JP2003262956A - 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 感度、解像性、密着性、現像性、めっき浴汚
染性、生産性及び作業性が優れ、プリント配線の高密度
化に有用なプリント配線板の製造法を提供する。 【解決手段】 （A）バインダーポリマー、（B）分子内
に少なくとも１つの重合可能なエチレン性不飽和基を有
する光重合性化合物並びに（C）光重合開始剤を含有し
てなる感光性樹脂組成物において、前記（C）成分が一
般式（１）、一般式（２）、一般式（３）又は一般式
（４）で表される化合物の群から選ばれる少なくとも１
種を必須成分とする感光性樹脂組成物。 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感光性樹脂組成
物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターン
の製造法及びプリント配線板の製造法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来プリント配線板の製造分野におい
て、エッチング、めっき等に用いられるレジスト材料と
しては、感光性樹脂組成物及びそれに支持体と保護フィ
ルムを用いて得られる感光性エレメントが広く用いられ
ている。プリント配線板は、感光性エレメントを銅基板
上にラミネートして、パターン露光した後、硬化部分を
現像液で除去し、エッチング又はめっき処理を施して、
パターンを形成させた後、硬化部分を基板上から剥離除
去する方法によって製造されている。感光性エレメント
は、近年のプリント配線板の高密度化に伴い、従来の感
光性エレメントに比べて高解像性・高密着性に関する要
求がますます高くなっている。また、一方では、作業性
の向上という点から、高感度、低めっき浴汚染性の感光
性樹脂組成物が望まれており、これらの特性は、使用さ
れる光開始剤の種類及び量に依存するものである。高感
度の光開始剤は、ドイツ特許第２，０２７，４６７号明
細書、ヨーロッパ特許公開第１１，７８６号明細書、ヨ
ーロッパ特許公開第２２０号明細書、ヨーロッパ特許公
開第５８９号明細書、特開平６−６９６３１号公報等に
記載されているが、これらはめっき浴汚染性を有すると
いう欠点がある。

【０００３】この他に、めっき浴汚染性の少ない、光開
始剤である２，４，５−トリフェニルイミダゾール二量
体と、水素供与性化合物を組み合わせ高感度にした感光
性樹脂組成物が、米国特許第３，４７９，１８５号明細
書に記載されているが、要求される感度に調整した場
合、２，４，５−トリフェニルイミダゾール二量体の使
用量を増量すると、レジストの線幅が太るという欠点が
あり、水素供与性化合物の使用量を増量すると、銅との
密着性及び保存安定性が劣るという欠点がある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】請求項1、2、3、4及び
5記載の発明は、感度、解像性、密着性、現像性及びめ
っき浴汚染性が優れる感光性樹脂組成物を提供するもの
である。請求項6記載の発明は、感度、解像性、密着
性、現像性、めっき浴汚染性、生産性及び作業性が優れ
る感光性エレメントを提供するものである。請求項7記
載の発明は、感度、解像性、密着性、現像性、めっき浴
汚染性、生産性及び作業性が優れ、プリント配線の高密
度化に有用なレジストパターンの製造法を提供するもの
である。請求項8記載の発明は、感度、解像性、密着
性、現像性、めっき浴汚染性、生産性及び作業性が優
れ、プリント配線の高密度化に有用なプリント配線板の
製造法を提供するものである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、次の1）〜8）
に関する。 1） （A） バインダーポリマー、（B）分子内に少な
くとも１つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光
重合性化合物並びに（C）光重合開始剤を含有してなる
感光性樹脂組成物において、前記（C）成分が一般式
（１）、一般式（２）、一般式（３）又は一般式（４）
で表される化合物の群から選ばれる少なくとも１種を必
須成分とする感光性樹脂組成物に関する。

【０００６】

【化１２】 〔式（１）において、Ｒ¹ はフェニル基（但し、炭素数
１〜６のアルキル基、フェニル基、ハロゲン原子、−Ｏ
Ｒ⁸ 、−ＳＲ⁹ もしくは−Ｎ（Ｒ¹⁰)(Ｒ¹¹）の１個以上
で置換されてもよい。）、炭素数１〜２０のアルキル基
（但し、アルキル基の炭素数が２〜２０の場合、主鎖炭
素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および／ま
たは１個以上の水酸基で置換されてもよい。）、炭素数
５〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルカノ
イル基、ベンゾイル基（但し、炭素数１〜６のアルキル
基、フェニル基、−ＯＲ⁸ 、−ＳＲ⁹ もしくは−Ｎ（Ｒ
¹⁰)(Ｒ¹¹）の１個以上で置換されてもよい。）、炭素数
２〜１２のアルコキシカルボニル基（但し、アルコキシ
ル基の炭素数が２〜１１の場合、該アルコキシル基は主
鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および
／または１個以上の水酸基で置換されてもよい。）、フ
ェノキシカルボニル基（但し、炭素数１〜６のアルキル
基、フェニル基、ハロゲン原子、−ＯＲ⁸ もしくは−Ｎ
（Ｒ¹⁰)(Ｒ¹¹）の１個以上で置換されてもよい。）、シ
アノ基、ニトロ基、−ＣＯＮ（Ｒ¹⁰)(Ｒ ¹¹）、炭素数１
〜４のハロアルキル基、−Ｓ（Ｏ)m−Ｒ¹²（但し、Ｒ¹²
は炭素数１〜６のアルキル基を示し、ｍは１または２で
ある。）、−Ｓ（Ｏ)m−Ｒ¹³（但し、Ｒ¹³は炭素数６〜
１２のアリール基を示し、炭素数１〜１２のアルキル基
で置換されてもよく、ｍは１または２である。）、炭素
数１〜６のアルコキシスルホニル基、炭素数６〜１０の
アリーロキシスルホニル基、またはジフェニルホスフィ
ノイル基を示し；Ｒ² は炭素数２〜１２のアルカノイル
基（但し、ハロゲン原子もしくはシアノ基の１個以上で
置換されてもよい。）、その二重結合がカルボニル基と
共役していない炭素数４〜６のアルケノイル基、ベンゾ
イル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原
子、シアノ基、−ＯＲ⁸ 、−ＳＲ⁹ もしくは−Ｎ
（Ｒ¹⁰)(Ｒ¹¹）の１個以上で置換されていてもよ
い。）、炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基、また
はフェノキシカルボニル基（但し、炭素数１〜６のアル
キル基もしくはハロゲン原子の１個以上で置換されても
よい。）を示し；Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ およびＲ⁷ は
相互に独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２
のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、
またはフェニル基（但し、−ＯＲ⁸ 、−ＳＲ⁹ もしくは
−Ｎ（Ｒ¹⁰)(Ｒ¹¹）の１個以上で置換されていてもよ
い。）、ベンジル基、ベンゾイル基、炭素数２〜１２の
アルカノイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニ
ル基（但し、アルコキシル基の炭素数が２〜１１の場
合、該アルコキシル基は主鎖炭素原子間に１個以上の酸
素原子を有するか、および／または１個以上の水酸基で
置換されてもよい。）、フェノキシカルボニル基、−Ｏ
Ｒ⁸(但し、Ｒ⁸ はフェニル環中もしくはフェニル環への
置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６
−員環を形成してもよい。）、−ＳＲ⁹(但し、Ｒ⁹ はフ
ェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原
子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成して
もよい。）、−Ｓ（Ｏ）Ｒ⁹(但し、Ｒ⁹ はフェニル環中
のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと
共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよ
い。）、−ＳＯ₂ Ｒ⁹(但し、Ｒ⁹ はフェニル環中のもし
くはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、
５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）、また
は−Ｎ（Ｒ¹⁰)(Ｒ¹¹）（但し、Ｒ¹⁰および／またはＲ¹¹
はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭
素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成
してもよい。）を示し、かつＲ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ お
よびＲ⁷ の少なくとも一つは−ＯＲ⁸ 、−ＳＲ⁹ または
−Ｎ（Ｒ¹⁰)(Ｒ¹¹）であり；Ｒ⁸ は水素原子、炭素数１
〜１２のアルキル基、置換された炭素数２〜６のアルキ
ル基｛但し、置換基は、水酸基、メルカプト基、シアノ
基、炭素数１〜４のアルコキシル基、炭素数３〜６のア
ルケニルオキシ基、２−シアノエトキシ基、炭素数４〜
７の２−（アルコキシカルボニル）エトキシ基、炭素数
２〜５のアルキルカルボニルオキシ基、フェニルカルボ
ニルオキシ基、カルボキシル基もしくは炭素数２〜５の
アルコキシカルボニル基の１個以上からなる。｝、主鎖
炭素原子間に１個以上の酸素原子を有する炭素数２〜６
のアルキル基、炭素数２〜８のアルカノイル基、−（Ｃ
Ｈ₂ ＣＨ₂ Ｏ)nＨ（但し、ｎは１〜２０の整数であ
る。）、炭素数３〜１２のアルケニル基、炭素数３〜６
のアルケノイル基、シクロヘキシル基、フェニル基（但
し、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基もしく
は炭素数１〜４のアルコキシル基で置換されてもよ
い。）、炭素数７〜９のフェニルアルキル基、−Ｓｉ
（Ｒ¹⁴)r（Ｒ¹⁵)₃-r（但し、Ｒ¹⁴は炭素数１〜８のアル
キル基を示し、Ｒ¹⁵はフェニル基を示し、ｒは１〜３の
整数である。）、下記式で表される基

