JP2003231254A - インクジェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置 - Google Patents

インクジェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置

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JP2003231254A
JP2003231254A JP2003062450A JP2003062450A JP2003231254A JP 2003231254 A JP2003231254 A JP 2003231254A JP 2003062450 A JP2003062450 A JP 2003062450A JP 2003062450 A JP2003062450 A JP 2003062450A JP 2003231254 A JP2003231254 A JP 2003231254A
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ink jet
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 構造を簡略化し、製造コストを低減したイク
ジェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置を
提供する提供する。 【解決手段】 インクを吐出する複数のノズル開口15
を備えたノズル形成部材16と、該ノズル形成部材16
と接合され且つ前記ノズル開口15にそれぞれ連通する
圧力発生室12が画成される流路形成基板10と、該流
路形成基板10の前記ノズル形成部材16が形成された
面とは反対の面に設けられて前記圧力発生室12内に圧
力変化を生じさせる圧電素子300とを具備するインク
ジェット式記録ヘッドにおいて、前記流路形成基板10
の前記圧電素子300が形成された側の面に、前記圧力
発生室12に連通して各圧力発生室12にインクを供給
するリザーバ100の少なくとも一部を構成するリザー
バ部21を有するリザーバ形成基板20を接合して、ヘ
ッドの構造を簡略化する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、インク滴を吐出す
るノズル開口と連通する圧力発生室の一部を振動板で構
成し、この振動板の表面に圧電素子を形成して、圧電素
子の変位によりインク滴を吐出させるインクジェット式
記録ヘッドに関する。
【0002】
【従来の技術】インク滴を吐出するノズル開口と連通す
る圧力発生室の一部を振動板で構成し、この振動板を圧
電素子により変形させて圧力発生室のインクを加圧して
ノズル開口からインク滴を吐出させるインクジェット式
記録ヘッドには、圧電素子の軸方向に伸長、収縮する縦
振動モードの圧電アクチュエータを使用したものと、た
わみ振動モードの圧電アクチュエータを使用したものの
2種類が実用化されている。
【0003】前者は圧電素子の端面を振動板に当接させ
ることにより圧力発生室の容積を変化させることができ
て、高密度印刷に適したヘッドの製作が可能である反
面、圧電素子をノズル開口の配列ピッチに一致させて櫛
歯状に切り分けるという困難な工程や、切り分けられた
圧電素子を圧力発生室に位置決めして固定する作業が必
要となり、製造工程が複雑であるという問題がある。
【0004】これに対して後者は、圧電材料のグリーン
シートを圧力発生室の形状に合わせて貼付し、これを焼
成するという比較的簡単な工程で振動板に圧電素子を作
り付けることができるものの、たわみ振動を利用する関
係上、ある程度の面積が必要となり、高密度配列が困難
であるという問題がある。
【0005】一方、後者の記録ヘッドの不都合を解消す
べく、振動板の表面全体に亙って成膜技術により均一な
圧電材料層を形成し、この圧電材料層をリソグラフィ法
により圧力発生室に対応する形状に切り分けて各圧力発
生室毎に独立するように圧電素子を形成したものが提案
されている(例えば、特許文献1参照)。
【0006】これによれば圧電素子を振動板に貼付ける
作業が不要となって、リソグラフィ法という精密で、か
つ簡便な手法で圧電素子を作り付けることができるばか
りでなく、圧電アクチュエータの厚みを薄くできて高速
駆動が可能になるという利点がある。なお、この場合、
圧電材料層は振動板の表面全体に設けたままで少なくと
も上電極のみを各圧力発生室毎に設けることにより、各
圧力発生室に対応する圧電アクチュエータを駆動するこ
とができる。
【0007】また、このようなインクジェット式記録ヘ
ッドでは、一般に、各圧力発生室の共通のインク室とな
るリザーバが複数枚の基板を積層することにより形成さ
れており、このリザーバから各圧力発生室にインクが供
給される。また、このリザーバにはリザーバの内部圧力
を一定に保つために、圧電素子の駆動時の圧力変化を吸
収するためのコンプライアンス部が設けられている。
【0008】
【特許文献1】特開平5−286131号公報(第1〜
第4図)
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、リザー
