JP2003221297A - Method for producing calcium fluoride crystal - Google Patents
Method for producing calcium fluoride crystalInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、フォトリソグラフ
ィー用の露光装置に用いられるフッ化カリシウム結晶の
製造方法に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing a calcium fluoride crystal used in an exposure apparatus for photolithography.
【0002】[0002]
【従来の技術】エキシマレーザーは、紫外域で発振する
唯一の高出力レーザーとして注目されており、電子産業
や化学産業やエネルギー産業において応用が期待されて
いる。エキシマレーザー光を発生する装置はエキシマレ
ーザー発振装置として知られている。マニホルド内に充
填されたAr,Kr,Xe,KrF,ArF, F2 等
のレーザーガスを電子ビーム照射や放電等により励起状
態にする。すると、励起された原子は基底状態の原子と
結合して励起状態でのみ存在する分子を生成する。この
分子がエキシマと呼ばれるものである。2. Description of the Related Art Excimer lasers are attracting attention as the only high-power lasers that oscillate in the ultraviolet region, and are expected to find applications in the electronic, chemical, and energy industries. A device that generates excimer laser light is known as an excimer laser oscillator. A laser gas such as Ar, Kr, Xe, KrF, ArF, or F2 filled in the manifold is excited by electron beam irradiation or discharge. Then, the excited atoms combine with the atoms in the ground state to generate molecules that exist only in the excited state. This molecule is called an excimer.
【0003】エキシマは不安定なため、直ちに紫外光を
放出して基底状態に落ちる。これをボンドフリー遷移と
言うが、この遷移によって得られた紫外光を一対のミラ
ーで構成される光共振器内で増倍してレーザー光として
取り出すものがエキシマレーザー発振装置である。Since excimers are unstable, they immediately emit ultraviolet light and fall to the ground state. This is called a bond-free transition. An excimer laser oscillator is one that multiplies the ultraviolet light obtained by this transition in an optical resonator composed of a pair of mirrors and extracts it as laser light.
【0004】エキシマレーザー光の中でもArFレーザ
ーやF2 レーザーはそれぞれ波長が193nm、15
7nmといった真空紫外域と呼ばれる波長域の光であ
り、光学系にはこうした波長域の光の透過率が高いもの
を用いなければならない。Among excimer laser beams, ArF laser and F2 laser have wavelengths of 193 nm and 15 respectively.
It is light in a wavelength range called a vacuum ultraviolet region such as 7 nm, and an optical system having a high transmittance of light in such a wavelength range must be used.
【0005】CaF2 結晶はこのような目的に最適な
光学材料である。CaF 2 crystal is an optimum optical material for such purpose.
【0006】一方、フォトリソグラフィー用露光装置に
用いられる光学系レンズ材料としては、屈折率の均質性
が良く、複屈折率が小さく、研磨精度を上げられること
が必要になる。On the other hand, as an optical lens material used in an exposure apparatus for photolithography, it is necessary that the refractive index has good homogeneity, the birefringence is small, and the polishing accuracy can be improved.
【0007】特開平9−227293では、結晶の融点
よりも400℃融点の低いフッ化亜鉛、フッ化ビスマ
ス、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム等の固体フッ化
物をスカベンジャとして用いる結晶製造方法に関する提
案がある。Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 9-227293 proposes a method for producing a crystal using a solid fluoride such as zinc fluoride, bismuth fluoride, lithium fluoride or sodium fluoride having a melting point of 400 ° C. lower than that of the crystal as a scavenger. is there.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
CaF2 結晶は通常の可視光の光学系の物品としては
満足できる性能を示すものの、真空紫外波長域の露光機
に使用されるレンズ材料としてのCaF2結晶は高い内
部透過率を要求されており、更に、エキシマレーザーの
ように短波長で高出力の光を長期間繰り返し照射すると
その光学特性が劣化することがあること、結像性能を左
右する屈折率の均質性、複屈折率が大きいこと、研磨加
工時の面精度が得られにくいこと等の問題がある。However, although the conventional CaF2 crystal exhibits satisfactory performance as an article for an ordinary visible light optical system, CaF2 crystal as a lens material used in an exposure device in the vacuum ultraviolet wavelength region. Crystals are required to have a high internal transmittance, and further, when irradiated with light of short wavelength and high output like an excimer laser for a long period of time, their optical characteristics may deteriorate, and the refraction that influences the imaging performance. There are problems such as homogeneity of the index, high birefringence, and difficulty in obtaining surface accuracy during polishing.
【0009】特に、エキシマレーザーのうちでも、波長
の短いF2 エキシマレーザーを用いるフォトリソグラ
フィー用露光機に用いられる光学部品の場合は、レンズ
材であるCaF2結晶に要求される光学性能は、非常に
厳しい。In particular, in the case of an optical component used in a photolithography exposure machine using an F2 excimer laser having a short wavelength among excimer lasers, the optical performance required for a CaF2 crystal as a lens material is extremely severe. .
