JP2003224101A - 基板の洗浄装置及び洗浄方法 - Google Patents
基板の洗浄装置及び洗浄方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 洗浄液を用いて基板を洗浄する場合におい
て、基板に付着した異物の除去効果を向上すること。 【解決手段】 ノズルユニット１７にその先端より洗浄
液を基板に向けて噴出するための貫通孔３３，３６を設
ける。又その外周部よりノズルユニットの中心軸と一致
しない夫々異なった方向に多数の貫通孔３８，３９を設
ける。貫通孔３８，３９より空気流を噴出させ、ノズル
ユニット１７の外周部で混合させて旋回流を形成する。
こうして形成した旋回流を基板に吹き付けることによっ
て、基板表面の層流域を破壊しながら洗浄を行い、異物
除去を促進できるようにしている。
て、基板に付着した異物の除去効果を向上すること。 【解決手段】 ノズルユニット１７にその先端より洗浄
液を基板に向けて噴出するための貫通孔３３，３６を設
ける。又その外周部よりノズルユニットの中心軸と一致
しない夫々異なった方向に多数の貫通孔３８，３９を設
ける。貫通孔３８，３９より空気流を噴出させ、ノズル
ユニット１７の外周部で混合させて旋回流を形成する。
こうして形成した旋回流を基板に吹き付けることによっ
て、基板表面の層流域を破壊しながら洗浄を行い、異物
除去を促進できるようにしている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶基板や半導体ウ
エハ、及びプリント基板等の種々の電子部品が実装され
た基板を洗浄するための基板の洗浄装置及び洗浄方法に
関するものである。
エハ、及びプリント基板等の種々の電子部品が実装され
た基板を洗浄するための基板の洗浄装置及び洗浄方法に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置の製造工程では、液晶基板
を洗浄することが必要である。又種々の電子装置の製造
時には、微細な部品が実装されたプリント基板を洗浄す
ることが製造工程上必要となっている。従来洗浄の対象
としている基板を洗浄するためには、例えば図７に示す
ように、基板１０１の表面に洗浄液１０２を吹き付けて
洗浄が行われる。この場合には基板の表面に洗浄液１０
２が流れ、これによって異物１０３を除去するようにし
ている。
を洗浄することが必要である。又種々の電子装置の製造
時には、微細な部品が実装されたプリント基板を洗浄す
ることが製造工程上必要となっている。従来洗浄の対象
としている基板を洗浄するためには、例えば図７に示す
ように、基板１０１の表面に洗浄液１０２を吹き付けて
洗浄が行われる。この場合には基板の表面に洗浄液１０
２が流れ、これによって異物１０３を除去するようにし
ている。
【０００３】又基板を洗浄するために洗浄液を入れた容
器内に基板を浸して超音波を用いて洗浄する洗浄装置も
用いられている。又特開２００１−１９１０４０号公報
には、ノズルの内部で洗浄液と空気とを混合させ、混合
させた洗浄液の液滴を被洗浄基板に吹き付けて異物を除
去するようにした洗浄装置が提案されている。
器内に基板を浸して超音波を用いて洗浄する洗浄装置も
用いられている。又特開２００１−１９１０４０号公報
には、ノズルの内部で洗浄液と空気とを混合させ、混合
させた洗浄液の液滴を被洗浄基板に吹き付けて異物を除
去するようにした洗浄装置が提案されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかるに基板の表面に
洗浄液を吹き付ける方法では、図７に示すように基板１
０１の表面に層流が形成され、表面に近い部分では流速
が遅いため、異物の除去効果があまり高くないという欠
点があった。又超音波洗浄を用いた場合であっても、液
晶基板中に付着した異物が取りにくい場合があり、長時
間かけて洗浄を実行する必要がある。又長時間の洗浄を
