JP2003261494A - １，４−ジカルボニル化合物の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 医薬、農薬、機能性材料等の製造中間体とし
て有用な１，４−ジカルボニル化合物（５）を工業的に
有利な条件で製造する方法を提供する。 【解決手段】 有機亜鉛化合物（２）と共役カルボニル
化合物（３）とトリアルキルシリルハライド（４）とを
パラジウム触媒、リチウム塩及び一酸化炭素の存在下反
応させた後、酸で処理する。 【化１】 （式中、Ｒ¹はハロゲン原子、アルキル基等を表わし、
ｎは０または１〜５の整数を表わし、Ｘは塩素原子、臭
素原子またはヨウ素原子を表わし、Ｒ²は水素原子、ア
ルキル基等を表わし、Ｒ³及びＲ⁴はそれぞれ水素原子、
アルキル基等を表わし、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷はそれぞれア
ルキル基を表わし、Ｙは塩素原子、臭素原子またはヨウ
素原子を表わす。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は１，４−ジカルボニ
ル化合物の製造方法に関する。さらに詳しく言えば、有
機亜鉛化合物、共役カルボニル化合物、トリアルキルシ
リルハライド及び一酸化炭素から、パラジウム触媒を用
いる反応により、医薬、農薬あるいは機能性材料等の合
成中間体として有用な１，４−ジカルボニル化合物を工
業的に有利に得ることのできる新規な製造方法に関す
る。

【０００２】

【従来技術】１，４−ジカルボニル化合物を製造する方
法としては、例えば、次のような方法が知られている。 （１）J. Am. Chem. Soc., (1985) 107, 4551 及びTetr
ahedoron Letters, (1990) 31, 477には、アルキルリチ
ウム化合物とα，β−不飽和カルボニル化合物を一酸化
炭素の存在下で反応させて１，２及び１，４−ジカルボ
ニル化合物を得る反応が記載されているが、毒性のシア
ン化銅を原料基質と等モル量用いること、反応を−８０
〜−１１０℃の超低温で行うことなどから工業的生産に
適しているとはいえない。 （２）J. Org. Chem., (1991) 56, 5003には、ヨウ化ヘ
キシルとメチルビニルケトンとを一酸化炭素の存在下
（８０気圧）で反応させて１，４−ジカルボニル化合物
を得る反応が記載されているが、この方法はラジカル反
応を利用しており、反応試剤として有機スズ化合物を使
用し、また大量の溶媒を必要とする高希釈な条件での反
応を要するなど、工業的に不向きである。 （３）Synthesis, (1973) p.398 及びHeterocycles, (1
979) 12, 791には、フラン誘導体を酸性条件下で開環し
１，４−ジカルボニル化合物を製造する反応が記載され
ているが、原料として使用するフラン誘導体に置換基の
導入が困難であり、多様な置換様式の１，４−ジカルボ
ニル化合物の工業的製法としては不向きである。 （４）Synthesis, (1987) p.711 及びJ. Chem .Soc. Pe
rkin Trans.1, (1990) p.457には、１−ケト−４−ニト
ロ化合物を１，４−ジカルボニル化合物に変換する方法
が記載されているが、原料の１−ケト−４−ニトロ化合
物の入手が困難であり、また多様な置換様式の１−ケト
−４−ニトロ化合物を調製するためにはその原料に高反
応性のニトロ化合物を用いる必要があり、その結果、官
能基の選択性が低くなり、工業的製法としては不利であ
る。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、医
薬、農薬、機能性材料等の合成中間体として有用な１，
４−ジカルボニル化合物を工業的に有利な条件で製造で
きる方法を提供することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、有機亜鉛
化合物と共役カルボニル化合物とトリアルキルシリルハ
ライドを、パラジウム触媒、リチウム塩及び一酸化炭素
の存在下、反応させることにより高収率で目的の１，４
−ジカルボニル化合物を製造できることを見出し、本発
明を完成した。なお、本発明者の一人が共役カルボニル
化合物とトリメチルシリルハライドから生成するシリル
エノールエーテルと有機亜鉛化合物とを、銅触媒及びリ
チウム塩の存在下で反応させフェニルペンタノン化合物
を製造する方法を開示している（特許第３２５５２７０
号）。しかし、この方法は一酸化炭素を使用しないこ
と、触媒として銅触媒を使用すること、生成物がモノカ
ルボニル化合物でり、本発明のジカルボニル化合物と異
なること、また本発明の方法は銅触媒では反応が進行し
ないことなどから、本発明の方法とは反応のメカニズム
が全く異なる方法といえる。

【０００５】すなわち、本発明は、以下の構成からなる
１，４−ジカルボニル化合物の製造方法に関する。 １．一般式（２）

【化１０】 （式中、Ｒ¹はハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ
基、アシル基、エステル基、シアノ基、アリール基、ア
ラルキル基またはアリールオキシ基を表わし、ｎは０ま
たは１〜５の整数を表わし、ｎが２〜５の場合ｎ個のＲ
¹は互いに同一でも異なっていてもよく、Ｘは塩素原
子、臭素原子またはヨウ素原子を表わす。）で示される
有機亜鉛化合物と、一般式（３）

【化１１】 Ｒ⁴−ＣＨ＝Ｃ(Ｒ³)−Ｃ(Ｏ)−Ｒ² （３） （式中、Ｒ²は水素原子、アルキル基、アルケニル基、
アルキニル基、アリール基、またはアラルキル基を表わ
し、Ｒ³及びＲ⁴は互いに同一でも異なっていてもよく、
それぞれ水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲ
ン原子、アリール基、アラルキル基またはアリールオキ
シ基を表わし、あるいはＲ²とＲ³は互いに結合してそれ
らが結合している炭素原子と共に炭素数４〜８のシクロ
アルカノンを表わし、あるいはＲ²とＲ⁴は互いに結合し
てそれらが結合している炭素原子およびＲ³が結合して
いる炭素原子と共に炭素数４〜８のシクロアルケン−３
−オンを表わし、あるいはＲ³とＲ⁴は互いに結合してそ
れらが結合している炭素原子と共に炭素数４〜８のシク
ロアルケンを表わす。）で示される共役カルボニル化合
物と、一般式（４）

【化１２】 （式中、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷は互いに同一でも異なってい
てもよく、それぞれ炭素数１〜４のアルキル基を表わ
し、Ｙは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表わ
す。）で示されるトリアルキルシリルハライドとを、パ
ラジウム触媒、リチウム塩及び一酸化炭素の存在下反応
させた後、酸で処理することを特徴とする一般式（５）

【化１３】 （式中の記号は前記と同じ意味を表わす。）で示される
１，４−ジカルボニル化合物の製造方法。 ２．一般式（１）

【化１４】 （式中の記号は前項１と同じ意味を表わす。）で示され
る置換ベンジルハライドと活性化された金属亜鉛とを反
応させて得られる一般式（２）

【化１５】 （式中の記号は前記と同じ意味を表わす。）で示される
有機亜鉛化合物と、一般式（３）

【化１６】 Ｒ⁴−ＣＨ＝Ｃ(Ｒ³)−Ｃ(Ｏ)−Ｒ² （３） （式中の記号は、前項１の記載と同じ意味を表わす。）
で示される共役カルボニル化合物と、一般式（４）

【化１７】 （式中の記号は、前項１の記載と同じ意味を表わす。）
で示されるトリアルキルシリルハライドとを、パラジウ
ム触媒、リチウム塩及び一酸化炭素の存在下反応させた
後、酸で処理することを特徴とする一般式（５）

【化１８】 （式中の記号は前記と同じ意味を表わす。）で示される
１，４−ジカルボニル化合物の製造方法。 ３．パラジウム触媒、リチウム塩及び一酸化炭素の存在
下、一般式（３）で示される共役カルボニル化合物と、
一般式（４）で示されるトリアルキルシリルハライドを
反応させた後、一般式（２）で示される有機亜鉛化合物
を反応させる前項１に記載の１，４−ジカルボニル化合
物の製造方法。 ４．一般式（３）で示される共役カルボニル化合物と、
一般式（４）で示されるトリアルキルシリルハライドを
反応させた後、パラジウム触媒、リチウム塩及び一酸化
炭素の存在下、一般式（２）で示される有機亜鉛化合物
を反応させる前項１に記載の１，４−ジカルボニル化合
物の製造方法。 ５．リチウム塩が、リチウムのハロゲン化物である前項
１乃至４のいずれかに記載の１，４−ジカルボニル化合
物の製造方法。

【０００６】以下、本発明の１，４−ジカルボニル化合
物の製造方法について詳細に述べる。Ｒ¹、Ｒ³及びＲ⁴
が表わすハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭
素原子またはヨウ素原子であり、好ましくはフッ素原
子、塩素原子または臭素原子である。

【０００７】Ｒ¹が表わすアルキル基とは、炭素数１〜
８の直鎖状または分枝状のアルキル基であり、例えばメ
チル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル
基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル
基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシ
ル基、ｎ−オクチル基等が挙げられ、好ましくはメチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基で
ある。

【０００８】Ｒ¹が表わすアルコキシ基とは、炭素数１
〜８の直鎖状または分枝状のアルコキシ基であり、例え
ばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ
−プロポキシ基等が挙げられる。

【０００９】Ｒ¹が表わすアシル基とは、Ｒ¹¹ＣＯ−
（基中、Ｒ¹¹は炭素数１〜８の直鎖状または分枝状のア
ルキル基またはフェニル基を表わす。）で示される基で
あり、例えばアセチル基、プロピオニル基等が挙げられ
る。

【００１０】Ｒ¹が表わすエステル基とは、Ｒ¹²ＯＣＯ
−（基中、Ｒ¹²は炭素数１〜８の直鎖状または分枝状の
アルキル基またはフェニル基を表わす。）で示される基
であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボ
ニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉｓｏ−プロポ
キシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｔｅｒ
ｔ−ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基等
が挙げられる。

【００１１】Ｒ¹が表わすアリール基としては、炭素数
１〜８のアルキル基、ハロゲン原子等で置換されていて
もよいフェニル基、フリル基、チエニル基が挙げられ、
具体的にはフェニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、
ｐ−トリル基、ｏ−クロルフェニル基、ｍ−クロルフェ
ニル基、ｐ−クロルフェニル基、ｏ−ブロモフェニル
基、ｍ−ブロモフェニル基、ｐ−ブロモフェニル基、２
−フリル基、２−チエニル基等が挙げられる。

