JP2003255115A - パターン状の金属反射層を有する回折構造形成体とその製造方法、並びに回折構造体転写箔、回折構造体ステッカー、及び回折構造体付き情報記録媒体 - Google Patents
パターン状の金属反射層を有する回折構造形成体とその製造方法、並びに回折構造体転写箔、回折構造体ステッカー、及び回折構造体付き情報記録媒体Info
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Abstract
たパターン状の金属反射層を有する回折構造形成体とそ
の製造方法、パターン状の金属反射層を有する回折構造
形成体を用いた回折構造体転写箔、回折構造体ステッカ
ー、及び回折構造体転写箔、回折構造体ステッカーを用
いた回折構造体付き情報記録媒体を提供すること。 【解決手段】回折構造の形状に追従した金属反射層13
面にフォトレジスト層15を形成し、マスク層15bを
形成し、金属反射層をエッチングによりパターン状13
bに形成すること。回折構造の形状に追従した金属反射
層を有する回折構造形成体の金属反射層が、回折構造の
面上にパターン状に設けられていること。
Description
や改ざんの防止、万一不正が行われた場合、容易に発見
することが求められる媒体に対する偽造防止、及び各種
製品の認証に好適に利用可能な回折構造形成体とその製
造方法、並びに回折構造体転写箔、回折構造体ステッカ
ー、及び回折構造体付き情報記録媒体に関するものであ
る。
する回折構造形成体における金属反射層のパターン化
は、 1.水洗インキを基材上にネガパターンで印刷してお
き、その上から蒸着やスパッタリングを用いて全面に金
属反射層を形成し、印刷されてある水洗インキを水で洗
い流す際に、その上の金属反射層を取り除くことにより
パターンを形成する水洗シーライト加工。 2.金属反射層上にマスク剤をポジパターンで印刷し、
マスク剤で印刷されていない部分を腐食剤で腐食させる
ことによりパターンを形成するエッチング加工。 3.金属反射層の内、除去したい部分に強いレーザを当
てて金属反射層を選択的に破壊することによりパターン
を形成するレーザ加工。などの加工方法を用いてパター
ン化されてきた。
ライト加工やエッチング加工では、画像の精細さが印刷
の精度に依存し、細かいパターンの形成が難しい。ま
た、レーザ加工では、レーザ光が反射されるためレーザ
光の出力がある程度以上強くないと高速の加工が難し
い。
点を解決するためになされたものであり、パターン状の
金属反射層を有する回折構造形成体であって、細かいパ
ターン状の金属反射層を高速で加工したパターン状の金
属反射層を有する回折構造形成体、及びその製造方法を
提供することを課題とするものである。また、本発明
は、上記パターン状の金属反射層を有する回折構造形成
体を用いた回折構造体転写箔、回折構造体ステッカー、
及び該回折構造体転写箔、回折構造体ステッカーを用い
た回折構造体付き情報記録媒体を提供することを課題と
する。
状に追従した金属反射層を有する回折構造形成体の該金
属反射層面に、フォトレジストを塗工してフォトレジス
ト層を形成し、該フォトレジスト層を選択的にパターン
状に露光した後に現像することにより、該フオトレジス
ト層がパターニングされたマスク層を形成し、該マスク
層にマスクされた部分以外の露出した該金属反射層をエ
ッチングにより除去し、該金属反射層をパターン状に形
成することを特徴とするパターン状の金属反射層を有す
る回折構造形成体の製造方法である。
状の金属反射層を有する回折構造形成体の製造方法にお
いて、前記金属反射層は、両性金属を使用した両性金属
反射層であって、且つ、前記フォトレジストは、アルカ
リ現像型のフォトレジストであることを特徴とするパタ
ーン状の金属反射層を有する回折構造形成体の製造方法
である。
状の金属反射層を有する回折構造形成体の製造方法にお
いて、前記金属反射層は、卑金属を使用した卑金属反射
層であって、且つ、前記フォトレジストは、酸現像型の
フォトレジストであることを特徴とするパターン状の金
属反射層を有する回折構造形成体の製造方法である。
た金属反射層を有する回折構造形成体の該金属反射層
が、該回折構造の面上にパターン状に設けられているこ
とを特徴とするパターン状の金属反射層を有する回折構
造形成体である。
状の金属反射層を有する回折構造形成体において、前記
金属反射層が、両性金属を使用した両性金属反射層であ
ることを特徴とするパターン状の金属反射層を有する回
折構造形成体である。
状の金属反射層を有する回折構造形成体において、前記
金属反射層が、卑金属を使用した卑金属反射層であるこ