【0010】レンズ材であるCaF2 結晶に要求され
る光学性能は上記のように、内部透過率、レーザー耐
久、屈折率均質性、複屈折率である。The optical performances required of the CaF 2 crystal as the lens material are the internal transmittance, laser durability, refractive index homogeneity and birefringence as described above.
【0011】更に、レンズとするための研磨加工におい
て面精度が得られる結晶材料であること。Further, it should be a crystalline material that can obtain surface accuracy in the polishing process for forming a lens.
【0012】本発明者等は、その原因を探究するうちに
結晶の内部透過率の低下は、結晶の酸化と酸化防止に用
いられたスカベンジャの残留が大きく影響していること
を発見し、内部透過率を低下させないためにスカベンジ
ャの作用のさせ方非常に重要であることに気が付いた。The present inventors, while investigating the cause, found that the decrease in the internal transmittance of the crystal was greatly influenced by the oxidation of the crystal and the residual of the scavenger used for preventing the oxidation. I noticed that it is very important to make the scavenger work so as not to reduce the transmittance.
【0013】本発明は上述した技術的課題に鑑みなされ
たものであり、結晶の使用波長出の内部透過率を向上さ
せることができるフッ化カリシウム結晶の製造方法を提
供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above technical problems, and an object of the present invention is to provide a method for producing a calcium fluoride crystal capable of improving the internal transmittance of the crystal at the wavelength used.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、フッ化カルシウム結晶の精製及び成長及
びアニール製造工程において、酸化防止材として用いる
スカベンジャーが添加時において固体粉末及び気体の両
方を同時或は添加時間を異にして添加されるものとした
ことを特徴とする。In order to achieve the above object, the present invention provides both a solid powder and a gas when a scavenger used as an antioxidant is added in the steps of refining and growing calcium fluoride crystals and in the annealing manufacturing process. Are added simultaneously or at different addition times.
【0015】[0015]
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
【0016】本発明者等はCaF2 結晶製造時のスカ
ベンジャ添加条件を変えて数多くのCaF2結晶を製造
し、結晶の光学特性(分光透過率、γ線耐久)の測定を
行った。The present inventors manufactured a large number of CaF2 crystals by changing the scavenger addition conditions at the time of manufacturing the CaF2 crystals, and measured the optical characteristics (spectral transmittance, γ-ray durability) of the crystals.
【0017】分光透過率は、120nm〜300nmの
真空紫外波長領域が測定できる分光器及びγ線照射後の
カラーセンター発生の評価をするための紫外可視測定用
の分光器を用いた。As for the spectral transmittance, a spectroscope capable of measuring a vacuum ultraviolet wavelength region of 120 nm to 300 nm and an ultraviolet-visible spectroscope for evaluating generation of a color center after γ-ray irradiation were used.
【0018】ガンマ線耐久はレーザー耐久よりも簡便で
あり、しかも大きい結晶全体のカラーセンター発生の有
無を知ることができる。Gamma ray durability is simpler than laser durability, and it is possible to know whether or not a large color center is generated in the entire crystal.
【0019】又、結晶中のスカベンジャ構成元素の残
留、微量酸化の傾向が判断できる。
照射条件として、照射強度1×106
Rのγ線を1時間照射して総量1×106
Rとした。Further, it is possible to judge the tendency of residual scavenger constituent elements in the crystal and a slight amount of oxidation. As the irradiation condition, γ rays having an irradiation intensity of 1 × 10 6 R were irradiated for 1 hour to give a total amount of 1 × 10 6 R.
【0020】これらの評価により内部透過率の良い結晶
は不純物特にスカベンジャ構成元素の残留及び結晶の酸
化劣化が少ないことを見出した。From these evaluations, it was found that crystals having good internal transmittance have less impurities, especially scavenger constituent elements, and less oxidative deterioration of the crystals.
【0021】希土類等の特に透過率、レーザー耐久性に
悪い元素は原料中に極極微量しか含有されていないこと
が原料として重要であることは言うまでもなく、原料選
別の結果、上記評価結果が得られた。Needless to say, it is important as a raw material that rare earths and other elements that are particularly poor in transmittance and laser durability are contained in the raw material in an extremely small amount, and as a result of the raw material selection, the above evaluation results are obtained. It was
【0022】以下、図面を参照して本発明の好適な製造
工程について説明する。A preferred manufacturing process of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0023】先ず、原料として高純度CaF2 合成原
料を用意する。First, a high-purity CaF 2 synthetic raw material is prepared as a raw material.