バを形成するために用いる基板の枚数が多く、特に、コ
ンプライアンス部を形成するために積層する基板の枚数
が多く、材料コスト、組立コストが高いという問題があ
る。
【0010】また、圧力発生室を画成する基板にシリコ
ンを用いる場合には、他の基板との熱膨張係数の違いか
ら高温での接着が困難であり、組立工数が増加する等の
問題もある。
【0011】本発明はこのような事情に鑑み、構造を簡
略化し、製造コストを低減したイクジェット式記録ヘッ
ド及びインクジェット式記録装置を提供することを課題
とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明の第1の態様は、インクを吐出する複数のノズル開口
を備えたノズル形成部材と、該ノズル形成部材と接合さ
れ且つ前記ノズル開口にそれぞれ連通する圧力発生室が
画成される流路形成基板と、該流路形成基板の前記ノズ
ル形成部材が接合された面とは反対の面に設けられて前
記圧力発生室内に圧力変化を生じさせる圧電素子とを具
備するインクジェット式記録ヘッドにおいて、前記流路
形成基板の前記圧電素子が形成された側の面には、前記
圧力発生室に連通して各圧力発生室にインクを供給する
リザーバの少なくとも一部を構成するリザーバ部が厚さ
方向に貫通して設けられたリザーバ形成基板と、可撓性
を有する可撓性部材を含むコンプライアンス基板とが積
層され、前記流路形成基板とリザーバ形成基板とで前記
リザーバを実質的に形成すると共に前記リザーバ部の開
口を封止するように前記可撓性部材を接合することによ
り、当該リザーバ形成基板の前記流路形成基板側とは反
対側の面上の前記リザーバ部に対向する領域に可撓部を
形成するようにしたことを特徴とするインクジェット式
記録ヘッドにある。
【0013】かかる第1の態様では、リザーバを形成す
るための基板の積層枚数を低減することができ、構造の
簡略化を図ることができる。
【0014】本発明の第2の態様は、第1の態様におい
て、前記可撓性部材が、金属又はセラミックの薄膜から
なることを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにあ
る。
【0015】かかる第2の態様では、流路形成基板上に
薄膜を形成することにより、可撓部を容易に形成するこ
とができる。
【0016】本発明の第3の態様は、第1の態様におい
て、前記可撓性部材が、樹脂材料からなることを特徴と
するインクジェット式記録ヘッドにある。
【0017】かかる第3の態様では、可撓部が樹脂部材
で構成されるため、容易に形成することができる。
【0018】本発明の第4の態様は、第1〜3の何れか
の態様において、前記可撓性部材には、少なくとも前記
可撓部に対向する領域に貫通孔を有する他の基板が接合
されていることを特徴とするインクジェット式記録ヘッ
ドにある。
【0019】かかる第4の態様では、可撓部以外の部分
の強度が向上され、ヘッドの耐久性が向上する。
【0020】本発明の第5の態様は、第1〜4の何れか
の態様において、前記流路形成基板に、前記リザーバ形
成基板の前記リザーバ部と連通して当該リザーバ部と共
に前記リザーバの一部を構成する連通部を有することを
特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。
【0021】かかる第5の態様では、リザーバがリザー
バ部及び連通部によって構成され、比較的容積の大きい
リザーバを容易に形成することができる。
【0022】本発明の第6の態様は、第1〜5の何れか
の態様において、前記リザーバと各圧力発生室とは、当
該リザーバより相対的に流路の狭いインク供給路を介し
てそれぞれ連通されていることを特徴とするインクジェ
ット式記録ヘッドにある。
【0023】かかる第6の態様では、リザーバから相対
的に流路の狭いインク供給路を介して圧力発生室にイン
クが供給されるため、インクに混入する気泡の量が抑え
られる。
【0024】本発明の第7の態様は、第1〜6の何れか
の態様において、前記リザーバ形成基板の前記リザーバ
部には、外部に連通して前記リザーバにインクを供給す
るためのインク導入口が連通されていることを特徴とす
るインクジェット式記録ヘッドにある。
【0025】かかる第7の態様では、インク導入口から
リザーバにインクが供給される。
【0026】本発明の第8の態様は、第1〜7の何れか
の態様において、前記リザーバ形成基板は、前記圧電素
子に対向する領域に、その運動を阻害しない程度の空間
を確保した状態で当該空間を密封可能な圧電素子保持部
を有することを特徴とするインクジェット式記録ヘッド
にある。
【0027】かかる第8の態様では、圧電素子保持部内
に圧電素子が密封され、外部環境に起因する圧電素子の
破壊が防止される。
【0028】本発明の第9の態様は、第8の態様におい
て、前記圧電素子保持部は、各圧電素子毎に区画壁によ
って区画され、当該区画壁は前記流路形成基板に接合さ
れていることを特徴とするインクジェット式記録ヘッド
にある。
【0029】かかる第9の態様では、圧力発生室を区画
している周壁の剛性が増加され、圧電素子を駆動する際
の周壁の倒れ込みが防止される。
【0030】本発明の第10の態様は、第1〜9の何れ
かの態様のインクジェット式記録ヘッドを具備すること
