JP2003243945A - 高周波電力増幅器モジュール - Google Patents
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Abstract
のバイアス供給端子および配線同士が電磁気的に結合す
ることにより生ずる出力電力の不安定性を低減し、さら
に、各段のバイアス供給端子および配線同士が電磁気的
に結合することにより生ずる出力電力の歪みを低減し
て、高効率な高周波電力増幅器を提供する。 【解決手段】電力増幅用のトランジスタ10,11にコ
レクタ駆動用電圧を供給する端子40に接続する第1の
配線50と、トランジスタ10,11のベースバイアス
を制御する第2のトランジスタ12,13にコレクタ駆
動用電圧を供給する端子41に接続する第2の配線60
と、1つ以上のシールド接地部材70を備え、第1の配
線と第2の配線とが1つ以上のシールド接地部材70で
隔てられることにより高周波電力増幅器における電源ラ
インを介した回路間の相互干渉を低減する。
Description
話端末に用いる高周波電力増幅器に関し、特に電源ライ
ンを介した回路間の相互干渉を低減する電源電圧供給方
法に関する。
用携帯端末の小型かつ軽量化の必要性が高まり、そのた
めの研究開発が精力的に行われている。従来の移動体通
信用携帯端末に使われる送信用高周波電力増幅器回路
は、負電源あるいは負電源発生回路が必要であり、部品
構成が多く、小型かつ軽量化の要求に応じられていな
い。そこで、送信用高周波電力増幅器に用いられる増幅
素子として、単一正電源動作が可能で、高周波特性に優
れたガリウムヒ素化合物半導体へテロ接合バイポーラト
ランジスタ(以下、GaAsHBTと略す)が有望視さ
れている。
周波電力増幅器の一例として、特開平10−75130
号に開示された高周波電力増幅器の構成図を示す。上記
高周波電力増幅器は入力整合回路401と、電力増幅用
トランジスタ410と、出力整合回路402と、上記電
力増幅用トランジスタのベースバイアス制御回路403
を有する。上記ベースバイアス制御回路403はトラン
ジスタ411と抵抗420、421から構成される。符
号430は上記2つのトランジスタ410、411のコ
レクタ駆動用電源であり、符号431は上記高周波電力
増幅器の利得を制御するための利得制御電源であり、上
記ベースバイアス制御回路を介して上記電力増幅用トラ
ンジスタのベースに印加される。上記ベースバイアス制
御回路は、上記電力増幅用トランジスタのベース電流Ib
bを実質的に上記コレクタ駆動用電源から供給すること
によって、上記利得制御電源から供給すべき利得制御電
流Iapcを低減し、利得制御電圧を発生させる外部制御回
路に要求される電流供給能力を低減するために一般的に
用いられている。
るGSM(Global System for Mob
ile Communication)方式に対応する
飽和型増幅器では、出力電力と電力付加効率のトレード
オフの関係が高周波電力増幅器開発における主な課題で
ある。さらに、第3世代移動通信方式の1つであるW−
CDMA(Wide Code Division Mu
ltiple Access)方式に対応する線形増幅
器では出力電力と電力付加効率のトレードオフの関係に
加えて、歪みと電力付加効率とがトレードオフの関係に
あり、例えば日刊工業新聞社刊行の電子技術2000年
6月号36ページに記載されている。従って、線形増幅
器において、歪みの低減は、高周波電力増幅器の電力付
加効率の向上に直接繋がり、ひいては高周波電力増幅器
の性能向上に繋がる。
増幅器においては、ベースバイアス制御回路を構成する
トランジスタのコレクタ駆動用電源と、電力増幅用トラ
ンジスタのコレクタ駆動用電源が共通に用いられてお
り、コレクタ電流Iccの上記電力増幅用トランジスタの
出力電力による高周波的揺らぎを遮断する容量、例えば
コレクタラインと接地間を結合する容量を有さない。従
って、上記コレクタ電流Iccの高周波的揺らぎが上記ベ
ースバイアス制御回路を介して上記電力増幅用トランジ
スタのベース電流Ibbに帰還されるため、高周波電力増