行った場合には、表面の微細な電子部品等を損傷するこ
とがあるという欠点があった。更にノズルから液滴を吹
き付ける方法においても、洗浄液の液滴の運動方向がほ
ぼ一定であるため基板の洗浄効果が充分でないという欠
点があった。
洗浄液を吹き付ける方法では、図７に示すように基板１
０１の表面に層流が形成され、表面に近い部分では流速
が遅いため、異物の除去効果があまり高くないという欠
点があった。又超音波洗浄を用いた場合であっても、液
晶基板中に付着した異物が取りにくい場合があり、長時
間かけて洗浄を実行する必要がある。又長時間の洗浄を
行った場合には、表面の微細な電子部品等を損傷するこ
とがあるという欠点があった。更にノズルから液滴を吹
き付ける方法においても、洗浄液の液滴の運動方向がほ
ぼ一定であるため基板の洗浄効果が充分でないという欠
点があった。
【０００５】又ノズル自体を回転させることにより洗浄
液の運動方向を変化させることによって、洗浄能力を向
上させることも考えられる。しかしこの方法では複雑な
回転機構やシール機構が必要になるという欠点があっ
た。
液の運動方向を変化させることによって、洗浄能力を向
上させることも考えられる。しかしこの方法では複雑な
回転機構やシール機構が必要になるという欠点があっ
た。
【０００６】本発明はこのような従来の問題点に着目し
てなされたものであって、ノズルより洗浄液と空気とを
噴出させ旋回流とすることによって、高い洗浄効果を有
する基板の洗浄装置及び洗浄方法を提供することを目的
とする。
てなされたものであって、ノズルより洗浄液と空気とを
噴出させ旋回流とすることによって、高い洗浄効果を有
する基板の洗浄装置及び洗浄方法を提供することを目的
とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本願の請求項１の発明
は、基板の洗浄装置であって、洗浄すべき基板に対して
相対的に移動自在に配置されたノズルユニットと、前記
ノズルユニットに洗浄液を供給する洗浄液供給ライン
と、前記ノズルユニットに圧縮された気体を供給する気
体供給ラインと、を具備し、前記ノズルユニットは、前
記洗浄液供給ラインに連結され、中心部開口から洗浄液
を噴出する洗浄液用貫通孔と、前記気体供給ラインに連
結され、前記洗浄液を噴出する中心部開口の周辺部にそ
の開口が形成され、前記洗浄液体を微粒子化し旋回させ
るための気体流を噴出する複数の気体噴出用貫通孔と、
を有することを特徴とするものである。
は、基板の洗浄装置であって、洗浄すべき基板に対して
相対的に移動自在に配置されたノズルユニットと、前記
ノズルユニットに洗浄液を供給する洗浄液供給ライン
と、前記ノズルユニットに圧縮された気体を供給する気
体供給ラインと、を具備し、前記ノズルユニットは、前
記洗浄液供給ラインに連結され、中心部開口から洗浄液
を噴出する洗浄液用貫通孔と、前記気体供給ラインに連
結され、前記洗浄液を噴出する中心部開口の周辺部にそ
の開口が形成され、前記洗浄液体を微粒子化し旋回させ
るための気体流を噴出する複数の気体噴出用貫通孔と、
を有することを特徴とするものである。
【０００８】ここで気体噴出用貫通孔は、洗浄液の貫通
孔の周囲に夫々異なる方向とし、その方向を全体として
底面から見て環状に形成しておくことによって、微粒子
の旋回流を形成することができる。
孔の周囲に夫々異なる方向とし、その方向を全体として
底面から見て環状に形成しておくことによって、微粒子
の旋回流を形成することができる。
【０００９】本願の請求項２の発明は、請求項１の基板
の洗浄装置において、前記基板は、円形の基板であり、
前記ノズルユニットは、前記基板の中心部から周辺部の
間を回動するアーム上に配置されたものであり、前記基
板は、回転テーブル上に配置されたことを特徴とするも
のである。
の洗浄装置において、前記基板は、円形の基板であり、
前記ノズルユニットは、前記基板の中心部から周辺部の
