JP2003234557A - 電子部品埋込み実装用基板の製造方法 - Google Patents

電子部品埋込み実装用基板の製造方法

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JP2003234557A
JP2003234557A JP2002034177A JP2002034177A JP2003234557A JP 2003234557 A JP2003234557 A JP 2003234557A JP 2002034177 A JP2002034177 A JP 2002034177A JP 2002034177 A JP2002034177 A JP 2002034177A JP 2003234557 A JP2003234557 A JP 2003234557A
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thermoplastic resin
resin film
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Masanori Akita
雅典 秋田
Yoshinori Sawaki
吉記 佐脇
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 熱可塑性樹脂フィルムと補強フィルムとを積
層すると共に前記熱可塑性樹脂フィルムに部品埋込み用
凹部を形成してなる電子部品埋込み実装用基板の製造に
際し、前記部品埋込み用凹部の加熱成形時に過大な基板
反りが発生するのを防止すること。 【解決手段】 ダミーフィルムと部品埋込み用凹部を形
成する為の熱可塑性樹脂フィルムとを積層仮一体化した
状態で前記部品埋込み用凹部を加熱成形し、次いで、前
記ダミーフィルムと前記熱可塑性樹脂フィルムとを分離
すると共に分離された前記熱可塑性樹脂フィルムと補強
フィルムとを積層かつ接着剤で固着一体化する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子部品埋込み実
装用基板の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】昨今、携帯情報機器等にあっては、その
小型軽量化及び低価格化の要求が大きい。その為、小型
・薄型で軽量、かつ製造工程が簡略化できて量産に適し
た半導体パッケージや実装基板が数多く提案されている
が、その代表例として、ICチップ或るいはセラミック
チップコンデンサやチップ抵抗体等のチップ部品(以
下、これらを単に電子部品という。)の電極上にバンプ
を形成し、フリップチップ接合によって配線基板に直
接、電子部品を搭載した半導体パッケージや実装基板が
挙げられる。
【0003】ところが、そのようなフリップチップ接合
式実装では、小型・薄型化及び軽量化に限界がある為
に、基板に設けた部品埋込み用凹部に、電極を露出させ
るように電子部品を埋め込んで固着し、次いで、かかる
電極と導通せしめるように導体配線を基板表面上に形成
する所謂、部品埋込み式実装が提案されている。例え
ば、特公平3−70272号公報や特開平5−2210
04号公報並びに米国特許第5783856号明細書等
において提案されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記基板は、
樹脂フィルム単体で構成されている為に、軽量で柔軟性
に富むが、その一方において耐熱性及び寸法安定性が劣
っている。特に、熱膨張率が大きいことに加えて熱収縮
が発生するので、寸法変化が顕著であると共に、吸湿に
よって膨張するといった環境条件によっても寸法変化が
顕著である。
【0005】その為、部品埋込み用凹部を高精度に形成
するのが難しく、その形状及び位置的又は寸法的精度が
不十分になり易かった。加えて、たとえ、それを高精度
に形成し得ても、電子部品の埋め込み実装時に変形して
しまう為に、一定精度に埋め込むのが難しいと共に、埋
め込み後の導体配線の形成時においても変形する為に電
子部品の電極に対して位置的に高精度に接続された導体
配線の形成が難しくて導通不良が発生し易いといった諸
々の欠点を有し、従って、実装基板の量産に適さず汎用