【0024】そして、フッ化カルシウム原料とスカベン
ジャーとを混合する。このとき、フッ化カルシウムとス
カベンジャーとを容器に入れてこの容器を回転させて混
合すると良い。スカベンジャーとしては、フッ化亜鉛、
フッ化ビスマス、フッ化ナトリウム、フッ化リチウム
等、成長させるフッ化物より酸素と結合し易いものが望
ましい。Then, the calcium fluoride raw material and the scavenger are mixed. At this time, calcium fluoride and the scavenger may be put in a container and the container may be rotated and mixed. As a scavenger, zinc fluoride,
It is preferable to use bismuth fluoride, sodium fluoride, lithium fluoride or the like, which is more likely to bond with oxygen than the grown fluoride.
【0025】合成フッ化物原料中に混じっている酸化物
素と反応して、気化し易い酸化物となる物質が選択され
る。取り分けフッ化亜鉛が望ましいものである。A substance is selected which becomes an oxide that is easily vaporized by reacting with the oxide mixed in the synthetic fluoride raw material. Zinc fluoride is especially preferred.
【0026】例えば、フッ化亜鉛スカベンジャーは、水
分の存在により発生した酸化カルシウムをフッ化カルシ
ウムに変える。For example, a zinc fluoride scavenger converts calcium oxide generated by the presence of water into calcium fluoride.
【0027】CaF2 +H2 O→CaO+2HF
CaO+ZnF2 →CaF2 +ZnO↑
特開平9−315818号においては、スカベンジャー
の添加量が多く、F2エキシマレーザーを用いたフォト
リソグラフィー用露光機の用いられるレンズの要求性能
を満たすことはできない。CaF 2 + H 2 O → CaO + 2HF CaO + ZnF 2 → CaF 2 + ZnO ↑ In Japanese Patent Laid-Open No. 9-315818, a large amount of a scavenger is added, and the required performance of a lens used in a photolithography exposure apparatus using an F 2 excimer laser is satisfied. I can't.
【0028】以下、添付図面を参照して、坩堝降下法を
利用した本発明のCaF2 結晶及び光学素子の製造方
法1000について説明する。但し、本発明は坩堝降下
法に限定されるものではない。A method 1000 for manufacturing a CaF 2 crystal and an optical element according to the present invention using the crucible lowering method will be described below with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the crucible descent method.
【0029】図1に本発明のCaF2 を使用した光学
素子の製造方法のフローチャートを示す。FIG. 1 shows a flowchart of a method of manufacturing an optical element using CaF 2 of the present invention.
【0030】先ず、原料として高純度CaF2 の合成
原料を用意して、CaF2原料とスカベンジャーとを混
合する(ステップ1100)。高純度CaF2の合成原
料は炭酸カルシウムをフッ酸で処理することによって製
造する。本発明はCaF2原石をフッ酸で処理して不純
物(例えば、SiO2)を除去する方法を排除するもの
ではないが、高純度CaF2は原石と違って粉末であ
り、嵩密度が(約10〜約20μ)と非常に少ない小さ
いので好ましい。尚、CaF2原料とスカベンジャーと
を容器(又は坩堝)を混合する時は混合用容器内にCa
F2原料とスカベンジャを入れを、回転して均一な混合
を確保することが好ましい。First, a synthetic raw material of high-purity CaF2 is prepared as a raw material, and the CaF2 raw material and the scavenger are mixed (step 1100). The raw material for synthesizing high-purity CaF2 is produced by treating calcium carbonate with hydrofluoric acid. Although the present invention does not exclude a method of treating CaF2 rough with hydrofluoric acid to remove impurities (eg, SiO2), high-purity CaF2 is a powder unlike rough and has a bulk density (about 10 to about 10). 20 μ), which is very small and preferable. When mixing a CaF2 raw material and a scavenger into a container (or crucible), the Ca
It is preferable that the F2 raw material and the scavenger are put in and rotated to ensure uniform mixing.
【0031】スカベンジャーとしては、弗化亜鉛、弗化
カドミウム、弗化マンガン、弗化ビスマス、弗化ナトリ
ウム、弗化リチウム等、成長させる弗化物より酸素と結
合し易い易く、且つ、分解、蒸発し易いものが望まし
い。弗化物原料中に混じっている酸化物と反応して気化
し易い酸化物となる物質が選択される。取り分け弗化亜
鉛が望ましいものである。As the scavenger, zinc fluoride, cadmium fluoride, manganese fluoride, bismuth fluoride, sodium fluoride, lithium fluoride, etc. are more easily bonded to oxygen than the grown fluoride and decomposed and evaporated. Easy one is desirable. A substance is selected which becomes an oxide which is easily vaporized by reacting with the oxide mixed in the fluoride raw material. Zinc fluoride is especially preferred.