【００１２】Ｒ¹が表わすアラルキル基としては、ベン
ジル基、フェネチル基等が挙げられる。

【００１３】Ｒ¹、Ｒ³及びＲ⁴が表わすアリールオキシ
基としては、炭素数１〜８のアルキル基やハロゲン原子
で置換されたフェノキシ基が挙げられ、具体的にはフェ
ノキシ基、ｏ−トリルオキシ基、ｍ−トリルオキシ基、
ｐ−トリルオキシ基、ｏ−クロルフェノキシ基、ｍ−ク
ロルフェノキシ基、ｐ−クロルフェノキシ基、ｏ−ブロ
モフェノキシ基、ｍ−ブロモフェノキシ基、ｐ−ブロモ
フェノキシ基等が挙げられる。

【００１４】Ｒ¹が複数存在する場合（ｎが２〜５の場
合）、それぞれのＲ¹は同一でも異なっていてもよく、
いずれの組合せも可能であるが、好ましくは２，４−ジ
フロロ基、２，４−ジクロロ基、２，４，６−トリクロ
ロ基、２，４−ジメチル基、２，４，６−トリメチル基
である。

【００１５】Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴が表わすアルキル基と
は、炭素数１〜８の直鎖状または分枝状のアルキル基で
あり、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ
ｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、
ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル
基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基等が挙げられ、好
ましくはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ
−プロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基である。

【００１６】Ｒ²が表わすアルケニル基とは、二重結合
を１または２個有する炭素数１〜８の直鎖状または分枝
状のアルケニル基であり、例えば１−プロペニル基、２
−メチル−１−プロペニル基、１−ブテニル基、１−ペ
ンテニル基、１−ヘキセニル基、アリル基、２−ブテニ
ル基、プレニル基、２−ペンテニル基、２−ヘキセニル
基、３−ブテニル基、３−ペンテニル基、３−ヘキセニ
ル基、１，３−オクタジエニル基等が挙げられる。

【００１７】Ｒ²が表わすアルキニル基とは、三重結合
を有する炭素数１〜８の直鎖状または分枝状のアルキニ
ル基であり、例えば１−プロピニル基、１−ブチニル
基、１−ペンチニル基、１−ヘキシニル基、２−プロピ
ニル基、２−ブチニル基、２−ペンチニル基、２−ヘキ
シニル基、３−ブチニル基、３−ペンチニル基、３−ヘ
キシニル基等が挙げられる。

【００１８】Ｒ²が表わすアリール基としては、炭素数
１〜８のアルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子
等で置換されていてもよいフェニル基、フリル基、チエ
ニル基が挙げられ、具体的にはフェニル基、ｏ−トリル
基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、ｏ−フロロフェニル
基、ｍ−フロロフェニル基、ｐ−フロロフェニル基、ｏ
−クロロフェニル基、ｍ−クロロフェニル基、ｐ−クロ
ロフェニル基、ｏ−ブロモフェニル基、ｍ−ブロモフェ
ニル基、ｐ−ブロモフェニル基、ｏ−メトキシフェニル
基、ｍ−メトキシフェニル基、ｐ−メトキシフェニル
基、２，４−ジクロロフェニル基、２，４，６−トリク
ロロフェニル基、２，４−ジメチル基、２，４，６−ト
リメチルフェニル基、３，４−ジメトキシフェニル基、
２，４−ジメトキシフェニル基、３，４−メチレンジオ
キシフェニル基、２，３−メチレンジオキシフェニル
基、２−フリル基、２−チエニル基等が挙げられる。

【００１９】Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴が表わすアラルキル基と
しては、ベンジル基、１−フェネチル基、２−フェネチ
ル基、２−スチリル基等が挙げられる。

【００２０】Ｒ³及びＲ⁴が表わすアルコキシ基とは、炭
素数１〜８の直鎖状または分枝状のアルコキシ基であ
り、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ
基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等が
挙げられる。

【００２１】Ｒ³及びＲ⁴が表わすハロゲン原子とは、フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子であ
り、好ましくはフッ素原子、塩素原子または臭素原子で
ある。

【００２２】Ｒ³及びＲ⁴が表わすアリール基としては、
炭素数１〜８のアルキル基、アルコキシ基またはハロゲ
ン原子等で置換されていてもよいフェニル基、フリル
基、チエニル基が挙げられ、具体的にはフェニル基、ｏ
−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、ｏ−クロル
フェニル基、ｍ−クロルフェニル基、ｐ−クロルフェニ
ル基、ｏ−ブロモフェニル基、ｍ−ブロモフェニル基、
ｐ−ブロモフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基、
２，４，６−トリクロロフェニル基、２，４−ジメチル
基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，４−ジメ
トキシフェニル基、２，４−ジメトキシフェニル基、
３，４−メチレンジオキシフェニル基、２，３−メチレ
ンジオキシフェニル基、２−フリル基、２−チエニル基
等が挙げられる。

【００２３】Ｒ²とＲ³が互いに結合してそれらが結合し
ている炭素原子と共に表わす炭素数４〜８のシクロアル
カノンとしては、シクロブタノン、シクロペンタノン、
シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、シクロオクタノ
ン５−メチルペンタノン、５，５−ジメチルペンタノ
ン、６−メチルヘキサノン、６，６−ジメチルヘキサノ
ン、４，４−ジメチルヘキサノンが好ましい。

【００２４】Ｒ²とＲ⁴が互いに結合してそれらが結合し
ている炭素原子およびＲ³が結合している炭素原子と共
に表わす炭素数４〜８のシクロアルケン−３−オンとし
ては、シクロペンテン−３−オン、シクロヘキセン−３
−オン、シクロヘプテン−３−オンが好ましい。

【００２５】Ｒ³とＲ⁴が互いに結合してそれらが結合し
ている炭素原子と共に表わす炭素数４〜８のシクロアル
ケンとしては、シクロブテン、シクロペンテン、シクロ
ヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテンが好まし
い。

