部分Ｓ
を打ち抜くことにより、リンクプレートの一対のピン穴
を形成することになる下穴２２′を開ける。なお、図中
の斜線部分は、抜きかす（スクラップ）となる部分を示
している。また、図３では、各工程（ａ）〜（ｅ）にお
いて一度に２枚のリンクプレートに加工が行われるよう
な板取りの例を示している。
【００３０】次に、第２の工程（ｂ）において、下穴２
２′に仕上加工を行う。この仕上加工では、図４に示す
ように、ポンチＰの先端外周縁部にｒ（アール）が形成
されたものを用いる。ダイスＤの上に置かれたブランク
材Ｂの下穴２２′に対してポンチＰを昇降させると（図
４および図５参照）、下穴２２′の内周面に形成されて
いた破断面がポンチＰのアール部分で切削されて除去さ
れると同時に、ポンチＰのアール部分のバニシ作用によ
り、下穴２２′の内周面の粗面が押しつぶされてバニシ
加工が施され、バニシ仕上面を有するピン穴２２が形成
されることになる。これにより、ピン穴内周面の面粗度
を向上でき、耐摩耗性を向上できる。
２′に仕上加工を行う。この仕上加工では、図４に示す
ように、ポンチＰの先端外周縁部にｒ（アール）が形成
されたものを用いる。ダイスＤの上に置かれたブランク
材Ｂの下穴２２′に対してポンチＰを昇降させると（図
４および図５参照）、下穴２２′の内周面に形成されて
いた破断面がポンチＰのアール部分で切削されて除去さ
れると同時に、ポンチＰのアール部分のバニシ作用によ
り、下穴２２′の内周面の粗面が押しつぶされてバニシ
加工が施され、バニシ仕上面を有するピン穴２２が形成
されることになる。これにより、ピン穴内周面の面粗度
を向上でき、耐摩耗性を向上できる。
【００３１】さらに、この場合には、一回の仕上加工に
より、ピン穴の下穴内周面に仕上面が形成されるので、
シェービング加工およびバニシ仕上加工の双方をそれぞ
れ別々の工程で行う場合に比べて、高速で仕上加工を行
える。また、Ｒ付ポンチを用いるので、バニシ加工のみ
を行う場合に比べて、ポンチを高速で下降できるように
なり、高速で仕上加工を行える。このようにして、生産
効率の低下を抑制しつつ、ピン穴内周面の面粗度を向上
できる。
より、ピン穴の下穴内周面に仕上面が形成されるので、
シェービング加工およびバニシ仕上加工の双方をそれぞ
れ別々の工程で行う場合に比べて、高速で仕上加工を行
える。また、Ｒ付ポンチを用いるので、バニシ加工のみ
を行う場合に比べて、ポンチを高速で下降できるように
なり、高速で仕上加工を行える。このようにして、生産
効率の低下を抑制しつつ、ピン穴内周面の面粗度を向上
できる。
【００３２】ここで、比較のために、第２の工程（ｂ）
で下穴２２′にシェービング加工を行う場合について、
図６および図７を用いて説明する。これらの図は、図４
および図５にそれぞれ対応している。図６および図７に
示すように、シェービング加工に用いられるポンチＰの
先端外周縁部には、アールが形成されておらず、尖端状
エッジ部が形成されている。
で下穴２２′にシェービング加工を行う場合について、
図６および図７を用いて説明する。これらの図は、図４
および図５にそれぞれ対応している。図６および図７に
示すように、シェービング加工に用いられるポンチＰの
先端外周縁部には、アールが形成されておらず、尖端状
エッジ部が形成されている。
【００３３】このようなポンチＰをダイスＤ上のブラン
ク材Ｂの下穴２２′に対して昇降させると、下穴２２′
の内周面に形成されていた破断面がポンチＰの尖端状エ
ッジ部により切削加工されて除去され、ピン穴２２″が
形成される。
ク材Ｂの下穴２２′に対して昇降させると、下穴２２′
の内周面に形成されていた破断面がポンチＰの尖端状エ
ッジ部により切削加工されて除去され、ピン穴２２″が
形成される。
【００３４】このシェービング加工においては、ポンチ
