JP2003266441A - 成形型 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 離型性に優れた成形型を提供すること。
【解決手段】 成形型の表面をＴＯＦ−ＳＩＭＳ（飛行
時間型二次イオン質量分析計）で正イオン分析を行った
結果が次の（１）〜（３）の条件を満たすことを特徴と
する成形型。 （１）全正イオンの検出強度の合計を１と（正規化）し
たときに、ＣＦ３+フラグメントイオンの検出強度が
０．０５以上であること （２）ＣＦ3 +フラグメントイオンの検出強度を１と（正
規化）したときに、Ｃ2Ｆ5 +フラグメントイオンおよび
Ｃ3Ｆ7 +フラグメントイオンの少なくとも一方の検出強
度が０．１以上であること （３）ＣＦ3 +フラグメントイオンの検出強度を１と（正
規化）したときに、ＣＦＯ+フラグメントイオンの検出
強度が０．１以上であること
時間型二次イオン質量分析計）で正イオン分析を行った
結果が次の（１）〜（３）の条件を満たすことを特徴と
する成形型。 （１）全正イオンの検出強度の合計を１と（正規化）し
たときに、ＣＦ３+フラグメントイオンの検出強度が
０．０５以上であること （２）ＣＦ3 +フラグメントイオンの検出強度を１と（正
規化）したときに、Ｃ2Ｆ5 +フラグメントイオンおよび
Ｃ3Ｆ7 +フラグメントイオンの少なくとも一方の検出強
度が０．１以上であること （３）ＣＦ3 +フラグメントイオンの検出強度を１と（正
規化）したときに、ＣＦＯ+フラグメントイオンの検出
強度が０．１以上であること
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、成形物の成形型か
らの離型性が良好な成形型に関するにするものである。
詳しくは、眼鏡レンズ、光学用レンズ、表示用基板、タ
ッチパネル基板、拡散板、導光板、ＰＤＰ用シールド板
等の光学用部材、ＣＤ、ＤＶＤ、ハードディスク基材等
の情報材料基材の成形に用いられる成形型である。
らの離型性が良好な成形型に関するにするものである。
詳しくは、眼鏡レンズ、光学用レンズ、表示用基板、タ
ッチパネル基板、拡散板、導光板、ＰＤＰ用シールド板
等の光学用部材、ＣＤ、ＤＶＤ、ハードディスク基材等
の情報材料基材の成形に用いられる成形型である。
【０００２】
【従来の技術】インジェクション、注型成形、プレス等
の成形型を用いて樹脂成形体を得る方法において、通
常、樹脂成形体は、成形型内で所定の形状に成形された
後、成形型を開いて取り出されている。しかし、樹脂成
形体は成形型に付着しやすく、成形型から樹脂成形体を
取り出す際に、樹脂成形体が破損しやすいという問題が
ある。特に樹脂成形体の厚みが薄いほど、また、樹脂成
形体が大型になるほど破損は起こりやすくなる。
の成形型を用いて樹脂成形体を得る方法において、通
常、樹脂成形体は、成形型内で所定の形状に成形された
後、成形型を開いて取り出されている。しかし、樹脂成
形体は成形型に付着しやすく、成形型から樹脂成形体を
取り出す際に、樹脂成形体が破損しやすいという問題が
ある。特に樹脂成形体の厚みが薄いほど、また、樹脂成
形体が大型になるほど破損は起こりやすくなる。
【０００３】さらに、樹脂成形体が硬化性樹脂からなる
場合は、熱可塑性樹脂からなる場合よりも、成形型内に
おける、固化収縮、硬化収縮が大きいため、成形型から
樹脂成形体を取り出す際の破損が起こりやすい傾向にあ
る。成形体の破損を回避するために、例えば、成形型に
シリコンの液状オイルを塗布して成形性の向上させる方
法や、特定の離系剤を塗布した成形型を用いる方法（特
開平１０−１００１６４号公報）が提案されている。
場合は、熱可塑性樹脂からなる場合よりも、成形型内に
おける、固化収縮、硬化収縮が大きいため、成形型から
樹脂成形体を取り出す際の破損が起こりやすい傾向にあ
る。成形体の破損を回避するために、例えば、成形型に
シリコンの液状オイルを塗布して成形性の向上させる方
法や、特定の離系剤を塗布した成形型を用いる方法（特
開平１０−１００１６４号公報）が提案されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの方法
でも離型性はまだ不十分であり、また、成形型を繰り返
して使用すると、離型性が低下するという問題もある。
でも離型性はまだ不十分であり、また、成形型を繰り返
して使用すると、離型性が低下するという問題もある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題に鑑み、本発明
者が鋭意検討した結果、成形型の表面をＴＯＦ−ＳＩＭ
Ｓ（飛行時間型二次イオン質量分析計）で正イオン分析
を行った場合、特定の正イオンが特定の割合で存在する
成形型を用いると、離型性が優れ、また、離型性が持続
することを見出し、本願発明に到達した。すなわち、本
発明の要旨は、成形型の表面をＴＯＦ−ＳＩＭＳ（飛行
時間型二次イオン質量分析計）で正イオン分析を行った
結果が次の（１）〜（３）の条件を満たすことを特徴と
する成形型。 （１）全正イオンの検出強度の合計を１と（正規化）し
たときに、ＣＦ3 +フラグメントイオンの検出強度が０．
０５以上であること （２）ＣＦ3 +フラグメントイオンの検出強度を１と（正
規化）したときに、Ｃ2Ｆ5 +フラグメントイオンおよび
Ｃ3Ｆ7 +フラグメントイオンの少なくとも一方の検出強
度が０．１以上であること （３）ＣＦ3 +フラグメントイオンの検出強度を１と（正