【００２６】Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴の組合せは具体例を以下に
挙げるが、これらは例示であって本発明の方法が適用さ
れる一般式（３）の化合物は下記の例に限定されるもの
ではない（括弧内は組合せに相当する一般式（３）の共
役カルボニル化合物である。）。Ｒ²＝Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ
（アクロレイン）、Ｒ²＝Ｒ³＝Ｈ，Ｒ⁴＝Ｍｅ（２−ブ
テナール）、Ｒ²＝Ｒ³＝Ｈ，Ｒ⁴＝Ｅｔ（２−ペンテナ
ール）、Ｒ²＝Ｒ⁴＝Ｈ、Ｒ³＝Ｍｅ（２−メチルプロペ
ナール）、Ｒ²＝Ｈ，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｍｅ（２−メチル−２
−ブテナール）、Ｒ²＝Ｍｅ，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（メチルビ
ニルケトン）、Ｒ²＝Ｅｔ，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（エチルビニ
ルケトン）、Ｒ²＝ｎ−Ｐｒ，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（ｎ−プロ
ピルビニルケトン）、Ｒ²＝ｉｓｏ−Ｐｒ，Ｒ³＝Ｒ⁴＝
Ｈ（ｉｓｏ−プロピルビニルケトン）、Ｒ²＝ｎ−Ｂ
ｕ，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（ｎ−ブチルビニルケトン）、Ｒ²＝
ｔｅｒｔ−Ｂｕ，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（ｔｅｒｔ−ブチルビニ
ルケトン）、Ｒ²＝ｓｅｃ−Ｂｕ，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（ｓｅ
ｃ−ブチルビニルケトン）、Ｒ²＝Ｒ³＝Ｈ，Ｒ⁴＝Ｍｅ
（３−ペンテン−２−オン）、Ｒ²＝Ｒ³＝Ｈ，Ｒ⁴＝Ｅ
ｔ（３−ヘキセン−２−オン）、Ｒ²＝Ｒ³＝Ｈ，Ｒ⁴＝
ｉｓｏ−Ｐｒ（５−メチル−３−ヘキセン−２−オ
ン）、Ｒ²＝Ｒ³＝Ｈ，Ｒ⁴＝ｎ−Ｐｒ（３−ヘプテン−
２−オン）、Ｒ²＝Ｒ³＝Ｈ，Ｒ⁴＝ｔｅｒｔ−Ｂｕ
（５，５−ジメチル−３−ヘキセン−２−オン）、Ｒ²
＝Ｒ³＝Ｍｅ，Ｒ⁴＝Ｈ（３−メチル−３−ブテン−２−
オン）、Ｒ²＝Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｍｅ（３，４−ジメチル−３
−ブテン−２−オン）、Ｒ²＝１−プロペニル基，Ｒ³＝
Ｒ⁴＝Ｈ（１，４−ヘキサジエン−３−オン）、Ｒ²＝２
−メチル−１−プロペニル基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（５−メチ
ル−１，４−ヘキサジエン−３−オン）、Ｒ²＝２−プ
ロペニル基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（１，５−ヘキサジエン−３
−オン）、Ｒ²＝２−ブテニル基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（１，
５−ヘプタジエン−３−オン）、Ｒ²＝３−メチル−２
−ブテニル基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（６−メチル−１，５−ヘ
プタジエン−３−オン）、Ｒ²＝１，３−オクタジエニ
ル基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（１，３，５−ドデカトリエン−３
−オン）、Ｒ²＝１−プロピニル基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（１
−ヘキセン−４−イン−３−オン）、Ｒ²＝１−ブチニ
ル基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（１−ヘプテン−４−イン−３−オ
ン）、Ｒ²＝２−プロピニル基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（１−ヘ
キセン−５−イン−３−オン）、Ｒ²＝２−ブチニル
基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（１−ヘプテン−５−イン−３−オ
ン）、Ｒ²＝Ｐｈ，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（１−フェニルプロペ
ノン）、Ｒ²＝ｏ−トリル基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（１−（ｏ
−トリル）プロペノン）、Ｒ²＝ｍ−トリル基，Ｒ³＝Ｒ
⁴＝Ｈ（１−（ｍ−トリル）プロペノン）、Ｒ²＝ｐ−ト
リル基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（１−（ｐ−トリル）プロペノ
ン）、Ｒ²＝ｏ−フロロフェニル基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（１
−（ｏ−フロロフェニル）プロペノン）、Ｒ²＝ｍ−フ
ロロフェニル基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（１−（ｍ−フロロフェ
ニル）プロペノン）、Ｒ²＝ｐ−フロロフェニル基，Ｒ³
＝Ｒ⁴＝Ｈ（１−（ｐ−フロロフェニル）プロペノ
ン）、Ｒ²＝ｏ−クロロフェニル基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（１
−（ｏ−クロロフェニル）プロペノン）、Ｒ²＝ｍ−ク
ロロフェニル基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（１−（ｍ−クロロフェ
ニル）プロペノン）、Ｒ²＝ｐ−クロロフェニル基，Ｒ³
＝Ｒ⁴＝Ｈ（１−（ｐ−クロロフェニル）プロペノ
ン）、Ｒ²＝ｏ−ブロモフェニル基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（１
−（ｏ−ブロモフェニル）プロペノン）、Ｒ²＝ｍ−ブ
ロモフェニル基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（１−（ｍ−ブロモフェ
ニル）プロペノン）、Ｒ²＝ｐ−ブロモフェニル基，Ｒ³
＝Ｒ⁴＝Ｈ（１−（ｐ−ブロモフェニル）プロペノ
ン）、Ｒ²＝ｏ−メトキシフェニル基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ
（１−（ｏ−メトキシフェニル）プロペノン）、Ｒ²＝
ｍ−メトキシフェニル基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（１−（ｍ−メ
トキシフェニル）プロペノン）、Ｒ²＝ｐ−メトキシフ
ェニル基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（１−（ｐ−メトキシフェニ
ル）プロペノン）、Ｒ²＝２，４−ジメチルフェニル
基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（１−（２’，４’−ジメチルフェニ
ル）プロペノン）、Ｒ²＝２，４−ジクロロフェニル
基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（１−（２’，４’−ジクロロフェニ
ル）プロペノン）、Ｒ²＝２，４−ジフロロフェニル
基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（１−（２’，４’−ジフロロフェニ
ル）プロペノン）、Ｒ²＝２，４−ジメトキシフェニル
基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（１−（２’，４’−ジメトキシフェ
ニル）プロペノン）、Ｒ²＝３，４−ジメトキシフェニ
ル基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（１−（３’，４’−ジメトキシフ
ェニル）プロペノン）、Ｒ²＝２，３−ジメトキシフェ
ニル基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（１−（２’，３’−ジメトキシ
フェニル）プロペノン）、Ｒ²＝２，４−トリメチルフ
ェニル基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（１−（２’，４’，６’−ト
リメチルフェニル）プロペノン）、Ｒ²＝３，４−メチ
レンジオキシフェニル基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（１−（３’，
４’−メチレンジオキシフェニル）プロペノン）、Ｒ²
＝２，３−メチレンジオキシフェニル基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ
（１−（２’，３’−メチレンジオキシフェニル）プロ
ペノン）、Ｒ²＝２−フリル基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（１−
（２−フリル）プロペノン）、Ｒ²＝３−フリル基，Ｒ³
＝Ｒ⁴＝Ｈ（１−（３−フリル）プロペノン）、Ｒ²＝２
−チエニル基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（１−（２−チエニル）プ
ロペノン）、Ｒ²＝３−チエニル基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（１
−（３−チエニル）プロペノン）、Ｒ²＝ベンジル基，
Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（ベンジルビニルケトン）、Ｒ²＝２−フ
ェネチル基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（５−フェニル−１−ペンテ
ン−３−オン）、Ｒ²＝１−フェネチル基，Ｒ³＝Ｒ⁴＝
Ｈ（４−フェニル−１−ペンテン−３−オン）、Ｒ²＝
スチリル，Ｒ³＝Ｒ⁴＝Ｈ（５−フェニル−１，４−ペン
タジエン−３−オン）、Ｒ²、Ｒ⁴＝２−シクロペンテノ
ン，Ｒ³＝Ｈ（２−シクロペンテノン）、Ｒ²、Ｒ⁴＝２
−シクロヘキセノン，Ｒ³＝Ｈ（２−シクロヘキセノ
ン）、Ｒ²、Ｒ⁴＝２−シクロヘプテノン，Ｒ³＝Ｈ（２
−シクロヘプテノン）、Ｒ²＝Ｈ，Ｒ³、Ｒ⁴＝シクロペ
ンテン（２−オキソシクロペンタンカルバルデヒド）、
Ｒ²＝Ｈ，Ｒ³、Ｒ⁴＝シクロヘキセン（２−オキソシク
ロヘキサンカルバルデヒド）、Ｒ²＝Ｍｅ，Ｒ³、Ｒ⁴＝
シクロペンテン（２−アセチルシクロペンテン）、Ｒ²
＝Ｍｅ，Ｒ³、Ｒ⁴＝シクロヘキセン（２−アセチルシク
ロヘキセン）、Ｒ²＝Ｅｔ，Ｒ³、Ｒ⁴＝シクロペンテン
（２−プロピオニルシクロペンテン）、Ｒ²＝Ｅｔ，
Ｒ³、Ｒ⁴＝シクロヘキセン（２−プロピオニルシクロヘ
キセン）、Ｒ²、Ｒ³＝シクロペンタノン，Ｒ⁴＝Ｈ（２
−メチレンシクロペンタノン）、Ｒ²、Ｒ³＝シクロヘキ
サノン，Ｒ⁴＝Ｈ（２−メチレンシクロヘキサノン）、
Ｒ²、Ｒ³＝シクロペンタノン，Ｒ⁴＝Ｍｅ（２−エチリ
デンシクロペンタノン）、Ｒ²、Ｒ³＝シクロヘキサノ
ン，Ｒ⁴＝Ｍｅ（２−エチリデンシクロヘキサノン）で
ある。

【００２７】Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷が表わす炭素数１〜４の
アルキル基とは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基及びそれらの異性体であり、好ましくはメチル基
である。

【００２８】Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｙの組合せで好ましいも
のは、相当する一般式（４）のトリアルキルシリルハラ
イドとして、例えばトリメチルシリルクロライド、トリ
メチルシリルブロマイド、トリメチルシリルヨーダイド
が挙げられ、これらの中でも特にトリメチルシリルクロ
ライドが好ましい。

【００２９】本発明の方法に関連する一連の反応を次の
反応工程式に示す。反応工程式中の記号は前記と同じ意
味を表わす。

【化１９】

【００３０】工程（ａ） 原料として使用する一般式（２）で示される有機亜鉛化
合物は、一般式（１）で示されるベンジルハライド化合
物と活性亜鉛粉末を用い、公知の方法に準じて製造する
ことができる（J. Org. Chem., 52, 4796 (1987)）。具
体的には、市販の亜鉛粉末を希塩酸、水、アセトンで順
次洗浄後、乾燥させ、それを所定の溶媒（例えば、テト
ラヒドロフラン等のエーテル類など）中で触媒量のトリ
メチルシリルクロライドにより活性化し、これに一般式
（１）のベンジルハライド化合物を反応させることによ
り一般式（２）で示される有機亜鉛化合物をほぼ定量的
に製造することができる。得られた有機亜鉛化合物
（２）は単離、精製した後、本発明の原料とすることも
できるが、溶液状態で本発明の反応に供することが好ま
しい。

【００３１】工程（ｂ） 本工程は、一般式（３）で示される共役カルボニル化合
物と一般式（４）で示されるトリアルキルシリルハライ
ドとを反応させる工程であり、平衡反応で一般式（６）
で示されるシリルエノールエーテルが生成する。原料化
合物の使用量は、一般式（２）の化合物に対して一般式
（３）の化合物が０.５〜４倍モルであり、好ましくは
０.７〜３.０倍モルである。反応温度は特に限定されな
いが、−２０℃から使用する溶媒の沸点以下の温度範囲
内であり、０〜６０℃が好ましく、さらに好ましくは２
０〜４０℃である。また、反応時間は、原料の濃度、温
度等によって変わるが、通常５〜６０分である。生成し
た一般式（６）で示されるシリルエノールエーテルは、
通常、単離または精製せずに次工程（ｃ）に使用する。

【００３２】工程（ｃ） 本工程は、工程（ｂ）で平衡状態で生成している一般式
（６）のシリルエノールエーテルと一般式（２）の有機
亜鉛化合物を、パラジウム触媒、適当なリチウム塩及び
一酸化炭素の存在下反応させた後、酸で処理し一般式
（５）の１，４−ジカルボニル化合物を製造する工程で
あり、好ましくは前記工程（ｂ）に引き続きワンポット
で反応を行なう。この場合、一般式（３）で示される共
役カルボニル化合物と、一般式（４）で示されるトリア
ルキルシリルハライドを反応させた後、パラジウム触
媒、リチウム塩及び一酸化炭素の存在下、一般式（２）
で示される有機亜鉛化合物を反応させることができる
が、好ましくは適当な溶媒に予めパラジウム触媒及びリ
チウム塩を添加し、その液中に一酸化炭素存在下、一般
式（３）の共役カルボニル化合物と一般式（４）のトリ
アルキルシリルハライドとを反応させて一般式（６）の
シリルエノールエーテルを製造し（工程（ｂ））、引き
続きその反応系中に一般式（２）の有機亜鉛化合物を添
加、反応させる。

【００３３】原料化合物の使用量は、一般式（２）の化
合物に対して一般式（６）の化合物が０.８〜３.０倍モ
ルであり、好ましくは１.４〜２.５倍モルである。ま
た、一般式（３）の化合物及び一般式（４）の化合物の
反応に引き続き、一般式（２）の化合物をワンポットで
反応させる場合は、一般式（２）の化合物に対して一般
式（３）の化合物が０.７〜３.０倍モル、好ましくは
１.２〜２.５倍モルであり、化合物一般式（４）の化合
物が０.８〜１０倍モル、好ましくは１.４〜５倍モルで
ある。

【００３４】本発明で使用するパラジウム触媒とは、パ
ラジウム錯体と必要に応じて用いられる配位子からなる
触媒である。パラジウム錯体としては、酢酸パラジウ
ム、塩化パラジウム、テトラキス（トリフェニルホスフ
ィン）パラジウム、ビス（ジフェニルホスフィノエタ
ン）パラジウム、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジ
パラジウム、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウ
ムなどが挙げられる。