ＰとダイスＤとのクリアランスｃ′（図６）を比較的大
きくする必要があるため、加工後に比較的長い破断面
ｈ′が生じる。
ＰとダイスＤとのクリアランスｃ′（図６）を比較的大
きくする必要があるため、加工後に比較的長い破断面
ｈ′が生じる。
【００３５】これに対して、図４および図５に示す仕上
加工においては、ポンチＰとダイスＤとのクリアランス
ｃ（図４）が小さく（ｃ＜ｃ′）、またポンチ先端外周
縁部にアールが形成されているために、加工時に破断が
生じにくく、加工後においてピン穴２２内の破断面ｈの
長さが短い（ｈ＜ｈ′）。
加工においては、ポンチＰとダイスＤとのクリアランス
ｃ（図４）が小さく（ｃ＜ｃ′）、またポンチ先端外周
縁部にアールが形成されているために、加工時に破断が
生じにくく、加工後においてピン穴２２内の破断面ｈの
長さが短い（ｈ＜ｈ′）。
【００３６】次に、第３の工程（ｃ）において、リンク
プレートの背部を形成するための背部打抜き加工を行
う。この場合には、斜線部分Ｓ２を打ち抜くことによ
り、リンクプレートの背部を形成することになる面Ｌ
１′を含む穴を開ける。
プレートの背部を形成するための背部打抜き加工を行
う。この場合には、斜線部分Ｓ２を打ち抜くことによ
り、リンクプレートの背部を形成することになる面Ｌ
１′を含む穴を開ける。
【００３７】次に、第４の工程（ｄ）において、斜線部
分Ｓ３を打ち抜くことにより、リンクプレートの内側フ
ランク面、外側フランク面およびクロッチ部を形成する
ことになる略Ｗ字状の面Ｌ２′を形成する。
分Ｓ３を打ち抜くことにより、リンクプレートの内側フ
ランク面、外側フランク面およびクロッチ部を形成する
ことになる略Ｗ字状の面Ｌ２′を形成する。
【００３８】次に、第５の工程（ｅ）において、シェー
ビング金型を用いて面Ｌ１′およびＬ２′に同時にシェ
ービング加工を行う。これにより、面Ｌ１′およびＬ
２′が切削加工されて、シェービング加工面が形成され
る。
ビング金型を用いて面Ｌ１′およびＬ２′に同時にシェ
ービング加工を行う。これにより、面Ｌ１′およびＬ
２′が切削加工されて、シェービング加工面が形成され
る。
【００３９】このような加工をへてブランク材Ｂから取
り出されたリンクプレート２には、その外周シェービン
グの際に、歯部、クロッチ部および背部に同時にシェー
ビング加工が施されることにより、シェービング加工時
にリンクプレートの外周面に対して板厚方向の力が局所
的に作用することがなくなって、シェービング加工にと
もなうリンクプレートのひずみや曲げ変形の発生を抑制
できる。これにより、リンクプレートのピン穴の平行度
を向上できる。
り出されたリンクプレート２には、その外周シェービン
グの際に、歯部、クロッチ部および背部に同時にシェー
ビング加工が施されることにより、シェービング加工時
にリンクプレートの外周面に対して板厚方向の力が局所
的に作用することがなくなって、シェービング加工にと
もなうリンクプレートのひずみや曲げ変形の発生を抑制
できる。これにより、リンクプレートのピン穴の平行度
を向上できる。
【００４０】次に、連結ピン３の硬化処理について説明
する。この場合には、まず、第１の処理工程において、
連結ピン３の母材となる、たとえば軸受鋼や機械構造用
炭素鋼に対して、８００〜９００℃の温度下でクロム浸
透処理を行うことにより、数μｍ程度の厚みのクロム炭
化物層を母材表面に形成させる。
する。この場合には、まず、第１の処理工程において、
連結ピン３の母材となる、たとえば軸受鋼や機械構造用
炭素鋼に対して、８００〜９００℃の温度下でクロム浸
透処理を行うことにより、数μｍ程度の厚みのクロム炭
化物層を母材表面に形成させる。
【００４１】その後、第２の処理工程において、９００
