JP2003249534A - 高周波回路、高周波回路装置 - Google Patents

高周波回路、高周波回路装置

Info

Publication number
JP2003249534A
JP2003249534A JP2002047423A JP2002047423A JP2003249534A JP 2003249534 A JP2003249534 A JP 2003249534A JP 2002047423 A JP2002047423 A JP 2002047423A JP 2002047423 A JP2002047423 A JP 2002047423A JP 2003249534 A JP2003249534 A JP 2003249534A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
frequency
pad
high frequency
frequency circuit
mounting
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002047423A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Sugano
浩 菅野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2002047423A priority Critical patent/JP2003249534A/ja
Publication of JP2003249534A publication Critical patent/JP2003249534A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウェハ状態での高周波プローブを用いた高周
波特性検査により、バンプを形成する実装パッド表面が
傷つき、良好な再現性でバンプを形成することが困難で
ある。形成したバンプにより接続したフリップチップ接
続部の高周波特性の再現性が低い。形成したバンプによ
り接続したフリップチップ接続部の高周波特性の長期信
頼性が低い。 【解決手段】 高周波回路の高周波入出力部の信号線
が、高周波特性的に等価な二本のスタブに任意の位置に
おいて分岐され、一方の分岐スタブの先端が接地電極パ
ッドを近傍に伴う信号電極パッドとして機能し、もう一
方の分岐スタブの先端が実装時のバンプ実装パッドとし
て機能することにより、ウェハ状態での高周波特性検査
と、実装接合部の良好な高周波特性と良好な長期信頼性
の両立が可能となった。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は高周波回路の構造に
係わり、特にMMIC等のマイクロ波帯・ミリ波帯半導
体装置内で使用される高周波回路の構造に関する。
【0002】
【従来の技術】近年の情報通信量の飛躍的な需要の増大
により、マイクロ波帯、さらにはミリ波帯における通信
システムの実用化が進んでいる。これらのシステムに用
いられる低雑音増幅器、電力増幅器、ミキサ、周波数逓
倍器、等のRF半導体装置には更なる特性の向上、小型
化が求められている。また、これらの半導体装置は集積
化、大量生産による低コスト化が期待されている。
【0003】半導体デバイス、半導体集積素子、高周波
回路の高周波特性を測定するために、ウェハ状態で検査
を行なうのが一般的である。これは、パッケージ基板、
もしくはモジュール基板へ実装した形態での全体装置の
製造歩留まりを向上させるためには、前記装置の構成要
素である各デバイス、各回路の、実装前工程での高周波
特性検査が不可欠であることによる。
【0004】一般に、ウェハ状態での高周波回路の高周
波特性を測定するためには、例えば、エアコプレーナ型
の高周波プローブが用いられる。GSG型を例にとる
と、同プローブは、中央に信号線、両側にグラウンドが
接続される信号針3本により構成されている。また、各
信号針は、測定機器に接続される同軸ケーブル、あるい
は同軸コネクタの信号線、グラウンドにそれぞれ電気的
に接続している。信号針3本間の形状は、評価系を構成
する測定機器のインピーダンスである50Ωと整合が可
能なように最適設計されている。
【0005】また、ウェハ状態での高周波特性測定を行
なう高周波回路の信号線の入出力部先端には、前記高周
波プローブが接触するための導電性の接触パッドが形成
される。接触パッドの近傍の回路基板表面にはグラウン
ド針が接触するための接触パッドが形成される。ここ
で、回路基板上の信号線路がコプレーナ線路により構成
される場合、信号線路のグラウンドは回路基板表面に形
成されており、上記信号線のグラウンド面は高周波プロ