性が不十分であった。
【0006】そこで、上述の欠点を解消し得る方法とし
て、先願(特願2000−338159)において、熱
可塑性樹脂フィルムと補強フィルムの金属箔とを積層一
体化し、次いで、かかる熱可塑性樹脂フィルムに部品埋
込み用凹部を加熱成形する方法を提案した。
【0007】しかし、この方法は、熱可塑性樹脂フィル
ムと補強フィルムの金属箔とを積層一体化している為
に、部品埋込み用凹部の加熱成形後において、両フィル
ムの熱膨張率差に起因して反りが発生し易く、この点の
更なる改良が必要であった。
【0008】本発明は、このような欠点に鑑みて発明さ
れたものであって、その目的は、熱可塑性樹脂フィルム
に部品埋込み用凹部を加熱成形しても、基板に過大な反
りが発生するのを防止することができるようにすること
である。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する為
に、本発明においては、熱可塑性樹脂フィルムとダミー
フィルムとを積層し仮一体化した後、前記熱可塑性樹脂
フィルムに部品埋込み用凹部を加熱成形し、次いで、積
層仮一体化されている前記熱可塑性樹脂フィルムと前記
ダミーフィルムとを分離した後、分離した前記熱可塑性
樹脂フィルムと補強フィルムとを積層かつ接着剤で固着
して一体化している。
【0010】このように、補強フィルムとは別にダミー
フィルムを用い、このダミーフィルムと部品埋込み用凹
部を成形する為の熱可塑性樹脂フィルムとを積層し仮一
体化した状態で部品埋込み用凹部を加熱成形し、そし
て、その後において、ダミーフィルムと樹脂フィルムと
を分離すると共に分離された熱可塑性樹脂フィルムに補
強フィルムを積層かつ接着剤で固着し一体化しているの
で、過大な反りの発生をほぼ完全に防止することができ
て一定品質の電子部品埋込み実装用基板を製造すること
ができる。
【0011】
【発明の実施の形態】本発明においては、熱可塑性樹脂
フィルムに部品埋込み用凹部を加熱成形するが、それに
先立って熱可塑性樹脂フィルムとダミーフィルムとを積
層し仮一体化する。両フィルムの仮一体化は、両フィル
ムを分離可能な状態に一体化することであって、両フィ
ルムが分離し易い材質関係にある場合、すなわち例えば
熱可塑性樹脂フィルムと、金属箔で構成されたダミーフ
ィルムとの関係等のような場合には、それを加熱圧着に
よって行うのが好ましい。しかし、これに限定されず、
必要に応じて他の方法、例えば、後工程で除去が可能な
接着剤を使用して両フィルムを固着し仮一体化してもよ
い。なお、部品埋込み用凹部を加熱成形するようにして
いるのは、他の成形方法に比して迅速に成形することが
できて連続成形を可能にするからである。
【0012】上記熱可塑性樹脂フィルムは、非結晶質の
ものが成形条件の幅が広くて好ましいが、結晶質のもの
であってもよく、それらの例として、ポリサルフォンフ
ィルム、ポリフェニレンサルファイドフィルム、ポリエ
ステルフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリ
エーテルイミドフィルム、ポリオレフィンフィルム、液
晶ポリマーフィルム等が挙げられる。
【0013】一方、ダミーフィルムは、上述からして金
属箔で構成するのが好ましい。これの例として、Al箔
や銅箔等が挙げられる。しかし、必要に応じて他のも
の、例えば、耐熱性樹脂フィルム等であってもよい。こ
のダミーフィルムは、部品埋込み用凹部を加熱成形する
熱可塑性樹脂フィルムを搬送する為の手段として機能す
ることは勿論のこと、部品埋込み用凹部の加熱成形に耐
え得るように熱可塑性樹脂フィルムを補強する為の手段
として機能する。従って、それに適したものを適宜、選
択することができる。
【0014】熱可塑性樹脂フィルムとダミーフィルムと
の積層仮一体化は、加熱圧着、非加熱圧着のいずれの方
法であってもよい。一般には、接着剤等の異物を使用し
ないで積層することができる前者が選択される。加熱圧
着によって迅速、かつ連続積層が可能になるからであ
る。また、その際、熱可塑性樹脂フィルム及びダミーフ
ィルムは予備加熱した上で、それらを加熱圧着するのが
より好ましい。 本発明においては、熱可塑性樹脂フィ