間を回動するアーム上に配置されたものであり、前記基
板は、回転テーブル上に配置されたことを特徴とするも
のである。
【００１０】本願の請求項３の発明は、請求項１の基板
の洗浄装置において、前記基板は、一定方向に搬送する
搬送ライン上に配置されたものであり、前記ノズルユニ
ットは、前記ラインの搬送方向と異なる方向に沿って複
数配置されていることを特徴とするものである。
の洗浄装置において、前記基板は、一定方向に搬送する
搬送ライン上に配置されたものであり、前記ノズルユニ
ットは、前記ラインの搬送方向と異なる方向に沿って複
数配置されていることを特徴とするものである。
【００１１】本願の請求項４の発明は、請求項３の基板
の洗浄装置において、前記ノズルユニットは、前記基板
の搬送方向と異なる方向に沿って並列にオフセットを設
けて配置されていることを特徴とするものである。
の洗浄装置において、前記ノズルユニットは、前記基板
の搬送方向と異なる方向に沿って並列にオフセットを設
けて配置されていることを特徴とするものである。
【００１２】本願の請求項５の発明は、ノズルより洗浄
液を吹き付けて基板を洗浄する基板の洗浄方法であっ
て、前記ノズルユニットより洗浄液を前記基板に向けて
噴出させ、前記ノズルユニットより前記圧縮された気体
を互いに異なり、且つ前記洗浄液の噴出方向と異なり、
１点に集中しない方向に複数の開口から気体を噴出させ
ることにより、ノズルのユニットの外部で混合させて微
粒子化した液滴の旋回流を形成し、前記ノズルユニット
と前記基板とを相対的に移動させることによって基板の
全面を洗浄することを特徴とするものである。
液を吹き付けて基板を洗浄する基板の洗浄方法であっ
て、前記ノズルユニットより洗浄液を前記基板に向けて
噴出させ、前記ノズルユニットより前記圧縮された気体
を互いに異なり、且つ前記洗浄液の噴出方向と異なり、
１点に集中しない方向に複数の開口から気体を噴出させ
ることにより、ノズルのユニットの外部で混合させて微
粒子化した液滴の旋回流を形成し、前記ノズルユニット
と前記基板とを相対的に移動させることによって基板の
全面を洗浄することを特徴とするものである。
【００１３】
【発明の実施の形態】図１は本発明の第１の実施の形態
による基板洗浄装置を示す図である。本実施の形態にお
いては、洗浄対象となる基板は円形の基板、例えば半導
体ウエハとする。本図において、モータ１１には減速機
構１２が連結されている。減速機構１２は一定の速度で
回転テーブル１３を回転駆動するものである。回転テー
ブル１３上には洗浄の対象となる基板１４が取付けられ
ている。この回転テーブル１３の側方にはアーム１５が
アーム機構１６によって一定範囲で回動自在に保持さ
れ、アーム１５の先端にはノズルユニット１７が設けら
れる。アーム１５は回転テーブル１３の中心と周辺との
間でノズルユニット１７を回動させるものである。アー
ム１５には洗浄液供給ライン１８、空気供給ライン１９
が連結され、これらのラインはアーム１５を介してアー
ム先端のノズルユニット１７に連結されている。
による基板洗浄装置を示す図である。本実施の形態にお
いては、洗浄対象となる基板は円形の基板、例えば半導
体ウエハとする。本図において、モータ１１には減速機
構１２が連結されている。減速機構１２は一定の速度で
回転テーブル１３を回転駆動するものである。回転テー
ブル１３上には洗浄の対象となる基板１４が取付けられ
ている。この回転テーブル１３の側方にはアーム１５が
アーム機構１６によって一定範囲で回動自在に保持さ
れ、アーム１５の先端にはノズルユニット１７が設けら
れる。アーム１５は回転テーブル１３の中心と周辺との
間でノズルユニット１７を回動させるものである。アー
ム１５には洗浄液供給ライン１８、空気供給ライン１９
が連結され、これらのラインはアーム１５を介してアー
ム先端のノズルユニット１７に連結されている。
【００１４】洗浄液供給ライン１８は図示のように、例