【００３５】配位子を有するパラジウム錯体を使用する
場合は、配位子を予めパラジウムに配位させるか、ある
いは酸化的に付加させた錯体を用いることができるが、
パラジウム錯体と配位子とを反応系に導入し反応系中で
配位させてもよい。配位子としては、ホスフィン類など
のリン化合物が好ましく、例えばトリアルキルホスフィ
ン、トリフェニルホスフィン、ＢＩＮＡＰ（2,2'-bis(d
iphenylphosphino)-1,1'-binaphthyl ）などが挙げられ
る。

【００３６】具体的には、テトラキス（トリフェニルホ
スフィン）パラジウム、ビス（ジフェニルホスフィノエ
タン）パラジウム、酢酸パラジウムに配位子としてのリ
ン化合物を２〜１０倍モル量使用した化合物、塩化パラ
ジウムに配位子としてのリン化合物を２〜６倍モル量使
用した化合物、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパ
ラジウムに配位子としてのリン化合物を２〜１４倍モル
量使用した化合物、ビス（ジベンジリデンアセトン）パ
ラジウムに配位子としてのリン化合物を２〜１０倍モル
量使用した化合物等が挙げられる。

【００３７】好ましくは、テトラキス（トリフェニルホ
スフィン）パラジウム、ビス（ジフェニルホスフィノエ
タン）パラジウム、酢酸パラジウムに配位子としてトリ
フェニルホスフィンを２〜６倍モル量使用した化合物、
塩化パラジウムに配位子としてトリフェニルホスフィン
を２〜６倍モル量使用した化合物、トリス（ジベンジリ
デンアセトン）ジパラジウムに配位子としてトリフェニ
ルホスフィンを２〜１０倍モル量使用した化合物、ビス
（ジベンジリデンアセトン）パラジウムに配位子として
トリフェニルホスフィンを１〜６倍モル量使用した化合
物、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウムに
配位子としてＢＩＮＡＰを２〜６倍モル量使用した化合
物、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウムに配位
子としてＢＩＮＡＰを１〜３倍モル量使用した化合物、
ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウムに配位子と
してトリフェニルホスフィンを１〜３倍モル量使用した
化合物であり、さらに好ましくはテトラキス（トリフェ
ニルホスフィン）パラジウムである。

【００３８】パラジウム触媒の使用量としては、一般式
（２）の化合物に対してパラジウムが０.０１〜５モル
％の割合となる量、好ましくは０.１〜３モル％となる
量で使用することができる。

【００３９】本発明で使用するリチウム塩としてはハロ
ゲン化物が好ましく、例えば、ＬｉＣｌ，ＬｉＢｒ，Ｌ
ｉＩが挙げられる。特に好ましいリチウム塩は、ＬｉＣ
ｌである。リチウム塩は、好ましくは市販品を減圧下、
１２０〜２００℃で乾燥した後に使用する。リチウム塩
の使用量は、有機亜鉛化合物（２）に対して１〜１０倍
モル、好ましくは２〜６倍モルである。

【００４０】一酸化炭素は１〜５０気圧の雰囲気下で、
または溶媒中に吹き込みながら使用できる。

【００４１】反応温度は特に限定されないが、−２０℃
から使用する溶媒の沸点以下の温度範囲内であり、０〜
６０℃が好ましく、さらに好ましくは２０〜４０℃であ
る。また、反応時間は、原料の濃度、温度等によって変
わるが、通常０.５〜５時間である。

【００４２】反応終了後、反応系内に酸を加えて一般式
（５）の１，４−ジカルボニル化合物を生成させる。酸
としては、塩酸、硫酸、硝酸等の鉱酸が好ましい。酸の
量は一般式（５）の１，４−ジカルボニル化合物の生成
モル数に相当する水素イオン量となればよく、一般式
（３）の共役カルボニル化合物を基準にした場合は、通
常０.８当量以上である。

【００４３】工程（ｂ）および（ｃ）で使用する溶媒と
しては、反応に直接関与しないものであれば特に限定さ
れず、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メチル
ナフタリン、石油エーテル、リグロイン、ヘキサン、ク
ロルベンゼン、ジクロルベンゼン、クロロホルム、ジク
ロルエタン、トリクロルエチレンのような塩素化された
またはされていない芳香族、脂肪族、脂環式の炭化水素
類、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、ジエ
チルエーテルなどのエーテル類、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、酢
酸エチル、酢酸メチルなどのエステル類、アセトニトリ
ル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルフォ
キシド、スルフォラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾリジ
ノン、Ｎ−メチルピロリドンなどの非プロトン性極性溶
媒、及び前記溶媒の混合物などが挙げられる。これらは
水分を十分に除去して使用される。好ましい溶媒は、Ｔ
ＨＦ、ジエチルエーテルなどのエーテル類、アセトン、
酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドであり、特
に好ましくはＴＨＦである。溶媒は、一般式（２）の化
合物が０.５〜３０質量％、好ましくは１〜２０質量％
となるような量を使用する。

【００４４】

【実施例】以下、本発明を参考例及び実施例によって具
体的に説明するが、これらの記載により本発明の範囲を
限定するものではない。

【００４５】実施例１：ベンジル亜鉛クロライドの製造

【化２０】 亜鉛粉末（Ａｌｄｒｉｃｈ製）３.０ｇを窒素気流中、
０.２Ｎ−塩酸水溶液で室温撹拌し、上澄みを除き、
水、アセトンで順次洗浄したのち減圧乾燥した。この亜
鉛粉末２.０ｇのＴＨＦ（５.０ｍｌ）溶液に、アルゴン
雰囲気下、クロロトリメチルシラン０.０５ｍｌを室温
で撹拌しながら加えた。この溶液を４０℃に加熱して、
これにベンジルクロライド（１１.８ｍｌ，１００ｍｍ
ｏｌ）のＴＨＦ（５.０ｍｌ）溶液を滴下し、４０〜６
０℃で３時間撹拌した。反応終了後、反応液から上澄み
液を集め、ベンジル亜鉛クロライドのＴＨＦ溶液（１.
８２ｍｏｌ／ｌ）を得た。ガスクロマトグフィー分析か
ら収率は、約９７％であった。

【００４６】実施例２：１−フェニルヘキサン−２，５
−ジオンの製造−その１

【化２１】 減圧下、１３０℃で１時間乾燥させた塩化リチウム（４
７１ｍｇ、１１.１ｍｍｏｌ）とテトラキス（トリフェ
ニルホスフィン）パラジウム（３８ｍｇ，０.０３ｍｍ
ｏｌ）を一酸化炭素雰囲気下、ＴＨＦ（３ｍｌ）に溶解
し、ついでトリメチルシリルクロライド（０.９８ｍ
ｌ，７.７ｍｍｏｌ）、メチルビニルケトン（０.３０ｍ
ｌ，３.７ｍｍｏｌ）を撹拌しながら加えた。３０℃の
水浴中、反応溶液を激しく撹拌しながら実施例１で得ら
れた溶液（１.２１ｍｌ，２.２ｍｍｏｌ）を３０分かけ
て滴下し、さらに５分間撹拌した。２Ｎ−塩酸水溶液
（２ｍｌ）を加え、５分間撹拌後、ジエチルエーテル
（１０ｍｌ）で抽出、硫酸ナトリウムで乾燥後、ガスク
ロマトグラフィーによって、１−フェニルヘキサン−
２，５−ジオンを定量した（収率６５％）。

【００４７】ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^-1）：３１００−２９
００，１７１３，１４９８，１４５５，１４０８，１３
５８，１１７５，１０９０，１０３７，７００；¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：δ ７.３
７−７.２０（ｍ，５Ｈ，Ｐｈ），３.７５（ｄ，２Ｈ，
−ＣＨ₂Ｐｈ，Ｊ＝４.６Ｈｚ），２.７３−２.６６
（ｍ，４Ｈ，−Ｃ（Ｏ）ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯ），２.１６
（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃）；¹³ Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：δ ２０
７.１，２０７.０，１３４.１，１２９.４，１２８.
６，１２７.０，５０.０，３７.０，３５.５，２９.９.

【００４８】実施例３：１−フェニルヘキサン−２，５
−ジオンの製造−その２ 減圧下、１３０℃で１時間乾燥させた塩化リチウム（４
７１ｍｇ、１１.１ｍｍｏｌ）とテトラキス（トリフェ
ニルホスフィン）パラジウム（４６ｍｇ，０.０４ｍｍ
ｏｌ）を一酸化炭素雰囲気下、アセトン（３ｍｌ）に溶
解し、ついでトリメチルシリルクロライド（０.９８ｍ
ｌ，７.７ｍｍｏｌ）、メチルビニルケトン（０.３０ｍ
ｌ，３.７ｍｍｏｌ）を撹拌しながら加えた。３０℃の
水浴中、反応溶液を激しく撹拌しながら実施例１で得ら
れた溶液（２.４０ｍｌ，４.４ｍｍｏｌ）を３０分かけ
て滴下し、さらに５分間撹拌した。２Ｎ−塩酸水溶液
（２ｍｌ）を加え、５分間撹拌後、ジエチルエーテル
（１０ｍｌ）で抽出、硫酸ナトリウムで乾燥後、ガスク
ロマトグラフィーによって、１−フェニルヘキサン−
２，５−ジオンを定量した（収率４５％）。

【００４９】実施例４：１−フェニルヘキサン−２，５
−ジオンの製造−その３ 反応溶媒をアセトンから酢酸エチル（３ｍｌ）に変更し
た以外は実施例３と同様の操作を行い、ガスクロマトグ
ラフィーによって、１−フェニルヘキサン−２，５−ジ
オンを定量した（収率３１％）。

【００５０】実施例５：１−フェニルヘキサン−２，５
−ジオンの製造−その４ 反応溶媒をアセトンからジメチルホルムアミドに変更し
た以外は実施例３と同様の操作を行い、ガスクロマトグ
ラフィーによって、１−フェニルヘキサン−２，５−ジ
オンを定量した（収率５６％）。

【００５１】実施例６：１−フェニルヘキサン−２，５
−ジオンの製造−その５反応溶媒をアセトンからアセト
ニトリル（３ｍｌ）に変更した以外は実施例３と同様の
操作を行い、ガスクロマトグラフィーによって、１−フ
ェニルヘキサン−２，５−ジオンを定量した（収率４８
％）。

