JP2003257947A - 半導体処理装置用データ処理装置 - Google Patents
半導体処理装置用データ処理装置Info
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Abstract
よい半導体処理装置用データ処理装置を提供する。 【解決手段】ウエハに加工処理を施す半導体処理装置1
と、前記加工処理に伴い生成される処理データを収集す
るデータ収集装置2と、前記データ収集装置に収集した
前記処理データを抽出して前記処理データの複製を作成
するデータ複製装置4aを備えた。また、前記データ複
製装置が作成した複製データを解析して前記処理装置の
処理状態を診断するデータ解析手段3を備えることがで
きる。
Description
ータ処理装置に係り、特に微細加工を施す半導体処理装
置に好適な半導体処理装置用データ処理装置に関する。
タ処理装置の構成を示す図である。図において、1は半
導体処理装置を構成するエッチング装置、11,12は
それぞれエッチング装置1内の処理室を構成するエッチ
ングチャンバ、13,14は各エッチングチャンバに備
えたセンサであり、エッチングチャンバ内あるいはエッ
チングチャンバ外から各種の物理量、例えば真空処理室
の真空度、プラズマ密度、プラズマ発光分光器出力等を
測定してセンサデータとして取得する。15はエッチン
グ装置1の制御装置である。なお、制御装置15からは
処理中のウエハの種類、処理中のウエハに対する処理条
件等のウエハ加工処理情報を取得することができる。2
はデータ収集装置である。21はデータ収集装置のデー
タ処理部であり、前記センサデータ及び前記ウエハの加
工処理情報を収集してデータベース22に格納する。3
はデータ解析装置であり、前記データ処理部21を介し
てデータベース22にアクセスして所要のデータを取得
し、取得したデータを解析する。前記半導体処理装置の
操作者は前記解析結果をもと前記半導体処理装置を操作
することができる。
図である。図に示すように、エッチング処理室1が複数
のエッチングチャンバ11,12を備える場合、データ
処理部21は各チャンバに備えたセンサ13、14のセ
ンサデータを例えば交互に取得処理してデータベース2
2に格納する。
は、例えば前述したようなプラズマ発光分光器の発光ス
ペクトル(毎秒数千データ)の時間変化の情報などが含
まれているため、処理すべき情報量は大きい。このた
め、データ解析装置3は分析のためデータ収集装置2か
らセンサデータ取り出す場合に長時間を要すると共にデ
ータ収集装置2に負荷をかけることになり、データ収集
装置2のデータ収集作業が阻害されることになる。特に
図に示すように複数のエッチングチャンバを有するエッ
チング装置の場合には、図13に示すようにデータ収集
装置はセンサから送られてくるデータに交互に重複して
対処しなければならないことになる。このためデータ解
析装置3のデータ抽出要求等のデータ処理に割り当てる
べき空き時間を確保することが困難になる。すなわち、
従来のデータ処理装置では、解析等の処理を行うに要す
る待ち時間を確定することが困難であり、処理装置とし
ての使い勝手が悪くなる。
もので、処理に要する待ち時間を少なくして使い勝手の
よい半導体処理装置用データ処理装置を提供する。
解決するために次のような手段を採用した。
と、前記加工処理に伴い生成される処理データを収集す
るデータ収集装置と、前記データ収集装置に収集した前
記処理データを抽出して前記処理データの複製を作成す
るデータ複製装置を備えた。また、前記データ複製装置
が作成した複製データを解析して前記処理装置の処理状
態を診断するデータ解析手段を備えることもできる。
面を参照しながら説明する。図1は、本発明の実施形態
にかかる半導体処理装置用データ処理装置を説明する図
である。図1において、4aはデータ複製装置、41は
データベース複製部、42はデータベース22を複製し
た複製データベースである。なお、図において図12に
示される部分と同一部分については同一符号を付してそ
の説明を省略する。
理部21は、センサ13及びセンサ14のセンサデータ
を収集し、また、前記前記制御装置15からウエハの加
工処理情報をウエハ毎に収集してそれぞれをデータベー
ス22に格納する。このとき得られる各ウエハ毎のセン
サデータはセンサデータファイルとしてデータベース2
2に格納する。また、前記ウエハ毎のセンサデータは前
記ウエハ毎の前記加工処理情報と対照表等により関連づ
けて格納しておくとよい。
のセンサデータ、ウエハ毎の加工処理情報及びこれら関
連を示す対照表を取得して、複製データベース42に格