とを特徴とするパターン状の金属反射層を有する回折構
造形成体である。
離可能な剥離保護層、回折構造の面側を該剥離保護層に
接して上記発明によるパターン状の金属反射層を有する
回折構造形成体、及び接着層が順次に設けられているこ
とを特徴とする回折構造体転写箔である。
側を該基材に接して上記発明によるパターン状の金属反
射層を有する回折構造形成体、及び粘着層が順次に設け
られていることを特徴とする回折構造体ステッカーであ
る。
つ、偽造又は改ざんの対策が求められる情報記録媒体で
あって、上記発明による回折構造体転写箔を用い、該回
折構造体転写箔の回折構造形成体が転写されたことを特
徴とする回折構造体付き情報記録媒体である。
つ、偽造又は改ざんの対策が求められる情報記録媒体で
あって、上記発明による回折構造体ステッカーを用い、
該回折構造体ステッカーの回折構造形成体が貼付けされ
たことを特徴とする回折構造体付き情報記録媒体であ
る。
の金属反射層を有する回折構造形成体とその製造方法、
並びに回折構造体転写箔、回折構造体ステッカー、及び
回折構造体付き情報記録媒体を、その実施形態に基づい
て説明する。
射層を有する回折構造形成体の一実施例を示す断面図で
ある。図1に示すように、パターン状の金属反射層を有
する回折構造形成体(14b)は、回折構造形成層(1
2)、及びパターン状の金属反射層(13b)で構成さ
れるものである。図1は、このパターン状の金属反射層
を有する回折構造形成体(14b)が基材(11)上に
設けられた状態である。回折構造形成層(12)の、基
材(11)と接しない面側には、波状で示す回折構造が
形成されている。また、パターン状の金属反射層(13
b)は回折構造形成層(12)の面上の回折構造の形状
に追従した形状となっている。
金属反射層を有する回折構造形成体の製造方法の一例を
断面で示す説明図である。図2は、基材(11)上に、
回折構造形成層(12)、及び金属反射層(13)で構
成される回折構造形成体(14)が設けられた状態のも
のである。回折構造形成層(12)の、基材(11)と
接しない面側には、波状で示す回折構造が全面に形成さ
れており、また、金属反射層(13)は回折構造形成層
(12)の面上の回折構造の形状に追従し全面に形成さ
れている。
(14)の金属反射層(13)上にフォトレジストを塗
工してフォトレジスト層(15)を形成する。このフォ
トレジスト層(15)に選択的にパターン状に露光し、
現像処理を行い、未硬化部分(15a)を除去し、図4
〜図5に示すように、マスク層(15b)を形成する。
次に、マスク層(15b)にマスクされた部分以外の露
出した金属反射層をエッチングにより除去し、全面に形
成されている金属反射層(13)をパターン状の金属反
射層(13b)とする。これにより、図6に示すよう
に、パターン状の金属反射層を有する回折構造形成体
(14b)を得る。
般にホログラム技術によるものと回折格子技術によるも
のとに分けられる。ホログラムの場合は、光学的な撮影
方法を経て形成される微細な凹凸パターンを備えたレリ
ーフ型のマスター版を作製し、次に、このマスター版か
ら電気メッキ法により凹凸パターンを複製したニッケル
製のプレス版を作製し、そして、このプレス版をホログ
ラムを形成する層上に加熱押圧するという方法を用いて
凹凸パターンの大量複製が行われている。このタイプの
ホログラムはレリーフ型ホログラムと称されている。
するホログラムの場合とは異なり、微少なエリアに複数
種類の単純な回折格子を配置して画素とし、グレーティ
ングイメージ、ドットマトリックス(ピクセルグラム
等)と呼ばれる画像を表現するものである。このような
回折格子を用いた画像を形成する微細な凹凸パターン
は、レリーフ型ホログラムと同様な方法で大量複製が行
われている。
成する方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法な
どの公知の方法を用いることができる。ここで用いる基
材(11)としては、PET(ポリエチレンテレフタレ
ート)、PEN(ポリエチレンナフタレート)、PP
(ポリプロピレン)などのプラスチックフィルムを用い
ることができるが、金属反射層の形成時にかかる熱量に
よって変形、変質のない耐熱性を有するものを用いるこ
とが望ましい。
い場合には、基材に回折構造形成層(12)を追加する
ことができる。材料としては、2液硬化性樹脂、熱可塑
性樹脂、熱硬化性樹脂などを用いることができる。ま
た、形成の方法としては、グラビアコーティング法、マ
イクログラビアコーティング法などの公知のコーティン
グ方法を用いることができる。
序であるが、回折構造形成層(12)に回折構造を形成
