JP2003238550A - フラノンの製造法およびその新規中間体 - Google Patents
フラノンの製造法およびその新規中間体Info
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 (S)または(R)の 4−ヒドロキシ−4,8−ジメチ
ル−7−ノネンニトリルを基質として、Ru触媒を用いて
水を滴下することを特徴とする加水分解により得ること
からなる(S)または(R)の5−メチル−5−(4−メチル−3
−ペンテニル)−4,5−ジヒドロ−2(3H)−フラノンの製
造法。また、(S)−(−)−または(R)−(+)−4−ヒドロキ
シ−4,8−ジメチル−7−ノネンニトリルおよびその製造
法。 【効果】本発明のフラノンの製造法は、加圧の必要もな
く、収率も良い工業的な製造法である。また、本発明に
より提供される(±)−、(S)−(−)−または(R)−(+)−4
―ヒドロキシ―4,8−ジメチル−7−ノネンニトリルは、
汎用性のある有用な合成原料となり得る。
ル−7−ノネンニトリルを基質として、Ru触媒を用いて
水を滴下することを特徴とする加水分解により得ること
からなる(S)または(R)の5−メチル−5−(4−メチル−3
−ペンテニル)−4,5−ジヒドロ−2(3H)−フラノンの製
造法。また、(S)−(−)−または(R)−(+)−4−ヒドロキ
シ−4,8−ジメチル−7−ノネンニトリルおよびその製造
法。 【効果】本発明のフラノンの製造法は、加圧の必要もな
く、収率も良い工業的な製造法である。また、本発明に
より提供される(±)−、(S)−(−)−または(R)−(+)−4
―ヒドロキシ―4,8−ジメチル−7−ノネンニトリルは、
汎用性のある有用な合成原料となり得る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はラセミ体、もしくは
光学活性(S)−(−)−または(R)−(+)−4−ヒドロキシ−
4,8−ジメチル−7−ノネンニトリル、その製造法および
それらの加水分解によりラセミ体、もしくは光学活性
(S)−(−)−または(R)−(+)−5−メチル−5−(4−メチ
ル−3−ペンテニル)−4,5−ジヒドロ−2(3H)−フラノン
を得ることからなる製造法に関する。
光学活性(S)−(−)−または(R)−(+)−4−ヒドロキシ−
4,8−ジメチル−7−ノネンニトリル、その製造法および
それらの加水分解によりラセミ体、もしくは光学活性
(S)−(−)−または(R)−(+)−5−メチル−5−(4−メチ
ル−3−ペンテニル)−4,5−ジヒドロ−2(3H)−フラノン
を得ることからなる製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】フラノン類の合成については多くの方法
が知られており、例えばヒドロキシカルボン酸の環化
や、ヒドロキシニトリルのアルカリ、または酸加水分
解、環状ケトンのBaeyer-Villiger反応などが多用され
ている(印藤元一著、「合成香料」p546-574)。一方、ニ
トリル化合物は一般にシアノ化、酸アミドの脱離などに
よって広く製造されており、主に合成反応原料や中間体
として利用されることが多い。このものは種々の手段に
よってカルボン酸、アルデヒド、アミン、アルコ−ルな
どの誘導体に導くことが可能である。ニトリルの加水分
解については、一般的には強酸性もしくは強アルカリ性
で加熱条件下に行われることが多いが、こうした方法は
ラセミ化しやすい光学活性化合物や、異性化しやすい二
重結合を含む化合物などに対しては不適である。このよ
うな問題の解決策として、ルテニウム(Ru)触媒[RuH2(PP
h3)4]と当量の水の存在下、ジメトキシエタン(DME)を溶
媒として加圧下に中性条件下で加水分解させる方法が報
告されている(Murahashi, S. et al. Chem. Commun. 19
94, 1359-1360)。しかしながら、この方法は高収率でニ
トリルの加水分解が進行するが、反応完結に10時間以上
を要することや、オ−トクレ−ブを用いる加圧反応であ
ることから、工業的製造という観点からは効率、設備、
安全性などに問題がある。
が知られており、例えばヒドロキシカルボン酸の環化