〜１０００℃の温度下でクロムおよびバナジウム浸透処
理を行うことにより、母材の最表面に、すなわち第１の
工程で形成されたクロム炭化物層の上に、バナジウム炭
化物およびクロム炭化物の混合層を形成させる。この混
合層の形成時には、第１の工程で形成されたクロム炭化
物層の内部に徐々にバナジウム炭化物層が浸透していく
ことになる。また、このクロムおよびバナジウム浸透処
理は、第１の工程におけるクロム浸透処理よりも長時間
にわたって実行される。これにより、クロムよりもバナ
ジウムを多く含みかつクロム炭化物層よりも厚い炭化物
層が母材表面に形成される。
〜１０００℃の温度下でクロムおよびバナジウム浸透処
理を行うことにより、母材の最表面に、すなわち第１の
工程で形成されたクロム炭化物層の上に、バナジウム炭
化物およびクロム炭化物の混合層を形成させる。この混
合層の形成時には、第１の工程で形成されたクロム炭化
物層の内部に徐々にバナジウム炭化物層が浸透していく
ことになる。また、このクロムおよびバナジウム浸透処
理は、第１の工程におけるクロム浸透処理よりも長時間
にわたって実行される。これにより、クロムよりもバナ
ジウムを多く含みかつクロム炭化物層よりも厚い炭化物
層が母材表面に形成される。
【００４２】このような硬化処理がなされた連結ピン３
の組成について図８および図９を用いて説明する。図８
に示すように、連結ピン３の母材となる鋼の最表部に
は、前記第２の工程で形成された、バナジウム炭化物
（Ｖ8 Ｃ7)を主成分としかつ少量のクロム炭化物（Ｃｒ
n Ｃm ) を含む炭化物層が形成されている。また、この
場合のバナジウム原子とクロム原子との比率は、概略
８．５：１．５になっている。
の組成について図８および図９を用いて説明する。図８
に示すように、連結ピン３の母材となる鋼の最表部に
は、前記第２の工程で形成された、バナジウム炭化物
（Ｖ8 Ｃ7)を主成分としかつ少量のクロム炭化物（Ｃｒ
n Ｃm ) を含む炭化物層が形成されている。また、この
場合のバナジウム原子とクロム原子との比率は、概略
８．５：１．５になっている。
【００４３】図９に明確に示されるように、この炭化物
層と母材との間の境界領域には、バナジウム炭化物の含
有率が急激に減少しかつクロム炭化物の含有率が急激に
増加している境界層が形成されている。境界層がこのよ
うにクロム炭化物を比較的多量に含むクロムリッチ層と
なっているのは、第２の工程でのクロムおよびバナジウ
ム浸透処理に先立って、第１の工程でクロムの浸透処理
が行われているからである。そして、これら炭化物層お
よび境界層により、母材表面に被覆層（硬化層）が形成
されている。
層と母材との間の境界領域には、バナジウム炭化物の含
有率が急激に減少しかつクロム炭化物の含有率が急激に
増加している境界層が形成されている。境界層がこのよ
うにクロム炭化物を比較的多量に含むクロムリッチ層と
なっているのは、第２の工程でのクロムおよびバナジウ
ム浸透処理に先立って、第１の工程でクロムの浸透処理
が行われているからである。そして、これら炭化物層お
よび境界層により、母材表面に被覆層（硬化層）が形成
されている。
【００４４】一方、従来より使用されてきたクロマイジ
ングピンおよびＶＣピンの組成をそれぞれ図１０および
図１１に示す。なお、図１１のＶＣピンにおいては、バ
ナジウムの浸透処理とともにクロムの浸透処理も併せて
行われたものが示されている。これらの図に示すよう
に、従来のクロマイジングピンおよびＶＣピンのいずれ
においても、炭化物層と母材との境界領域においては、
クロム炭化物およびバナジウム炭化物の各含有率がいず
れも急激に減少している。
ングピンおよびＶＣピンの組成をそれぞれ図１０および
図１１に示す。なお、図１１のＶＣピンにおいては、バ