【００５２】実施例７：１−フェニルヘキサン−２，５
−ジオンの製造−その６ パラジウム触媒をテトラキス（トリフェニルホスフィ
ン）パラジウムからビス（ジベンジリデンアセトン）パ
ラジウム（２３.０ｍｇ，０.０４ｍｍｏｌ）とトリフェ
ニルホスフィン（４１.９ｍｇ，０.１６ｍｍｏｌ）に変
更した以外は実施例３と同様の操作を行い、ガスクロマ
トグラフィーによって、１−フェニルヘキサン−２，５
−ジオンを定量した（収率４２％）。

【００５３】実施例８：ｐ−メチルベンジル亜鉛クロラ
イドの製造

【化２２】 亜鉛粉末（Ａｌｄｒｉｃｈ製）３.０ｇを窒素気流中、
０.２Ｎ−塩酸水溶液で室温撹拌し、上澄みを除き、
水、アセトンで順次洗浄したのち減圧乾燥した。この亜
鉛粉末２.０ｇのＴＨＦ（１１.０ｍｌ）溶液に、アルゴ
ン雰囲気下、クロロトリメチルシラン０.０５ｍｌを室
温で撹拌しながら加えた。この溶液を４０℃に加熱し
て、これにｐ−メチルベンジルクロライド（２.６５ｍ
ｌ，２０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５.０ｍｌ）溶液を滴下
し、４０〜６０℃で３時間撹拌した。反応終了後、反応
液から上澄み液を集め、ｐ−メチルベンジル亜鉛クロラ
イドのＴＨＦ溶液（１.１３ｍｏｌ／ｌ）を得た。

【００５４】実施例９：１−（４−メチルフェニル）ヘ
キサン−２，５−ジオンの製造

【化２３】 減圧下、１３０℃で１時間乾燥させた塩化リチウム（４
７１ｍｇ、１１.１ｍｍｏｌ）とテトラキス（トリフェ
ニルホスフィン）パラジウム（３８ｍｇ，０.０３ｍｍ
ｏｌ）を一酸化炭素雰囲気下、ＴＨＦ（３ｍｌ）に溶解
し、ついでトリメチルシリルクロライド（０.９８ｍ
ｌ，７.７ｍｍｏｌ）、メチルビニルケトン（０.３０ｍ
ｌ，３.７ｍｍｏｌ）を撹拌しながら加えた。３０℃の
水浴中、反応溶液を激しく撹拌しながら実施例８で得ら
れた溶液（１.９５ｍｌ，２.２ｍｍｏｌ）を３０分かけ
て滴下し、さらに５分間撹拌した。２Ｎ−塩酸水溶液
（２ｍｌ）を加え、５分間撹拌後、ジエチルエーテル
（１０ｍｌ）で抽出、硫酸ナトリウムで乾燥後、ガスク
ロマトグラフィーによって、１−（４−メチルフェニ
ル）ヘキサン−２，５−ジオンを定量した（収率５８
％）。

【００５５】ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^-1）：３１００−２８
５０，１７１１，１５１５，１４０５，１３５６，１３
１０，１１７３，１０９０，１０３７，１０２３，８２
０，７７９，７２８；¹ Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：δ ７.１
４（ｄ，２Ｈ，Ｐｈ，Ｊ＝８.２５Ｈｚ），７.０９
（ｄ，２Ｈ，Ｐｈ，Ｊ＝８.２５Ｈｚ），３.７０（ｓ，
２Ｈ，−ＣＨ₂Ｐｈ），２.６８（ｍ，４Ｈ，−Ｃ（Ｏ）
ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯ），２.３２（ｓ，３Ｈ，ＣＨ₃Ｐｈ），
２.１６（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃）；¹³ Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：δ ２０
７.２３，２０７.１９，１３６.７，１３１.１，１２
９.４，１２９.３，４９.７，３７.０，３５.４，２９.
９，２１.１.

【００５６】実施例１０：ｏ−メチルベンジル亜鉛クロ
ライドの製造

【化２４】 亜鉛粉末（Ａｌｄｒｉｃｈ製）３.０ｇを窒素気流中、
０.２Ｎ−塩酸水溶液で室温撹拌し、上澄みを除き、
水、アセトンで順次洗浄したのち減圧乾燥した。この亜
鉛粉末２.０ｇのＴＨＦ（８.０ｍｌ）溶液に、アルゴン
雰囲気下、クロロトリメチルシラン０.０５ｍｌを室温
で撹拌しながら加えた。この溶液を４０℃に加熱して、
これにｏ−メチルベンジルクロライド（２.６５ｍｌ，
２０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５.０ｍｌ）溶液を滴下し、
４０〜６０℃で３時間撹拌した。反応終了後、反応液か
ら上澄み液を集め、ｏ−メチルベンジル亜鉛クロライド
のＴＨＦ溶液（１.３８ｍｏｌ／ｌ）を得た。

【００５７】実施例１１：１−（２−メチルフェニル）
ヘキサン−２，５−ジオンの製造

【化２５】 減圧下、１３０℃で１時間乾燥させた塩化リチウム（４
７１ｍｇ、１１.１ｍｍｏｌ）とテトラキス（トリフェ
ニルホスフィン）パラジウム（３８ｍｇ，０.０３ｍｍ
ｏｌ）を一酸化炭素雰囲気下、ＴＨＦ（３ｍｌ）に溶解
し、ついでトリメチルシリルクロライド（０.９８ｍ
ｌ，７.７ｍｍｏｌ）、メチルビニルケトン（０.３０ｍ
ｌ，３.７ｍｍｏｌ）を撹拌しながら加えた。３０℃の
水浴中、反応溶液を激しく撹拌しながら実施例１０で得
られた溶液（１.６０ｍｌ，２.２ｍｍｏｌ）を３０分か
けて滴下し、さらに５分間撹拌した。２Ｎ−塩酸水溶液
（２ｍｌ）を加え、５分間撹拌後、ジエチルエーテル
（１０ｍｌ）で抽出、硫酸ナトリウムで乾燥後、ガスク
ロマトグラフィーによって、１−（２−メチルフェニ
ル）ヘキサン−２，５−ジオンを定量した（収率８８
％）。

【００５８】ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^-1）３１００−２８５
０，１７１５，１４９３，１４６０，１４０１，１３５
８，１１７３，１１２３，１０８３，１０３６，７４５¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：δ ７.２
０−７.１３（ｍ，４Ｈ，Ｐｈ），３.７６（ｓ，２Ｈ，
−ＣＨ₂Ｐｈ），２.６８（ｓ，４Ｈ，−Ｃ（Ｏ）ＣＨ₂
ＣＨ₂ＣＯ），２.２４（ｓ，３Ｈ，ＣＨ₃Ｐｈ），２.１
６（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃）¹³ Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：δ ２０
７.１，２０６.９，１３６.９，１３３.０，１３０.３
７，１３０.３５，１２７.３，１２６.２，４８.１，３
６.９，３５.４，２９.８，１９.６.

【００５９】実施例１２：ｐ−クロロベンジル亜鉛クロ
ライドの製造

【化２６】 亜鉛粉末（Ａｌｄｒｉｃｈ製）６.０ｇを窒素気流中、
０.２Ｎ−塩酸水溶液で室温撹拌し、上澄みを除き、
水、アセトンで順次洗浄したのち減圧乾燥した。この亜
鉛粉末４.９ｇのＴＨＦ（３０ｍｌ）溶液に、アルゴン
雰囲気下、クロロトリメチルシラン０.０８ｍｌを室温
で撹拌しながら加えた。この溶液を４０℃に加熱して、
これにｐ−クロロベンジルクロライド（８.１ｇ，５０
ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２０ｍｌ）溶液を滴下し、４０〜
６０℃で３時間撹拌した。反応終了後、反応液から上澄
み液を集め、ｐ−クロロベンジル亜鉛クロライドのＴＨ
Ｆ溶液（０.９６ｍｏｌ／ｌ）を得た。

【００６０】実施例１３：１−（４−クロロフェニル）
ヘキサン−２，５−ジオンの製造

【化２７】 減圧下、１３０℃で１時間乾燥させた塩化リチウム（４
７１ｍｇ、１１.１ｍｍｏｌ）とテトラキス（トリフェ
ニルホスフィン）パラジウム（３８ｍｇ，０.０３ｍｍ
ｏｌ）を一酸化炭素雰囲気下、ＴＨＦ（３ｍｌ）に溶解
し、ついでトリメチルシリルクロライド（０.９８ｍ
ｌ，７.７ｍｍｏｌ）、メチルビニルケトン（０.３０ｍ
ｌ，３.７ｍｍｏｌ）を撹拌しながら加えた。３０℃の
水浴中、反応溶液を激しく撹拌しながら実施例１２で得
られた溶液（２.３ｍｌ，２.２ｍｍｏｌ）を３０分かけ
て滴下し、さらに５分間撹拌した。２Ｎ−塩酸水溶液
（２ｍｌ）を加え、５分間撹拌後、ジエチルエーテル
（１０ｍｌ）で抽出、硫酸ナトリウムで乾燥後、ガスク
ロマトグラフィーによって、１−（４−クロロフェニ
ル）ヘキサン−２，５−ジオンを定量した（収率６４
％）。

【００６１】ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^-1）：３１２０−２８
９０，１７０５，１４９２，１４１６，１３５８，１３
３０，１２９０，１１６６，１０８８，１０３８，１０
１４，８５１，８３０，７９６，７２７；¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：δ ７.３
０（ｄ，２Ｈ，Ｐｈ，Ｊ＝８.５Ｈｚ），７.１３（ｄ，
２Ｈ，Ｐｈ，Ｊ＝８.３Ｈｚ），３.７４（ｓ，２Ｈ，−
ＣＨ₂Ｐｈ），２.７１（ｄ，４Ｈ，−Ｃ（Ｏ）ＣＨ₂Ｃ
Ｈ₂ＣＯ，Ｊ＝１.７Ｈｚ），２.１７（ｄ，３Ｈ，−Ｃ
Ｈ₃，Ｊ＝１.７Ｈｚ）；¹³ Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：δ ２０
７.５，２０６.３，１３２.９，１３２.５，１３０.
８，１２８.７，４９.１，３７.０，３５.６，２９.８.

