JP2015024498A - 加飾材パターン付き基板およびその製造方法、加飾材形成用積層材料ならびに加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料 - Google Patents

Abstract

【課題】工程が単純であり、製造コストが低く、下地色層の膜厚のバラツキが少なく、高精度な加飾材パターンを有する加飾材パターン付き基板の製造方法の提供。
【解決手段】支持体上に感光性樹脂層を有する加飾材形成用積層材料の前記感光性樹脂層側の表面を基板に積層する工程、ならびに、前記加飾材形成用積層材料を前記基板に積層する前または後に該感光性樹脂層を露光および現像して加飾材パターンを形成する工程；あるいは、支持体上に感光性樹脂層が露光および現像されてなる加飾材パターンを有する加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料の前記加飾材パターン側の表面を基板に積層する工程；を含み、条件（Ｍ）または条件（Ｎ）を満たす加飾材パターン付き基板の製造方法。条件（Ｍ）：前記加飾材形成用積層材料が前記支持体と前記感光性樹脂層または前記加飾材パターンとの間に下地色層を有する。条件（Ｎ）：前記加飾材形成用積層材料が前記支持体と前記感光性樹脂層または前記加飾材パターンとの間に下地色層を有さず、さらに支持体上に下地色層を有する第２の加飾材形成用積層材料の前記下地色層側の表面を前記加飾材パターン上に積層する工程を含む。
【選択図】なし

Description

本発明は、加飾材パターン付き基板およびその製造方法、加飾材形成用積層材料ならびに加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料に関する。

携帯電話機、スマートフォン等の電子機器における外装は、前面外装と背面外装を組み合わせて構成されたものが一般的である。近年、電子機器のファッション化に伴い、印刷にて縁取りや文字やロゴマークなどの等の加飾材パターンが形成されて、加飾が施されるようになってきている。このような加飾材パターンは通常、加飾材パターンと、その加飾材パターンの発色や視認性などを高めるための下地色層の積層体として設けられる。

また、液晶装置などの前面にタッチパネル型の入力装置が配置され、液晶装置の画像表示領域に表示された指示画像を参照しながらこの指示画像が表示されている箇所に指またはタッチペンなどを触れることで指示画像に対応する情報の入力が行えるタッチパネルが用いられるようになってきている。

タッチパネルの外装への加飾を施した例として、前面外装に加飾を施す方法が知られている。例えば特許文献１には、透明板からなる保護パネル本体と、透明樹脂フィルムの上面に矩形の下部透明電極と当該下部透明電極の周囲に設けられた下部回路とを有し、前記保護パネル本体の上面に貼り合わされた下部電極シートと、透明樹脂フィルムの下面に矩形の上部透明電極と当該上部透明電極の周囲に設けられた上部回路とを有し、前記下部電極シートと電極間に間隙を形成して接着された上部電極シートと、透明樹脂フィルムの少なくとも一方の面に前記下部回路及び前記上部回路を隠蔽して透明窓部を形成する加飾層を有し、前記上部電極シートの上面に貼り合わされた加飾シートと、前記上部電極シートと前記下部電極シートとを接着し、これらの外周に沿って設けられた枠状部と当該枠状部の内側に前記透明窓部を避け且つ前記回路部分にも及んで分散配置された多数の島状部とからなる糊層と、を備えた電子機器表窓のタッチ入力機能付き保護パネルが記載されている。特許文献１では、あらかじめ支持体上に印刷方式によりパターン形成した印刷層または印刷層と金属薄膜層の組合せを有する加飾フィルムを、感圧接着剤（以下、ＰＳＡとも言う）を用いて基板上に貼り合わせ加飾基板を製造している。なお、特許文献１には島状部の糊層を黒色のドット状や筋状の遮光層とすることも記載されている。

一方、タッチパネルとは反対側の面（背面外装）に加飾材パターンが形成されて、加飾が行われた例も知られている。例えば特許文献２には、ポリエチレンテレフタレートフィルムまたはアクリルフィルムで形成された基材フィルムの面上に、パール顔料などを含む光輝層、オフセット印刷によって積層されているパターン層、隠蔽層が積層されて形成された加飾フィルムが開示されており、小ロット及び短納期で商業生産することが可能であるとともに、階調表現が求められる意匠を付与した加飾フィルム及び加飾成形品を提供できることが記載されている。

特開２０１１−８４４８号公報 特開２０１２−２０１００６号公報

特許文献１や２に記載されるような従来の加飾材パターン付き基板の製造方法は、インクを用いて基板に印刷を行う方式が主流であった。しかしながら、本発明者が加飾材パターン付き基板を、印刷により形成したところ、印刷により形成される層の厚みの均一性やパターン上の印刷を行う際のパターン精度に改善の必要があることがわかった。
また、基板への印刷では枚葉となった一枚一枚の基板に何層もの塗布を行わなければならず非効率であり、改善の必要があることがわかった。
さらに、あらかじめ支持体上に印刷方式によりパターン形成した加飾フィルムを、ＰＳＡを用いて基板上に貼り合わせ加飾材パターン付き基板を作成する特許文献１の方式は、ＰＳＡ層の形成が必要であるなど工程が複雑で改善の必要性があることがわかった。

本発明が解決しようとする課題は、工程が単純であり、製造コストが低く、下地色層の膜厚のバラツキが少なく、高精度な加飾材パターンを有する加飾材パターン付き基板の製造方法を提供することである。

本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、基板上に加飾材パターンと下地色層をこの順で有する加飾材パターン付き基板を製造する方法として、加飾材パターンをフォトリソグラフィーの手法で露光および現像して形成し、かつ、加飾材パターンや下地色層を支持体上に感光性樹脂層、下地色層ならびに感光性樹脂層が露光および現像されてなる加飾材パターンのうち少なくとも１層を設けた加飾材形成用積層材料を用いて積層することで、工程が単純であり、製造コストが低く、下地色層の膜厚のバラツキが少なく、高精度な加飾材パターンを有する加飾材パターン付き基板の製造方法を提供できることを見出した。
すなわち、以下に示す構成の本発明により、前記課題が解決できることを見出し、本発明の完成に至った。

［１］ 支持体上に感光性樹脂層を有する加飾材形成用積層材料の前記感光性樹脂層側の表面を基板に積層する工程、ならびに、前記加飾材形成用積層材料を前記基板に積層する前または後に該感光性樹脂層を露光および現像して加飾材パターンを形成する工程；あるいは、
支持体上に感光性樹脂層が露光および現像されてなる加飾材パターンを有する加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料の前記加飾材パターン側の表面を基板に積層する工程；
を含み、
下記条件（Ｍ）または条件（Ｎ）を満たす加飾材パターン付き基板の製造方法。
条件（Ｍ）：前記加飾材形成用積層材料が前記支持体と前記感光性樹脂層または前記加飾材パターンとの間に下地色層を有する。
条件（Ｎ）：前記加飾材形成用積層材料が前記支持体と前記感光性樹脂層または前記加飾材パターンとの間に下地色層を有さず、さらに支持体上に下地色層を有する第２の加飾材形成用積層材料の前記下地色層側の表面を前記加飾材パターン上に積層する工程を含む。
［２］ ［１］に記載の加飾材パターン付き基板の製造方法は、前記条件（Ｍ）を満たし、
支持体上に下地色層および感光性樹脂層をこの順に有する加飾材形成用積層材料（ｉ）の前記感光性樹脂層を露光する工程と、
露光された前記感光性樹脂層を現像して加飾材パターンが形成された加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料（ｉｉ）を調製する工程と、
前記加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料の前記加飾材パターン側の表面を基板に積層する工程を含むことが好ましい。
［３］ ［１］に記載の加飾材パターン付き基板の製造方法は、前記条件（Ｍ）を満たし、
支持体上に下地色層ならびに感光性樹脂層が露光および現像されてなる加飾材パターンをこの順に有する加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料（ｉｉ）の前記加飾材パターン側の表面を基板に積層する工程を含むことが好ましい。
［４］ ［１］に記載の加飾材パターン付き基板の製造方法は、前記条件（Ｎ）を満たし、
支持体上に感光性樹脂層を有する第１の加飾材形成用積層材料（Ａ）の前記感光性樹脂層を露光する工程と、
露光された前記感光性樹脂層を現像して加飾材パターンを形成する工程と、
前記第１の加飾材形成用積層材料（Ａ）の前記加飾材パターン側の表面を基板上に積層する工程と、
支持体上に下地色層を有する第２の加飾材形成用積層材料（Ｂ）の前記下地色層側の表面を前記加飾材パターン上に積層する工程を含むことが好ましい。
［５］ ［１］に記載の加飾材パターン付き基板の製造方法は、前記条件（Ｎ）を満たし、
支持体上に感光性樹脂層を有する第１の加飾材形成用積層材料（Ａ）の前記感光性樹脂層を基板上に積層する工程と、
前記支持体を前記感光性樹脂層から剥離する工程と、
前記感光性樹脂層を露光する工程と、
露光された前記感光性樹脂層を現像して加飾材パターンを形成する工程と、
支持体上に下地色層を有する第２の加飾材形成用積層材料（Ｂ）の前記下地色層側の表面を前記加飾材パターン上に積層する工程を含むことが好ましい。
［６］ ［１］〜［５］のいずれか一項に記載の加飾材パターン付き基板の製造方法は、前記支持体と前記下地色層の間に遮光層を有し、前記下地色層および前記遮光層を一括して基板上に積層することが好ましい。
［７］ ［１］〜［６］のいずれか一項に記載の加飾材パターン付き基板の製造方法は、前記下地色層が白色層であることが好ましい。
［８］ ［２］または［３］に記載の加飾材パターン付き基板の製造方法は、前記下地色層が金属光沢層であることが好ましい。
［９］ ［８］に記載の加飾材パターン付き基板の製造方法は、前記金属光沢層に隣接して、かつ前記支持体とは反対側の表面に透明接着層を有することが好ましい。
［１０］ ［８］または［９］に記載の加飾材パターン付き基板の製造方法は、前記金属光沢層が金属薄膜層であることが好ましい。
［１１］ ［１］〜［１０］のいずれか一項に記載の加飾材パターン付き基板の製造方法は、前記感光性樹脂層が光重合開始剤およびエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましい。
［１２］ ［１］〜［１１］のいずれか一項に記載の加飾材パターン付き基板の製造方法は、前記感光性樹脂層が染料または顔料を含むことが好ましい。
［１３］ ［１］〜［１２］のいずれか一項に記載の加飾材パターン付き基板の製造方法により製造された加飾材パターン付き基板。
［１４］ 支持体上に下地色層および感光性樹脂層をこの順に有する加飾材形成用積層材料。
［１５］ ［１４］に記載の加飾材形成用積層材料は、前記支持体と前記下地色層の間に遮光層を有することが好ましい。
［１６］ ［１４］または［１５］に記載の加飾材形成用積層材料は、前記下地色層が白色層であることを特徴とすることが好ましい。
［１７］ ［１６］に記載の加飾材形成用積層材料は、前記下地色層が金属光沢層であり、前記金属光沢層に隣接して、かつ前記支持体とは反対側の表面に透明接着層を有することが好ましい。
［１８］ ［１６］または［１７］に記載の加飾材形成用積層材料は、前記金属光沢層が金属薄膜層であることが好ましい。
［１９］ ［１４］〜［１８］のいずれか一項に記載の加飾材形成用積層材料は、前記感光性樹脂層が光重合開始剤およびエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましい。
［２０］ ［１４］〜［１９］のいずれか一項に記載の加飾材形成用積層材料は、前記感光性樹脂層が染料または顔料を含むことが好ましい。
［２１］ ［１４］〜［２０］のいずれか一項に記載の加飾材形成用積層材料の前記感光性樹脂層が露光および現像されてなるパターンを有する加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料。

本発明によれば、工程が単純であり、製造コストが低く、下地色層の膜厚のバラツキが少なく、高精度な加飾材パターンを有する加飾材パターン付き基板の製造方法を提供することができる。

以下、本発明の加飾材パターン付き基板およびその製造方法、加飾材形成用積層材料ならびに加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。

［加飾材パターン付き基板の製造方法］
本発明の加飾材パターン付き基板の製造方法（以下、本発明の製造方法とも言う）は、支持体上に感光性樹脂層を有する加飾材形成用積層材料の前記感光性樹脂層側の表面を基板に積層する工程、ならびに、前記加飾材形成用積層材料を前記基板に積層する前または後に該感光性樹脂層を露光および現像して加飾材パターンを形成する工程；あるいは、
支持体上に感光性樹脂層が露光および現像されてなる加飾材パターンを有する加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料の前記加飾材パターン側の表面を基板に積層する工程；
を含み、
下記条件（Ｍ）または条件（Ｎ）を満たすことを特徴とする。
条件（Ｍ）：前記加飾材形成用積層材料が前記支持体と前記感光性樹脂層または前記加飾材パターンとの間に下地色層を有する。
条件（Ｎ）：前記加飾材形成用積層材料が前記支持体と前記感光性樹脂層または前記加飾材パターンとの間に下地色層を有さず、さらに支持体上に下地色層を有する第２の加飾材形成用積層材料の前記下地色層側の表面を前記加飾材パターン上に積層する工程を含む。
このような構成により、本発明の製造方法は、工程が単純であり、製造コストが低く、下地色層の膜厚のバラツキが少なく、高精度な加飾材パターンを有する加飾材パターン付き基板を製造できる。本発明の製造方法では、フォトリソグラフィーによる高精度なパターン形成と膜厚均一性の高さを活かすとともに、フォトリソグラフィーを行う層やそれ以外の下地色層を一度又は少ない回数で積層して加飾材パターン付き基板を製造することができる。これらのことを示唆する記載は、特開２０１１−８４４８号公報や特開２０１２−２０１００６号公報などを含めて先行技術文献にはなかった。
また、本発明の加飾材パターン付き基板の製造方法は、下地色層の膜厚のバラツキが小さい。下地色層の膜厚のバラツキは±３％以下であることが好ましく、±２％以下であることがより好ましく、±１％以下であることが特に好ましく、±０．７％以下であることがより特に好ましい。
本発明の加飾材パターン付き基板の製造方法の詳細および好ましい態様について説明する。

本発明の加飾材パターン付き基板の製造方法は、支持体上に感光性樹脂層を有する加飾材形成用積層材料の前記感光性樹脂層側の表面を基板に積層する工程、ならびに、前記加飾材形成用積層材料を前記基板に積層する前または後に該感光性樹脂層を露光および現像して加飾材パターンを形成する工程；あるいは、
支持体上に感光性樹脂層が露光および現像されてなる加飾材パターンを有する加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料の前記加飾材パターン側の表面を基板に積層する工程；
を含む。
すなわち、本発明の加飾材パターン付き基板の製造方法は、
感光性樹脂層へのフォトリソグラフィーにより加飾材パターンを形成する工程を含んでもよいし；
あらかじめ感光性樹脂層へのフォトリソグラフィーにより形成された加飾材パターンを有する加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料を用いてもよい。