ーブの接触パッドとの兼用が可能である。また、マイク
ロストリップ線路により回路基板上の信号線路が構成さ
れている場合は、基板裏面に存在する信号線路のグラウ
ンドと高周波プローブのグラウンド針が接触する接触パ
ッドの電位を等しくするために、図2に示すような高周
波回路が使用される。ここで、接触パッド15は高周波
プローブの信号線針が接触するためのパッドであり、接
触パッド17、18は高周波プローブのグラウンド針が
接触するためのパッドである。基板を貫通するバイアホ
ール19、20が接触パッド近傍に形成され、同接触パ
ッド17、18と導電性配線により接続される。両パッ
ドの形状、間隔、接触する高周波プローブの形状を制御
することにより、測定機器のインピーダンスが50Ωで
ある測定系における評価回路の高周波特性が測定可能と
なる。以上詳述した高周波回路をあらかじめ高周波回路
基板上に形成しておくことにより、前記高周波プローブ
を使用し、Sパラメータ、雑音指数、歪特性などの高周
波回路の高周波特性をウェハ状態で測定することが可能
となる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
技術には以下のような課題があった。すなわち、ウェハ
状態での高周波回路の高周波特性検査時に、高周波プロ
ーブ針先が前記接触パッドへ接触することにより、同接
触パッドの表面に傷がついてしまうという問題があっ
た。凹凸が存在する接触パッドの表面上に、フリップチ
ップ実装のためのメッキバンプを形成することは困難で
ある。また、仮に形成に成功したとしても、同バンプの
形状を制御することは困難である。形成されたメッキバ
ンプの高さ、表面平坦性、硬度にばらつきが生じた場
合、モジュール基板やパッケージ基板などの実装基板と
該バンプとの接合を一様に再現不可能となる。接合部の
形状、面積などの接合部のばらつきは、超高周波におけ
る高周波特性に大きなばらつきを生じさせ、高周波装置
の製造歩留まりを低下させる要因となる。また、接合部
形状のばらつきは、任意の一定の加圧、昇温、紫外線照
射、超音波印加などの条件下において接合される接合箇
所の長期信頼性低下をまねく。また、以上詳述したの
は、メッキバンプを介してフリップチップ実装を行なう
場合の課題であるが、半田バンプのようなメッキバンプ
以外の形態のバンプを使用する場合においても、また、
ワイヤボンディング接合を行なう場合においても、バン
プパッドやワイヤパッドの平坦性の低下は一様に接合部
の高周波特性の再現性低下、接合部の長期信頼性の低下
という課題を生じる。
【0007】また、ミリ波帯のような高周波帯での測定
においては、信号線間の接続、さらには異なるグラウン
ド面間の接続強度が低下すると測定精度が大きく劣化し
てしまう。このため、高周波プローブ針の接触パッドへ
の接触は確実に行なわれる必要があり、同高周波プロー
ブを加圧しつつ同接触パッドへ接触させることが避けら
れず、接触パッド表面へ傷を生じず測定を行なうことは
現実的に不可能である。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の第一の高周波回路は、高周波信号入出力箇
所に信号線より分岐したすくなくとも二本の分岐スタブ
が形成され、同分岐スタブのすくなくとも一方が高周波
プローブを接触させるための接触パッドにより終端さ
れ、ウェハ状態での高周波特性検査を可能とするだけで
なく、すくなくとも一方の分岐スタブが実装用のバンプ
形成のためのパッドにより終端されることを特徴とする
ものである。
【0009】本発明の第一の高周波回路により、高周波
特性検査前後での実装用パッドの表面形状の変化を回避
できるため、良好な再現性での実装用バンプ形状の制御
が可能となり、またフリップチップ実装の接合部の高周
波特性維持、またフリップチップ実装の接合部の長期信
頼性維持が可能となる。
【0010】なお、本発明の第一の高周波回路として
は、二本の分岐スタブの高周波特性が等価であることが
好ましい。ウェハ状態での高周波特性検査時には実装パ
ッドに接続される分岐スタブが、また実装時には高周波
プローブ接触用パッドに接続される分岐スタブがそれぞ
れ先端開放スタブとして機能し、高周波回路特性へ影響
を与えるため、この影響を等価とすることにより精度の
よい高周波特性検査が可能となる。
【0011】また、上記課題を解決するために、本発明
の第二の高周波回路は、高周波信号入出力箇所に信号線
より分岐した二本の分岐スタブが形成され、同分岐スタ
ブの一方が高周波プローブを接触させるための接触パッ
ドにより終端され、ウェハ状態での高周波特性検査を可
能とするだけでなく、もう一方の分岐スタブが実装用の
バンプ形成のための実装パッドにより終端され、さらに
