JP2003241134A - 光走査装置、その製造方法、その光走査装置を具備する画像形成装置、及び読取装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 構造が簡単で、光走査を行なう振れ角が大き
く、駆動電圧が低く、低コストである光走査装置及びそ
の光走査装置の製造方法並びにその光走査装置を具備す
る画像形成装置及び読取装置を提供する。 【解決手段】 反射手段１を保持する反射手段保持基板
２を回動可能に両端部を支持する梁部材３ａからなるね
じり回動軸３と、ねじり回動軸３に支持された反射手段
保持基板２の側面に形成された可動電極４と、可動電極
をねじり回動軸を介して固定電極５の第１固定電極５ａ
と対向して支持する第１の基板６と、第１の基板の可動
電極４と第１固定電極５ａを電気的に絶縁して分離する
第１電気的絶縁分離手段６ａと、第１の基板６に電気的
に絶縁して重ねて接合した第２の基板７と、第２の基板
７に可動電極４と対向して形成された第２固定電極５ｂ
からなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光走査装置、その
光走査装置の製造方法、その光走査装置を具備する画像
形成装置、及び、その光走査装置を具備する読取装置に
関し、詳しくは、静電力でねじり回動軸を回動して入射
光の反射方向を変えて光走査を行なう光走査装置、及
び、その光走査装置の製造方法、並び、にその光走査装
置を具備する電子写真プロセスで光書き込みを行なって
画像を形成する画像形成装置、及び、その光走査装置を
具備する被読み取り面を光走査して読み取りを行なう読
取装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の光走査装置は、２本の梁で支持さ
れた薄膜で形成されたミラー基板を、ミラー基板に対向
する位置に設けた電極との間の静電引力で、２本の梁を
ねじり回転軸として往復振動させている。このように、
マイクロマシニング技術で薄膜で形成される光走査装置
は、従来のモーターを使ったポリゴンミラーの回転によ
る光走査装置と比較して、構造が簡単で半導体プロセス
での一括形成が可能なため、小型化が容易で製造コスト
も低く、また単一の反斜面であるため複数面による精度
のばらつきがなく、更に、往復走査であるため高速化に
も対応できる等の効果が期待されて、電子写真プロセス
で光書き込みを行なって画像を形成する画像形成装置や
光走査を行なって読み取りを行なう読取装置等に搭載す
ることが提案されている。このような、静電駆動のねじ
り振動型の光走査装置としては、梁をＳ字型として剛性
を下げ、小さな駆動力で大きな振れ角が得られるように
したもの（特許第２９２４２００号の公報を参照）、梁
の厚さをミラー基板、フレーム基板よりも薄くしたもの
（特開平７−９２４０９の公報を参照）、固定電極をミ
ラー部の振動方向に重ならない位置に配置したもの（特
許第３０１１１４４号の公報等を参照）、又、対向電極
をミラーの振れの中心位置から傾斜させて設置すること
で、ミラーの振れ角を変えずに駆動電圧を下げたものが
公知である。更に、小さなミラー基板の振れ角で大きな
光走査角を得る為に、光偏向部と対向して反射部を設
け、両者間で２回以上反射させて走査するねじり振動型
の光走査装置も同一出願人の発明者から提案されてい
る。然し、これらは、構造が複雑で、歩留まりも低く、
コスト高である。

【０００３】図３２の正面縦断面図、及び図３３の斜視
図に示す従来の光走査装置３００は、上面にミラー３０
１を有するミラー基板３０２を支持する２本の梁部材３
０３ａ、３０３ｂからなるねじり回動軸３０３が形成さ
れた基板３０５と、ミラー基板３０２に設けた可動電極
３０４と、可動電極３０４に対向して設けた固定電極３
０６を有し、可動電極３０４と固定電極３０６との間の
静電引力で、２本の梁部材からなるねじり回動軸３０３
を回動軸としてミラー基板３０２を往復振動させるよう
にして、ミラー３０１を回動して入射光の反射方向を変
えて光走査を行なうようになっている。ミラー基板３０
２の振れ角（θ）の大きさは、図示の静電駆動トルク
（Ｔ_１）のみの作用によっているから、大きくはなかっ
た（図３４を参照）。共振状態におけるミラー３０１を
有するミラー基板３０２の振れ角（θ）は、θ＝（Ｔｑ
／Ｉ）・Ｋ、の式で与えられる。但し、（Ｔｑ）はミラ
ー３０１を有するミラー基板３０２に働く静電トルク、
（Ｉ）はミラー３０１を有するミラー基板３０２の慣性
モーメント、（Ｋ）は２本の梁部材３０３ａと梁部材３
０３ｂからなるねじり回動軸３０３によって決まる常数
である。即ち、ミラー基板３０２上のミラー３０１の振
れ角（θ）を大きくしようとすると、静電トルク（Ｔ
ｑ）を大きくするか、ミラー３０１を有するミラー基板
３０２の慣性モーメント（Ｉ）を小さくする方法がとら
れる。特に、電子写真プロセスを利用したレーザープリ
ンタ等の光書き込み装置として用いる場合、感光体面に
形成されるビーム形状により決まってくる反射面のミラ
ーをミラー基板に持つことが必要になる。ミラー面が大
きくなる場合には、ミラー基板も大きくなり、よって、
ミラー慣性モーメント（Ｉ）は小さく出来ない。他方、
第１の基板に重ねた第２の基板を接合して形成した固定
電極を可動電極と対向するようにして光走査を行なう振
れ角を大きくするねじり振動型の光走査装置も同一出願
人の発明者から提案されている。それでも、静電トルク
（Ｔｑ）は、駆動電圧に比例して大きくなり、振れ角
（θ）を大きくすると、駆動電圧が更に高くなりコスト
が高くなっていた。即ち、従来の光走査装置、及び、そ
の光走査装置を具備する画像形成装置、及び、その光走
査装置を具備する読取装置は、ミラーの振れ角（θ）を
大きくすると駆動電圧が高くなり、コスト高になる。従
って、従来の静電力でねじり回動軸を回動して入射光の
反射方向を変えて光走査を行なう光走査装置は、構造が
複雑で、光走査を行なう振れ角が小さく、駆動電圧が高
く、歩留まりも低く、コスト高であると言う不具合が生
じていた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】従来の静電力でねじり
回動軸を回動して入射光の反射方向を変えて光走査を行
なう光走査装置は、構造が複雑で、光走査を行なう振れ
角が小さく、駆動電圧が高く、歩留まりも低く、コスト
高であると言う問題が発生していた。そこで本発明の課
題は、このような問題点を解決するものである。即ち、
構造が簡単で、光走査を行なう振れ角が大きく、駆動電
圧が低く、信頼性が向上して、強度も強く、歩留まりも
高く、低コストである光走査装置、及び、その光走査装
置の製造方法、並びに、その光走査装置を具備する部品
数が少なく小型で製造コストも低く高精度で高速化にも
対応出来る電子写真プロセスで光書き込みを行なって画
像を形成する画像形成装置、及び、その光走査装置を具
備する部品数が少なく小型で製造コストも低く高精度で
高速化にも対応出来る読取装置を提供することを目的と
する。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１の発明は、静電力でねじり回動軸を回動し
て入射光の反射方向を変えて光走査を行なう光走査装置
において、入射光を正反射する反射手段と、上記反射手
段を保持する反射手段保持基板と、上記反射手段保持基
板を回動可能に両端部を支持する梁部材からなるねじり
回動軸と、上記ねじり回動軸に支持された上記反射手段
保持基板の側面に形成された可動電極と、上記可動電極
を上記ねじり回動軸を介して固定電極の第１固定電極と
対向して支持する第１の基板と、上記第１の基板の上記
可動電極と上記第１固定電極を電気的に絶縁して分離す
る第１電気的絶縁分離手段と、上記第１の基板に電気的
に絶縁して重ねて接合した第２の基板と、上記第２の基
板に上記可動電極と対向して形成された第２固定電極か
らなることを特徴とする。請求項２の発明は、請求項１
に記載の光走査装置において、ねじり回動軸は、反射手
段保持基板を回動可能に両端部を支持する同一直線上に
設けた複数本の梁部材からなることを特徴とする。請求
項３の発明は、請求項１又は２に記載の光走査装置にお
いて、第１電気的絶縁分離手段は、第１の基板の可動電
極と第１固定電極を、分離して電気的に絶縁する分離ス
リットからなることを特徴とする。請求項４の発明は、
請求項１、２又は３に記載の光走査装置において、第２
の基板に形成された第２固定電極は、第２電気的絶縁分
離手段により電気的に絶縁して分離した複数個からなる
ことを特徴とする。請求項５の発明は、請求項４に記載
の光走査装置において、第２電気的絶縁分離手段は、第
２の基板に形成された第２固定電極を、電気的に絶縁す
る分離部からなることを特徴とする。請求項６の発明
は、請求項１、２、３、４又５に記載の光走査装置にお
いて、第１の基板に対して、電気的に絶縁して重ねて接
合した第３の基板を備え、上記第３の基板は可動電極と
対向して形成された第３固定電極を備えることを特徴と
する。

【０００６】請求項７の発明は、請求項６に記載の光走
査装置において、第３の基板に形成された第３固定電極
は、第３電気的絶縁分離手段により電気的に絶縁して分
離した複数個からなることを特徴とする。請求項８の発
明は、請求項７に記載の光走査装置において、第３電気
的絶縁分離手段は、第３の基板に形成された第３固定電
極を、電気的に絶縁する分離部からなることを特徴とす
る。請求項９の発明は、請求項１、２、３、４、５、
６、７又は８に記載の光走査装置において、第１の基板
は、第２の基板のシリコン基板と絶縁膜を介して重ねて
接合されていることを特徴とする。請求項１０の発明
は、請求項１、２、３、４、５、６、７、８又は９に記
載の光走査装置において、第１の基板は、第２の基板の
シリコン基板と直接接合により重ねて接合されているこ
とを特徴とする。請求項１１の発明は、請求項６、７、
８、９又は１０に記載の光走査装置において、第１の基
板は、第３の基板のシリコン基板と絶縁膜を介して重ね
て接合されていることを特徴とする。請求項１２の発明
は、請求項６、７、８、９、１０又は１１に記載の光走
査装置において、第１の基板は、第３の基板のシリコン
基板と直接接合により重ねて接合されていることを特徴
とする。請求項１３の発明は、請求項１、２、３、４、
５、６、７又は８に記載の光走査装置において、第１の
基板は、第２の基板のガラス基板と陽極接合により接合
されていることを特徴とする。請求項１４の発明は、請
求項１、２、３、４、５、６、７、８又は１３に記載の
光走査装置において、第１の基板は、第３の基板のガラ
ス基板と陽極接合により接合されていることを特徴とす
る。請求項１５の本発明は、請求項１乃至１４の何れか
一項に記載の光走査装置において、可動電極は、固定電
極に対向する対向面が凹凸形状の可動電極凹凸形状対向
面からなる光走査装置であることを主要な特徴とする。
請求項１６の本発明は、請求項１５に記載の光走査装置
において、可動電極凹凸形状対向面は、櫛歯形状の櫛歯
形状対向面からなる光走査装置であることを主要な特徴
とする。