納する。なお、データベース複製部41はデータ収集装
置2の処理の空き時間を利用してデータベースの複製を
行う。なお、前記空き時間が充分にとれない場合、デー
タ処理部21はデータベース22を作成すると同時に作
成したデータを複製装置4aに転送するとよい。このよ
うにすると、一旦データベース22に格納したデータを
再度呼び出して複製装置4aに転送する場合に比して短
時間に転送することができる。また、各センサデータ間
の出力データ量にばらつきがある場合(例えば一部のエ
ッチングチャンバのみが動作している場合)等において
は、データ収集装置に掛かる負荷が軽い間に、複製装置
にデータを転送することができる。
(ウエハ毎のセンサデータ、ウエハ毎の加工処理情報及
びこれらの対照表)を複製データベース42に複製して
格納することにより、データ収集装置2に負荷をかける
ことなくデータ解析を行うことできる。すなわち、デー
タ解析手段3はデータ収集装置2にかける負荷を考慮す
ることなく複製データベースにアクセスすることができ
る。
造を説明する図である。図に示すようにデータベース2
2は前記センサデータをウエハ毎にファイル化したセン
サデータファイル221、並びに前記ウエハ加工処理情
報及び該加工処理情報と前記センサデータファイルの対
応表を格納したウエハ管理テーブル222からなる。複
製サーバ4aの複製データベース42は前記センサデー
タファイル221及びウエハ管理テーブル222の一部
あるいは全部を複製した複製センサデータファイル及び
複製ウエハ管理テーブル422を備える。前述のように
センサデータはデータ量が多いので、データ収集装置2
の処理の空き時間、あるいはセンサからデータを取得す
る毎に複製サーバに転送するのがよい。また、ウエハ管
理テーブルに記録するデータ量は少ないので、ウエハ処
理終了時あるいはロット処理終了時に纏めて転送するの
がよい。
用データ処理装置の処理を説明するフローチャートであ
り、(a)はエッチング装置1の処理を示すフローチャ
ート、(b)はデータ収集装置2の処理を示すフローチ
ャート、(c)はデータ複製装置4aの処理を示すフロ
ーチャートである。
チャート(a)において、ステップ11においてウエハ
処理を開始する。ステップ12において、制御装置はウ
エハ加工処理情報(ウエハの処理条件、ウエハの番号、
処理ロットの名称等)をデータ収集装置に向けて出力す
る。ステップ13において、ウエハ処理中のセンサデー
タを所定時間毎にデータ収集装置は取得することができ
る。ステップ14において、ウエハの処理が終了したか
否かを判断し、処理が終了した場合はステップ15に進
み、次のウエハの処理開始を待つ。
ート(b)において、ステップ21において、エッチン
グ装置から前記ウエハ処理情報を受信したか否かを判定
し、受信した場合はステップ22に進み、そうでない場
合はステップ27に進む。ステップ22において前記セ
ンサデータを受信し、ステップ23において受信したデ
ータをデータベース22センサデータファイル221に
格納する。ステップ24において全てのウエハの処理を
終了したか否かを判定し、終了した場合はステップ25
において、データベースのウエハ管理テーブル222を
更新し、ステップ26において、ウエハ管理テーブル2
22の更新情報をデータ複製装置に送信する。ステップ
27において、未複製のセンサデータがあるか否かを判
定し、未複製のセンサデータがある場合は該データを複
製サーバに送信する。
ャート(c)において、ステップ31において、データ
の受信を待ち、ウエハ管理テーブルのデータを受信した
場合はステップ32に進み、ステップ33において複製
ウエハ管理テーブル422を更新する。前記ステップ3
1において、センサデータを受信した場合はステップ3
4に進み、ステップ35において複製センサデータファ
イルを作成して保存する。
の他の処理(データ処理部21によりデータベース22
を作成すると同時に作成したデータを複製装置4aに転
送する場合の処理)を説明するフローチャートであり、
(a)はエッチング装置1の処理を示すフローチャー
ト、(b)はデータ収集装置2の処理を示すフローチャ
ート、(c)はデータ複製装置4aの処理を示すフロー
チャートである。なお、図において図3に示される部分
と同一部分については同一符号を付してその説明を省略
する。
前述のように受信したセンサデータをデータベース22
のセンサデータファイル221に格納した後、ステップ
23aにおいて、センサデータを複製サーバに転送す
る。このようにすることにより、前述のように一旦デー
タベース22に格納したデータを再度呼び出して複製装