幅器の動作を不安定化させる要因になる。
周波的揺らぎが上記ベースバイアス制御回路を介して上
記電力増幅用トランジスタのベース電流Ibbに帰還され
るため、高周波電力増幅器の出力電力における歪みを増
大させる要因になる。
増幅器において、各段のバイアス供給端子および配線同
士が電磁気的に結合することにより生ずる出力電力の不
安定性を低減し、もって安定な動作を有する高周波電力
増幅器を提供することにある。
波電力増幅器において、各段のバイアス供給端子および
配線同士が電磁気的に結合することにより生ずる出力電
力の歪みを低減し、もって高効率な特性を有する高周波
電力増幅器を提供することにある。
乃至5の高周波電力増幅器において、電力増幅用の上記
第1のトランジスタにコレクタ駆動用電圧を供給する上
記第1の端子と、上記第1のトランジスタのベースバイ
アスを制御する第2のトランジスタにコレクタ駆動用電
圧を供給する上記第2の端子と、上記第1の端子と上記
第1のトランジスタのコレクタとを結合する上記第1の
配線と、上記第2の端子と上記第2のトランジスタのコ
レクタとを結合する上記第2の配線と、1つ以上のシー
ルド接地部材を備え、上記第1の端子と上記第2の端子
とが1つ以上の上記シールド接地部材で隔てられ、更に
上記第1の配線と上記第2の配線とが1つ以上の上記シ
ールド接地部材とで隔てられることにより達成できる。
に詳細に説明する。理解を容易にするために、図面を用
いて説明する。 <実施例1>図1に実施例1の高周波電力増幅器回路構
成を示す。上記高周波電力増幅器は入力整合回路1と、
電力増幅用の入力段トランジスタ10と、段間整合回路
2と、電力増幅用の出力段トランジスタ11と、出力整
合回路3と、トランジスタ10、11のベースバイアス
制御回路20から構成され、本回路中の上記ベースバイ
アス制御回路20はトランジスタ12、13と、抵抗3
0、31から構成されている。また、上記高周波電力増
幅器は、上記出力段トランジスタ11にコレクタ駆動用
電圧を供給する第1の端子40と、上記ベースバイアス
制御回路20を構成する上記トランジスタ12、13に
コレクタ駆動用電圧を供給する第2の端子41と、上記
ベースバイアス制御回路を構成するトランジスタ12、
13に利得制御電流電圧を供給する第3の端子42と、
上記入力段トランジスタ10のベースに信号を入力する
信号入力端子43と、上記出力段トランジスタ11のコ
レクタから上記出力整合回路3を介して信号を取り出す
信号出力端子44と、上記第1の端子40と上記出力段
トランジスタ11のコレクタとを上記出力整合回路3を
介して結合する第1の配線50と、上記第2の端子41
と上記ベースバイアス制御回路を構成するトランジスタ
11、12のコレクタとを結合する第2の配線60と、
接地金属面(以下、シールド接地部材と称す)70を有
する。更に、上記第1の端子40と第2の端子41は1
つ以上の上記シールド接地部材70で隔てられ、かつ上
記第1の配線50と第2の配線60も1つ以上の上記シ
ールド接地部材70で隔てられていることを特徴とす
る。ここで、シールド接地部材は導電性膜からなり、例
えば金属の蒸着法、スパッタ法などにより誘電体板上に
形成される。あるいは導電材料を誘電体上にコーティン
グする方法でもよい。また、金属板のような部材を用い
ることもできる。
のモジュール(基板層)構成を示す。基板は表面導体層
200と、裏面導体層201と、誘電体板100から構
成される。上記導体層は例えば銅や金を主成分とし、上
記誘電体板は例えばセラミックや樹脂を主成分とするこ
とを特徴とする。
図4に上記裏面導体層201の模式図を、図5に要部斜
視図を示す。図3において、1は上記入力整合回路、2
は上記段間整合回路、3は上記出力整合回路、10は上
記入力段トランジスタ、11は上記出力段トランジス
タ、20は上記電力増幅用のトランジスタ10,11の
ベースバイアス制御回路、12、13は上記ベースバイ
アス制御回路を構成するトランジスタ、30、31は上
記ベースバイアス制御回路の有する抵抗、50は上記第
1の配線、60は上記第2の配線、110は上記第1の
配線50と上記第2の配線60を隔てる第1のシールド