えばイソプロピィルアルコール等が入ったタンク２１を
有している。タンク２１には加圧ポンプ２２、開閉バル
ブ２３、フィルタ２４が連結され、アーム１５中の図示
しないダクトを介してノズルユニット１７の中心部に連
結されている。又空気供給ライン１９はエアポンプ２５
に圧力レギュレータ２６及びフィルタ２７が接続され、
アーム１５中の図示しないダクトを介してノズルユニッ
ト１７に連結されている。圧力レギュレータ２６は空気
の圧力を所定値に保つものであり、一定圧力の圧縮空気
がフィルタ２７を介してノイズユニット１７に供給され
ている。
えばイソプロピィルアルコール等が入ったタンク２１を
有している。タンク２１には加圧ポンプ２２、開閉バル
ブ２３、フィルタ２４が連結され、アーム１５中の図示
しないダクトを介してノズルユニット１７の中心部に連
結されている。又空気供給ライン１９はエアポンプ２５
に圧力レギュレータ２６及びフィルタ２７が接続され、
アーム１５中の図示しないダクトを介してノズルユニッ
ト１７に連結されている。圧力レギュレータ２６は空気
の圧力を所定値に保つものであり、一定圧力の圧縮空気
がフィルタ２７を介してノイズユニット１７に供給され
ている。
【００１５】さてノズルユニット１７は図２に断面図を
示すように、ノズルホルダ３１とノズルヘッド３２とか
ら構成される。ノズルホルダ３１は円筒状の部材であっ
て、中心部を貫通する洗浄液用の貫通孔３３が設けられ
る。又側方には空気供給ライン１９に連結される空気供
給用の貫通孔３４が設けられている。ノズルホルダ３１
の下端は外径が大きく構成され、その外周部にねじが切
られ、その下端部は全周に渡って切欠かれている。ノズ
ルヘッド３２はこのねじ部に噛合するめねじ部を上部に
有し、これに連結する位置に環状の切欠きが形成された
ナット状の部材である。ノズルヘッド３２はノズルホル
ダ３１に対して着脱自在に構成される。ノズルホルダ３
１の下端部の切欠き、及びノズルヘッド３２の切欠きに
よって環状溝３５が形成され、この環状溝３５が貫通孔
３４を介して空気供給ライン１９に連結されて、圧縮空
気を分配できるように構成されている。
示すように、ノズルホルダ３１とノズルヘッド３２とか
ら構成される。ノズルホルダ３１は円筒状の部材であっ
て、中心部を貫通する洗浄液用の貫通孔３３が設けられ
る。又側方には空気供給ライン１９に連結される空気供
給用の貫通孔３４が設けられている。ノズルホルダ３１
の下端は外径が大きく構成され、その外周部にねじが切
られ、その下端部は全周に渡って切欠かれている。ノズ
ルヘッド３２はこのねじ部に噛合するめねじ部を上部に
有し、これに連結する位置に環状の切欠きが形成された
ナット状の部材である。ノズルヘッド３２はノズルホル
ダ３１に対して着脱自在に構成される。ノズルホルダ３
１の下端部の切欠き、及びノズルヘッド３２の切欠きに
よって環状溝３５が形成され、この環状溝３５が貫通孔
３４を介して空気供給ライン１９に連結されて、圧縮空
気を分配できるように構成されている。
【００１６】ノズルヘッド３２の中心部には、貫通孔３
３と連結する洗浄液排出用の貫通孔３６が設けられてい
る。ノズルヘッド３２の中央部開口の先端には、図示の
ように湾曲した円錐形の外周部が形成されている。又ノ
ズルヘッド３２の上面にはノズルホルダ３１とノズルヘ
ッド３２との接触部分に環状溝が設けられる。Ｏリング
３７はこの環状溝に設けられ、洗浄液の貫通孔３６と環
状溝３５とを気密に封止しており、洗浄液と空気とがユ
ニットのノズル内部で混合しないように構成される。
３と連結する洗浄液排出用の貫通孔３６が設けられてい
る。ノズルヘッド３２の中央部開口の先端には、図示の
ように湾曲した円錐形の外周部が形成されている。又ノ
ズルヘッド３２の上面にはノズルホルダ３１とノズルヘ
ッド３２との接触部分に環状溝が設けられる。Ｏリング
３７はこの環状溝に設けられ、洗浄液の貫通孔３６と環
状溝３５とを気密に封止しており、洗浄液と空気とがユ