置4aに転送する場合に比して短時間に転送することが
できる。
部に表示する操作表示画面の例を示す図である。実際の
装置では、データ解析手段3は全てのデータを解析する
わけではない。例えば、非常に微細な構造のデバイスの
みを解析の対象とする場合がある。このような場合には
解析対象となるウエハのデータのみを例えばデバイスの
種類、あるいはレシピの種類等を複製条件として指定し
て複製装置4aの複製データベース42に複製するよう
に指示することができる。
スのリスト表示部31に複製するデバイスのリストを入
力し、あるいは複製除外デバイスリスト表示部32に複
製を除外するデバイスのリスト入力して指定する。ま
た、前記データ収集装置2の複製を作成する期間を指定
し、あるいは予約できるようにしてもよい。これは複製
サーバの複製データベース42として大容量の記録装置
を用意できない場合、あるいは長期間亘るデータを取得
してデータ解析する場合等に有効である。
入力等の認証手段により複製を保護することができる。
これにより保護された任意の情報のみを複製データベー
スに格納し情報の漏洩を防止することができる。この機
能によりデバイスメーカは装置メーカに見せるデータを
制限することができる。また逆に装置メーカはデバイス
メーカが利用できるデータを制限することができる。
図である。図において、3はデータ解析手段であり、該
解析手段は3は複製装置4bに格納する。複製装置4b
はデータ解析手段を備えることによりデータ解析サーバ
として機能する。なお、この複製装置(データ解析サー
バ)をWebアプリケーションサーバとして構成する
と、該サーバと接続する外部の入出力装置51、52を
汎用のWebブラウザを用いて簡易に構成することがで
きる。
する図である。図において、3はデータ解析手段、5は
入出力手段であり、これらは複製装置4c内に格納す
る。また、複製装置4cはデータ収集装置2に対して取
り外し可能に、且つ独立して搬送可能に取り付ける。
バ(可搬型解析サーバ)として構成することにより、必
要なときのみにデータ収集装置に取り付けて解析を実行
することができる。すなわち、複製装置4cをデータ収
集装置に接続したときに自身の持つ複製データベース4
2をアップデートして解析を実行することができる。こ
のため、顧客が常時稼働するデータ解析手段を設置する
ことを望まない場合においても、例えば半導体処理装置
メーカーの作業員が前記複製装置4cをデータ収集装置
2の近傍まで持ち込むことにより、該データ収集装置か
らデータを取り出して解析することができる。
の操作表示画面の例を示す図である。
バ(可搬型解析サーバ)として構成し、複製装置4cを
データ収集装置2に連続して接続しない場合、データ収
集装置2に複製装置4cに未だ複製されていないデータ
が大量に残存する場合が生じる。このときデータ収集装
置4cに複製装置4cを接続してデータの複製を開始す
ると、複製に時間がかかって解析作業が開始できなくな
る。しかしながら、複製の開始に先立って、データ収集
装置からデータ複製装置に複製すべきデータの条件を指
定することにより、解析に必要なデータのみを複製する
ことができる。前記複製すべきデータの条件としては、
図に示すように、ウエハに形成されたデバイス名、ウエ
ハ処理に適用したレシピ名あるいは処理を行った日時等
で指定することができる。
する図である。図において、23はエッチング装置1の
例えば処理の終点等をリアルタイムで診断するリアルタ
イム診断部であり、該リアルタイム診断部23はデータ
収集装置2に格納する。3はデータ複製装置(解析サー
バ)に設けたデータ解析手段であり、該解析手段3は、
前記リアルタイム診断部23の診断に必要な情報、例え
ば終点判断の判定基準、あるいは診断のモデル式を生成
して、前記リアルタイム診断部23に供給する。
を用いた診断では、その診断開始までに時間を要しリア
ルタイム診断には適合しない場合がある。しかしなが
ら、リアルタイム診断部23をデータ収集部に配置する
ことにより、即時性を要する診断を速やかに実行するこ
とができる。
明する図である。図において、2a,2bはそれぞれデ
ータ収集装置、3a,3bはそれぞれデータ解析手段で
ある。図に示すように、複数のエッチングチャンバ1
1,12を備えたエッチング装置1において、各エッチ
ングチャンバ11,12毎にデータ収集装置2a、2
B、及びデータ解析手段を備える。
収集装置及びデータ解析手段を備えることにより、デー
タ解析手段はエッチングチャンバの連続するウエハ処理
の間に生じる処理の空き時間を利用して、データをデー
タ収集装置からデータ解析装置に転送することができ