や、ヒドロキシニトリルのアルカリ、または酸加水分
解、環状ケトンのBaeyer-Villiger反応などが多用され
ている(印藤元一著、「合成香料」p546-574)。一方、ニ
トリル化合物は一般にシアノ化、酸アミドの脱離などに
よって広く製造されており、主に合成反応原料や中間体
として利用されることが多い。このものは種々の手段に
よってカルボン酸、アルデヒド、アミン、アルコ−ルな
どの誘導体に導くことが可能である。ニトリルの加水分
解については、一般的には強酸性もしくは強アルカリ性
で加熱条件下に行われることが多いが、こうした方法は
ラセミ化しやすい光学活性化合物や、異性化しやすい二
重結合を含む化合物などに対しては不適である。このよ
うな問題の解決策として、ルテニウム(Ru)触媒[RuH2(PP
h3)4]と当量の水の存在下、ジメトキシエタン(DME)を溶
媒として加圧下に中性条件下で加水分解させる方法が報
告されている(Murahashi, S. et al. Chem. Commun. 19
94, 1359-1360)。しかしながら、この方法は高収率でニ
トリルの加水分解が進行するが、反応完結に10時間以上
を要することや、オ−トクレ−ブを用いる加圧反応であ
ることから、工業的製造という観点からは効率、設備、
安全性などに問題がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】請求項1と2に記載され
ているフラノンは、リンゴ「王林」のストレ−ト果汁中
の微量香気成分として見い出されたものである。これら
は従来のフラノン類とは異なる極めてキャラクタリステ
ィックな香気を有している。中でも請求項2に記載され
ている(S)−(−)−または(R)−(+)−5−メチル−5−(4
−メチル−3−ペンテニル)−4,5−ジヒドロ−2(3H)−フ
ラノンは、それぞれ非常に優れた香調を有するが、その
合成は従来の方法では低収率であり、効率や経済性の点
からは必ずしも有利な方法とは言えないものであった
(特願2001-129380)。フラノン類の前駆体としてニトリ
ル化合物は有用であり、とくに光学活性なヒドロキシニ
トリルは汎用性の高い合成原料、または中間体として利
用できる。
ているフラノンは、リンゴ「王林」のストレ−ト果汁中
の微量香気成分として見い出されたものである。これら
は従来のフラノン類とは異なる極めてキャラクタリステ
ィックな香気を有している。中でも請求項2に記載され
ている(S)−(−)−または(R)−(+)−5−メチル−5−(4
−メチル−3−ペンテニル)−4,5−ジヒドロ−2(3H)−フ
ラノンは、それぞれ非常に優れた香調を有するが、その
合成は従来の方法では低収率であり、効率や経済性の点
からは必ずしも有利な方法とは言えないものであった
(特願2001-129380)。フラノン類の前駆体としてニトリ
ル化合物は有用であり、とくに光学活性なヒドロキシニ
トリルは汎用性の高い合成原料、または中間体として利
用できる。
【０００４】ニトリルの加水分解については、より中性
に近いコンディションでのマイルド、かつ効率的な方法
の確立が待ち望まれている。
に近いコンディションでのマイルド、かつ効率的な方法
の確立が待ち望まれている。
【０００５】本発明者らは修飾容易な官能基を複数有す
る、有機合成上汎用性の高いニトリル化合物の創製につ
いて鋭意検討を重ねてきた。その結果、請求項3および4
に記載されているニトリル化合物が新規化合物であるこ
とを見い出し、安価な原料系、かつ高収率で工業化にも
充分に堪え得る製造法を確立した。
る、有機合成上汎用性の高いニトリル化合物の創製につ
いて鋭意検討を重ねてきた。その結果、請求項3および4
に記載されているニトリル化合物が新規化合物であるこ
とを見い出し、安価な原料系、かつ高収率で工業化にも
充分に堪え得る製造法を確立した。
【０００６】また、これらのニトリル化合物を加水分解
することにより、請求項1および2に記載されているフラ
ノンを効率的に製造できることを見い出した。即ち、前
記のRu触媒RuH2(PPh3)4を用いてジグライム等を反応溶
媒とし、水を滴下することにより、反応時間は10時間以
内に短縮され、加圧の必要もまったくない効率的な反応
条件を確立した。以上の知見、技術の発見により本発明
