JP2003247950A - 塗布層の検査装置および検査方法 - Google Patents

塗布層の検査装置および検査方法

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JP2003247950A
JP2003247950A JP2002047581A JP2002047581A JP2003247950A JP 2003247950 A JP2003247950 A JP 2003247950A JP 2002047581 A JP2002047581 A JP 2002047581A JP 2002047581 A JP2002047581 A JP 2002047581A JP 2003247950 A JP2003247950 A JP 2003247950A
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Mikiro Yamaguchi
幹郎 山口
Satoshi Kuboyama
聡 久保山
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Toppan Inc
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Toppan Printing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】塗布層、特に、透明な塗布層の表面状態を塗布
中で検査することができる検査装置、および検査方法を
提供することを目的とする。 【解決手段】基材上に、塗布液を塗布、乾燥して設けた
塗布層の表面状態を検査する検査装置であって、前記塗
布層の表面で全反射する角度で照射光を照射する光源
と、この光源と対向する位置に、前記照射光が全反射し
た反射光を受光する観察装置を配置したことを特徴とす
る塗布層の検査装置を提供する。また、基材上に、塗布
液を塗布、乾燥して設けた塗布層の表面状態を、前記塗
布層の表面に、光源から全反射する角度で照射光を照射
し、次に、前記照射光が全反射した反射光を受光し、観
察することを特徴とする塗布層の検査方法を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、連続状、または枚
葉状の基材に塗布液を塗布し、乾燥して設けた塗布層の
表面状態を検査する検査装置、および検査方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来から、基材に塗布層を設けるための
方式として、例えば、グラビアコート、リバースロール
コート、スライドコート、バーコート、ウェットダイコ
ート、エアーナイフコート、カーテンコート等が挙げら
れる。
【0003】上記塗工方式は、連続したフィルムや紙等
の基材上に均一な塗布層を形成する目的で使用されてい
たり、ガラス板などの単板に枚葉状基材上に塗布層を形
成する、枚葉塗工方式も使用されている
【0004】前記塗工方式において、均一な塗布層を設
けるため塗布装置のパラメータ設定や、塗布条件は、経
験や塗布層の完成状態を見て決められることが多かっ
た。また、塗布層の表面の平滑性を上げるために、塗布
液の塗布直後の初期流動性を上げるなどの粘度調整を行
っていた。このような調整は、塗布速度や、乾燥条件な
どのパラメータ設定や、塗布条件を調整し、塗布層の完
成具合を見ながら塗布を行うようにしていた。
【0005】一方、フィルムや紙などの連続状基材を搬
送する機構や、コーティングヘッド機構においても均一
な塗布層膜を得るために、搬送速度の均一性が要求され
たり、各々の機構の機械精度が要求されたり、運転にと
もなう機械振動が、塗布層の完成具合に影響を与えてい
た。
【0006】また、連続状基板へ連続的に塗布する場
合、長さ方向において、塗布開始時と、塗布終了の終了
時で、塗布状態が変化することがある。さらに、塗布層
の幅方向の両端部分は、中央部分より塗布層の膜厚が厚
くなったり、薄くなったりすることが生じていた。これ
らの現象をできるだけ小さくするように、塗布装置のパ
ラメータ設定や、塗布条件を選定していた。
【0007】しかし、塗布装置の設定や条件だけでは、
塗布層を設けた製品全体の完成具合が悪いものとなった
り、塗布層を形成している間に、これらのパラメータ
や、塗布条件を再度変更することが必要になる場合があ
った。しかし、この変更したパラメータや、塗布条件が
適切であるかどうかは、塗布層を設けた製品を検査しな
ければ判断できないという問題があった。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる従来
技術の課題を解決するものであり、塗布層、特に、透明
な塗布層の表面状態を塗布中で検査することができる検
査装置、および検査方法を提供することを目的とする。
そして、精密な塗布層の形成が必要なエレクトロニクス