【０００７】

【化１３】

【０００８】、または下記式で表される基

【化１４】

【０００９】を示し；Ｒ⁹ は水素原子、炭素数１〜１２
のアルキル基、炭素数３〜１２のアルケニル基、シクロ
ヘキシル基、置換された炭素数２〜６のアルキル基｛但
し、置換基は、水酸基、メルカプト基、シアノ基、炭素
数１〜４のアルコキシル基、炭素数３〜６のアルケニル
オキシ基、２−シアノエトキシ基、炭素数４〜７の２−
（アルコキシカルボニル）エトキシ基、炭素数２〜５の
アルキルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキ
シ基、カルボキシル基もしくは炭素数２〜５のアルコキ
シカルボニル基の１個以上からなる。｝、主鎖炭素原子
間に１個以上の酸素原子もしくは硫黄原子を有する炭素
数２〜１２のアルキル基、フェニル基（但し、ハロゲン
原子、炭素数１〜１２のアルキル基もしくは炭素数１〜
４のアルコキシル基で置換されてもよい。）、炭素数７
〜９のフェニルアルキル基、下記式で表される基

【００１０】

【化１５】

【００１１】、または下記式で表される基

【化１６】

【００１２】を示し；Ｒ¹⁰およびＲ¹¹は相互に独立に水
素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜４の
ヒドロキシアルキル基、炭素数２〜１０のアルコキシア
ルキル基、炭素数３〜５のアルケニル基、炭素数５〜１
２のシクロアルキル基、炭素数７〜９のフェニルアルキ
ル基、フェニル基（但し、炭素数１〜１２のアルキル基
もしくは炭素数１〜４のアルコキシル基の１個以上で置
換されてもよい。）、炭素数２〜３のアルカノイル基、
炭素数３〜６のアルケノイル基、ベンゾイル基を示す
か、あるいはＲ¹⁰とＲ¹¹が一緒になって炭素数２〜６の
アルキレン基（但し、主鎖炭素原子間に１個以上の酸素
原子もしくは−ＮＲ⁸ −を有するか、および／または水
酸基、炭素数１〜４のアルコキシル基、炭素数２〜４の
アルカノイルオキシ基もしくはベンゾイルオキシ基の１
個以上で置換されてもよい。）を示すか、あるいはＲ¹⁰
が水素原子のとき、Ｒ¹¹は下記式で表される基

【００１３】

【化１７】

【００１４】、または下記式で表される基

【化１８】

【００１５】を示し；Ｒ¹⁶は炭素数２〜１２のアルコキ
シカルボニル基（但し、アルコキシル基の炭素数が２〜
１１の場合、該アルコキシル基は主鎖炭素原子間に１個
以上の酸素原子を有するか、および／または１個以上の
水酸基で置換されてもよい。）、フェノキシカルボニル
基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子、
フェニル基、−ＯＲ⁸ もしくは−Ｎ（Ｒ¹⁰）(Ｒ¹¹)の１
個以上で置換されていてもよい。）、炭素数５〜８のシ
クロアルキル基、−ＣＯＮ（Ｒ¹⁰）(Ｒ¹¹)、シアノ基、
置換されたフェニル基（但し、置換基は−ＳＲ⁹ であ
る。）、または炭素数１〜１２のアルキル基（但し、ハ
ロゲン原子、水酸基、−ＯＲ² 、フェニル基、ハロゲン
化フェニル基もしくは−ＳＲ⁹ の１個以上で置換される
か、および／または主鎖炭素原子間に酸素原子もしくは
−ＮＨ（ＣＯ）−の１個以上を有してもよい。）を示
し；Ｍ¹ は直接結合または−Ｒ¹⁷−Ｏ−を示し；Ｍ² は
直接結合または−Ｒ¹⁷−Ｓ−を示し；Ｍ³ は直接結合、
ピペラジノ基または−Ｒ¹⁷−ＮＨ−を示し；Ｒ¹⁷は炭素
数１〜１２のアルキレン基を示し、その炭素数が２〜１
２の場合、主鎖炭素原子間に酸素原子、硫黄原子もしく
は−ＮＲ¹⁰−の１〜５個を有してもよい。））

【００１６】

【化１９】

【００１７】〔式（２）において、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、
Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ およびＲ⁷ は式（１）のそれぞれＲ² 、Ｒ
³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ およびＲ⁷ と同義であり；Ｍは炭
素数１〜１２のアルキレン基、シクロヘキシレン基、フ
ェニレン基、−ＣＯＯ−Ｒ¹⁸−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−
（ＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｏ)n−ＣＯ−（但し、ｎは１〜２０の整
数である。）、または−ＣＯ−Ｒ¹⁸−ＣＯ−を示し；Ｒ
¹⁸は炭素数２〜１２のアルキレン基を示す。〕

【００１８】

【化２０】

【００１９】〔式（３）において、Ｒ² は式（１）のＲ
² と同義であり；Ｒ¹⁹は炭素数２〜１２のアルコキシカ
ルボニル基（但し、アルコキシル基の炭素数が２〜１１
の場合、該アルコキシル基は主鎖炭素原子間に１個以上
の酸素原子を有するか、および／または１個以上の水酸
基で置換されてもよい。）、フェノキシカルボニル基
（但し、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子、フ
ェニル基、−ＯＲ⁸ もしくは−Ｎ（Ｒ¹⁰)(Ｒ¹¹）の１個
以上で置換されていてもよい。）、炭素数５〜８のシク
ロアルキル基、−ＣＯＮ（Ｒ¹⁰)(Ｒ¹¹）、シアノ基、ま
たは置換されたフェニル基（但し、置換基は−ＳＲ⁹ で
ある。）を示すか、あるいはＲ²⁰、Ｒ²¹およびＲ²²を有
するフェニル環中の炭素原子と結合して、基Ｒ⁹ を介し
５−員環もしくは６−員環を形成してもよく、あるいは
Ｒ²⁰、Ｒ²¹およびＲ²²の少なくとも１個が−ＳＲ⁹ のと
き、炭素数１〜１２のアルキル基｛但し、炭素数が２〜
１２の場合、主鎖炭素原子間に酸素原子もしくは−ＮＨ
（ＣＯ）−の１個以上を有するか、および／またはハロ
ゲン原子、水酸基、−ＯＲ² 、フェニル基、ハロゲン化
フェニル基もしくは置換フェニル基（但し、置換基は−
ＳＲ⁹ である。）の１個以上で置換されてもよい。｝を
示し；Ｒ²⁰、Ｒ²¹およびＲ²²は相互に独立に水素原子、
ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基（但し、−Ｏ
Ｒ⁸ 、−ＳＲ⁹ もしくは−Ｎ（Ｒ¹⁰）(Ｒ^{1 1})の１個以上
で置換されてもよい。）、ベンジル基、ベンゾイル基、
炭素数２〜１２のアルカノイル基、炭素数２〜１２のア
ルコキシカルボニル基（但し、アルコキシル基の炭素数
が２〜１１の場合、該アルコキシル基は主鎖炭素原子間
に１個以上の酸素原子を有するか、および／または水酸
基の１個以上で置換されてもよい。）、フェノキシカル
ボニル基、−ＯＲ⁸(但し、Ｒ⁸ はフェニル環中のもしく
はフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５
−員環もしくは６−員環を形成してもよい。)、−ＳＲ⁹
(但し、Ｒ⁹ はフェニル環中のもしくはフェニル環への
置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６
−員環を形成してもよい。)、−Ｓ（Ｏ）Ｒ⁹ 、−ＳＯ₂
Ｒ⁹ 、または−Ｎ（Ｒ¹⁰）(Ｒ¹¹)（但し、Ｒ¹⁰および
／またはＲ¹¹はフェニル環中のもしくはフェニル環への
置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６
−員環を形成してもよい。）を示し、かつＲ²⁰、Ｒ²¹お
よびＲ²²の少なくとも一つは−ＯＲ⁸ 、−ＳＲ⁹ または
−Ｎ（Ｒ¹⁰）(Ｒ¹¹)であり、；Ｒ⁸ ，Ｒ⁹ 、Ｒ¹⁰および
Ｒ¹¹は式（１）のそれぞれＲ⁸ ，Ｒ⁹ 、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹
と同義である。）