接地部材、100は誘電体板、101a〜101fは図5
に示すように導体層間を結合する貫通穴(以下、スルー
ホールと称する)である。
0、11と、上記ベースバイアス制御回路20はそれぞ
れ同一または個別の半導体素子上に作成され表面導体層
に実装される。特に、上記電力増幅用トランジスタ1
0、11はGaAsを主成分とする半導体素子上に形成
されることを特徴とする。
1は上記第2の端子、42は上記第3の端子、43は上
記信号入力端子、44は上記信号出力端子、120は上
記第1の端子40と上記第2の端子41とを隔てる第2
のシールド接地部材である。
ス制御回路20を搭載した半導体素子である。
ール構造を有することを特徴とする。以下に、そのモジ
ュール構成の実施例を示す。すなわち、上記入力段トラ
ンジスタ10のベースは上記入力整合回路1およびスル
ーホール101eを介して上記信号入力端子43に接続
され、上記出力段トランジスタ11のコレクタは上記出
力整合回路3およびスルーホール101fを介して信号
出力端子44に接続されると同時に上記出力整合回路3
と上記第1の配線50とスルーホール101dを介して
上記第1の端子40に接続され、上記ベースバイアス制
御回路を構成するトランジスタ12、13のベースはス
ルーホール101aを介して上記第3の端子42に接続
され、上記トランジスタ12、13のコレクタは上記第
2の配線60とスルーホール101bを介して上記第2
の端子41に接続される。また、上記第1のシールド接
地部材110は1つ以上のスルーホール101cを介し
て上記第2のシールド接地部材120に接続され、上記
第2のシールド接地部材120はマザーボード等に接地
されることを特徴とする。
幅器の実施例1の動作について説明する。図1におい
て、上記信号入力端子43から入力された信号は上記入
力整合回路1と、上記入力段トランジスタ10と、上記
段間整合回路2と、上記出力段トランジスタ11と、上
記出力整合回路3を介して上記信号出力端子44から取
り出される。ベースバイアス制御回路20は上記電力増
幅用のトランジスタ10、11のベース電流Ibb1、Ibb2
を実質的に上記第2の端子41からのコレクタ電流Icc3
から供給することによって、利得制御電源から供給すべ
き利得制御電流Iapcを低減し、利得制御電圧を発生させ
る外部制御回路に要求される電流供給能力を低減するた
めに用いる。例えば、上記入力段トランジスタ10のベ
ースを駆動するトランジスタ12を用いることにより、
上記利得制御電源から供給すべき利得制御電流Iapcの低
減量は、ベース駆動用の上記トランジスタ12の増幅率
に略反比例し、通常トランジスタの電流増幅率は10以
上であることから、ベース駆動用の上記トランジスタ1
2を使用しない場合に比べて少なくとも10分の1に低
減できることになる。従って、上記電力増幅用の初段ト
ランジスタのベース駆動電流Ibb1の少なくとも9割以上
は上記コレクタ電流Iccを増幅することで得られること
になる。上記出力段トランジスタ11のベースを駆動す
る上記トランジスタ13の動作についても同様である。
ルド接地部材70、110、130、140は1つ以上
のスルーホールを介し上記第2のシールド接地部材12
0に接続され、上記第2のシールド接地部材はマザーボ
ード等に接地されるため、上記全てのシールド接地部材
70、110、120、130、140はゼロ電位とな
る。本発明の高周波電力増幅器を例えば電源電圧3.5
Vで900MHzの周波数で動作させ、上記出力段トランジ
スタ11の出力電力を例えば35dBmとする。このとき
上記出力段トランジスタ11のコレクタでの電圧振幅は
15V程度となり、上記第1の配線50の電流および電
圧はこの高周波出力電力の影響により揺らぎを生じる。
通常、コレクタ駆動用電源とモジュール上に装備された
上記第1および第2の端子各々に電気的に接続するよう
にマザーボード等に形成された電源ラインには、数μF
の容量性素子が電源ラインと接地間に挿入され、コレク
タ駆動用電源またはその他電源ラインには上記高周波的
揺らぎは伝播しない構造となっている。
く、モジュール上に形成された上記入力段トランジスタ