関連分野、カラーフィルター(CF)のレジストの塗布
方式や、液晶表示装置(LCD)の反射防止レジストの
塗布方式を連続塗布あるいは間歇塗布を、より高い均一
な膜厚で、平滑な塗布層ができるような検査装置、およ
び検査方法を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
基材上に、塗布液を塗布、乾燥して設けた塗布層の表面
状態を検査する検査装置であって、前記塗布層の表面で
全反射する角度で照射光を照射する光源と、この光源と
対向する位置に、前記照射光が全反射した反射光を受光
する観察装置を配置したことを特徴とする塗布層の検査
装置である。
【0010】請求項2記載の発明は、前記塗布層が透明
としたことを特徴とする請求項1記載の塗布層の検査装
置である。
【0011】請求項3記載の発明は、前記基材が連続状
としたことを特徴とする請求項1または2記載の塗布層
の検査装置である。
【0012】請求項4記載の発明は、前記基材が枚葉状
としたことを特徴とする請求項1または2記載の塗布層
の検査装置である。
【0013】請求項5記載の発明は、基材上に、塗布液
を塗布、乾燥して設けた塗布層の表面状態を、前記塗布
層の表面に、光源から全反射する角度で照射光を照射
し、次に、前記照射光が全反射した反射光を受光し、観
察することを特徴とする塗布層の検査方法である。
【0014】請求項6記載の発明は、前記塗布層が透明
としたことを特徴とする請求項5記載の塗布層の検査方
法である。
【0015】請求項7記載の発明は、前記基材が連続状
としたことを特徴とする請求項5または6記載の塗布層
の検査方法である。
【0016】請求項8記載の発明は、前記基材が枚葉状
としたことを特徴とする請求項5または6記載の塗布層
の検査方法である。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態を図
面を用いて説明する。図1は、本発明の検査装置を設け
たスリットダイコート装置の例を示すもので、例えば、
ウェブ状基材(1b)は、巻き出しロール(1a)から
巻き出され、スリットダイ(3)で、塗布液をコーティ
ングし、塗布層を形成し、次の、乾燥部(4)で乾燥し
た後、巻取りロール(1d)で巻き取られるような塗布
装置である。
【0018】スリットダイ(3)で、コーティングする
ことで塗布層(1c)を形成し、次の乾燥部(4)で乾
燥することで、塗布層を固定する。
【0019】この観察部(12)は、図2に示すよう
に、塗布層(1c)の表面を観察する場合、光源(12
a)と、前記光源から照射された照射光が、塗布層表面
で全反射した反射光を結像する結像スクリーン(12
b)と、カメラ(12c)の配置されている。
【0020】具体的に、塗布層の表面状態は、光源(1
2a)を赤色レーザーとし、表面で全反射する角度(8
5°〜87°)で照射することで、塗布層の表面状態を
反映した反射光が得られるようにするのが望ましい。そ
して、この反射光は、すりガラス状の結像スクリーン
(12b)上に結像させることでカメラ(12c)で撮
像することができるようになる。この光源(12a)に
用いるレーザー光は、直径1mm〜2mmの範囲の丸型
ビーム状が望ましい。
【0021】このレーザー光を、塗布層の表面に殆ど平
行に入射することで、レーザービームの丸型スポット
は、表面上を幅1mm〜2mmで、長さ50mm〜10
0mm程度の長円型に照らし、この範囲の表面形状を反
映した反射光となり、結像スクリーン(12b)上に、
干渉パターンとして結像する。この干渉パターンの大き
さは、表面の形状によるが、たて20mm×よこ20m
m程度の大きさの結像スクリーンが望ましい。
【0022】また、カメラ(12c)の撮像範囲(12
d)は、結像スクリーン(12b)が撮像画面の大きさ
になるようにするのが望ましい。
【0023】塗布液が塗布された状態のウェブ状基材の
塗布層(1c)の表面状態と、結像スクリーン上の干渉
パターンの例については、図3に示す、通常表面(20
1)であった場合は、図4に示すような、結像スクリー
ン上の干渉パターン(202)として表れる。図4にお
いて、円形の外形は、レーザービームの丸形ビーム形状
である。また、図3に示す、表面に傷や汚れ(211)
があった場合は、図4に示すような、結像スクリーン上
の干渉パーターン1(212)として表れる。また、図
3に示す、表面が梨地や荒れ(221)があった場合
は、図4に示す、結像スクリーン上の全体が拡散した形
状の干渉パーターン2(222)として表れる。
【0024】ここで、図1に示すように、コーティング
により設けられた塗布層(1c)を、次の乾燥部(4)
で乾燥するまでの途中の搬送部で表面の状態を、観察部
(12)で観察する。
【0025】この観察部(12)と同様な構成の観察部
(14)を、乾燥部(4)内に設けることで、塗布層
(1c)の乾燥状態の表面を観察することができる。こ