【0032】ここで、スカベンジャーの添加量を制御す
ることが重要である。例えば、特開平9−315815
号公報に開示されているスカベンジャーの添加量は多過
ぎるために、CaF2結晶から製造されたレンズや回折
格子は、F2エキシマレーザーを用いたフォトリソグラ
フィー用の露光装置の要求性能を満たさない。Here, it is important to control the addition amount of the scavenger. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 9-315815
Since the amount of scavenger added disclosed in the publication is too large, the lens and the diffraction grating manufactured from the CaF2 crystal do not satisfy the required performance of the exposure apparatus for photolithography using the F2 excimer laser.
【0033】本実施の形態におけるスカベンジャーの添
加量は、0.001重量%以上0.05重量%以下であ
り、より好ましくは、0.02重量%である。添加量が
多いとスカベンジャーの残留分による屈折率均質性の低
下、内部透過率及びレーザー耐久性の低下をもたらす。
換言すれば、斯かる添加量はスカベンジャーの残留分が
少ないのでCaF2結晶に含まれる不純物及び結晶欠陥
(特に、転位密度)を少なくして高品位のCaF2結晶
の提供をもたらす。The amount of scavenger added in the present embodiment is 0.001% by weight or more and 0.05% by weight or less, and more preferably 0.02% by weight. If the added amount is large, the scavenger residue causes a decrease in the homogeneity of the refractive index and a decrease in the internal transmittance and the laser durability.
In other words, since the amount of such scavenger remaining is small, the amount of impurities and crystal defects (particularly, dislocation density) contained in the CaF2 crystal are reduced to provide a high-quality CaF2 crystal.
【0034】スカベンジャーの添加量をかかる値にまで
下げることができるのは以下に説明する固体スカベンジ
ャと気体スカベンジャの併用及び真空ベーキング処理
(ステップ1200及び1400)によるものである。The addition amount of the scavenger can be lowered to such a value by the combination of the solid scavenger and the gas scavenger described below and the vacuum baking process (steps 1200 and 1400).
【0035】本発明の特徴の1つは、後述する結晶成長
工程(ステップ1500)の前に真空ベーキング処理
(ステップ1200及び1400)を設けたことであ
る。尚、真空ベーキング処理と同様の効果は、後述する
結晶成長炉200のヒーター206の構造、(例えば、
温度を下げる坩堝を引き下げる場合の固液界面付近の下
降温度勾配を緩やかに最適化して不純物の偏析が上部に
集中するようにするような)温度制御及び(例えば、結
晶成長速度を緩やかにしたり、真空引き時間を長くする
等)プロセス条件制御等によっても得られる。One of the features of the present invention is that a vacuum baking process (steps 1200 and 1400) is provided before the crystal growth process (step 1500) described later. Note that the same effect as the vacuum baking process can be obtained by the structure of the heater 206 of the crystal growth furnace 200 described later (for example,
Temperature control and temperature control (for example, to slow down the crystal growth rate, to gently optimize the descending temperature gradient near the solid-liquid interface when pulling down the crucible that lowers the temperature so that segregation of impurities concentrates at the top), It can also be obtained by controlling process conditions, etc. (longer evacuation time).
【0036】こうして得られたCaF2 の粉末とスカ
ベンジャーの混合物に対して真空ベーキング処理を行う
(ステップ1200)。真空ベーキング処理は、混合物
を加熱することによって混合物の水分を除去するために
行われ、ステップ1200の真空ベーキング処理は、後
述する精製工程(ステップ1300)の前に精製工程と
は別工程として行われる。真空ベーキング処理はステッ
プ1400においても行われるが、ステップ1200の
処理はステップ1400の処理よりも多量の水分を吸収
するために水分除去の効果が大きい。The mixture of CaF 2 powder and scavenger thus obtained is subjected to vacuum baking treatment (step 1200). The vacuum baking process is performed in order to remove the water content of the mixture by heating the mixture, and the vacuum baking process of step 1200 is performed as a process different from the purification process before the purification process (step 1300) described later. . The vacuum baking process is also performed in step 1400, but the process of step 1200 absorbs a larger amount of water than the process of step 1400, so that the effect of removing water is great.
【0037】真空ベーキング処理においては、先ず、混
合物320を炭素製の坩堝304に入れて図5に示す真
空ベーク炉300の真空チャンバー302内のメッシュ
台310に装填する。ここで、図5は真空ベーク炉30
0の概略断面図である。In the vacuum baking process, first, the mixture 320 is put in a carbon crucible 304 and loaded into a mesh table 310 in the vacuum chamber 302 of the vacuum baking furnace 300 shown in FIG. Here, FIG. 5 shows a vacuum baking furnace 30.
It is a schematic sectional drawing of 0.