【０００７】請求項１７の本発明は、請求項１乃至１６
の何れか一項に記載の光走査装置において、固定電極
は、可動電極に対向する対向面が凹凸形状の固定電極凹
凸形状対向面からなる光走査装置であることを主要な特
徴とする。請求項１８の本発明は、請求項１７に記載の
光走査装置において、固定電極凹凸形状対向面は、櫛歯
形状の櫛歯形状対向面からなる光走査装置であることを
主要な特徴とする。請求項１９の本発明は、請求項１乃
至１８の何れか一項に記載の光走査装置において、可動
電極は、共振周波数調整用の櫛歯形状の共振周波数調整
切片からなる光走査装置であることを主要な特徴とす
る。請求項２０の本発明は、静電力でねじり回動軸を回
動して入射光の反射方向を変えて光走査を行なう請求項
１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１
２、１５、１６、１７、１８又は１９に記載の光走査装
置の製造方法において、第１の基板に、第２の基板のシ
リコン基板又は第３の基板のシリコン基板を真空中で重
ね、大気に解放後に加熱する直接接合で製造する光走査
装置の製造方法であることを最も主要な特徴とする。請
求項２１の本発明は、静電力でねじり回動軸を回動して
入射光の反射方向を変えて光走査を行なう請求項１、
２、３、４、５、６、７、８、１３、１４、１５、１
６、１７、１８、１９又は２０に記載の光走査装置の製
造方法において、第１の基板と、第２の基板のガラス基
板又は第３の基板のガラス基板を真空中で、接合荷重を
加え、接合電圧を印加し、接合温度に加熱する陽極接合
で製造する光走査装置の製造方法であることを最も主要
な特徴とする。請求項２２の本発明は、静電力でねじり
回動軸を回動して入射光の反射方向を変えて光走査を行
なう請求項１９に記載の光走査装置の製造方法におい
て、共振周波数調整切片を、レーザ光で割断することに
よって、共振周波数を調整して製造する光走査装置の製
造方法であることを最も主要な特徴とする。請求項２３
の本発明は、電子写真プロセスで光書き込みを行なって
画像を形成する画像形成装置において、回動可能に保持
されて形成画像を担持する画像担持体と、上記画像担持
体上を光書き込みを行なって潜像を形成する請求項１乃
至１９の何れか一項に記載の光走査装置からなる潜像形
成手段と、上記潜像形成手段の上記光走査装置によって
形成された潜像を顕像化してトナー画像を形成する現像
手段と、上記現像手段で形成されたトナー画像を被転写
体に転写する転写手段とからなる画像形成装置であるこ
とを最も主要な特徴とする。請求項２４の本発明は、光
走査を行なって読み取りを行なう読取装置において、被
読み取り面を光走査する請求項１乃至１９の何れか一項
に記載の光走査装置と、上記光走査装置が被読み取り面
を光走査した反射光を受光する受光素子とからなる読取
装置であることを最も主要な特徴とする。

【０００８】

【作用】上記のように構成された光走査装置、及び、そ
の製造方法、並びに、その光走査装置を具備する画像形
成装置、及び、その光走査装置を具備する読取装置は、
請求項１においては、入射光を正反射する反射手段を保
持する反射手段保持基板を回動可能に両端部を支持する
梁部材からなるねじり回動軸に支持された反射手段保持
基板の側面に形成された可動電極を、ねじり回動軸を介
して固定電極の第１固定電極と対向して第１の基板で支
持して、第１の基板の可動電極と第１固定電極を第１電
気的絶縁分離手段で電気的に絶縁して分離すると共に、
第１の基板に第２の基板を電気的に絶縁して重ねて接合
して第２の基板に可動電極と対向して第２固定電極を形
成するようにして、静電力でねじり回動軸を回動して入
射光の反射方向を変えて光走査を行なう。反射手段保持
基板の振れ角度を増幅させるトルクが発生するので、駆
動電圧を高めるなどの不具合を生じることなく、振れ角
度を大きくすることができ、実用性を高めることができ
る。請求項２においては、入射光を正反射する反射手段
を保持する反射手段保持基板を回動可能に両端部を支持
する同一直線上に設けた複数本の梁部材からなるねじり
回動軸に支持された反射手段保持基板の側面に形成され
た可動電極を、ねじり回動軸を介して固定電極の第１固
定電極と対向して第１の基板で支持して、第１の基板の
可動電極と第１固定電極を第１電気的絶縁分離手段で電
気的に絶縁して分離すると共に、第１の基板に第２の基
板を電気的に絶縁して重ねて接合して第２の基板に可動
電極と対向して第２固定電極を形成するようにして、静
電力でねじり回動軸を回動して入射光の反射方向を変え
て光走査を行なう。請求項３においては、入射光を正反
射する反射手段を保持する反射手段保持基板を回動可能
に両端部を支持する梁部材からなるねじり回動軸に支持
された反射手段保持基板の側面に形成された可動電極
を、ねじり回動軸を介して固定電極の第１固定電極と対
向して第１の基板で支持して、第１の基板の可動電極と
第１固定電極を第１電気的絶縁分離手段のスリット形状
部を形成して分離する分離スリットで電気的に絶縁して
分離すると共に、第１の基板に第２の基板を電気的に絶
縁して重ねて接合して第２の基板に可動電極と対向して
第２固定電極を形成するようにして、静電力でねじり回
動軸を回動して入射光の反射方向を変えて光走査を行な
う。

【０００９】請求項４においては、入射光を正反射する
反射手段を保持する反射手段保持基板を回動可能に両端
部を支持する梁部材からなるねじり回動軸に支持された
反射手段保持基板の側面に形成された可動電極を、ねじ
り回動軸を介して固定電極の第１固定電極と対向して第
１の基板で支持して、第１の基板の可動電極と第１固定
電極を第１電気的絶縁分離手段で電気的に絶縁して分離
すると共に、第１の基板に第２の基板を電気的に絶縁し
て重ねて接合して第２の基板に可動電極と対向して第２
固定電極を形成して、第２の基板に形成された第２固定
電極は第２電気的絶縁分離手段により電気的に絶縁して
分離して複数個にするようにして、静電力でねじり回動
軸を回動して入射光の反射方向を変えて光走査を行な
う。請求項５においては、入射光を正反射する反射手段
を保持する反射手段保持基板を回動可能に両端部を支持
する梁部材からなるねじり回動軸に支持された反射手段
保持基板の側面に形成された可動電極を、ねじり回動軸
を介して固定電極の第１固定電極と対向して第１の基板
で支持して、第１の基板の可動電極と第１固定電極を第
１電気的絶縁分離手段で電気的に絶縁して分離すると共
に、第１の基板に第２の基板を電気的に絶縁して重ねて
接合して第２の基板に可動電極と対向して第２固定電極
を形成して、第２の基板に形成された第２固定電極は第
２電気的絶縁分離手段としての分離部で電気的に絶縁し
て分離して複数個にするようにして、静電力でねじり回
動軸を回動して入射光の反射方向を変えて光走査を行な
う。請求項６においては、入射光を正反射する反射手段
を保持する反射手段保持基板を回動可能に両端部を支持
する梁部材からなるねじり回動軸に支持された反射手段
保持基板の側面に形成された可動電極を、ねじり回動軸
を介して固定電極の第１固定電極と対向して第１の基板
で支持して、第１の基板の可動電極と第１固定電極を第
１電気的絶縁分離手段で電気的に絶縁して分離すると共
に、第１の基板に第２の基板を電気的に絶縁して重ねて
接合して第２の基板に可動電極と対向して第２固定電極
を形成して、第１の基板は電気的に絶縁して重ねて接合
した第３の基板に可動電極と対向して第３固定電極を形
成するようにして、静電力でねじり回動軸を回動して入
射光の反射方向を変えて光走査を行なう。

【００１０】請求項７においては、入射光を正反射する
反射手段を保持する反射手段保持基板を回動可能に両端
部を支持する梁部材からなるねじり回動軸に支持された
反射手段保持基板の側面に形成された可動電極を、ねじ
り回動軸を介して固定電極の第１固定電極と対向して第
１の基板で支持して、第１の基板の可動電極と第１固定
電極を第１電気的絶縁分離手段で電気的に絶縁して分離
すると共に、第１の基板に第２の基板を電気的に絶縁し
て重ねて接合して第２の基板に可動電極と対向して第２
固定電極を形成して、第１の基板は電気的に絶縁して重
ねて接合した第３の基板に可動電極と対向して第３固定
電極を形成して、第３の基板に形成された第３固定電極
は第３電気的絶縁分離手段により電気的に絶縁して複数
個に分離するようにして、静電力でねじり回動軸を回動
して入射光の反射方向を変えて光走査を行なう。請求項
８においては、入射光を正反射する反射手段を保持する
反射手段保持基板を回動可能に両端部を支持する梁部材
からなるねじり回動軸に支持された反射手段保持基板の
側面に形成された可動電極を、ねじり回動軸を介して固
定電極の第１固定電極と対向して第１の基板で支持し
て、第１の基板の可動電極と第１固定電極を第１電気的
絶縁分離手段で電気的に絶縁して分離すると共に、第１
の基板に第２の基板を電気的に絶縁して重ねて接合して
第２の基板に可動電極と対向して第２固定電極を形成し
て、第１の基板は電気的に絶縁して重ねて接合した第３
の基板に可動電極と対向して第３固定電極を形成して、
第３の基板に形成された第３固定電極は第３電気的絶縁
分離手段としての分離部により電気的に絶縁して複数個
に分離するようにして、静電力でねじり回動軸を回動し
て入射光の反射方向を変えて光走査を行なう。請求項９
においては、入射光を正反射する反射手段を保持する反
射手段保持基板を回動可能に両端部を支持する梁部材か
らなるねじり回動軸に支持された反射手段保持基板の側
面に形成された可動電極を、ねじり回動軸を介して固定
電極の第１固定電極と対向して第１の基板で支持して、
第１の基板の可動電極と第１固定電極を第１電気的絶縁
分離手段で電気的に絶縁して分離すると共に、第１の基
板に第２の基板のシリコン基板と絶縁膜を介して電気的
に絶縁して重ねて接合して、第２の基板に可動電極と対
向して第２固定電極を形成するようにして、静電力でね
じり回動軸を回動して入射光の反射方向を変えて光走査
を行なう。

【００１１】請求項１０においては、入射光を正反射す
る反射手段を保持する反射手段保持基板を回動可能に両
端部を支持する梁部材からなるねじり回動軸に支持され
た反射手段保持基板の側面に形成された可動電極を、ね
じり回動軸を介して固定電極の第１固定電極と対向して
第１の基板で支持して、第１の基板の可動電極と第１固
定電極を第１電気的絶縁分離手段で電気的に絶縁して分
離すると共に、第１の基板に第２の基板のシリコン基板
を電気的に絶縁して直接接合により重ねて接合して第２
の基板に可動電極と対向して第２固定電極を形成するよ
うにして、静電力でねじり回動軸を回動して入射光の反
射方向を変えて光走査を行なう。請求項１１において
は、入射光を正反射する反射手段を保持する反射手段保
持基板を回動可能に両端部を支持する梁部材からなるね
じり回動軸に支持された反射手段保持基板の側面に形成
された可動電極を、ねじり回動軸を介して固定電極の第
１固定電極と対向して第１の基板で支持して、第１の基
板の可動電極と第１固定電極を第１電気的絶縁分離手段
で電気的に絶縁して分離すると共に、第１の基板に第２
の基板を電気的に絶縁して重ねて接合して第２の基板に
可動電極と対向して第２固定電極を形成して、第１の基
板は絶縁膜を介して電気的に絶縁して重ねて接合した第
３の基板のシリコン基板に可動電極と対向して第３固定
電極を形成するようにして、静電力でねじり回動軸を回
動して入射光の反射方向を変えて光走査を行なう。請求
項１２においては、入射光を正反射する反射手段を保持
する反射手段保持基板を回動可能に両端部を支持する梁
部材からなるねじり回動軸に支持された反射手段保持基
板の側面に形成された可動電極を、ねじり回動軸を介し
て固定電極の第１固定電極と対向して第１の基板で支持
して、第１の基板の可動電極と第１固定電極を第１電気
的絶縁分離手段で電気的に絶縁して分離すると共に、第
１の基板に第２の基板を電気的に絶縁して重ねて接合し
て第２の基板に可動電極と対向して第２固定電極を形成
して、第１の基板は絶縁膜を介して電気的に絶縁して直
接接合により重ねて接合した第３の基板のシリコン基板
に可動電極と対向して第３固定電極を形成するようにし
て、静電力でねじり回動軸を回動して入射光の反射方向
を変えて光走査を行なう。

【００１２】請求項１３においては、入射光を正反射す
る反射手段を保持する反射手段保持基板を回動可能に両
端部を支持する梁部材からなるねじり回動軸に支持され
た反射手段保持基板の側面に形成された可動電極を、ね
じり回動軸を介して固定電極の第１固定電極と対向して
第１の基板で支持して、第１の基板の可動電極と第１固
定電極を第１電気的絶縁分離手段で電気的に絶縁して分
離すると共に、第１の基板に第２の基板のガラス基板を
電気的に絶縁して重ねて陽極接合により接合して第２の
基板に可動電極と対向して第２固定電極を形成するよう
にして、静電力でねじり回動軸を回動して入射光の反射
方向を変えて光走査を行なう。請求項１４においては、
入射光を正反射する反射手段を保持する反射手段保持基
板を回動可能に両端部を支持する梁部材からなるねじり
回動軸に支持された反射手段保持基板の側面に形成され
た可動電極を、ねじり回動軸を介して固定電極の第１固
定電極と対向して第１の基板で支持して、第１の基板の
可動電極と第１固定電極を第１電気的絶縁分離手段で電
気的に絶縁して分離すると共に、第１の基板に第２の基
板を電気的に絶縁して重ねて接合して第２の基板に可動
電極と対向して第２固定電極を形成して、第１の基板は
第３の基板のガラス基板を陽極接合により接合するよう
にして、静電力でねじり回動軸を回動して入射光の反射
方向を変えて光走査を行なう。請求項１５においては、
入射光を正反射する反射手段を保持する反射手段保持基
板を回動可能に両端部を支持する梁部材からなるねじり
回動軸に支持された反射手段保持基板の側面に形成され
た可動電極を、ねじり回動軸を介して固定電極の第１固
定電極と対向して第１の基板で支持して、第１の基板の
可動電極と第１固定電極を第１電気的絶縁分離手段で電
気的に絶縁して分離すると共に、第１の基板に第２の基
板を電気的に絶縁して重ねて接合して第２の基板に可動
電極と対向して第２固定電極を形成して、可動電極は第
２固定電極に対向する対向面が凹凸形状の可動電極凹凸
形状対向面からなるようにして、静電力でねじり回動軸
を回動して入射光の反射方向を変えて光走査を行なう。