10および上記出力段トランジスタ11のコレクタ駆動
用電圧供給線路と接地間にも一般的に容量性素子を配置
し、高周波回路系へのコレクタ駆動用電圧供給線路の影
響を極力低減するが(図示せず)、マザーボード等に使
用する上記数μFの容量性素子は部品サイズ大きいた
め、その使用が困難であり、実際には100nF以下が限
界である。そのために上記第1の配線50の電流および
電圧の高周波的な揺らぎが上記第2の配線60を介して
ベースバイアス制御回路20に伝播する。
ック基板を使用した場合の3次元電磁界シミュレーショ
ン結果を示す。該図は、上記第1の配線50と上記第2
の配線60の間に挿入した第1のシールド接地部材(又
は接地金属面)110の幅と上記第1の配線50と第2
の配線60の間のアイソレーション量の関係を示す。た
だし、上記シミュレーションにおいて、上記第1の配線
50と第1のシールド接地部材110との間隔および上
記第2の配線60と第1のシールド接地部材110との
間隔は高周波モジュールを作製する場合の一般的な最小
寸法である0.1mm一定とした。
い場合、アイソレーション量は−30dB程度であり、出
力電力35dBmに対し不十分である。従って、上記ベー
スバイアス制御回路の動作で述べた通り、上記出力段ト
ランジスタ11のベース電流Ibb2は実質的に第2の端子
41から第2の配線60を介して上記第4のトランジス
タ13のコレクタ電流Icc3から供給されるため、上記第
2の配線60での電流および電圧の高周波的揺らぎは出
力段トランジスタ11のベース電流Ibb2の揺らぎとな
る。ベース電流が高周波的に揺らいだ場合、一般的にト
ランジスタの動作は不安定となるため、結果的に上記高
周波電力増幅器の動作が不安定となる。
構造で説明した通り、電力増幅用の上記出力段トランジ
スタにコレクタ駆動用電圧を供給する上記第1の端子4
0および第1の配線50と、上記ベースバイアス制御回
路を構成するトランジスタ12、13にコレクタ駆動用
電圧を供給する上記第2の端子41および第2の配線6
0とを個別に設けた上で、更に上記第1の配線50と上
記第2の配線60との間に上記第1のシールド接地部材
110を有し、上記第1の端子40と上記第2の端子4
1との間にも上記第2のシールド接地部材120を有す
る。上記第1のシールド接地部材110および上記第2
のシールド接地部材120の幅を0.2mm以上とする
ことにより、−50dB以下のアイソレーション量を得る
ことができる。
波的揺らぎが上記第1の配線50から上記第2の配線6
0へ、また第1の端子40から第2の端子41へと伝播
しないため、上記高周波電力増幅器を構成する上記電力
増幅用のトランジスタ10、11のベース電流Ibb1、Ib
b2を安定化し、さらに上記電力増幅用のトランジスタ1
0、11の動作を安定化させることにより上記課題を解
決できる。
の第2の実施例を説明する。実施例2の高周波電力増幅
器回路構成は、上記実施例1で用いた図1と同様である。
構成を示す。基板は表面導体層300と、第1の内層導
体層301と、第2の内層導体層302と、裏面導体層
303と、誘電体板100a、100b、100cから
構成される。上記導体層および上記誘電体板の構成要素
は上記実施例1と同様である。
図9に上記第1の内層導体層301の模式図を、図10
に上記第2の内層導体層302の模式図を、図11に要
部斜視図を示す。実施例2において、上記裏面導体層3
03の模式図は上記実施例1で用いた図4と同様であ
る。図8において、入力整合回路1と、電力増幅用の入
力段トランジスタ10と、段間整合回路2と、電力増幅
用の出力段トランジスタ11と、出力整合回路3と、ベ
ースバイアス制御回路20と、ベースバイアス制御回路
20を構成するトランジスタ12、13および抵抗3
0、31の構造は上記実施例1と同様である。
である。ここで、130は第3のシールド接地部材を示
す。図10において、50は上記第1の配線であり、1
40は第4のシールド接地部材である。
トランジスタ10のベースは上記入力整合回路1および
スルーホール101iを介して上記信号入力端子43に
接続され、上記出力段トランジスタ11のコレクタは上