ナジウムの浸透処理とともにクロムの浸透処理も併せて
行われたものが示されている。これらの図に示すよう
に、従来のクロマイジングピンおよびＶＣピンのいずれ
においても、炭化物層と母材との境界領域においては、
クロム炭化物およびバナジウム炭化物の各含有率がいず
れも急激に減少している。
【００４５】これに対して、本実施態様では、バナジウ
ム炭化物を主成分とする炭化物層と母材との間の境界層
は、バナジウム炭化物の含有率が急激に減少しているも
ののクロム炭化物の含有率は逆に急激に増加しているク
ロムリッチ層となっている。
ム炭化物を主成分とする炭化物層と母材との間の境界層
は、バナジウム炭化物の含有率が急激に減少しているも
ののクロム炭化物の含有率は逆に急激に増加しているク
ロムリッチ層となっている。
【００４６】次に、本実施態様による連結ピンの単体の
摩耗試験結果を図１１のＶＣピンと比較したものを表１
に示す。
摩耗試験結果を図１１のＶＣピンと比較したものを表１
に示す。
【表１】
【００４７】ここで用いた摩耗試験方法は、図１２に示
すとおりであって、試験片としてのピンＰを治具Ｊに固
定した状態で、所定の回転数で回転するディスクＤを所
定の加圧力ＦでピンＰに押圧することにより、硬化層の
剥離の有無を調べた。このような摩耗試験の結果、表１
に示すように、本実施態様によるピンは、７０ｋｇ／ｍ
ｍ2 および１００ｋｇ／ｍｍ 2の高面圧下においても硬
化層の剥離が生じていないが、従来のＶＣピンの場合に
は、７０ｋｇ／ｍｍ2 において剥離が生じた。このこと
により、本実施態様によるピンが耐摩耗性に非常に優れ
ていることが立証された。このような両者の差異は、以
下のような点に起因していると考えられる。
すとおりであって、試験片としてのピンＰを治具Ｊに固
定した状態で、所定の回転数で回転するディスクＤを所
定の加圧力ＦでピンＰに押圧することにより、硬化層の
剥離の有無を調べた。このような摩耗試験の結果、表１
に示すように、本実施態様によるピンは、７０ｋｇ／ｍ
ｍ2 および１００ｋｇ／ｍｍ 2の高面圧下においても硬
化層の剥離が生じていないが、従来のＶＣピンの場合に
は、７０ｋｇ／ｍｍ2 において剥離が生じた。このこと
により、本実施態様によるピンが耐摩耗性に非常に優れ
ていることが立証された。このような両者の差異は、以
下のような点に起因していると考えられる。
【００４８】すなわち、本実施態様においては
（ｉ）面圧強度の高いバナジウム炭化物を主成分とする
炭化物層が母材の最表部に形成されることにより、高面
圧下でも炭化物層の表面剥離が生じにくくなっており、
これにより、ピンの耐摩耗性が向上している。さらに （ii）母材およびバナジウム炭化物との結合性（密着
性）が高いクロム炭化物を比較的多く含むクロムリッチ
層が炭化物層と母材との間の境界層に形成されることに
より、高面圧下でも炭化物層が母材から剥離しにくくな
っており、これにより、ピンの耐摩耗性が向上してい
る。
炭化物層が母材の最表部に形成されることにより、高面
圧下でも炭化物層の表面剥離が生じにくくなっており、
これにより、ピンの耐摩耗性が向上している。さらに （ii）母材およびバナジウム炭化物との結合性（密着
性）が高いクロム炭化物を比較的多く含むクロムリッチ
層が炭化物層と母材との間の境界層に形成されることに
より、高面圧下でも炭化物層が母材から剥離しにくくな
っており、これにより、ピンの耐摩耗性が向上してい
る。
【００４９】これに対して、図１１のＶＣピンの場合に
は （ｉ）面圧強度の高いバナジウム炭化物層が母材の最表
部に形成されているものの、母材との密着性が高いクロ
ム炭化物層の含有率がバナジウム炭化物層と母材との間
の境界領域で急激に減少していることにより、高面圧下
でバナジウム炭化物層が母材から剥離しやすい傾向にあ