【００１３】請求項１６においては、入射光を正反射す
る反射手段を保持する反射手段保持基板を回動可能に両
端部を支持する梁部材からなるねじり回動軸に支持され
た反射手段保持基板の側面に形成された可動電極を、ね
じり回動軸を介して固定電極の第１固定電極と対向して
第１の基板で支持して、第１の基板の可動電極と第１固
定電極を第１電気的絶縁分離手段で電気的に絶縁して分
離すると共に、第１の基板に第２の基板を電気的に絶縁
して重ねて接合して第２の基板に可動電極と対向して第
２固定電極を形成して、可動電極は第２固定電極に対向
する対向面が凹凸形状の可動電極凹凸形状対向面の櫛歯
形状の櫛歯形状対向面からなるようにして、静電力でね
じり回動軸を回動して入射光の反射方向を変えて光走査
を行なう。請求項１７においては、入射光を正反射する
反射手段を保持する反射手段保持基板を回動可能に両端
部を支持する梁部材からなるねじり回動軸に支持された
反射手段保持基板の側面に形成された可動電極を、ねじ
り回動軸を介して固定電極の第１固定電極と対向して第
１の基板で支持して、第１の基板の可動電極と第１固定
電極を第１電気的絶縁分離手段で電気的に絶縁して分離
すると共に、第１の基板に第２の基板を電気的に絶縁し
て重ねて接合して第２の基板に可動電極と対向して第２
固定電極を形成して、第２固定電極は可動電極に対向す
る対向面が凹凸形状の固定電極凹凸形状対向面からなる
ようにして、静電力でねじり回動軸を回動して入射光の
反射方向を変えて光走査を行なう。請求項１８において
は、入射光を正反射する反射手段を保持する反射手段保
持基板を回動可能に両端部を支持する梁部材からなるね
じり回動軸に支持された反射手段保持基板の側面に形成
された可動電極を、ねじり回動軸を介して固定電極の第
１固定電極と対向して第１の基板で支持して、第１の基
板の可動電極と第１固定電極を第１電気的絶縁分離手段
で電気的に絶縁して分離すると共に、第１の基板に第２
の基板を電気的に絶縁して重ねて接合して第２の基板に
可動電極と対向して第２固定電極を形成して、第２固定
電極は可動電極に対向する対向面が凹凸形状の固定電極
凹凸形状対向面の櫛歯形状の櫛歯形状対向面からなるよ
うにして、静電力でねじり回動軸を回動して入射光の反
射方向を変えて光走査を行なう。

【００１４】請求項１９においては、入射光を正反射す
る反射手段を保持する反射手段保持基板を回動可能に両
端部を支持する梁部材からなるねじり回動軸に支持され
た反射手段保持基板の側面に形成された可動電極を、ね
じり回動軸を介して固定電極の第１固定電極と対向して
第１の基板で支持して、第１の基板の可動電極と第１固
定電極を第１電気的絶縁分離手段で電気的に絶縁して分
離すると共に、第１の基板に第２の基板を電気的に絶縁
して重ねて接合して第２の基板に可動電極と対向して第
２固定電極を形成して、可動電極は共振周波数調整用の
櫛歯形状の共振周波数調整切片からなるようにして、静
電力でねじり回動軸を回動して入射光の反射方向を変え
て光走査を行なう。請求項２０においては、の製造方法
において、第１の基板に、第２の基板のシリコン基板又
は第３の基板のシリコン基板を真空中で重ね、大気に解
放後に加熱して直接接合する、静電力でねじり回動軸を
回動して入射光の反射方向を変えて光走査を行なう請求
項１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、
１２、１５、１６、１７、１８又は１９に記載の光走査
装置を製造する。請求項２１においては、第１の基板
と、第２の基板のガラス基板又は第３の基板のガラス基
板を真空中で、接合荷重を加え、接合電圧を印加し、接
合温度に加熱して陽極接合する、静電力でねじり回動軸
を回動して入射光の反射方向を変えて光走査を行なう請
求項１、２、３、４、５、６、７、８、１３、１４、１
５、１６、１７、１８、１９又は２０に記載の光走査装
置を製造する。請求項２２においては、共振周波数調整
切片を、レーザ光で割断することによって、共振周波数
を調整する、静電力でねじり回動軸を回動して入射光の
反射方向を変えて光走査を行なう請求項１、２、３、
４、５、６、７、８、１３、１４、１５、１６、１７、
１８、１９又は２０に記載の光走査装置を製造する。請
求項２３においては、回動可能に保持されて形成画像を
担持する画像担持体上を光書き込みを行なって潜像を形
成する請求項１乃至１９の何れか一項に記載の光走査装
置からなる潜像形成手段の光走査装置によって形成され
た潜像を顕像化してトナー画像を形成する現像手段で形
成されたトナー画像を転写手段によって被転写体に転写
する、電子写真プロセスで光書き込みを行なって画像を
形成する。請求項２４においては、被読み取り面を光走
査する請求項１乃至１９の何れか一項に記載の光走査装
置が被読み取り面を光走査した反射光を受光素子で受光
する、光走査を行なって読み取りを行なう。

【００１５】

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を図面
を参照して詳細に説明する。図１は本発明の一実施形態
に係る光走査装置の要部構成を示す正面図、図２はその
分解斜視図、図３は構成を示す正面断面図、図４は反射
手段の振れ角（θ）、第１固定電極の駆動パルスと第２
固定電極の駆動パルスの特性を説明するグラフ、図５は
静電駆動トルク（電極間トルク）と反射手段の振れ角
（θ）の特性を説明するグラフ、図６は光走査装置の他
の主要部の動作を説明する図である。図１乃至図６にお
いて、静電力でねじり回動軸を回動して入射光の反射方
向を変えて光走査を行なう光走査装置０は、入射光を正
反射する反射手段１としての反射ミラーと、反射ミラー
１を保持する反射手段保持基板２と、反射手段保持基板
２を回動可能に両端部を支持する梁部材３ａからなるね
じり回動軸３と、梁部材３ａに支持された反射手段保持
基板２の側面に形成された可動電極４と、可動電極４を
梁部材３ａを介して固定電極５としての第１固定電極５
ａと対向して支持する略矩形環状の第１の基板６と、可
動電極４と第１固定電極５ａを電気的に絶縁して分離す
る第１電気的絶縁分離手段６ａと、第１の基板６に電気
的に絶縁して重ねて接合した第２の基板７としての矩形
環状のシリコン基板７ｂと、シリコン基板７ｂに可動電
極４と対向して形成された第２固定電極５ｂとからな
り、構造が簡単で、光走査を行なう振れ角が大きく、駆
動電圧が低く、低コストである。なお、図示していない
が、この光走査装置は、何らかの支持手段によって固定
部を支持されることによって、可動部の動作を妨げない
ように構成されているものである。従って、例えばねじ
り回動軸３を介して反射手段保持基板２を支持する第１
の基板６の部分と、第１の基板６の他の部分とは、スリ
ット状の電気的絶縁分離手段６ａにより分断されてはい
るが、実際には支持手段によって第１の基板６の固定部
は支持されている。この点は、以下の全ての実施形態に
当てはまる。

【００１６】エッチング加工により形成された第１電気
的絶縁分離手段６ａとしての分離スリット６ａ_１が、第
１の基板６のシリコン基板に設けられ、反射ミラー１と
第１固定電極５ａとしての第１固定電極５ａ_１と第１固
定電極５ａ_２が形成される。更に、エッチング加工によ
り、シリコン基板７ｂには、第２電気的絶縁分離手段７
ａとしての分離スリット７ａ_１が設けられ、第２固定電
極５ｂ_１と第２固定電極５ｂ_２が形成されている。これ
により、反射ミラー１が形成された反射手段保持基板２
の側面に形成された可動電極４と、第１固定電極５ａ_１
と第１固定電極５ａ_２との間に微小ギャップ（Ｇ）が形
成される。同様に、反射ミラー１が形成された反射手段
保持基板２の側面に形成された可動電極４と、第２固定
電極５ｂ_１と第２固定電極５ｂ_２の間にも微小ギャップ
（Ｇ）が形成される。従って、光走査装置０は、構造が
更に簡単で、光走査を行なう振れ角が更に大きく、駆動
電圧が更に低く、更に低コストである。上記第１として
の基板６のシリコン基板は、エッチングによる加工によ
り、反射ミラー１が形成された反射手段保持基板２の両
側面に、捻りバネである梁部材３ａの梁部材３ａ_１と梁
部材３ａ_２が設けられている。梁部材３ａは、複数本の
梁部材３ａ_１と梁部材３ａ_１を同一直線上に設けて、反
射手段保持基板２を回動可能に両端部を支持するように
なっているから、構造が簡単で、光走査を行なう振れ角
が更に大きく、駆動電圧が更に低く、低コストである光
走査装置０を提供することが出来るようになった。シリ
コン基板６と、絶縁膜７ｃを介して設けられているシリ
コン基板７ｂが位置合わせされて、直接接合の工程によ
る製造方法で接合されている。光走査装置０は、第１の
基板６に位置合わせされて重ねた第２の基板７を接合す
る直接接合の工程は、シリコン基板６の表面に、シリコ
ン基板７ｂを真空中で図示の矢印（Ａ）方向から重ね合
わせた後に（図２を参照）、大気に解放後に、１０００
℃に加熱して直接接合が行なわれて製造されるから、ウ
エファー単位で接合され、接合コストを低下することが
出来る。従って、光走査装置０は、直接接合により接合
されているために信頼性が向上すると共に、ウエフアー
単位で接合することが出来るので接合コストが低下する
から低コストとなる。

【００１７】光走査装置０において、反射ミラー１が形
成された反射手段保持基板２の側面に形成された可動電
極４はグランドに接続され、第１固定電極５ａ_１と第１
固定電極５ａ_２、及び、第２固定電極５ｂ_１と第２固定
電極５ｂ_２は、駆動電圧印加手段９に接続され、上記駆
動電圧印加手段９による駆動電圧の印加で、静電力で上
記ねじり回動軸３が回動して入射光の反射方向を変えて
光走査が行なわれるようになっている（図３を参照）。
共振状態における反射ミラー１が形成された反射手段保
持基板２の振れ角（θ）は概略、θ＝（Ｔｑ／Ｉ）・Ｋ
の式で与えられる。但し、（Ｔｑ）は反射ミラー１が形
成された反射手段保持基板２に作用する静電駆動トル
ク、（Ｉ）は反射ミラー１が形成された反射手段保持基
板２の完成モーメント、（Ｋ）は共振周波数決まる常数
である。静電駆動トルク（Ｔｑ）は、（Ｔｑ）∝Ｓ・
（Ｖ／ｇ）^２の式で与えられる。但し、（Ｓ）は電極間
対向面積、（Ｖ）は印加電圧、（ｇ）は電極間距離であ
る。そこで、光走査装置０は、図４に図示のように、反
射ミラー１が形成された反射手段保持基板２の変位角
（時間）に応じて、第１固定電極５ａ_１と第１固定電極
５ａ_２の、及び、第２固定電極５ｂ_１と第２固定電極５
ｂ_２は駆動電圧印加手段９に接続されて駆動パルスを切
り替えて駆動する。よって、図５に示すように、光走査
装置０における、反射ミラー１が形成された反射手段保
持基板２に作用する静電駆動トルク（可動電極４と固定
電極５との電極間トルク）は、図示の従来の光走査装置
３００（従来例）に比較して、反射ミラー１が形成され
た反射手段保持基板２を広い変位角の間を作用させるこ
とが出来る。よって、反射ミラー１が形成された反射手
段保持基板２の振れ角（θ）の、（θ）＝（Ｔｑ／Ｉ）
・Ｋの式より、（Ｔｑ）を作用させる変位角が大きくな
るため、振れ角（θ）が大きくなる。図６に示すよう
に、駆動電圧印加手段９により駆動パルスを切り替える
ため、矢印に示す方向の静電駆動トルク（Ｔ_１）と静電
駆動トルク（Ｔ_２）が作用する。然し、従来の光走査装
置３００（図３２を参照）の場合は、図示の矢印に示す
静電駆動トルク（Ｔ_１）のみの作用である。従って、構
造が更に簡単で、光走査を行なう振れ角が更に大きく、
駆動電圧が更に低く、更に低コストである光走査装置０
を提供することが出来るようになった。