＜具体的態様＞
本発明の加飾材パターン付き基板の製造方法は、具体的には以下の第一の態様、第二の態様、第三の態様および第四の態様のいずれかであることが好ましい。

本発明の加飾材パターン付き基板の製造方法の第一の態様では、前記条件（Ｍ）を満たし、
支持体上に下地色層および感光性樹脂層をこの順に有する加飾材形成用積層材料（ｉ）の前記感光性樹脂層を露光する工程と、
露光された前記感光性樹脂層を現像して加飾材パターンが形成された加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料（ｉｉ）を調製する工程と、
前記加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料の前記加飾材パターン側の表面を基板に積層する工程を含むことが好ましい。

本発明の加飾材パターン付き基板の製造方法の第二の態様では、前記条件（Ｍ）を満たし、
支持体上に下地色層ならびに感光性樹脂層が露光および現像されてなる加飾材パターンをこの順に有する加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料（ｉｉ）の前記加飾材パターン側の表面を基板に積層する工程を含むことが好ましい。

本発明の加飾材パターン付き基板の製造方法の第三の態様では、前記条件（Ｎ）を満たし、
支持体上に感光性樹脂層を有する第１の加飾材形成用積層材料（Ａ）の前記感光性樹脂層を露光する工程と、
露光された前記感光性樹脂層を現像して加飾材パターンを形成する工程と、
前記第１の加飾材形成用積層材料（Ａ）の前記加飾材パターン側の表面を基板上に積層する工程と、
支持体上に下地色層を有する第２の加飾材形成用積層材料（Ｂ）の前記下地色層側の表面を前記加飾材パターン上に積層する工程を含むことが好ましい。

本発明の加飾材パターン付き基板の製造方法の第四の態様では、前記条件（Ｎ）を満たし、
支持体上に感光性樹脂層を有する第１の加飾材形成用積層材料（Ａ）の前記感光性樹脂層を基板上に積層する工程と、
前記支持体を前記感光性樹脂層から剥離する工程と、
前記感光性樹脂層を露光する工程と、
露光された前記感光性樹脂層を現像して加飾材パターンを形成する工程と、
支持体上に下地色層を有する第２の加飾材形成用積層材料（Ｂ）の前記下地色層側の表面を前記加飾材パターン上に積層する工程を含むことが好ましい。

以上の本発明の加飾材パターン付き基板の製造方法の第一の態様、第二の態様、第三の態様および第四の態様のうち、第一の態様および第二の態様が前記条件（Ｍ）を満たす場合と同様の観点から好ましく、支持体上に下地色層および感光性樹脂層をこの順に有する本発明の加飾材形成用積層材料を用いる第一の態様がより好ましい。

＜加飾材形成用積層材料の種類、本発明の加飾材形成用積層材料、本発明の加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料＞
本発明の製造方法は、以下の条件（Ｍ）または（Ｎ）を満たす。
条件（Ｍ）：前記加飾材形成用積層材料が前記支持体と前記感光性樹脂層または前記加飾材パターンとの間に下地色層を有する。
条件（Ｎ）：前記加飾材形成用積層材料が前記支持体と前記感光性樹脂層または前記加飾材パターンとの間に下地色層を有さず、さらに支持体上に下地色層を有する第２の加飾材形成用積層材料の前記下地色層側の表面を前記加飾材パターン上に積層する工程を含む。
すなわち、本発明の製造方法は、加飾材パターンおよび下地色層を形成するときに用いる積層材料の種類としては、
支持体上に下地色層および感光性樹脂層をこの順に有する加飾材形成用積層材料を用いてもよいし；
支持体上に下地色層ならびに感光性樹脂層が露光および現像されてなる加飾材パターンをこの順に有する加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料を用いてもよいし；
支持体上に下地色層を有する第２の加飾材形成用積層材料を用いてもよい。
支持体上に下地色層および感光性樹脂層をこの順に有する加飾材形成用積層材料は従来知られていない構成であり、支持体上に下地色層および感光性樹脂層をこの順に有する加飾材形成用積層材料のことを本発明の加飾材形成用積層材料とも言う。
支持体上に下地色層ならびに感光性樹脂層が露光および現像されてなる加飾材パターンをこの順に有する加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料は従来知られていない構成であり、支持体上に下地色層ならびに感光性樹脂層が露光および現像されてなる加飾材パターンをこの順に有する加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料のことを本発明の加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料とも言う。
なお、本明細書中、特に断りがなく「加飾材形成用積層材料」という場合は、支持体上に下地色層および感光性樹脂層をこの順に有する加飾材形成用積層材料に加え、前記支持体上に下地色層を有する第２の加飾材形成用積層材料も含む。
前記条件（Ｍ）を満たす場合、積層すべき層を２層以上有するフィルムを一括積層することにより、加飾基板の製造工程を簡略化してコストダウンすることができる。

本発明の製造方法によれば、基板上に加飾材パターンと下地色層を有する加飾材パターン付き基板を製造するときに、特開２０１１−８４４８号公報に記載されているような感圧感熱接着材層を用いなくても、加飾材パターンや下地色層を基板上に積層することができる。
前記加飾材形成用積層材料または加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料に含まれる前記感光性樹脂層、下地色層、ならびに、感光性樹脂層が露光および現像されてなる加飾材パターンを、後述する基板に積層（積層後に前記支持体を剥離して、目的とする層のみを転写してもよい）することで、基板上に感光性樹脂層、下地色層、ならびに、感光性樹脂層が露光および現像されてなる加飾材パターンを形成することができる。
なお、前記加飾材形成用積層材料または加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料に含まれる感光性樹脂層、下地色層、ならびに、感光性樹脂層が露光および現像されてなる加飾材パターンは、本発明の加飾材パターン付き基板における加飾材パターンおよび下地色層と同じ組成であることが好ましいが、前記加飾材形成用積層材料または加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料における感光性樹脂層、下地色層、ならびに、感光性樹脂層が露光および現像されてなる加飾材パターンは前記基板への積層後の製造工程によっては組成が異なっていてもよい。例えば、前記加飾材形成用積層材料または加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料における感光性樹脂層、下地色層、ならびに、感光性樹脂層が露光および現像されてなる加飾材パターンが重合性化合物を有する場合、本発明の加飾材パターン付き基板における加飾材パターンおよび下地色層では、前記重合性化合物の含有割合が変化していてもよい。

（感光性樹脂層）
本発明の製造方法では、支持体上に感光性樹脂層を有する加飾材形成用積層材料は、感光性樹脂層を含む。
前記感光性樹脂層としては特に制限はなく、例えば特開２０１０−２３７５８９号公報に記載の感光性組成物や特開２０１０−２３７５８９号公報の[００７１]でカラーフィルターの着色組成物として用いられている材料、すなわち特開２００４−３４７８３１号公報の［００４６］〜［００５９］に記載の着色組成物などを用いることができ、これらの公報に記載の内容は本発明に組み込まれる。
具体的には、前記感光性樹脂層は、側鎖に酸性基を有する樹脂（Ａ）を含有することが好ましい。
また、前記感光性樹脂層は、重合性化合物（Ｂ）、及び光重合開始剤（Ｃ）を含有することが好ましく、光重合開始剤およびエチレン性不飽和化合物を含むことがより好ましく、光重合開始剤ならびにジペンタエリスリトールアクリレート化合物Ｂ１（下記）及びトリペンタエリスリトールアクリレート化合物Ｂ２（下記）を少なくとも含むことが特に好ましい。

（Ｘは、水素原子又はＨ₂Ｃ＝ＣＲ−ＣＯ−を表し、分子中のＸの少なくとも４個はＨ₂Ｃ＝ＣＲ−ＣＯ−を表す。Ｒは、水素原子、又は炭素数１〜４の炭化水素基を表す。）

（Ｘは、水素原子又はＨ₂Ｃ＝ＣＲ−ＣＯ−を表し、分子中のＸの少なくとも６個はＨ₂Ｃ＝ＣＲ−ＣＯ−を表す。Ｒは、水素原子、又は炭素数１〜４の炭化水素基を表す。）
また、前記感光性樹脂層は、必要に応じて、顔料や染料などの着色剤（黒色顔料、ルチル型酸化チタンなどの白色顔料）、界面活性剤などのその他の成分を用いて構成することができる。前記感光性樹脂層に用いられる白色顔料の好ましい範囲は、後述の下地色層に用いられる白色顔料の好ましい範囲と同様である。
前記感光性樹脂層に用いられるその他の着色剤およびその好ましい範囲としては、特開２０１０−２３７５８９号公報の[００７１]で引用する特開２００４−３４７８３１号公報の［００４９］〜［００５９］に記載の着色剤およびその好ましい範囲と同様であり、これらの公報に記載の内容は本発明に組み込まれる。例えば、グリーン（緑色）の加飾材パターン形成用の着色剤としては、高色純度と高透過率とを両立させ平坦性を得る観点より、顔料として少なくともＣ．Ｉ．ＰＧ−３６（Ｃ．Ｉ．ピクメントグリーン３６）及びＣ．Ｉ．ＰＹ−１３８（Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８）、Ｃ．Ｉ．ＰＹ−１３９（Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９）、Ｃ．Ｉ．ＰＹ−１５０（Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０）の何れかを含有するものが好ましい。
これらの着色剤は、所望の加飾材パターンのデザインや色に応じて変更することができる。

−樹脂（Ａ）−
樹脂（Ａ）は側鎖に酸性基を有する。側鎖に酸性基を有するとは、側鎖に酸性基を有する構造単位（基）を有することをいい、該酸性基が主鎖に直接結合する形態であっても、後述の酸性基を有する単量体の具体例に示されるように、酸性基が連結基を介して結合してもよいことを含む。
又、樹脂（Ａ）は側鎖にエチレン性不飽和基を有することができる。エチレン性不飽和基が主鎖に直接結合する形態であっても、後述のエチレン性不飽和基を有する単量体の具体例に示されるように、エチレン性不飽和基が連結基を介して結合してもよい。
また樹脂（Ａ）はより好ましくは、酸性基を有する基（構造単位）：Ｙ（ｙモル％）の他、側鎖に分岐および／または脂環構造を有する基（構造単位）：Ｘ（ｘモル％）と、エチレン性不飽和基を有する基（構造単位）：Ｚ（ｚモル％）を含有してなり、必要に応じてその他の基（Ｌ）（ｌモル％）を有していてもよい。また、樹脂（Ａ）中のひとつの基の中にＸ，Ｙ，及びＺが複数組み合わされていてもよい。

前記酸性基としては、特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、スルホンアミド基、リン酸基、フェノール性水酸基等が挙げられる。これらの中でも、現像性、及び硬化膜の耐水性が優れる点から、カルボキシ基、フェノール性水酸基であることが好ましい。

前記側鎖に酸性基を有するために用いられる単量体としては、特に制限はなく、スチレン類、（メタ）アクリレート類、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、（メタ）アクリルアミド類などが挙げられ、（メタ）アクリレート類、ビニルエステル類、（メタ）アクリルアミド類が好ましく、さらに好ましくは（メタ）アクリレート類である。

前記側鎖に酸性基を有する単量体の具体例としては、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、（メタ）アクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、ソルビン酸、α−シアノ桂皮酸、アクリル酸ダイマー、水酸基を有する単量体と環状酸無水物との付加反応物、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらは、適宜製造したものを使用してもよいし、市販品を使用してもよい。

前記水酸基を有する単量体と環状酸無水物との付加反応物に用いられる水酸基を有する単量体としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。前記環状酸無水物としては、例えば、無水マレイン酸、無水フタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物等が挙げられる。これらの中でも現像性に優れ、低コストである点で（メタ）アクリル酸等が好ましい。

前記「側鎖にエチレン性不飽和基」としては、特に制限はなく、エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリロイル基が好ましい。また、エチレン性不飽和基と単量体との連結はエステル基、アミド基、カルバモイル基などの２価の連結基であれば特に制限はない。側鎖にエチレン性不飽和基を導入する方法は公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、酸性基を持つ基にエポキシ基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法、ヒドロキシル基を持つ基にイソシアネート基を持つ（メタ）アクリレートを付加した付加する方法、イソシアネート基を持つ基にヒドロキシ基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法などが挙げられる。
その中でも、酸性基を持つ繰り返し単位にエポキシ基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法が最も製造が容易であり、低コストである点で好ましい。

前記エチレン性不飽和結合及びエポキシ基を有する（メタ）アクリレートとしては、これらを有すれば特に制限はない。

前記その他の単量体としては、特に制限はなく、例えば分岐および／または脂環構造をもたない（メタ）アクリル酸エステル、スチレン、ビニルエーテル、二塩基酸無水物基、ビニルエステル基、炭化水素アルケニル基等を有する単量体などが挙げられる。
前記ビニルエーテル基としては、特に制限はなく、例えば、ブチルビニルエーテル基などが挙げられる。

前記二塩基酸無水物基としては、特に制限はなく、例えば、無水マレイン酸基、無水イタコン酸基などが挙げられる。
前記ビニルエステル基としては、特に制限はなく、例えば、酢酸ビニル基などが挙げられる。
前記炭化水素アルケニル基としては、特に制限はなく、例えば、ブタジエン基、イソプレン基などが挙げられる。

前記樹脂（Ａ）におけるその他の単量体の含有率としては、モル組成比が、０〜３０ｍｏｌ％であることが好ましく、０〜２０ｍｏｌ％であることがより好ましい。

樹脂（Ａ）の具体例としては、例えば、特開２００８−１４６０１８号公報の段落番号［００５７］〜［００６３］に記載される化合物Ｐ−１〜Ｐ−３５で表される化合物が挙げられる。
さらに、樹脂（Ａ）の具体例としては、特開２０１０−２３７５８９号公報の[００７１]で引用する特開２００４−３４７８３１号公報の［００４７］および［００４８］に記載の側鎖にカルボン酸基やカルボン酸塩基等の極性基を有するポリマーを挙げることができ、その例としては、特開昭５９−４４６１５号公報、特公昭５４−３４３２７号公報、特公昭５８−１２５７７号公報、特公昭５４−２５９５７号公報、特開昭５９−５３８３６号公報、及び特開昭５９−７１０４８号公報等に記載されている様なメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等を挙げることができる。また側鎖にカルボン酸基を有するセルロース誘導体も挙げることができる。この他に水酸基を有するポリマーに環状酸無水物を付加したものも好ましく使用することができる。特に、米国特許第４１３９３９１号明細書に記載のベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸との共重合体やベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸と他のモノマーとの多元共重合体を挙げることができる。これらの極性基を有するバインダーポリマーは、単独で用いてもよく、或いは通常の膜形成能の有るポリマーと併用する組成物の状態で使用してもよい。
なお、これらの樹脂（Ａ）の具体例として挙げた公開公報に記載の内容は本発明に組み込まれる。

前記樹脂（Ａ）は、モノマーの（共）重合反応の工程とエチレン性不飽和基を導入する工程の二段階の工程から作られる。 まず、（共）重合反応は種々のモノマーの（共）重合反応によって作られ、特に制限はなく公知のものの中から適宜選択することができる。例えば、重合の活性種については、ラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合、配位重合などを適宜選択することができる。これらの中でも合成が容易であり、低コストである点からラジカル重合であることが好ましい。また、重合方法についても特に制限はなく公知のものの中から適宜選択することができる。例えば、バルク重合法、懸濁重合法、乳化重合法、溶液重合法などを適宜選択することができる。これらの中でも、溶液重合法であることがより望ましい。