ルムとダミーフィルムとの積層仮一体化に引き続いて、
かかる積層体の熱可塑性樹脂フィルムに部品埋込み用凹
部を加熱形成する。加熱成形を選択しているのは、他の
成形方法に比較して成形性に優れている為である。な
お、加熱成形に際し、熱可塑性樹脂フィルムとダミーフ
ィルムとの加熱圧着温度よりも低い温度で行うのが好ま
しく、そのような温度で成形することにより高精度に成
形することができる。
【0015】以下、部品埋込み用凹部が形成された熱可
塑性樹脂フィルムを、後工程においてダミーフィルムと
分離し、かつ、その分離した熱可塑性樹脂フィルムと補
強フィルムとを積層かつ接着剤で固着して一体化する。
かかる補強フィルムは、熱可塑性樹脂フィルムを補強
し、これに形成されている部品埋込み用凹部の過度な寸
法的変化を防止する。その為、ダミーフィルムと同様に
金属箔で構成するのが好ましく、それの例として、Al
箔や銅箔等が挙げられる。しかし、必要に応じて他のも
の、例えば、耐熱性樹脂フィルム或るいは加熱収縮及び
吸湿膨張の小さい、例えば、ポリイミドフィルム、ポリ
オレフィンフィルム、液晶ポリマーフィルム等であって
もよい。
【0016】熱可塑性樹脂フィルムと補強フィルムとの
積層一体化の為に用いられる接着剤は、低温度で接着が
可能な紫外線硬化型のものや電子線硬化型のものが好ま
しい。しかし、必要に応じて他の接着剤を用いてもよ
い。接着剤を用いているのは、熱可塑性樹脂フィルムと
補強フィルムとの積層に際し、両フィルムを加熱しない
で反りの発生を有効に防止する為である。
【0017】このように、本発明においては、部品埋込
み用凹部の形成に先立っての熱可塑性樹脂フィルムとダ
ミーフィルムとの積層仮一体化を加熱圧着によって行
い、そして、部品埋込み用凹部を形成した後における熱
可塑性樹脂フィルムと補強フィルムとの積層一体化を非
加熱式の接着剤固着によって行っている。その為、過大
な反りの発生をほぼ完全に防止することができて一定品
質の電子部品埋込み実装用基板を製造することができ
る。
【0018】図1において、上述の電子部品埋込み実装
用基板の縦断面姿が示されているが、この電子部品埋込
み実装用基板1は、熱可塑性樹脂フィルム2と金属箔で
構成された補強フィルム3との積層テープ状体に設けら
れている。かかる熱可塑性樹脂フィルム2には、複数の
部品埋込み用凹部4と複数の導体配線形成用位置合わせ
指標5とが所定パターンに形成されている。
【0019】また、熱可塑性樹脂フィルム2の熱膨張率
が30ppm以下で、かつ、熱可塑性樹脂フィルム2と
金属箔で構成された補強フィルム3との熱膨張率差が1
5ppm以下に保たれている。なお、熱可塑性樹脂フィ
ルム2は、その厚さが50μm〜200μmのものが用
いられていると共に金属箔で構成された補強フィルム3
は、その厚さが18μm〜100μmのものが用いられ
ている。
【0020】その為、縦断面図である図2及びこの図の
平面図である図3において示されているように、部品埋
込み用凹部3に電子部品6を埋込み固着し、次いで、電
子部品6の電極6aと導通せしめるように導体配線7を
形成した後、図4において鎖線で示されているように、
基板単位に打つ抜くことによって電子部品埋込み型の実
装基板8を製造することができる。
【0021】このような部品埋込み式実装は、フリップ
チップボンダーを用いて電子部品を1個づつ導体配線基
板に実装する従来のフリップチップ接合式実装に比し
て、複数の電子部品を同時に実装でき、しかも、それら
の電子部品と導通せしめるようにフォトファブリケーシ
ョン法によって同時に導体配線を形成することができる
ので、極めて効率的である。
【0022】その為、これに好適な電子部品埋込み実装
用基板が必要とされているが、上述の電子部品埋込み実
装用基板1によると、熱可塑性樹脂フィルム2と補強フ
ィルム3との積層体に設けられているので、従来の電子
部品埋込み実装用基板の欠点、すなわち、部品埋込み用
凹部を高精度に形成するのが難しく、その形状及び位置
的又は寸法的精度が不十分になり易いと共に、たとえ、
それを高精度に形成し得ても、電子部品の埋め込み実装
時に変形してしまう為に一定精度に埋め込むのが難し
く、加えて、埋め込み後の導体配線の形成時においても
変形する為に電子部品の電極に対して位置的に高精度に