【0038】従って、本実施形態ではCaF2 の原料
とスカベンジャーの混合物320は坩堝304ごと加熱
される。真空ベーク炉300を使用する代わりに、混合
物320は、後述する精製工程(ステップ1300)で
使用される精製炉100を使用しても良い。即ち、後者
の場合には、図2の精製炉100が真空ベーク処理と精
製処理とを兼ねることになる。もっとも、一般には、精
製炉100は汎用の真空ベーク炉300よりも高価であ
り、精製炉100による精製処理の時間を確保するため
に、本実施の形態のように別々の炉として構成する方が
好ましい。Therefore, in this embodiment, the mixture 320 of the CaF 2 raw material and the scavenger is heated together with the crucible 304. Instead of using the vacuum baking furnace 300, the mixture 320 may use the refining furnace 100 used in the refining process (step 1300) described below. That is, in the latter case, the refining furnace 100 of FIG. 2 serves both as the vacuum baking process and the refining process. However, in general, the refining furnace 100 is more expensive than the general-purpose vacuum bake furnace 300, and in order to secure the time for the refining process by the refining furnace 100, it is better to configure it as separate furnaces as in the present embodiment. preferable.
【0039】真空ベーク炉300は、真空チャンバー3
02の内部空間はメッシュ台310と断熱材308によ
って画定され、断熱材308によって断熱され、ドライ
ポンプ330を介して真空又は減圧環境に維持される。
メッシュ台320はヒーター306によって加熱され
る。真空チャンバー302の内部空間には、図示しない
ガス供給機構から窒素、ヘリウム、アルゴン、ネオン、
クリプトン、キセノン等の水分除去を促進する不活性ガ
スを供給するノズルが設けられて内部環境においてガス
フロー環境が形成されても良い。これは減圧環境下にお
いて気体分子数を増加させて水分子及びスカベンジャー
による生成物(例えば、上述の化学式2の例では、Zn
OやO2やZn)他の吸着汚染物の除去を促進するため
である。The vacuum bake furnace 300 includes a vacuum chamber 3
The internal space of 02 is defined by the mesh base 310 and the heat insulating material 308, is thermally insulated by the heat insulating material 308, and is maintained in a vacuum or reduced pressure environment via the dry pump 330.
The mesh table 320 is heated by the heater 306. In the internal space of the vacuum chamber 302, nitrogen, helium, argon, neon,
A gas flow environment may be formed in the internal environment by providing a nozzle that supplies an inert gas that promotes the removal of water such as krypton or xenon. This is because the number of gas molecules is increased in a depressurized environment to generate water molecules and a scavenger product (for example, in the case of the above Chemical Formula 2, Zn
This is to accelerate the removal of O, O2, Zn) and other adsorbed contaminants.
【0040】真空ベーク炉300においては、ノズルか
ら不活性ガスが導入された後でヒーター306が約30
0℃乃至約900℃に加熱して水分を除去し、その後、
ドライポンプ330により10Pa程度の真空度にがチ
ャンバー302の内部を排気し、ヒーター306で約1
50℃〜200℃に加熱してて水分と不活性ガスを除去
する。In the vacuum bake furnace 300, the heater 306 is set to about 30 after the inert gas is introduced from the nozzle.
Heat to 0 ° C to about 900 ° C to remove water, then
The dry pump 330 evacuates the inside of the chamber 302 to a vacuum degree of about 10 Pa, and the heater 306 draws about 1
Water and inert gas are removed by heating at 50 ° C to 200 ° C.
【0041】真空ベーキング処理がなされた後、混合物
に対して精製処理がなされる(ステップ1300)。精
製処理は、不純物(例えば、炭酸)を除去してCaF2
を高純度化する工程であり、脱水、スカベンジング反
応、スカベンジャー生成物の除去、スカベンジャ残留物
の除去、溶融及び固化の作用を含む。精製処理において
は、混合物120は図2に示す精製炉100の坩堝10
4の中に入れられる。After the vacuum baking process is performed, the mixture is subjected to a purification process (step 1300). Purification is performed by removing impurities (eg, carbonic acid) and CaF2.
Is a step of purifying the water, and includes the actions of dehydration, scavenging reaction, removal of scavenger products, removal of scavenger residues, melting and solidification. In the refining process, the mixture 120 is the crucible 10 of the refining furnace 100 shown in FIG.
It can be put in 4.
【0042】図2において、102は精製炉100のチ
ャンバーであり、ロータリーポンプ150、メカニカル
ブースタポンプ160、ターボ分子ポンプ170、除害
系180からなる真空排気系に接続されている。尚、1
50〜170の排気ポンプはこれらの種類に限定されな
い。又、除害系(トラップ)には、排気ガスを冷却して
排気ガス中の有害成分を析出して除去する冷却トラップ
及び排気ガスを熱分解する高温トラップの何れも適用す
ることができる。In FIG. 2, reference numeral 102 denotes a chamber of the refining furnace 100, which is connected to a vacuum exhaust system including a rotary pump 150, a mechanical booster pump 160, a turbo molecular pump 170, and an abatement system 180. 1
The exhaust pump of 50 to 170 is not limited to these types. As the detoxification system (trap), both a cooling trap for cooling exhaust gas to deposit and remove harmful components in the exhaust gas and a high temperature trap for thermally decomposing exhaust gas can be applied.