り、その結果、ピンの耐摩耗性が減少している。
は （ｉ）面圧強度の高いバナジウム炭化物層が母材の最表
部に形成されているものの、母材との密着性が高いクロ
ム炭化物層の含有率がバナジウム炭化物層と母材との間
の境界領域で急激に減少していることにより、高面圧下
でバナジウム炭化物層が母材から剥離しやすい傾向にあ
り、その結果、ピンの耐摩耗性が減少している。
【００５０】また、本実施態様においては、炭化物層は
１０μｍ程度またはそれ以上の厚みがあるのが好まし
く、境界層の厚みは１０μｍ以下すなわち数μｍ程度で
あるのが好ましい。これは、高面圧下でも炭化物層の下
層の境界層が圧壊を起こさないようにするためには、炭
化物層の厚みが１０μｍ以上必要だからであり、また炭
化物層が母材から剥離しないためには、境界層の厚みと
して数μｍもあれば十分だからである。
１０μｍ程度またはそれ以上の厚みがあるのが好まし
く、境界層の厚みは１０μｍ以下すなわち数μｍ程度で
あるのが好ましい。これは、高面圧下でも炭化物層の下
層の境界層が圧壊を起こさないようにするためには、炭
化物層の厚みが１０μｍ以上必要だからであり、また炭
化物層が母材から剥離しないためには、境界層の厚みと
して数μｍもあれば十分だからである。
【００５１】次に、上述のリンクプレート２および連結
ピン３を組み合わせてなるサイレントチェーン１につい
て、摩耗加速試験結果を行った結果を図１３に示す。こ
の摩耗加速試験においては、歯数２５枚のドライブスプ
ロケットおよび歯数２５枚のドリブンスプロケットに試
験用チェーンを巻き掛け、該試験用チェーンに５００
（Ｎ）の張力を作用させるとともに、１００（℃）の潤
滑油を毎分１（リットル）ずつ供給した状態で、ドライ
ブスプロケットを６５００（ｒｐｍ）で回転させて、所
定運転時間経過後のチェーン摩耗伸びを測定した。な
お、本摩耗加速試験においては、通常の潤滑油で行うと
摩耗がほとんど発生しないことが分かっていたので、潤
滑油中に１重量％のカーボンを添加したものを用いて試
験を行った。
ピン３を組み合わせてなるサイレントチェーン１につい
て、摩耗加速試験結果を行った結果を図１３に示す。こ
の摩耗加速試験においては、歯数２５枚のドライブスプ
ロケットおよび歯数２５枚のドリブンスプロケットに試
験用チェーンを巻き掛け、該試験用チェーンに５００
（Ｎ）の張力を作用させるとともに、１００（℃）の潤
滑油を毎分１（リットル）ずつ供給した状態で、ドライ
ブスプロケットを６５００（ｒｐｍ）で回転させて、所
定運転時間経過後のチェーン摩耗伸びを測定した。な
お、本摩耗加速試験においては、通常の潤滑油で行うと
摩耗がほとんど発生しないことが分かっていたので、潤
滑油中に１重量％のカーボンを添加したものを用いて試
験を行った。
【００５２】図１３中には、本実施態様によるチェーン
について、最大の伸びを生じたチェーンと最小の伸びを
生じたチェーンのそれぞれについて、摩耗伸びをプロッ
トしたものが示されている。なお、比較のために、図１
１に示した組成を有するＶＣピンと、ピン穴をシェービ
ング加工したリンクプレートとから構成される従来のサ
イレントチェーンについて同様の摩耗加速試験を行った
結果も併せて示されている。
について、最大の伸びを生じたチェーンと最小の伸びを
生じたチェーンのそれぞれについて、摩耗伸びをプロッ
トしたものが示されている。なお、比較のために、図１
１に示した組成を有するＶＣピンと、ピン穴をシェービ
ング加工したリンクプレートとから構成される従来のサ
イレントチェーンについて同様の摩耗加速試験を行った
結果も併せて示されている。
【００５３】図１３から明らかなように、本実施態様に
よるチェーンの場合、１００時間経過後の摩耗伸びは
０．４２５〜０．４７（％）の範囲にあり、これに対