は各分岐スタブと該分岐スタブを終端するパッドから構
成される先端開放スタブの電気長が、所定の設計周波数
帯域においてλ/8程度に相当することを特徴とするも
のである。本発明の第二の高周波回路により、本発明の
第一の高周波回路と同様、ウェハ状態での高周波特性検
査と良好な実装特性の両立が可能となるだけでなく、半
導体素子の線形性を劣化させる高調波発生を抑制するこ
とが可能となる。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図を参照しながら説明する。なお、本発明は実施の形
態に限定されない。
【0013】(実施の形態1)図1は本発明の第一の実
施の形態を示す高周波回路の上面図である。以下、特に
触れない場合は、図1において図示された構造は全て絶
縁性基板上に導電性物質によりパターニングされた配線
構造とする。マイクロストリップ線路構造の信号線11
は分岐点12において二本の分岐スタブ13、14に分
岐される。分岐スタブ13は、高周波プローブの信号針
接触を目的とした接触パッド15により終端される。す
なわち、分岐スタブ13と接触パッド15から先端開放
スタブ16が実現される。接触パッド15の近傍には、
高周波プローブのグラウンド針の接触を目的とした接地
パッド17、18が形成される。接地パッド17、18
は隣接して形成されるバイアホール19、20と電気的
に接続されている。なお、上面図において示した構造の
内、バイアホール19、20のみが基板を貫通して形成
されている。バイアホール19、20は、マイクロスト
リップ線路のグラウンド面である基板裏面の導体面と接
地パッド17、18の電位を等しく、もしくは近づける
ことを目的としている。また、分岐スタブ14は、実装
時にワイヤ、もしくはバンプを形成する実装パッド21
により終端される。すなわち、分岐スタブ14と実装パ
ッド21から先端開放スタブ22が実現される。また、
実装パッド21の近傍にも接地バンプ用の実装パッド2
3、24を設けた。また、接地パッド16、17がバイ
アホール18、19を介して基板裏面のグラウンド面と
電気的に接続しているのと同様に、実装パッド23、2
4に隣接してバイアホール25、26を形成し、実装パ
ッド23、24の電位をグラウンドと等電位に設定する
のに用いている。
【0014】本発明の第一の形態の高周波回路を一部に
設けた半導体素子をウェハ状態で高周波特性を検査した
後、別の絶縁体基板上に形成された高周波回路基板へフ
リップチップ実装して接続した。検査前後において、実
装パッド21、23、24の表面平坦度が変化しないこ
とはいうまでもない。また、検査工程後の実装パッド2
1、23、24へのバンプ形成が容易であったこともい
うまでもない。また、その形状、硬度の制御も容易に可
能であった。よって、本発明の第一の形態の高周波回路
の採用により、ウェハ状態での高周波特性検査と、実装
接合部の良好な高周波特性と良好な長期信頼性が両立さ
れた高周波回路装置が実現された。
【0015】なお、上記実施例においては、検査工程後
に実装パッド21、23、24上へメッキバンプを形成
する例について述べたが、本発明の高周波回路において
は実装パッド21、23、24と検査パッド15、1
7、18を別個に構成するため、検査工程前に実装パッ
ド21、23、24上にバンプが形成済みとなる製造工
程により本高周波回路を製造することも可能である。
【0016】なお、本発明の第一の形態においては、絶
縁性基板として厚さ100ミクロンのガリウム砒素(G
aAs)基板を、信号線11、分岐スタブ13、14の
線幅を30ミクロン、分岐スタブ13、14の線路長を
それぞれ120ミクロンとし、30GHzを周波数帯域
とするミリ波モノリシック集積回路(MMIC)の入力
構造として用いた。なお、実装パッド、接触パッドの形
状はそれぞれ正方形とし、その一辺を80ミクロンに設
定した。また、接触パッド15と接地パッド17、18
間の各間隔、実装パッド21と接地バンプの実装パッド
23、24間の各間隔はそれぞれ100ミクロンとし
た。また、接地バンプに隣接して設けられる全バイアホ
ールは円柱状とし、その半径を30ミクロンとした。
【0017】本発明の第一の形態においては、ウェハ状
態での高周波特性検査時には分岐スタブ14、および実
装パッド21は先端開放スタブ22として機能するが、
先端開放スタブ22の反射インピーダンスは30GHz
において46−j14Ωであり、殆ど整合に影響を与え
ない。同様に、実装時の先端開放スタブ16が整合に与
える影響もわずかである。よって、従来の半導体集積回
路に、本発明の第一の実施の形態の高周波回路を適用す
ることによる整合変化は無視することができる。この理
由から、本要約においては詳細を記述しない、分岐スタ