樹脂（Ａ）として好適な前記共重合体の重量平均分子量は、１０，０００〜１０万が好ましく、１２，０００〜６万が更に好ましく、１５，０００〜４．５万が特に好ましい。重量平均分子量が前記範囲内であると、共重合体の製造適性、現像性の点で望ましい。また、溶融粘度の低下により形成された形状が潰れ難い点で、また、架橋不良となり難い点、現像での残渣がない点で好ましい。

樹脂（Ａ）として好適なガラス転移温度（Ｔｇ）は、４０〜１８０℃であることが好ましく、４５〜１４０℃であることはより好ましく、５０〜１３０℃であることが特に好ましい。ガラス転移温度（Ｔｇ）が前記好ましい範囲内であると、良好な現像性、力学強度が得られる。

樹脂（Ａ）として好適な酸価はとりうる分子構造により好ましい範囲は変動するが、一般には２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが好ましく、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることはより好ましく、７０〜１３０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが特に好ましい。酸価が前記好ましい範囲内であると、良好な現像性、力学強度が得られる。

前記樹脂（Ａ）のガラス転移温度（Ｔｇ）が４０〜１８０℃であり、かつ重量平均分子量が１０，０００〜１００，０００であることが良好な現像性、力学強度が得られる点で好ましい。
更に、前記樹脂（Ａ）の好ましい例は、好ましい前記分子量、ガラス転移温度（Ｔｇ）、及び酸価のそれぞれの組合せがより好ましい。

樹脂（Ａ）は、前記側鎖に分岐および／または脂環構造を有する基：Ｘ（ｘモル％）と、酸性基を有する基：Ｙ（ｙモル％）と、エチレン性不飽和基を有する基：Ｚ（ｚモル％）とをそれぞれ別の共重合単位に有する少なくとも３元共重合以上の共重合体であることが変形回復率、現像残渣、耐振動性、レチキュレーションの観点から好ましい。具体的には、前記Ｘ，Ｙ，Ｚを構成する各々の単量体を少なくとも１つ共重合させてなる共重合体が好ましい。
前記樹脂（Ａ）の前記各成分の共重合組成比については、ガラス転移温度と酸価を勘案して決定され、一概に言えないが、「側鎖に分岐および／または脂環構造を有する基」は１０〜７０モル％が好ましく、１５〜６５モル％が更に好ましく、２０〜６０モル％が特に好ましい。側鎖に分岐および／または脂環構造を有する基が前記範囲内であると、良好な現像性が得られると共に、画像部の現像液耐性も良好である。
また、「側鎖に酸性基を有する基」は５〜７０モル％が好ましく、１０〜６０モル％が更に好ましく、２０〜５０モル％が特に好ましい。側鎖に酸性基を有する基が前記範囲内であると、良好な硬化性、現像性が得られる。
また、「側鎖にエチレン性不飽和基を有する基」は１０〜７０モル％が好ましく、２０〜７０モル％が更に好ましく、３０〜７０モル％が特に好ましい。側鎖にエチレン性不飽和基を有する基が前記範囲内であると、顔料分散性に優れると共に、現像性及び硬化性も良好である。

前記樹脂（Ａ）の含有量としては、前記感光性組成物全固形分に対して、５〜７０質量％が好ましく、１０〜５０質量％がより好ましい。樹脂（Ａ）は後述のその他の樹脂を含有することができるが、樹脂（Ａ）のみが好ましい。

前記樹脂（Ａ）と併用することができる樹脂としては、アルカリ性水溶液に対して膨潤性を示す化合物が好ましく、アルカリ性水溶液に対して可溶性である化合物がより好ましい。
アルカリ性水溶液に対して膨潤性又は溶解性を示す樹脂としては、例えば、酸性基を有するものが好適に挙げられ、具体的には、エポキシ化合物にエチレン性不飽和二重結合と酸性基とを導入した化合物（エポキシアクリレート化合物）、側鎖に（メタ）アクリロイル基、及び酸性基を有するビニル共重合体、エポキシアクリレート化合物と、側鎖に（メタ）アクリロイル基、及び酸性基を有するビニル共重合体との混合物、マレアミド酸系共重合体、などが好ましい。
前記酸性基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、などが挙げられ、これらの中でも、原料の入手性などの観点から、カルボキシル基が好ましく挙げられる。

前記樹脂（Ａ）と併用することができる樹脂との合計の含有量としては、前記感光性組成物全固形分に対して、５〜７０質量％が好ましく、１０〜５０質量％がより好ましい。該固形分含有量が、５質量％未満であると、後述する感光層の膜強度が弱くなりやすく、該感光層の表面のタック性が悪化することがあり、７０質量％を超えると、露光感度が低下することがある。なお、前記含有量は、固形分含有量のことを示している。

−重合性化合物（Ｂ）−
重合性化合物（Ｂ）は上記化合物Ｂ１及びＢ２を少なくとも含むことが好ましい。
前記感光性組成物は、該化合物Ｂ１及び化合物Ｂ２の重合性化合物（Ｂ）の合計量に対する含有率Ｗ１（質量％）及びＷ２（質量％）が、下記式（１）及び式（２）を同時に満たすことが好ましい。ここで、重合性化合物（Ｂ）の合計量に対する化合物Ｂ１の含有率がＷ１（質量％）であり、重合性化合物（Ｂ）の合計量に対する化合物Ｂ２の含有率がＷ２（質量％）である。

０．６≦Ｗ２／Ｗ１≦３．０ ・・・・（１）
６３％≦Ｗ１＋Ｗ２≦１００％ ・・・・（２）

前記感光性組成物は、上記式（１）及び（２）を満たすことにより、周波数の高い振動に対しても耐えることができる力学強度の高い加飾材パターンを提供することができるものとなる。

化合物Ｂ１中のＸは水素原子又はＨ₂Ｃ＝ＣＲ−ＣＯ−を表し、分子中のＸの少なくとも４個はＨ₂Ｃ＝ＣＲ−ＣＯ−を表し、より好ましくは５個以上であり、最も好ましくは５．５個及び６個である。
またＲは、水素原子、又は炭素数１〜４の炭化水素基を表し、より好ましくは水素原子、又は炭素数１〜２の炭化水素基であり、最も好ましいのは、水素原子又はメチル基である。化合物Ｂ１の具体例としては、具体的にはジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート及びそれらの混合物が挙げられる。中でもジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート及びそれらの混合物がより好ましい。

化合物Ｂ２中のＸは、水素原子又はＨ₂Ｃ＝ＣＲ−ＣＯ−を表し、分子中のＸの少なくとも６個はＨ₂Ｃ＝ＣＲ−ＣＯ−を表し、より好ましくは７個以上であり、最も好ましいのは、７．５個及び８個である。
またＲは、水素原子、又は炭素数１〜４の炭化水素基を表し、より好ましくは水素原子、又は炭素数１〜２の炭化水素基であり、最も好ましいのは、水素原子又はメチル基である。化合物Ｂ２の具体例としては、具体的にはトリペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタメタクリレート、トリペンタエリスリトールオクタメタクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタアクリレート、トリペンタエリスリトールオクタアクリレート及びそれらの混合物が挙げられる。中でもトリペンタエリスリトールヘプタメタクリレート、トリペンタエリスリトールオクタメタクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタアクリレート、トリペンタエリスリトールオクタアクリレート及びそれらの混合物がより好ましい。

前記化合物Ｂ１及びＢ２の重合性化合物（Ｂ）の合計量に対する含有率Ｗ１（％）及びＷ２（％）は上記１及び２を同時に満たす必要があるが、含有率Ｗ１（％）及びＷ２（％）の合計は耐振動性の観点から好ましくは６５％以上９５％、さらに好ましくは７０％以上９０％以下である。６３％未満になると、耐振動性が悪化する。

一方、含有率Ｗ１（％）とＷ２（％）の比率Ｗ２／Ｗ１は０．６以上３．０以下とすることが必要であり、好ましくは０．６２以上２．９５以下、さらに好ましくは０．７以上２．６以下である。０．６未満であると現像した際の、加飾材パターンと基板の密着が低下すると同時に、耐振動性が悪化する。３．０を超えると現像残渣が悪化すると同時に、耐振動性が悪化する。

その他併用できる重合性化合物としては、特開２００６−２３６９６号公報の段落番号［００１１］に記載の成分や、特開２００６−６４９２１号公報の段落番号［００４０］〜［００４９］に記載した成分が併用できる。

前記樹脂（Ａ）との関係において、重合性化合物（Ｂ）の樹脂（Ａ）に対する質量比率（（Ｂ）／（Ａ）比）が０．５〜２．０であることが好ましく、０．６〜１．４であることはより好ましく、０．７〜１．２であることが特に好ましい。（Ｂ）／（Ａ）比が前記好ましい範囲内であると、良好な現像性、力学強度が得られる。

−光重合開始剤（Ｃ）、その他の成分−
光重合開始剤（Ｃ）、その他の成分として公知の組成物を構成する成分を好適に用いることができ、例えば、特開２００６−２３６９６号公報の段落番号［００１２］〜［００２０］に記載の成分や、特開２００６−６４９２１号公報の段落番号［００５０］〜［００５３］に記載の成分が挙げられる。

前記光重合開始剤（Ｃ）の含有量としては、樹脂（Ａ）に対して０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％がより好ましい。

本発明の製造方法では、感光性樹脂層は、ラミネートの時に積層し易くするために柔らかいほうが好ましいため、光開始剤やモノマーとも呼ばれるエチレン性不飽和化合物を含むネガ型の方が好ましい。
又、ポジ型の感光性樹脂層は硬い膜になるため、フィルムのカット時に粉落ちの問題を生じ易いこともネガ型の感光性樹脂層が好ましいことの理由である。

−感光性樹脂層の厚み−
前記感光性樹脂層は、白色以外の感光性樹脂層である場合には、特に厚みの制限は無いが、薄膜化の観点から、前記感光性樹脂層の厚みは０．１〜１０μｍであることが好ましく、０．５〜７μｍであることがより好ましく、１〜５μｍであることが特に好ましい。
通常、白色層を設ける場合は数１０μｍ以上の厚みにしなければ十分な隠ぺい力と白色度を得られない。これに対し、本発明では前記感光性樹脂層が白色の感光性樹脂層である場合には、金属光沢層（例えばアルミ蒸着層などの金属薄膜層）上に白色の感光性樹脂層を設けることで前記白色の感光性樹脂層の厚みが数１０μｍ以下であっても十分な隠ぺい力と白色度を得ることができる。金属光沢層上に白色の感光性樹脂層を設けるときの前記白色の感光性樹脂層の厚みは、薄膜化および隠ぺい力の観点から、０．５〜２０μｍであることが好ましく、１〜１０μｍであることがより好ましく、３〜５μｍであることが特に好ましい。
なお、後述の加飾材パターンの厚みの好ましい範囲も、前記感光性樹脂層の厚みの好ましい範囲と同様である。

（支持体）
前記加飾材形成用積層材料または加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料は支持体を有する。
前記支持体としては、可撓性を有し、加圧、若しくは加圧及び加熱下においても著しい変形、収縮若しくは伸びを生じないことが好ましい。そのような支持体の例としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等を挙げることができ、中でも２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
支持体の厚みには特に限定はないが、５〜３００μｍが好ましく、２０〜２００μｍがより好ましい。
また、支持体は透明でもよいし、染料化ケイ素、アルミナゾル、クロム塩、ジルコニウム塩などを含有していてもよい。
また、支持体には、特開２００５−２２１７２６号公報に記載の方法などにより、導電性を付与することができる。

（下地色層）
本発明の加飾材パターン付き基板の製造方法に用いられる加飾材形成用積層材料または加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料は、下地色層を含む。

本発明の加飾材パターン付き基板の製造方法は、感光性樹脂層の色を映えさせる観点から、前記下地色層が白色層であることが好ましい。又、下地色層は好ましいデザイン上の観点から、金属光沢層であることが求められることがある。
以下、下地色層が白色層および金属光沢層である場合について説明するが、本発明は以下の態様に制限されるものではなく、下地色層は、白色層および金属光沢層以外のその他の色の層であってもよい。

−シロキサン結合を主鎖に有する樹脂−
前記白色層はシロキサン結合を主鎖に有する樹脂を含むことが好ましい。但し、本発明の加飾材パターン付き基板は、本発明の趣旨に反しない限りにおいて前記白色層中に前記顔料以外の成分を含んでいてもよい。

前記シロキサン結合を主鎖に有する樹脂としては、特に制限はないが、シリコーン系レジンが好ましい。
シリコーン系レジンとして公知のものが使用できる。メチル系ストレートシリコーンレジン、メチルフェニル系ストレートシリコーンレジン、アクリル樹脂変性シリコーンレジン、ポリエステル樹脂変性シリコーンレジン、エポキシ樹脂変性シリコーンレジン、アルキッド樹脂、変性シリコーンレジン及びゴム系のシリコーンレジン等が使用できる。
より好ましいのは、メチル系ストレートシリコーンレジン、メチルフェニル系ストレートシリコーンレジン、アクリル樹脂変性シリコーンレジンであり、特に好ましいのは、メチル系ストレートシリコーンレジン、メチルフェニル系ストレートシリコーンレジンである。
前記シロキサン結合を主鎖に有する樹脂は、１種のみを用いても、２種以上を混合して用いてもよい。これらを任意の比率で混合することにより膜物性を制御することもできる。
前記シロキサン結合を主鎖に有する樹脂としては、市販のものを用いてもよく、例えば、ＫＲ３００、ＫＲ３１１、ＫＲ２５１、Ｘ４０−９２４６（以上、信越シリコーン（株）製）などを用いることができ、その中でもＫＲ２５１、Ｘ４０−９２４６（以上、信越シリコーン（株）製）が密着性や材料をスリットする時等の加工適性の観点からより好ましく、ＫＲ２５１およびＸ４０−９２４６（以上、信越シリコーン（株）製）の２種混合が特に好ましい。
前記シロキサン結合を主鎖に有する樹脂は有機溶媒などに溶解されたものを用いてもよく、例えば、キシレン溶液に溶解されたものを用いることができる。
また、前記シロキサン結合を主鎖に有する樹脂には、硬化性を高める観点から、重合触媒として公知の化合物を添加することが好ましく、亜鉛系の重合触媒を添加することがより好ましい。前記重合触媒としては、市販のものを用いてもよく、例えば、Ｄ−１５（信越シリコーン（株）製）などを用いることができる。

前記白色層中に含まれていてもよい顔料以外の成分としては、特に制限はないが、公知のバインダー樹脂、前記シロキサン結合を主鎖に有する樹脂に加えて、公知の顔料分散安定剤、公知の塗布助剤等、を用いることができるが、前記白色層の色味が変わらない、または望ましい色味に変わるものが望ましい。
前記白色層中に含まれる前記顔料以外の成分に対する前記シロキサン結合を主鎖に有する樹脂の割合が８０質量％以上であることが本発明の効果を得る観点から好ましく、９０質量％以上であることがより好ましい。