し、従来のチェーンの場合、５０時間経過後の摩耗伸び
が０．４６〜０．４７（％）であった。このように、本
実施態様によるチェーンでは、従来のチェーンと比較し
て摩耗伸びが著しく減少しており、チェーンの耐摩耗性
が向上している。これは、上述のように、連結ピンの硬
化処理によりピン単体の耐摩耗性が向上していることに
加えて、リンクプレートのピン穴の仕上加工によってピ
ン穴の面粗度が向上していることにより、ピン穴への面
圧が低減して、ピン穴の摩耗が減少したことによると推
測される。
よるチェーンの場合、１００時間経過後の摩耗伸びは
０．４２５〜０．４７（％）の範囲にあり、これに対
し、従来のチェーンの場合、５０時間経過後の摩耗伸び
が０．４６〜０．４７（％）であった。このように、本
実施態様によるチェーンでは、従来のチェーンと比較し
て摩耗伸びが著しく減少しており、チェーンの耐摩耗性
が向上している。これは、上述のように、連結ピンの硬
化処理によりピン単体の耐摩耗性が向上していることに
加えて、リンクプレートのピン穴の仕上加工によってピ
ン穴の面粗度が向上していることにより、ピン穴への面
圧が低減して、ピン穴の摩耗が減少したことによると推
測される。
【００５４】〔他の実施態様〕前記実施態様では、ピン
の母材となる鋼の最表部に、バナジウム炭化物およびク
ロム炭化物の混合層を形成した例を示したが、本発明の
適用はこれには限定されない。バナジウム炭化物のかわ
りに、チタニウム炭化物、ニオビウム炭化物またはタン
グステン炭化物のうちのいずれか一つを用いるようにし
てもよい。また、バナジウム炭化物のかわりに、バナジ
ウム炭化物、チタニウム炭化物、ニオビウム炭化物およ
びタングステン炭化物のうちのいずれか二つ以上の炭化
物を用いるようにしてもよい。
の母材となる鋼の最表部に、バナジウム炭化物およびク
ロム炭化物の混合層を形成した例を示したが、本発明の
適用はこれには限定されない。バナジウム炭化物のかわ
りに、チタニウム炭化物、ニオビウム炭化物またはタン
グステン炭化物のうちのいずれか一つを用いるようにし
てもよい。また、バナジウム炭化物のかわりに、バナジ
ウム炭化物、チタニウム炭化物、ニオビウム炭化物およ
びタングステン炭化物のうちのいずれか二つ以上の炭化
物を用いるようにしてもよい。
【００５５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係るサイ
レントチェーンによれば、Ｒ付ポンチを用いた仕上加工
をリンクプレートのピン穴に施すとともに、連結ピンの
母材となる鋼の最表部に、バナジウム炭化物を主成分と
しかつ少量のクロム炭化物を含む炭化物層を形成し、炭
化物層と母材との間の境界領域に、バナジウム炭化物の
含有率が急激に減少しかつクロム炭化物の含有率が急激
に増加している境界層を形成するようにしたので、耐摩
耗性を向上できる効果がある。
レントチェーンによれば、Ｒ付ポンチを用いた仕上加工
をリンクプレートのピン穴に施すとともに、連結ピンの
母材となる鋼の最表部に、バナジウム炭化物を主成分と
しかつ少量のクロム炭化物を含む炭化物層を形成し、炭
化物層と母材との間の境界領域に、バナジウム炭化物の
含有率が急激に減少しかつクロム炭化物の含有率が急激
に増加している境界層を形成するようにしたので、耐摩
耗性を向上できる効果がある。
【図１】本発明の一実施態様によるサイレントチェーン
の平面概略図である。
の平面概略図である。
【図２】サイレントチェーン（図１）の正面概略図であ
る。
る。
【図３】リンクプレートのプレス加工工程の概要を説明
するための工程図である。
するための工程図である。
【図４】ピン穴の仕上加工法を示す図である。
【図５】ピン穴の仕上加工法を示す図である。
【図６】比較例としてピン穴のシェービング加工法を示