規化）したときに、ＣＦＯ+フラグメントイオンの検出
強度が０．１以上であること
者が鋭意検討した結果、成形型の表面をＴＯＦ−ＳＩＭ
Ｓ（飛行時間型二次イオン質量分析計）で正イオン分析
を行った場合、特定の正イオンが特定の割合で存在する
成形型を用いると、離型性が優れ、また、離型性が持続
することを見出し、本願発明に到達した。すなわち、本
発明の要旨は、成形型の表面をＴＯＦ−ＳＩＭＳ（飛行
時間型二次イオン質量分析計）で正イオン分析を行った
結果が次の（１）〜（３）の条件を満たすことを特徴と
する成形型。 （１）全正イオンの検出強度の合計を１と（正規化）し
たときに、ＣＦ3 +フラグメントイオンの検出強度が０．
０５以上であること （２）ＣＦ3 +フラグメントイオンの検出強度を１と（正
規化）したときに、Ｃ2Ｆ5 +フラグメントイオンおよび
Ｃ3Ｆ7 +フラグメントイオンの少なくとも一方の検出強
度が０．１以上であること （３）ＣＦ3 +フラグメントイオンの検出強度を１と（正
規化）したときに、ＣＦＯ+フラグメントイオンの検出
強度が０．１以上であること
【０００６】
【発明の実施の形態】以下、本発明について更に詳細に
説明する。本発明の成形型は、樹脂などの被成形材料の
成形に用いられる成形型であれば特に制限はない。成形
型は、金属、ガラス、セラミックス、プラスチック樹脂
等いかなる材料から構成されていてもよく、被成形材料
の種類および硬化条件（温度、活性エネルギー線照射）
等を勘案し適宜選定される。得られる成形体の表面平滑
性、成形型の取り扱い性、活性エネルギー線を透過する
点からガラスでできた成形型が好ましく用いられる。ガ
ラスとしては、アルカリガラス、石英ガラス、パイレッ
クス（Ｒ）ガラス、フロートガラス、テンパレックスガ
ラスなどが挙げられる。
説明する。本発明の成形型は、樹脂などの被成形材料の
成形に用いられる成形型であれば特に制限はない。成形
型は、金属、ガラス、セラミックス、プラスチック樹脂
等いかなる材料から構成されていてもよく、被成形材料
の種類および硬化条件（温度、活性エネルギー線照射）
等を勘案し適宜選定される。得られる成形体の表面平滑
性、成形型の取り扱い性、活性エネルギー線を透過する
点からガラスでできた成形型が好ましく用いられる。ガ
ラスとしては、アルカリガラス、石英ガラス、パイレッ
クス（Ｒ）ガラス、フロートガラス、テンパレックスガ
ラスなどが挙げられる。
【０００７】成形体を構成するガラスは、その表面が強
化処理されたガラスが、成形型の強度の点から好まし
い。強化処理されたガラスとしては、熱強化ガラス；硝
酸カリウム、硝酸リチウム等で表面イオン置換処理を施
したケミカル強化ガラス；ＩＴＯ、Ｓｎ2Ｏ3、ＳＩ
Ｏ2、ＴｉＯ2等の処理を施したガラス等が挙げられ、特
にケミカル強化ガラスが好ましく用いられる。また、得
られる成形体の表面平滑性が求められる場合には、研磨
を行ったガラスが好ましく用いられる。研磨ガラスとし
ては、表面平滑度（Ｒａ）が５００〜１０ｎｍのものが
挙げられる。
化処理されたガラスが、成形型の強度の点から好まし
い。強化処理されたガラスとしては、熱強化ガラス；硝
酸カリウム、硝酸リチウム等で表面イオン置換処理を施
したケミカル強化ガラス；ＩＴＯ、Ｓｎ2Ｏ3、ＳＩ
Ｏ2、ＴｉＯ2等の処理を施したガラス等が挙げられ、特
にケミカル強化ガラスが好ましく用いられる。また、得
られる成形体の表面平滑性が求められる場合には、研磨
を行ったガラスが好ましく用いられる。研磨ガラスとし
ては、表面平滑度（Ｒａ）が５００〜１０ｎｍのものが
挙げられる。
【０００８】成形型の表面の正イオン分析は、飛行時間
型二次質量イオン分析計（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）により行
い、好ましくは、ＩＯＮ−ＴＯＦ社製ＴｏＦ−ＳＩＭＳ
−ＩＶ装置が用いられる。測定条件は、一次イオンとし
てＧａ+を用い、一次イオン加速エネルギー２５ｋｅ
Ｖ、一次イオン電流０．５ｐＡ、パルス幅〜０．７ｎｓ
ｅｃ、３００μｍ角走査二次イオン正イオン測定、積算
２４０ｓｅｃで行う。
型二次質量イオン分析計（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）により行
い、好ましくは、ＩＯＮ−ＴＯＦ社製ＴｏＦ−ＳＩＭＳ
−ＩＶ装置が用いられる。測定条件は、一次イオンとし
てＧａ+を用い、一次イオン加速エネルギー２５ｋｅ
Ｖ、一次イオン電流０．５ｐＡ、パルス幅〜０．７ｎｓ
ｅｃ、３００μｍ角走査二次イオン正イオン測定、積算
２４０ｓｅｃで行う。
【０００９】本発明は、成形体の表面に特定のフッ素含
有化合物が存在することを特徴とする。具体的には、成
形型の表面、好ましくは成形型の被成形材料と接する表
面を、上記分析装置により正イオン分析を行った結果、
次の（１）〜（３）の条件を満たすことを特徴とする。
有化合物が存在することを特徴とする。具体的には、成
形型の表面、好ましくは成形型の被成形材料と接する表
面を、上記分析装置により正イオン分析を行った結果、
次の（１）〜（３）の条件を満たすことを特徴とする。
【００１０】（１）全正イオンの検出強度の合計を１と
（正規化）したときに、ＣＦ3 +フラグメントイオンの検
出強度が０．０５以上、好ましくは０．１以上である。
このフラグメントイオンの検出強度は大きいほうが好ま
しい。このフラグメントイオンの検出強度が小さすぎる
と、初期の離型性が劣る。
（正規化）したときに、ＣＦ3 +フラグメントイオンの検