ニットのノズル内部で混合しないように構成される。
【００１７】図３はノズルヘッド３２の下面を示す図で
あって、その中心部に貫通孔３６の開口が設けられる。
環状溝３５からは空気を供給するための多数の貫通孔３
８が貫通孔３６に近接する位置に形成される。貫通孔３
８はノズルホルダ３１及びノズルヘッド３２の中心軸か
ら傾き、しかも互いに異なり１点に集中しない方向より
空気流を排出させるように図２，図３に示すように傾け
て形成されている。そして図３に示すように、貫通孔３
６の開口の周囲には図示のように多数の貫通孔３８の開
口が貫通孔３６の開口を取り囲むように設けられてい
る。又環状溝３５に連結するノズルヘッド３２の外周部
より空気を噴出させるために、多数の貫通孔３９が形成
されている。貫通孔３９も同様にして、互いに異なり１
点で集中しない方向に空気流を噴出させるものである。
又その外周部には貫通孔３９の開口が一定の半径の円周
上に等間隔で形成されている。そして空気を噴出する貫
通孔３８，３９は、図３に示すように下面から見て洗浄
液の噴出口を中心として環状となるように傾きを形成し
ておく。
あって、その中心部に貫通孔３６の開口が設けられる。
環状溝３５からは空気を供給するための多数の貫通孔３
８が貫通孔３６に近接する位置に形成される。貫通孔３
８はノズルホルダ３１及びノズルヘッド３２の中心軸か
ら傾き、しかも互いに異なり１点に集中しない方向より
空気流を排出させるように図２，図３に示すように傾け
て形成されている。そして図３に示すように、貫通孔３
６の開口の周囲には図示のように多数の貫通孔３８の開
口が貫通孔３６の開口を取り囲むように設けられてい
る。又環状溝３５に連結するノズルヘッド３２の外周部
より空気を噴出させるために、多数の貫通孔３９が形成
されている。貫通孔３９も同様にして、互いに異なり１
点で集中しない方向に空気流を噴出させるものである。
又その外周部には貫通孔３９の開口が一定の半径の円周
上に等間隔で形成されている。そして空気を噴出する貫
通孔３８，３９は、図３に示すように下面から見て洗浄
液の噴出口を中心として環状となるように傾きを形成し
ておく。
【００１８】次に本実施の形態の動作について説明す
る。基板１４を洗浄する際には、モータ１１を駆動し、
図４に示すように、回転テーブル１３上の基板１４を一
定速度で回転させる。これと同時に洗浄液供給ライン１
８と空気供給ライン１９から夫々洗浄液と空気とをノズ
ルユニット１７に供給する。そうすれば洗浄液供給ライ
ン１８からの洗浄液がノズルユニット１７の貫通孔３
３，３６を通って中心の開口部より下方の基板１４に向
けて放出される。又空気供給ライン１９から圧縮空気が
一旦貫通孔３４及び環状溝３５に供給され、そこから貫
通孔３８を介して夫々異なった向きに放出される。又外
周部の貫通孔３９からも同様にして夫々異なった方向に
空気が供給される。従って図３に示すように圧縮空気が
互いに異なる方向に向かって放出されるため、ノズルユ
ニット１７の外部で空気と洗浄液とが混合され、洗浄液
を微小な粒子状、即ち霧状にすることができる。洗浄液
と気体の混合流体は環状に旋回しながら基板１４の広い
範囲に渡って霧化した洗浄液が吹き付けられることにな
る。そして基板１４の正面に衝突して基板表面に付着し
た異物を除去することができる。このとき同時にアーム
１５を回動させ基板１４の周辺から中心に向かって移動
させることによって、基板１４の全面を洗浄することが
できる。このとき基板１４の表面には層流が形成され
ず、しかも旋回流の方向が絶えず変化するため、微小な
異物への運動エネルギーの伝達が有効に行われ、異物除
去を促進することができる。
る。基板１４を洗浄する際には、モータ１１を駆動し、
図４に示すように、回転テーブル１３上の基板１４を一
定速度で回転させる。これと同時に洗浄液供給ライン１
８と空気供給ライン１９から夫々洗浄液と空気とをノズ
ルユニット１７に供給する。そうすれば洗浄液供給ライ