を完成するに至った。
することにより、請求項1および2に記載されているフラ
ノンを効率的に製造できることを見い出した。即ち、前
記のRu触媒RuH2(PPh3)4を用いてジグライム等を反応溶
媒とし、水を滴下することにより、反応時間は10時間以
内に短縮され、加圧の必要もまったくない効率的な反応
条件を確立した。以上の知見、技術の発見により本発明
を完成するに至った。
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は以下のと
おりである。
おりである。
【０００７】項1 式1
【化６】
で表されるラセミ体の5−メチル−5−(4−メチル−3−
ペンテニル)−4,5−ジヒドロ−2(3H)−フラノンを、4−
ヒドロキシ−4,8−ジメチル−7−ノネンニトリルを基質
として、Ru触媒を用いて水を滴下することを特徴とする
加水分解により得ることからなる製造法。
ペンテニル)−4,5−ジヒドロ−2(3H)−フラノンを、4−
ヒドロキシ−4,8−ジメチル−7−ノネンニトリルを基質
として、Ru触媒を用いて水を滴下することを特徴とする
加水分解により得ることからなる製造法。
【０００８】項2 一般式2
【化７】
で表される(S)−(−)−または(R)−(+)−5−メチル−5
−(4−メチル−3−ペンテニル)−4,5−ジヒドロ−2(3H)
−フラノンを、 (S)−(−)−または(R)−(+)−4−ヒド
ロキシ−4,8−ジメチル−7−ノネンニトリルを基質とし
て、Ru触媒を用いて水を滴下することを特徴とする加水
分解により得ることからなる製造法。
−(4−メチル−3−ペンテニル)−4,5−ジヒドロ−2(3H)
−フラノンを、 (S)−(−)−または(R)−(+)−4−ヒド
ロキシ−4,8−ジメチル−7−ノネンニトリルを基質とし
て、Ru触媒を用いて水を滴下することを特徴とする加水
分解により得ることからなる製造法。
【０００９】項3 式3
【化８】
で表されるラセミ体の4−ヒドロキシ−4,8−ジメチル−
7−ノネンニトリル。
7−ノネンニトリル。
【００１０】項4 一般式4
【化９】
で表される光学活性(S)−(−)−または(R)−(+)−4−ヒ
ドロキシ−4,8−ジメチル−7−ノネンニトリル。
ドロキシ−4,8−ジメチル−7−ノネンニトリル。
【００１１】項5 一般式5
【化１０】
で表される化合物(式中、Rは水素原子、またはトリアル
キルシリル、テトラハイドロピラニル、アセチルなどの
水酸基の保護基を表し、Xはp−トルエンスルホニロキシ
またはメタンスルホニロキシ、トリフルオロメタンスル
ホニロキシ、ハロゲンなどの脱離基を表す)のラセミ
体、もしくは光学活性体における脱離基−Xをニトリル
に変換することにより、請求項3もしくは4に記載されて
いるラセミ体、もしくは光学活性(S)−(−)−または(R)
−(+)−4−ヒドロキシ−4,8−ジメチル−7−ノネンニト
リルを得ることからなる製造法。
キルシリル、テトラハイドロピラニル、アセチルなどの
水酸基の保護基を表し、Xはp−トルエンスルホニロキシ
またはメタンスルホニロキシ、トリフルオロメタンスル
ホニロキシ、ハロゲンなどの脱離基を表す)のラセミ
体、もしくは光学活性体における脱離基−Xをニトリル
に変換することにより、請求項3もしくは4に記載されて
いるラセミ体、もしくは光学活性(S)−(−)−または(R)
−(+)−4−ヒドロキシ−4,8−ジメチル−7−ノネンニト
リルを得ることからなる製造法。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明におけるラセミ体の4−ヒ
ドロキシ−4,8−ジメチル−7−ノネンニトリル[(±)−
3]
ドロキシ−4,8−ジメチル−7−ノネンニトリル[(±)−
3]
【００１３】光学活性な(S)−(−)−4−ヒドロキシ−4,
8−ジメチル−7−ノネンニトリル[(S)−(−)−4]
8−ジメチル−7−ノネンニトリル[(S)−(−)−4]
【００１４】光学活性な(R)−(+)−4−ヒドロキシ−4,8
−ジメチル−7−ノネンニトリル[(R)−(+)−4]は、下記
のごとく製造することができる。
−ジメチル−7−ノネンニトリル[(R)−(+)−4]は、下記
のごとく製造することができる。