【００１８】次に、図７は本発明の他の実施形態に係る
光走査装置の要部構成を示す正面図、図８はその分解斜
視図、図９はその構成を示す正面断面図、図１０は反射
手段の振れ角（θ）、第１、第２、第３固定電極の各駆
動パルスの特性を説明するグラフ、図１１は光走査装置
の動作を説明する図である。図７乃至図１１において、
静電力でねじり回動軸を回動して入射光の反射方向を変
えて光走査を行なう光走査装置００は、入射光を正反射
する面である反射ミラー１と、反射ミラー１を保持する
反射手段保持基板２と、反射手段保持基板２を回動可能
に両端部を支持する梁部材３ａからなるねじり回動軸３
と、梁部材３ａに支持された反射手段保持基板２の側面
に形成された可動電極４と、可動電極４を梁部材３ａを
介して第１固定電極５ａと対向して支持する第１の基板
６と、第１の基板６の可動電極４と第１固定電極５ａを
電気的に絶縁して分離する上記第１電気的絶縁分離手段
６ａとしての分離スリット６ａ_１と、第１の基板６に電
気的に絶縁して重ねて接合したシリコン基板７ｂと、シ
リコン基板７ｂに可動電極４と対向して形成された第２
固定電極５ｂと、第１の基板６の下面側に電気的に絶縁
して重ねて接合した第３の基板８と、上記第３の基板８
に可動電極４と対向して形成された第３固定電極５ｃと
からなり、構造が簡単で、光走査を行なう振れ角が更に
大きく、駆動電圧が更に低く、更に低コストである。

【００１９】エッチング加工により形成された分離スリ
ット６ａ_１が、シリコン基板６に設けられ、反射ミラー
１と第１固定電極５ａ_１と第１固定電極５ａ_２が形成さ
れる。更に、エッチング加工により、シリコン基板７ｂ
には、第２電気的絶縁分離手段７ａとしての分離スリッ
ト７ａ_１が設けられ、第２固定電極５ｂとしての第２固
定電極５ｂ_１と第２固定電極５ｂ_２が形成されている。
更に、エッチング加工により、上記第３の基板８には、
第３電気的絶縁分離手段８ａとしての分離スリット８ａ
_１が設けられ、固定電極５としての第３固定電極５ｃ
（第３固定電極５ｃ_１と第３固定電極５ｃ_２）が形成さ
れている。これにより、反射ミラー１が形成された反射
手段保持基板２の側面に形成された可動電極４と、第１
固定電極５ａ_１と第１固定電極５ａ_２との間に微小ギャ
ップ（Ｇ）が形成される。同様に、反射ミラー１が形成
された反射手段保持基板２の側面に形成された可動電極
４と、第２固定電極５ｂ_１と第２固定電極５ｂ_２との間
にも微小ギャップ（Ｇ）が形成される。同様に、反射ミ
ラー１が形成された反射手段保持基板２の側面に形成さ
れた可動電極４と、第３固定電極５ｃ_１と第３固定電極
５ｃ_２との間にも微小ギャップ（Ｇ）が形成される。従
って、光走査装置００は、構造が更に簡単で、光走査を
行なう振れ角が更に大きく、駆動電圧が更に低く、更に
低コストである。

【００２０】シリコン基板６は、エッチングによる加工
により、反射ミラー１が形成された反射手段保持基板２
の両側面に、捻りバネである梁部材３ａの梁部材３ａ_１
と梁部材３ａ_２が設けられている。梁部材３ａは、複数
本の梁部材３ａ_１と梁部材３ａ_１を同一直線上に設け
て、反射手段保持基板２を回動可能に両端部を支持する
ようになっているから、構造が簡単で、光走査を行なう
振れ角が更に大きく、駆動電圧が更に低く、低コストで
ある光走査装置００を提供することが出来るようになっ
た。シリコン基板６と、絶縁膜７ｃを介して設けられて
いるシリコン基板７ｂと、絶縁膜８ｃを介して設けられ
ている第３の基板８のシリコン基板８ｂとが位置合わせ
されて、直接接合の工程による製造方法で接合されてい
る。光走査装置００は、シリコン基板６と絶縁膜７ｃを
介して設けられているシリコン基板７ｂと絶縁膜８ｃを
介して設けられているシリコン基板８ｂが位置合わせさ
れて、直接接合される工程は、まず、シリコン基板６に
シリコン基板７ｂを真空中で重ね、大気に開放後に、１
０００℃で加熱して直接接合される。光走査装置００
は、第１の基板６に位置合わせされて重ねた第２の基板
７と第３の基板８を接合する直接接合の工程は、シリコ
ン基板６の表面に、シリコン基板７ｂを真空中で図示の
矢印（Ａ）方向から重ね合わせた後に（図８を参照）、
シリコン基板８ｂを図示の矢印（Ｂ）方向から重ね合わ
せた後に（図８を参照）、大気に解放後に、１０００℃
に加熱して直接接合が行なわれて製造されるから、ウエ
ファー単位で接合され、接合コストを低下することが出
来る。従って、光走査装置００は、直接接合により接合
されているために信頼性が向上すると、共に、ウエフア
ー単位で接合することが出来るので接合コストが低下す
るから低コストとなる。

【００２１】光走査装置００において、反射ミラー１が
形成された反射手段保持基板２の側面に形成された可動
電極４はグランドに接続され、第１固定電極５ａ_１と第
１固定電極５ａ_２、及び、第２固定電極５ｂ_１と第２固
定電極５ｂ_２、及び、第３固定電極５ｃ_１と第３固定電
極５ｃ_２は、駆動電圧印加手段９に接続され、駆動電圧
印加手段９による駆動電圧の印加で、静電力でねじり回
動軸３が回動して入射光の反射方向を変えて光走査が行
なわれるようになっている（図９を参照）。そこで、光
走査装置００は、図１０に図示のように、反射ミラー１
が形成された反射手段保持基板２の変位角（時間）に応
じて、第１固定電極５ａ_１と第１固定電極５ａ_２、及
び、第２固定電極５ｂ_１と第２固定電極５ｂ_２、及び、
第３固定電極５ｃ_１と第３固定電極５ｃ_２は駆動電圧印
加手段９に接続されて駆動パルスを切り替えて駆動する
ようになっている。よって、図５に示すように、光走査
装置００における、反射ミラー１が形成された反射手段
保持基板２に作用する静電駆動トルク（電極間トルク）
は、図示の従来の光走査装置３００（従来例）等に比較
して、反射ミラー１が形成された反射手段保持基板２を
広い変位角の間を作用させることが出来る。よって、反
射ミラー１が形成された反射手段保持基板２の振れ角
（θ）の、（θ）＝（Ｔｑ／Ｉ）・Ｋの式より、（Ｔ
ｑ）を作用させる変位角が大きくなるため、振れ角
（θ）が大きくなる。図１１に示すように、上記駆動電
圧印加手段９により駆動パルスを切り替えるため、図示
の矢印に示す静電駆動トルク（Ｔ_１）の他に、静電駆動
トルク（Ｔ_２）と静電駆動トルク（Ｔ_３）が作用する。
然し、従来の光走査装置３００（図３２を参照）の場合
は、図示の矢印に示す静電駆動トルク（Ｔ_１）のみの作
用である。従って、構造が更に簡単で、光走査を行なう
振れ角が更に大きく（図３４との比較）、駆動電圧が更
に低く、更に低コストである光走査装置００を提供する
ことが出来るようになった。

【００２２】図１２は本発明の他の実施形態に係る光走
査装置の要部構成を示す正面図、図１３はその分解斜視
図、図１４は構成を示す正面断面図、図１５は反射手段
の振れ角（θ）、第１、第２固定電極の各駆動パルスの
特性を説明するグラフ、図１６は光走査装置の動作を説
明する図である。図１２乃至図１６において、静電力で
ねじり回動軸を回動して入射光の反射方向を変えて光走
査を行なう光走査装置０００は、入射光を正反射する反
射ミラー１と、反射ミラー１を保持する反射手段保持基
板２と、反射手段保持基板２を回動可能に両端部を支持
する梁部材３ａからなる上記ねじり回動軸３と、梁部材
３ａに支持された反射手段保持基板２の側面に形成され
た可動電極４と、可動電極４を梁部材３ａを介して第１
固定電極５ａと対向して支持する第１の基板６と、第１
の基板６の可動電極４と上記第１固定電極５ａを電気的
に絶縁して分離する分離スリット６ａ_１と、第１の基板
６に電気的に絶縁して重ねて接合した第２の基板として
のパイレックス（登録商標）等のガラスからなるガラス
基板７ｄと、ガラス基板７ｄに可動電極４と対向して形
成された第２固定電極５ｂとからなり、構造が簡単で、
光走査を行なう振れ角が大きく、駆動電圧が低く、信頼
性が向上して、強度も強く、歩留まりも高く、低コスト
である。

【００２３】エッチング加工により形成された分離スリ
ット６ａ_１が、シリコン基板６に設けられ、反射ミラー
１と第１固定電極５ａの第１固定電極５ａ_１と第１固定
電極５ａ_２が形成される。更に、エッチング加工によ
り、第２の基板の上記ガラス基板７ｄには、上記第２電
気的絶縁分離手段７ａの上記分離部７ａ_１が設けられ、
第２固定電極５ｂ_１と第２固定電極５ｂ_２が導電性薄膜
で形成されている。即ち、ガラス基板７ｃの上面と内周
面（可動電極４との対向部）には導電性薄膜が形成され
ているが、分離部７ａにより２つに分断されている。こ
れにより、反射ミラー１が形成された反射手段保持基板
２の側面に形成された可動電極４と、第１固定電極５ａ
_１と第１固定電極５ａ_２の間に微小ギャップ（Ｇ）が形
成される。同様に、反射ミラー１が形成された反射手段
保持基板２の側面に形成された可動電極４と、固定電極
５の導電性薄膜で形成された第２固定電極５ｂ_１と第２
固定電極５ｂ_２の間にも微小ギャップ（Ｇ）が形成され
る。従って、光走査装置０は、構造が更に簡単で、光走
査を行なう振れ角が更に大きく、駆動電圧が更に低く、
信頼性が向上して、強度も強く、歩留まりも高く、更に
低コストである。シリコン基板６は、エッチングによる
加工により、反射ミラー１が形成された反射手段保持基
板２の両側面に、捻りバネである梁部材３ａの梁部材３
ａ_１と梁部材３ａ_２が設けられている。梁部材３ａは、
複数本の梁部材３ａ_１と梁部材３ａ_１を同一直線上に設
けて、反射手段保持基板２を回動可能に両端部を支持す
るようになっているから、構造が簡単で、光走査を行な
う振れ角が更に大きく、駆動電圧が更に低く、強度も強
く、歩留まりも高く、低コストである光走査装置０００
を提供することが出来るようになった。シリコン基板６
と、第２の基板７の上記ガラス基板７ｄが位置合わせさ
れて、シリコン基板６と第２の基板７のガラス基板７ｄ
が陽極接合の工程による製造方法で接合されている。従
って、光走査装置０００は、陽極接合により接合されて
いるために接合強度も強く、歩留まりも高くすることが
出来る。