前記シロキサン結合を主鎖に有する樹脂および前記顔料以外の成分の前記白色層中における含有量としては、前記白色層の全固形分に対して、３０質量％以上とすることが好ましい。前記シロキサン結合を主鎖に有する樹脂および前記顔料以外の成分の含有量が前記範囲内であると、本発明の白色層の色味に好ましい影響を与えることが出来る。
前記シロキサン結合を主鎖に有する樹脂および前記顔料以外の成分の前記白色層中における含有量としては、３０〜６０質量％がより好ましく、３５〜５５質量％が更に好ましく、４０〜５０質量％がより特に好ましい。

−下地色層用の色材−
前記下地色層は、特に見栄えがわかりやすいため、以下の白色層用の色材を用いることが好ましい。前記白色層用の色材としては、顔料が好ましく、白色無機顔料がより好ましい。又、下地色層が金属光沢層である場合は好ましいデザイン上の観点から、アルミ、クロム、銀などの金属薄膜層（好ましくは、アルミ、クロム、銀などの金属蒸着層）やアルミフレークなどのメタリック顔料を使用することも好ましい。金属光沢層を設ける手段としては、本発明の製造方法に用いる支持体上に金属蒸着や金属スパッタリング、鍍金で積層する方法や、金属光沢を有するメタリック顔料などの材料を含む層を本発明の製造方法に用いる支持体上に塗布等の公知の方法で形成する方法や、金属光沢を有するメタリック顔料などの材料を含む層を別途形成した転写材料を作製してから本発明の製造方法に用いる支持体上に転写または積層する方法を挙げることができる。前記下地色層が金属光沢層である場合、支持体と金属光沢層が一体化したものを用いてもよく、例えば市販のアルミ蒸着層付き２５μｍＰＥＴベース（麗光社製、商品名ダイアラスター）などを用いることができる。
前記白色無機顔料としては、特開２００５−７７６５公報の段落［００１５］や［０１１４］に記載の白色顔料を用いることができる。
具体的には、前記白色無機顔料としては酸化チタン、酸化亜鉛、リトポン、軽質炭酸カルシウム、ホワイトカーボン、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、硫酸バリウムが好ましく、酸化チタン、酸化亜鉛がより好ましく、本発明では前記白色層が酸化チタンであることが特に好ましく、その中でもルチル型またはアナターゼ型酸化チタンがさらに特に好ましく、ルチル型酸化チタンがよりさらに特に好ましい。

酸化チタンの表面はシリカ処理、アルミナ処理、チタニア処理、ジルコニア処理、有機物処理及びそれらを併用することができる。
これにより酸化チタンの触媒活性を抑制でき、耐熱性、褪光性等を改善することができる。
加熱後の前記白色層のｂ値を抑制する観点から、酸化チタンの表面への表面処理はアルミナ処理、ジルコニア処理が好ましく、アルミナ／ジルコニア併用処理が特に好ましい。

前記白色層の全固形分に対する前記白色無機顔料の含有率が２０〜７５質量％であることが、導電性層をスパッタにより蒸着するときと同程度の加熱をした後の良好な明度および白色度（Ｌ値が高く、ａ値、ｂ値が低いこと）を良好な範囲とし、その他の求められる特性を同時に満たす加飾材を形成することができる。
前記白色層の全固形分に対する前記白色無機顔料の含有率は、２５〜６０質量％であることがより好ましく、３０〜５０質量％であることが更に好ましい。
本明細書でいう全固形分とは前記白色層から溶剤等を除いた不揮発成分の総質量を意味する。

前記白色無機顔料（なお、後述する遮光層に用いられるその他の顔料についても同様である）は、分散液として使用することが望ましい。この分散液は、前記白色無機顔料と顔料分散剤とを予め混合して得られる組成物を、後述する有機溶媒（またはビヒクル）に添加して分散させることによって調製することができる。前記ビビクルとは、塗料が液体状態にある時に顔料を分散させている媒質の部分をいい、液状であって前記顔料と結合して塗膜を形成する成分（バインダー）と、これを溶解希釈する成分（有機溶媒）とを含む。

前記白色無機顔料を分散させる際に使用する分散機としては、特に制限はなく、例えば、朝倉邦造著、「顔料の事典」、第一版、朝倉書店、２０００年、４３８項に記載されているニーダー、ロールミル、アトライダー、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル等の公知の分散機が挙げられる。更に該文献３１０頁記載の機械的摩砕により、摩擦力を利用し微粉砕してもよい。

前記白色無機顔料（白色層用の色材）としての白色無機顔料は、分散安定性及び隠ぺい力の観点から、一次粒子の平均粒径０.１６μｍ〜０．３μｍのものが好ましく、更に０．１８μｍ〜０．２７μｍのものが好ましい。さらに０．１９μｍ〜０．２５μｍのものが特に好ましい。一次粒子の平均粒径が０.１６μｍ以上であると、隠ぺい力が高く、遮光層の下地が見えにくくなり、粘度上昇を起こしにくい。一方、０．３μｍ以下であると白色度が十分に高く、同時に隠ぺい力が高く、また塗布した際の面状が良好となる。
尚、ここで言う「一次粒子の平均粒径」とは粒子の電子顕微鏡写真画像を同面積の円とした時の直径を言い、また「数平均粒径」とは多数の粒子について前記の粒径を求め、この１００個平均値をいう。
一方、分散液、塗布液中の平均粒径で測定する場合には、レーザー散乱ＨＯＲＩＢＡ Ｈ（株式会社堀場アドバンスドテクノ社製）を用いることができる。

−その他の材料−
前記下地色層には、酸化防止剤を添加してもよい。特に前記下地色層が白色層である場合、酸化防止剤を添加することが好ましい。前記酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系、セミヒンダードフェノール系、燐酸系、分子内に燐酸／ヒンダードフェノールを持つハイブリッド型酸化防止剤が使用できる。
本発明に用いる酸化防止剤は、着色を抑制する観点から、燐酸系酸化防止剤、例えばＩＲＧＡＦＯＳ１６８（ＢＡＳＦ社製）が好ましい。

また、前記下地色層を塗布により製造する際の溶剤としては、特開２０１１−９５７１６号公報の段落［００４３］〜［００４４］に記載の溶剤を用いることができる。
溶剤としては、エステル類、例えば酢酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、アルキルエステル類、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、並びに、３−オキシプロピオン酸メチル及び３−オキシプロピオン酸エチルなどの３−オキシプロピオン酸アルキルエステル類（例えば、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル）、並びに、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、及び２−オキシプロピオン酸プロピルなどの２−オキシプロピオン酸アルキルエステル類（例えば、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル）、並びに、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル等；

エーテル類、例えばジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート等；

ケトン類、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン等；

芳香族炭化水素類、例えばトルエン、キシレン；等が挙げられる。

これらのうち、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、キシレン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が好適である。
溶剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

さらに、前記下地色層には、その他の添加剤を用いてもよい。前記添加剤としては、例えば特許第４５０２７８４号公報の段落［００１７］、特開２００９−２３７３６２号公報の段落［００６０］〜［００７１］に記載の界面活性剤や、特許第４５０２７８４号公報の段落［００１８］に記載の熱重合防止剤、さらに、特開２０００−３１０７０６号公報の段落［００５８］〜［００７１］に記載のその他の添加剤が挙げられる。前記界面活性剤としては、市販のものを用いてもよく、例えば、メガファックＦ５５３、メガファックＦ５５４、メガファックＦ５５６、メガファックＦ５５７、メガファックＦ５５９、メガファックＦ５６１、メガファックＦ−７８０Ｆ（ＤＩＣ株式会社製）などを用いることができる。

−下地色層の厚み−
本発明の加飾材パターン付き基板は、下地色層が白色層である場合は前記下地色層の膜厚が、１０μｍ〜４０μｍであることが、前記下地色層の隠蔽力を高めるための観点から、好ましい。下地色層が白色層の場合は前記下地色層の厚みは１５〜４０μｍが更に好ましく、２０〜３８μｍが特に好ましい。
本発明の加飾材パターン付き基板は、下地色層が金属光沢層の場合は前記下地色層の厚みは１００〜２０００Åの範囲であることが好ましく、より好ましくは２００〜８００Åの範囲、さらに好ましくは３００〜６００Åの範囲である。
本発明の加飾材パターン付き基板は、下地色層が白色層および金属光沢層以外の他色の場合は前記下地色層の厚みは１〜１０μｍが好ましい。

（遮光層）
本発明の加飾材パターン付き基板の製造方法は、前記支持体と前記下地色層の間に遮光層を有することが、裏側が透けることを避ける観点から、好ましい。特に、感光性樹脂層や下地色層の色が黒色や灰色ではない場合は、遮光層を設けることが好ましい。
具体的には、支持体上に下地色層および感光性樹脂層をこの順に有する加飾材形成用積層材料を用いる場合、前記加飾材形成用積層材料の前記支持体と前記下地色層の間に遮光層を有することが好ましい。
支持体上に下地色層ならびに感光性樹脂層が露光および現像されてなる加飾材パターンをこの順に有する加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料を用いる場合、前記加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料の前記支持体と前記下地色層の間に遮光層を有することが好ましい。
支持体上に下地色層を有する第２の加飾材形成用積層材料を用いる場合、前記第２の加飾材形成用積層材料の前記支持体と前記下地色層の間に遮光層を有することが好ましい。

−遮光層用の色材−
前記遮光層用の色材としては、顔料が好ましく、黒色顔料がより好ましい。前記黒色顔料としては、例えば、カーボンブラック、チタンブラック、チタンカーボン、酸化鉄、酸化チタン、黒鉛などが挙げられ、本発明の加飾材パターン付き基板では前記遮光層が酸化チタンおよびカーボンブラックのうち少なくとも一つを含むことが好ましく、カーボンブラックがより好ましい。

−シロキサン結合を主鎖に有する樹脂−
前記遮光層はシロキサン結合を主鎖に有する樹脂を含むことが好ましい。但し、本発明の趣旨に反しない限りにおいて前記遮光層中にその他のバインダー樹脂を含んでいてもよい。
前記遮光層に用いることができる、前記シロキサン結合を主鎖に有する樹脂や前記顔料以外の成分としては、前記下地色層に用いることができるものとそれぞれ同様である。
前記遮光層中に含まれる前記顔料以外の成分に対するシロキサン結合を主鎖に有する樹脂の割合が６０質量％以上であることが本発明の効果を得る観点から好ましく、７０質量％以上であることがより好ましい。
さらに、前記下地色層中に含まれる前記顔料以外の成分に対する前記シロキサン結合を主鎖に有する樹脂の割合が９０質量％以上であり、かつ、前記遮光層中に含まれる前記顔料以外の成分に対する前記シロキサン結合を主鎖に有する樹脂の割合が７０質量％以上であることが好ましい。この場合のより好ましい範囲は、前記下地色層または前記遮光層中におけるより特に好ましい範囲、よりさらに特に好ましい範囲と同様である。

−その他の材料−
前記遮光層に用いることができるその他の材料としては、前記下地色層に用いることができる材料を挙げることができ、その他の材料の好ましい範囲も前記下地色層に用いることができる材料の好ましい範囲と同様である。

−遮光層の厚み−
前記遮光層の膜厚が、１．０μｍ〜５．０μｍであることが、前記遮光層の隠蔽力を高めるための観点から、好ましい。
前記遮光層の厚みは１．０〜４．０μｍが更に好ましく、１．５〜３．０μｍが特に好ましい。

（透明接着層）
本発明の製造方法は、前記下地色層が金属光沢層であり、前記金属光沢層に隣接して、かつ前記支持体とは反対側の表面に透明接着層を有することが好ましい。
前記透明接着層としては特に制限はないが、前記接着層は透明性が高いことが好ましく、前記金属光沢層、感光性樹脂層および白色感光性樹脂層との接着性が高いことが好ましく、耐熱性が高いことが好ましい。

−シロキサン結合を主鎖に有する樹脂−
前記透明接着層は、バインダー樹脂を含むことが好ましい。前記バインダー樹脂としてはシロキサン結合を主鎖に有する樹脂を含むことがより好ましい。但し、本発明の趣旨に反しない限りにおいて前記透明接着層中にその他のバインダー樹脂を含んでいてもよい。
前記透明接着層に用いることができる前記シロキサン結合を主鎖に有する樹脂の例および好ましい範囲は、前記下地色層に用いるシロキサン結合を主鎖に有する樹脂の例および好ましい範囲と同様である。前記シロキサン結合を主鎖に有する樹脂としては、市販のものを用いてもよく、ＫＲ２５１、Ｘ４０−９２４６（以上、信越シリコーン（株）製）が密着性や加工適性の観点から好ましく、ＫＲ２５１およびＸ４０−９２４６（以上、信越シリコーン（株）製）の２種混合がより好ましい。
前記透明接着層に対するシロキサン結合を主鎖に有する樹脂の割合が６０質量％以上であることが透明性、前記金属光沢層との接着性、耐熱性を得る観点から好ましく、７０質量％以上であることがより好ましく、８０質量％以上であることが特に好ましく、９０質量％以上であることがより特に好ましい。

−その他の材料−
前記透明接着層は、その他の添加剤を含んでいてもよい。その他の添加剤の例および好ましい範囲は、前記下地色層に用いるその他の添加剤の例および好ましい範囲と同様である。その中でも、前記透明接着層は界面活性剤を含むことが好ましい。前記界面活性剤としては、市販のものを用いてもよく、例えば、メガファックＦ−５５９（ＤＩＣ株式会社製）などを用いることができる。

−透明接着層の厚み−
前記透明接着層の膜厚は特に制限はないが、１．０μｍ〜４０μｍであることが好ましく、５〜３０μｍであることがより好ましく、１０〜２０μｍであることが特に好ましい。

（熱可塑性樹脂層）
本発明の製造方法は、前記条件（Ｎ）を満たす場合における支持体上に下地色層を有する第２の加飾材形成用積層材料は、熱可塑性樹脂層を少なくとも１層有していてもよい。該熱可塑性樹脂層は、前記支持体と前記下地色層との間に設けられることが好ましい。すなわち、前記第２の加飾材形成用積層材料は、前記支持体、前記熱可塑性樹脂層および前記下地色層をこの順で含むことが好ましい。
前記熱可塑性樹脂層に用いる成分としては、特開平５−７２７２４号公報に記載されている有機高分子物質が好ましく、ヴイカーＶｉｃａｔ法（具体的にはアメリカ材料試験法エーエステーエムデーＡＳＴＭＤ１２３５によるポリマー軟化点測定法）による軟化点が約８０℃以下の有機高分子物質より選ばれることが特に好ましい。

具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニル或いはそのケン化物の様なエチレン共重合体、エチレンとアクリル酸エステル或いはそのケン化物、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニル及びそのケン化物の様な塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なビニルトルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル共重合体ナイロン、共重合ナイロン、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、Ｎ−ジメチルアミノ化ナイロンの様なポリアミド樹脂等の有機高分子が挙げられる。