接続された導体配線の形成が難しくて導通不良が発生し
易いといった諸々の欠点を一挙に解消することができ
る。
【0023】図5においては、熱可塑性樹脂フィルム2
とAl箔で構成されたダミーフィルム31とを積層仮一
体化して積層テープ状体19を形成し、次いで、かかる
積層テープ状体19の熱可塑性樹脂フィルム2に部品埋
込み用凹部を加熱成形するフローが示されているが、供
給ロール10から巻き出された熱可塑性樹脂フィルム2
が、送りロール11、加熱ロール12、送りロール13
を経てラミネートロール14a,14b側へ送られると
共に供給ロール15から巻き出されたダミーフィルム3
1が、送りロール16、加熱ロール17、送りロール1
8を経てラミネートロール14a,14b側へ送られ
る。
【0024】その際、熱可塑性樹脂フィルム2が加熱ロ
ール12によって所定に予備加熱されると共にダミーフ
ィルム31が加熱ロール17によって所定に予備加熱さ
れ、そして、ラミネートロール14a,14bによって
両者が加熱圧着されて積層テープ状体19が形成され
る。このように、予備加熱された熱可塑性樹脂フィルム
2と予備加熱されたダミーフィルム31とを加熱しなが
ら圧着するようにしている為に迅速かつ良好に両者を仮
一体化することができる。
【0025】なお、ラミネートロール14a,14b
は、駆動加熱ロールで構成されていると共に、その軸支
位置が固定の下側のラミネートロール14bに対し、上
側のラミネートロール14aは、水平に保たれた姿で上
下方向へ移動し得るように装着されている為に、熱可塑
性樹脂フィルム2とダミーフィルム31とを加熱圧着す
るのに適したように、ラミネートロール14bに対して
所定レベルに移動調整することができる。供給ロール1
0,15、送りロール11,13,16,18及び加熱
ロール12,17も駆動ロールで構成されている。
【0026】引き続いて、加熱圧着されて仮一体材に形
成された積層テープ状体19が加熱室20を通過して金
型加熱ロール21側へ送られる。すると、ここで部品埋
込み用凹部4及び導体配線形成用位置合わせ指標5が同
時に成形されると共に金型加熱ロール21と第1バック
アップ加熱ロール22と第2バックアップ加熱ロール2
3とによって冷却室24側へ送られる。
【0027】金型加熱ロール21、第1バックアップ加
熱ロール22及び第2バックアップ加熱ロール23は駆
動加熱ロールで構成され、また、図6,7において示さ
れているように、金型加熱ロール21の外周面21aに
は、部品埋込み用凹部4を成形する為の複数の凸部25
と導体配線形成用位置合わせ指標5を成形する為の複数
の凸部26とが所定パターンに形成されている。
【0028】その為、部品埋込み用凹部4と同様に導体
配線形成用位置合わせ指標5も凹形状に成形することが
できる。導体配線形成用位置合わせ指標5は、図4にお
いて示されているように、積層テープ状体の幅方向の両
端それぞれに接近した位置に設けられていると共に部品
埋込み用凹部4群は、それらの位置合わせ指標5同士間
の領域に設けられる。
【0029】また、金型加熱ロール21は、ラミネート
ロール14aと同様に、その軸支位置が固定の下側の第
1バックアップ加熱ロール22及び第2バックアップ加
熱ロール23に対し、水平状態に保たれた姿で上下方向
へ移動し得るように装着されている。従って、部品埋込
み用凹部4及び導体配線形成用位置合わせ指標5を同時
成形するのに好適なように、第1バックアップ加熱ロー
ル22及び第2バックアップ加熱ロール23に対して所
定レベルに移動調整することができる。
【0030】また、第2バックアップ加熱ロール23
は、第1バックアップ加熱ロール22よりも低温度に加
熱され、しかも、金型加熱ロール21及び第1バックア
ップ加熱ロール22が、ラミネートロール14a,14
bよりも低温度(一般には、20℃〜120℃低温度)
に加熱されている。よって、部品埋込み用凹部4の加熱
成形を、樹脂フィルム2とダミーフィルム31との加熱
圧着時の温度よりも低い温度で行うことができる為に高
精度に成形することができる。
【0031】なお、第2バックアップ加熱ロール23よ
りも第1バックアップ加熱ロール22の方を高温度に加