の観察部(14)も、前記観察部(12)と同様、光源
(14a)と、前記光源から照射された照射光が、塗布
層表面で全反射した反射光を結像する結像スクリーン
(14b)と、カメラ(14c)の配置をされている。
【0026】この観察部(12)と同様な構成の観察部
(13)を、乾燥部(4)の後に設けることで、塗布層
(1c)の乾燥終了状態の表面を観察することができ
る。この観察部(13)も、前記観察部(12)と同
様、光源(13a)と、前記光源から照射された照射光
が、塗布層表面で全反射した反射光を結像する結像スク
リーン(13b)と、カメラ(13c)の配置をされて
いる。
【0027】
【発明の効果】本発明は以上の構成であるから、下記に
示す如き効果がある。即ち、様々な塗工方式における各
工程での塗布層の表面状態観察が可能となったので、そ
れぞれの表面状態観察画像と、予め記憶された工程別の
塗布記憶画像とを比較して塗布状態を判断する画像比較
判断部を設けることで、塗布の良否判断をリアルタイム
にできる。
【0028】従って本発明は、塗工により精度を求める
印刷分野や、特にエレクトロニクス関連分野のCFのレ
ジスト塗工や、LCDへの反射防止レジストの塗工など
を行うスリットダイコート装置およびそれを用いた方法
として、優れた実用上の効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の検査装置を設けたスリットダイコート
装置の一実施の形態を示す説明図である。
【図2】本発明の観察部の構成を示す説明図である。
【図3】塗布層の表面状態を模式的に示す説明図であ
る。
【図4】結像スクリーン上の干渉パターンを模式的に示
す説明図である。
【符号の説明】 1a・・・巻出しロール 1b・・・ウェブ 1c・・・塗布層 1d・・・巻取りロール 2a、2b・・・ロール 3・・・スリットダイ 4・・・乾燥部 12、13、14・・・観察部 12a、13a、14a・・・光源 12b、13b、14b・・・結像スクリーン 12c、13c、14c・・・カメラ 12d・・・撮像範囲 201‥‥通常表面 202‥‥干渉パターン 211‥‥傷や汚れのある表面 212‥‥干渉パターン1 221‥‥梨地や荒れのある表面 222‥‥干渉パターン2
フロントページの続き Fターム(参考) 2F065 AA49 BB13 BB17 BB22 CC02 FF01 FF04 FF42 FF51 GG04 HH04 HH12 JJ03 JJ14 JJ26 PP16 2G051 AA32 AA34 AB01 AB02 BA10 BA20 CA03 CA04 CB01 CC20 4D075 AC02 AC72 AC92 AC93 BB24Z CA48 CB06 DA04 DA06 DB13 DB18 DB31 DC21 DC24 EA07 EA43 EA45 4F042 AA02 AA06 AA10 AA22 BA10 BA22 BA25 BA27 DH09

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】基材上に、塗布液を塗布、乾燥して設けた
    塗布層の表面状態を検査する検査装置であって、前記塗
    布層の表面で全反射する角度で照射光を照射する光源
    と、この光源と対向する位置に、前記照射光が全反射し
    た反射光を受光する観察装置を配置したことを特徴とす
    る塗布層の検査装置。
  2. 【請求項2】前記塗布層が透明であることを特徴とする
    請求項1記載の塗布層の検査装置。
  3. 【請求項3】前記基材が連続状であることを特徴とする
    請求項1または2記載の塗布層の検査装置。
  4. 【請求項4】前記基材が枚葉状であることを特徴とする
    請求項1または2記載の塗布層の検査装置。
  5. 【請求項5】基材上に、塗布液を塗布、乾燥して設けた
    塗布層の表面状態を、前記塗布層の表面に、光源から全
    反射する角度で照射光を照射し、次に、前記照射光が全
    反射した反射光を受光し、観察することを特徴とする塗
    布層の検査方法。
  6. 【請求項6】前記塗布層が透明であることを特徴とする
    請求項5記載の塗布層の検査方法。
  7. 【請求項7】前記基材が連続状であることを特徴とする
    請求項5または6記載の塗布層の検査方法。
  8. 【請求項8】前記基材が枚葉状であることを特徴とする
    請求項5または6記載の塗布層の検査方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012176545A (ja) * 2011-02-25 2012-09-13 Fujifilm Corp ワイピングユニット、メンテナンス装置、液体吐出装置及びワイピング方法

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