を特徴とするインクジェット式記録装置にある。
【0031】かかる第10の態様では、ヘッドの構造を
簡略化して、製造コストを低減したインクジェット式記
録装置を実現することができる。
【0032】
【発明の実施の形態】以下に本発明を実施形態に基づい
て詳細に説明する。
【0033】(実施形態1)図1は、本発明の実施形態
1に係るインクジェット式記録ヘッドを示す分解斜視図
であり、図2は、図1の平面図及び断面図である。
【0034】図示するように、流路形成基板10は、本
実施形態では面方位(110)のシリコン単結晶基板か
らなる。流路形成基板10としては、通常、150〜3
00μm程度の厚さのものが用いられ、望ましくは18
0〜280μm程度、より望ましくは220μm程度の
厚さのものが好適である。これは、隣接する圧力発生室
間の隔壁の剛性を保ちつつ、配列密度を高くできるから
である。
【0035】流路形成基板10の一方の面は開口面とな
り、他方の面には予め熱酸化により形成した二酸化シリ
コンからなる、厚さ1〜2μmの弾性膜50が形成され
ている。
【0036】一方、流路形成基板10の開口面には、シ
リコン単結晶基板を異方性エッチングすることにより、
複数の隔壁11により区画された圧力発生室12が幅方
向に並設され、その長手方向外側には、後述するリザー
バ形成基板のリザーバ部に連通して各圧力発生室12の
共通のインク室となるリザーバ100の一部を構成する
連通部13が形成され、各圧力発生室12の長手方向一
端部とそれぞれインク供給路14を介して連通されてい
る。
【0037】ここで、異方性エッチングは、シリコン単
結晶基板をKOH等のアルカリ溶液に浸漬すると、徐々
に侵食されて(110)面に垂直な第1の(111)面
と、この第1の(111)面と約70度の角度をなし且
つ上記(110)面と約35度の角度をなす第2の(1
11)面とが出現し、(110)面のエッチングレート
と比較して(111)面のエッチングレートが約1/1
80であるという性質を利用して行われるものである。
かかる異方性エッチングにより、二つの第1の(11
1)面と斜めの二つの第2の(111)面とで形成され
る平行四辺形状の深さ加工を基本として精密加工を行う
ことができ、圧力発生室12を高密度に配列することが
できる。
【0038】本実施形態では、各圧力発生室12の長辺
を第1の(111)面で、短辺を第2の(111)面で
形成している。この圧力発生室12は、流路形成基板1
0をほぼ貫通して弾性膜50に達するまでエッチングす
ることにより形成されている。ここで、弾性膜50は、
シリコン単結晶基板をエッチングするアルカリ溶液に侵
される量がきわめて小さい。また各圧力発生室12の一
端に連通する各インク供給路14は、圧力発生室12よ
り浅く形成されており、圧力発生室12に流入するイン
クの流路抵抗を一定に保持している。すなわち、インク
供給路14は、シリコン単結晶基板を厚さ方向に途中ま
でエッチング(ハーフエッチング)することにより形成
されている。なお、ハーフエッチングは、エッチング時
間の調整により行われる。
【0039】また、流路形成基板10の開口面側には、
各圧力発生室12のインク供給路14とは反対側で連通
するノズル開口15が穿設されたノズルプレート16が
接着剤や熱溶着フィルム等を介して固着されている。な
お、ノズルプレート16は、厚さが例えば、0.1〜1
mmで、線膨張係数が300℃以下で、例えば2.5〜
4.5[×10−6/℃]であるガラスセラミックス、
又は不錆鋼などからなる。ノズルプレート16は、一方
の面で流路形成基板10の一面を全面的に覆い、シリコ
ン単結晶基板を衝撃や外力から保護する補強板の役目も
果たす。また、ノズルプレート16は、流路形成基板1
0と熱膨張係数が略同一の材料で形成するようにしても
よい。この場合には、流路形成基板10とノズルプレー
ト16との熱による変形が略同一となるため、熱硬化性
の接着剤等を用いて容易に接合することができる。
【0040】ここで、インク滴吐出圧力をインクに与え
る圧力発生室12の大きさと、インク滴を吐出するノズ
ル開口15の大きさとは、吐出するインク滴の量、吐出
スピード、吐出周波数に応じて最適化される。例えば、
1インチ当たり360個のインク滴を記録する場合、ノ
ズル開口15は数十μmの溝幅で精度よく形成する必要
がある。
【0041】一方、流路形成基板10の開口面とは反対
側の弾性膜50の上には、厚さが例えば、約0.2μm
の下電極膜60と、厚さが例えば、約1μmの圧電体膜
70と、厚さが例えば、約0.1μmの上電極膜80と
が、後述するプロセスで積層形成されて、圧電素子30
0を構成している。ここで、圧電素子300は、下電極
膜60、圧電体膜70、及び上電極膜80を含む部分を
いう。一般的には、圧電素子300の何れか一方の電極
を共通電極とし、他方の電極及び圧電体膜70を各圧力
発生室12毎にパターニングして構成する。そして、こ
こではパターニングされた何れか一方の電極及び圧電体
膜70から構成され、両電極への電圧の印加により圧電
歪みが生じる部分を圧電体能動部320という。本実施
形態では、下電極膜60は圧電素子300の共通電極と
し、上電極膜80を圧電素子300の個別電極としてい
るが、駆動回路や配線の都合でこれを逆にしても支障は