る。
明する図である。図において、22a、22bはそれぞ
れデータ収集装置2の外部に設置した外部データベース
である。データ収集装置2は、収集したデータ保存場所
切り替え条件設定部が設定した切り替え条件に従って切
り替えて前記外部記憶装置22a,22bの何れかに格
納する。23は前記データ保存場所切り替え条件設定部
であり、切り替え条件は外部から設定可能である。24
は表示部であり、前記保存場所の全てあるいは現在保存
中の保存場所等を表示することができる。
あるいは半導体メモリを用いることができる。またこれ
らのメモリと前記データ解析装置をLAN等を介して接
続しておくことにより、データ収集装置2と接続されて
いない状態にある外部記憶装置から、データ収集装置に
かかる負荷を考慮することなくデータを抽出してデータ
解析を実行することができる。
アを用いるとよい。リムーバブルメディアは取り外し可
能なハードディスク、DVDRAM、MOのようなもの
であるとよい。データ収集が終了した時点でメディア本
体をイジェクトするような機構にしておくと、データを
回収する作業員にわかりやすくて更によい。なお、外部
記憶装置としてリムーバブルメディアを用いる場合に
は、該リムーバブメディアはデータ収集装置に組み込む
ことができる。
部記憶装置の容量から自動的に判定してもよいが、ユー
ザが設定できるようになっていると便利である。保存場
所の切り替え条件は、日時を指定する指定でもよいし、
毎週月曜日といった定期的な指定でもよい。また、何ロ
ット分の試料の処理を終了したら切り替えるといった条
件でもよい。作業者は自由に保存場所の切り替え条件を
指定し、保存場所が切り替わったら保存の終了した外部
記憶装置からデータを取り出してバックアップを取った
り、リムーバブルメディアの場合は新しいメディアと交
換したりすることが可能である。また、保存場所が切り
替わったときに、保存場所表示部に表示してもよいし、
電子メールあるいは警報音等により作業者に知らせる機
構を設けてもよい。
よれば、処理に要する待ち時間を少なくして使い勝手の
よい半導体処理装置用データ処理装置を提供することが
できる。また、半導体処理装置の処理室を構成するエッ
チングチャンバ毎にデータ収集装置及びデータ解析装置
を備えるので、データ解析装置のデータ抽出要求等のデ
ータ処理に割り当てるべき空き時間を充分に確保するこ
とができデータ収集装置にかかる負荷を低減することが
できる。また、データ収集装置に複数の外部記憶装置を
接続し、これらを切り替えて使用するので、データ解析
装置のデータ抽出要求等に対してデータ収集装置にかか
る負荷を低減することができ、また、収集したデータの
管理も容易行うことができる。
理に要する待ち時間を少なくして使い勝手のよい半導体
処理装置用データ処理装置を提供することができる。
ータ処理装置を示す図である。
である。
するフローチャートである。
明するフローチャートである。
表示画面の例を示す図である。
表示画面の例を示す図である。
成を示す図である。
Claims (6)
- 【請求項1】 ウエハに加工処理を施す半導体処理装置
と、 前記加工処理に伴い生成される処理データを収集するデ
ータ収集装置と、 前記データ収集装置に収集した前記処理データを抽出し
て前記処理データの複製を作成するデータ複製装置を備
えたことを特徴とする半導体処理装置用データ処理装
置。 - 【請求項2】 ウエハに加工処理を施す半導体処理装置
と、 前記加工処理に伴い生成される処理データを収集するデ
ータ収集装置と、 前記データ収集装置に収集した前記処理データを抽出し
て前記処理データの複製を作成するデータ複製装置と、 前記データ複製装置が作成した複製データを解析して前
記処理装置の処理状態を診断するデータ解析手段を備え
たことを特徴とする半導体処理装置用データ処理装置。 - 【請求項3】 ウエハに加工処理を施す半導体処理装置
と、 前記加工処理に伴い生成される処理データを収集するデ
ータ収集装置と、 前記データ収集装置に収集した前記処理データを外部か
ら入力された抽出条件に従って抽出して前記処理データ
の複製を作成するデータ複製装置と、 前記データ複製装置が作成した複製データを解析して前
記処理装置の処理状態を診断するデータ解析手段を備え
たことを特徴とする半導体処理装置用データ処理装置。 - 【請求項4】 請求項1ないし請求項3の何れか1の記
載において、 前記データ収集手段は前記半導体処理装置を診断する診
断部を備え、前記データ解析手段は前記診断部の診断基
準または診断のモデル式を生成し、生成した診断基準ま
たは診断のモデル式を前記診断部に提供することを特徴