【0043】チャンバー102は断熱材108によって
断熱され、坩堝104及びヒーター106を収納してい
る。101は不図示のガス供給系に接続された気体スカ
ベンジャ供給口である。坩堝104は、例えば、炭素製
で略円筒形を有し、坩堝支持機構140によって回転自
在に支持されている。必要があれば、坩堝支持機構14
0は坩堝104を降下させることができるように構成さ
れる。坩堝支持機構140による回転は坩堝104の温
度を均一にするために行われる。本実施の形態において
は、図5の真空ベーク炉内の坩堝304と坩堝104と
は同一物としているが、別部材で(即ち、坩堝304内
の混合物を坩堝104に移し変えて)も良い。The chamber 102 is thermally insulated by a heat insulating material 108 and houses a crucible 104 and a heater 106. Reference numeral 101 is a gas scavenger supply port connected to a gas supply system (not shown). The crucible 104 is made of, for example, carbon, has a substantially cylindrical shape, and is rotatably supported by the crucible support mechanism 140. If necessary, crucible support mechanism 14
0 is configured so that the crucible 104 can be lowered. The rotation by the crucible support mechanism 140 is performed in order to make the temperature of the crucible 104 uniform. In this embodiment, the crucible 304 and the crucible 104 in the vacuum baking furnace of FIG. 5 are the same, but they may be separate members (that is, the mixture in the crucible 304 may be transferred to the crucible 104).
【0044】チャンバー102は温度調節用の冷却管1
30にも接続されている。ヒーター106及び冷却管1
30によってチャンバー102内の温度を制御すること
ができる。熱電対110は、例えば、白金から成り、坩
堝104の外壁近傍より坩堝104の温度を測定する。The chamber 102 is a cooling pipe 1 for temperature control.
It is also connected to 30. Heater 106 and cooling pipe 1
The temperature in the chamber 102 can be controlled by 30. The thermocouple 110 is made of platinum, for example, and measures the temperature of the crucible 104 from the vicinity of the outer wall of the crucible 104.
【0045】その後、ヒーター106に通電して坩堝1
04内の混合物120を加熱し、脱水及びその他の吸着
物除去を行うと共に、化学式1及び2に示すスカベンジ
ャーによる不純物除去反応を促進する。このように、ス
テップ1300の精製工程中においても脱水等は行われ
るが、ステップ1200及び1400における真空ベー
ク処理はこれとは別個の工程である。After that, the heater 106 is energized and the crucible 1
The mixture 120 in 04 is heated to dehydrate and remove other adsorbed substances, and promote the impurity removal reaction by the scavenger shown in Chemical Formulas 1 and 2. As described above, dehydration and the like are performed during the refining process of step 1300, but the vacuum baking process in steps 1200 and 1400 is a separate process.
【0046】反応を十分に促進させるためにこの温度帯
では原料を加熱する温度を遅くしなければならない。反
応が終了した温度で精製炉100を真空排気系により真
空に排気し、1×10−3Pa以上の真空度にする。In order to accelerate the reaction sufficiently, the temperature for heating the raw material must be slowed in this temperature range. At the temperature at which the reaction is completed, the refining furnace 100 is evacuated by a vacuum evacuation system to a vacuum degree of 1 × 10 −3 Pa or more.
【0047】次いで、スカベンジ反応の温度領域である
350℃〜1100℃を経て、CaF2 原料を完全に
溶融する。Next, the CaF 2 raw material is completely melted through 350 ° C. to 1100 ° C., which is the temperature range of the scavenging reaction.
【0048】溶融後、残留有害元素を除去するために溶
融状態で数時間から数十時間保持する。この間、フッ化
カルシウムに添加した固体スカベンジャは結晶内に残留
すると光学特性にとって有害であるため、極少量とし
た。そのため、溶融中に不足するスカベンジャは気体ス
カベンジャを炉内に適時添加して結晶の酸化防止を行
う。代替的に、CaF2原料を完全に溶融した後で精製
炉100を真空に排気する。CaF2結晶の格子配列を
整える必要はないので、CaF2原料が溶融したら、ヒ
ーター106のパワーを落とす。After the melting, the molten state is maintained for several hours to several tens of hours in order to remove the residual harmful elements. During this period, the solid scavenger added to the calcium fluoride is harmful to the optical properties if it remains in the crystal, so the amount was made very small. Therefore, for the scavenger that is insufficient during melting, a gas scavenger is added to the furnace at appropriate times to prevent crystal oxidation. Alternatively, the refining furnace 100 is evacuated to vacuum after the CaF2 feedstock is completely melted. Since it is not necessary to arrange the lattice arrangement of the CaF2 crystal, the power of the heater 106 is turned off when the CaF2 raw material is melted.