熱可塑性樹脂層の厚みは６〜１００μｍが好ましく、６〜５０μｍがより好ましい。熱可塑性樹脂層の厚みが６〜１００μｍの範囲では、基板上に凹凸がある場合であっても該凹凸を完全に吸収することができる。

（中間層）
本発明の製造方法は、前記条件（Ｎ）を満たす場合における支持体上に下地色層を有する第２の加飾材形成用積層材料は、複数の塗布層の塗布時、及び塗布後の保存時における成分の混合を防止する目的から、中間層を少なくとも１層有していてもよい。該中間層は、前記支持体と前記下地色層との間（前記熱可塑性樹脂層を有する場合には、該熱可塑性樹脂層と前記下地色層との間）に設けられることが好ましい。すなわち、前記第２の加飾材形成用積層材料は、前記支持体、前記熱可塑性樹脂層、中間層および前記下地色層をこの順で含むことが好ましい。
該中間層としては、特開平５−７２７２４号公報に「分離層」として記載されている、酸素遮断機能のある酸素遮断膜を用いることが好ましく、この場合、露光時感度がアップし、露光機の時間負荷が減り、生産性が向上する。
該酸素遮断膜としては、低い酸素透過性を示し、水又はアルカリ水溶液に分散又は溶解するものが好ましく、公知のものの中から適宜選択することができる。これらの内、特に好ましいのは、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとの組み合わせである。

中間層の厚みは、０．１〜５．０μｍが好ましく、０．５〜２．０μｍがより好ましい。０．１〜５．０μｍの範囲では酸素遮断能が低下することもなく、現像時または中間層除去時に時間がかかりすぎることもない。

（保護剥離層）
前記加飾材形成用積層材料または加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料には、貯蔵の際の汚染や損傷から保護するために前記下地色層や前記感光性樹脂層や前記加飾材パターンを覆うようにして、保護剥離層（カバーフィルムとも言う）が設けられることが好ましい。前記保護剥離層は支持体と同じか又は類似の材料からなってもよいが、前記下地色層や前記感光性樹脂層や前記加飾材パターンから容易に分離されねばならない。前記保護剥離層の材料としては例えばシリコーン紙、ポリオレフィン若しくはポリテトラフルオロエチレンシートが適当である。

前記保護剥離層のヘイズ度の最大値は３．０％以下であることが好ましく、前記着色層の現像後の白抜け発生をより効果的に抑制する観点からは、２．５％以下が好ましく、２．０％以下がより好ましく、１．０％以下が特に好ましい。

前記保護剥離層の厚みは１〜１００μｍであることが好ましく、５〜５０μｍであることがより好ましく、１０〜３０μｍであることが特に好ましい。この厚みが１μｍ以上であれば前記保護剥離層の強度が十分なため、前記下地色層や感光性樹脂層にカバーフィルムを張り合わせる際に、前記保護剥離層が破断しにくい。１００μｍ以下であると前記保護剥離層の価格が高くならず、また、前記保護剥離層をラミネートする際にシワが発生しにくい。

このような保護剥離層は市販のものとして、例えば、王子製紙（株）製アルファンＭＡ−４１０、Ｅ−２００Ｃ、Ｅ−５０１、信越フィルム（株）製等のポリプロピレンフィルム、帝人（株）製ＰＳ−２５等のＰＳシリーズなどのポリエチレンテレフタレートフィルム等が挙げられるがこれに限られたものではない。また、市販のフィルムをサンドブラスト加工することにより、簡単に製造することが可能である。

前記保護剥離層としてポリエチレンフィルムなどのポリオレフィンフィルムを用いることができる。また通常前記保護剥離層として用いられるポリオレフィンフィルムは、原材料を熱溶融し、混練、押し出し、２軸延伸、キャスティングまたはインフレーション法によって製造される。

以上、本発明に用いることができる加飾材形成用積層材料または加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料を説明したが、前記加飾材形成用積層材料または加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料は、必要に応じてネガ型材料又はポジ型材料であってもよい。

−加飾材形成用積層材料または加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料の製造方法−
以上で説明した加飾材形成用積層材料または加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料を製造する方法としては、特に限定はないが、例えば特開２００５−３８６１号公報の段落［００６４］〜［００６６］に記載の工程によって製造することができる。また、加飾材形成用積層材料または加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料は、例えば特開２００９−１１６０７８号公報に記載の方法で作成することもできる。
加飾材形成用積層材料または加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料の製造方法の一例としては、支持体上に樹脂組成物を塗布し、乾燥させて下地色層を形成する工程と、形成された前記着色層を前記保護剥離層で覆う工程と、を有して構成される方法が挙げられる。
本発明に用いることができる加飾材形成用積層材料または加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料では、本発明の趣旨に反しない限りにおいてさらにその他の層を形成してもよい。また、下地色層の形成前に、熱可塑性樹脂層及び／又は中間層（酸素遮断層）を塗布形成してもよい。
支持体上に、前記感光性樹脂層形成用の組成物、前記下地色層形成用の組成物、前記熱可塑性樹脂層形成用の塗布液、前記中間層形成用の塗布液を塗布する方法としては公知の塗布方法を用いることができる。例えば、スピナー、ホワイラー、ローラーコーター、カーテンコーター、ナイフコーター、ワイヤーバーコーター、エクストルーダー等の塗布機を用いて、それらの塗液を塗布し、乾燥させることにより形成できる。

前記保護剥離層で前記感光性樹脂層、下地色層または加飾材パターンを覆う方法としては特に限定はないが、支持体上の感光性樹脂層、下地色層または加飾材パターンに前記保護剥離層を重ね、圧着する方法を用いることができる。
圧着には、ラミネーター、真空ラミネーター、および、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネーターを使用することができる。
前記圧着の条件としては、雰囲気温度２０〜４５℃、線圧１０００〜１００００Ｎ／ｍが好ましい。

＜基板＞
本発明の加飾材パターン付き基板の製造方法に用いる基板には、種々のものを用いることが出来るが、前記基板はガラス基板またはフィルム基板であることが好ましく、光学的に歪みがないものや、透明度が高いものを用いることがより好ましい。本発明の加飾材パターン付き基板の製造方法では、前記基板は、全光透過率が、８０％以上であることが好ましい。

前記基板がガラスである場合は、具体的にはガラス中のカリウムイオンよりもイオン半径が小さいイオンの一部または全部をカリウムイオンに置換する化学強化処理をされてなる強化ガラスが好ましい。
本発明で使用するガラスは特に限定されないが、ＪＩＳ Ｒ３１０３−２（２００１年）に準拠した方法で得られる歪点温度が５００℃〜５２０℃であることが好ましい。また、ガラスの変形が生じやすい当該温度付近、すなわち溶融塩の温度を４９０〜５３０℃とすることが好ましい。例えば、フロート法で製造される所謂ソーダライムガラスと呼ばれるＳｉＯ₂−Ｎａ₂Ｏ−Ｋ₂Ｏ−ＣａＯ−ＭｇＯ−Ａｌ₂Ｏ₃系ガラスの表面を化学強化処理により圧縮層が形成されたものが好ましい。

圧縮層を形成する化学強化処理としては、ガラスを溶融塩に浸漬させ、ガラス中のナトリウムイオンと溶融塩中のカリウムイオンとを交換させることで圧縮層が形成される。圧縮層は、圧縮応力値において、２００〜６５０ＭＰａの値を有するもので、当該値を有するように、ガラスを化学強化する際に、浸漬させるための溶融塩の温度を４５０〜５５０℃、浸漬時間を１時間〜３時間とすることが好ましい。

前記基板がフィルム基板である場合の具体的な素材には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート（ＰＣ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）をあげることができる。
前記基板は、ガラス、ＴＡＣ、ＰＥＴ、ＰＣまたはＣＯＰから選ばれることが好ましく、ガラスまたはシクロオレフィンポリマーからなることがより好ましく、ガラスであることが特に好ましいい。

また、基板表面には、種々の機能を付加しても良い。具体的には、反射防止層、防眩層、位相差層、視野角向上層、耐傷層、自己修復層、帯電防止層、防汚層、防電磁波層、導電性層をあげることができる。
前記導電性層としては、特表２００９−５０５３５８号公報に記載のものを好ましく用いることができる。

前記基板は、膜厚が４０〜２００μｍであることが好ましく、４０〜１５０μｍであることがより好ましく、５０〜１２０μｍであることが特に好ましい。

また、積層工程におけるラミネートによる感光性樹脂層または加飾材パターンの密着性を高めるために、予め基板の非接触面に表面処理を施すことができる。前記表面処理としては、シラン化合物を用いた表面処理（シランカップリング処理）を実施することが好ましい。シランカップリング剤としては、感光性樹脂と相互作用する官能基を有するものが好ましい。例えばシランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３質量％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄する。この後、加熱により反応させる。加熱槽を用いてもよく、ラミネーターの基板予備加熱でも反応を促進できる。

＜積層（ラミネート方法）＞
前記感光性樹脂層、下地色層または加飾材パターンの前記基板表面への積層（貼り合わせ）は、感光性樹脂層、下地色層または加飾材パターンを基板表面に重ね、加圧、加熱することに行われる。貼り合わせには、ラミネーター、真空ラミネーター、および、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネーターを使用することができる。
ラミネート方法は、加飾材形成用積層材料または加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料と基板との間に気泡が入らない方法が、得率を上げられる観点から好ましい。
具体的には、真空ラミネーターの使用を好ましく挙げることができる。

ラミネート（連続式／枚葉式）に用いられる装置としては、例えば、クライムプロダクツ株式会社製 Ｖ−ＳＥ３４０ａａＨなどを挙げることができる。
真空ラミネーター装置としては、例えば、高野精機有限会社製のものや、大成ラミネーター株式会社製、ＦＶＪ−５４０Ｒ、ＦＶ７００などを挙げることができる。

前記加飾材形成用積層材料または加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料を前記基板に貼り付ける前に、前記支持体の前記感光性樹脂層、下地色層または加飾材パターンと反対側に、さらに他の支持体を積層する工程を含むことが、ラミネート時に気泡を入れない好ましい効果を得ることが出来ることがある。このときに用いる支持体としては特に制限はないが、例えば、以下のものを挙げることができる。
ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、シクロオレフィンポリマー。
また、膜厚は、５０〜２００μｍの範囲で選ぶことが出来る。

＜支持体を取り除く工程＞
本発明の製造方法は、前記基板に貼り付けられた前記加飾材形成用積層材料または加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料から前記支持体を取り除く工程を含んでいても、含んでいなくてもよい。露光工程に影響が出ず、前記基材がガラスである場合は、外部衝撃を受けて破損したときのガラスの破片の飛散を防止できる観点から、前記基板に貼り付けられた前記加飾材形成用積層材料または加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料から前記支持体を取り除く工程を含まない方が好ましい。一方、露光工程を行うに際し、必要に応じて前記基板に貼り付けられた前記加飾材形成用積層材料または加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料から前記支持体を取り除く工程を行ってもよい。

＜露光工程＞
前記露光工程は、加飾材形成用積層材料から、基板上に積層された前記感光性樹脂層を露光する工程である。また、（加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料が前記下地色層や前記遮光層を有する場合は必要に応じて加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料から、基板上に積層された前記下地色層や前記遮光層を露光する工程も含む。
具体的には、前記基板に形成された前記感光性樹脂層の上方に所定の加飾材パターンを形成するためのマスクを配置し、その後該マスク、必要に応じて熱可塑性樹脂層および必要に応じて中間層を介してマスク上方から前記感光性樹脂層を露光する方法が挙げられる。なお、本発明の製造方法では前記下地色層や前記遮光層などを露光により硬化してもよく、その場合はマスクを用いずに熱可塑性樹脂層、および中間層を介して前記光硬化性樹脂層を全面露光する方法が挙げられる。
ここで、前記露光の光源としては、前記感光性樹脂層を硬化しうる波長域の光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍなど）を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。露光量としては、通常５〜２００ｍＪ／ｃｍ²程度であり、好ましくは１０〜１００ｍＪ／ｃｍ²程度である。ただし、前記感光性樹脂層が活性放射線を吸収する着色剤を含む場合、例えば白色顔料として酸化チタンを含む白色感光性樹脂層を用いる場合には、露光量を増やして１００〜２０００ｍＪ／ｃｍ²、好ましくは３００〜１２００ｍＪ／ｃｍ²程度とすることが好ましい。

＜現像工程＞
前記現像工程は、露光された感光性樹脂層（必要に応じて前記下地色層や前記遮光層）を現像する工程である。
本発明では、前記現像工程は、パターン露光された前記感光性樹脂層を現像液によってパターン現像する狭義の意味の現像工程ではなく、前記下地色層や前記遮光層などを全面露光後に熱可塑性樹脂層や中間層を除去するのみで前記下地色層自体や前記遮光層自体はパターンを形成しない広義の意味での現像工程の場合も含む現像工程である。
前記現像は、現像液を用いて行うことができる。前記現像液としては、特に制約はなく、特開平５−７２７２４号公報に記載のものなど、公知の現像液を使用することができる。尚、現像液は感光性樹脂層が溶解型の現像挙動をするものが好ましく、例えば、ｐＫａ＝７〜１３の化合物を０．０５〜５ｍｏｌ／Ｌの濃度で含むものが好ましい。一方、前記前記下地色層自体や前記遮光層自体はパターンを形成しない場合の現像液は前記非アルカリ現像型組成物層を溶解しない型の現像挙動をするものが好ましく、例えば、ｐＫａ＝７〜１３の化合物を０．０５〜５ｍｏｌ／Ｌの濃度で含むものが好ましい。現像液には、更に水と混和性を有する有機溶剤を少量添加してもよい。水と混和性を有する有機溶剤としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等を挙げることができる。該有機溶剤の濃度は０．１質量％〜３０質量％が好ましい。また、前記現像液には、更に公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は０．０１質量％〜１０質量％が好ましい。

前記現像の方式としては、パドル現像、シャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディプ現像等のいずれでもよい。ここで、前記シャワー現像について説明すると、露光後の前記感光性樹脂層に現像液をシャワーにより吹き付けることにより、未硬化部分を除去することができる。尚、熱可塑性樹脂層や中間層を設けた場合には、現像の前に感光性樹脂層の溶解性が低いアルカリ性の液をシャワーなどにより吹き付け、熱可塑性樹脂層、中間層などを除去しておくことが好ましい。また、現像の後に、洗浄剤などをシャワーにより吹き付け、ブラシなどで擦りながら、現像残渣を除去することが好ましい。現像液の液温度は２０℃〜４０℃が好ましく、また、現像液のｐＨは８〜１３が好ましい。

本発明の製造方法は、ポスト露光工程、ポストベーク工程等、その他の工程を有していてもよい。前記感光性樹脂層、前記下地色層、前記遮光層が、熱硬化性透明樹脂層でもある場合は、ポストベーク工程を行うことが好ましい。

尚、パターニング露光や全面露光は、加飾材形成用積層材料中または加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料中の前記支持体を剥離してから行ってもよいし、前記支持体を剥離する前に露光し、その後、前記支持体を剥離してもよい。なお、以上において加飾材パターン形成のために所望のマスクを介した露光を例に説明したが、パターニング露光はマスクを介した露光でも良いし、レーザー等を用いたデジタル露光でも良い。