【００２０】

【化２１】

【００２１】〔式（４）において、Ｒ² およびＭは式
（１）のそれぞれＲ² およびＭと同義であり；Ｒ²⁰、Ｒ
²¹およびＲ²²は式（３）のそれぞれＲ²⁰、Ｒ²¹およびＲ
²²と同義である。〕 2） また本発明は、前記（C）光重合開始剤が下記式
（５）

【００２２】

【化２２】 で表される感光性樹脂組成物に関する。 3） また本発明は、前記（B）成分がビスフェノールＡ
系（メタ）アクリレート化合物を必須成分とする感光性
樹脂組成物に関する。 4） また本発明は、前記（A）成分の酸価が３０〜２０
０mgKOH/gであり、重量平均分子量２０，０００〜３０
０，０００である感光性樹脂組成物に関する。 5） また本発明は、（A）成分、（B）成分及び（C）成
分の配合割合が、（A）成分及び（B）成分の総量１００
重量部に対し、（A）成分が２０〜９０重量部、（B）成
分が１０〜８０重量部及び（C）成分が０．０１〜２０
重量部である前記感光性樹脂組成物に関する。 6） また本発明は、前記感光性樹脂組成物の層を支持
体上に積層してなる感光性エレメントに関する。 7） また本発明は、前記感光性エレメントを、回路形
成用基板上に感光性樹脂組成物層が密着するようにして
積層し、活性光線を画像状に照射し、露光部を光硬化さ
せ、未露光部を現像により除去することを特徴とするレ
ジストパターンの製造法に関する。 8） また本発明は、前記レジストパターンの製造法に
より、レジストパターンの製造された回路形成用基板を
エッチング又はめっきすることを特徴とするプリント配
線板の製造法に関する。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。なお、本発明における（メタ）アクリル酸とはア
クリル酸及びそれに対応するメタクリル酸を意味し、
（メタ）アクリレートとはアクリレート及びそれに対応
するメタクリレートを意味し、（メタ）アクリロイル基
とはアクリロイル基及びそれに対応するメタクリロイル
基を意味する。本発明の感光性樹脂組成物は、（A）成
分のバインダーポリマー、（B）成分の分子内に少なく
とも１つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重
合性化合物及び（C）成分の光重合開始剤を必須成分と
して含むものである。前記（A）バインダーポリマーと
しては、例えば、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、エ
ポキシ系樹脂、アミド系樹脂、アミドエポキシ系樹脂、
アルキド系樹脂、フェノール系樹脂等が挙げられる。ア
ルカリ現像性の見地からは、アクリル系樹脂が好まし
い。これらは単独で又は２種以上を組み合わせて用いる
ことができる。前記（A）バインダーポリマーは、例え
ば、重合性単量体をラジカル重合させることにより製造
することができる。上記重合性単量体としては、例え
ば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、
ｐ−メチルスチレン、ｐ−エチルスチレン、ｐ−メトキ
シスチレン、ｐ−エトキシスチレン、ｐ−クロロスチレ
ン、ｐ−ブロモスチレン等の重合可能なスチレン誘導
体、ジアセトンアクリルアミド等のアクリルアミド、ア
クリロニトリル、ビニル−ｎ−ブチルエーテル等のビニ
ルアルコールのエステル類、（メタ）アクリル酸アルキ
ルエステル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリ
ルエステル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチル
エステル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチルエ
ステル、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、２，
２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、
２，２，３，３−テトラフルオロプロピル（メタ）アク
リレート、（メタ）アクリル酸、α−ブロモ（メタ）ア
クリル酸、α−クロル（メタ）アクリル酸、β−フリル
（メタ）アクリル酸、β−スチリル（メタ）アクリル
酸、マレイン酸、マレイン酸無水物、マレイン酸モノメ
チル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノイソプロ
ピル等のマレイン酸モノエステル、フマル酸、ケイ皮
酸、α−シアノケイ皮酸、イタコン酸、クロトン酸、プ
ロピオル酸などが挙げられる。これらは単独で又は２種
以上を組み合わせて用いることができる。上記（メタ）
アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、（メ
タ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、
（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチ
ル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸
ヘキシル、（メタ）アクリル酸ヘプチル、（メタ）アク
リル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシ
ル及びこれらの構造異性体等が挙げられる。これらは単
独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
前記（A）バインダーポリマーは、アルカリ現像性の見
地から、カルボキシル基を含有させることが好ましく、
例えば、カルボキシル基を有する重合性単量体とその他
の重合性単量体をラジカル重合させることにより製造す
ることができる。上記カルボキシル基を有する重合性単
量体としては、メタクリル酸が好ましい。また、前記
（A）バインダーポリマーは、可撓性の見地からスチレ
ン又はスチレン誘導体を重合性単量体として含有させる
ことが好ましい。上記スチレン又はスチレン誘導体を共
重合成分として、密着性及び剥離特性を共に良好にする
には、０．１〜３０重量％含むことが好ましく、１〜２
８重量％含むことがより好ましく、１．５〜２７重量％
含むことが特に好ましい。この含有量が０．１重量％未
満では、密着性が劣る傾向があり、３０重量％を超える
と、剥離片が大きくなり、剥離時間が長くなる傾向があ
る。

【００２４】前記（A）成分の酸価は、３０〜２００mgK
OH/gであることが好ましく、４５〜１５０mgKOH/gであ
ることがより好ましい。この酸価が３０mgKOH/g未満で
は現像時間が長くなる傾向があり、２００mgKOH/gを超
えると光硬化したレジストの耐現像液性が低下する傾向
がある。また、現像工程として溶剤現像を行う場合は、
カルボキシル基を有する重合性単量体を少量に調製する
ことが好ましい。

【００２５】前記（A）成分の重量平均分子量（ゲルパ
ーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定
し、標準ポリスチレンを用いた検量線により換算）は、
２０，０００〜３００，０００であることが好ましく、
２５，０００〜１５０，０００であることがより好まし
い。この重量平均分子量が、２０，０００未満では耐現
像液性が低下する傾向があり、３００，０００を超える
と現像時間が長くなる傾向がある。また、任意に、上記
のバインダーポリマーは感光性基を有することができ
る。