【００１５】
【化１１】
【００１６】一般式5で表される化合物は、例えば北浦
らによる方法により(S)−(+)−3−ヒドロキシ−3,7−ジ
メチル−6−オクテニル トシレ−トや、(R)−(−)−3−
トリメチルシロキシ−3,7−ジメチル−6−オクテニル
クロライドなどを得ることができる(特願2001-12938
0)。
らによる方法により(S)−(+)−3−ヒドロキシ−3,7−ジ
メチル−6−オクテニル トシレ−トや、(R)−(−)−3−
トリメチルシロキシ−3,7−ジメチル−6−オクテニル
クロライドなどを得ることができる(特願2001-12938
0)。
【００１７】一般式5で表されるラセミ体、または光学
活性な基質を、上記の工程(A)においてシアノ化剤と反
応させることにより一般式6で表されるニトリルを得
る。シアノ化剤として、例えばシアン化ナトリウム、シ
アン化カリウム、シアン化銅などが挙げられ、その使用
量は一般式5で表される基質1モルに対し、一般に約1〜1
00モルの範囲を挙げることができるが、好ましくは約1
〜10モルの範囲で使用できる。反応溶媒としては、例え
ばジメチルホルムアミド(DMFともいう)などのアミド
類、ハロゲン化溶媒類、エ−テル類、炭化水素類、ケト
ン類、アルコ−ル類、ジメチルスルホキシド(DMSOとも
いう)などを挙げることができる。反応条件としては、
一般に約20℃〜160℃の温度範囲内で、約2〜10時間の条
件が挙げられる。
活性な基質を、上記の工程(A)においてシアノ化剤と反
応させることにより一般式6で表されるニトリルを得
る。シアノ化剤として、例えばシアン化ナトリウム、シ
アン化カリウム、シアン化銅などが挙げられ、その使用
量は一般式5で表される基質1モルに対し、一般に約1〜1
00モルの範囲を挙げることができるが、好ましくは約1
〜10モルの範囲で使用できる。反応溶媒としては、例え
ばジメチルホルムアミド(DMFともいう)などのアミド
類、ハロゲン化溶媒類、エ−テル類、炭化水素類、ケト
ン類、アルコ−ル類、ジメチルスルホキシド(DMSOとも
いう)などを挙げることができる。反応条件としては、
一般に約20℃〜160℃の温度範囲内で、約2〜10時間の条
件が挙げられる。
【００１８】上記の工程(A)において、一般式5で表され
る基質の水酸基は保護されている必要はなく、保護され
ていなくてもシアノ化による影響はまったくないが、保
護されている場合には上記の工程(B)において脱保護が
必要となる。即ち、例えばRがトリアルキルシリル基、
またはテトラハイドロピラニル基の場合には、酸によっ
て脱保護できる。また、例えばRがアセチルなどのアシ
ル基の場合には、アルカリによって脱保護できる。
る基質の水酸基は保護されている必要はなく、保護され
ていなくてもシアノ化による影響はまったくないが、保
護されている場合には上記の工程(B)において脱保護が
必要となる。即ち、例えばRがトリアルキルシリル基、
またはテトラハイドロピラニル基の場合には、酸によっ
て脱保護できる。また、例えばRがアセチルなどのアシ
ル基の場合には、アルカリによって脱保護できる。
【００１９】ラセミ体の5−メチル−5−(4−メチル−3
−ペンテニル)−4,5−ジヒドロ−2(3H)−フラノン[(±)
−1]
−ペンテニル)−4,5−ジヒドロ−2(3H)−フラノン[(±)
−1]
【００２０】光学活性な(S)−(−)−5−メチル−5−(4
−メチル−3−ペンテニル)−4,5−ジヒドロ−2(3H)−フ
ラノン[(S)−(−)−2]
−メチル−3−ペンテニル)−4,5−ジヒドロ−2(3H)−フ
ラノン[(S)−(−)−2]
【００２１】および光学活性な(R)−(+)−5−メチル−5
−(4−メチル−3−ペンテニル)−4,5−ジヒドロ−2(3H)
−フラノン[(R)−(+)−2]は、下記のごとく製造するこ
とができる。
−(4−メチル−3−ペンテニル)−4,5−ジヒドロ−2(3H)
−フラノン[(R)−(+)−2]は、下記のごとく製造するこ
とができる。
【化１２】
【００２２】即ち、一般式3または4で表されるラセミ
体、または光学活性なニトリルを、Ru触媒[RuH2(PP
h3)4]の存在下、ジグライムを溶媒として水を滴下する
ことにより、ニトリル部位を加水分解して一般式1また