【００２４】光走査装置０００において、反射ミラー１
が形成された反射手段保持基板２の側面に形成された可
動電極４はグランドに接続され、固定電極５のシリコン
基板６に形成された第１固定電極５ａ_１と第１固定電極
５ａ_２、及び、ガラス基板７ｄに固定電極５の導電性薄
膜で形成された第２固定電極５ｂ_１と第２固定電極５ｂ
_２は、駆動電圧印加手段９に接続され、駆動電圧印加手
段９による駆動電圧の印加で、静電力で上記ねじり回動
軸３が回動して入射光の反射方向を変えて光走査が行な
われるようになっている（図１４を参照）。そこで、光
走査装置０００は、図１５に図示のように、反射ミラー
１が形成された反射手段保持基板２の変位角（時間）に
応じて、第１固定電極５ａ_１と第１固定電極５ａ_２、及
び、固定電極５の導電性薄膜で形成された第２固定電極
５ｂ _１と第２固定電極５ｂ_２は上記駆動電圧印加手段９
に接続されて駆動パルスを切り替えて駆動するようにな
っている。よって、図５に示すように、光走査装置００
０における、反射ミラー１が形成された反射手段保持基
板２に作用する静電駆動トルク（電極間トルク）は、図
示の従来の光走査装置３００（従来例）に比較して、反
射ミラー１が形成された反射手段保持基板２を広い変位
角の間を作用させることが出来る。よって、反射ミラー
１が形成された反射手段保持基板２の振れ角（θ）の、
（θ）＝（Ｔｑ／Ｉ）・Ｋの式より、（Ｔｑ）を作用さ
せる変位角が大きくなるため、振れ角（θ）が大きくな
る。図１６に示すように、駆動電圧印加手段９により駆
動パルスを切り替えるため、図示の矢印に示す静電駆動
トルク（Ｔ_１）と静電駆動トルク（Ｔ_２）が作用する。
然し、従来の光走査装置３００（図３２を参照）の場合
は、図示の矢印に示す静電駆動トルク（Ｔ_１）のみの作
用である。従って、構造が更に簡単で、光走査を行なう
振れ角が更に大きく、駆動電圧が更に低く、強度も強
く、歩留まりも高く、低コストである光走査装置０を提
供することが出来るようになった。

【００２５】次に、図１７は本発明の他の実施形態に係
る光走査装置の要部構成を示す正面図、図１８はその分
解斜視図、図１９はその構成を示す正面断面図、図２０
は反射手段の振れ角（θ）、第１、第２、第３固定電極
の各駆動パルスの特性を説明するグラフ、図２１は光走
査装置の動作を説明する図である。図１７乃至図２１に
おいて、静電力でねじり回動軸を回動して入射光の反射
方向を変えて光走査を行なう光走査装置００００は、入
射光を正反射する反射ミラー１と、反射ミラー１を保持
する反射手段保持基板２と、反射手段保持基板２を回動
可能に両端部を支持する梁部材３ａからなるねじり回動
軸３と、梁部材３ａに支持された反射手段保持基板２の
側面に形成された可動電極４と、可動電極４を梁部材３
ａを介して第１固定電極５ａと対向して支持する第１の
基板６と、第１の基板６の可動電極４と上記第１固定電
極５ａを電気的に絶縁して分離する分離スリット６ａ_１
と、第１の基板６に電気的に絶縁して重ねて接合した第
２の基板としてのガラス基板７ｄと、ガラス基板７ｄに
可動電極４と対向して形成された第２固定電極５ｂと、
第１の基板６に電気的に絶縁して重ねて接合した第３の
基板８のパイレックス等のガラスからなるガラス基板８
ｄと、上記第３の基板８の上記ガラス基板８ｄに可動電
極４と対向して形成された第３固定電極５ｃとからな
り、構造が簡単で、光走査を行なう振れ角が更に大き
く、駆動電圧が更に低く、強度も強く、歩留まりも高
く、更に低コストである。

【００２６】エッチング加工により形成された分離スリ
ット６ａ_１が、シリコン基板６に設けられ、反射ミラー
１と第１固定電極５ａ_１と第１固定電極５ａ_２が形成さ
れる。更に、エッチング加工により、ガラス基板７ｄに
は、上記第２電気的絶縁分離手段７ａの分離部７ａ
_１（非導体部）が設けられ、固定電極５の導電性薄膜で
形成された第２固定電極５ｂ_１と第２固定電極５ｂ_２が
形成されている。更に、エッチング加工により、ガラス
基板８ｄには、第３電気的絶縁分離手段８ａの分離部８
ａ_１（非導体部）が設けられ、固定電極５の導電性薄膜
で形成された第３固定電極５ｃ_１と第３固定電極５ｃ_２
が形成されている。これにより、反射ミラー１が形成さ
れた反射手段保持基板２の側面に形成された可動電極４
と、第１固定電極５ａ_１と第１固定電極５ａ_２の間に微
小ギャップ（Ｇ）が形成される。同様に、反射ミラー１
が形成された反射手段保持基板２の側面に形成された可
動電極４と、固定電極５の導電性薄膜で形成された第２
固定電極５ｂ_１と第２固定電極５ｂ_２の間にも微小ギャ
ップ（Ｇ）が形成される。同様に、反射ミラー１が形成
された反射手段保持基板２の側面に形成された可動電極
４と、固定電極５の導電性薄膜で形成された第３固定電
極５ｃ_１と第３固定電極５ｃ_２の間にも微小ギャップ
（Ｇ）が形成される。従って、光走査装置００００は、
構造が更に簡単で、光走査を行なう振れ角が更に大き
く、駆動電圧が更に低く、強度も強く、歩留まりも高
く、更に低コストである。

【００２７】シリコン基板６は、エッチングによる加工
により、反射ミラー１が形成された反射手段保持基板２
の両側面に、捻りバネである梁部材３ａの梁部材３ａ_１
と梁部材３ａ_２が設けられている。梁部材３ａは、複数
本の梁部材３ａ_１と梁部材３ａ_１を同一直線上に設け
て、反射手段保持基板２を回動可能に両端部を支持する
ようになっているから、構造が簡単で、光走査を行なう
振れ角が更に大きく、駆動電圧が更に低く、強度も強
く、歩留まりも高く、低コストである光走査装置０００
０を提供することが出来るようになった。シリコン基板
６と、第２の基板７としてのガラス基板７ｄと、第３の
基板８としてのガラス基板８ｄとが位置合わせされて、
陽極接合の工程による製造方法で接合されている。従っ
て、光走査装置００００は、陽極接合により接合されて
いるために接合強度も強く、歩留まりも高くすることが
出来る。

【００２８】光走査装置００００において、反射ミラー
１が形成された反射手段保持基板２の側面に形成された
可動電極４はグランドに接続され、固定電極５のシリコ
ン基板６に形成された第１固定電極５ａ_１と第１固定電
極５ａ_２、及び、第２の基板の上記ガラス基板７ｄに形
成された固定電極５の導電性薄膜で形成された第２固定
電極５ｂ_１と第２固定電極５ｂ_２、及び、上記第３の基
板８の上記ガラス基板８ｄに形成された固定電極５の導
電性薄膜で形成された第３固定電極５ｃ_１と第３固定電
極５ｃ_２は、駆動電圧印加手段９に接続され、駆動電圧
印加手段９による駆動電圧の印加で、静電力で上記ねじ
り回動軸３が回動して入射光の反射方向を変えて光走査
が行なわれるようになっている（図１９を参照）。そこ
で、光走査装置００００は、図２０に図示のように、反
射ミラー１が形成された反射手段保持基板２の変位角
（時間）に応じて、第１固定電極５ａ_１と第１固定電極
５ａ_２、及び、第２固定電極５ｂ_１と第２固定電極５ｂ
_２、及び、第３固定電極５ｃ_１と第３固定電極５ｃ_２は
駆動電圧印加手段９に接続されて駆動パルスを切り替え
て駆動するようになっている。よって、図５に示すよう
に、光走査装置００００における、反射ミラー１が形成
された反射手段保持基板２に作用する静電駆動トルク
（電極間トルク）は、図示の従来の光走査装置３００
（従来例）等に比較して、反射ミラー１が形成された反
射手段保持基板２を広い変位角の間を作用させることが
出来る。よって、反射ミラー１が形成された反射手段保
持基板２の振れ角（θ）の、（θ）＝（Ｔｑ／Ｉ）・Ｋ
の式より、（Ｔｑ）を作用させる変位角が大きくなるた
め、振れ角（θ）が大きくなる。図２１に示すように、
上記駆動電圧印加手段９により駆動パルスを切り替える
ため、図示の矢印に示す静電駆動トルク（Ｔ_１）、静電
駆動トルク（Ｔ_２）と静電駆動トルク（Ｔ_３）が作用す
る。然し、従来の光走査装置３００（図３２を参照）の
場合は、図示の矢印に示す静電駆動トルク（Ｔ_１）のみ
の作用である。従って、構造が更に簡単で、光走査を行
なう振れ角が更に大きく、駆動電圧が更に低く、強度も
強く、歩留まりも高く、更に低コストである光走査装置
００００を提供することが出来るようになった。

【００２９】図２２及び図２３は他の実施形態に係る光
走査装置の正面縦断面図、及び分解斜視図であり、同図
において、静電力でねじり回動軸を回動して入射光の反
射方向を変えて光走査を行なう光走査装置０は、入射光
を正反射する反射ミラー１と、反射ミラー１を保持する
反射手段保持基板２と、反射手段保持基板２を回動可能
に両端部を支持する同一直線上に設けた複数本の梁部材
３ａとしての梁部材３ａ_１と梁部材３ａ_２からなるねじ
り回動軸３と、梁部材３ａの梁部材３ａ_１と梁部材３ａ
_２に支持された反射手段保持基板２の側面に形成された
可動電極４と、可動電極４を梁部材３ａ_１と梁部材３ａ
_２を介して第１固定電極５ａと対向して支持する第１の
基板６と、第１の基板６の可動電極４と第１固定電極５
ａを電気的に絶縁して分離する分離スリット６ａ_１と、
第１の基板６に絶縁膜７ｃで電気的に絶縁して重ねて接
合したシリコン基板７ｂと、シリコン基板７ｂに可動電
極４と対向して形成された第２固定電極５ｂと、梁部材
３ａの梁部材３ａ_１と梁部材３ａ_２に支持された反射手
段１のミラーを保持する反射手段保持基板２の側面の可
動電極４の凹凸形状に形成された可動電極凹凸形状対向
面４ａの櫛歯形状の櫛歯形状対向面４ａ_１と、櫛歯形状
対向面４ａ_１を梁部材３ａの梁部材３ａ_１と梁部材３ａ
_２を介して形成して支持する第１の基板６と、第１の基
板６に重ねた第２の基板を接合して可動電極４の凹凸形
状に形成された櫛歯形状対向面４ａ_１と互い違いに対向
する第１固定電極５ａの第１固定電極５ａ_１、第１固定
電極５ａ_２と、第２固定電極５ｂ_１、第２固定電極５ｂ
_２に凹凸形状に形成された固定電極凹凸形状対向面５ｄ
としての櫛歯形状の櫛歯形状対向面５ｄ_１とからなり、
構造が簡単で、光走査を行なう振れ角が更に大きく、駆
動電圧が更に低く、低コストである。

【００３０】シリコン基板６は、エッチングによる加工
により、反射手段１のミラーを保持する反射手段保持基
板２の両側面に、梁部材３ａ_１と梁部材３ａ_２が形成さ
れている。第１の基板６に、図示の矢印（Ａ）方向から
位置合わせされて重ねた第２の基板７を直接接合、又
は、陽極接合した後に、重ねて接合された第１の基板６
と第２の基板の表面に、格安に絶縁状態が確保されるよ
うに形成される酸化珪素（ＳｉＯ_２）の絶縁膜７ｃ上に
形成された導電性薄膜からなる第１固定電極５ａ_１、第
１固定電極５ａ_２と、第２固定電極５ｂとしての第２固
定電極５ｂ_１、第２固定電極５ｂ_２に凹凸形状に形成さ
れた固定電極凹凸形状対向面５ｄの櫛歯形状の櫛歯形状
対向面５ｄ_１が、可動電極４の凹凸形状に形成された可
動電極凹凸形状対向面４ａの櫛歯形状の櫛歯形状対向面
４ａ_１と互い違いに対向して形成されている。櫛歯形状
対向面４ａ_１と第１固定電極５ａ_１、第１固定電極５ａ
_２と、第２固定電極５ｂ_１、櫛歯形状対向面５ｄ_１と
は、図示のように駆動電圧印加手段９に接続され、駆動
電圧印加手段９による駆動電圧の印加で、静電力で梁部
材３ａの梁部材３ａ_１と梁部材３ａ_２が回動して入射光
の反射方向を変えて光走査が行なわれるようになってい
る。この光走査装置０においては、共振状態における反
射手段１のミラーを保持する反射手段保持基板２の振れ
角（θ）は、θ＝（Ｔｑ／Ｉ）・Ｋの式で与えられる。
但し、（Ｔｑ）は反射ミラー１が形成された反射手段保
持基板２に作用する静電駆動トルク、（Ｉ）は反射ミラ
ー１が形成された反射手段保持基板２の慣性モーメン
ト、（Ｋ）は共振周波数決まる常数である。