ない。何れの場合においても、各圧力発生室毎に圧電体
能動部が形成されていることになる。また、ここでは、
圧電素子300と当該圧電素子300の駆動により変位
が生じる振動板とを合わせて圧電アクチュエータと称す
る。なお、上述した例では、弾性膜50及び下電極膜6
0が振動板として作用するが、下電極膜が弾性膜を兼ね
るようにしてもよい。
【0042】また、流路形成基板10の圧電素子300
側には、リザーバ100の少なくとも一部を構成するリ
ザーバ部21を有するリザーバ形成基板20が接合され
ている。このリザーバ部21は、本実施形態では、リザ
ーバ形成基板20を厚さ方向に貫通して圧力発生室12
の幅方向に亘って形成されている。そして、上述のよう
に流路形成基板10の連通部13と連通されて各圧力発
生室12の共通のインク室となるリザーバ100を構成
している。
【0043】このリザーバ形成基板20としては、例え
ば、ガラス、セラミック材料等の流路形成基板10の熱
膨張率と略同一の材料を用いることが好ましく、本実施
形態では、流路形成基板10と同一材料のシリコン単結
晶基板を用いて形成した。これにより、上述のノズルプ
レート16の場合と同様に、両者を熱硬化性の接着剤を
用いた高温での接着であっても両者を確実に接着するこ
とができる。したがって、製造工程を簡略化することが
できる。
【0044】さらに、このリザーバ形成基板20には、
封止膜31及び固定板32とからなるコンプライアンス
基板30が接合されている。ここで、封止膜31は、剛
性が低く可撓性を有する材料(例えば、厚さが6μmの
ポリフェニレンスルフィド(PPS)フィルム)からな
り、この封止膜31によってリザーバ部21の一方面が
封止されている。また、固定板32は、金属等の硬質の
材料(例えば、厚さが30μmのステンレス鋼(SU
S)等)で形成される。この固定板32のリザーバ10
0に対向する領域は、厚さ方向に完全に除去された開口
部33となっているため、リザーバ100の一方面は可
撓性を有する封止膜31のみで封止され、内部圧力の変
化によって変形可能な可撓部22となっている。
【0045】また、このリザーバ100の長手方向略中
央部外側のコンプライアンス基板30上には、リザーバ
100にインクを供給するためのインク導入口25が形
成されている。さらに、リザーバ形成基板20には、イ
ンク導入口25とリザーバ100の側壁とを連通するイ
ンク導入路26が設けられている。なお、本実施形態で
は、一つのインク導入口25及びインク導入路26によ
って、リザーバ100にインクを供給するようにしてい
るが、これに限定されず、例えば、所望のインク供給量
に応じて、複数のインク導入口及びインク導入路を設け
るようにしてもよいし、あるいはインク導入口の開口面
積を大きくしてインク流路を拡大するようにようにして
もよい。
【0046】通常、インク導入口25からリザーバ10
0にインクが供給されると、例えば、圧電素子300の
駆動時のインクの流れ、あるいは、周囲の熱などによっ
てリザーバ100内に圧力変化が生じる。しかしなが
ら、上述のように、リザーバ100の一方面が封止膜3
1のみによって封止されて可撓部22となっているた
め、この可撓部22が撓み変形してその圧力変化を吸収
する。したがって、リザーバ100内は常に一定の圧力
に保持される。なお、その他の部分は固定板32によっ
て十分な強度に保持されている。また、本実施形態で
は、リザーバ100等を構成する基板の枚数を低減する
ことができるため、材料コスト及び組立コスト等を削減
することができる。
【0047】一方、リザーバ形成基板20の圧電素子3
00に対向する領域には、圧電素子300の運動を阻害
しない程度の空間を確保した状態で、その空間を密封可
能な圧電素子保持部24が設けられ、圧電素子300の
少なくとも圧電体能動部320は、この圧電素子保持部
24内に密封されている。なお、本実施形態では、圧電
素子保持部24は幅方向に並設された複数の圧電素子3
00を覆う大きさで形成されている。
【0048】このように、リザーバ形成基板20は、リ
ザーバ100を構成すると共に、圧電素子300を外部
環境と遮断するためのキャップ部材を兼ねており、水分
等の外部環境による圧電素子300の破壊を防止するこ
とができる。また、本実施形態では、圧電素子保持部2
4の内部を密封状態にしただけであるが、例えば、圧電
素子保持部24内の空間を真空にしたり、あるいは窒素
又はアルゴン雰囲気等とすることにより、圧電素子保持
部24内を低湿度に保持することができ、圧電素子30
0の破壊をさらに確実に防止することができる。
【0049】また、このように圧電素子保持部24によ
って密封されている圧電素子300の圧電体膜70及び
上電極膜80は、本実施形態では、圧力発生室12の長
手方向一端部から流路形成基板10上をリザーバ形成基
板20の外側まで延設されており、流路形成基板10の
リザーバ形成基板との接合側の面が露出した露出部10
a上で、例えば、フレキシブルケーブル等の外部配線4
0と接続されている。すなわち、圧電素子300から配
線をリザーバ形成基板20の外側まで延設することによ
り、圧電素子300と外部配線とを容易に接続すること
ができる。
【0050】このような本実施形態のインクジェット式