【００２６】これらのバインダーポリマーは、単独で又
は２種類以上を組み合わせて用いることができる。２種
類以上を組み合わせて用いる場合のバインダーポリマー
としては、例えば、異なる共重合成分からなる２種類以
上のバインダーポリマー、異なる重量平均分子量の２種
類以上のバインダーポリマー、異なる分散度の２種類以
上のバインダーポリマーなどが挙げられる。また、特開
平１１−３２７１３７号公報記載のマルチモード分子量
分布を有するポリマーを用いることもできる。前記
（B）分子内に少なくとも１つの重合可能なエチレン性
不飽和基を有する光重合性化合物としては、例えば、多
価アルコールにα，β−不飽和カルボン酸を反応させて
得られる化合物、２，２−ビス（４−（(メタ)アクリキ
シポリエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス
（４−（(メタ)アクリロキシポリプロポキシ）フェニ
ル）プロパン、２，２−ビス（４−（(メタ)アクリロキ
シポリブトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス
（４−（(メタ)アクリロキシポリエトキシポリプロポキ
シ）フェニル）プロパン等のビスフェノールＡ系（メ
タ）アクリレート化合物、グリシジル基含有化合物に
α、β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合
物、ウレタン結合を有する（メタ）アクリレート化合物
等のウレタンモノマー、ノニルフェノキシポリエチレン
オキシ（メタ）アクリレート、γ−クロロ−β−ヒドロ
キシプロピル−β′−（メタ）アクリロイルオキシエチ
ル−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシアルキル−β′−
（メタ）アクリロイルオキシアルキル−ｏ−フタレート
等のフタル酸系化合物、（メタ）アクリル酸アルキルエ
ステル等が挙げられるが、ビスフェノールＡ系（メタ）
アクリレート化合物又はウレタン結合を有する（メタ）
アクリレート化合物を必須成分とすることが好ましい。
これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて用いるこ
とができる。

【００２７】上記多価アルコールにα，β−不飽和カル
ボン酸を反応させて得られる化合物としては、例えば、
エチレン基の数が２〜１４であるポリエチレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、プロピレン基の数が２〜１
４であるポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、エチレン基の数が２〜１４であり、プロピレン基
の数が２〜１４であるポリエチレン・ポリプロピレング
リコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロ
パンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン
トリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプ
ロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロ
ールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ，ＰＯ変
性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、
テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テ
トラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が
挙げられる。これらは単独で又は２種類以上を組み合わ
せて用いることができる。

【００２８】上記２，２−ビス（４−（(メタ)アクリロ
キシポリエトキシ）フェニル）プロパンとしては、例え
ば、２，２−ビス（４−（(メタ)アクリロキシジエトキ
シ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（(メタ)
アクリロキシトリエトキシ）フェニル）プロパン、２，
２−ビス（４−（(メタ)アクリロキシテトラエトキシ）
フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（(メタ)アク
リロキシペンタエトキシ）フェニル）プロパン、２，２
−ビス（４−（(メタ)アクリロキシヘキサエトキシ）フ
ェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（(メタ)アクリ
ロキシヘプタエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−
ビス（４−（(メタ)アクリロキシオクタエトキシ）フェ
ニル）プロパン、２，２−ビス（４−（(メタ)アクリロ
キシノナエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス
（４−（(メタ)アクリロキシデカエトキシ）フェニル）
プロパン、２，２−ビス（４−（(メタ)アクリロキシウ
ンデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス
（４−（(メタ)アクリロキシドデカエトキシ）フェニ
ル）プロパン、２，２−ビス（４−（(メタ)アクリロキ
シトリデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビ
ス（４−（(メタ)アクリロキシテトラデカエトキシ）フ
ェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（(メタ)アクリ
ロキシペンタデカエトキシ）フェニル）プロパン、２，
２−ビス（４−（(メタ)アクリロキシヘキサデカエトキ
シ）フェニル）プロパン等が挙げられ、２，２−ビス
（４−（メタクリロキシペンタエトキシ）フェニル）プ
ロパンは、ＢＰＥ−５００（新中村化学工業（株）製、
製品名）として商業的に入手可能であり、２，２−ビス
（４−（メタクリロキシペンタデカエトキシ）フェニ
ル）プロパンは、ＢＰＥ−１３００（新中村化学工業
（株）製、製品名）として商業的に入手可能である。こ
れらは単独で又は２種類以上を組み合わせて用いること
ができる。

【００２９】上記２，２−ビス（４−（(メタ)アクリロ
キシポリエトキシポリプロポキシ）フェニル）プロパン
としては、例えば、２，２−ビス（４−（(メタ)アクリ
ロキシジエトキシオクタプロポキシ）フェニル）プロパ
ン、２，２−ビス（４−（(メタ)アクリロキシテトラエ
トキシテトラプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２
−ビス（４−（(メタ)アクリロキシヘキサエトキシヘキ
サプロポキシ）フェニル）プロパン等が挙げられる。こ
れらは単独で又は２種類以上を組み合わせて用いること
ができる。

【００３０】上記ウレタンモノマーとしては、例えば、
β位にＯＨ基を有する（メタ）アクリルモノマーとイソ
ホロンジイソシアネート、２，６−トルエンジイソシア
ネート、２，４−トルエンジイソシアネート、１，６−
ヘキサメチレンジイソシアネート等のジイソシアネート
化合物との付加反応物、トリス（(メタ）アクリロキシ
テトラエチレングリコールイソシアネート）ヘキサメチ
レンイソシアヌレート、ＥＯ変性ウレタンジ（メタ）ア
クリレート、ＥＯ，ＰＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリ
レート等が挙げられる。ＥＯ変性ウレタンジ（メタ）ア
クリレートとしては、例えば、新中村化学工業（株）
製、製品名ＵＡ−１１等が挙げられる。また、ＥＯ，Ｐ
Ｏ変性ウレタンジ（メタ）アクリレートとしては、例え
ば、新中村化学工業（株）製、製品名ＵＡ−１３等が挙
げられる。

【００３１】なお、ＥＯはエチレンオキシドを示し、Ｅ
Ｏ変性された化合物はエチレンオキシド基のブロック構
造を有する。また、ＰＯはプロピレンオキシドを示し、
ＰＯ変性された化合物はプロピレンオキシド基のブロッ
ク構造を有する。

【００３２】上記ノニルフェノキシポリエチレンオキシ
（メタ）アクリレートとしては、例えば、ノニルフェノ
キシテトラエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニ
ルフェノキシペンタエチレンオキシ（メタ）アクリレー
ト、ノニルフェノキシヘキサエチレンオキシ（メタ）ア
クリレート、ノニルフェノキシヘプタエチレンオキシ
（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシオクタエチレ
ンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシノナ
エチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノキ
シデカエチレンオキシ（メタ）アクリレート、ノニルフ
ェノキシウンデカエチレンオキシ（メタ）アクリレート
等が挙げられる。

【００３３】これらは単独で又は２種類以上を組み合わ
せて用いることができる。前記（C）光重合開始剤は、
前記式（１）で表される化合物（以下、「光重合開始剤
（１）」という。）、前記式（２）で表される化合物
（以下、「光重合開始剤（２）」という。）、前記式
（３）で表される化合物（以下、「光重合開始剤
（３）」という。）および前記式（４）で表される化合
物（以下、「光重合開始剤（４）」という。）の群から
選ばれる少なくとも１種を必須成分として含有し、可視
光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等の露光により
ラジカルを発生する作用を有するものである。本発明に
おいて、光重合開始剤（１）〜（４）の群の中では、光
重合開始剤（１）が好ましく、特に、下記式（５）で表
される化合物（以下、「光重合開始剤（５）」とい
う。）が好ましい。