【００３１】静電トルク（Ｔｑ）は、（Ｔｑ）∝Ｓ・
（Ｖ／ｇ）^２、の式で与えられる。但し、（Ｓ）は可動
電極４の凹凸形状に形成された櫛歯形状対向面４ａ_１と
第１固定電極５ａ_１、第１固定電極５ａ_２と、第２固定
電極５ｂ_１、櫛歯形状対向面５ｄ_１間との互い違いの対
向面積、（Ｖ）は上記駆動電圧印加手段９による印加電
圧、（ｇ）は可動電極４の凹凸形状に形成された櫛歯形
状対向面４ａ_１と第１固定電極５ａ_１、第１固定電極５
ａ_２と、第２固定電極５ｂ_１、櫛歯形状対向面５ｄ_１間
との電極間距離である。光走査装置０は、第１の基板６
に第２の基板７を接合するため、可動電極４の凹凸形状
に形成された櫛歯形状対向面４ａ_１と互い違いに対向す
る第１固定電極５ａ_１、第１固定電極５ａ_２と、第２固
定電極５ｂ_１、櫛歯形状対向面５ｄ_１との対向面積
（Ｓ）を、更に、大きくすることが出来るから、（Ｔ
ｑ）∝Ｓ・（Ｖ／ｇ）^２、の式において対向面積（Ｓ）
は、更に、大きく、可動電極４の凹凸形状に形成された
上記可動電極凹凸形状対向面４ａの櫛歯形状の上記櫛歯
形状対向面４ａ_１と第１固定電極５ａ_１、第１固定電極
５ａ_２と、第２固定電極５ｂ_１、第２固定電極５ｂ_２に
凹凸形状に形成された上記固定電極凹凸形状対向面５ｄ
の櫛歯形状の上記櫛歯形状対向面５ｄ_１間の電極間隙
（ｇ）が更に小さくなり、静電トルク（Ｔｑ）は、更
に、大きく出来る。尚、光走査装置０００についても同
様であり、その説明が重複するので以下の説明を省略す
るが、静電トルク（Ｔｑ）は、更に、大きく出来る。従
って、構造が簡単で、光走査を行なう振れ角が更に大き
く、駆動電圧が更に低く、低コストである光走査装置０
と光走査装置０００を提供することが出来るようになっ
た。

【００３２】図２４及び図２５は本発明の他の実施形態
に係る光走査装置の正面縦断面図、及び分解斜視図であ
り、同図において、静電力でねじり回動軸を回動して入
射光の反射方向を変えて光走査を行なう光走査装置００
は、入射光を正反射する反射ミラー１と、反射ミラー１
を保持する反射手段保持基板２と、反射手段保持基板２
を回動可能に両端部を支持する同一直線上に設けた複数
本の梁部材３ａ_１と梁部材３ａ_２からなるねじり回動軸
３と、梁部材３ａ_１と梁部材３ａ_２に支持された反射手
段保持基板２の側面に形成された可動電極４と、可動電
極４を梁部材３ａ_１と梁部材３ａ_２を介して第１固定電
極５ａと対向して支持する第１の基板６と、第１の基板
６の可動電極４と第１固定電極５ａを電気的に絶縁して
分離する分離部６ａ_１と、第１の基板６の上側に電気的
に絶縁して重ねて接合したシリコン基板７ｂと、第１の
基板６の下側に電気的に絶縁して重ねて接合した第３の
基板８のシリコン基板８ｂと、シリコン基板７ｂに可動
電極４と対向して形成された第２固定電極５ｂと、第３
の基板８のシリコン基板８ｂに可動電極４と対向して形
成された第３固定電極５ｃと、梁部材３ａの梁部材３ａ
_１と梁部材３ａ_２に支持された反射ミラー１を保持する
反射手段保持基板２の側面の可動電極４の凹凸形状に形
成された可動電極凹凸形状対向面４ａの櫛歯形状の櫛歯
形状対向面４ａ_１と、可動電極４の凹凸形状に形成され
た可動電極凹凸形状対向面４ａの櫛歯形状の櫛歯形状対
向面４ａ_１を梁部材３ａの梁部材３ａ_１と梁部材３ａ_１
を介して形成して支持する第１の基板６と、第１の基板
６に重ねた第２の基板と上記第３の基板８を接合して可
動電極４の凹凸形状に形成された上記可動電極凹凸形状
対向面４ａの櫛歯形状の上記櫛歯形状対向面４ａ_１と互
い違いに対向する第１固定電極５ａの第１固定電極５ａ
_１、第１固定電極５ａ_２と、第２固定電極５ｂ_１、第２
固定電極５ｂ_２と、第３固定電極５ｃの第３固定電極５
ｃ_１、第３固定電極５ｃ_２に凹凸形状に形成された固定
電極凹凸形状対向面５ｄの櫛歯形状の櫛歯形状対向面５
ｄ_１とからなり、構造が簡単で、光走査を行なう振れ角
が更に大きく、駆動電圧が更に低く、低コストである。

【００３３】シリコン基板６は、エッチングによる加工
により、反射ミラー１を保持する反射手段保持基板２の
両側面に、梁部材３ａ_１と梁部材３ａ_２が形成されてい
る。第１の基板６に、図示の矢印（Ａ）方向から位置合
わせされて重ねた第２の基板と図示の矢印（Ｂ）方向か
ら位置合わせされて重ねた第３の基板８を直接接合、又
は、陽極接合した後に、重ねて接合された第１の基板
６、第２の基板と第３の基板８の表面に、形成された導
電性薄膜からなる第１固定電極５ａ_１、第１固定電極５
ａ_２と、第２固定電極５ｂ_１、第２固定電極５ｂ_２と、
第３固定電極５ｃ _１、第３固定電極５ｃ_２に凹凸形状に
形成された固定電極凹凸形状対向面５ｄの櫛歯形状の上
記櫛歯形状対向面５ｄ_１が、可動電極４の凹凸形状に形
成された可動電極凹凸形状対向面４ａの櫛歯形状の上記
櫛歯形状対向面４ａ_１と互い違いに対向して形成されて
いる。櫛歯形状対向面４ａ_１と第１固定電極５ａ_１、第
１固定電極５ａ_２と、第２固定電極５ｂ_１、第２固定電
極５ｂ_２と、第３固定電極５ｃ_１、櫛歯形状対向面５ｄ
_１とは、図示のように駆動電圧印加手段９に接続され、
駆動電圧印加手段９による駆動電圧の印加で、静電力で
梁部材３ａの梁部材３ａ_１と梁部材３ａ_１が回動して入
射光の反射方向を変えて光走査が行なわれるようになっ
ている。光走査装置００においては、共振状態における
反射ミラー１を保持する反射手段保持基板２の振れ角
（θ）は、（θ）＝（Ｔｑ／Ｉ）・Ｋの式で与えられ
る。但し、（Ｔｑ）は反射ミラー１が形成された反射手
段保持基板２に作用する静電駆動トルク、（Ｉ）は反射
ミラー１が形成された反射手段保持基板２の慣性モーメ
ント、（Ｋ）は共振周波数決まる常数である。

【００３４】静電トルク（Ｔｑ）は、（Ｔｑ）∝Ｓ・
（Ｖ／ｇ）^２、の式で与えられる。但し、（Ｓ）は櫛歯
形状対向面４ａ_１と第１固定電極５ａ_１、第１固定電極
５ａ_２と、第２固定電極５ｂ_１、第２固定電極５ｂ
_２と、第３固定電極５ｃ_１、櫛歯形状対向面５ｄ_１間と
の互い違いの対向面積、（Ｖ）は駆動電圧印加手段９に
よる印加電圧、（ｇ）は櫛歯形状対向面４ａ_１と第１固
定電極５ａ_１、第１固定電極５ａ_２と、第２固定電極５
ｂ_１、第２固定電極５ｂ_２と、第３固定電極５ｃ _１、櫛
歯形状対向面５ｄ_１間との電極間距離である。光走査装
置００は、第１の基板６に第２の基板と第３の基板８を
接合するため、可動電極４の凹凸形状に形成された櫛歯
形状対向面４ａ_１と互い違いに対向する第１固定電極５
ａ_１、第１固定電極５ａ_２と、第２固定電極５ｂ_１、第
２固定電極５ｂ_２と、第３固定電極５ｃ_１、櫛歯形状対
向面５ｄ_１との対向面積（Ｓ）を、更に、大きくするこ
とが出来るから、（Ｔｑ）∝Ｓ・（Ｖ／ｇ）^２、の式に
おいて対向面積（Ｓ）は、更に、大きく、櫛歯形状対向
面４ａ_１と第１固定電極５ａ_１、第１固定電極５ａ
_２と、第２固定電極５ｂ_１、第２固定電極５ｂ_２と、第
３固定電極５ｃ_１、櫛歯形状対向面５ｄ_１間の電極間隙
（ｇ）が更に小さくなり、より静電トルク（Ｔｑ）は、
更に、大きく出来る。尚、光走査装置００００について
も同様であり、その説明が重複するので以下の説明を省
略するが、より静電トルク（Ｔｑ）は、更に、大きく出
来る。従って、構造が簡単で、光走査を行なう振れ角が
更に大きく、駆動電圧が更に低く、低コストである光走
査装置００と光走査装置００００を提供することが出来
るようになった。図２６において、光走査装置０（０
０、０００、００００）における、可動電極４は、共振
周波数調整用の櫛歯形状の共振周波数調整切片４ｂが形
成されている。

【００３５】図３０に図示するように、複数個の光走査
装置０等を用いる場合、同一の駆動周波数で駆動する。
駆動周波数は、光走査装置０等の共振周波数（ｆ０）が
用いられる。光走査装置０等の共振周波数（ｆ０）は、
（ｆ０）＝１／２π（√（Ｋθ／Ｉ））で与えられる。
但し、（Ｋθ）は梁部材３ａの梁部材３ａ_１と梁部材３
ａ_２のバネ常数、（Ｉ）は反射ミラー１が形成された反
射手段保持基板２の完成モーメントである。共振周波数
（ｆ０）からずれた周波数で駆動した場合、振れ角
（θ）は非常に小さい値となる。よって、複数個の共振
周波数（ｆ０）を同じ値になるように調節する必要があ
る。その場合は、可動電極４に形成された上記共振周波
数調整切片４ｂを割断することによって、簡単な構成と
方法で共振周波数（ｆ０）を調節して、振れ角（θ）が
小さくなることを防止できる。従って、構造が簡単で、
振れ角（θ）が小さくなることを防止して、光走査を行
なう振れ角が更に大きく、駆動電圧が更に低く、更に低
コストである光走査装置０を提供することが出来るよう
になった。図２７において、シリコン基板６の表面に位
置合わせされて重ねた第２の基板の上記ガラス板７ｄ、
又は、再度、裏面に位置合わせされて重ねた図示しない
第３の基板８のガラス板８ｄの陽極接合は、陽極接合装
置２０により、バキュームポンプ２５により内部を負圧
に保ちながら、観測窓２１から内部観察が行なわれ、重
り２２で接合加重が５０（ｇｆ/ｃｍ^２）に制御され、
電源２３で接合電圧を５００（Ｖ）×２５（分）にコン
トロールされ、ヒーター２４は接合温度を温度制御装置
２４ａにより５００℃にコントロールされて製造される
から、接合強度が大きく、歩留まりも向上することが出
来る。従って、接合強度が大きく、歩留まりも向上した
光走査装置０００又は光走査装置００００の製造方法を
提供することが出来るようになった。図２８において、
光走査装置０（００、０００、００００）における、可
動電極４に形成される共振周波数調整用の櫛歯形状の共
振周波数調整切片４ｂを、レーザ光（Ｌ）で割断するこ
とによって、共振周波数（ｆ０）を調整して製造するか
ら、非接触により割断するため、他の装置にダメージを
与えることなく、共振周波数（ｆ０）を調節できる。