熱しているのは、部品埋込み用凹部4及び導体配線形成
用位置合わせ指標5の成形性を高める為である。また、
第1バックアップ加熱ロール22よりも第2バックアッ
プ加熱ロール23の方を低温度に加熱しているのは、部
品埋込み用凹部4及び導体配線形成用位置合わせ指標5
を成形し得た積層体19の対ロール剥離性を高める為で
ある。
【0032】以下、部品埋込み用凹部4及び導体配線形
成用位置合わせ指標5が成形され、かつ冷却室24を通
過した冷却済み積層テープ状体19は、送りロール27
〜29を経て巻取りロール30で巻き取られる。送りロ
ール27〜29及び巻取りロール30は駆動ロールで構
成されている。なお、熱可塑性樹脂フィルム2とダミー
フィルム31は、熱可塑性樹脂フィルム2の熱膨張率が
30ppm以下で、かつ、これとダミーフィルム31と
の熱膨張率差が15ppm以下に保たれている。
【0033】部品埋込み用凹部4の成形温度は、所定の
形状精度及び位置的精度を得る為にはできる限り低温度
であるのが好ましい。一方、ダミーフィルム31に対す
る熱可塑性樹脂フィルム2の加熱圧着温度は、両者の十
分な密着性を得る為にできる限り高温度であるのが好ま
しい。そこで、先ず高温度で加熱圧着し、次いで、それ
よりも低温度で成形している。
【0034】部品埋込み用凹部4の開口形状は、一般に
は正方形(例えば、一辺が1.5mmの正方形)或るい
は長方形であるが、それらに限定されず、他の形状であ
ってもよい。また、部品埋込み用凹部4は若干の抜き勾
配に形成されている。しかし、チップ埋込みを容易に行
うことができるようにテーパー角度をより大きくして角
錐状に形成してもよい。
【0035】一方、導体配線形成用位置合わせ指標5
は、部品埋込み用凹部4に埋込まれて固着された電子部
品6の電極6aと導通した導体配線7をフォトファブリ
ケーション法によって形成する場合においてレジストイ
メージを形成する為の位置合わせ基準として用いられる
ものであって、部品埋込み用凹部4に対して一定の位置
関係に設けられる。この導体配線形成用位置合わせ指標
5も、一般には凹み指標に設けられ、その開口形状は、
正方形(例えば、一辺が0.5mmの正方形)或るいは
長方形であるが、それらに限定されず、他の形状であっ
てもよい。
【0036】上述したように、それを部品埋込み用凹部
4と同時に成形することによってフォトファブリケーシ
ョンの加工精度を一定に保つことができる。しかし、こ
れに限定されず、必要に応じて、部品埋込み用凹部4と
別個に成形してもよく、かつ、加熱成形以外の方法で成
形してもよい。
【0037】また、バックアップ加熱ロールの設置個数
は、必要に応じて所定個数が選択される。例えば、図8
において示されているように、第1,2バックアップ加
熱ロールに加えて所定個数の第3バックアップ加熱ロー
ル31を設置してもよい。また、部品埋込み用凹部4及
び導体配線形成用位置合わせ指標5の同時成形は、上述
の金型加熱ロール及びバックアップ加熱ロールを用いる
方法に限定されず、他の方法であってもよい。
【0038】例えば、上述した各種の熱可塑性樹脂フィ
ルムとAl箔で構成されたダミーフィルムとの積層テー
プ状体(但し、液晶ポリマーフィルムは銅箔と積層し
た)に、部品埋込み用凹部を形成するた為の凸部を格子
状に5mmピッチで10行×10列の計100個形成し
た厚さが0.2mmの金型と真空加熱プレスとを用いて
部品埋込み用凹部を成形した。
【0039】その際、導体配線形成用位置合わせ指標も
同時成形した。部品埋込み用凹部の開口部は、一辺が
0.5mmの正方形であると共に導体配線形成用位置合
わせ指標のそれは、一辺が0.3mmの正方形であっ
た。
【0040】本発明においては、巻取りロール30に巻
き取った積層テープ状体19を引き続いて、次工程にお
いて熱可塑性樹脂フィルム2とダミーフィルム31とに
分離するが、そのフローが図9に示されている。同図に
おいて、巻出しロール34から送出された積層テープ状
体19は、ロール型セパレター35で熱可塑性樹脂フィ
ルム2とダミーフィルム31とに分離され、そして、分
離されたダミーフィルム31は、巻取りロール36で巻
き取られると共に分離された熱可塑性樹脂フィルム2
は、グルーコター37側へ送られて最終的に巻取りロー
ル38で巻き取られる。