出強度が０．０５以上、好ましくは０．１以上である。
このフラグメントイオンの検出強度は大きいほうが好ま
しい。このフラグメントイオンの検出強度が小さすぎる
と、初期の離型性が劣る。
【００１１】（２）ＣＦ3 +フラグメントイオンの検出強
度を１と（正規化）したときに、Ｃ 2Ｆ5 +フラグメント
イオンおよびＣ3Ｆ7 +フラグメントイオンの少なくとも
一方の検出強度が０．１以上、好ましくは０．４以上、
特に好ましくは１以上である。好ましくは、Ｃ2Ｆ5 +フ
ラグメントイオンおよびＣ3Ｆ7 +フラグメントイオンの
両方の検出強度が０．１以上、好ましくは０．４以上、
特に好ましくは１以上である。これらのフラグメントイ
オンの検出強度は大きいほうが好ましい。Ｃ2Ｆ5 +フラ
グメントイオンおよびＣ3Ｆ7 +フラグメントイオンは、
成形体と成形型の離型性に関与し、これらのフラグメン
トイオンの検出強度が小さすぎると、成形体の成形型と
の離型性が劣る。
度を１と（正規化）したときに、Ｃ 2Ｆ5 +フラグメント
イオンおよびＣ3Ｆ7 +フラグメントイオンの少なくとも
一方の検出強度が０．１以上、好ましくは０．４以上、
特に好ましくは１以上である。好ましくは、Ｃ2Ｆ5 +フ
ラグメントイオンおよびＣ3Ｆ7 +フラグメントイオンの
両方の検出強度が０．１以上、好ましくは０．４以上、
特に好ましくは１以上である。これらのフラグメントイ
オンの検出強度は大きいほうが好ましい。Ｃ2Ｆ5 +フラ
グメントイオンおよびＣ3Ｆ7 +フラグメントイオンは、
成形体と成形型の離型性に関与し、これらのフラグメン
トイオンの検出強度が小さすぎると、成形体の成形型と
の離型性が劣る。
【００１２】（３）ＣＦ3 +フラグメントイオンの検出強
度を１と（正規化）したときに、ＣＦＯ+フラグメント
イオンの検出強度が０．１以上、好ましくは０．２以
上、特に好ましくは０．４以上である。このフラグメン
トイオンの検出強度も大きい方が好ましい。ＣＦＯ+フ
ラグメントイオンは、繰り返し離型性に関与し、このフ
ラグメントイオンの検出強度が小さすぎると、繰り返し
離型性が低下する。
度を１と（正規化）したときに、ＣＦＯ+フラグメント
イオンの検出強度が０．１以上、好ましくは０．２以
上、特に好ましくは０．４以上である。このフラグメン
トイオンの検出強度も大きい方が好ましい。ＣＦＯ+フ
ラグメントイオンは、繰り返し離型性に関与し、このフ
ラグメントイオンの検出強度が小さすぎると、繰り返し
離型性が低下する。
【００１３】本発明の成形型は、上記の（１）〜（３）
に加え、次の条件（４）を満足するものであることが好
ましい。 （４）ＣＦ3 +フラグメントイオンの検出強度を１と（正
規化）したときに、Ｃ 2Ｆ3Ｏ+フラグメントイオン、Ｃ3
Ｆ5Ｏ+フラグメントイオンおよびＣ4Ｆ7Ｏ+フラグメン
トイオンの合計の検出強度が、通常０．０５以上、好ま
しくは０．１以上、特に好ましくは０．２以上である。
これらのフラグメントイオンの検出強度の合計は大きい
方が好ましい。これらのフラグメントイオンは、繰り返
し離型性に関与し、これらのフラグメントイオンの検出
強度の合計が小さすぎると、繰り返し離型性が悪化する
恐れがある。
に加え、次の条件（４）を満足するものであることが好
ましい。 （４）ＣＦ3 +フラグメントイオンの検出強度を１と（正
規化）したときに、Ｃ 2Ｆ3Ｏ+フラグメントイオン、Ｃ3
Ｆ5Ｏ+フラグメントイオンおよびＣ4Ｆ7Ｏ+フラグメン
トイオンの合計の検出強度が、通常０．０５以上、好ま
しくは０．１以上、特に好ましくは０．２以上である。
これらのフラグメントイオンの検出強度の合計は大きい
方が好ましい。これらのフラグメントイオンは、繰り返
し離型性に関与し、これらのフラグメントイオンの検出
強度の合計が小さすぎると、繰り返し離型性が悪化する
恐れがある。
【００１４】このような成形型は、例えば、成形型の表
面に、フッ素含有化合物、シリコン系化合物、アルキル
系化合物およびこれらの混合物を塗布し、フッ素含有化
合物を有する層を形成する方法、真空蒸着、スパッタリ
ング、ＣＶＤ等による無溶剤処理を行う方法、フッ素含
有化合物を真空蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ等により
成形型の表面に化学反応させる方法などが挙げられる。
このようにして得られる、フッ素含有化合物を有する層
あるいは膜の厚さは、通常０．１μｍ以下、通常は０．
０１μｍ以下である。
面に、フッ素含有化合物、シリコン系化合物、アルキル
系化合物およびこれらの混合物を塗布し、フッ素含有化
合物を有する層を形成する方法、真空蒸着、スパッタリ
ング、ＣＶＤ等による無溶剤処理を行う方法、フッ素含
有化合物を真空蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ等により
成形型の表面に化学反応させる方法などが挙げられる。
このようにして得られる、フッ素含有化合物を有する層
あるいは膜の厚さは、通常０．１μｍ以下、通常は０．
０１μｍ以下である。
【００１５】本発明の成形型においては、単に特定のフ
ッ素含有化合物を成形型の表面に存在させればよいので
はなく、ＴＯＦ−ＳＩＭＳ（飛行時間型二次イオン質量
分析計）で分析した時の各フラグメントイオンの検出強
度が特定の範囲であるように、成形体の表面に存在させ
ることにより、優れた脱型性をもち、かつ、脱型性を長
期間維持できることを見出したものである。
ッ素含有化合物を成形型の表面に存在させればよいので