【0049】続いて、坩堝104を降下させて溶融した
CaF2 の原料を徐冷して結晶成長させる。CaF2
結晶の格子配列を整える必要はないので坩堝の降下速度
は遅い必要はない。尚、本発明は坩堝104を降下させ
ない場合を含むが坩堝104を降下させることによって
不純物の除去の効果は向上する。Then, the crucible 104 is lowered and the raw material of CaF 2 melted is gradually cooled to grow crystals. CaF2
Since it is not necessary to arrange the crystal lattice arrangement, it is not necessary for the crucible to descend slowly. Although the present invention includes the case where the crucible 104 is not lowered, the effect of removing impurities is improved by lowering the crucible 104.
【0050】本工程は、後述する単結晶成長工程(ステ
ップ1500)ほどの温度管理は必要としないため、得
られる結晶は多結晶でも粒界が存在するものでも良い。
こうして得られた結晶のうち上部、即ち、経時的に最後
に結晶化した部分を除去する。この部分は不純物が集ま
り易い(即ち、偏析)部分であるため、このここを除去
することによって特性に悪影響を与える不純物を除去す
る。再び、この結晶を坩堝104に入れて溶融、結晶
化、上部除去の一連の工程を複数回繰り返し行う。尚、
必要があれば、チャンバー102には不活性ガスが導入
されても良い。精製工程で好適な温度範囲は約1390
〜約1450℃である。Since this step does not require temperature control as much as the single crystal growth step (step 1500) described later, the obtained crystal may be a polycrystal or one having grain boundaries.
The upper portion of the crystals thus obtained, that is, the portion that has finally crystallized over time is removed. Since this portion is a portion where impurities are easily collected (that is, segregation), by removing this portion, impurities that adversely affect the characteristics are removed. Again, this crystal is put into the crucible 104, and a series of steps of melting, crystallization, and upper part removal are repeated a plurality of times. still,
If necessary, an inert gas may be introduced into the chamber 102. A suitable temperature range for the purification process is about 1390
~ About 1450 ° C.
【0051】単結晶成長工程は、CaF2 の単結晶を
成長させて結晶の質を向上させる(即ち、格子配列を整
える)工程である。成長方法は結晶の大きさや使用目的
に応じて適当な方法を選択する。精製した結晶220は
図3に示す結晶成長炉200のチャンバー202に収納
された坩堝204内に入れる。The single crystal growth step is a step of growing a single crystal of CaF 2 to improve the crystal quality (that is, to arrange the lattice arrangement). A suitable growth method is selected according to the size of the crystal and the purpose of use. The purified crystal 220 is put into the crucible 204 housed in the chamber 202 of the crystal growth furnace 200 shown in FIG.
【0052】図3において、202は結晶成長炉200
のチャンバーであり、ロータリーポンプ250、メカニ
カルブースタポンプ260、ターボ分子ポンプ270、
除害系280から成る真空排気系に接続されている。チ
ャンバー202は断熱材208によって断熱されてお
り、坩堝204及びヒーター206を収納している。坩
堝204は、例えば、炭素製で略円筒形を有して密閉性
が高く、坩堝支持/引き下げ機構240によって回転及
び上下移動自在に支持されている。坩堝支持/引き下げ
機構240による回転は坩堝204の温度を均一にする
ために行われる。In FIG. 3, 202 is a crystal growth furnace 200.
Of the rotary pump 250, mechanical booster pump 260, turbo molecular pump 270,
It is connected to an evacuation system consisting of the abatement system 280. The chamber 202 is insulated by a heat insulating material 208, and houses a crucible 204 and a heater 206. The crucible 204 is made of, for example, carbon, has a substantially cylindrical shape, has a high hermeticity, and is supported by a crucible supporting / pulling down mechanism 240 so as to be rotatable and vertically movable. The rotation by the crucible supporting / pulling-down mechanism 240 is performed in order to make the temperature of the crucible 204 uniform.
【0053】尚、本実施の形態においては、図5の真空
ベーク炉内の坩堝310と坩堝204とは同一物として
いるが、別部材で(即ち、坩堝304内の混合物を坩堝
204に移し変えて)も良い。チャンバー202は温度
調節用の冷却管230にも接続されている。ヒーター2
06及び冷却管230によって所望の温度勾配を図3に
示す上下方向に形成することができる。熱電対210
は、坩堝204の外壁近傍より坩堝204の温度を測定
する。In the present embodiment, the crucible 310 and the crucible 204 in the vacuum baking furnace shown in FIG. 5 are the same, but they are separate members (that is, the mixture in the crucible 304 is transferred to the crucible 204). Is also good. The chamber 202 is also connected to a cooling pipe 230 for temperature control. Heater 2
A desired temperature gradient can be formed in the vertical direction shown in FIG. 3 by the 06 and the cooling pipe 230. Thermocouple 210
Measures the temperature of the crucible 204 from the vicinity of the outer wall of the crucible 204.