ブ13、14の線路長、もしくは線幅等の条件を互いに
違えた別実施例においても、同様に本発明の効果を得る
ことが可能であった。
【0018】また、分岐スタブ13、14の線路長をそ
れぞれ700ミクロンとした場合においては、ウェハ状
態での高周波特性検査時の先端開放スタブ22は、反射
インピーダンス6−j16Ωの高周波回路として機能
し、整合への影響が無視できなくなる。しかし、分岐ス
タブ13の線路長も分岐スタブ14の線路長と同一値で
ある700ミクロンへ設定することにより、検査時の先
端開放スタブ22と実装時の先端開放スタブ16の回路
特性を同一とすることが可能であり、先端開放スタブ1
6、もしくは22の影響を考慮することにより容易に回
路設計を行なうことが可能である。
【0019】また、本実施の形態においては、DC阻
止、もしくは整合回路として機能するキャパシタや、抵
抗素子、さらにはスパイラルインダクタなどの高周波回
路素子を回路内に含まない形態について説明を行なった
が、分岐点12より分岐される分岐スタブ13、14が
それぞれパッド15、21により終端されるまでにこれ
らの高周波素子を包含してもよいことはいうまでもな
い。
【0020】また、本実施の形態においては、高周波回
路の信号線をマイクロストリップ線路において構成した
例について示したが、高周波回路の信号線がコプレーナ
線路によって構成される場合においても、本発明の効果
は同様に得られる。なお、この場合、バイアホールは不
要となる。また高周波プローブのグラウンド針が接触す
るためのグラウンドパターンは、信号線11、分岐スタ
ブ13、14の周辺の基板表面に存在するグラウンド面
でよく、接地パッド17、18を別個に設ける必要が無
いことはいうまでもない。同様に、実装パッド23、2
4を別個設置する必要も無い。
【0021】(実施の形態2)本発明の第二の実施の形
態の高周波回路においては、本発明の第一の実施の形態
における分岐スタブ13と接触パッド15から構成され
る先端開放スタブ16と、分岐スタブ14と実装パッド
21から構成される先端開放スタブ22の実効的な線路
長を、設計周波数の30GHzの2倍高調波のλ/4の
電気長に相当するよう、分岐スタブ13、15の長さを
それぞれ370ミクロンに設定した。すなわち、先端開
放スタブ16、22の実効的な電気長を設計周波数のλ
/8に設定した。
【0022】本発明の第二の実施の形態の高周波回路に
おいては、ウェハ検査時には先端開放スタブ22が、ま
た実装時には先端開放スタブ16が、設計帯域の2倍高
調波である60GHzにおいて1.2Ωの反射インピー
ダンスを有する回路として機能する。すなわち、各スタ
ブはそれぞれ20dB以上の帯域除去フィルタとして機
能するため、高調波の抑制が可能となる。また、本発明
の第一の実施の形態と同様に、ウェハ状態での高周波特
性検査と、実装部の高周波特性維持、及び信頼性維持が
可能になることは云うまでもない。
【0023】また、本発明の第二の実施の形態の高周波
回路においては、ウェハ検査時には先端開放スタブ22
が、また実装時には先端開放スタブ16が、設計周波数
とした30GHzにおいて32−j24Ωの反射インピ
ーダンスを有する回路として機能するが、設計時から同
回路を整合回路の一部としてその影響を考慮して整合回
路を最適設計することにより、本発明の有利な効果と良
好な高周波特性を両立することが可能である。
【0024】また、本発明の第二の実施の形態の高周波
回路を、増幅器を含む集積回路の出力部に設けることに
より、増幅器の相互変調歪特性が改善されるという有利
な効果が得られた。
【0025】また、本発明の第二の実施の形態の高周波
回路を、増幅器を含む集積回路の入力部に設けることに
より、前記集積回路を含む高周波モジュール内において
前記集積回路の前段回路において発生する高調波成分が
除去され、増幅器の相互変調歪特性劣化が回避されると
いう有利な効果が得られた。
【0026】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明の第一の高
周波回路によれば、ウェハ状態での高周波特性検査と、
実装接合部の良好な高周波特性と良好な長期信頼性の両
立という有利な効果が得られた。
【0027】また、以上詳述したように、本発明の第二
の高周波回路によれば、ウェハ状態での高周波特性検査
と、実装接合部の良好な高周波特性と良好な長期信頼性
の両立という有利な効果が得られるだけでなく、高調波
信号の低減という有利な効果が得られた。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第一の実施の形態の高周波回路の上面
【図2】従来の高周波回路においてウェハ状態での高周