はなく、ＴＯＦ−ＳＩＭＳ（飛行時間型二次イオン質量
分析計）で分析した時の各フラグメントイオンの検出強
度が特定の範囲であるように、成形体の表面に存在させ
ることにより、優れた脱型性をもち、かつ、脱型性を長
期間維持できることを見出したものである。
【００１６】本発明で用いられるフッ素含有化合物とし
ては、旭硝子社製「サイトップＣＴＬ−１０７Ｍ」、ダ
イキン工業社製「オプツールＤＳＸ」などの化合物、す
なわち、含フッ素ポリマーが挙げられる。成形型表面に
フッ素含有化合物を有する層または膜を形成するに先立
ち、成形型表面は、ＳｉＯ２、ＩＴＯなどのスパッタリ
ングなどにより表面を改質したり、界面活性剤を用いた
洗浄、フッ酸及びアルカリ溶液を用いた洗浄、炭酸カル
シウム、などの無機粒子による研磨などにより、成形体
表面を清浄化することにより、成形型とフッ素含有化合
物との接着性を向上させてもよい。
ては、旭硝子社製「サイトップＣＴＬ−１０７Ｍ」、ダ
イキン工業社製「オプツールＤＳＸ」などの化合物、す
なわち、含フッ素ポリマーが挙げられる。成形型表面に
フッ素含有化合物を有する層または膜を形成するに先立
ち、成形型表面は、ＳｉＯ２、ＩＴＯなどのスパッタリ
ングなどにより表面を改質したり、界面活性剤を用いた
洗浄、フッ酸及びアルカリ溶液を用いた洗浄、炭酸カル
シウム、などの無機粒子による研磨などにより、成形体
表面を清浄化することにより、成形型とフッ素含有化合
物との接着性を向上させてもよい。
【００１７】フッ素含有化合物を含む組成物の塗布によ
りフッ素含有化合物を含む層を形成する方法が簡便なの
で好ましく用いられ、具体的には、成形型の表面に、フ
ッ素含有化合物を含む組成物を塗布し、乾燥することに
よりフッ素含有化合物を含む層が形成される。塗布方法
としては、公知の塗布方法、例えば、スプレー塗装、ス
ピン塗装、浸漬塗装、ロールコート塗装、グラビアコー
ト塗装、カーテンフロー塗装等を用いることができる。
りフッ素含有化合物を含む層を形成する方法が簡便なの
で好ましく用いられ、具体的には、成形型の表面に、フ
ッ素含有化合物を含む組成物を塗布し、乾燥することに
よりフッ素含有化合物を含む層が形成される。塗布方法
としては、公知の塗布方法、例えば、スプレー塗装、ス
ピン塗装、浸漬塗装、ロールコート塗装、グラビアコー
ト塗装、カーテンフロー塗装等を用いることができる。
【００１８】フッ素含有化合物の塗布に用いられる組成
物は、フッ素含有化合物の溶液、懸濁液または分散液が
挙げられる。この組成物は、通常、溶剤を含有する。溶
剤としては、フッ素含有化合物を分散、溶解または懸濁
することができれば特に限定されないが、好ましくは、
パーフルオロヘキサン、パーフルオロ−１，３−ジメチ
ルシクロヘキサン、ジクロロペンタフルオロプロパン
（ＨＣＦＣ−２２５）等のフッ素系溶媒、エタノール等
のアルコールなどを挙げることができる。
物は、フッ素含有化合物の溶液、懸濁液または分散液が
挙げられる。この組成物は、通常、溶剤を含有する。溶
剤としては、フッ素含有化合物を分散、溶解または懸濁
することができれば特に限定されないが、好ましくは、
パーフルオロヘキサン、パーフルオロ−１，３−ジメチ
ルシクロヘキサン、ジクロロペンタフルオロプロパン
（ＨＣＦＣ−２２５）等のフッ素系溶媒、エタノール等
のアルコールなどを挙げることができる。
【００１９】この組成物には、フッ素含有化合物の他
に、例えば、シリカ、アルミナ、酸化チタン、カーボ
ン、セメント等の微粉末充填剤、チタン、アルミニウ
ム、ケイ素等のアルコキシド、その他の低分子量ポリテ
トラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン／ヘキ
サフルオロプロピレン共重合体等のフッ素樹脂の微粉末
等を、硬度調整剤又は増量剤等として添加してもよい。
また、公知の架橋剤を加えることにより、硬度調整を行
ってもよい。
に、例えば、シリカ、アルミナ、酸化チタン、カーボ
ン、セメント等の微粉末充填剤、チタン、アルミニウ
ム、ケイ素等のアルコキシド、その他の低分子量ポリテ
トラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン／ヘキ
サフルオロプロピレン共重合体等のフッ素樹脂の微粉末
等を、硬度調整剤又は増量剤等として添加してもよい。
また、公知の架橋剤を加えることにより、硬度調整を行
ってもよい。
【００２０】本発明の成形型を用いて成形される被成形
材料としては、熱可塑性樹脂、硬化性樹脂などの樹脂、
好ましくは硬化性樹脂、特に好ましくは硬化時の収縮率
が５％以上の硬化性樹脂が用いられる。硬化性樹脂とし
ては、各種メタクリレート、アクリレート、エポキシ、
フェノール、ノボラック等が挙げられる。硬化性樹脂
は、必要に応じて、ラジカル発生剤、硬化剤、希釈剤、
添加剤、微粒子、色素等を含有した硬化性樹脂組成物が
用いられる。
材料としては、熱可塑性樹脂、硬化性樹脂などの樹脂、
好ましくは硬化性樹脂、特に好ましくは硬化時の収縮率
が５％以上の硬化性樹脂が用いられる。硬化性樹脂とし
ては、各種メタクリレート、アクリレート、エポキシ、
フェノール、ノボラック等が挙げられる。硬化性樹脂
は、必要に応じて、ラジカル発生剤、硬化剤、希釈剤、
添加剤、微粒子、色素等を含有した硬化性樹脂組成物が
用いられる。
【００２１】本発明の成形型内に樹脂を注入し、樹脂を
硬化させた後、脱型することにより成形体を製造するこ
とができる。樹脂を硬化させる方法としては、熱、活性