【００３４】

【化２３】 また、本発明においては、光重合開始剤（１）〜（４）
の群から選ばれる少なくとも１種と共に、他の光重合開
始剤、増感剤等を１種以上併用することができる。前記
他の光重合開始剤、増感剤等としては、特に制限はな
く、従来知られているものを用いることができる。例え
ば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラメチル−４，
４′−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）等の
Ｎ，Ｎ′−テトラアルキル−４，４′−ジアミノベンゾ
フェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、２−メチ
ル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフ
ォリノ−プロパノン−１等の芳香族ケトン、アルキルア
ントラキノン等のキノン類、ベンゾインアルキルエーテ
ル等のベンゾインエーテル化合物、ベンゾイン、アルキ
ルベンゾイン等のベンゾイン化合物、ベンジルジメチル
ケタール等のベンジル誘導体、２−（ｏ−クロロフェニ
ル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−
（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（メトキシフェニ
ル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニ
ル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−
（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダ
ゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５
−ジフェニルイミダゾール二量体等の２，４，５−トリ
アリールイミダゾール二量体、９−フェニルアクリジ
ン、１，７−ビス（９，９′−アクリジニル）ヘプタン
等のアクリジン誘導体、Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−フ
ェニルグリシン誘導体、クマリン系化合物などが挙げら
れる。また、２つの２，４，５−トリアリールイミダゾ
ールのアリール基の置換基は同一で対称な化合物を与え
てもよいし、相違して非対称な化合物を与えてもよい。
また、密着性及び感度の見地からは、２，４，５−トリ
アリールイミダゾール二量体がより好ましい。これら
は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることが
できる。他の光重合開始剤、増感剤等の使用割合は、光
重合開始剤（１）〜（４）の群から選ばれる化合物と他
の光重合開始剤、増感剤等との合計量に対して、通常、
９５重量％以下、好ましくは９０重量％以下、さらに好
ましくは８５重量％以下である。この場合、他の光重合
開始剤、増感剤等の使用割合が９５重量％を超えると、
本発明の所期の効果が損なわれるおそれがある。前記
（A）成分の配合量は、（A）成分及び（B）成分の総量
１００重量部に対して、２０〜９０重量部とすることが
好ましく、３０〜８５重量部とすることがより好まし
く、４０〜８０重量部とすることが特に好ましい。この
配合量が２０重量部未満では、光硬化物が脆くなりやす
く、感光性エレメントとして用いた場合塗膜性に劣る傾
向があり、９０重量部を超えると、感度が不十分となる
傾向がある。

【００３５】前記（B）成分の配合量は、（A）成分及び
（B）成分の総量１００重量部に対して、１０〜８０重
量部とすることが好ましく、１５〜７０重量部とするこ
とがより好ましく、２０〜６０重量部とすることが特に
好ましい。この配合量が１０重量部未満では、感度が不
十分となる傾向があり、８０重量部を超えると、光硬化
物が脆くなる傾向がある。

【００３６】前記（C）成分の配合量は、（A）成分及び
（B）成分の総量１００重量部に対して、０．０１〜２
０重量部とすることが好ましく、０．０２〜１５重量部
とすることがより好ましく、０．０３〜１０重量部とす
ることが特に好ましい。この配合量が、０．０１重量部
未満では、十分な光感度が得られない傾向があり、２０
重量部を越えると、露光の際に組成物の表面での光吸収
が増加して、内部の光硬化が不十分となる傾向がある。

【００３７】前記感光性樹脂組成物には、必要に応じ
て、分子内に少なくとも１つのカチオン重合可能な環状
エーテル基を有する光重合性化合物（オキセタン化合物
等）、カチオン重合開始剤、マラカイトグリーン等の染
料、トリブロモメチルフェニルスルホン、ロイコクリス
タルバイオレット等の光発色剤、熱発色防止剤、ｐ−ト
ルエンスルホンアミド等の可塑剤、顔料、充填材、消泡
剤、難燃剤、安定剤、密着性付与剤、レベリング剤、剥
離促進剤、酸化防止剤、香料、イメージング剤、熱架橋
剤等を（A）成分及び（B）成分の総量１００重量部に対
して各々０．０１〜２０重量部程度含有することができ
る。これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせて用
いることができる。前記感光性樹脂組成物は、必要に応
じて、メタノール、エタノール、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、トル
エン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、プロピレングリ
コールモノメチルエーテル等の溶剤又はこれらの混合溶
剤に溶解して、固形分３０〜６０重量％程度の溶液とし
て塗布することができる。前記感光性樹脂組成物は、特
に制限はないが、銅、銅系合金、鉄、鉄系合金等の金属
面上に、液状レジストとして塗布して乾燥後、必要に応
じて保護フィルムを被覆して用いるか、感光性エレメン
トの形態で用いられることが好ましい。また、感光性樹
脂組成物層の厚みは、用途により異なるが、乾燥後の厚
みで１から１００μｍ程度であることが好ましい。液状
レジストに保護フィルムを被覆して用いる場合は、保護
フィルムとして、ポリエチレン、ポリプロピレン等の重
合体フィルムなどが挙げられる。前記感光性エレメント
は、例えば、支持体として、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエステル等の
重合体フィルム上に、感光性樹脂組成物を塗布し、乾燥
して、得ることができる。塗布の方法は、例えば、ロー
ルコータ、コンマコータ、グラビアコータ、エアーナイ
フコータ、ダイコータ、バーコータ等の公知の方法で行
うことができる。また、乾燥は、約７０〜１５０℃で約
５〜３０分間行うことができる。また、乾燥後における
感光性樹脂組成物層中の残存有機溶剤量は、後の工程で
の有機溶剤の拡散を防止する点を考慮すると、２重量％
以下が好ましい。前記重合体フィルムの厚さは、１〜１
００μｍとすることが好ましい。

【００３８】前記感光性エレメントの保護フィルムとし
て、支持体と同様のフィルムを用いることができる。保
護フィルムには、感光性樹脂組成物層及び支持体の接着
力よりも、感光性樹脂組成物層及び保護フィルムの接着
力の方が小さいものが好ましく、また、低フィッシュア
イのフィルムが好ましい。これらの重合体フィルムの一
種を感光性樹脂組成物層の支持体として用い、異なる一
種を感光性樹脂組成物層の保護フィルムとして用い、感
光性樹脂組成物層の両面に重合体フィルムを積層し、感
光性エレメントを形成することができる。また、前記感
光性エレメントは、感光性樹脂組成物層、支持体及び保
護フィルムに加えて、クッション層、接着層、光吸収
層、ガスバリア層等の中間層や保護層を有することがで
きる。前記感光性エレメントは、例えば、そのままの平
板状の形態で、又は感光性樹脂組成物層の一方の面に
（保護されず露出している面に）、保護フィルムを積層
して、円筒状などの巻芯に巻きとり、ロール状の形態で
貯蔵することができる。なお、貯蔵時に、支持体が最も
外側になるように巻き取られることが好ましい。上記ロ
ール状の感光性エレメントロールの端面には、端面保護
の見地から端面セパレータを設置することが好ましく、
加えて耐エッジフュージョンの見地から防湿端面セパレ
ータを設置することが好ましい。また、梱包方法として
は、透湿性の小さいブラックシートに包んで包装するこ
とが好ましい。上記巻芯は、特に限定されない。例え
ば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチ
レン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ＡＢＳ樹脂（アクリロ
ニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体）等のプラス
チックなどが挙げられる。上記感光性エレメントを用い
てレジストパターンを製造する場合、支持体及び保護フ
ィルム付きの感光性エレメントでは、保護フィルムを除
去して用いる。例えば、感光性樹脂組成物層を７０〜１
３０℃程度に加熱しながら回路形成用基板に０．１〜１
MPa程度（１〜１０kgf/cm²程度）の圧力で圧着して、積
層する方法などが挙げられ、減圧下で積層することもで
きる。積層される面は、通常、金属面であるが、特に制
限はされない。

【００３９】このようにして積層が完了した感光性樹脂
組成物層に、ネガ型又はポジ型のマスクパターンを介し
て、活性光線を照射して、露光する。上記活性光線の光
源には、公知の光源、例えば、カーボンアーク灯、水銀
蒸気アーク灯、高圧水銀灯、キセノンランプ等の紫外線
及び可視光等を有効に放射するものを用いることができ
る。また、レーザー直接描画露光法も用いることができ
る。

【００４０】次いで、露光後、感光性樹脂組成物層上に
支持体が存在している場合、支持体をオートピーラー等
で除去した後、アルカリ性水溶液、水系現像液、有機溶
剤等の現像液によるウエット現像、又はドライ現像等で
現像し、所望のレジストパターンを製造することができ
る。アルカリ性水溶液としては、例えば、０．１〜５重
量％炭酸ナトリウムの希薄溶液、０．１〜５重量％炭酸
カリウムの希薄溶液、０．１〜５重量％水酸化ナトリウ
ムの希薄溶液等が挙げられる。アルカリ性水溶液のｐＨ
は、９〜１１が好ましく、その温度は、感光性樹脂組成
物層の現像性に合わせて調整される。また、アルカリ性
水溶液に、界面活性剤、消泡剤、有機溶剤等を添加して
用いることができる。現像の方式としては、例えば、デ
ィップ方式、スプレー方式、ブラッシング、スラッピン
グ等が挙げられる。