記録ヘッドは、図示しない外部インク供給手段と接続し
たインク導入口25からインクを取り込み、リザーバ1
00からノズル開口15に至るまで内部をインクで満た
した後、図示しない外部の駆動回路からの記録信号に従
い、圧力発生室12に対応するそれぞれの下電極膜60
と上電極膜80との間に電圧を印加し、弾性膜50、下
電極膜60及び圧電体膜70をたわみ変形させることに
より、各圧力発生室12内の圧力が高まりノズル開口1
5からインク滴が吐出する。
【0051】なお、本実施形態では、リザーバ形成基板
20の圧電素子保持部24は、幅方向に並設された全て
の圧電素子300を覆うように形成されているが、これ
に限定されず、例えば、図3に示すように、圧電素子保
持部24を区画壁27によって各圧電素子300毎にそ
れぞれ独立した圧電素子保持部24Aとし、各圧電素子
保持部24Aにそれぞれ圧電素子300を密封するよう
にしてもよい。これにより、流路形成基板10の各圧力
発生室12の側壁12aに対応する部分には、それぞれ
区画壁27が接合されることになり、圧力発生室12の
周壁の剛性が向上され、圧電素子300を駆動した際の
周壁の倒れ込みを抑えることができる。勿論、このよう
な構成によっても、上述の実施形態と同様に、圧電素子
300の破壊を防止することができることはいうまでも
ない。
【0052】また、本実施形態では、流路形成基板10
をリザーバ形成基板20よりも大きく形成して、流路形
成基板10の露出部10a上で、圧電素子300と外部
配線40との接続を行うようにしたが、これに限定され
ず、例えば、図4に示すように、リザーバ形成基板20
を流路形成基板10よりも大きく形成して、リザーバ形
成基板20の流路形成基板10との接合側の面を露出さ
せた露出部20aとし、この露出部20a上で圧電素子
300と外部配線との接続を行うようにしてもよい。
【0053】さらに、本実施形態では、流路形成基板1
0の圧力発生室12のノズル開口15とは反対の端部側
に、インク供給路14を介してリザーバ100の一部を
構成する連通部13を設けるようにしたが、これに限定
されず、例えば、図5に示すように、リザーバ100を
基本的にリザーバ形成基板20のリザーバ部21のみで
構成するようにし、流路形成基板10に各圧力発生室1
2とリザーバ100とをリザーバ100より相対的に流
路の狭い連通路18で連通するようにしてもよい。この
ような構成では、インクが圧力発生室12に供給される
際、インクの流速が保持されるため、気泡の混入が防止
されて良好なインク吐出を行うことができる。
【0054】(実施形態2)図6は、実施形態2に係る
インクジェット式記録ヘッドの平面図及び断面図であ
る。
【0055】本実施形態では、図6に示すように、リザ
ーバ形成基板20のリザーバ100とは反対側の一部に
は、コンプライアンス基板30が設けられておらず、リ
ザーバ形成基板20の表面が露出されている。そして、
リザーバ形成基板20の外側まで延設された圧電素子3
00の上電極膜80からワイヤボンディングによって配
線28をリザーバ形成基板20の表面上まで延設し、こ
の延設された配線28の端部を圧電素子300と外部配
線40とを接続する実装部90とした。また、さらにそ
の外側を、例えば、エポキシ等の絶縁部材95によって
モールドして電気絶縁を図った以外は、実施形態1と同
様である。
【0056】ここで、従来のように、流路形成基板10
の露出部10a上で圧電素子300と外部配線40とを
接続する場合には、この露出部10aの幅は約2.2〜
3mm程度必要となり、ヘッドの寸法が若干大きくなっ
てしまう。これに対して、本実施形態では、流路形成基
板10の露出部10aからワイヤボンディングによって
配線28をリザーバ形成基板20の露出部20a上まで
延設して、外部配線40と接続するようにしたので、流
路形成基板10の露出部10aの幅を約0.2mm程度
にすることができ、記録ヘッドの寸法をより小さくする
ことができる。また、勿論、このような構成によって
も、実施形態1と同様の効果を得ることができる。
【0057】(実施形態3)図7は、実施形態3にかか
るインクジェット式記録ヘッドの平面図及び断面図であ
る。
【0058】本実施形態は、リザーバ形成基板20に貫
通溝を設け、この貫通溝を介して圧電素子300と外部
配線とを接続した例である。詳しくは、図7に示すよう
に、本実施形態では、圧電素子300の圧電体膜70及
び上電極膜80が圧力発生室12のノズル開口15側の
長手方向周壁上まで延設され、流路形成基板10とリザ
ーバ形成基板20との間に挟持されている。また、実施
形態2と同様に、リザーバ形成基板20のコンプライア
ンス基板30との接合面の一部は、表面が露出された露
出部20bとなっており、この露出部20bに対応し且
つ圧電素子300の上電極膜80に対向する領域には、
圧力発生室12の列に亘って延びる貫通溝35が形成さ
れている。そして、各圧電素子300の上電極膜80か
らこの貫通溝35を通してリザーバ形成基板20の表面
上にワイヤボンディングによって配線28が延設され、
この配線28の端部を圧電素子300とフレキシブルケ
ーブル等の外部配線40とを接続する実装部90として
いる。
【0059】このような構成では、貫通溝35を介して
配線28が延設されるため、上述した流路形成基板10