波特性検査を行なうために設けられる高周波回路の上面
【符号の説明】 11 マイクロストリップ線路構造の信号線 12 信号線11が二本のスタブに分岐される任意の分
岐点 13 高周波プローブの信号針接触を目的とした接触パ
ッドにより終端される分岐スタブ 14 高周波プローブの信号針接触を目的とした接触パ
ッドにより終端される分岐スタブ 15 高周波プローブの信号針接触を目的とした接触パ
ッド 16 分岐スタブ13と接触パッド15から構成される
先端開放スタブ 17,18 高周波プローブのグラウンド針接触を目的
とした接地パッド 19,20 接地パッド16、17の電位を基板裏面の
グラウンドと等電位に設定するために各接地パッドに隣
接して設けられたバイアホール 21 実装時にバンプを形成する実装パッド 22 分岐スタブ14と実装パッド21から構成される
先端開放スタブ 23,24 接地バンプを表面に形成するための実装パ
ッド 25,26 接地パッド23、24の電位を基板裏面の
グラウンドと等電位に設定するために各接地パッドに隣
接して設けられたバイアホール

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 絶縁性基板上に形成された導電性高周波
    信号線と、 前記信号線の任意の地点において分岐された少なくとも
    2本以上の分岐線と、 前記分岐線のうち少なくとも1本の先端に接続された高
    周波プローブ接触パッドと、 前記分岐線のうち少なくとも1本の先端に接続された実
    装パッドと、 を具備することを特徴とする、高周波回路。
  2. 【請求項2】 信号線および分岐線はマイクロストリッ
    プ線路により構成され、高周波プローブ接触パッドの近
    辺には、バイアホールにより絶縁性基板を貫通して裏面
    グラウンドと接続する接地パッドが設けられており、前
    記高周波プローブ接触パッドと前記接地パッドは電気的
    に分離されていることを特徴とする請求項1に記載の高
    周波回路。
  3. 【請求項3】 分岐線が互いに等価な高周波特性を有す
    ることを特徴とする請求項1、2に記載の高周波回路。
  4. 【請求項4】 分岐線と接触パッド、もしくは前記接触
    パッドから構成される先端開放スタブの実効的な電気長
    が設計周波数の8分の1波長に相当することを特徴とす
    る請求項1から3に記載の高周波回路。
  5. 【請求項5】 請求項1から4に記載の高周波回路を集
    積回路の入出力部に有することを特徴とする半導体集積
    装置。
  6. 【請求項6】 請求項5に記載の半導体集積装置の入出
    力部の実装パッド上に任意形状の導電性バンプを成長
    し、前記導電性バンプを別絶縁性基板上に形成した導電
    性パッドに接続し実装することを特徴とする高周波回路
    装置。
JP2002047423A 2002-02-25 2002-02-25 高周波回路、高周波回路装置 Pending JP2003249534A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002047423A JP2003249534A (ja) 2002-02-25 2002-02-25 高周波回路、高周波回路装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002047423A JP2003249534A (ja) 2002-02-25 2002-02-25 高周波回路、高周波回路装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003249534A true JP2003249534A (ja) 2003-09-05

Family

ID=28660484

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002047423A Pending JP2003249534A (ja) 2002-02-25 2002-02-25 高周波回路、高周波回路装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003249534A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009141402A1 (en) * 2008-05-22 2009-11-26 Stmicroelectronics (Grenoble) Sas Method for manufacturing and testing an integrated electronic circuit