は2で表されるラセミ体、または光学活性なフラノンを
得る。
体、または光学活性なニトリルを、Ru触媒[RuH2(PP
h3)4]の存在下、ジグライムを溶媒として水を滴下する
ことにより、ニトリル部位を加水分解して一般式1また
は2で表されるラセミ体、または光学活性なフラノンを
得る。
【００２３】上記の工程(C)において、加水分解に用い
るRu触媒としてはRuH2(PPh3)4が好ましく、その使用量
は式3または4で表されるニトリル1モルに対し、一般に
約0.001〜5モルの範囲を挙げることができるが、好まし
くは約0.01〜1モルの範囲で使用できる。反応溶媒とし
てはジグライム(ジエチレングリコ−ルジメチルエ−テ
ル)がもっとも好ましいが、これ以外には、例えばジメ
チルホルムアミド(DMFともいう)などのアミド類、ハロ
ゲン化溶媒類、エ−テル類、炭化水素類、ケトン類、ジ
メチルスルホキシド(DMSOともいう)などを挙げることが
できる。ただし、溶媒の沸点は約100℃以上である必要
があり、好ましくは約120℃〜180℃の温度範囲を挙げる
ことができる。反応条件としては、一般に約80℃〜200
℃の温度範囲が挙げられるが、好ましくは約100℃〜170
℃の温度範囲を挙げることができ、約5〜10時間の条件
が挙げられる。
るRu触媒としてはRuH2(PPh3)4が好ましく、その使用量
は式3または4で表されるニトリル1モルに対し、一般に
約0.001〜5モルの範囲を挙げることができるが、好まし
くは約0.01〜1モルの範囲で使用できる。反応溶媒とし
てはジグライム(ジエチレングリコ−ルジメチルエ−テ
ル)がもっとも好ましいが、これ以外には、例えばジメ
チルホルムアミド(DMFともいう)などのアミド類、ハロ
ゲン化溶媒類、エ−テル類、炭化水素類、ケトン類、ジ
メチルスルホキシド(DMSOともいう)などを挙げることが
できる。ただし、溶媒の沸点は約100℃以上である必要
があり、好ましくは約120℃〜180℃の温度範囲を挙げる
ことができる。反応条件としては、一般に約80℃〜200
℃の温度範囲が挙げられるが、好ましくは約100℃〜170
℃の温度範囲を挙げることができ、約5〜10時間の条件
が挙げられる。
【００２４】各工程で用いる不活性ガスとしては、アル
ゴン、ヘリウム、窒素などが挙げられる。
ゴン、ヘリウム、窒素などが挙げられる。
【００２５】各工程における分離・精製法としては、例
えば常圧または減圧蒸留、順相または逆相カラムクロマ
トグラフィ、順相または逆相高速液体クロマトグラフィ
(HPLCともいう)、無極性または極性カラムを装着したガ
スクロマトグラフィ(GCともいう)などが挙げられる。
えば常圧または減圧蒸留、順相または逆相カラムクロマ
トグラフィ、順相または逆相高速液体クロマトグラフィ
(HPLCともいう)、無極性または極性カラムを装着したガ
スクロマトグラフィ(GCともいう)などが挙げられる。
【００２６】光学純度(%ee、鏡像異性体過剰率ともい
う)の決定法としては、例えば旋光度からの計算、光学
活性カラムを装着したHPLCもしくはGCなどが挙げられ
る。
う)の決定法としては、例えば旋光度からの計算、光学
活性カラムを装着したHPLCもしくはGCなどが挙げられ
る。
【００２７】以下、実施例により本発明を詳細に説明す
るが、これによって限定されるものではない。
るが、これによって限定されるものではない。
【００２８】尚、実施例においては比旋光度値も併せて
記載した。
記載した。
【００２９】
【実施例】実施例1：(S)−(−)−4−ヒドロキシ―4,8−
ジメチル−7−ノネンニトリル[(S)−(−)−4]の合成 アルゴン雰囲気下、(S)−(+)−3−ヒドロキシ−3,7−ジ
メチル−6−オクテニルトシレ−ト(186.0g, 0.55mol)、
シアン化ナトリウム(32.0g, 0.61mol)およびDMF (800m
L)の混合物を95℃で3時間撹拌した。反応混合物を放冷
後、氷水に注ぎMTBE (methyl t-butyl ether) (0.50L)
で2回抽出した。合わせた有機層を飽和食塩水で2回洗浄
した。これを無水硫酸ナトリウム上で乾燥した後、減圧
下に溶媒を留去して粗生成物を99.9g得た。これを減圧
蒸留に付し、沸点125〜130℃ / 2mmHgでGC純度99.0%の