【００４１】現像後の処理として、任意に、後硬化する
ことができる。例えば、６０〜２５０℃程度で加熱し、
又は、更に０．２〜１０J/cm²程度の露光を行うことに
より、所望のレジストパターンを、更に硬化（後硬化）
させて用いてもよい。本発明の感光性エレメントを用い
てプリント配線板を製造する場合、現像されたレジスト
パターンをマスクとして、回路形成用基板の表面を、エ
ッチング、めっき等の公知方法で処理する。上記エッチ
ングには、例えば、塩化第二銅溶液、塩化第二鉄溶液、
アルカリエッチング溶液等を用いることができる。ま
た、上記めっき法としては、例えば、銅めっき、はんだ
めっき、ニッケルめっき、金めっきなどがある。次い
で、レジストパターンは、例えば、現像に用いたアルカ
リ性水溶液より更に強アルカリ性の水溶液で剥離するこ
とができる。上記強アルカリ性の水溶液としては、例え
ば、１〜１０重量％水酸化ナトリウム水溶液、１〜１０
重量％水酸化カリウム水溶液等が用いられる。上記剥離
方式としては、例えば、浸漬方式、スプレー方式等が挙
げられる。また、レジストパターンが形成されたプリン
ト配線板は、多層プリント配線板でもよく、小径スルー
ホールを有していてもよい。

【００４２】

【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。 バインダーポリマーの合成 撹拌機、還流冷却器、温度計、滴下ロート及び窒素ガス
導入管を備えたフラスコに、メチルセロソルブ対トルエ
ンが重量比３：２の混合溶液（以下、溶液Ａとする）７
００ｇを加え、窒素ガスを吹き込みながら、撹拌して、
８５℃まで加熱した。温度８５℃の溶液Ａに、メタクリ
ル酸１１０ｇ、メチルメタクリレート２２５ｇ、エチル
アクリレート１３５ｇ、スチレン３０ｇ及びアゾビスイ
ソブチロニトリル３ｇを予め混合した液を、４時間かけ
て滴下し、その後、８５℃で撹拌しながら２時間保温し
た。次いで、溶液Ａ６０ｇにアゾビスイソブチロニトリ
ル０．３ｇを溶解し、この溶液を、１０分かけてフラス
コ内に滴下した。その後、得られた溶液を、撹拌しなが
ら、８５℃で５時間保温した後、冷却して、重合体を得
た。得られた重合体は、不揮発分が４１．８重量％、重
量平均分子量が８４，０００であった。なお、重量平均
分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法
によって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換
算した値である。 感光性エレメントの製造 以下に表１及び表２で使用した材料を示す。 ＢＰＥ−５００：２，２−ビス（４−（メタクリロキシ
ペンタエトキシ）フェニル）プロパン ＵＡ−１３：ＥＯ，ＰＯ変性ウレタンジメタクリレート ＭＥＣＨＰＰ：γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−
β′−メタクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート ＯＰＳＯ：前記式（１）で表される１，２−オクタンジ
オン−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−２−
（Ｏ−ベンゾイル）オキシム Ｃｌ−ＨＡＢＩ：２，２'−ビス（ｏ−クロロフェニ
ル）−４，４'，５,５'−テトラフェニルイミダゾール
二量体 Ｃ−１：７−ジエチルアミノ−４−メチルクマリン ＣＴＸ：２−クロロチオキサントン ＥＡＢ：ジエチルアミノベンゾフェノン ＢＰ：ベンゾフェノン 実施例１〜３及び比較例１ （ａ）表１に示す（A）成分、（B）成分及びその他の成
分を配合し、溶液を得た。次いで、得られた溶液に表２
に示す（C）成分を溶解させて、感光性樹脂組成物の溶
液を得た。 （ｂ）寸法（幅３８０mm×厚さ２０μｍ）のポリエチレ
ンテレフタレートフィルム（以下、ＰＥＴとする）上
に、先の工程で得られた感光性樹脂組成物の溶液を、乾
燥後の膜厚が４０μｍとなるように塗工した。熱風対流
式乾燥機を用いて、１００℃で乾燥させ、その上に、厚
さ３５μｍのポリエチレンフィルムを載せ、ロールで加
圧して、被覆して、感光性エレメントを得た。表１及び
表２に、実施例１〜３及び比較例１の感光性樹脂組成物
の配合を示す。表中、単位は重量部である。バインダー
ポリマーは不揮発分の重量を示した。

【００４３】

【表１】

【００４４】

【表２】

【００４５】特性評価用試料の作製 銅箔（厚さ３５μｍ）を両面に積層したガラスエポキシ
材である銅張積層板（日立化成工業（株）製、ＭＣＬ−
Ｅ−６７）の銅表面を、スコッチブライトバフロール
（住友スリーエム（株）製、商品名）で研磨し、水洗
後、空気流で乾燥し、得られた銅張積層板を６０℃に加
温し、その銅面上に、前記感光性エレメントの感光層を
１００℃に加熱しながら積層し、特性評価用試料を得
た。得られた特性評価用試料について、感度、密着性及
び解像度を以下に示す方法で評価し、結果をまとめて表
３に示した。高圧水銀灯ランプを有する露光機（（株）
オーク製作所製、ＨＭＷ−５９０）を用い、ネガとして
ストーファー４１段ステップタブレットとライン／スペ
ースが１０／４００〜５０／４００（密着性、単位：μ
ｍ）及びライン／スペースが１０／１０〜５０／５０
（解像度、単位：μｍ）の配線パターンを有するフォト
ツールを試験片上に置いて６０ｍＪ／ｃｍ^２露光した。
露光後、室温で１５分間放置し、次にＰＥＴを除去し、
１重量％の炭酸ナトリウム水溶液（３０℃）をスプレー
することによって現像した。銅張積層板上に形成された
光硬化膜のステップタブレットの段数を測定することに
より、感光性樹脂組成物の光感度を評価した。光感度
は、ステップタブレットの段数で示され、このステップ
タブレットの段数が高いほど、光感度が高いことを示
す。密着性及び解像度は、現像後に剥離せずに残った最
小ライン幅（μｍ）を測定することによって求めた。こ
れらの幅が小さいほど密着性、解像度が優れていること
を示す。

【００４６】

【表３】

【００４７】

【発明の効果】請求項1、2、3、4及び5記載の感光性樹
脂組成物は、感度、解像性、密着性、現像性及びめっき
浴汚染性が優れる。請求項6記載の感光性エレメント
は、感度、解像性、密着性、現像性、めっき浴汚染性、
生産性及び作業性が優れる。請求項7記載のレジストパ
ターンの製造法は、感度、解像性、密着性、現像性、め
っき浴汚染性、生産性及び作業性が優れ、プリント配線
の高密度化に有用である。請求項8記載のプリント配線
板の製造法は、感度、解像性、密着性、現像性、めっき
浴汚染性、生産性及び作業性が優れ、プリント配線の高
密度化に有用である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｊ 3/18 3/18 Ｄ Ｆターム(参考） 2H025 AA01 AA02 AA04 AA14 AB15 AC01 AD01 BC13 BC42 BC83 CA06 CA27 CB43 CB51 FA17 FA43 4J011 PA65 PA69 PA85 PA86 PA88 PA96 PC02 QA03 QA04 QA12 QA13 QA22 UA01 UA03 UA04 VA01 WA01 4J026 AA17 AA42 AB01 AB04 AB11 AC33 AC36 BA27 BA28 BA29 BA30 5E339 CC01 CD01 CE16 CF15 5E343 AA02 AA12 BB71 CC62 ER16 ER18 FF12 GG03 GG08 GG11