エネルギー線の照射が挙げられる。活性エネルギー線と
しては、紫外線、可視光、赤外線、Ｘ線等の電磁波、及
び電子線などが挙げられる。本発明の成形型は、成形物
の離型性が良好なので、硬化収縮の緩和が困難で成形が
難しい活性エネルギー線を用いた成形をする際に使用す
るのが好ましい。
硬化させた後、脱型することにより成形体を製造するこ
とができる。樹脂を硬化させる方法としては、熱、活性
エネルギー線の照射が挙げられる。活性エネルギー線と
しては、紫外線、可視光、赤外線、Ｘ線等の電磁波、及
び電子線などが挙げられる。本発明の成形型は、成形物
の離型性が良好なので、硬化収縮の緩和が困難で成形が
難しい活性エネルギー線を用いた成形をする際に使用す
るのが好ましい。
【００２２】本発明の成形型を用いて製造された成形体
は、表面平滑性が良好なので、眼鏡レンズ、光学用レン
ズ、表示用基板、タッチパネル基板、拡散板、導光板、
ＰＤＰ用シールド板等の光学用部材、ＣＤ、ＤＶＤ、ハ
ードディスク基材等の情報材料基材などに好適に用いる
ことができる。
は、表面平滑性が良好なので、眼鏡レンズ、光学用レン
ズ、表示用基板、タッチパネル基板、拡散板、導光板、
ＰＤＰ用シールド板等の光学用部材、ＣＤ、ＤＶＤ、ハ
ードディスク基材等の情報材料基材などに好適に用いる
ことができる。
【００２３】
【発明の効果】本発明によれば、離型性に優れた成形型
を提供することができ、大型の成形体や硬化収縮が大き
い樹脂の成形が容易に行える。
を提供することができ、大型の成形体や硬化収縮が大き
い樹脂の成形が容易に行える。
【００２４】
【実施例】＜実施例１＞フロートガラス（１００×１０
０×５ｍｍ）２枚を３重量％ＮａＯＨ水溶液に４時間浸
漬した後、純水で洗浄し、乾燥した。ガラス表面にフッ
素含有化合物（旭硝子社製、商品名「サイトップ ＣＴ
Ｌ−１０７Ｍ」）のパーフロロヘキサン溶液（１重量
％）を塗布し、１００℃で１時間熱処理を行った。得ら
れたガラス板２枚を、フッ素含有化合物の塗布面が内側
になるようにして対向させ、間にシリコーンゴム製の幅
５ｍｍ厚み０．５ｍｍのスペーサーを挟みこみキャビテ
ィを作り成形型を形成した。
０×５ｍｍ）２枚を３重量％ＮａＯＨ水溶液に４時間浸
漬した後、純水で洗浄し、乾燥した。ガラス表面にフッ
素含有化合物（旭硝子社製、商品名「サイトップ ＣＴ
Ｌ−１０７Ｍ」）のパーフロロヘキサン溶液（１重量
％）を塗布し、１００℃で１時間熱処理を行った。得ら
れたガラス板２枚を、フッ素含有化合物の塗布面が内側
になるようにして対向させ、間にシリコーンゴム製の幅
５ｍｍ厚み０．５ｍｍのスペーサーを挟みこみキャビテ
ィを作り成形型を形成した。
【００２５】Ｐ−ビス（β−メタクリロイルオキシエチ
ルチオメチル）ベンゼン１００重量部、２，４，６−ト
リメチルベンゼンジフェニルフォスフィンオキシド（Ｂ
ＡＳＦ社製「ルシリンＴＰＯ」）０．０５重量部、ベン
ゾフェノン０．１重量部を混合し、十分に攪拌した後、
脱泡して、光硬化性組成物を調製した。
ルチオメチル）ベンゼン１００重量部、２，４，６−ト
リメチルベンゼンジフェニルフォスフィンオキシド（Ｂ
ＡＳＦ社製「ルシリンＴＰＯ」）０．０５重量部、ベン
ゾフェノン０．１重量部を混合し、十分に攪拌した後、
脱泡して、光硬化性組成物を調製した。
【００２６】成形型に光硬化性組成物を注入し、成形型
の両面に配置した出力８０Ｗ／ｃｍのメタルハライドラ
ンプを照射量が３０Ｊ／ｃｍ2 となるように照射して樹
脂を硬化させた。その後、成形型の周囲の接着テープを
取り去って成形型を開放し、樹脂成形体を取出した。同
一の成形型を用い、樹脂成形体の成形、脱型を繰り返
し、１回目、５０回目、１００回目の脱型性（取出し易
さ）を評価した。結果は表１に示す。
の両面に配置した出力８０Ｗ／ｃｍのメタルハライドラ
ンプを照射量が３０Ｊ／ｃｍ2 となるように照射して樹
脂を硬化させた。その後、成形型の周囲の接着テープを
取り去って成形型を開放し、樹脂成形体を取出した。同
一の成形型を用い、樹脂成形体の成形、脱型を繰り返
し、１回目、５０回目、１００回目の脱型性（取出し易
さ）を評価した。結果は表１に示す。
【００２７】取出し易さ：成形型から樹脂シートを取出
す際の、型からの樹脂シートの剥がし易さを、次の３段
階で評価した。１回目、５０回目で×の評価となった場
合は、それ以降の評価は行わないこととする。 ◎：容易に剥がれる ○：少し剥がしにくい ×：剥がしにくく、樹脂シートが割れる
す際の、型からの樹脂シートの剥がし易さを、次の３段
階で評価した。１回目、５０回目で×の評価となった場
合は、それ以降の評価は行わないこととする。 ◎：容易に剥がれる ○：少し剥がしにくい ×：剥がしにくく、樹脂シートが割れる
【００２８】＜実施例２＞フッ素含有化合物として、ダ
イキン工業社製、商品名「オプツールＤＳＸ」を用いた
他は、実施例１と同様に行って成形型を作成し、脱型性
の評価を行った。結果は表１に示す。
イキン工業社製、商品名「オプツールＤＳＸ」を用いた
他は、実施例１と同様に行って成形型を作成し、脱型性
の評価を行った。結果は表１に示す。
【００２９】＜比較例１＞フッ素含有化合物の溶液とし
て、信越化学社製、商品名「ＫＢＭ７８０３」のエチル
アルコール溶液（１重量％）を用いた他は、実施例１と
同様に行って成形型を作成し、脱型性の評価を行った。
結果は表１に示す。
て、信越化学社製、商品名「ＫＢＭ７８０３」のエチル
アルコール溶液（１重量％）を用いた他は、実施例１と