記出力整合回路3およびスルーホール101jを介して
信号出力端子44に接続される。同時に、上記出力整合
回路3と上記表面導体層300と第2の内層導体層30
2を接続するスルーホール101kと、上記第2の内層
導体層302に形成された上記第1の配線50と上記第
2の内層導体層302と上記裏面導体層303を接続す
るスルーホール101mを介して上記第1の端子40に
接続される。上記ベースバイアス制御回路を構成するト
ランジスタ12、13のベースはスルーホール101を
介して上記第3の端子に接続され、上記同トランジスタ
12、13のコレクタは上記第2の配線60と表面導体
層300と裏面導体層303を接続するスルーホール1
01hを介して上記第2の端子41に接続される。
材130、140は1つ以上のスルーホール101lを
介して上記裏面導体層303に形成された上記第2のシ
ールド接地部材120に接続され、上記第2のシールド
接地部材120はマザーボード等に接地されている。さ
らに、第3のシールド接地部材130は、第1の配線5
0の幅をW1とし、誘電体膜厚をW2とすると、W1+
2xW2以上の幅を持つことを特徴とする。
ョンから導出された結果であり、第1の配線からの第3
のシールド接地部材に対する電磁界の広がりは、第1の
配線の端部から見込む角度が45度以内が強く、それ以
上の角度では電磁界の強度が弱くなることに基づく結果
である。
は、上記第1の配線50と上記第2の配線60をそれぞ
れ有する導体層の間に主に上記第3のシールド接地部材
130から構成される上記第1の内層導体層301を有
することを特徴とする。なお、実施例2において、上記
第1の配線50を上記第2の内層導体層302に形成
し、上記第1の配線60を上記表面導体層300に形成
しているが、逆であっても構わない。
配線60は複数の導体層にまたがって形成されても構わ
ない。この一例を図7および図13を用いて説明する。
図13において、40は裏面導体層303(図7参照)
に形成された第1の端子であり、50−aは第2の内層
導体層302に形成された第1の配線50の一部であ
り、50−bは表面層導体層300に形成された第1の
配線50の一部であり、101mは上記第1の端子40
と上記第1の配線50−aとを接続するスルーホールで
あり、101nは上記第1の配線50−aと上記第1の
配線50−bとを接続するスルーホールであり、41は
裏面導体層303に形成された第2の端子であり、60
は表面導体層に形成された第2の配線であり、101h
は上記第2の端子41と上記第2の配線60とを接続す
るスルーホールである。第1の配線50−bと第2の配
線60との間には第1のシールド接地部材110が形成
され、第1の配線50−aと第2の配線60との間には
第1の内層導体層301に形成された第3のシールド接
地部材130が配置され、第2の内層導体層において第
1の配線50−aとスルーホール101hとの間には第
4のシールド接地部材140が形成される。このよう
に、実施例1及び実施例2の手法を適宜織り交ぜて用い
ても構わない。
整合回路1と、上記段間整合回路2と、上記出力整合回
路3は共に上記表面導体層300に形成されているが、
それぞれ上記表面導体層300および上記第2の内層導
体層302に分散して形成されても構わない。
例1と同様である。なお、上記施例1乃至2において、
裏面導体層に端子を作製する裏面電極方式を採用してい
るが、上記端子を基板側面に作製する側面電極方式を採
用しても構わない。また、上記実施例1乃至2におい
て、2段増幅器を採用しているが、1段増幅器もしくは
3段以上の増幅器であっても構わない。
て、上記第2の端子41はベースバイアス制御回路を構
成するトランジスタ12、13にコレクタ駆動用電圧を
供給する端子および電力増幅用トランジスタ10にコレ
クタ駆動用電圧を供給する端子として共有されている
が、上記第2の端子41はベースバイアス制御回路を構
成するトランジスタ12、13にコレクタ駆動用電圧を
供給する第4の端子および電力増幅用トランジスタ10
にコレクタ駆動用電圧を供給する第5の端子に分けて形
成しても構わない。