とする半導体処理装置用データ処理装置。 - 【請求項5】 請求項1ないし請求項4の何れか1の記
載において、 前記データ複製装置はデータ収集装置に対して取り外し
可能且つ独立して搬送可能に取り付けたことを特徴とす
る半導体処理装置用データ処理装置。 - 【請求項6】 請求項3の記載において、 前記抽出条件を入力する入力手段は認証手段により保護
されていることを特徴とする半導体処理装置用データ処
理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002058905A JP2003257947A (ja) | 2002-03-05 | 2002-03-05 | 半導体処理装置用データ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002058905A JP2003257947A (ja) | 2002-03-05 | 2002-03-05 | 半導体処理装置用データ処理装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005120102A Division JP2005217447A (ja) | 2005-04-18 | 2005-04-18 | 半導体処理方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003257947A true JP2003257947A (ja) | 2003-09-12 |
Family
ID=28668747
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002058905A Pending JP2003257947A (ja) | 2002-03-05 | 2002-03-05 | 半導体処理装置用データ処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003257947A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008263231A (ja) * | 2008-07-11 | 2008-10-30 | Hitachi Ltd | 半導体処理方法 |
US8932882B2 (en) | 2010-04-08 | 2015-01-13 | Ps4 Luxco S.A.R.L. | Method of manufacturing semiconductor device |
JP2021005694A (ja) * | 2019-06-27 | 2021-01-14 | 東京エレクトロン株式会社 | データ処理装置、データ処理方法及びプログラム |
-
2002
- 2002-03-05 JP JP2002058905A patent/JP2003257947A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008263231A (ja) * | 2008-07-11 | 2008-10-30 | Hitachi Ltd | 半導体処理方法 |
US8932882B2 (en) | 2010-04-08 | 2015-01-13 | Ps4 Luxco S.A.R.L. | Method of manufacturing semiconductor device |
JP2021005694A (ja) * | 2019-06-27 | 2021-01-14 | 東京エレクトロン株式会社 | データ処理装置、データ処理方法及びプログラム |
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Effective date: 20040629 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
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A521 | Written amendment |
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A02 | Decision of refusal |
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A521 | Written amendment |
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