又はリザーバ形成基板20の露出部10a,20aを設
ける必要がなく、ヘッドをより小型化することができ
る。
【0060】なお、この貫通溝35は、本実施形態で
は、圧力発生室12の列に亘って溝状に形成されている
が、これに限定されず、例えば、各圧電素子300毎に
独立した貫通孔を設けるようにしてもよい。
【0061】また、上述の実施形態では、ワイヤボンデ
ィングによって上電極膜80から配線28を延設するよ
うにしたが、これに限定されず、例えば、図8に示すよ
うに、例えば、金(Au)等の導電性の薄膜を貫通溝3
5の内周面及びコンプライアンス基板30の上面に成膜
して、この導電性の薄膜を各圧電素子300毎にパター
ニングすることにより配線28Aとしてもよい。
【0062】(実施形態4)図9は、実施形態4にかか
るインクジェット式記録ヘッドの平面図及び断面図であ
る。
【0063】本実施形態では、図9に示すように、流路
形成基板10は圧力発生室12が幅方向に並設された列
がノズル開口15側の端部が対向するように2列設けら
れており、各圧力発生室12に対応する領域には、それ
ぞれ圧電素子300が形成されている。また、これら圧
力発生室12の長手方向外側には各圧力発生室の列毎に
それぞれリザーバ100が設けられており、これらのリ
ザーバ100には、それぞれインク導入口25及びイン
ク導入路26が連通されている。なお、リザーバ及びイ
ンク導入口等の構造は、上述の実施形態と同様である。
【0064】また、圧電素子300は、それぞれ圧力発
生室12に対向する領域からリザーバ100側の周壁上
まで延設され、流路形成基板10とリザーバ形成基板2
0との間に挟持されている。この圧電素子300の上電
極膜80に対向する領域には、上述の実施形態と同様
に、圧力発生室12の各列毎に貫通溝35Aが設けられ
ている。また、圧力発生室12の列間に対応する領域の
リザーバ形成基板20上には、例えば、圧電素子300
を駆動するための駆動回路110が搭載されている。こ
の駆動回路110は、回路基板あるいは駆動回路を含む
半導体集積回路(IC)であってもよい。そして、各圧
電素子300の上電極膜80と駆動回路110とがそれ
ぞれ、貫通溝35Aを介してワイヤボンディング等によ
って延設された配線28によって接続されている。さら
に、リザーバ基板20上には、駆動回路110に信号を
供給するための配線が施されており、この配線の一端は
駆動回路110に接続され、他端が外部配線40が接続
される実装部90となっている。
【0065】このような構成によっても、実施形態3と
同様に、ヘッドを小型化することができる。さらに、本
実施形態では、貫通溝35Aがリザーバ100側に設け
られているため、圧力発生室12の複数の列間で、より
効率的に圧電素子300と駆動手段110等とを接続す
ることができる。
【0066】なお、本実施形態では、リザーバ形成基板
20上に駆動手段110を設けたが、これに限定され
ず、例えば、実施形態1と同様に、リザーバ形成基板2
0の露出部10a上で、圧電素子300から延設された
配線とフレキシブルケーブル等の外部配線とを接続する
ようにしてもよいことはいうまでもない。
【0067】(実施形態5)図10は、実施形態5にか
かるインクジェット式記録ヘッドの要部断面図である。
【0068】本実施形態は、流路形成基板10上に一部
材で構成されるコンプライアンス基板30Aを設けた例
である。本実施形態では、図10に示すように、リザー
バ100に対向する領域の厚さ方向の一部を除去して可
撓性を有する可撓部22Aとして、その外側にインク導
入口25となる貫通孔を形成した以外は、実施形態1と
同様である。このようなコンプライアンス基板30Aの
材料としては、可撓性を有する、例えば、フッ素樹脂、
シリコーン系樹脂又はシリコーンゴム等の樹脂材料であ
ることが好ましく、これによりコンプライアンス基板3
0Aを容易に形成することができる。
【0069】なお、このコンプライアンス基板30Aの
製造方法は、特に限定されないが、例えば、リザーバ形
成基板20を構成するシリコン単結晶基板上に所定の厚
さの樹脂層を形成した後、リザーバ形成基板20にリザ
ーバ100等をエッチング等で形成し、さらに、樹脂層
のリザーバ100に対向する領域の厚さ方向の一部等を
エッチングすることにより形成することができる。
【0070】また、本実施形態では、コンプライアンス
基板30Aを樹脂材料で形成するようにしたが、これに
限定されず、例えば、図11に示すように、コンプライ
アンス基板30Bを、例えば、厚さが1〜10μm程度
の金属又はセラミック等の薄膜で構成するようにしても
よい。この場合には、リザーバ100に対向する領域
は、厚さ方向の一部を除去しなくても可撓性を有する可
撓部22Bとすることができる。したがって、ヘッドを
さらに容易に製造することができる。
【0071】(実施形態6)図12は、実施形態6にか
かるインクジェット式記録ヘッドの平面図及び断面図で
ある。
【0072】本実施形態は、図12に示すように、リザ
ーバ形成基板20の圧電素子保持部24に対向する領域
の圧電素子300に対応する部分に圧力発生室12の列
方向に亘って圧電素子300の変位を検出するための検
出用貫通孔29を設けた以外は、実施形態1と同様であ