＜熱可塑性樹脂層を除去する工程、中間層を除去する工程＞
さらに、前記加飾材形成用積層材料または加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料が熱可塑性樹脂層や中間層を含む場合は、熱可塑性樹脂層と中間層を除去する工程と有することが好ましい。
前記熱可塑性樹脂層と中間層を除去する工程は、一般にフォトリソ方式で使用されるアルカリ現像液を用いて行うことができる。前記アルカリ現像液としては、特に制約はなく、特開平５−７２７２４号公報に記載のものなど、公知の現像液を使用することができる。尚、現像液は加飾材が溶解型の現像挙動をするものが好ましく、例えば、ｐＫａ＝７〜１３の化合物を０．０５〜５ｍｏｌ／Ｌの濃度で含むものが好ましいが、更に水と混和性を有する有機溶剤を少量添加してもよい。水と混和性を有する有機溶剤としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等を挙げることができる。該有機溶剤の濃度は０．１質量％〜３０質量％が好ましい。
また、前記アルカリ現像液には、更に公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は０．０１質量％〜１０質量％が好ましい。

前記熱可塑性樹脂層と中間層を除去する工程の方式としては、パドル、シャワー、シャワー＆スピン、ディプ等のいずれでもよい。ここで、前記シャワーについて説明すると、熱可塑性樹脂層や中間層を、現像液をシャワーにより吹き付けることにより除去することができる。また、現像の後に、洗浄剤などをシャワーにより吹き付け、ブラシなどで擦りながら、残渣を除去することが好ましい。液温度は２０℃〜４０℃が好ましく、また、のｐＨは８〜１３が好ましい。

＜ポストベーク工程＞
前記積層工程後にポストベーク工程を含むことが好ましく、前記熱可塑性樹脂層と中間層を除去工程後にポストベークを行う工程を含むことがより好ましい。
前記加飾材パターン付き基板の製造方法は、前記加飾材形成用積層材料または加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料の前記下地色層（必要に応じて遮光層）を０．０８〜１．２ａｔｍの環境下で１８０〜３００℃に加熱して形成することが電子機器などに組み込んだ時の信頼性の生産性の両立の観点から好ましい。
前記ポストベークの加熱は０．５ａｔｍ以上の環境下で行うことがより好ましい。一方、１．１ａｔｍ以下の環境下で行うことがより好ましく、１．０ａｔｍ以下の環境下で行うことが特に好ましい。さらに、約１ａｔｍ（大気圧）環境下で行うことが特別な減圧装置を用いることなく製造コストを低減できる観点からより特に好ましい。ここで、従来は前記下地色層や遮光層を加熱により硬化して形成する場合、非常に低い圧力の減圧環境下で行い、酸素濃度を低くすることでベーク後の白色度および遮光層の前記基板側の色味を維持していたが、前記加飾材形成用積層材料または加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料を用いることにより、上記圧力の範囲でベークした後も本発明の加飾材パターン付き基板の前記白色層および遮光層の前記基板側の色味を改善し（ｂ値を小さくし）、白色度および遮光層の前記基板側の色味を高めることができる。
前記ポストベークの温度は、２００〜２８０℃であることがより好ましく、２２０〜２６０℃であることが特に好ましい。
前記ポストベークの時間は、２０〜１５０分であることがより好ましく、３０〜１００分であることが特に好ましい。
前記ポストベークは、空気環境下で行っても、窒素置換環境下で行ってもよいが、空気環境下で行うことが、特別な減圧装置を用いることなく製造コストを低減できる観点から特に好ましい。

＜その他の工程＞
本発明の製造方法は、ポスト露光工程等、その他の工程を有していてもよい。
前記下地色層および前記遮光層が光硬化性樹脂を有する場合に前記下地色層および前記遮光層を形成するときは、ポスト露光工程を含むことが好ましい。前記ポスト露光工程は前記下地色層および前記遮光層の前記基板と接している側の表面方向のみから行っても、前記透明基板と接していない側の表面方向のみから行っても、両面方向から行ってもよい。

なお、前記露光工程、現像工程、前記熱可塑性樹脂層と中間層を除去する工程、およびその他の工程の例としては、特開２００６−２３６９６号公報の段落番号［００３５］〜［００５１］に記載の方法を本発明においても好適に用いることができる。

［加飾材パターン付き基板］
本発明の加飾材パターン付き基板は、本発明の加飾材パターン付き基板の製造方法により製造されたことを特徴とする。
以下、本発明の加飾材パターン付き基板の好ましい態様について説明する。

＜層構成＞
本発明の加飾材パターン付き基板は、基板上に加飾材パターンと下地色層をこの順で有することが好ましい。前記加飾材パターンと前記下地色層は、直接接して積層されていてもよく、他の層を介して積層されていてもよいが、前記加飾材パターンを形成するときに白色以外の感光性樹脂層を用いる場合は直接接して積層されていることが好ましい。一方、前記加飾材パターンを形成するときに白色感光性樹脂層を用いる場合は、前記下地色層が金属光沢層であり、前記加飾材パターンと前記下地色層（すなわち金属光沢層）は、前記透明接着層を介して積層されていることが好ましい。
加飾材パターンと白色層である下地色層のみを基板に積層して加飾材とする場合、光学濃度が低い場合がある。本発明の加飾材パターン付き基板では、基板（フィルムやガラス）側より加飾材パターン、白色層である下地色層および遮光層をこの順で含む構成とすることで光漏れ等を抑えることが出来る。

＜加飾材パターン付き基板の特性＞
本発明の加飾材パターン付き基板は、加飾材パターンが高精度である。加飾材パターンが線状である場合のパターン線幅は１５０μｍ以下であることが好ましく、１００μｍ以下であることがより好ましく、５０μｍ以下であることが特に好ましく、２０μｍ以下であることがより特に好ましく、１５μｍ以下であることがさらにより特に好ましい。

＜タッチパネル＞
本発明の加飾材パターン付き基板は、携帯電話やスマートフォンなどの電子機器、情報表示装置の背面外装に用いられることが好ましく、特にタッチパネルを有する携帯電話やスマートフォンなどの電子機器、情報表示装置の背面外装に用いられることがより好ましい。タッチパネルとしては、静電容量型入力装置が好ましい。
前記静電容量型入力装置、および当該静電容量型入力装置を構成要素として備えた画像表示装置は、『最新タッチパネル技術』（２００９年７月６日発行（株）テクノタイムズ）、三谷雄二監修、“タッチパネルの技術と開発”、シーエムシー出版（２００４，１２）、ＦＰＤ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ ２００９ Ｆｏｒｕｍ Ｔ−１１講演テキストブック、Ｃｙｐｒｅｓｓ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ アプリケーションノートＡＮ２２９２等に開示されている構成を適用することができる。

タッチパネルを使用することができる情報表示装置としては、モバイル機器が好ましく、例えば、以下の情報表示装置を挙げることができる。
ｉＰｈｏｎｅ４、ｉＰａｄ（以上、米国 アップル社製）、Ｘｐｅｒｉａ（ＳＯ−０１Ｂ）（ソニー・エリクソン・モバイルコミュニケーション社製）、Ｇａｌａｘｙ Ｓ（ＳＣ−０２Ｂ）、Ｇａｌａｘｙ Ｔａｂ（ＳＣ−０１Ｃ）（以上、韓国 サムスン電子社製）、ＢｌａｃｋＢｅｒｒｙ ８７０７ｈ（加国 リサーチ・イン・モーション社製）、Ｋｉｎｄｌｅ（米国 アマゾン社製）、Ｋｏｂｏ Ｔｏｕｃｈ（楽天株式会社製）。

以下、実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。下記実施例に示す材料、試薬、割合、機器、操作等は、本発明の範囲から逸脱しない限り適宜変更することができ、したがって本発明は以下に示す実施例に限定されるものではない。なお、下記実施例において、特に断りのない限り、「％」及び「部」はいずれも質量基準であり、分子量は重量平均分子量を表す。

［製造例１］
＜黒色着色液１および白色着色液１の調製＞
下記表１に記載の黒色着色液１、白色着色液１を、以下の材料を用いて調製した。

・黒色分散液１（ＧＢ４０１６、山陽色素株式会社製、下記組成）
黒色顔料（カーボンブラック） ２５．０質量％
分散助剤 ９．５質量％
分散溶媒（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート） ６５．５質量％

・白色分散液（ＦＰ Ｗｈｉｔｅ Ｂ４２２、山陽色素株式会社製、下記組成）
白色顔料（二酸化チタン） ７０．０質量％
分散助剤 ３．５質量％
分散溶媒（メチルエチルケトン） ２６．５質量％

・シリコーン樹脂溶液１（ＫＲ３００、信越シリコーン株式会社製、下記組成）
シリコーン樹脂のキシレン溶液（固形分５０質量％）

・シリコーン樹脂溶液２（ＫＲ３１１、信越シリコーン株式会社製、下記組成）
シリコーン樹脂のキシレン溶液（固形分６０質量％）

・塗布助剤（メガファックＦ−７８０Ｆ、ＤＩＣ株式会社製、下記組成）
界面活性剤 ３０質量％
メチルエチルケトン ７０質量％

・アクリル樹脂溶液（下記組成）
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸ランダム共重合体
（モル比７８／２２、重量平均分子量 ３８，０００） ２７質量％
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート ７３質量％

・アクリルモノマー溶液（日本化薬株式会社製、下記組成）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ７６質量％
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート ２４質量％

・光重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ３７９ＥＧ、ＢＡＳＦ社製、下記化合物）

・重合禁止剤（フェノチアジン、下記化合物）

・有機溶媒１（メチルエチルケトン）

＜白色着色液２の調製＞
下記組成の白色着色液２を、以下の材料を用いて調製した。
（白色着色液２の処方）
・白色顔料分散液（ＦＰ ＷＨＩＴＥ Ｂ４２２、山陽色素（株）、下記組成）
− 白色顔料（二酸化チタン） ７０．０質量％
− 分散助剤 ３．５質量％
− 分散溶媒（メチルエチルケトン） ２６．５質量％
１６．７質量部
・メチルエチルケトン ２．０６質量部
・シリコーン樹脂溶液３（ＫＲ２５１、信越シリコーン（株）製、
シリコーン樹脂の固形分２０質量％トルエン溶液） ７８．８質量部
・シリコーン樹脂溶液４（Ｘ４０−９２４６ 信越シリコーン（株）製、
シリコーンオリゴマー） １．７５質量部
・Ｄ−１５ 信越シリコーン（株）製
（シリコーンレジン用触媒、亜鉛含有触媒のキシレン溶液（固形分５０質量％））
０．７００質量部
・メガファックＦ５５９ 大日本インキ化学工業製 ０．１２０質量部

［製造例２］
＜緑色（Ｇ）感光性樹脂層形成用塗布液ＣＧ−１の調製＞
下記処方で緑色（Ｇ）用分散液（Ｇ−１）を調製した。
・Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ ３６（ＳＥＭ観察での平均粒子径４７ｎｍ） １１部
・Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ１５０（ＳＥＭ観察での平均粒子径３９ｎｍ） ７部
・下記分散樹脂Ａ−３の溶液 ５部
・分散剤
（商品名：Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６１、ビックケミー社製 ３０％溶液） ３部
・アルカリ可溶性樹脂：ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（＝８５／１５［ｍｏｌ比］共重合体、分子量３０，０００、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液（固形分：５０質量％）） １１部
・溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７０部

上記各成分を３０００ｒｐｍの条件でホモジナイザーを用いて１時間撹拌した。得られた混合溶液を、０．３ｍｍジルコニアビーズを用いたビーズ分散機（商品名：ディスパーマット、ＧＥＴＺＭＡＮＮ社製）にて８時間微分散処理を施し、緑色（Ｇ）用分散液（Ｇ−１）を得た。得られた緑色（Ｇ）用分散液（Ｇ−１）中の分散粒子をＳＥＭで観察したところ平均粒子径は３２ｎｍであった。

得られた緑色（Ｇ）用分散液（Ｇ−１）を用いて、下記処方で緑色（Ｇ）感光性樹脂層形成用塗布液ＣＧ−１を調製した。
・緑色（Ｇ）用分散液（Ｇ−１） １００部
・エポキシ樹脂：（商品名ＥＨＰＥ３１５０ ダイセル化学工業社製） ２部
・重合性化合物：ジペンタエリスリトールペンタ・ヘキサアクリレート ８部
・重合性化合物：ペンタエリスリトールのテトラ（エトキシアクリレート） ２部
・重合開始剤：１，３−ビストリハロメチル−５−ベンゾオキソラントリアジン ２部
・重合開始剤：２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１
１部
・重合開始剤：ジエチルチオキサントン ０．５部
・重合禁止剤：ｐ−メトキシフェノール ０．００１部
・フッ素系界面活性剤（商品名：Ｍｅｇａｆａｃ Ｒ０８ 大日本インキ化学工業社製）
０．０２部
・ノニオン系界面活性剤（商品名：エマルゲンＡ−６０ 花王社製） ０．５部
・溶剤：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート １２０部
・溶剤：プロピレングリコールｎ−プロピルエーテルアセテート ３０部
上記組成を混合撹拌し、緑色（Ｇ）感光性樹脂層形成用塗布液ＣＧ−１を得た。

−分散樹脂Ａ−３の合成−
（１．連鎖移動剤Ａ３の合成）
ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）〔ＤＰＭＰ；堺化学工業（株）製〕（下記化合物（３３））７．８３部、及び吸着部位を有し、かつ炭素−炭素二重結合を有する下記化合物（ｍ−６）４．５５部を、プロピレングリコールモノメチルエーテル２８．９０部に溶解させ、窒素気流下、７０℃に加熱した。これに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）〔Ｖ−６５、和光純薬工業（株）製〕０．０４部を加えて３時間加熱した。更に、Ｖ−６５を０．０４部加え、窒素気流下、７０℃で３時間反応させた。室温まで冷却することで、以下に示すメルカプタン化合物（連鎖移動剤Ａ３）の３０％溶液を得た。

（２．分散樹脂Ａ−３の合成）
前記のようにして得られた連鎖移動剤Ａ３の３０％溶液４．９９部、メタクリル酸メチル１９．０部、及びメタクリル酸１．０部、プロピレングリコールモノメチルエーテル４．６６部の混合溶液を、窒素気流下、９０℃に加熱した。この混合溶液を攪拌しながら、２，２’−アゾビスイソ酪酸ジメチル〔Ｖ−６０１、和光純薬工業（株）製〕０．１３９部、プロピレングリコールモノメチルエーテル５．３６部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９．４０部の混合溶液を２．５時間かけて滴下した。滴下終了してから、９０℃で２．５時間反応させた後、２，２’−アゾビスイソ酪酸ジメチル０．０４６部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４．００部の混合溶液を投入し、更に２時間反応させた。反応液にプロピレングリコールモノメチルエーテル１．５２部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２１．７部を加え、室温まで冷却することで分散樹脂Ａ−３（ポリスチレン換算の重量平均分子量２４０００）の溶液（分散樹脂３０質量％、プロピレングリコールモノメチルエーテル２１質量％、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４９質量％）を得た。
この分散樹脂Ａ−３の酸価は４８ｍｇ／ｇであった。分散樹脂Ａ−３の構造を以下に示す。