JP2014229632A (ja) * 2013-05-17 2014-12-08 住友電気工業株式会社 半導体装置
WO2024023969A1 (ja) * 2022-07-27 2024-02-01 日本電信電話株式会社 検査用パターンおよびそれを備えた半導体集積回路

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009141402A1 (en) * 2008-05-22 2009-11-26 Stmicroelectronics (Grenoble) Sas Method for manufacturing and testing an integrated electronic circuit
FR2931586A1 (fr) * 2008-05-22 2009-11-27 St Microelectronics Grenoble Procede de fabrication et de test d'un circuit electronique integre
US8232113B2 (en) 2008-05-22 2012-07-31 Stmicroelectronics (Grenoble) Sas Method for manufacturing and testing an integrated electronic circuit
JP2014229632A (ja) * 2013-05-17 2014-12-08 住友電気工業株式会社 半導体装置
WO2024023969A1 (ja) * 2022-07-27 2024-02-01 日本電信電話株式会社 検査用パターンおよびそれを備えた半導体集積回路

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10811373B2 (en) Packaging structure comprising at least one transition forming a contactless interface
US6194739B1 (en) Inline ground-signal-ground (GSG) RF tester
US7764072B2 (en) Differential signal probing system
US7034544B2 (en) Methods for minimizing the impedance discontinuity between a conductive trace and a component and structures formed thereby
Jentzsch et al. Theory and measurements of flip-chip interconnects for frequencies up to 100 GHz
US7173433B2 (en) Circuit property measurement method
US4851794A (en) Microstrip to coplanar waveguide transitional device
JP2000236032A (ja) マイクロ波およびミリメートル波周波数のワイヤレスmmicチップ・パッケージング
US5563522A (en) Microwave band probing apparatus
JP2003249534A (ja) 高周波回路、高周波回路装置
JPH07122602A (ja) 高周波プローブ及びプローブカード
JP3435241B2 (ja) テープ状半導体搭載装置の評価装置
JPH07191058A (ja) 広帯域マイクロ波本来位置テスト装置
JP2002290115A (ja) ミリ波伝送線路の入出力端部接続構造
JP3852589B2 (ja) マイクロ波集積回路、誘電体基板
JP2015052574A (ja) 高周波特性測定治具装置
JPH1183936A (ja) 素子評価回路
JP2002299394A (ja) シート型プローブカード
JP2668423B2 (ja) 高周波回路の測定装置
JPH11183564A (ja) テスト・フィクスチャ及びこれを用いる半導体試験装置
Song et al. RF modeling and design of flip-chip configurations of microwave devices on PCBs
JP6536283B2 (ja) 高周波モジュール及び高周波モジュールの製造方法
JP2000164766A (ja) 高周波用配線基板
WO2009157563A1 (ja) 伝送線路基板及び高周波部品の測定装置
JPH09102521A (ja) プローブカード