る。
【0073】このような構成では、リザーバ形成基板2
0上にコンプライアンス基板30を接合する前に、例え
ば、レーザ等を用いて圧電素子300の変位のチェック
を行うことができる。したがって、ヘッドの完成前に圧
電素子300の不良を発見することができ、製造効率を
向上することができる。また、この検出用貫通孔29
は、コンプライアンス基板30によって封止されるた
め、実施形態1と同様に、圧電素子保持部24を密封状
態に保持することができる。
【0074】このような検出用貫通孔29の大きさは、
特に限定されず、少なくとも圧電素子300に対向する
領域に形成されていればよい。したがって、本実施形態
では、圧力発生室12の列方向に亘って溝状に設けた
が、例えば、各圧電素子300毎の丸孔としてもよく、
あるいは、圧電素子保持部全体を貫通孔としてもよい。
【0075】なお、本実施形態では、検出用貫通孔29
をコンプライアンス基板30で封止しているが、これに
限定されず、例えば、図13に示すように、検出用貫通
孔29を可撓性を有する封止膜31のみで封止、すなわ
ち、検出用貫通孔29に対向する領域の固定板32を除
去して、可撓部24aとしてもよい。これにより、圧電
素子保持部24内に圧力変化が生じた場合、可撓部24
aが変形することによって圧力変化が吸収され、圧電素
子保持部24内を常に一定の圧力に保持することができ
る。
【0076】また、圧電素子保持部24の可撓部24a
となる封止膜31を、例えば、アクリル樹脂等の光透過
性部材で形成してもよく、これにより圧電素子300を
圧電素子保持部24内に密封した状態で、変位の検出を
行うことができる。すなわち、常時圧電素子300の検
査を行うことができる。
【0077】(他の実施形態)以上、本発明の各実施形
態を説明したが、インクジェット式記録ヘッドの基本的
構成は上述したものに限定されるものではない。
【0078】例えば、上述の実施形態では、流路形成基
板10の一方面に、ノズル開口15を具備するノズル形
成部材としてノズルプレート16を接合するようにした
が、これに限定されず、例えば、ノズル形成部材は、ノ
ズル開口と圧力発生室とを連通するノズル連通孔等を有
する他の基板を含む多層構造としてもよい。
【0079】なお、上述の各実施形態では、成膜及びリ
ソグラフィプロセスを応用して製造される薄膜型のイン
クジェット式記録ヘッドを例にしたが、勿論これに限定
されるものではなく、例えば、グリーンシートを貼付す
る等の方法により形成される厚膜型のインクジェット式
記録ヘッドにも本発明を採用することができる。
【0080】また、これら各実施形態のインクジェット
式記録ヘッドは、インクカートリッジ等と連通するイン
ク流路を具備する記録ヘッドユニットの一部を構成し
て、インクジェット式記録装置に搭載される。図14
は、そのインクジェット式記録装置の一例を示す概略図
である。
【0081】図14に示すように、インクジェット式記
録ヘッドを有する記録ヘッドユニット1A及び1Bは、
インク供給手段を構成するカートリッジ2A及び2Bが
着脱可能に設けられ、この記録ヘッドユニット1A及び
1Bを搭載したキャリッジ3は、装置本体4に取り付け
られたキャリッジ軸5に軸方向移動自在に設けられてい
る。この記録ヘッドユニット1A及び1Bは、例えば、
それぞれブラックインク組成物及びカラーインク組成物
を吐出するものとしている。
【0082】そして、駆動モータ6の駆動力が図示しな
い複数の歯車およびタイミングベルト7を介してキャリ
ッジ3に伝達されることで、記録ヘッドユニット1A及
び1Bを搭載したキャリッジ3はキャリッジ軸5に沿っ
て移動される。一方、装置本体4にはキャリッジ軸5に
沿ってプラテン8が設けられており、図示しない給紙ロ
ーラなどにより給紙された紙等の記録媒体である記録シ
ートSがプラテン8に巻き掛けられて搬送されるように
なっている。
【0083】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、流
路形成基板上にリザーバの少なくとも一部を構成するリ
ザーバ形成基板を接合してリザーバを形成するようにし
たので、ヘッドの構造を簡略化することができ、製造工
程の低減及び製造コストの向上を図ることができる。ま
た、リザーバ形成基板が圧電素子を外部と遮断するキャ
ップ部材を兼ねているため、外部環境に起因する圧電素
子の破壊を防止することができ、耐久性を向上すること
ができる。さらに、リザーバ形成基板上で、圧電素子と
外部配線とを接続することにより、ヘッドを小型化する
ことができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態1に係るインクジェット式記
録ヘッドの分解斜視図である。
【図2】本発明の実施形態1に係るインクジェット式記
録ヘッドの平面図及び断面図である。
【図3】本発明の実施形態1に係るインクジェット式記
録ヘッドの変形例を示す平面図及び断面図である。
【図4】本発明の実施形態1に係るインクジェット式記
録ヘッドの変形例を示す断面図である。
【図5】本発明の実施形態1に係るインクジェット式記
録ヘッドの変形例を示す平面図及び断面図である。
【図6】本発明の実施形態2に係るインクジェット式記