(S)−(−)−4を90.7g得た(収率80.0%)。以下に(S)−
(−)−4の比旋光度、IRおよび1H NMR各種スペクトルデ
−タを示す。
ジメチル−7−ノネンニトリル[(S)−(−)−4]の合成 アルゴン雰囲気下、(S)−(+)−3−ヒドロキシ−3,7−ジ
メチル−6−オクテニルトシレ−ト(186.0g, 0.55mol)、
シアン化ナトリウム(32.0g, 0.61mol)およびDMF (800m
L)の混合物を95℃で3時間撹拌した。反応混合物を放冷
後、氷水に注ぎMTBE (methyl t-butyl ether) (0.50L)
で2回抽出した。合わせた有機層を飽和食塩水で2回洗浄
した。これを無水硫酸ナトリウム上で乾燥した後、減圧
下に溶媒を留去して粗生成物を99.9g得た。これを減圧
蒸留に付し、沸点125〜130℃ / 2mmHgでGC純度99.0%の
(S)−(−)−4を90.7g得た(収率80.0%)。以下に(S)−
(−)−4の比旋光度、IRおよび1H NMR各種スペクトルデ
−タを示す。
【００３０】(S)−(−)−4のスペクトルデ−タ
比旋光度：[α]21 D = −3.2°(CHCl3, c = 3.0)
IR (film, cm-1)： 3440, 2960, 2930, 2250, 1380, 11
201 H NMR (300MHz, CDCl3, δ ppm)： 1.21 (3H, s), 1.4
9〜1.54 (2H, m), 1.63(3H, s), 1.69 (3H, s), 1.79〜
1.87 (2H, m), 2.01〜2.09 (2H, m), 2.43〜2.48 (2H,
m), 5.08〜5.13 (1H, m)
201 H NMR (300MHz, CDCl3, δ ppm)： 1.21 (3H, s), 1.4
9〜1.54 (2H, m), 1.63(3H, s), 1.69 (3H, s), 1.79〜
1.87 (2H, m), 2.01〜2.09 (2H, m), 2.43〜2.48 (2H,
m), 5.08〜5.13 (1H, m)
【００３１】実施例2：(S)−(−)−5−メチル−5−(4−
メチル−3−ペンテニル)−4,5−ジヒドロ−2(3H)−フラ
ノン[(S)−(−)−2]の合成 アルゴン雰囲気下、式(S)−(−)−4で表されるニトリル
(55.0g, 0.30mol)とRuH2(PPh3)4 (7.0g, 0.006mol)のdi
glyme (110mL)溶液を、脱気後アルゴン置換し、135℃に
加熱した。撹拌しながら水(8.1g, 0.45mol)を7時間を要
して滴下した。反応混合物を氷冷した希塩酸に注ぎ、MT
BE (0.20L)で2回抽出した。合わせた有機層を水、飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順で洗浄し
た。これを無水硫酸ナトリウム上で乾燥した後、減圧下
に溶媒を留去して粗生成物を82.6g得た。これを減圧蒸
留に付し、沸点112〜122℃ / 2mmHgでGC純度99.0%の(S)
−(−)−2を55.3g得た(収率90.0%)。キラルGC分析よ
り、鏡像異性体過剰率は89.0%eeであった。以下に比旋
光度、IRおよび1H NMR各種スペクトルデ−タを示す。
メチル−3−ペンテニル)−4,5−ジヒドロ−2(3H)−フラ
ノン[(S)−(−)−2]の合成 アルゴン雰囲気下、式(S)−(−)−4で表されるニトリル
(55.0g, 0.30mol)とRuH2(PPh3)4 (7.0g, 0.006mol)のdi
glyme (110mL)溶液を、脱気後アルゴン置換し、135℃に
加熱した。撹拌しながら水(8.1g, 0.45mol)を7時間を要
して滴下した。反応混合物を氷冷した希塩酸に注ぎ、MT
BE (0.20L)で2回抽出した。合わせた有機層を水、飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順で洗浄し
た。これを無水硫酸ナトリウム上で乾燥した後、減圧下
に溶媒を留去して粗生成物を82.6g得た。これを減圧蒸
留に付し、沸点112〜122℃ / 2mmHgでGC純度99.0%の(S)