ン１８からの洗浄液がノズルユニット１７の貫通孔３
３，３６を通って中心の開口部より下方の基板１４に向
けて放出される。又空気供給ライン１９から圧縮空気が
一旦貫通孔３４及び環状溝３５に供給され、そこから貫
通孔３８を介して夫々異なった向きに放出される。又外
周部の貫通孔３９からも同様にして夫々異なった方向に
空気が供給される。従って図３に示すように圧縮空気が
互いに異なる方向に向かって放出されるため、ノズルユ
ニット１７の外部で空気と洗浄液とが混合され、洗浄液
を微小な粒子状、即ち霧状にすることができる。洗浄液
と気体の混合流体は環状に旋回しながら基板１４の広い
範囲に渡って霧化した洗浄液が吹き付けられることにな
る。そして基板１４の正面に衝突して基板表面に付着し
た異物を除去することができる。このとき同時にアーム
１５を回動させ基板１４の周辺から中心に向かって移動
させることによって、基板１４の全面を洗浄することが
できる。このとき基板１４の表面には層流が形成され
ず、しかも旋回流の方向が絶えず変化するため、微小な
異物への運動エネルギーの伝達が有効に行われ、異物除
去を促進することができる。
【００１９】又この実施の形態では貫通孔３６の周囲に
空気用の噴出用の貫通孔３８を多数配列し、更にその外
側に空気噴出用の貫通孔３９を形成しているが、旋回流
体の旋回径や到達距離が短い場合には、中心部の貫通孔
３８のみとしてもよい。又空気以外の他の気体を用いる
ようにしてもよい。
空気用の噴出用の貫通孔３８を多数配列し、更にその外
側に空気噴出用の貫通孔３９を形成しているが、旋回流
体の旋回径や到達距離が短い場合には、中心部の貫通孔
３８のみとしてもよい。又空気以外の他の気体を用いる
ようにしてもよい。
【００２０】次に本発明の第２の実施の形態について図
５を用いて説明する。この実施の形態では、洗浄対象と
なる基板は液晶パネル等の長方形状のパネルとする。基
板はベルトコンベア等の搬送ライン４１上に載置され、
矢印の方向に搬送される。この実施の形態では図２，図
３に示す第１の実施の形態と同一のノズルユニット１７
を複数、例えば５個のノズルユニット１７−１〜１７−
５を長いフレーム４２上に配列する。フレーム４２は基
板の搬送方向と異なる方向に配置する必要があり、基板
の搬送方向と垂直とすることが好ましい。ノズルユニッ
ト１７−１〜１７−５には、前述した第１の実施の形態
と同様の洗浄液供給ライン１８、空気供給ライン１９が
取付けられている。
５を用いて説明する。この実施の形態では、洗浄対象と
なる基板は液晶パネル等の長方形状のパネルとする。基
板はベルトコンベア等の搬送ライン４１上に載置され、
矢印の方向に搬送される。この実施の形態では図２，図
３に示す第１の実施の形態と同一のノズルユニット１７
を複数、例えば５個のノズルユニット１７−１〜１７−
５を長いフレーム４２上に配列する。フレーム４２は基
板の搬送方向と異なる方向に配置する必要があり、基板
の搬送方向と垂直とすることが好ましい。ノズルユニッ
ト１７−１〜１７−５には、前述した第１の実施の形態
と同様の洗浄液供給ライン１８、空気供給ライン１９が
取付けられている。
【００２１】この場合にもノズルユニットから旋回流に
よって洗浄液が霧化され、又基板とノズルとが相対的に
移動するため、運動エネルギーの伝達が有効に行われ、
異物除去を促進することができる。
よって洗浄液が霧化され、又基板とノズルとが相対的に
移動するため、運動エネルギーの伝達が有効に行われ、
異物除去を促進することができる。
【００２２】次に本発明の第３の実施の形態について説
明する。この実施の形態でも洗浄対象となる基板は長方
形状の基板となり、ベルトコンベア等の搬送ライン４１
で矢印方向に搬送されている。この実施の形態では図６
に示すように、フレーム４３上にノズルユニット１７−
１〜１７−６を配置する。次に、移動方向の下流側のノ
ズルユニット１７−１と１７−２との間にノズルユニッ