録ヘッドの平面図及び側面図である。
【図7】本発明の実施形態3に係るインクジェット式記
録ヘッドの平面図及び断面図である。
【図8】本発明の実施形態3に係るインクジェット式記
録ヘッドの変形例を示す平面図及び断面図である。
【図9】本発明の実施形態4に係るインクジェット式記
録ヘッドの平面図及び断面図である。
【図10】本発明の実施形態5に係るインクジェット式
記録ヘッドの要部断面図である。
【図11】本発明の実施形態5に係るインクジェット式
記録ヘッドの変形例を示す断面図である。
【図12】本発明の実施形態6に係るインクジェット式
記録ヘッドの平面図及び断面図である。
【図13】本発明の実施形態6に係るインクジェット式
記録ヘッドの変形例を示す断面図である。
【図14】本発明の一実施形態に係るインクジェット式
記録装置の概略図である。
【符号の説明】
10 流路形成基板 12 圧力発生室 13 連通部 14 インク供給路 15 ノズル開口 16 ノズルプレート 20 リザーバ形成基板 21 リザーバ部 22 可撓部 24 圧電素子保持部 30,30A コンプライアンス基板 31 封止膜 32 固定板 60 下電極膜 70 圧電体膜 80 上電極膜 100 リザーバ 300 圧電素子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2C057 AF34 AF65 AF93 AG12 AG29 AG33 AG42 AG85 AP02 AP25 AP34 AQ02 BA04 BA14

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 インクを吐出する複数のノズル開口を備
    えたノズル形成部材と、該ノズル形成部材と接合され且
    つ前記ノズル開口にそれぞれ連通する圧力発生室が画成
    される流路形成基板と、該流路形成基板の前記ノズル形
    成部材が接合された面とは反対の面に設けられて前記圧
    力発生室内に圧力変化を生じさせる圧電素子とを具備す
    るインクジェット式記録ヘッドにおいて、 前記流路形成基板の前記圧電素子が形成された側の面に
    は、前記圧力発生室に連通して各圧力発生室にインクを
    供給するリザーバの少なくとも一部を構成するリザーバ
    部が厚さ方向に貫通して設けられたリザーバ形成基板
    と、可撓性を有する可撓性部材を含むコンプライアンス
    基板とが積層され、前記流路形成基板とリザーバ形成基
    板とで前記リザーバを実質的に形成すると共に前記リザ
    ーバ部の開口を封止するように前記可撓性部材を接合す
    ることにより、当該リザーバ形成基板の前記流路形成基
    板側とは反対側の面上の前記リザーバ部に対向する領域
    に可撓部を形成するようにしたことを特徴とするインク
    ジェット式記録ヘッド。
  2. 【請求項2】 請求項1において、前記可撓性部材が、
    金属又はセラミックの薄膜からなることを特徴とするイ
    ンクジェット式記録ヘッド。
  3. 【請求項3】 請求項1において、前記可撓性部材が、
    樹脂材料からなることを特徴とするインクジェット式記
    録ヘッド。
  4. 【請求項4】 請求項1〜3の何れかにおいて、前記可
    撓性部材には、少なくとも前記可撓部に対向する領域に
    貫通孔を有する他の基板が接合されていることを特徴と
    するインクジェット式記録ヘッド。
  5. 【請求項5】 請求項1〜4の何れかにおいて、前記流
    路形成基板に、前記リザーバ形成基板の前記リザーバ部
    と連通して当該リザーバ部と共に前記リザーバの一部を
    構成する連通部を有することを特徴とするインクジェッ
    ト式記録ヘッド。
  6. 【請求項6】 請求項1〜5の何れかにおいて、前記リ
    ザーバと各圧力発生室とは、当該リザーバより相対的に
    流路の狭いインク供給路を介してそれぞれ連通されてい
    ることを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
  7. 【請求項7】 請求項1〜6の何れかにおいて、前記リ
    ザーバ形成基板の前記リザーバ部には、外部に連通して
    前記リザーバにインクを供給するためのインク導入口が
    連通されていることを特徴とするインクジェット式記録
    ヘッド。
  8. 【請求項8】 請求項1〜7の何れかにおいて、前記リ
    ザーバ形成基板は、前記圧電素子に対向する領域に、そ
    の運動を阻害しない程度の空間を確保した状態で当該空
    間を密封可能な圧電素子保持部を有することを特徴とす
    るインクジェット式記録ヘッド。
  9. 【請求項9】 請求項8において、前記圧電素子保持部
    は、各圧電素子毎に区画壁によって区画され、当該区画
    壁は前記流路形成基板に接合されていることを特徴とす
    るインクジェット式記録ヘッド。
  10. 【請求項10】 請求項1〜9の何れかのインクジェッ
    ト式記録ヘッドを具備することを特徴とするインクジェ
    ット式記録装置。
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