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （A）バインダーポリマー、（B）分子内
   に少なくとも１つの重合可能なエチレン性不飽和基を有
   する光重合性化合物並びに（C）光重合開始剤を含有し
   てなる感光性樹脂組成物において、前記（C）成分が一
   般式（１）、一般式（２）、一般式（３）又は一般式
   （４）で表される化合物の群から選ばれる少なくとも１
   種を必須成分とする感光性樹脂組成物。 【化１】 〔式（１）において、Ｒ¹ はフェニル基（但し、炭素数
   １〜６のアルキル基、フェニル基、ハロゲン原子、−Ｏ
   Ｒ⁸ 、−ＳＲ⁹ もしくは−Ｎ（Ｒ¹⁰)(Ｒ¹¹）の１個以上
   で置換されてもよい。）、炭素数１〜２０のアルキル基
   （但し、アルキル基の炭素数が２〜２０の場合、主鎖炭
   素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および／ま
   たは１個以上の水酸基で置換されてもよい。）、炭素数
   ５〜８のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルカノ
   イル基、ベンゾイル基（但し、炭素数１〜６のアルキル
   基、フェニル基、−ＯＲ⁸ 、−ＳＲ⁹ もしくは−Ｎ（Ｒ
   ¹⁰)(Ｒ¹¹）の１個以上で置換されてもよい。）、炭素数
   ２〜１２のアルコキシカルボニル基（但し、アルコキシ
   ル基の炭素数が２〜１１の場合、該アルコキシル基は主
   鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子を有するか、および
   ／または１個以上の水酸基で置換されてもよい。）、フ
   ェノキシカルボニル基（但し、炭素数１〜６のアルキル
   基、フェニル基、ハロゲン原子、−ＯＲ⁸ もしくは−Ｎ
   （Ｒ¹⁰)(Ｒ¹¹）の１個以上で置換されてもよい。）、シ
   アノ基、ニトロ基、−ＣＯＮ（Ｒ¹⁰)(Ｒ ¹¹）、炭素数１
   〜４のハロアルキル基、−Ｓ（Ｏ)m−Ｒ¹²（但し、Ｒ¹²
   は炭素数１〜６のアルキル基を示し、ｍは１または２で
   ある。）、−Ｓ（Ｏ)m−Ｒ¹³（但し、Ｒ¹³は炭素数６〜
   １２のアリール基を示し、炭素数１〜１２のアルキル基
   で置換されてもよく、ｍは１または２である。）、炭素
   数１〜６のアルコキシスルホニル基、炭素数６〜１０の
   アリーロキシスルホニル基、またはジフェニルホスフィ
   ノイル基を示し；Ｒ² は炭素数２〜１２のアルカノイル
   基（但し、ハロゲン原子もしくはシアノ基の１個以上で
   置換されてもよい。）、その二重結合がカルボニル基と
   共役していない炭素数４〜６のアルケノイル基、ベンゾ
   イル基（但し、炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原
   子、シアノ基、−ＯＲ⁸ 、−ＳＲ⁹ もしくは−Ｎ
   （Ｒ¹⁰)(Ｒ¹¹）の１個以上で置換されていてもよ
   い。）、炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基、また
   はフェノキシカルボニル基（但し、炭素数１〜６のアル
   キル基もしくはハロゲン原子の１個以上で置換されても
   よい。）を示し；Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ およびＲ⁷ は
   相互に独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２
   のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、
   またはフェニル基（但し、−ＯＲ⁸ 、−ＳＲ⁹ もしくは
   −Ｎ（Ｒ¹⁰)(Ｒ¹¹）の１個以上で置換されていてもよ
   い。）、ベンジル基、ベンゾイル基、炭素数２〜１２の
   アルカノイル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニ
   ル基（但し、アルコキシル基の炭素数が２〜１１の場
   合、該アルコキシル基は主鎖炭素原子間に１個以上の酸
   素原子を有するか、および／または１個以上の水酸基で
   置換されてもよい。）、フェノキシカルボニル基、−Ｏ
   Ｒ⁸(但し、Ｒ⁸ はフェニル環中もしくはフェニル環への
   置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６
   −員環を形成してもよい。）、−ＳＲ⁹(但し、Ｒ⁹ はフ
   ェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原
   子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成して
   もよい。）、−Ｓ（Ｏ）Ｒ⁹(但し、Ｒ⁹ はフェニル環中
   のもしくはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと
   共に、５−員環もしくは６−員環を形成してもよ
   い。）、−ＳＯ₂ Ｒ⁹(但し、Ｒ⁹ はフェニル環中のもし
   くはフェニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、
   ５−員環もしくは６−員環を形成してもよい。）、また
   は−Ｎ（Ｒ¹⁰)(Ｒ¹¹）（但し、Ｒ¹⁰および／またはＲ¹¹
   はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換基中の炭
   素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員環を形成
   してもよい。）を示し、かつＲ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ お
   よびＲ⁷ の少なくとも一つは−ＯＲ⁸ 、−ＳＲ⁹ または
   −Ｎ（Ｒ¹⁰)(Ｒ¹¹）であり；Ｒ⁸ は水素原子、炭素数１
   〜１２のアルキル基、置換された炭素数２〜６のアルキ
   ル基｛但し、置換基は、水酸基、メルカプト基、シアノ
   基、炭素数１〜４のアルコキシル基、炭素数３〜６のア
   ルケニルオキシ基、２−シアノエトキシ基、炭素数４〜
   ７の２−（アルコキシカルボニル）エトキシ基、炭素数
   ２〜５のアルキルカルボニルオキシ基、フェニルカルボ
   ニルオキシ基、カルボキシル基もしくは炭素数２〜５の
   アルコキシカルボニル基の１個以上からなる。｝、主鎖
   炭素原子間に１個以上の酸素原子を有する炭素数２〜６
   のアルキル基、炭素数２〜８のアルカノイル基、−（Ｃ
   Ｈ₂ ＣＨ₂ Ｏ)nＨ（但し、ｎは１〜２０の整数であ
   る。）、炭素数３〜１２のアルケニル基、炭素数３〜６
   のアルケノイル基、シクロヘキシル基、フェニル基（但
   し、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基もしく
   は炭素数１〜４のアルコキシル基で置換されてもよ
   い。）、炭素数７〜９のフェニルアルキル基、−Ｓｉ
   （Ｒ¹⁴)r（Ｒ¹⁵)₃-r（但し、Ｒ¹⁴は炭素数１〜８のアル
   キル基を示し、Ｒ¹⁵はフェニル基を示し、ｒは１〜３の
   整数である。）、下記式で表される基 【化２】 、または下記式で表される基 【化３】 を示し；Ｒ⁹ は水素原子、炭素数１〜１２のアルキル
   基、炭素数３〜１２のアルケニル基、シクロヘキシル
   基、置換された炭素数２〜６のアルキル基｛但し、置換
   基は、水酸基、メルカプト基、シアノ基、炭素数１〜４
   のアルコキシル基、炭素数３〜６のアルケニルオキシ
   基、２−シアノエトキシ基、炭素数４〜７の２−（アル
   コキシカルボニル）エトキシ基、炭素数２〜５のアルキ
   ルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基、
   カルボキシル基もしくは炭素数２〜５のアルコキシカル
   ボニル基の１個以上からなる。｝、主鎖炭素原子間に１
   個以上の酸素原子もしくは硫黄原子を有する炭素数２〜
   １２のアルキル基、フェニル基（但し、ハロゲン原子、
   炭素数１〜１２のアルキル基もしくは炭素数１〜４のア
   ルコキシル基で置換されてもよい。）、炭素数７〜９の
   フェニルアルキル基、下記式で表される基 【化４】 、または下記式で表される基 【化５】 を示し；Ｒ¹⁰およびＲ¹¹は相互に独立に水素原子、炭素
   数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜４のヒドロキシア