−(−)−2を55.3g得た(収率90.0%)。キラルGC分析よ
り、鏡像異性体過剰率は89.0%eeであった。以下に比旋
光度、IRおよび1H NMR各種スペクトルデ−タを示す。
【００３２】(S)−(−)−2のスペクトルデ−タ
比旋光度：[α]19 D = −6.2°(CHCl3, c = 3.0)
IR (film, cm-1)：2960, 2930, 2860, 1770, 1460, 138
0, 1170, 1080, 9401 H NMR (300MHz, CDCl3, δ ppm)：1.39 (3H, s), 1.61
(3H, s), 1.68 (3H and2H, s and m), 1.95〜2.16 (4
H, m), 2.57〜2.64 (2H, m), 5.08 (1H, m)
0, 1170, 1080, 9401 H NMR (300MHz, CDCl3, δ ppm)：1.39 (3H, s), 1.61
(3H, s), 1.68 (3H and2H, s and m), 1.95〜2.16 (4
H, m), 2.57〜2.64 (2H, m), 5.08 (1H, m)
【００３３】本発明化合物のラセミ体の4―ヒドロキシ
―4,8−ジメチル−7−ノネンニトリル、5−メチル−5−
(4−メチル−3−ペンテニル)−4,5−ジヒドロ−2(3H)−
フラノン、光学活性な(R)−(+)−4―ヒドロキシ―4,8−
ジメチル−7−ノネンニトリル、および(R)−(+)−5−メ
チル−5−(4−メチル−3−ペンテニル)−4,5−ジヒドロ
−2(3H)−フラノンについても前記の実施例1および2と
同様の方法で合成した。それぞれの中間体と目的化合物
における収率、純度、物理恒数およびスペクトルデ−タ
は実施例で示した(S)-(-)-体のそれらとよく一致した。
以下に光学活性なニトリル(R)−(+)−4、および光学活
性なフラノン(R)−(+)−2の比旋光度を示す。
―4,8−ジメチル−7−ノネンニトリル、5−メチル−5−
(4−メチル−3−ペンテニル)−4,5−ジヒドロ−2(3H)−
フラノン、光学活性な(R)−(+)−4―ヒドロキシ―4,8−
ジメチル−7−ノネンニトリル、および(R)−(+)−5−メ
チル−5−(4−メチル−3−ペンテニル)−4,5−ジヒドロ
−2(3H)−フラノンについても前記の実施例1および2と
同様の方法で合成した。それぞれの中間体と目的化合物
における収率、純度、物理恒数およびスペクトルデ−タ
は実施例で示した(S)-(-)-体のそれらとよく一致した。
以下に光学活性なニトリル(R)−(+)−4、および光学活
性なフラノン(R)−(+)−2の比旋光度を示す。
【００３４】参考例1：比旋光度
(R)−(+)−4 ： [α]19 D = +3.2°(CHCl3, c = 3.0)
(R)−(+)−2 ： [α]18 D = +6.0°(CHCl3, c = 3.0), 88.0%ee,
【００３５】
【発明の効果】本発明により提供される(±)−、(S)−
(−)−または(R)−(+)−4―ヒドロキシ―4,8−ジメチル
−7−ノネンニトリルは、汎用性のある有用な合成原料
となり得る。また、本発明の製造法によれば、(±)−、
(S)−(−)−または(R)−(+)−4―ヒドロキシ―4,8−ジ
メチル−7−ノネンニトリルを安価な原料系、かつ高収
率で工業化にも充分に堪え得る方法で得ることができ
る。さらに、本発明の(±)−、(S)−(−)−または(R)−
(+)−4―ヒドロキシ―4,8−ジメチル−7−ノネンニトリ
ルを、本発明の製造法によって加水分解することによ
り、加圧の必要のない工業的な製造法として効率的に
(±)−、(S)−(−)−または(R)−(+)−5−メチル−5−
(4−メチル−3−ペンテニル)−4,5−ジヒドロ−2(3H)−
フラノンを得ることができる。
(−)−または(R)−(+)−4―ヒドロキシ―4,8−ジメチル
−7−ノネンニトリルは、汎用性のある有用な合成原料
となり得る。また、本発明の製造法によれば、(±)−、
(S)−(−)−または(R)−(+)−4―ヒドロキシ―4,8−ジ
メチル−7−ノネンニトリルを安価な原料系、かつ高収
率で工業化にも充分に堪え得る方法で得ることができ
る。さらに、本発明の(±)−、(S)−(−)−または(R)−