回路を構成するトランジスタは、GaAsHBTを用い
たが、これに限定されるものではなく、各々多くの変形
が可能であることは言うまでもない。例えば、SiGe
(シリコン・ゲルマニューム)を用いたHBT やIn
P(インジューム・りん)を用いたHBTなどが適用可
能である。
電力増幅回路を構成するトランジスタが、バイポーラト
ランジスタの場合について説明したが、これに限定され
るものではなく、例えば上記トランジスタとして、MO
SFET(電界効果型トランジスタ)を適用することも
出来る。この場合、上記の回路動作は電流駆動型と電圧
駆動型で異なるが、本発明の解決課題である安定な動作
を有する高周波電力増幅器を得ることが出来る。
て、ベースバイアス制御回路20の回路形式は便宜的に
エミッタ・フォロアを採用したが、これに限らず、ソー
ス・フォロアやオペアンプを用いた電圧フォロア等の任
意の形式であっても構わない。
トランジスタ11のコレクタとトランジスタ11にコレ
クタ駆動用電圧を供給する第1の端子40とを出力整合
回路3を介して結合する第1の配線50と、トランジス
タ12及び13のコレクタとトランジスタ12及び13
にコレクタ駆動用電圧を供給する第2の端子41とを結
合する第2の配線60との間にシールド接地部材を配置
している。
30、140は1つ以上のスルーホールを介し上記第2
のシールド接地部材120に接続され、上記第2のシー
ルド接地部材はマザーボード等に接地されるため、上記
全てのシールド接地部材120、130、140はゼロ
電位となる。本発明の高周波電力増幅器を例えば、電源
電圧3.5Vで900MHzの周波数で動作させ、上記出力
段トランジスタ11の出力電力を例えば35dBmとす
る。
レクタでの電圧振幅は15V程度となり、上記第1の配
線50の電流および電圧はこの高周波出力電力の影響に
より揺らぎを生じる。通常、コレクタ駆動用電源とモジ
ュール上に装備された上記第1乃至第1の端子とを接続
するマザーボード等に形成された電源ラインには、数μ
Fの容量性素子が電源ラインと接地間に挿入され、コレ
クタ駆動用電源またはその他電源ラインには上記高周波
的揺らぎは伝播しない構造となっている。
動作についての説明で述べた通り、本発明の目的は、電
力増幅用のトランジスタ11にコレクタ駆動用電圧を供
給する第1の配線50からトランジスタ11の入力側へ
の電磁気的揺らぎの伝播を低減し、もって電力増幅器の
出力電力の安定化を図ることである。
60の間のみならず、第1の配線50とトランジスタ1
0のベースとトランジスタ12のエミッタとを結合する
第3の配線(図示せず)との間、第1の配線50とトラ
ンジスタ11のベースとトランジスタ13のエミッタと
を結合する第4の配線(図示せず)との間、第1の配線
50とトランジスタ10のコレクタと第2の端子41と
を結合する第5配線(図示せず)の間、にも各々シール
ド接地部材を配置することが望ましい。
4の配線との間に容量部品を挿入し、第1の配線と第4
の配線との電磁気的相互作用がある状態と、第1の配線
と第4の配線との間にシールド接地部材を挿入し、第1
の配線と第4の配線との電磁気的相互作用がない状態で
の、±5MHz隣接チャネル漏洩電力比の実測値を示す。
隣接チャネル漏洩電力比は電力増幅器の入力電力に対す
る出力電力の歪みを表すパラメータとして一般的に用い
られる。測定条件は、室温、W−CDMA変調信号入
力、入力信号周波数1.95GHz、出力電力27dBmであ
る。
にシールド接地部材を挿入することにより、15dB程度
歪みが低減されることが分かる。従って、実施例1及び
実施例2の高周波電力増幅器を線形増幅器に適用する
と、隣接チャネル漏洩電力比を低減することが出来る。
調を例に挙げたが、CDMA変調一般、EDGE(En
hanced Data−rate for GSM
Evolution)、PDC(Personal D
igital Cellular)、OFDM(Ort
hogonal Frequency Civisio
n Multiplexing)などの線形増幅器を必
要とする変調方式に用いられる高周波電力増幅器に適用