した後に金属反射層(13)を設けても、回折構造形成
層(12)上に金属反射層(13)を設けた後に回折構
造を形成してもかまわない。一般に、金属反射層(1
3)を設けた後に回折構造を設ける方が、回折構造形成
層に直接回折構造を形成するより、回折構造の形成に大
きな圧力が必要になる。
体にフォトレジスト層(15)を設ける場合には、グラ
ビアコーティング法、マイクログラビアコーティング法
などを用いることができる。
トレジストとしては、可視光、紫外線、X線、電子線で
露光すれるものが望ましい。パターン露光にはフォトマ
スクなどのマスクを用いる他、細く絞った光線または電
子線によりオン・オフしながらのスキャニングによって
パターンを形成していく方法がある。フォトレジスト層
(15)の現像により、フォトレジスト層の未硬化部
(15a)を除去し、フォトレジスト層(15)の硬化
部分をマスク層(15b)とする。現像により形成した
マスク層(15b)に覆われた部分以外の金属反射層
(13)をエッチングにより除去し、パターン状の金属
反射層(13b)を形成する。
り現像ができるものを用い、金属反射層にAl、Snな
どの両性金属を用いた場合には、現像工程と同時にエッ
チング加工ができるため効率が良い。また、フォトレジ
スト層として酸溶液により現像できるものを用い、卑金
属反射層にAl、Fe、Ni、Sn、Pb、Tiなどを
用いた場合には、現像工程と同時にエッチング加工がで
きるため効率がよい。
射層(13)をフォトレジストを用いてパターン化する
ので、細かいパターン状の金属反射層を高速で加工する
ことができる。また、金属反射層の材料として、例え
ば、Alを使用するとフォトレジスト層の現像と金属反
射層のエッチングを同時に行うことができ、加工効率が
向上したものとなる。
する回折構造形成体は、転写箔もしくはステッカーとし
て加工し、情報記録媒体に転写もしくは貼付することに
より情報記録媒体のセキュリティー性や装飾性を高める
ことができる。図7は、本発明による回折構造体転写箔
の一例の断面図である。図7に示すように、この回折構
造体転写箔は、基材(11)上に剥離保護層(16)、
パターン状の金属反射層を有する回折構造形成体(14
b)、及び接着層(17)が順次に設けられたものであ
る。
1)に剥離保護層(16)、回折構造形成層(12)を
コーティングにより作製し、プレス版を取り付けたエン
ボス機により回折構造画像を形成し、金属反射層(1
3)を形成し、フォトレジストのコーティング、パター
ン露光、現像、エッチングの工程を経てパターン状の金
属反射層(13b)を形成し、接着層(17)を塗工す
ることにより得られる。
などで情報記録媒体にパターン状の金属反射層を有する
回折構造形成体(14b)を転写する転写箔として用い
ることができる。図8は、本発明による回折構造体ステ
ッカーの一例の断面図である。図8に示すように、この
回折構造体ステッカーは、基材(11)上にパターン状
の金属反射層を有する回折構造形成体(14b)、及び
粘着層(18)が順次に設けられたものである。
(11)に回折構造形成層(12)をコーティングによ
り形成し、プレス版を取り付けたエンボス機により回折
構造体を形成し、金属反射層(13)を形成し、フォト
レジストのコーティング、パターン露光、現像、エッチ
ングの工程を経てパターン状の金属反射層(13b)を
形成し、粘着層(18)を塗工する。この回折構造体ス
テッカーは、情報記録媒体に貼付して用いることができ
る。
を転写、あるいは回折構造体ステッカーを貼付した例を
示す平面図である。図9に示すように、情報記録媒体
(94)上に回折構造体転写箔、あるいは回折構造体ス
テッカー(91)が設けられることにより、セキュリテ
ィー性や装飾性に優れた情報記録媒体となっている。
の剥離保護層をグラビアコーティング法を用いて2μm
の膜厚で塗工し、ウレタン系樹脂の回折構造形成層をグ
ラビアコーティング法を用いて0.5μmの膜厚で塗工
した。この原反に、ニッケル製のホログラム版を取り付
けたエンボス機を用いてホログラム(回折構造)を形成
した。ホログラムの成型面にアルミニウム蒸着をかけ、
紫外線露光により硬化し、アルカリで現像するタイプの
レジスト材料を2μm塗工し、フォトマスクを通してパ
ターン露光し、水酸化ナトリウム溶液中で現像と同時に
エッチングを行い、パターン状の金属反射層を有する回
折構造形成体を得た。アクリル系樹脂の接着層をグラビ
アコーティング法を用いて2μmの膜厚で塗工し、回折
構造体転写箔を得た。得られた回折構造体転写箔をホッ
トスタンプを用いて情報記録媒体に転写し、回折構造体
付き情報記録媒体を得た。