【００６２】実施例１４：ｐ−フロロベンジル亜鉛クロ
ライドの製造

【化２８】 亜鉛粉末（Ａｌｄｒｉｃｈ製）３.０ｇを窒素気流中、
０.２Ｎ−塩酸水溶液で室温撹拌し、上澄みを除き、
水、アセトンで順次洗浄したのち減圧乾燥した。この亜
鉛粉末２.０ｇのＴＨＦ（８.０ｍｌ）溶液に、アルゴン
雰囲気下、クロロトリメチルシラン０.０５ｍｌを室温
で撹拌しながら加えた。この溶液を４０℃に加熱して、
これにｐ−フロロベンジルクロライド（２.４ｍｌ，２
０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２.０ｍｌ）溶液を滴下し、４
０〜６０℃で３時間撹拌した。反応終了後、反応液から
上澄み液を集め、ｐ−フロロベンジル亜鉛クロライドの
ＴＨＦ溶液（２.２２ｍｏｌ／ｌ）を得た。

【００６３】実施例１５：１−（４−フロロフェニル）
ヘキサン−２，５−ジオンの製造

【化２９】 減圧下、１３０℃で１時間乾燥させた塩化リチウム（４
７１ｍｇ、１１.１ｍｍｏｌ）とテトラキス（トリフェ
ニルホスフィン）パラジウム（３８ｍｇ，０.０３ｍｍ
ｏｌ）を一酸化炭素雰囲気下、ＴＨＦ（３ｍｌ）に溶解
し、ついでトリメチルシリルクロライド（０.９８ｍ
ｌ，７.７ｍｍｏｌ）、メチルビニルケトン（０.３０ｍ
ｌ，３.７ｍｍｏｌ）を撹拌しながら加えた。３０℃の
水浴中、反応溶液を激しく撹拌しながら実施例１４で得
られた溶液（１.０ｍｌ，２.２ｍｍｏｌ）を３０分かけ
て滴下し、さらに５分間撹拌した。２Ｎ−塩酸水溶液
（２ｍｌ）を加え、５分間撹拌後、ジエチルエーテル
（１０ｍｌ）で抽出、硫酸ナトリウムで乾燥後、ガスク
ロマトグラフィーによって、１−（４−フロロフェニ
ル）ヘキサン−２，５−ジオンを定量した（収率５１
％）。

【００６４】ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^-1）：３１００−２８
９０，１７１４，１６０３，１５１１，１４１７，１４
０７；¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：δ ７.１
６（ｍ，２Ｈ，Ｐｈ），７.０１（ｍ，２Ｈ，Ｐｈ），
３.７４（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ₂Ｐｈ），２.７２（ｓ，４
Ｈ，−Ｃ（Ｏ）ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯ），２.１９（ｓ，３
Ｈ，−ＣＨ₃）；¹³ Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：δ ２０
７.１，２０６.７，１６３.１，１３１.０，１３０.
９，１２９.８，１１５.６，１１５.４，４８.９，３
７.０，３５.５，２９.９.

【００６５】実施例１６：ｐ−ブロモベンジル亜鉛クロ
ライドの製造

【化３０】 亜鉛粉末（Ａｌｄｒｉｃｈ製）３.０ｇを窒素気流中、
０.２Ｎ−塩酸水溶液で室温撹拌し、上澄みを除き、
水、アセトンで順次洗浄したのち減圧乾燥した。この亜
鉛粉末２.０ｇのＴＨＦ（５.０ｍｌ）溶液に、アルゴン
雰囲気下、クロロトリメチルシラン０.０５ｍｌを室温
で撹拌しながら加えた。この溶液を４０℃に加熱して、
これにｐ−ブロモベンジルクロライド（４.１１ｇ，２
０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１６ｍｌ）溶液を滴下し、４０
〜６０℃で３時間撹拌した。反応終了後、反応液から上
澄み液を集め、ｐ−ブロモベンジル亜鉛クロライドのＴ
ＨＦ溶液（０.９５ｍｏｌ／ｌ）を得た。

【００６６】実施例１７：１−（４−ブロモフェニル）
ヘキサン−２，５−ジオンの製造

【化３１】 減圧下、１３０℃で１時間乾燥させた塩化リチウム（４
７１ｍｇ、１１.１ｍｍｏｌ）とテトラキス（トリフェ
ニルホスフィン）パラジウム（３８ｍｇ，０.０３ｍｍ
ｏｌ）を一酸化炭素雰囲気下、ＴＨＦ（３ｍｌ）に溶解
し、ついでトリメチルシリルクロライド（０.９８ｍ
ｌ，７.７ｍｍｏｌ）、メチルビニルケトン（０.３０ｍ
ｌ，３.７ｍｍｏｌ）を撹拌しながら加えた。３０℃の
水浴中、反応溶液を激しく撹拌しながら実施例１６で得
られた溶液（２.３ｍｌ，２.２ｍｍｏｌ）を３０分かけ
て滴下し、さらに５分間撹拌した。２Ｎ−塩酸水溶液
（２ｍｌ）を加え、５分間撹拌後、ジエチルエーテル
（１０ｍｌ）で抽出、硫酸ナトリウムで乾燥後、ガスク
ロマトグラフィーによって、１−（４−ブロモフェニ
ル）ヘキサン−２，５−ジオンを定量した（収率５０
％）。

【００６７】ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^-1）：３１００−２８
９０，１７０３，１４８８，１４１８，１３６０，１３
２９，１２９０，１１６６，１０９４，１０７１，１０
３８，１０１１，８５０，８２６，７９３，７５３，７
２２，６６９，５７９；¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：δ ７.４
４（ｄ，２Ｈ，Ｐｈ，Ｊ＝８.１Ｈｚ），７.０９（ｄ，
２Ｈ，Ｐｈ，Ｊ＝８.１Ｈｚ），３.７２（ｓ，２Ｈ，−
ＣＨ₂Ｐｈ），２.７１（ｓ，４Ｈ，−Ｃ（Ｏ）ＣＨ₂Ｃ
Ｈ₂ＣＯ），２.１７（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃）；¹³ Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：δ ２０
７.０，２０６.２，１３３.０，１３１.７，１３１.
２，１２１.０，４９.２，３７.０，３５.６，２９.９.

【００６８】実施例１８：ｐ−メトキシベンジル亜鉛ク
ロライドの製造

【化３２】 亜鉛粉末（Ａｌｄｒｉｃｈ製）３.０ｇを窒素気流中、
０.２Ｎ−塩酸水溶液で室温撹拌し、上澄みを除き、
水、アセトンで順次洗浄したのち減圧乾燥した。この亜
鉛粉末２.０ｇのＴＨＦ（２５.０ｍｌ）溶液に、アルゴ
ン雰囲気下、クロロトリメチルシラン０.０５ｍｌを室
温で撹拌しながら加えた。この溶液を４０℃に加熱し
て、これにｐ−メトキシベンジルクロライド（１.３６
ｍｌ，１０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２ｍｌ）溶液を滴下
し、４０〜６０℃で３時間撹拌した。反応終了後、反応
液から上澄み液を集め、ｐ−メトキシベンジル亜鉛クロ
ライドのＴＨＦ溶液（０.１３ｍｏｌ／ｌ）を得た。

【００６９】実施例１９：１−（４−メトキシフェニ
ル）ヘキサン−２，５−ジオンの製造

【化３３】 減圧下、１３０℃で１時間乾燥させた塩化リチウム（４
７１ｍｇ、１１.１ｍｍｏｌ）とテトラキス（トリフェ
ニルホスフィン）パラジウム（３８ｍｇ，０.０３ｍｍ
ｏｌ）を一酸化炭素雰囲気下、ＴＨＦ（３ｍｌ）に溶解
し、ついでトリメチルシリルクロライド（０.９８ｍ
ｌ，７.７ｍｍｏｌ）、メチルビニルケトン（０.３０ｍ
ｌ，３.７ｍｍｏｌ）を撹拌しながら加えた。３０℃の
水浴中、反応溶液を激しく撹拌しながら実施例１８で得
られた溶液（１２.３ｍｌ，２.２ｍｍｏｌ）を３０分か
けて滴下し、さらに５分間撹拌した。２Ｎ−塩酸水溶液
（２ｍｌ）を加え、５分間撹拌後、ジエチルエーテル
（１０ｍｌ）で抽出、硫酸ナトリウムで乾燥後、ガスク
ロマトグラフィーによって、１−（４−メトキシフェニ
ル）ヘキサン−２，５−ジオンを定量した（収率１９
％）。

【００７０】ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^-1）：３０６０−２８
３０，１７１１，１６１１，１５８４，１５１３，１４
６５，１４４２，１３５８，１３００，１２４８，１１
７７，１１０８，１０８４，１０３５，８２９；¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：δ ７.１
２（ｄ，２Ｈ，Ｐｈ，Ｊ＝８.９１Ｈｚ），６.８６
（ｄ，２Ｈ，Ｐｈ，Ｊ＝８.５８Ｈｚ），３.７９（ｓ，
３Ｈ，ＣＨ₃Ｏ），３.６８（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ₂Ｐ
ｈ），２.６９（ｍ，４Ｈ，−Ｃ（Ｏ）ＣＨ₂ＣＨ₂Ｃ
Ｏ），２.１６（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃）；¹³ Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：δ ２０
７.４，２０７.２，１５８.６，１３０.４，１２８.
６，１２６.２，５５.２，４９.１，３７.０，３５.
３，２９.９.