［製造例３］
熱可塑性樹脂層用塗布液を調製した。
（熱可塑性樹脂層用塗布液：処方Ｈ１）
・メタノール ：１１．１質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ：６．３６質量部
・メチルエチルケトン ：５２．４質量部
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジル
メタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝
５５／１１．７／４．５／２８．８、分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）
：５．８３質量部
・スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６３／３７、
重量平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃） ：１３．６質量部
・モノマー１（商品名：ＢＰＥ−５００、新中村化学工業（株）製）：９．１質量部
・塗布助剤 ：０．５４質量部
なお、熱可塑性樹脂層用塗布液Ｈ１の溶剤除去後の１２０℃の粘度は１５００Ｐａ・ｓｅｃであった。

［製造例４］
中間層用塗布液を調製した。
（中間層用塗布液処方Ｐ１）
・ポリビニルアルコール ：３２．２質量部
（商品名：ＰＶＡ２０５、（株）クラレ製、鹸化度＝８８％、重合度５５０）
・ポリビニルピロリドン ：１４．９質量部
（商品名：Ｋ−３０、アイエスピー・ジャパン（株）製）
・蒸留水 ：５２４質量部
・メタノール ：４２９質量部

［製造例５］
透明接着層用塗布液を調製した。
（透明接着層用塗布液処方）
・シリコーン樹脂溶液３（ＫＲ２５１、信越シリコーン（株）製、
シリコーン樹脂の固形分２０質量％トルエン溶液） ９０．０質量部
・シリコーン樹脂溶液４（Ｘ４０−９２４６、信越シリコーン（株）製、
シリコーンオリゴマー） ９．９０質量部
・メガファックＦ５５９ 大日本インキ化学工業製 ０．１００質量部

［製造例６］
白色感光性樹脂層用塗布液を調製した。
（白色感光性樹脂層用塗布液処方）
・白色顔料分散液（ＦＰ ＷＨＩＴＥ Ｂ４２２、山陽色素（株）、下記組成）
− 白色顔料（二酸化チタン） ７０．０質量％
− 分散助剤 ３．５質量％
− 分散溶媒（メチルエチルケトン） ２６．５質量％
１１．２質量部
・メチルエチルケトン ４６．６質量部
・アルカリ可溶性アクリル樹脂（アロセットＣＦ１００、日本触媒（株））
３１．４質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）
（固形分７６質量％、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液）
１０．０質量部
・イルガキュア９０７（ＢＡＳＦ製） ０．６４０質量部
・メガファックＦ５５９ （大日本インキ化学工業製） ０．１００質量部

［実施例１］
＜加飾材形成用積層材料（Ａ−１）の作製＞
支持体Ｂ（７５μｍ ＰＥＴベース）上に熱可塑性樹脂層、中間層、感光性樹脂層がこの順で積層されるように、上記にてそれぞれ調製した熱可塑性樹脂層用塗布液、中間層用塗布液および緑色（Ｇ）感光性樹脂層形成用塗布液ＣＧ−１の塗布と乾燥を行った。
塗布では、感光性樹脂層（２．０μｍ）、熱可塑性樹脂層（１５．０μｍ)、中間層（１．８μｍ）の厚みでダイコーターにより塗布を行った。
乾燥では、感光性樹脂層と中間層は１２０℃２分、熱可塑性樹脂層は１２０℃３分の条件で乾燥を行った。
作製した感光性樹脂層の上には厚み１２μｍのポリプロピレンのカバーフィルムを圧着した。このようにして、加飾材形成用積層材料（Ａ−１）を得た。

＜加飾材形成用積層材料（Ｂ）の作製＞
支持体Ａ（ユニチカ（株）製 離型層付きＰＥＴフィルム ユニピールＴＲ−６ ７５μｍ）の離型層上に遮光層、下地色層（白色層）がこの順に積層されるように、上記にてそれぞれ調製した黒色着色液１および白色着色液１の塗布と乾燥を行った。
塗布では、遮光層（２．０μｍ）、下地色層（白色層）（２０μｍ）の厚みでダイコーターにより塗布を行った。
乾燥では、遮光層は１２０℃２分、下地色層（白色層）は１２０℃４分の条件で乾燥を行った。
作製した下地色層（白色層）の上には厚み１２μｍのポリプロピレンのカバーフィルムを圧着した。このようにして、加飾材形成用積層材料（Ｂ）を得た。

＜実施例１の加飾材パターン付き基板の作製＞
カバーフィルムを剥離した加飾材形成用積層材料（Ａ−１）を用いてガラス基板（強化ガラス、３００ｍｍ×４００ｍｍ×０．７ｍｍ）上に支持体Ａ、熱可塑性樹脂層、中間層および感光性樹脂層を、感光性樹脂層側の表面がガラス基板に積層されるように基板温度１００℃、上ロール温度１００℃、下ロール温度１００℃、搬送速度０．６ｍ／ｍｉｎでラミネートし、一括して積層した。
積層後は、加飾材形成用積層材料（Ａ−１）の支持体Ａを離型層ごと剥離し、除去した。
その後、熱可塑性樹脂層、中間層、感光性樹脂層を転写したガラス基板をフォトマスク（線幅１０μｍの加飾材用パターンを有する石英露光マスク）を介して５０ｍＪ／ｃｍ²の強度で波長３６５ｎｍの紫外線露光を行った。

次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０質量％含有、商品名：Ｔ−ＰＤ２（富士フイルム（株）製）を純水で１２倍（Ｔ−ＰＤ２を１部と純水１１部の割合で混合）に希釈した液）を３０℃で２０秒間、フラットノズル圧力０．１ＭＰａでシャワー現像し、熱可塑性樹脂層と中間層とを除去した。引き続き、このガラス基板の上面にエアを吹きかけて液切りした後、純水をシャワーにより１０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄し、エアを吹きかけて基板上の液だまりを減らした。

その後、炭酸ナトリウム／炭酸水素ナトリウム系現像液（商品名：Ｔ−ＣＤ１（富士フイルム（株）製）を純水で５倍（Ｔ−ＣＤ１を１部と純水４部の割合で混合）に希釈した液）を用いて３０℃でシャワー圧を０．１ＭＰａに設定して、３０秒現像し、純水で洗浄し、感光性樹脂層を除去した。このようにして、ガラス基板上に感光性樹脂層を露光および現像されてなる加飾材パターンを形成した。

このようにして形成した加飾材パターン付きガラス基板の加飾材パターン面上に、カバーフィルムを剥離した加飾材形成用積層材料（Ｂ）を用いて、下地色層（白色層側）が加飾材パターン面側となるように遮光層と下地色層（白色層）を一括して基板温度１００℃、上ロール温度１００℃、下ロール温度１００℃、搬送速度０．６ｍ／ｍｉｎでラミネートにより積層を行い、ガラス基板上に加飾材パターン、下地色層（白色層）および遮光層をこの順で形成した。下地色層（白色層）を硬化するため、次いで、得た膜をガラス基板ごと、１５０℃３０分加熱した。このようにして、実施例１の加飾材パターン付き基板を作製した。その際、支持体Ａは剥離せずに残した。

［実施例２］
＜加飾材形成用積層材料（Ａ−２）の作製＞
支持体Ａ上に感光性樹脂層を、上記にて調製した緑色（Ｇ）感光性樹脂層形成用塗布液ＣＧ−１を塗布し、乾燥を行った。
塗布では、感光性樹脂層（２．０μｍ）の厚みでダイコーターにより塗布を行った。
乾燥では、感光性樹脂層が１２０℃２分の条件で乾燥を行った。
作製した感光性樹脂層の上には厚み１２μｍのポリプロピレンのカバーフィルムを圧着した。このようにして、加飾材形成用積層材料（Ａ−２）を得た。

＜実施例２の加飾材パターン付き基板の作製＞
カバーフィルムを剥離した加飾材形成用積層材料（Ａ−２）の感光性樹脂層に対して、フォトマスク（線幅１０μｍの加飾材用パターンを有する石英露光マスク）を介した５０ｍＪ／ｃｍ²の強度で波長３６５ｎｍの紫外線露光を行った。
炭酸ナトリウム／炭酸水素ナトリウム系現像液（商品名：Ｔ−ＣＤ１（富士フイルム（株）製）を純水で５倍（Ｔ−ＣＤ１を１部と純水４部の割合で混合）に希釈した液）を用いて３０℃でシャワー圧を０．１ＭＰａに設定して、３０秒し、純水で洗浄し、加飾材形成用積層材料（Ａ−２）上で感光性樹脂層を露光および現像されてなる加飾材パターンを形成した。
その後、加飾材パターンを形成した加飾材形成用積層材料をガラス基板（強化ガラス、３００ｍｍ×４００ｍｍ×０．７ｍｍ）と加飾材パターン側の表面がガラス基板に積層されるように基板温度１００℃、上ロール温度１００℃、下ロール温度１００℃、搬送速度０．６ｍ／ｍｉｎでラミネートし、加飾材パターンをガラス基板上に積層した。積層後は、支持体Ａを剥離除去した。

このようにして形成した加飾材パターン付きガラス基板の加飾材パターン面上に、カバーフィルムを剥離した加飾材形成用積層材料（Ｂ）を用いて、下地色層（白色層）側が加飾材パターン面側となるように遮光層と下地色層（白色層）を一括して基板温度１００℃、上ロール温度１００℃、下ロール温度１００℃、搬送速度０．６ｍ／ｍｉｎでラミネートにより積層を行い、ガラス基板上に加飾材パターン、下地色層（白色層）および遮光層をこの順で形成した。下地色層（白色層）を硬化するため、次いで、得た膜をガラス基板ごと、１５０℃３０分加熱した。このようにして、実施例２の加飾材パターン付き基板を作製した。その際、支持体Ａは剥離せずに残した。

［実施例３］
＜実施例３の加飾材形成用積層材料（ｉ）−１の作製＞
支持体Ａの離型層上に下地色層（白色層）、感光性樹脂層がこの順に積層されるように、上記にてそれぞれ調製した白色着色液１および緑色（Ｇ）感光性樹脂層形成用塗布液ＣＧ−１の塗布と乾燥を行った。
塗布では、下地色層（白色層）（２０μｍ）、感光性樹脂層（２．０μｍ）の厚みでダイコーターにより塗布を行った。
乾燥では、感光性樹脂層は１２０℃２分、下地色層（白色層）は１２０℃４分の条件で乾燥を行った。
作製した感光性樹脂層の上には厚み１２μｍのポリプロピレンのカバーフィルムを圧着した。このようにして、実施例３の加飾材形成用積層材料（ｉ）−１を得た。

＜実施例３の加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料の作製＞
カバーフィルムを剥離した加飾材形成用積層材料（ｉ）−１の感光性樹脂層に対して、フォトマスク（線幅１０μｍの加飾材用パターンを有する石英露光マスク）を介した５０ｍＪ／ｃｍ²の強度で波長３６５ｎｍの紫外線露光を行った。
その後、炭酸ナトリウム／炭酸水素ナトリウム系現像液（商品名：Ｔ−ＣＤ１（富士フイルム（株）製）を純水で５倍（Ｔ−ＣＤ１を１部と純水４部の割合で混合）に希釈した液）を用いて３０℃でシャワー圧を０．１ＭＰａに設定して、３０秒現像し、純水で洗浄し、加飾材形成用積層材料（ｉ）−１上で感光性樹脂層を露光および現像されてなる加飾材パターン形成を行った。このようにして、実施例３の加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料を得た。

＜実施例３の加飾材パターン付き基板の作製＞
その後、感光性樹脂層を露光および現像されてなる加飾材パターンが形成された実施例３の加飾材形成用積層材料（ｉ）−１（すなわち、実施例３の加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料）をガラス基板（強化ガラス、３００ｍｍ×４００ｍｍ×０．７ｍｍ）と加飾材パターン側の表面がガラス基板に積層されるように基板温度１００℃、上ロール温度１００℃、下ロール温度１００℃、搬送速度０．６ｍ／ｍｉｎでラミネートすることにより下地色層（白色層）と加飾材パターンを一括してガラス基板上に積層して、ガラス基板上に加飾材パターンおよび下地色層（白色層）をこの順で形成した。白色層を硬化するため、次いで、得た膜をガラス基板ごと、１５０℃３０分加熱した。このようにして、実施例３の加飾材パターン付き基板を作製した。その際、支持体Ａは剥離せずに残した。

［実施例４］
＜実施例４の加飾材形成用積層材料（ｉ）−２の作製＞
支持体Ａの離型層上に遮光層、下地色層（白色層）、感光性樹脂層がこの順に積層されるように、上記にてそれぞれ調製した黒色着色液１、白色着色液１および緑色（Ｇ）感光性樹脂層形成用塗布液ＣＧ−１の塗布と乾燥を行った。
塗布では、遮光層（２．０μｍ）、下地色層（白色層）（２０μｍ）、感光性樹脂層（２．０μｍ）の厚みでダイコーターにより塗布を行った。
乾燥では、遮光層と感光性樹脂層は１２０℃２分、下地色層（白色層）は１２０℃４分の条件で乾燥を行った。
作製した感光性樹脂層の上には厚み１２μｍのポリプロピレンのカバーフィルムを圧着した。このようにして、実施例４の加飾材形成用積層材料（ｉ）−２を得た。

＜実施例４の加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料の作製＞
カバーフィルムを剥離した加飾材形成用積層材料（ｉ）−２の感光性樹脂層に対して、フォトマスク（線幅１０μｍの加飾材用パターンを有する石英露光マスク）を介した５０ｍＪ／ｃｍ²の強度で波長３６５ｎｍの紫外線露光を行った。
その後、炭酸ナトリウム／炭酸水素ナトリウム系現像液（商品名：Ｔ−ＣＤ１（富士フイルム（株）製）を純水で５倍（Ｔ−ＣＤ１を１部と純水４部の割合で混合）に希釈した液）を用いて３０℃でシャワー圧を０．１ＭＰａに設定して、３０秒現像し、純水で洗浄し、加飾材形成用積層材料（ｉ）−２上で感光性樹脂層を露光および現像されてなる加飾材パターン形成を行った。このようにして、実施例４の加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料を得た。

＜実施例４の加飾材パターン付き基板の作製＞
その後、感光性樹脂層を露光および現像されてなる加飾材パターンが形成された実施例４の加飾材形成用積層材料（ｉ）−２（すなわち、実施例４の加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料）をガラス基板（強化ガラス、３００ｍｍ×４００ｍｍ×０．７ｍｍ）と加飾材パターン側の表面がガラス基板に積層されるように基板温度１００℃、上ロール温度１００℃、下ロール温度１００℃、搬送速度０．６ｍ／ｍｉｎでラミネートすることにより遮光層と下地色層（白色層）と加飾材パターンを一括してガラス基板上に積層して、ガラス基板上に加飾材パターン、下地色層（白色層）および遮光層をこの順で形成した。下地色層（白色層）を硬化するため、次いで、得た膜をガラス基板ごと、１５０℃３０分加熱した。このようにして、実施例４の加飾材パターン付き基板を作製した。その際、支持体Ａは剥離せずに残した。