属反射層を有する回折構造形成体の金属反射層面に、フ
ォトレジストを用いてマスク層を形成し、エッチングに
より金属反射層をパターン状に形成するパターン状の金
属反射層を有する回折構造形成体の製造方法であるの
で、細かいパターン状の金属反射層を高速で加工したパ
ターン状の金属反射層を有する回折構造形成体の製造方
法となる。
回折構造の面上にパターン状に設けられているパターン
状の金属反射層を有する回折構造形成体であるので、細
かいパターン状の金属反射層を高速で加工したパターン
状の金属反射層を有する回折構造形成体となる。
回折構造形成体の一実施例を示す断面図である。
回折構造形成体の製造方法の一例を断面で示す説明図で
ある。
回折構造形成体の製造方法の一例を断面で示す説明図で
ある。
回折構造形成体の製造方法の一例を断面で示す説明図で
ある。
回折構造形成体の製造方法の一例を断面で示す説明図で
ある。
回折構造形成体の製造方法の一例を断面で示す説明図で
ある。
である。
面図である。
いは回折構造体ステッカーを貼付した例を示す平面図で
ある。
形成体 15・・・フォトレジスト層 15a・・・未硬化部分 15b・・・マスク層 16・・・剥離保護層 17・・・接着層 18・・・粘着層 91・・・回折構造体転写箔あるいは回折構造体ステッ
カー 94・・・情報記録媒体
Claims (10)
- 【請求項1】回折構造の形状に追従した金属反射層を有
する回折構造形成体の該金属反射層面に、フォトレジス
トを塗工してフォトレジスト層を形成し、該フォトレジ
スト層を選択的にパターン状に露光した後に現像するこ
とにより、該フオトレジスト層がパターニングされたマ
スク層を形成し、該マスク層にマスクされた部分以外の
露出した該金属反射層をエッチングにより除去し、該金
属反射層をパターン状に形成することを特徴とするパタ
ーン状の金属反射層を有する回折構造形成体の製造方
法。 - 【請求項2】前記金属反射層は、両性金属を使用した両
性金属反射層であって、且つ、前記フォトレジストは、
アルカリ現像型のフォトレジストであることを特徴とす
る請求項1記載のパターン状の金属反射層を有する回折
構造形成体の製造方法。 - 【請求項3】前記金属反射層は、卑金属を使用した卑金
属反射層であって、且つ、前記フォトレジストは、酸現
像型のフォトレジストであることを特徴とする請求項1
記載のパターン状の金属反射層を有する回折構造形成体
の製造方法。 - 【請求項4】回折構造の形状に追従した金属反射層を有
する回折構造形成体の該金属反射層が、該回折構造の面
上にパターン状に設けられていることを特徴とするパタ
ーン状の金属反射層を有する回折構造形成体。 - 【請求項5】前記金属反射層が、両性金属を使用した両
性金属反射層であることを特徴とする請求項4記載のパ
ターン状の金属反射層を有する回折構造形成体。 - 【請求項6】前記金属反射層が、卑金属を使用した卑金
属反射層であることを特徴とする請求項4記載のパター
ン状の金属反射層を有する回折構造形成体。 - 【請求項7】基材上に、該基材から剥離可能な剥離保護
層、回折構造の面側を該剥離保護層に接して請求項4乃
至請求項6のいずれか1項に記載のパターン状の金属反
射層を有する回折構造形成体、及び接着層が順次に設け
られていることを特徴とする回折構造体転写箔。 - 【請求項8】基材上に、回折構造の面側を該基材に接し
て請求項4乃至請求項6のいずれか1項に記載のパター
ン状の金属反射層を有する回折構造形成体、及び粘着層
が順次に設けられていることを特徴とする回折構造体ス
テッカー。 - 【請求項9】情報が記録してあり、且つ、偽造又は改ざ
んの対策が求められる情報記録媒体であって、請求項7
記載の回折構造体転写箔を用い、該回折構造体転写箔の
回折構造形成体が転写されたことを特徴とする回折構造
体付き情報記録媒体。 - 【請求項10】情報が記録してあり、且つ、偽造又は改
ざんの対策が求められる情報記録媒体であって、請求項
8記載の回折構造体ステッカーを用い、該回折構造体ス
テッカーの回折構造形成体が貼付けされたことを特徴と
する回折構造体付き情報記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2002060098A JP2003255115A (ja) | 2002-03-06 | 2002-03-06 | パターン状の金属反射層を有する回折構造形成体とその製造方法、並びに回折構造体転写箔、回折構造体ステッカー、及び回折構造体付き情報記録媒体 |
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