【００７１】実施例２０：ｐ−メトキシカルボニルベン
ジル亜鉛クロライドの製造

【化３４】 亜鉛粉末（Ａｌｄｒｉｃｈ製）３.０ｇを窒素気流中、
０.２Ｎ−塩酸水溶液で室温撹拌し、上澄みを除き、
水、アセトンで順次洗浄したのち減圧乾燥した。この亜
鉛粉末２.０ｇのＴＨＦ（２.０ｍｌ）溶液に、アルゴン
雰囲気下、クロロトリメチルシラン０.０５ｍｌを室温
で撹拌しながら加えた。この溶液を４０℃に加熱して、
これにｐ−メトキシカルボニルベンジルクロライド
（３.６９ｇ，２０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１２ｍｌ）溶
液を滴下し、４０〜６０℃で３時間撹拌した。反応終了
後、反応液から上澄み液を集め、ｐ−メトキシカルボニ
ルベンジル亜鉛クロライドのＴＨＦ溶液（１.１８ｍ
ｌ）を得た。

【００７２】実施例２１：１−（４−メトキシカルボニ
ルフェニル）ヘキサン−２，５−ジオンの製造

【化３５】 減圧下、１３０℃で１時間乾燥させた塩化リチウム（４
７１ｍｇ、１１.１ｍｍｏｌ）とテトラキス（トリフェ
ニルホスフィン）パラジウム（３８ｍｇ，０.０３ｍｍ
ｏｌ）を一酸化炭素雰囲気下、ＴＨＦ（３ｍｌ）に溶解
し、ついでトリメチルシリルクロライド（０.９８ｍ
ｌ，７.７ｍｍｏｌ）、メチルビニルケトン（０.３０ｍ
ｌ，３.７ｍｍｏｌ）を撹拌しながら加えた。３０℃の
水浴中、反応溶液を激しく撹拌しながら実施例２０で得
られた溶液（１.８６ｍｌ，２.２ｍｍｏｌ）を３０分か
けて滴下し、さらに５分間撹拌した。２Ｎ−塩酸水溶液
（２ｍｌ）を加え、５分間撹拌後、ジエチルエーテル
（１０ｍｌ）で抽出、硫酸ナトリウムで乾燥後、ガスク
ロマトグラフィーによって、１−（４−メトキシカルボ
ニルフェニル）ヘキサン−２，５−ジオンを定量した
（収率８４％）。

【００７３】ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^-1）：３０８０−２８
４０，１７１８，１７１４，１６１３，１５７６，１５
１０，１４３６，１４１６，１３５７，１２８１，１１
７９，１１０３，１０３７，１０２１，９６６，８６
１，７５７，７０５；¹ Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：δ ８.０
０（ｄ，２Ｈ，Ｐｈ，Ｊ＝８.２４Ｈｚ），７.２８
（ｄ，２Ｈ，Ｐｈ，Ｊ＝８.２５Ｈｚ），３.９０（ｓ，
３Ｈ，ＣＨ₃Ｏ），３.８２（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ₂Ｐ
ｈ），２.７１（ｍ，４Ｈ，−Ｃ（Ｏ）ＣＨ₂ＣＨ₂Ｃ
Ｏ），２.１７（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃）；¹³ Ｃ−ＮＭＲ（６８ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：δ ２０６.
９，２０５.９，１６６.８，１３９.２，１２９.８，１
２８.８，５２.０，４９.７，３７.０，３５.７，２９.
８.

【００７４】実施例２２：ｐ−シアノベンジル亜鉛ブロ
マイドの製造

【化３６】 亜鉛粉末（Ａｌｄｒｉｃｈ製）３.０ｇを窒素気流中、
０.２Ｎ−塩酸水溶液で室温撹拌し、上澄みを除き、
水、アセトンで順次洗浄したのち減圧乾燥した。この亜
鉛粉末２.０ｇのＴＨＦ（５.０ｍｌ）溶液に、アルゴン
雰囲気下、クロロトリメチルシラン０.０５ｍｌを室温
で撹拌しながら加えた。この溶液を４０℃に加熱して、
これにｐ−シアノベンジルブロマイド（３.９２ｇ，２
０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１６ｍｌ）溶液を滴下し、４０
℃で３時間撹拌した。反応終了後、反応液から上澄み液
を集め、ｐ−シアノベンジル亜鉛ブロマイドのＴＨＦ溶
液（１.１８ｍｌ）を得た。

【００７５】実施例２３：１−（４−シアノフェニル）
ヘキサン−２，５−ジオンの製造

【化３７】 減圧下、１３０℃で１時間乾燥させた塩化リチウム（４
７１ｍｇ、１１.１ｍｍｏｌ）とテトラキス（トリフェ
ニルホスフィン）パラジウム（３８ｍｇ，０.０３ｍｍ
ｏｌ）を一酸化炭素雰囲気下、ＴＨＦ（３ｍｌ）に溶解
し、ついでトリメチルシリルクロライド（０.９８ｍ
ｌ，７.７ｍｍｏｌ）、メチルビニルケトン（０.３０ｍ
ｌ，３.７ｍｍｏｌ）を撹拌しながら加えた。３０℃の
水浴中、反応溶液を激しく撹拌しながら実施例２２で得
られた溶液（１.８６ｍｌ，２.２ｍｍｏｌ）を３０分か
けて滴下し、さらに５分間撹拌した。２Ｎ−塩酸水溶液
（２ｍｌ）を加え、５分間撹拌後、ジエチルエーテル
（１０ｍｌ）で抽出、硫酸ナトリウムで乾燥後、ガスク
ロマトグラフィーによって、１−（４−シアノフェニ
ル）ヘキサン−２，５−ジオンを定量した（収率４６
％）。

【００７６】ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^-1）：２２２６，１７
０２，１６０８，１５０５，１４１２，１３５６，１３
３４，１３１６，１２８９，１１７１，１０９３，１０
３８，８５１，８３０，８０８，７５２；¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：δ ７.６
２（ｄ，２Ｈ，Ｐｈ，Ｊ＝８.２９Ｈｚ），７.３１
（ｄ，２Ｈ，Ｐｈ，Ｊ＝７.８１Ｈｚ），３.８６（ｓ，
２Ｈ，−ＣＨ₂Ｐｈ），２.７４（ｓ，４Ｈ，−Ｃ（Ｏ）
ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯ），２.１８（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃）；¹³ Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：δ ２０
５.３，１３９.４，１３２.３，１３０.４，１１８.
７，４９.６，３７.１，３６.０，２９.８.

【００７７】実施例２４：３−フェニルアセチル−シク
ロヘキサノンの製造

【化３８】 減圧下、１３０℃で１時間乾燥させた塩化リチウム（４
７１ｍｇ、１１.１ｍｍｏｌ）とテトラキス（トリフェ
ニルホスフィン）パラジウム（３８ｍｇ，０.０３ｍｍ
ｏｌ）を一酸化炭素雰囲気下、ＴＨＦ（３ｍｌ）に溶解
し、ついでトリメチルシリルクロライド（０.９８ｍ
ｌ，７.７ｍｍｏｌ）、２−シクロへキセノン（０.３６
ｍｌ，３.７ｍｍｏｌ）を撹拌しながら加えた。３０℃
の水浴中、反応溶液を激しく撹拌しながら実施例１で得
られた溶液（１.２０ｍｌ，２.２ｍｍｏｌ）を３０分か
けて滴下し、さらに５分間撹拌した。２Ｎ−塩酸水溶液
（２ｍｌ）を加え、５分間撹拌後、ジエチルエーテル
（１０ｍｌ）で抽出、硫酸ナトリウムで乾燥後、ガスク
ロマトグラフィーによって、３−フェニルアセチル−シ
クロヘキサノンを定量した（収率２２％）。

【００７８】ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^-1）：３１００−２８
６０，１７０９，１４９７，１４５５，１４１９，１３
４７，１３１６，１２６１，１２２４，１１１０，１０
５９，１０３２，９８０，７５０，７０４；¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：δ ７.３
５−７.２５（ｍ，３Ｈ，Ｐｈ），７.１８（ｄ，２Ｈ，
Ｐｈ，Ｊ＝７.３Ｈｚ），３.７６（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ₂
Ｐｈ，Ｊ＝２.２Ｈｚ），２.９９（ｍ，１Ｈａ，Ｃ２−
Ｈ），２.５１（ｄｄ，１Ｈ，Ｃ２−Ｈｂ，Ｊ＝１４.
４，１１.２Ｈｚ），２.３７−２.２９（ｍ，３Ｈ，Ｃ
３，６−Ｈ），２.０８−２.０２（ｍ，２Ｈ，Ｃ５−
Ｈ），１.７２−１.６７（ｍ，２Ｈ，Ｃ４−Ｈ）；¹³ Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：δ ２０
９.８，２０７.９，１３３.４，１２９.３，１２８.
７，１２７.２，４９.２，４８.３，４２.５，４０.
８，２７.３，２４.７.

【００７９】実施例２５：４−オキソ−５−フェニル−
ペンタナールの製造

【化３９】 減圧下、１３０℃で１時間乾燥させた塩化リチウム（４
７１ｍｇ、１１.１ｍｍｏｌ）とテトラキス（トリフェ
ニルホスフィン）パラジウム（３８ｍｇ，０.０３ｍｍ
ｏｌ）を一酸化炭素雰囲気下、ＴＨＦ（３ｍｌ）に溶解
し、ついでトリメチルシリルクロライド（０.９８ｍ
ｌ，７.７ｍｍｏｌ）、アクロレイン（０.２５ｍｌ，
３.７ｍｍｏｌ）を撹拌しながら加えた。３０℃の水浴
中、反応溶液を激しく撹拌しながら実施例１で得られた
溶液（１.２１ｍｌ，２.２ｍｍｏｌ）を３０分かけて滴
下し、さらに５分間撹拌した。２Ｎ−塩酸水溶液（２ｍ
ｌ）を加え、５分間撹拌後、ジエチルエーテル（１０ｍ
ｌ）で抽出、硫酸ナトリウムで乾燥後、ガスクロマトグ
ラフィーによって、４−オキソ−５−フェニル−ペンタ
ナールを定量した（収率４８％）。

【００８０】ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^-1）：３０９０−２９
００，２８３０，２７３０，１７２１，１７１４，１６
０４，１４９７，１４５４，１４０９，１３６２，１１
３０，１０９２，１０４０，７５３，７３７，７０１；¹ Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：δ ９.７
７（ｓ，１Ｈ，−ＣＨＯ），７.３６−７.１６（ｍ，５
Ｈ，Ｐｈ），３.７５（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ₂Ｐｈ），２.
７４（ｍ，４Ｈ，−Ｃ（Ｏ）ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯ）；¹³ Ｃ−ＮＭＲ（６８ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）；δ ２０６.
３，２００.４，１２９.４，１２８.８，１２８.７，１
２７.１，５０.０，３７.５，３４.０.