同様に行って成形型を作成し、脱型性の評価を行った。
結果は表１に示す。
【００３０】＜比較例２＞フッ素含有化合物の溶液とし
て、信越化学社製、商品名「ＫＢＭ７１０３」のエチル
アルコール溶液（１重量％）を用い、１００℃１時間の
熱処理のかわりに、常温（２３℃）で２０時間放置した
他は実施例１と同様に行い、成形型を作成し、脱型性の
評価を行った。結果は表１に示す。
て、信越化学社製、商品名「ＫＢＭ７１０３」のエチル
アルコール溶液（１重量％）を用い、１００℃１時間の
熱処理のかわりに、常温（２３℃）で２０時間放置した
他は実施例１と同様に行い、成形型を作成し、脱型性の
評価を行った。結果は表１に示す。
【００３１】＜比較例３＞フッ素含有化合物の溶液とし
て、信越化学社製、商品名「ＫＰ８０１Ｍ」のヘキサフ
ロロキシレン溶液（１重量％）用いた他は、実施例１と
同様に行って、成形型を作成し、脱型性の評価を行っ
た。結果は表１に示す。
て、信越化学社製、商品名「ＫＰ８０１Ｍ」のヘキサフ
ロロキシレン溶液（１重量％）用いた他は、実施例１と
同様に行って、成形型を作成し、脱型性の評価を行っ
た。結果は表１に示す。
【００３２】＜比較例４＞フッ素含有化合物の溶液の代
わりに、シリコン系化合物である信越化学社製、商品名
「ＫＦ９６」のキシレン溶液（１重量％）を用いた他
は、実施例１と同様に行って、成形型を作成し、脱型性
の評価を行った。結果は表１に示す。
わりに、シリコン系化合物である信越化学社製、商品名
「ＫＦ９６」のキシレン溶液（１重量％）を用いた他
は、実施例１と同様に行って、成形型を作成し、脱型性
の評価を行った。結果は表１に示す。
【００３３】＜比較例５＞フッ素含有化合物として、旭
硝子社製、商品名「サイトップ ＣＴＬ−１０７Ｍ」）
のパーフロロヘキサン溶液（０．００１重量％）を用い
た他は、実施例１と同様に行って、成形型を作成し、脱
型性の評価を行った。結果は表１に示す。
硝子社製、商品名「サイトップ ＣＴＬ−１０７Ｍ」）
のパーフロロヘキサン溶液（０．００１重量％）を用い
た他は、実施例１と同様に行って、成形型を作成し、脱
型性の評価を行った。結果は表１に示す。
【００３４】
【表１】
【００３５】※１：全てのフラグメントイオン（正イオ
ン）の強度の合計を１とした場合のCF 3 +の強度 ※２：CF3 +の強度を１とした場合のC2F5 + の強度 ※３：CF3 +の強度を１とした場合のC3F7 +の強度 ※４：CF3 +の強度を１とした場合のCFO+の強度 ※５：CF3 +の強度を１とした場合のC2F3O+、C3F5O+、C4
F7O+の強度の合計
ン）の強度の合計を１とした場合のCF 3 +の強度 ※２：CF3 +の強度を１とした場合のC2F5 + の強度 ※３：CF3 +の強度を１とした場合のC3F7 +の強度 ※４：CF3 +の強度を１とした場合のCFO+の強度 ※５：CF3 +の強度を１とした場合のC2F3O+、C3F5O+、C4
F7O+の強度の合計
【００３６】＜実施例３＞透明樹脂板（日本ゼオン製、
商品名「ゼオノア」）（１００×１００×４０ｍｍ）の
表面に、スパッタリングにより、厚さ２００ÅのＳｉＯ
2薄膜を形成した。この樹脂板にフッ素含有化合物（ダ
イキン工業社製、商品名「オプツールＤＳＸ」）のパー
フロロヘキサン溶液（１重量％）を塗布し、常温で２０
時間放置した。ガラス板の代わりに、得られた透明樹脂
板を用いた他は実施例１と同様に行い、成形型を作成
し、脱型性の評価を行った。成形型が熱と応力により変
形したため、７０回行った時点で評価を注しした。結果
を表２に示す。
商品名「ゼオノア」）（１００×１００×４０ｍｍ）の
表面に、スパッタリングにより、厚さ２００ÅのＳｉＯ
2薄膜を形成した。この樹脂板にフッ素含有化合物（ダ
イキン工業社製、商品名「オプツールＤＳＸ」）のパー
フロロヘキサン溶液（１重量％）を塗布し、常温で２０
時間放置した。ガラス板の代わりに、得られた透明樹脂
板を用いた他は実施例１と同様に行い、成形型を作成
し、脱型性の評価を行った。成形型が熱と応力により変
形したため、７０回行った時点で評価を注しした。結果
を表２に示す。
【００３７】
【表２】
【００３８】※１：全てのフラグメントイオン（正イオ
ン）の強度の合計を１とした場合のCF 3 +の強度 ※２：CF3 +の強度を１とした場合のC2F5 + の強度 ※３：CF3 +の強度を１とした場合のC3F7 +の強度 ※４：CF3 +の強度を１とした場合のCFO+の強度 ※５：CF3 +の強度を１とした場合のC2F3O+、C3F5O+、C4
F7O+の強度の合計
ン）の強度の合計を１とした場合のCF 3 +の強度 ※２：CF3 +の強度を１とした場合のC2F5 + の強度 ※３：CF3 +の強度を１とした場合のC3F7 +の強度 ※４：CF3 +の強度を１とした場合のCFO+の強度 ※５：CF3 +の強度を１とした場合のC2F3O+、C3F5O+、C4
F7O+の強度の合計
【００３９】＜実施例４＞金属板（厚１００×１００×
２０ｍｍ）にフッ素含有化合物（ダイキン工業社製、商
品名「オプツールＤＳＸ」）のパーフロロヘキサン溶液
（１重量％）を塗布し、常温で２０時間放置した。得ら
れた金属板のフッ素含有化合物が被成形樹脂と接触する
ようにプレス装置に取り付けた。金属板の間にポリカー
ボネート片（８０ｍｍ×８０ｍｍ×１０ｍｍ）を配置
し、温度２５０℃、圧力15MＰａでプレスして、厚さ２
ｍｍのポリカーボネートシートを成形し、シートを金属
板から取り出した。同一の金属板を用い、ポリカーボネ