ト１７−７を配置し、同様にして１７−８〜１７−１１
を図示のように配置する。このように２列のノズルを交
互にオフセットを付けて配列する。
明する。この実施の形態でも洗浄対象となる基板は長方
形状の基板となり、ベルトコンベア等の搬送ライン４１
で矢印方向に搬送されている。この実施の形態では図６
に示すように、フレーム４３上にノズルユニット１７−
１〜１７−６を配置する。次に、移動方向の下流側のノ
ズルユニット１７−１と１７−２との間にノズルユニッ
ト１７−７を配置し、同様にして１７−８〜１７−１１
を図示のように配置する。このように２列のノズルを交
互にオフセットを付けて配列する。
【００２３】この場合にも同様にして洗浄基板を矢印方
向に搬送することによって基板を洗浄することができ
る。そしてノズルユニットはオフセットを付けて配置さ
れているため、隣接するノズルユニットの影響をあまり
受けることなく、基板の洗浄を確実に行うことができ
る。
向に搬送することによって基板を洗浄することができ
る。そしてノズルユニットはオフセットを付けて配置さ
れているため、隣接するノズルユニットの影響をあまり
受けることなく、基板の洗浄を確実に行うことができ
る。
【００２４】
【発明の効果】以上詳細に説明したように本発明によれ
ば、ノズルの中心から排出される洗浄液に対して気体流
をその側方より傾けて多数の貫通孔から噴出させてい
る。このため洗浄液は微粒子状となり、旋回しながら基
板表面に衝突する。そして旋回の方向が常に変化するた
め、運動エネルギーの伝達が有効に行われて基板表面の
異物を除去することができる。従って異物の除去効果を
高め、短時間で洗浄効果の高い洗浄を実現することがで
きる。
ば、ノズルの中心から排出される洗浄液に対して気体流
をその側方より傾けて多数の貫通孔から噴出させてい
る。このため洗浄液は微粒子状となり、旋回しながら基
板表面に衝突する。そして旋回の方向が常に変化するた
め、運動エネルギーの伝達が有効に行われて基板表面の
異物を除去することができる。従って異物の除去効果を
高め、短時間で洗浄効果の高い洗浄を実現することがで
きる。
【図１】本発明の第１の実施の形態による基板の洗浄装
置の全体構成を示すブロック図である。
置の全体構成を示すブロック図である。
【図２】本実施の形態による基板の洗浄装置のノズル部
分を示す断面図である。
分を示す断面図である。
【図３】本実施の形態によるノズルヘッドの下面図であ
る。
る。
【図４】本実施の形態による基板の洗浄装置の基板とノ
ズルとの相対的な位置関係を示す概略図である。
ズルとの相対的な位置関係を示す概略図である。
【図５】本発明の第２の実施の形態による基板の洗浄装
置の立面図である。
置の立面図である。
【図６】本発明の第３の実施の形態による基板の洗浄装
置の立面図である。
置の立面図である。
【図７】従来の基板の洗浄方法を示す概略図である。
１１ モータ
１２ 減速機構
１３ 回転テーブル
１４ 基板
１５ アーム
１６ アーム機構
１７ ノズルユニット
１８ 洗浄液供給ライン
１９ 空気供給ライン
３１ ノズルホルダ
３２ ノズルヘッド
３３，３４，３８，３９ 貫通孔
３５ 環状溝
４１ 搬送ライン
４２，４３ フレーム
Claims (5)
- 【請求項１】 洗浄すべき基板に対して相対的に移動自
在に配置されたノズルユニットと、 前記ノズルユニットに洗浄液を供給する洗浄液供給ライ
ンと、 前記ノズルユニットに圧縮された気体を供給する気体供
給ラインと、を具備し、 前記ノズルユニットは、 前記洗浄液供給ラインに連結され、中心部開口から洗浄
液を噴出する洗浄液用貫通孔と、 前記気体供給ラインに連結され、前記洗浄液を噴出する
中心部開口の周辺部にその開口が形成され、前記洗浄液
体を微粒子化し旋回させるための気体流を噴出する複数
の気体噴出用貫通孔と、を有することを特徴とする基板
の洗浄装置。 - 【請求項２】 前記基板は、円形の基板であり、 前記ノズルユニットは、前記基板の中心部から周辺部の