【００８１】実施例２６：４−オキソ−５−（４−フロ
ロフェニル）−ペンタナールの製造

【化４０】 減圧下、１３０℃で１時間乾燥させた塩化リチウム（４
７１ｍｇ、１１.１ｍｍｏｌ）とテトラキス（トリフェ
ニルホスフィン）パラジウム（３８ｍｇ，０.０３ｍｍ
ｏｌ）を一酸化炭素雰囲気下、ＴＨＦ（３ｍｌ）に溶解
し、ついでトリメチルシリルクロライド（０.９８ｍ
ｌ，７.７ｍｍｏｌ）、アクロレイン（０.２５ｍｌ，
３.７ｍｍｏｌ）を撹拌しながら加えた。３０℃の水浴
中、反応溶液を激しく撹拌しながら実施例１４で得られ
た溶液（１.０ｍｌ，２.２ｍｍｏｌ）を３０分かけて滴
下し、さらに５分間撹拌した。２Ｎ−塩酸水溶液（２ｍ
ｌ）を加え、５分間撹拌後、ジエチルエーテル（１０ｍ
ｌ）で抽出、硫酸ナトリウムで乾燥後、ガスクロマトグ
ラフィーによって、４−オキソ−５−（４−フロロフェ
ニル）−ペンタナールを定量した（収率３３％）。 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^-1）：３１５０−２９００，２８３
０，２７３４，１８９３，１７１８，１６０４，１５１
０，１４０６，１３６０，１２２２，１１６０，１０９
２，１０３５，１０１７，８２７，７６８，７３９；¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：δ９.７７
（ｓ，１Ｈ，−ＣＨＯ），７.１６（ｍ，２Ｈ，Ｐ
ｈ），７.０２（ｍ，２Ｈ，Ｐｈ），３.７４（ｓ，２
Ｈ，−ＣＨ₂Ｐｈ），２.７６（ｓ，４Ｈ，−Ｃ（Ｏ）Ｃ
Ｈ₂ＣＨ₂ＣＯ）；¹³ Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：δ ２０
６.０，２００.２，１６３.２，１６０.８，１３１.
０，１３０.９，１２９.６２，１２９.５８，１１５.
７，１１５.５，４８.９，３７.５，３４.０.

【００８２】実施例２７：ｐ−フェニルベンジル亜鉛ク
ロライドの製造

【化４１】 亜鉛粉末（Ａｌｄｒｉｃｈ製）３.０ｇを窒素気流中、
０.２Ｎ−塩酸水溶液で室温撹拌し、上澄みを除き、
水、アセトンで順次洗浄したのち減圧乾燥した。この亜
鉛粉末２.０ｇのＴＨＦ（３.０ｍｌ）溶液に、アルゴン
雰囲気下、クロロトリメチルシラン０.０５ｍｌを室温
で撹拌しながら加えた。この溶液を４０℃に加熱して、
これにｐ−フェニルベンジルクロリド（４.０５ｇ，２
０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０ｍｌ）溶液を滴下し、４０
〜６０℃で３時間撹拌した。反応終了後、反応液から上
澄み液を集め、ｐ−フェニルベンジル亜鉛クロライドの
ＴＨＦ溶液（１.６０ｍｏｌ／ｍｌ）を得た。

【００８３】実施例２８：１−ビフェニル−４’−イル
−ヘキサン−２，５−ジオンの製造

【化４２】 減圧下、１３０℃で１時間乾燥させた塩化リチウム（４
７１ｍｇ、１１.１ｍｍｏｌ）とテトラキス（トリフェ
ニルホスフィン）パラジウム（３８ｍｇ，０.０３ｍｍ
ｏｌ）を一酸化炭素雰囲気下、ＴＨＦ（３ｍｌ）に溶解
し、ついでトリメチルシリルクロライド（０.９８ｍ
ｌ，７.７ｍｍｏｌ）、メチルビニルケトン（０.３０ｍ
ｌ，３.７ｍｍｏｌ）を撹拌しながら加えた。３０℃の
水浴中、反応溶液を激しく撹拌しながら実施例２７で得
られた溶液（１.４０ｍｌ，２.２ｍｍｏｌ）を３０分か
けて滴下し、さらに５分間撹拌した。２Ｎ−塩酸水溶液
（２ｍｌ）を加え、５分間撹拌後、ジエチルエーテル
（１０ｍｌ）で抽出、硫酸ナトリウムで乾燥後、ガスク
ロマトグラフィーによって、１−ビフェニル−４’−イ
ル−ヘキサン−２，５−ジオンを定量した（収率６５
％）。

【００８４】ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ^-1）：３０００−２８
５０，１７０４，１４９０，１４０８，１３６１，１３
３６，１３０７，１２３９，１１６７，１０９５，１０
３８，７６０，７４０，６９０；¹ Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：δ ７.５
７（ｍ，４Ｈ，Ｐｈ），７.４３（ｍ，２Ｈ，Ｐｈ），
７.３４（ｍ，１Ｈ，Ｐｈ），７.２７（ｍ，２Ｈ，Ｐ
ｈ），３.７８（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ₂Ｐｈ），２.７３
（ｍ，４Ｈ，−Ｃ（Ｏ）ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯ），２.１８
（ｓ，３Ｈ，−ＣＨ₃）；¹³ Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ₃）：δ ２０
７.２，２０６.９，１４０.７，１３４０.０，１３３.
１，１２９.９，１２８.７，１２７.４，１２７.３，１
２７.０，４９.６，３７.０，３５.６，２９.９.

【００８５】

【発明の効果】本発明の方法によれば、パラジウム触媒
及びリチウム塩を用いて、有機亜鉛化合物、シリルエノ
ールエーテル化合物及び一酸化炭素から、医薬、農薬あ
るいは機能性材料等の合成中間体として極めて有用な
１，４−ジカルボニル化合物を、従来の方法に比べて穏
和な条件で収率よく工業上有利に製造することができ
る。例えば、本発明方法で製造される１，４−ジカルボ
ニル化合物のひとつである１−（４−メチルフェニル）
ヘキサン−２，５−ジオンは、Heterocycles, (1979) 1
2, 791に記載された抗菌・抗生活性を有する天然物であ
るクパレンの原料となり得る。また、５−（４−フロロ
フェニル）−４−オキソペンタンアルデヒドは、米国特
許第5,474,995号明細書に記載された抗炎・鎮痛・解熱
作用を有する医薬品の原料として使用できる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０７Ｃ 49/255 Ｃ０７Ｃ 49/255 Ｂ 49/258 49/258 49/657 49/657 67/333 67/333 69/76 69/76 Ｚ 253/30 253/30 255/56 255/56 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｆ 3/06 Ｃ０７Ｆ 3/06 Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AC24 AC44 BA03 BA25 BA37 BA48 BB25 BE40 BJ50 BR10 QN30 4H039 CA19 CA62 4H048 AA02 AB84 BB25 VA12 VA67

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（２） 【化１】 （式中、Ｒ¹はハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ
   基、アシル基、エステル基、シアノ基、アリール基、ア
   ラルキル基またはアリールオキシ基を表わし、ｎは０ま
   たは１〜５の整数を表わし、ｎが２〜５の場合ｎ個のＲ
   ¹は互いに同一でも異なっていてもよく、Ｘは塩素原
   子、臭素原子またはヨウ素原子を表わす。）で示される
   有機亜鉛化合物と、一般式（３） 【化２】 Ｒ⁴−ＣＨ＝Ｃ(Ｒ³)−Ｃ(Ｏ)−Ｒ² （３） （式中、Ｒ²は水素原子、アルキル基、アルケニル基、
   アルキニル基、アリール基、またはアラルキル基を表わ
   し、 Ｒ³及びＲ⁴は互いに同一でも異なっていてもよく、それ
   ぞれ水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原
   子、アリール基、アラルキル基またはアリールオキシ基
   を表わし、あるいはＲ²とＲ³は互いに結合してそれらが
   結合している炭素原子と共に炭素数４〜８のシクロアル
   カノンを表わし、あるいはＲ²とＲ⁴は互いに結合してそ
   れらが結合している炭素原子およびＲ³が結合している
   炭素原子と共に炭素数４〜８のシクロアルケン−３−オ
   ンを表わし、あるいはＲ³とＲ⁴は互いに結合してそれら
   が結合している炭素原子と共に炭素数４〜８のシクロア
   ルケンを表わす。）で示される共役カルボニル化合物
   と、一般式（４） 【化３】 （式中、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷は互いに同一でも異なってい
   てもよく、それぞれ炭素数１〜４のアルキル基を表わ
   し、Ｙは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表わ
   す。）で示されるトリアルキルシリルハライドとを、パ
   ラジウム触媒、リチウム塩及び一酸化炭素の存在下反応
   させた後、酸で処理することを特徴とする一般式（５） 【化４】 （式中の記号は前記と同じ意味を表わす。）で示される
   １，４−ジカルボニル化合物の製造方法。
2. 【請求項２】 一般式（１） 【化５】 （式中の記号は請求項１と同じ意味を表わす。）で示さ
   れる置換ベンジルハライドと活性化された金属亜鉛とを
   反応させて得られる一般式（２） 【化６】 （式中の記号は前記と同じ意味を表わす。）で示される
   有機亜鉛化合物と、一般式（３） 【化７】 Ｒ⁴−ＣＨ＝Ｃ(Ｒ³)−Ｃ(Ｏ)−Ｒ² （３） （式中の記号は、請求項１の記載と同じ意味を表わ
   す。）で示される共役カルボニル化合物と、一般式
   （４） 【化８】 （式中の記号は、請求項１の記載と同じ意味を表わ
   す。）で示されるトリアルキルシリルハライドとを、パ
   ラジウム触媒、リチウム塩及び一酸化炭素の存在下反応
   させた後、酸で処理することを特徴とする一般式（５） 【化９】 （式中の記号は前記と同じ意味を表わす。）で示される
   １，４−ジカルボニル化合物の製造方法。
3. 【請求項３】 パラジウム触媒、リチウム塩及び一酸化
   炭素の存在下、一般式（３）で示される共役カルボニル
   化合物と、一般式（４）で示されるトリアルキルシリル
   ハライドを反応させた後、一般式（２）で示される有機
   亜鉛化合物を反応させる請求項１に記載の１，４−ジカ
   ルボニル化合物の製造方法。
4. 【請求項４】 一般式（３）で示される共役カルボニル
   化合物と、一般式（４）で示されるトリアルキルシリル
   ハライドを反応させた後、パラジウム触媒、リチウム塩
   及び一酸化炭素の存在下、一般式（２）で示される有機
   亜鉛化合物を反応させる請求項１に記載の１，４−ジカ
   ルボニル化合物の製造方法。
5. 【請求項５】 リチウム塩が、リチウムのハロゲン化物
   である請求項１乃至４のいずれかに記載の１，４−ジカ
   ルボニル化合物の製造方法。