   ルキル基、炭素数２〜１０のアルコキシアルキル基、炭
   素数３〜５のアルケニル基、炭素数５〜１２のシクロア
   ルキル基、炭素数７〜９のフェニルアルキル基、フェニ
   ル基（但し、炭素数１〜１２のアルキル基もしくは炭素
   数１〜４のアルコキシル基の１個以上で置換されてもよ
   い。）、炭素数２〜３のアルカノイル基、炭素数３〜６
   のアルケノイル基、ベンゾイル基を示すか、あるいはＲ
   ¹⁰とＲ¹¹が一緒になって炭素数２〜６のアルキレン基
   （但し、主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子もしくは
   −ＮＲ⁸ −を有するか、および／または水酸基、炭素数
   １〜４のアルコキシル基、炭素数２〜４のアルカノイル
   オキシ基もしくはベンゾイルオキシ基の１個以上で置換
   されてもよい。）を示すか、あるいはＲ¹⁰が水素原子の
   とき、Ｒ¹¹は下記式で表される基 【化６】 、または下記式で表される基 【化７】 を示し；Ｒ¹⁶は炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル
   基（但し、アルコキシル基の炭素数が２〜１１の場合、
   該アルコキシル基は主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原
   子を有するか、および／または１個以上の水酸基で置換
   されてもよい。）、フェノキシカルボニル基（但し、炭
   素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子、フェニル基、
   −ＯＲ⁸ もしくは−Ｎ（Ｒ¹⁰）(Ｒ¹¹)の１個以上で置換
   されていてもよい。）、炭素数５〜８のシクロアルキル
   基、−ＣＯＮ（Ｒ¹⁰）(Ｒ¹¹)、シアノ基、置換されたフ
   ェニル基（但し、置換基は−ＳＲ⁹ である。）、または
   炭素数１〜１２のアルキル基（但し、ハロゲン原子、水
   酸基、−ＯＲ² 、フェニル基、ハロゲン化フェニル基も
   しくは−ＳＲ⁹ の１個以上で置換されるか、および／ま
   たは主鎖炭素原子間に酸素原子もしくは−ＮＨ（ＣＯ）
   −の１個以上を有してもよい。）を示し；Ｍ¹ は直接結
   合または−Ｒ¹⁷−Ｏ−を示し；Ｍ² は直接結合または−
   Ｒ¹⁷−Ｓ−を示し；Ｍ³ は直接結合、ピペラジノ基また
   は−Ｒ¹⁷−ＮＨ−を示し；Ｒ¹⁷は炭素数１〜１２のアル
   キレン基を示し、その炭素数が２〜１２の場合、主鎖炭
   素原子間に酸素原子、硫黄原子もしくは−ＮＲ¹⁰−の１
   〜５個を有してもよい。）） 【化８】 〔式（２）において、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ お
   よびＲ⁷ は式（１）のそれぞれＲ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ
   ⁵ 、Ｒ⁶ およびＲ⁷ と同義であり；Ｍは炭素数１〜１２
   のアルキレン基、シクロヘキシレン基、フェニレン基、
   −ＣＯＯ−Ｒ¹⁸−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−（ＣＨ₂ ＣＨ₂
   Ｏ)n−ＣＯ−（但し、ｎは１〜２０の整数である。）、
   または−ＣＯ−Ｒ¹⁸−ＣＯ−を示し；Ｒ¹⁸は炭素数２〜
   １２のアルキレン基を示す。〕 【化９】 〔式（３）において、Ｒ² は式（１）のＲ² と同義であ
   り；Ｒ¹⁹は炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基
   （但し、アルコキシル基の炭素数が２〜１１の場合、該
   アルコキシル基は主鎖炭素原子間に１個以上の酸素原子
   を有するか、および／または１個以上の水酸基で置換さ
   れてもよい。）、フェノキシカルボニル基（但し、炭素
   数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子、フェニル基、−
   ＯＲ⁸ もしくは−Ｎ（Ｒ¹⁰)(Ｒ¹¹）の１個以上で置換さ
   れていてもよい。）、炭素数５〜８のシクロアルキル
   基、−ＣＯＮ（Ｒ¹⁰)(Ｒ¹¹）、シアノ基、または置換さ
   れたフェニル基（但し、置換基は−ＳＲ⁹ である。）を
   示すか、あるいはＲ²⁰、Ｒ²¹およびＲ²²を有するフェニ
   ル環中の炭素原子と結合して、基Ｒ⁹ を介し５−員環も
   しくは６−員環を形成してもよく、あるいはＲ²⁰、Ｒ²¹
   およびＲ²²の少なくとも１個が−ＳＲ⁹ のとき、炭素数
   １〜１２のアルキル基｛但し、炭素数が２〜１２の場
   合、主鎖炭素原子間に酸素原子もしくは−ＮＨ（ＣＯ）
   −の１個以上を有するか、および／またはハロゲン原
   子、水酸基、−ＯＲ² 、フェニル基、ハロゲン化フェニ
   ル基もしくは置換フェニル基（但し、置換基は−ＳＲ⁹
   である。）の１個以上で置換されてもよい。｝を示し；
   Ｒ²⁰、Ｒ²¹およびＲ²²は相互に独立に水素原子、ハロゲ
   ン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シクロペンチル
   基、シクロヘキシル基、フェニル基（但し、−ＯＲ⁸ 、
   −ＳＲ⁹ もしくは−Ｎ（Ｒ¹⁰）(Ｒ^{1 1})の１個以上で置換
   されてもよい。)、ベンジル基、ベンゾイル基、炭素数
   ２〜１２のアルカノイル基、炭素数２〜１２のアルコキ
   シカルボニル基（但し、アルコキシル基の炭素数が２〜
   １１の場合、該アルコキシル基は主鎖炭素原子間に１個
   以上の酸素原子を有するか、および／または水酸基の１
   個以上で置換されてもよい。）、フェノキシカルボニル
   基、−ＯＲ⁸(但し、Ｒ⁸ はフェニル環中のもしくはフェ
   ニル環への置換基中の炭素原子の一つと共に、５−員環
   もしくは６−員環を形成してもよい。)、−ＳＲ⁹(但
   し、Ｒ⁹ はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換
   基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員
   環を形成してもよい。)、−Ｓ（Ｏ）Ｒ⁹ 、−ＳＯ₂ Ｒ⁹
   、または−Ｎ（Ｒ¹⁰）(Ｒ¹¹)（但し、Ｒ¹⁰および／ま
   たはＲ¹¹はフェニル環中のもしくはフェニル環への置換
   基中の炭素原子の一つと共に、５−員環もしくは６−員
   環を形成してもよい。）を示し、かつＲ²⁰、Ｒ²¹および
   Ｒ²²の少なくとも一つは−ＯＲ⁸ 、−ＳＲ⁹ または−Ｎ
   （Ｒ¹⁰）(Ｒ¹¹)であり、；Ｒ⁸ ，Ｒ⁹ 、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹
   は式（１）のそれぞれＲ⁸ ，Ｒ⁹ 、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹と同
   義である。) 【化１０】 〔式（４）において、Ｒ² およびＭは式（１）のそれぞ
   れＲ² およびＭと同義であり；Ｒ²⁰、Ｒ²¹およびＲ²²は
   式（３）のそれぞれＲ²⁰、Ｒ²¹およびＲ²²と同義であ
   る。〕
2. 【請求項２】 （C）光重合開始剤が下記式（５） 【化１１】 で表される請求項1記載の感光性樹脂組成物。
3. 【請求項３】 （B）成分がビスフェノールＡ系（メ
   タ）アクリレート化合物を必須成分とする請求項1又は2
   記載の感光性樹脂組成物。
4. 【請求項４】 （A）成分の酸価が３０〜２００mgKOH/g
   であり、重量平均分子量２０，０００〜３００，０００
   である請求項1、2又は3記載の感光性樹脂組成物。
5. 【請求項５】 （A）成分、（B）成分及び（C）成分の
   配合割合が、（A）成分及び（B）成分の総量１００重量
   部に対し、（A）成分が２０〜９０重量部、（B）成分が
   １０〜８０重量部及び（C）成分が０．０１〜２０重量
   部である請求項1、2、3又は4記載の感光性樹脂組成物。
6. 【請求項６】 請求項1、2、3、4又は5記載の感光性樹
   脂組成物の層を支持体上に積層してなる感光性エレメン
   ト。
7. 【請求項７】 請求項6記載の感光性エレメントを、回
   路形成用基板上に感光性樹脂組成物が密着するようにし
   て積層し、活性光線を画像状に照射し、露光部を光硬化
   させ、未露光部を現像により除去することを特徴とする
   レジストパターンの製造法。
8. 【請求項８】 請求項7記載のレジストパターンの製造
   法により、レジストパターンの製造された回路形成用基
   板をエッチング又はめっきすることを特徴とするプリン
   ト配線板の製造法。