(+)−4―ヒドロキシ―4,8−ジメチル−7−ノネンニトリ
ルを、本発明の製造法によって加水分解することによ
り、加圧の必要のない工業的な製造法として効率的に
(±)−、(S)−(−)−または(R)−(+)−5−メチル−5−
(4−メチル−3−ペンテニル)−4,5−ジヒドロ−2(3H)−
フラノンを得ることができる。
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フロントページの続き
(72)発明者 野上 潤造
岡山県岡山市北方２丁目１番19号−407
Ｆターム(参考） 4C037 EA06
4H006 AA01 AA02 AC54 BA23 BA48
BB20 QN16
4H039 CA70 CD90
Claims (5)
- 【請求項１】式1 【化１】 で表されるラセミ体の5−メチル−5−(4−メチル−3−
ペンテニル)−4,5−ジヒドロ−2(3H)−フラノンを、4−
ヒドロキシ−4,8−ジメチル−7−ノネンニトリルを基質
として、Ru触媒を用いて水を滴下することを特徴とする
加水分解により得ることからなる製造法。 - 【請求項２】一般式2 【化２】 で表される(S)−(−)−または(R)−(+)−5−メチル−5
−(4−メチル−3−ペンテニル)−4,5−ジヒドロ−2(3H)
−フラノンを、(S)−(−)−または(R)−(+)−4−ヒドロ
キシ−4,8−ジメチル−7−ノネンニトリルを基質とし
て、Ru触媒を用いて水を滴下することを特徴とする加水
分解により得ることからなる製造法。 - 【請求項３】式3 【化３】 で表されるラセミ体の4−ヒドロキシ−4,8−ジメチル−
7−ノネンニトリル。 - 【請求項４】一般式4 【化４】 で表される光学活性(S)−(−)−または(R)−(+)−4−ヒ
ドロキシ−4,8−ジメチル−7−ノネンニトリル。 - 【請求項５】一般式5 【化５】 で表される化合物(式中、Rは水素原子、またはトリアル
キルシリル、テトラハイドロピラニル、アセチルなどの
水酸基の保護基を表し、Xはp−トルエンスルホニロキシ
またはメタンスルホニロキシ、トリフルオロメタンスル
ホニロキシ、ハロゲンなどの脱離基を表す)のラセミ
体、もしくは光学活性体における脱離基−Xをニトリル
に変換することにより、請求項3もしくは4に記載されて
いるラセミ体、もしくは光学活性(S)−(−)−または(R)
−(+)−4−ヒドロキシ−4,8−ジメチル−7−ノネンニト
リルを得ることからなる製造法。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2002042460A JP4251530B2 (ja) | 2002-02-20 | 2002-02-20 | フラノンの製造法およびその新規中間体 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2002042460A JP4251530B2 (ja) | 2002-02-20 | 2002-02-20 | フラノンの製造法およびその新規中間体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003238550A true JP2003238550A (ja) | 2003-08-27 |
| JP4251530B2 JP4251530B2 (ja) | 2009-04-08 |
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| JP2002042460A Expired - Lifetime JP4251530B2 (ja) | 2002-02-20 | 2002-02-20 | フラノンの製造法およびその新規中間体 |
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-
2002
- 2002-02-20 JP JP2002042460A patent/JP4251530B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
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