【００３６】図３０に図示するように、複数個の光走査
装置０等を用いる場合、同一の駆動周波数で駆動するこ
とが要請される。駆動周波数は、光走査装置０等の共振
周波数（ｆ０）が用いられる。光走査装置０等の共振周
波数（ｆ０）は、（ｆ０）＝１／２π（√（Ｋθ／
Ｉ））で与えられる。但し、（Ｋθ）は梁部材３ａの梁
部材３ａ_１と梁部材３ａ_２のバネ常数、（Ｉ）は反射ミ
ラー１が形成された反射手段保持基板２の完成モーメン
トである。共振周波数（ｆ０）からずれた周波数で駆動
した場合、振れ角（θ）は非常に小さい値となる。よっ
て、複数個の共振周波数（ｆ０）を同じ値になるように
調節する必要がある。そのために、共振周波数調整器３
０により、可動電極４に形成された上記共振周波数調整
切片４ｂに、レーザ発信器３１からのレーザ光（Ｌ）が
反射ミラー２２に反射されて、照射されて、上記共振周
波数調整切片４ｂが所定量を割断されて、複数個の共振
周波数（ｆ０）が同じ値になるように調節されるから、
簡単な構成と方法で共振周波数（ｆ０）を調節して、振
れ角（θ）が小さくなることを防止できる。従って、上
記共振周波数調整切片４ｂを、非接触により割断して、
他の装置にダメージを与えることなく、振れ角（θ）が
小さくなることを防止する共振周波数（ｆ０）を調節し
て製造する光走査装置の製造方法を提供することが出来
るようになった。

【００３７】図２９と図３０において、電子写真プロセ
スで光書き込みを行なって画像を形成する画像形成装置
１００は、図示の矢印（Ｃ）方向に回動可能に保持され
て形成画像を担持する画像担持体１０１のドラム形状の
感光体と、帯電手段１０５で均一に帯電された上記画像
担持体１０１のドラム形状の感光体上を光走査装置０
（００、０００、００００）等からなる潜像形成手段１
０２で光書き込みを行なって潜像を形成し、上記潜像形
成手段１０２の光走査装置０等によって形成された潜像
を現像手段１０３で顕像化してトナー画像を形成し、上
記現像手段１０３で形成されたトナー画像を転写手段１
０４で被転写体（Ｐ）の転写用紙に転写して、被転写体
（Ｐ）の転写用紙に転写されたトナー画像を定着手段１
０６で定着した後に、被転写体（Ｐ）の転写用紙を排紙
トレイ１０７に排紙して収納される。他方、トナー画像
を上記転写手段１０４で被転写体（Ｐ）の転写用紙に転
写した後の上記画像担持体１０１のドラム形状の感光体
は、クリーニング手段１０８でクリーニングされて次工
程の画像形成に備えるようになっている。光走査装置０
からなる潜像形成手段１０２は、複数個の光走査装置０
等を主走査方向に配置されていて、書き込み幅に対し
て、複数個の光走査装置０等により書き込みが行なわれ
る（図３０を参照）。光源１０２ａは、半導体レーザで
あり、図示しない画像信号生成装置による画像信号に基
づき発光する。光源１０２ａからの入射光束（Ｒ）を、
第１のレンズシステム１０２ｂを介して光走査装置０等
に照射し、光走査装置０等は画像情報に応じて、反射ミ
ラー１を通じて入射光束（Ｒ）を第２のレンズシステム
１０２ｃを通じて上記画像担持体１０１のドラム形状の
感光体上の表面に結像させるようになっている。従っ
て、構造が簡単で、光走査を行なう振れ角が大きく、駆
動電圧が低く、信頼性が向上して、強度も強く、歩留ま
りも高く、低コストである光走査装置０を具備する部品
数が少なく小型で製造コストも低く高精度で高速化にも
対応出来る電子写真プロセスで光書き込みを行なって画
像を形成する上記画像形成装置１００を提供することが
出来るようになった。

【００３８】図３１において、光走査を行なって読み取
りを行なう読取装置２００のバーコードリーダやスキャ
ナーは、光走査装置０（００、０００、００００）等が
光走査を行って、読み取りを行なう入射光束（Ｒ）の反
射方向を変えて被読み取り面（Ｏ）を照射して、光走査
装置０等の光走査による被読み取り面（Ｏ）の光情報を
受光素子２０１で受光して読み取りが行なわれるように
なている。光走査装置０等は、光源２０２からの入射ビ
ーム（Ｒ）が光走査装置０等に照射され、光走査装置０
等の反射ミラー１により反射し、投影レンズ２０３、及
び、絞り２０４を介して被読み取り面（Ｏ）に投影す
る。従って、構造が簡単で、光走査を行なう振れ角が大
きく、駆動電圧が低く、歩留まりも高く、低コストであ
る光走査装置０を具備する、部品数が少なく小型で製造
コストも低く高精度で高速化にも対応出来る上記読取装
置２００を提供することが出来るようになった。

【００３９】

【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので、請求項１の発明によれば、構造が簡単で、
光走査を行なう振れ角が大きく、駆動電圧が低く、低コ
ストである光走査装置を提供することが出来るようにな
った。請求項２の発明によれば、複数本の梁部材を同一
直線上に設けられて、構造が簡単で、光走査を行なう振
れ角が更に大きく、駆動電圧が更に低く、低コストであ
る上記光走査装置を提供することが出来るようになっ
た。請求項３の発明によれば、第１の基板が電気的に絶
縁する分離スリットからなり、構造が更に簡単で、光走
査を行なう振れ角が大きく、駆動電圧が低く、更に低コ
ストである光走査装置を提供することが出来るようにな
った。請求項４の発明によれば、第２の基板が電気的に
絶縁して分離され、構造が簡単で、光走査を行なう振れ
角が更に大きく、駆動電圧が更に低く、低コストである
光走査装置を提供することが出来るようになった。請求
項５の発明によれば、第２の基板が電気的に絶縁する分
離部を備え、構造が更に簡単で、光走査を行なう振れ角
が更に大きく、駆動電圧が更に低く、更に低コストであ
る光走査装置を提供することが出来るようになった。請
求項６の発明によれば、第３の基板により、構造が簡単
で、光走査を行なう振れ角が更に大きく、駆動電圧が更
に低く、低コストである光走査装置を提供することが出
来るようになった。請求項７の発明によれば、第３の基
板が電気的に絶縁して分離され、構造が簡単で、光走査
を行なう振れ角が更に大きく、駆動電圧が更に低く、低
コストである光走査装置を提供することが出来るように
なった。

【００４０】請求項８の発明によれば、第３の基板が電
気的に絶縁する分離部を備え、構造が更に簡単で、光走
査を行なう振れ角が更に大きく、駆動電圧が更に低く、
更に低コストである光走査装置を提供することが出来る
ようになった。請求項９の発明によれば、第１の基板と
第２の基板が絶縁膜を介して重ねて接合されて、構造が
更に簡単で、光走査を行なう振れ角が更に大きく、駆動
電圧が更に低く、更に低コストである光走査装置を提供
することが出来るようになった。請求項１０の発明によ
れば、第１の基板と第２の基板が直接接合されて、信頼
性が向上すると共にウエフアー単位で接合することが出
来るので接合コストが低下して、構造が簡単で、光走査
を行なう振れ角が更に大きく、駆動電圧が更に低く、更
に低コストである光走査装置を提供することが出来るよ
うになった。請求項１１の発明によれば、第１の基板と
第３の基板が絶縁膜を介して重ねて接合されて、構造が
更に簡単で、光走査を行なう振れ角が更に大きく、駆動
電圧が更に低く、更に低コストである光走査装置を提供
することが出来るようになった。請求項１２の発明によ
れば、第１の基板と第３の基板が直接接合されて、信頼
性が向上すると共にウエフアー単位で接合することが出
来るので接合コストが低下して、構造が簡単で、光走査
を行なう振れ角が更に大きく、駆動電圧が更に低く、更
に低コストである光走査装置を提供することが出来るよ
うになった。請求項１３の発明によれば、第１の基板と
第２の基板が陽極接合されて、構造が簡単で、光走査を
行なう振れ角が更に大きく、駆動電圧が更に低く、接合
強度が大きく、歩留まりも向上して、更に低コストであ
る光走査装置を提供することが出来るようになった。

【００４１】請求項１４の発明によれば、第１の基板と
第３の基板が陽極接合されて、構造が簡単で、光走査を
行なう振れ角が更に大きく、駆動電圧が更に低く、接合
強度が大きく、歩留まりも向上して、更に低コストであ
る光走査装置を提供することが出来るようになった。請
求項１５の発明によれば、可動電極が可動電極凹凸形状
対向面となり、構造が簡単で、光走査を行なう振れ角が
更に大きく、駆動電圧が更に低く、更に低コストである
光走査装置を提供することが出来るようになった。請求
項１６の発明によれば、可動電極が可動電極凹凸形状対
向面の櫛歯形状対向面となり、構造が簡単で、光走査を
行なう振れ角が更に大きく、駆動電圧が更に低く、更に
低コストである光走査装置を提供することが出来るよう
になった。請求項１７の発明によれば、固定電極が固定
電極凹凸形状対向面となり、構造が簡単で、光走査を行
なう振れ角が更に大きく、駆動電圧が更に低く、更に低
コストである光走査装置を提供することが出来るように
なった。請求項１８の発明によれば、固定電極が固定電
極凹凸形状対向面の櫛歯形状対向面となり、構造が簡単
で、光走査を行なう振れ角が更に大きく、駆動電圧が更
に低く、更に低コストである光走査装置を提供すること
が出来るようになった。請求項１９の発明によれば、可
動電極は共振周波数調整切片からなり、構造が簡単で、
振れ角が小さくなることを防止して、光走査を行なう振
れ角が更に大きく、駆動電圧が更に低く、更に低コスト
である光走査装置を提供することが出来るようになっ
た。

【００４２】請求項２０の発明によれば、信頼性が向上
すると共に接合コストが低下して低コストとなる、構造
が簡単で光走査を行なう振れ角が大きく駆動電圧が低く
低コストである光走査装置の製造方法を提供することが
出来るようになった。請求項２１の発明によれば、接合
強度が大きく歩留まりも向上する、構造が簡単で光走査
を行なう振れ角が大きく駆動電圧が低く低コストである
光走査装置の製造方法を提供することが出来るようにな
った。請求項２２の発明によれば、非接触により他の装
置にダメージを与えることなく振れ角が小さくなること
を防止する共振周波数を調節する、構造が簡単で光走査
を行なう振れ角が大きく駆動電圧が低く低コストである
光走査装置の製造方法を提供することが出来るようにな
った。請求項２３の発明によれば、構造が簡単で光走査
を行なう振れ角が大きく駆動電圧が低く信頼性が向上し
て強度も強く歩留まりも高く低コストである上記光走査
装置を具備する、部品数が少なく小型で製造コストも低
く高精度で高速化にも対応出来る電子写真プロセスで光
書き込みを行なって画像を形成する画像形成装置を提供
することが出来るようになった。請求項２４の発明によ
れば、構造が簡単で光走査を行なう振れ角が大きく駆動
電圧が低く信頼性が向上して強度も強く歩留まりも高く
低コストである上記光走査装置を具備する、部品数が少
なく小型で製造コストも低く高精度で高速化にも対応出
来る読取装置を提供することが出来るようになった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態例を示す光走査装置を説明
する説明図である。

【図２】本発明の実施の形態例を示す光走査装置の主要
部を説明する展開図である。

【図３】本発明の実施の形態例を示す光走査装置の他の
主要部を説明する説明図である。

【図４】本発明の実施の形態例を示す光走査装置の他の
主要部を説明する反射手段の振れ角、第１固定電極の駆
動パルスと第２固定電極の駆動パルス（シリコン基板）
の特性を説明するグラフ図である。

【図５】本発明の実施の形態例を示す光走査装置の他の
主要部を説明する静電駆動トルク（電極間トルク）と反
射手段の振れ角の特性を説明するグラフ図である。

【図６】本発明の実施の形態例を示す光走査装置の他の
主要部の動作を説明する説明図である。

【図７】本発明の他の実施の形態例を示す光走査装置を
説明する説明図である。

【図８】本発明の他の実施の形態例を示す光走査装置の
主要部を説明する展開図である。

【図９】本発明の他の実施の形態例を示す光走査装置の
他の主要部を説明する説明図である。

【図１０】本発明の他の実施の形態例を示す光走査装置
の他の主要部を説明する反射手段の振れ角、第１固定電
極の駆動パルス、第２固定電極の駆動パルス（シリコン
基板）と第３固定電極の駆動パルス（シリコン基板）の
特性を説明するグラフ図である。

【図１１】本発明の他の実施の形態例を示す光走査装置
の他の主要部の動作を説明する説明図である。

【図１２】本発明の他の実施の形態例を示す光走査装置
を説明する説明図である。

【図１３】本発明の他の実施の形態例を示す光走査装置
の主要部を説明する展開図である。

【図１４】本発明の他の実施の形態例を示す光走査装置
の他の主要部を説明する説明図である。

【図１５】本発明の他の実施の形態例を示す光走査装置
の他の主要部を説明する反射手段の振れ角、第１固定電
極の駆動パルス、第２固定電極の駆動パルス（ガラス基
板）の特性を説明するグラフ図である。