【0041】その際、分離された熱可塑性樹脂フィルム
2は、部品埋込み用凹部4が設けられている方の面を下
側にして搬送され、かつ上側の面(ダミーフィルム3が
剥離された方の面)にグルーコター37によって紫外線
硬化型の接着剤が塗布される。その為、巻出しロール3
9から送出の補強フィルム2を、ニップロール40によ
って熱可塑性樹脂フィルム2に対して押し付けて接着す
ることができると共に硬化装置41によって接着剤を硬
化させて固着することができる。硬化装置41は、低温
度で接着剤を硬化させ得るから、両フィルムの積層体で
ある電子部品埋込み実装用基板に過大な反りが発生する
のを防止することができる。硬化装置41を通過した電
子部品埋込み実装用基板は、送りローラ42を経て巻取
りロール38で巻き取られる。本発明において、使用可
能なAl箔(補強フィルム又はダミーフィルムとして使
用)及び熱可塑性樹脂フィルムの特性は下記の通りであ
る。
【0042】Al箔(CTPは22ppm)。ポリサル
フォンフィルム(CTEが50ppm、軟化点が190
℃)、ポリフェニレンサルファイドフィルム(CTEが
30ppm、ガラス転移点が92℃、溶融温度285
℃)、ポリエステルフィルム(CTEが17ppm、ガ
ラス転移点が69℃、溶融温度265℃)、ポリエーテ
ルサルホンフィルム(CTEが44ppm、軟化点が2
23℃)、ポリエーテルイミドフィルム(CTEが45
ppm、軟化点が216℃)、ポリオレフィンフィルム
(CTEが60ppm、軟化点が163℃)、液晶ポリ
マーフィルム(CTEが16ppm、液晶移転点が33
5℃)。
【0043】なお、図4中、32は、熱可塑性樹脂フィ
ルム2及び補強フィルム3に貫通されているテープ送り
用の孔であると共に、図9中、43は、送りローラであ
る。
【0044】
【発明の効果】上述のように、本発明によると、電子部
品埋込み実装用基板の製造方法に関し、熱可塑性樹脂フ
ィルムに部品埋込み用凹部を加熱成形しても、基板に過
大な反りが発生するのを防止することができて量産化に
好適な製造方法を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】電子部品埋込み実装用基板の縦断面図である。
【図2】電子部品埋込み型実装基板の縦断面図である。
【図3】図2の平面図である。
【図4】電子部品埋込み実装用基板の平面図である。
【図5】電子部品埋込み実装用基板の製造フローの前部
を示す図である。
【図6】金型加熱ロールの外周部の拡大図である
【図7】図6の平面図である。
【図8】金型加熱ロールに対するバックアップ加熱ロー
ルの他の設置態様を示す図である。
【図9】電子部品埋込み実装用基板の製造フローの後部
を示す図である。
【符号の説明】
1:電子部品埋込み実装用基板 2:熱可塑性樹脂フィルム 3:補強フィルム 4:部品埋込み用凹部 5:導体配線形成用位置合わせ指標 6:電子部品 7:導体配線 19:積層テープ状体 31:ダミーフィルム

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 熱可塑性樹脂フィルムとダミーフィルム
    とを積層し仮一体化した後、前記熱可塑性樹脂フィルム
    に部品埋込み用凹部を加熱成形し、次いで、積層仮一体
    化されている前記熱可塑性樹脂フィルムと前記ダミーフ
    ィルムとを分離した後、分離した前記熱可塑性樹脂フィ
    ルムと補強フィルムとを積層かつ接着剤で固着して一体
    化することを特徴とする電子部品埋込み実装用基板の製
    造方法。
  2. 【請求項2】 前記ダミーフィルム及び前記補強フィル
    ムが金属箔であることを特徴とする請求項1に記載の電
    子部品埋込み実装用基板の製造方法。
  3. 【請求項3】 前記金属箔がAl箔であることを特徴と
    する請求項2に記載の電子部品埋込み実装用基板の製造
    方法。
  4. 【請求項4】 前記接着剤が紫外線硬化型の接着剤であ
    ることを特徴とする請求項1,2又は3に記載の電子部
    品埋込み実装用基板の製造方法。
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