［実施例５］
＜実施例５の加飾材形成用積層材料（ｉ）−３の作製＞
支持体Ｃ（下地色層であるアルミ蒸着層付き２５μｍＰＥＴベース、アルミ蒸着層４００Å（０．０４μｍ）、麗光社製、ダイアラスター）のアルミ蒸着層（下地色層）上に、透明接着層、白色感光性樹脂層がこの順に積層されるように、上記にてそれぞれ調製した透明接着層用塗布液、白色感光性樹脂層用塗布液の塗布と乾燥を行った。
塗布では、透明接着層（１５μｍ）、白色感光性樹脂層（４．５μｍ）の厚みでダイコーターにより塗布を行った。
乾燥では、透明接着層と白色感光性樹脂層は１２０℃３分の条件で乾燥を行った。
白色感光性樹脂層の上には厚み１２μｍのポリプロピレンのカバーフィルムを圧着した。このようにして、実施例５の加飾材形成用積層材料（ｉ）−３を得た。

＜実施例５の（白色）加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料の作製＞
加飾材形成用積層材料（ｉ）−３の白色感光性樹脂層に対して、フォトマスク（線幅１０μｍの加飾材用パターンを有する石英露光マスク）を介した５００ｍＪ／ｃｍ²の強度で波長３６５ｎｍの紫外線露光を行った。
その後、炭酸ナトリウム／炭酸水素ナトリウム系現像液（商品名：Ｔ−ＣＤ１（富士フイルム（株）製）を純水で５倍（Ｔ−ＣＤ１を１部と純水４部の割合で混合）に希釈した液）を用いて３０℃でシャワー圧を０．１ＭＰａに設定して、２９℃で１８０秒現像し、純水で洗浄し、加飾材形成用積層材料（ｉ−３）上で（白色）感光性樹脂層を露光および現像されてなるパターン形成を行った。このようにして、実施例５の（白色）加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料を得た。

＜実施例５の（白色）加飾材パターン付き基板の作製＞
その後、（白色）感光性樹脂層を露光および現像されてなる（白色）加飾材パターンが形成された実施例５の加飾材形成用積層材料（ｉ）−３（すなわち、実施例５の加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料を、ガラス基板（強化ガラス、３００ｍｍ×４００ｍｍ×０．７ｍｍ）と加飾材パターン側の表面がガラス基板に積層されるように基板温度１００℃、上ロール温度１００℃、下ロール温度１００℃、搬送速度０．６ｍ／ｍｉｎでラミネートすることにより（白色）加飾材パターン（白色感光性樹脂層を露光、現像してなる層）、透明接着層、ならびにアルミ蒸着層（下地色層）およびＰＥＴベースからなる支持体Ｃをガラス基板上に積層して、ガラス基板上に（白色）加飾材パターン、透明接着層、下地色層およびＰＥＴベースをこの順で形成した。下地色層（白色層）を硬化するため、次いで、得た膜をガラス基板ごと、１５０℃３０分加熱した。このようにして、実施例５の加飾材パターン付き基板を作製した。その際、支持体ＣのＰＥＴベースは剥離せずに残した。

［実施例１１〜１４］
実施例１〜４において下地色層（白色層）の形成に用いる白色着色液１を白色着色液２に変更した以外は実施例１〜４とそれぞれ同様にして、実施例１３および１４の加飾材形成用積層材料、実施例１３および１４の加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料、ならびに、実施例１１〜１４の加飾材パターン付き基板を製造した。

［比較例１］
＜比較例１の加飾材パターン付き基板の作製＞
ガラス基板（強化ガラス、３００ｍｍ×４００ｍｍ×０．７ｍｍ）上に、上記にて調製した緑色（Ｇ）感光性樹脂層形成用塗布液ＣＧ−１をインクとしてスクリーン印刷機により２．０μｍの膜厚で加飾材パターンを印刷し、１２０℃２分間の乾燥を行った。
さらにその上に上記にて調製した白色着色液１を２０μｍの厚みでスクリーン印刷機により塗布を行い１２０℃４分の乾燥を行った。
さらにその上に上記にて調製した黒色着色液１をスクリーン印刷機により２．０μｍの厚みで塗布を行い、１２０℃２分の乾燥を行った。
このようにして、ガラス基板上に加飾材パターン、下地色層（白色層）、遮光層がこの順に積層された比較例１の加飾材パターン付き基板を作製した。

［参考例１］
実施例５において、支持体Ｃの代わりに支持体Ｄ（アルミ蒸着層（すなわち下地色層）がない２５μｍＰＥＴベース）を用いた加飾材形成用積層材料Ｇを用いること以外は、実施例５と同様にして参考例１の（白色）加飾材パターン付き基板を作製した。
なお、参考例１は、金属光沢層を組み合わせたときの白色層の隠ぺい力を明確化するための参考例である。

［評価］
＜膜厚バラツキの評価＞
得られた各実施例、参考例および比較例の加飾材パターン付き基板の（白色）感光性樹脂層および下地色層（白色層または金属光沢層）の膜厚について、触針式膜厚型（ＴＥＮＣＯＲ社製、商品名Ｓｕｒｆａｃｅ Ｐｒｏｆｉｌｅｒ Ｐ−１０）により、９ｃｍ×９ｃｍ内の領域でｎ＝２０点の測定を行った。
白色層の膜厚は、カミソリを用いて白色層の一部をガラスから除去し、むき出しになったガラス面と近傍の白色層表面の段差を上記Ｐ−１０により測定することにより得た。
２０点の測定値より以下の式で計算される膜厚バラツキを計算した。その結果を下記表２に記載した。
（式）
膜厚バラツキ＝（膜厚の最大値−膜厚の最小値）／（膜厚の平均値）×１００％

＜パターニング精度（加飾材パターン線幅）の評価＞
得られた各実施例、参考例および比較例の加飾材パターン付き基板の加飾材パターン線幅を、光学顕微鏡と画像解析ソフト（オリンパス社製、商品名ＸＭ５１、およびミカサ社製 Ｃｐ−３０）を用いて２０か所で測定を行い、その平均値を求めた。その結果を下記表２に記載した。

＜白色の加飾材パターンの隠ぺい力の評価＞
得られた実施例５および参考例１の加飾材パターン付き基板の白色の加飾材パターンの隠ぺい力は、加飾材の下に黒紙と白紙を隙間を空けずに並べて敷き、黒紙と白紙の間の境界部分が、加飾材を通して透けて見える度合いを官能評価した。
Ａ： 黒紙と白紙の境界が透けて見えない。
Ｂ： 黒紙と白紙の境界が透けて見える。

＜白色の加飾材パターン白色度の評価＞
得られた実施例５および参考例１の加飾材パターン付き基板の白色の加飾材パターンの白色度は、加飾材の下に黒紙を敷き、色相（Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊）を測定して評価した。評価は測色計（ＣＭ−７００ｄ、コニカミノルタセンシング株式会社製、ＳＣＩモード、Ｄ６５光源、１０°測定）を用いて、基板側から測定した。

＜ガラス飛散性（落下テスト）の評価＞
得られた各実施例、参考例および比較例の加飾材パターン付き基板を、５ｍの高さから初速なしで、コンクリート製の床面に自由落下させた。
以下の評価基準で評価した。その結果を下記表２に記載した。
Ａ：ガラスは割れるが、飛散はしない
Ｂ：ガラスが割れて、飛散する

上記表２より、本発明の加飾材パターン付き基板の製造方法で製造された本発明の加飾材パターン付き基板は、加飾材パターン（白色感光性樹脂層を現像、露光してなる層）および下地色層の膜厚のバラツキが少なく、高精度な加飾材パターンを有することがわかった。
より詳しくは、実施例１〜４および１１〜１４の加飾材パターン付き基板の製造方法ではダイコーターによりフィルム状態で連続的に安定して塗布することができるため、膜厚のバラツキが少ない均一な加飾材パターン付き基板を作製することができた。実施例５の加飾材パターン付き基板の製造方法では、下地色層がアルミ蒸着層であるため、膜厚バラツキが少ない均質な膜となった。一方で、比較例１の加飾材パターン付き基板の製造方法では、膜厚のバラツキが大きくなった。
実施例１〜５および１１〜１４の加飾材パターン付き基板の製造方法では、フィルム状態の塗布物を作製する際に、ダイコーターにより連続的に安定して塗布を行えるため、均質な品質のフィルムを大量に生産することができ、それを用いて積層により効率的に加飾材パターン付き基板を大量生産ができた。一方で、比較例１では１枚ずつ塗布と乾燥を行うため、塗布と乾燥に時間がかかり、効率的に加飾材パターン付き基板を生産することが出来なかった。

実施例１〜５および１１〜１４の加飾材パターン付き基板では基板として強化ガラス基板を用いている。このような強化ガラス基板を用いた実施例１〜５および１１〜１４の加飾材パターン付き基板は、積層材料のフィルム支持体であるＰＥＴが加飾材パターン付き基板に含まれているため、落下によりガラス基板が割れても、割れたガラスは飛散せずに安全である。一方で、比較例１の強化ガラス基板を用いた加飾材パターン付き基板では割れたガラスが飛散して安全性に劣った。

なお、上記表２より、アルミ蒸着層である金属光沢層（下地色層）と白色感光性樹脂層を併用した実施例５の加飾材パターン付き基板は、白色感光性樹脂層の厚みが４．５μｍであっても隠ぺい力と白色性が高いことがわかった。白色性が高いことはＬ＊が高いことと、ａ＊、ｂ＊が低いことから判断される。
一方、金属光沢層（下地色層）なしで、４．５μｍの白色感光性樹脂層を設けた参考例１の加飾材パターン付き基板は、隠ぺい力や白色性が低いことがわかった。

Claims (21)

1. 支持体上に感光性樹脂層を有する加飾材形成用積層材料の前記感光性樹脂層側の表面を基板に積層する工程、ならびに、前記加飾材形成用積層材料を前記基板に積層する前または後に該感光性樹脂層を露光および現像して加飾材パターンを形成する工程；あるいは、
   支持体上に感光性樹脂層が露光および現像されてなる加飾材パターンを有する加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料の前記加飾材パターン側の表面を基板に積層する工程；
   を含み、
   下記条件（Ｍ）または条件（Ｎ）を満たす加飾材パターン付き基板の製造方法。
   条件（Ｍ）：前記加飾材形成用積層材料が前記支持体と前記感光性樹脂層または前記加飾材パターンとの間に下地色層を有する。
   条件（Ｎ）：前記加飾材形成用積層材料が前記支持体と前記感光性樹脂層または前記加飾材パターンとの間に下地色層を有さず、さらに支持体上に下地色層を有する第２の加飾材形成用積層材料の前記下地色層側の表面を前記加飾材パターン上に積層する工程を含む。
2. 前記条件（Ｍ）を満たし、
   支持体上に下地色層および感光性樹脂層をこの順に有する加飾材形成用積層材料（ｉ）の前記感光性樹脂層を露光する工程と、
   露光された前記感光性樹脂層を現像して加飾材パターンが形成された加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料（ｉｉ）を調製する工程と、
   前記加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料の前記加飾材パターン側の表面を基板に積層する工程を含む請求項１に記載の加飾材パターン付き基板の製造方法。
3. 前記条件（Ｍ）を満たし、
   支持体上に下地色層ならびに感光性樹脂層が露光および現像されてなる加飾材パターンをこの順に有する加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料（ｉｉ）の前記加飾材パターン側の表面を基板に積層する工程を含む請求項１に記載の加飾材パターン付き基板の製造方法。
4. 前記条件（Ｎ）を満たし、
   支持体上に感光性樹脂層を有する第１の加飾材形成用積層材料（Ａ）の前記感光性樹脂層を露光する工程と、
   露光された前記感光性樹脂層を現像して加飾材パターンを形成する工程と、
   前記第１の加飾材形成用積層材料（Ａ）の前記加飾材パターン側の表面を基板上に積層する工程と、
   支持体上に下地色層を有する第２の加飾材形成用積層材料（Ｂ）の前記下地色層側の表面を前記加飾材パターン上に積層する工程を含む請求項１に記載の加飾材パターン付き基板の製造方法。
5. 前記条件（Ｎ）を満たし、
   支持体上に感光性樹脂層を有する第１の加飾材形成用積層材料（Ａ）の前記感光性樹脂層を基板上に積層する工程と、
   前記支持体を前記感光性樹脂層から剥離する工程と、
   前記感光性樹脂層を露光する工程と、
   露光された前記感光性樹脂層を現像して加飾材パターンを形成する工程と、
   支持体上に下地色層を有する第２の加飾材形成用積層材料（Ｂ）の前記下地色層側の表面を前記加飾材パターン上に積層する工程を含む請求項１に記載の加飾材パターン付き基板の製造方法。
6. 前記支持体と前記下地色層の間に遮光層を有し、前記下地色層および前記遮光層を一括して基板上に積層する請求項１〜５のいずれか一項に記載の加飾材パターン付き基板の製造方法。
7. 前記下地色層が白色層である請求項１〜６のいずれか一項に記載の加飾材パターン付き基板の製造方法。
8. 前記下地色層が金属光沢層である請求項２または３に記載の加飾材パターン付き基板の製造方法。
9. 前記金属光沢層に隣接して、かつ前記支持体とは反対側の表面に透明接着層を有する請求項８に記載の加飾材パターン付き基板の製造方法。
10. 前記金属光沢層が金属薄膜層である請求項８または９に記載の加飾材パターン付き基板の製造方法。
11. 前記感光性樹脂層が光重合開始剤およびエチレン性不飽和化合物を含む請求項１〜１０のいずれか一項に記載の加飾材パターン付き基板の製造方法。
12. 前記感光性樹脂層が染料または顔料を含む請求項１〜１１のいずれか一項に記載の加飾材パターン付き基板の製造方法。
13. 請求項１〜１２のいずれか一項に記載の加飾材パターン付き基板の製造方法により製造された加飾材パターン付き基板。
14. 支持体上に下地色層および感光性樹脂層をこの順に有する加飾材形成用積層材料。
15. 前記支持体と前記下地色層の間に遮光層を有する請求項１４に記載の加飾材形成用積層材料。
16. 前記下地色層が白色層または金属光沢層であることを特徴とする請求項１４または１５に記載の加飾材形成用積層材料。
17. 前記下地色層が金属光沢層であり、
    前記金属光沢層に隣接して、かつ前記支持体とは反対側の表面に透明接着層を有する請求項１６に記載の加飾材形成用積層材料。
18. 前記金属光沢層が金属薄膜層である請求項１６または１７に記載の加飾材形成用積層材料。
19. 前記感光性樹脂層が光重合開始剤およびエチレン性不飽和化合物を含む請求項１４〜１８のいずれか一項に記載の加飾材形成用積層材料。
20. 前記感光性樹脂層が染料または顔料を含む請求項１４〜１９のいずれか一項に記載の加飾材形成用積層材料。
21. 請求項１４〜２０のいずれか一項に記載の加飾材形成用積層材料の前記感光性樹脂層が露光および現像されてなるパターンを有する加飾材パターン含有加飾材形成用積層材料。