【図１６】本発明の他の実施の形態例を示す光走査装置
の他の主要部の動作を説明する説明図である。

【図１７】本発明の他の実施の形態例を示す光走査装置
を説明する説明図である。

【図１８】本発明の他の実施の形態例を示す光走査装置
の主要部を説明する展開図である。

【図１９】本発明の他の実施の形態例を示す光走査装置
の他の主要部を説明する説明図である。

【図２０】本発明の他の実施の形態例を示す光走査装置
の他の主要部を説明する反射手段の振れ角、第１固定電
極の駆動パルス、第２固定電極の駆動パルス（ガラス基
板）と第３固定電極の駆動パルス（ガラス基板）の特性
を説明するグラフ図である。

【図２１】本発明の他の実施の形態例を示す光走査装置
の他の主要部の動作を説明する説明図である。

【図２２】本発明の他の実施の形態例を示す光走査装置
を説明する説明図である。

【図２３】本発明の他の実施の形態例を示す光走査装置
を説明する展開図である。

【図２４】本発明の他の実施の形態例を示す光走査装置
を説明する説明図である。

【図２５】本発明の他の実施の形態例を示す光走査装置
を説明する展開図である。

【図２６】本発明の他の実施の形態例を示す光走査装置
の主要部を説明する斜視図である。

【図２７】本発明の実施の形態例を示す光走査装置の製
造方法を説明する説明図である。

【図２８】本発明の他の実施の形態例を示す光走査装置
の製造方法を説明する説明図である。

【図２９】本発明の実施の形態例を示す光走査装置を具
備する画像形成装置を説明する説明図である。

【図３０】本発明の実施の形態例を示す光走査装置を具
備する画像形成装置の主要部を説明する説明図である。

【図３１】本発明の実施の形態例を示す光走査装置を具
備する読取装置を説明する説明図である。

【図３２】従来の光走査装置を説明する説明図である。

【図３３】従来の光走査装置を説明する斜視図である。

【図３４】従来の光走査装置の反射ミラーの振れ角と固
定電極の駆動パルスの特性を説明するグラフ図である。

【符号の説明】

０ 光走査装置、００、光走査装置、 ０００、光走査装置、 ００００、光走査装置 １ 反射手段 ２ 反射手段保持基板 ３ ねじり回動軸、３ａ 梁部材、３ａ_１ 梁部材、 ３ａ_２ 梁部材 ４ 可動電極、４ａ 可動電極凹凸形状対向面、４ａ_１
櫛歯形状対向面、 ４ｂ 共振周波数調整切片 ５ 固定電極、５ａ 第１固定電極、５ａ_１ 第１固定
電極、 ５ａ_２ 第１固定電極、 ５ｂ 第２固定電極、５ｂ_１ 第２固定電極、 ５ｂ_２ 第２固定電極、 ５ｃ 第３固定電極、５ｃ_１ 第３固定電極、 ５ｃ_２ 第３固定電極。 ５ｄ 固定電極凹凸形状対向面、５ｄ_１ 櫛歯形状対向
面 ６ 第１の基板、６ａ 第１電気的絶縁分離手段、６ａ
_１ 分離スリット ７ 第２の基板、７ａ 第２電気的絶縁分離手段、７ａ
_１ 分離部、 ７ｂ シリコン基板、 ７ｃ 絶縁膜、 ７ｄ ガラス基板 ８ 第３の基板、８ａ 第３電気的絶縁分離手段、８ａ
_１ 分離部、 ８ｂ シリコン基板、 ８ｃ 絶縁膜、 ８ｄ ガラス基板 ９ 駆動電圧印加手段 ２０ 陽極接合装置 ２１ 観測窓 ２２ 重り ２３ 電源 ２４ ヒータ、２４ａ 温度制御装置 ２５ バキュームポンプ ３０ 共振周波数調整器 ３１ レーザ発信器 １００ 画像形成装置 １０１ 画像担持体 １０２ 潜像形成手段、１０２ａ 光源、 １０２ｂ 第１のレンズシステム、 １０２ｃ 第２のレンズシステム １０３ 現像手段 １０４ 転写手段 １０５ 帯電手段 １０６ 定着手段 １０７ 排紙トレイ １０８ クリーニング手段 ２００ 読取装置 ２０１ 受光素子 ２０２ 光源 ２０３ 投影レンズ ２０４ 絞り ３００ 光走査装置 ３０１ 反射ミラー ３０２ ミラー基板 ３０３ ねじり回動軸、３０３ａ 梁部材、 ３０３ｂ 梁部材 ３０４ 可動電極 ３０５ 基板 ３０６ 固定電極

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０４Ｎ 1/036 Ｂ４１Ｊ 3/00 Ｄ 1/19 Ｈ０４Ｎ 1/04 １０２ Ｆターム(参考） 2C362 BA17 2H045 AB02 AB06 AB10 AB26 AB38 AB73 5C051 AA01 AA02 BA02 CA06 DB01 DB02 DB22 DB24 DB30 DC04 DC07 5C072 AA01 AA03 BA01 BA02 BA03 BA04 CA02 DA02 DA04 DA18 DA21 EA04 HA01 HA14 WA05

Claims (24)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 静電力でねじり回動軸を回動して入射光
   の反射方向を変えて光走査を行なう光走査装置におい
   て、入射光を正反射する反射手段と、上記反射手段を保
   持する反射手段保持基板と、上記反射手段保持基板を回
   動可能に両端部を支持する梁部材からなるねじり回動軸
   と、上記ねじり回動軸に支持された上記反射手段保持基
   板の側面に形成された可動電極と、上記可動電極を上記
   ねじり回動軸を介して固定電極の第１固定電極と対向し
   て支持する第１の基板と、上記第１の基板の上記可動電
   極と上記第１固定電極を電気的に絶縁して分離する第１
   電気的絶縁分離手段と、上記第１の基板に電気的に絶縁
   して重ねて接合した第２の基板と、上記第２の基板に上
   記可動電極と対向して形成された第２固定電極からなる
   ことを特徴とする光走査装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の光走査装置において、
   ねじり回動軸は、反射手段保持基板を回動可能に両端部
   を支持する同一直線上に設けた複数本の梁部材からなる
   ことを特徴とする光走査装置。
3. 【請求項３】 請求項１又は２に記載の光走査装置にお
   いて、第１電気的絶縁分離手段は、第１の基板の可動電
   極と第１固定電極とを、分離して電気的に絶縁する分離
   スリットからなることを特徴とする光走査装置。
4. 【請求項４】 請求項１、２又は３に記載の光走査装置
   において、第２の基板に形成された第２固定電極は、第
   ２電気的絶縁分離手段により電気的に絶縁して分離した
   複数個からなることを特徴とする光走査装置。
5. 【請求項５】 請求項４に記載の光走査装置において、
   第２電気的絶縁分離手段は、第２の基板に形成された第
   ２固定電極を、電気的に絶縁する分離部からなることを
   特徴とする光走査装置。
6. 【請求項６】 請求項１、２、３、４又５に記載の光走
   査装置において、第１の基板に対して、電気的に絶縁し
   て重ねて接合した第３の基板を備え、上記第３の基板は
   可動電極と対向して形成された第３固定電極を備えるこ
   とを特徴とする光走査装置。
7. 【請求項７】 請求項６に記載の光走査装置において、
   第３の基板に形成された第３固定電極は、第３電気的絶
   縁分離手段により電気的に絶縁して分離された複数個か
   らなることを特徴とする光走査装置。
8. 【請求項８】 請求項７に記載の光走査装置において、
   第３電気的絶縁分離手段は、第３の基板に形成された第
   ３固定電極を、電気的に絶縁する分離部からなることを
   特徴とする光走査装置。
9. 【請求項９】 請求項１、２、３、４、５、６、７又は
   ８に記載の光走査装置において、第１の基板は、第２の
   基板のシリコン基板と絶縁膜を介して重ねて接合されて
   いることを特徴とする光走査装置。
10. 【請求項１０】 請求項１、２、３、４、５、６、７、
    ８又は９に記載の光走査装置において、第１の基板は、
    第２の基板のシリコン基板と直接接合により重ねて接合
    されていることを特徴とする光走査装置。
11. 【請求項１１】 請求項６、７、８、９又は１０に記載
    の光走査装置において、第１の基板は、第３の基板のシ
    リコン基板と絶縁膜を介して重ねて接合されていること
    を特徴とする光走査装置。
12. 【請求項１２】 請求項６、７、８、９、１０又は１１
    に記載の光走査装置において、第１の基板は、第３の基
    板のシリコン基板と直接接合により重ねて接合されてい
    ることを特徴とする光走査装置。
13. 【請求項１３】 請求項１、２、３、４、５、６、７又
    は８に記載の光走査装置において、第１の基板は、第２
    の基板のガラス基板と陽極接合により接合されているこ
    とを特徴とする光走査装置。
14. 【請求項１４】 請求項１、２、３、４、５、６、７、
    ８又は１３に記載の光走査装置において、第１の基板
    は、第３の基板のガラス基板と陽極接合により接合され
    ていることを特徴とする光走査装置。
15. 【請求項１５】 請求項１乃至１４の何れか一項に記載
    の光走査装置において、可動電極は、固定電極に対向す
    る対向面が凹凸形状の可動電極凹凸形状対向面からなる
    ことを特徴とする光走査装置。
16. 【請求項１６】 請求項１５に記載の光走査装置におい
    て、可動電極凹凸形状対向面は、櫛歯形状の櫛歯形状対
    向面からなることを特徴とする光走査装置。
17. 【請求項１７】 請求項１乃至１６の何れか一項に記載
    の光走査装置において、固定電極は、可動電極に対向す
    る対向面が凹凸形状の固定電極凹凸形状対向面からなる
    ことを特徴とする光走査装置。
18. 【請求項１８】 請求項１７に記載の光走査装置におい
    て、固定電極凹凸形状対向面は、櫛歯形状の櫛歯形状対
    向面からなることを特徴とする光走査装置。
19. 【請求項１９】 請求項１乃至１８の何れか一項に記載
    の光走査装置において、可動電極は、共振周波数調整用
    の櫛歯形状の共振周波数調整切片からなることを特徴と
    する光走査装置。
20. 【請求項２０】 静電力でねじり回動軸を回動して入射
    光の反射方向を変えて光走査を行なう請求項１、２、
    ３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１
    ５、１６、１７、１８又は１９に記載の光走査装置の製
    造方法において、第１の基板に、第２の基板のシリコン
    基板又は第３の基板のシリコン基板を真空中で重ね、大
    気に解放後に加熱する直接接合で製造することを特徴と
    する光走査装置の製造方法。
21. 【請求項２１】 静電力でねじり回動軸を回動して入射
    光の反射方向を変えて光走査を行なう請求項１、２、
    ３、４、５、６、７、８、１３、１４、１５、１６、１
    ７、１８、１９又は２０に記載の光走査装置の製造方法
    において、第１の基板と、第２の基板のガラス基板又は
    第３の基板のガラス基板を真空中で、接合荷重を加え、
    接合電圧を印加し、接合温度に加熱する陽極接合で製造
    することを特徴とする光走査装置の製造方法。
22. 【請求項２２】 静電力でねじり回動軸を回動して入射
    光の反射方向を変えて光走査を行なう請求項１９に記載
    の光走査装置の製造方法において、共振周波数調整切片
    を、レーザ光で割断することによって、共振周波数を調
    整して製造することを特徴とする光走査装置の製造方
    法。
23. 【請求項２３】 電子写真プロセスで光書き込みを行な
    って画像を形成する画像形成装置において、回動可能に
    保持されて形成画像を担持する画像担持体と、上記画像
    担持体上を光書き込みを行なって潜像を形成する請求項
    １乃至１９の何れか一項に記載の光走査装置からなる潜
    像形成手段と、上記潜像形成手段によって形成された潜
    像を顕像化してトナー画像を形成する現像手段と、上記
    現像手段で形成されたトナー画像を被転写体に転写する
    転写手段とからなることを特徴とする画像形成装置。
24. 【請求項２４】 光走査を行なって読み取りを行なう読
    取装置において、被読み取り面を光走査する請求項１乃
    至１９の何れか一項に記載の光走査装置と、上記光走査
    装置が被読み取り面を光走査した反射光を受光する受光
    素子とからなることを特徴とする読取装置。