間を回動するアーム上に配置されたものであり、 前記基板は、回転テーブル上に配置されたものであるこ
とを特徴とする請求項１記載の基板の洗浄装置。 - 【請求項３】 前記基板は、一定方向に搬送する搬送ラ
イン上に配置されたものであり、 前記ノズルユニットは、前記ラインの搬送方向と異なる
方向に沿って複数配置されていることを特徴とする請求
項１記載の基板の洗浄装置。 - 【請求項４】 前記ノズルユニットは、前記基板の搬送
方向と異なる方向に沿って並列にオフセットを設けて配
置されていることを特徴とする請求項３記載の基板の洗
浄装置。 - 【請求項５】 ノズルより洗浄液を吹き付けて基板を洗
浄する基板の洗浄方法であって、 前記ノズルユニットより洗浄液を前記基板に向けて噴出
させ、 前記ノズルユニットより前記圧縮された気体を互いに異
なり、且つ前記洗浄液の噴出方向と異なり、１点に集中
しない方向に複数の開口から気体を噴出させることによ
り、ノズルのユニットの外部で混合させて微粒子化した
液滴の旋回流を形成し、 前記ノズルユニットと前記基板とを相対的に移動させる
ことによって基板の全面を洗浄することを特徴とする基
板の洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002022198A JP2003224101A (ja) | 2002-01-30 | 2002-01-30 | 基板の洗浄装置及び洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002022198A JP2003224101A (ja) | 2002-01-30 | 2002-01-30 | 基板の洗浄装置及び洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003224101A true JP2003224101A (ja) | 2003-08-08 |
Family
ID=27745246
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002022198A Pending JP2003224101A (ja) | 2002-01-30 | 2002-01-30 | 基板の洗浄装置及び洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003224101A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100834194B1 (ko) | 2007-08-16 | 2008-05-30 | 김학사 | 기판 공정용 렘젯 노즐 및 이를 장착한 기판 공정용 기기 |
| JP2012164896A (ja) * | 2011-02-08 | 2012-08-30 | Tokyo Electron Ltd | 流体供給部材、液処理装置、および液処理方法 |
| JP2013162040A (ja) * | 2012-02-07 | 2013-08-19 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置、これを備える塗布現像装置、及び基板処理方法 |
-
2002
- 2002-01-30 JP JP2002022198A patent/JP2003224101A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2013162040A (ja) * | 2012-02-07 | 2013-08-19 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置、これを備える塗布現像装置、及び基板処理方法 |
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