しても同等の効果が得られることは言うまでもない。
駆動用電源ラインの電流および電圧の高周波的な揺らぎ
が抑制され、高周波電力増幅器の動作の安定化を図る効
果が得られる。さらに、本発明の高周波電力増幅器を線
形増幅器に適用すれば、入力電力に対する出力電力の歪
みを低減することが出来、もって高周波電力増幅器の効
率向上を図る効果がある。
周波電力増幅器の回路構成図。
と回路間アイソレーションの関係。
図。
式図。
路、10,11,12,13…トランジスタ、20…ベースバイアス
制御回路、30,31…抵抗、40…第1の端子、41…第2の
端子、42…第3の端子、43…信号入力端子、44…信号出
力端子、50…第1の配線、60…第2の配線、70…シール
ド接地部材、100a,100b,100c…誘電体板、101a,101b,10
1c,101d,101e,101f,101g,101h,101i,101j,101k,101l,10
1m,101n…スルーホール(貫通穴)、110…第1のシール
ド接地部材、120…第2のシールド接地部材、130…第3
のシールド接地部材、140…第4のシールド接地部材、2
00…実施例1での表面導体層、201…実施例1での裏面導
体層、300…実施例2での表面導体層、301…第1の内層
導体層、302…第2の内層導体層、303…実施例2での裏
面導体層、401…入力整合回路、402…出力整合回路、40
3…ベースバイアス制御回路、410,411…トランジスタ、
420,421…抵抗、430…コレクタ駆動用電源、431…利得
制御電源。
Claims (5)
- 【請求項1】入力又は段間の整合回路を介して入力され
た信号を増幅して出力する第1のトランジスタと、前記
第1のトランジスタを駆動する第2のトランジスタと、
前記第1のトランジスタに駆動用電圧を供給する第1の
端子と、前記第1の端子と前記第1のトランジスタの出
力端子とを接続する第1の配線と、前記第2のトランジ
スタの出力端子に駆動用電圧を供給する第2の端子と、
前記第2の端子と前記第2のトランジスタの出力端子と
を接続する第2の配線と、前記第1及び第2の配線間に
設けられたシールド接地部材とを有することを特徴とす
る高周波電力増幅器モジュール。 - 【請求項2】誘電体板の主表面上に載置された導体層か
らなり、少なくともその一部が対向するように配置され
た前記第1の配線及び前記第2の配線と、前記第1及び
第2の配線の対向する領域に、それぞれの配線と接する
ことなく設けられた導電層からなる第1のシールド接地
部材と、前記誘電体板の裏面に設けられた導体層からな
る第2のシールド接地部材と、前記誘電体板に設けら
れ、前記第1のシールド接地部材と前記第2のシールド
接地部材を電気的に接続する1つ以上の貫通穴とを有す
ることを特徴とする請求項1記載の高周波電力増幅器モ
ジュール。 - 【請求項3】前記第1のシールド接地部材は、0.2m
m以上の幅を有することを特徴とする請求項2記載の高
周波電力増幅器モジュール。 - 【請求項4】前記第1の配線がその第1の表面上に形成
された第1の誘電体層と、前記第2の配線がその第1の
表面上に形成された第2の誘電体層と、前記第1の誘電
体層と前記第2の誘電体層との間に配置され、その第1
の表面上に形成された第1のシールド接地部材を有する
第3の誘電体層と、第2の誘電体層の第2の表面上に設
けられた第2のシールド接地部材と、前記第2の誘電体
層と前記第3の誘電体層に設けられ、前記第1のシール
ド接地部材と前記第2のシールド接地部材とを電気的に
接続する1つ以上の貫通穴とを有することを特徴とする
請求項1記載の高周波電力増幅器モジュール。 - 【請求項5】前記トランジスタは、ガリウムヒ素化合物
半導体へテロ接合バイポーラトランジスタ又は電界効果
トランジスタであることを特徴とする請求項1、請求項
2又は請求項4のいずれか一に記載の高周波電力増幅器
モジュール。
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Cited By (1)
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