す図である。
す図である。
【図７】比較例としてピン穴のシェービング加工法を示
す図である。
す図である。
【図８】連結ピンの組成を示すグラフである。
【図９】図８の一部拡大図である。
【図１０】比較例として従来のクロマイジングピンの組
成を示すグラフである。
成を示すグラフである。
【図１１】比較例として従来のＶＣピンの組成を示すグ
ラフである。
ラフである。
【図１２】ピンの摩耗試験方法を説明するための図であ
る。
る。
【図１３】サイレントチェーンの摩耗試験結果を示すグ
ラフである。
ラフである。
１： サイレントチェーン
２： リンクプレート
３： 連結ピン
２１： 歯部
２２： ピン穴
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 松浦 健一
三重県名張市八幡字口入野1300番50 ボー
グ・ワーナー・オートモーティブ株式会社
内
Claims (6)
- 【請求項１】 各々一対の歯部およびピン穴を有する多
数のリンクプレートを厚み方向および長手方向に積層す
るとともに前記ピン穴内に挿入した連結ピンで枢支可能
に連結してなるサイレントチェーンにおいて、 前記リンクプレートの前記ピン穴には、下穴加工後に、
先端外周縁部にアールが形成されたＲ付ポンチを用いて
仕上加工が施されており、前記連結ピンの母材となる鋼
の最表部には、バナジウム炭化物を主成分としかつ少量
のクロム炭化物を含む炭化物層が形成されるとともに、
前記炭化物層と前記母材との間の境界領域において、バ
ナジウム炭化物の含有率が急激に減少しかつクロム炭化
物の含有率が急激に増加している境界層が形成されてい
る、ことを特徴とするサイレントチェーン。 - 【請求項２】 各々一対の歯部およびピン穴を有する多
数のリンクプレートを厚み方向および長手方向に積層す
るとともに前記ピン穴内に挿入した連結ピンで枢支可能
に連結してなるサイレントチェーンにおいて、 前記リンクプレートの前記ピン穴には、下穴加工後に、
先端外周縁部にアールが形成されたＲ付ポンチを用いて
仕上加工が施されており、前記連結ピンの母材となる鋼
の最表部には、バナジウム炭化物、チタニウム炭化物、
ニオビウム炭化物およびタングステン炭化物のうちのい
ずれか一つ以上の炭化物を主成分としかつ少量のクロム
炭化物を含む炭化物層が形成されるとともに、前記炭化
物層と前記母材との間の境界領域には、バナジウム炭化
物、チタニウム炭化物、ニオビウム炭化物およびタング
ステン炭化物のうちのいずれか一つ以上の炭化物の含有
率が急激に減少しかつクロム炭化物の含有率が急激に増
加している境界層が形成されている、ことを特徴とする
サイレントチェーン。 - 【請求項３】 請求項１または２において、 前記仕上加工は、前記Ｒ付ポンチを用いて、前記ピン穴
の前記下穴の内周面をしごきつつ内周面をバニシ仕上加
工することにより、行われている、ことを特徴とするサ
イレントチェーン。 - 【請求項４】 請求項１または２において、 前記連結ピンの前記炭化物層の厚みが１０μｍ以上であ
る、ことを特徴とするサイレントチェーン。 - 【請求項５】 請求項１または２において、 前記連結ピンの前記境界層の厚みが１０μｍ以下であ
る、ことを特徴とするサイレントチェーン。 - 【請求項６】 請求項１または２において、 前記リンクプレートの前記各歯部が各々内側フランク面
および外側フランク面から構成され、前記各内側フラン
ク面がクロッチ部により接続されるとともに、前記歯部
の逆側に背部が配置されており、前記歯部、クロッチ部
および背部に同時にシェービング加工が施されている、
ことを特徴とするサイレントチェーン。
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