ート板のプレスによる成形、シートの取り出しを繰り返
し、１回目、５０回目、１００回目の取出し易さ（脱型
性）を評価した。結果は表３に示す。
２０ｍｍ）にフッ素含有化合物（ダイキン工業社製、商
品名「オプツールＤＳＸ」）のパーフロロヘキサン溶液
（１重量％）を塗布し、常温で２０時間放置した。得ら
れた金属板のフッ素含有化合物が被成形樹脂と接触する
ようにプレス装置に取り付けた。金属板の間にポリカー
ボネート片（８０ｍｍ×８０ｍｍ×１０ｍｍ）を配置
し、温度２５０℃、圧力15MＰａでプレスして、厚さ２
ｍｍのポリカーボネートシートを成形し、シートを金属
板から取り出した。同一の金属板を用い、ポリカーボネ
ート板のプレスによる成形、シートの取り出しを繰り返
し、１回目、５０回目、１００回目の取出し易さ（脱型
性）を評価した。結果は表３に示す。
【００４０】＜比較例６＞フッ素含有化合物の溶液とし
て、信越化学社製、商品名「ＫＢＭ７８０３」のキシレ
ン溶液（１重量％）を用いた他は、実施例４と同様に行
い、脱型性を評価した。結果を表３に示す。
て、信越化学社製、商品名「ＫＢＭ７８０３」のキシレ
ン溶液（１重量％）を用いた他は、実施例４と同様に行
い、脱型性を評価した。結果を表３に示す。
【００４１】
【表３】
【００４２】※１：全てのフラグメントイオン（正イオ
ン）の強度の合計を１とした場合のCF 3 +の強度 ※２：CF3 +の強度を１とした場合のC2F5 + の強度 ※３：CF3 +の強度を１とした場合のC3F7 +の強度 ※４：CF3 +の強度を１とした場合のCFO+の強度 ※５：CF3 +の強度を１とした場合のC2F3O+、C3F5O+、C4
F7O+の強度の合計
ン）の強度の合計を１とした場合のCF 3 +の強度 ※２：CF3 +の強度を１とした場合のC2F5 + の強度 ※３：CF3 +の強度を１とした場合のC3F7 +の強度 ※４：CF3 +の強度を１とした場合のCFO+の強度 ※５：CF3 +の強度を１とした場合のC2F3O+、C3F5O+、C4
F7O+の強度の合計
【００４３】＜実施例５＞研磨されたケミカル強化ガラ
ス（４００ｍｍ×４００ｍｍ×３ｍｍ、表面平滑度 Ｒ
ａ０．００４μｍの表面を炭酸カルシウム粉末で軽く研
磨し、ガラス表面の油膜を除いた後、フッ素含有化合物
（ダイキン工業社製、商品名「オプツールＤＳＸ」）の
パーフロロヘキサン溶液（１重量％）を塗布し、常温で
２０時間放置し、厚さの層を形成した。得られたガラス
板２枚を、フッ素含有化合物の塗布面が内側になるよう
にして対向させ、間にシリコーンゴム製の幅５ｍｍ厚み
０．５ｍｍのスペーサーを挟みこみキャビティを作り成
形型を形成した。
ス（４００ｍｍ×４００ｍｍ×３ｍｍ、表面平滑度 Ｒ
ａ０．００４μｍの表面を炭酸カルシウム粉末で軽く研
磨し、ガラス表面の油膜を除いた後、フッ素含有化合物
（ダイキン工業社製、商品名「オプツールＤＳＸ」）の
パーフロロヘキサン溶液（１重量％）を塗布し、常温で
２０時間放置し、厚さの層を形成した。得られたガラス
板２枚を、フッ素含有化合物の塗布面が内側になるよう
にして対向させ、間にシリコーンゴム製の幅５ｍｍ厚み
０．５ｍｍのスペーサーを挟みこみキャビティを作り成
形型を形成した。
【００４４】Ｐ−ビス（β−メタクリロイルオキシエチ
ルチオメチル）ベンゼン１００重量部、２，４，６−ト
リメチルベンゼンジフェニルフォスフィンオキシド（Ｂ
ＡＳＦ社製「ルシリンＴＰＯ」）０．０５重量部、ベン
ゾフェノン０．１重量部を混合し、十分に攪拌した後、
脱泡して、光硬化性組成物を調製した。
ルチオメチル）ベンゼン１００重量部、２，４，６−ト
リメチルベンゼンジフェニルフォスフィンオキシド（Ｂ
ＡＳＦ社製「ルシリンＴＰＯ」）０．０５重量部、ベン
ゾフェノン０．１重量部を混合し、十分に攪拌した後、
脱泡して、光硬化性組成物を調製した。
【００４５】成形型に光硬化性組成物を注入し、成形型
の両面に配置した出力８０Ｗ／ｃｍのメタルハライドラ
ンプを照射量が３０Ｊ／ｃｍ2 となるように照射して樹
脂を硬化させた。その後、成形型の周囲の接着テープを
取り去って成形型を開放し、樹脂成形体を取出した。同
一の成形型を用い、樹脂成形体の成形、脱型を繰り返
し、１回目、５０回目、１００回目の脱型性（取出し易
さ）を評価した。結果は表４に示す。この成形型を用い
て製造された成形体は、１回目から１００回目のいずれ
においても、成形体表面に傷、剥離跡がなく、液晶基板
などの表示基板として好適に使用できる。
の両面に配置した出力８０Ｗ／ｃｍのメタルハライドラ
ンプを照射量が３０Ｊ／ｃｍ2 となるように照射して樹
脂を硬化させた。その後、成形型の周囲の接着テープを
取り去って成形型を開放し、樹脂成形体を取出した。同
一の成形型を用い、樹脂成形体の成形、脱型を繰り返
し、１回目、５０回目、１００回目の脱型性（取出し易
さ）を評価した。結果は表４に示す。この成形型を用い
て製造された成形体は、１回目から１００回目のいずれ
においても、成形体表面に傷、剥離跡がなく、液晶基板
などの表示基板として好適に使用できる。
【００４６】
【表４】
【００４７】※１：全てのフラグメントイオン（正イオ
ン）の強度の合計を１とした場合のCF 3 +の強度 ※２：CF3 +の強度を１とした場合のC2F5 + の強度 ※３：CF3 +の強度を１とした場合のC3F7 +の強度 ※４：CF3 +の強度を１とした場合のCFO+の強度 ※５：CF3 +の強度を１とした場合のC2F3O+、C3F5O+、C4
F7O+の強度の合計
ン）の強度の合計を１とした場合のCF 3 +の強度 ※２：CF3 +の強度を１とした場合のC2F5 + の強度 ※３：CF3 +の強度を１とした場合のC3F7 +の強度 ※４：CF3 +の強度を１とした場合のCFO+の強度 ※５：CF3 +の強度を１とした場合のC2F3O+、C3F5O+、C4
F7O+の強度の合計
Claims (12)
- 【請求項１】 成形型の表面をＴＯＦ−ＳＩＭＳ（飛行
時間型二次イオン質量分析計）で正イオン分析を行った
結果が次の（１）〜（３）の条件を満たすことを特徴と
する成形型。 （１）全正イオンの検出強度の合計を１と（正規化）し
たときに、ＣＦ3 +フラグメントイオンの検出強度が０．
０５以上であること （２）ＣＦ3 +フラグメントイオンの検出強度を１と（正
規化）したときに、Ｃ2Ｆ5 +フラグメントイオンおよび
Ｃ3Ｆ7 +フラグメントイオンの少なくとも一方の検出強
度が０．１以上であること （３）ＣＦ3 +フラグメントイオンの検出強度を１と（正
規化）したときに、ＣＦＯ+フラグメントイオンの検出
強度が０．１以上であること - 【請求項２】 成形型がさらに次の条件を満たすことを
特徴とする請求項１に記載の成形型。 （４）ＣＦ3 +フラグメントイオンの検出強度を１（正規
化）したときに、Ｃ2Ｆ3Ｏ+フラグメントイオン、Ｃ3Ｆ
5Ｏ+フラグメントイオンおよびＣ4Ｆ7Ｏ+フラグメント
イオンの合計の検出強度が０．０５以上であること - 【請求項３】 ＴＯＦ−ＳＩＭＳで正イオン分析を行う
成形型の表面が、被成形材料と接触する面であることを
特徴とする請求項１または２に記載の成形型。 - 【請求項４】 成形型がガラスを用いたものであること
を特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の成形
型。 - 【請求項５】 ガラスが強化処理をしたものであること
を特徴とする請求項４に記載の成形型。 - 【請求項６】 ガラスが研磨処理をしたものであること
を特徴とする請求項４または５に記載の成形型。 - 【請求項７】 成形型が硬化性樹脂を成形するのに用い
られることを特徴とする請求項１ないし６のいずれかに
記載の成形型。 - 【請求項８】 請求項１ないし７のいずれかに記載の成
形型内に、硬化性樹脂を注入し、硬化性樹脂を硬化させ
た後、成形型を取り外すことを特徴とする成形体の製造
方法。 - 【請求項９】 硬化性樹脂の効果を活性エネルギー線に
より行うことを特徴とする請求項８に記載の成形体の製
造方法。 - 【請求項１０】 請求項９の方法により得られた成形
体。 - 【請求項１１】 厚さが０．１〜１０ｍｍの板状である
請求項１０に記載の成形体。 - 【請求項１２】 情報材料用部材である請求項１０また
は１１に記載の成形体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002068697A JP2003266441A (ja) | 2002-03-13 | 2002-03-13 | 成形型 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002068697A JP2003266441A (ja) | 2002-03-13 | 2002-03-13 | 成形型 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003266441A true JP2003266441A (ja) | 2003-09-24 |
Family
ID=29199731
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002068697A Pending JP2003266441A (ja) | 2002-03-13 | 2002-03-13 | 成形型 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003266441A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006264225A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Toyota Boshoku Corp | ウレタン用成形型およびウレタン用成形型の表面処理方法 |
| JP2010257526A (ja) * | 2009-04-24 | 2010-11-11 | Konica Minolta Opto Inc | 磁気記録媒体の製造方法、磁気記録媒体及び磁気記録装置 |
-
2002
- 2002-03-13 JP JP2002068697A patent/JP2003266441A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006264225A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Toyota Boshoku Corp | ウレタン用成形型およびウレタン用成形型の表面処理方法 |
| JP2010257526A (ja) * | 2009-04-24 | 2010-11-11 | Konica Minolta Opto Inc | 磁気記録媒体の製造方法、磁気記録媒体及び磁気記録装置 |
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