【0054】その後、ヒーター206に通電して坩堝2
04内のCaF2 の2次原料(結晶)220を約14
20℃程度まで加熱し、CaF2結晶を完全に溶融す
る。その後、徐々に坩堝204を2mm/hの速度で降
下させて(所定の温度勾配を通過させ、)溶融したCa
F2結晶を徐冷して単結晶を成長させる。Thereafter, the heater 206 is energized and the crucible 2 is heated.
The secondary raw material (crystal) 220 of CaF 2 in 04 is about 14
The CaF2 crystal is completely melted by heating to about 20 ° C. Thereafter, the crucible 204 was gradually lowered at a speed of 2 mm / h (passing a predetermined temperature gradient) to melt the Ca.
The F2 crystal is gradually cooled to grow a single crystal.
【0055】続いて、結晶成長した弗化物単結晶を図4
に示すアニール炉400で熱処理する(アニール工程)
(ステップ1600)。アニール工程は、成長したCa
F2単結晶を熱処理し、結晶の割れを引き起こす歪みを
除去する工程である。成長した単結晶420は図4に示
すアニール炉400のチャンバー402に収納された坩
堝404内に入れる。Then, the grown fluoride single crystal is shown in FIG.
Heat treatment is performed in the annealing furnace 400 shown in (annealing step)
(Step 1600). The annealing process is performed by growing Ca
In this step, the F2 single crystal is heat-treated to remove the strain that causes crystal cracking. The grown single crystal 420 is put into the crucible 404 housed in the chamber 402 of the annealing furnace 400 shown in FIG.
【0056】図4において、402はアニール炉400
のチャンバーであり、ロータリーポンプ450、メカニ
カルブースタポンプ460、ターボ分子ポンプ470、
除害系480から成る真空排気系に接続されている。チ
ャンバー402は断熱材408によって断熱されてお
り、坩堝404及びヒーター406を収納している。坩
堝404は、例えば、炭素製で略円筒形を有して多段式
に構成され、坩堝支持部材440によって支持されてい
る。In FIG. 4, 402 is an annealing furnace 400.
Of the rotary pump 450, mechanical booster pump 460, turbo molecular pump 470,
It is connected to an evacuation system consisting of the abatement system 480. The chamber 402 is insulated by a heat insulating material 408, and houses a crucible 404 and a heater 406. The crucible 404 is, for example, made of carbon, has a substantially cylindrical shape, and is configured in a multi-stage manner, and is supported by a crucible support member 440.
【0057】チャンバー402は温度調節用の冷却管4
30にも接続されている。ヒーター406及び冷却管4
30によってチャンバー402の温度を制御することが
できる。熱電対410は、例えば、白金から成り、坩堝
404の外壁近傍より坩堝404の温度を測定する。The chamber 402 is a cooling pipe 4 for temperature control.
It is also connected to 30. Heater 406 and cooling pipe 4
The temperature of the chamber 402 can be controlled by 30. The thermocouple 410 is made of platinum, for example, and measures the temperature of the crucible 404 from the vicinity of the outer wall of the crucible 404.
【0058】アニール工程では、坩堝404を約900
℃〜約1000℃に均熱的に加熱して、固体のままCa
F2 結晶の歪を除去する。加熱温度を約1140℃以
上にすると構造変化等を引き起こしてしまうので好まし
くはない。加熱時間は約20時間以上、より好ましく
は、約20〜約30時間である。アニール工程では、ア
ニールを経ることによって結晶の転位が減る。その後、
歪がなくなった状態を維持しながらCaF2結晶の温度
を室温に戻す。In the annealing step, the crucible 404 was set to about 900
℃ ~ about 1000 ℃ uniformly heated to a solid Ca
The strain of the F2 crystal is removed. A heating temperature of about 1140 ° C. or higher is not preferable because it causes structural changes and the like. The heating time is about 20 hours or more, more preferably about 20 to about 30 hours. In the annealing process, crystal dislocations are reduced by passing through the annealing. afterwards,
The temperature of the CaF2 crystal is returned to room temperature while maintaining the strain-free state.
【0059】その後は、必要とされる光学物品の形状
(凸レンズ、凹レンズ、円盤状、板状等)に成形加工す
る(成形加工工程)。After that, the optical article is molded into a required shape (convex lens, concave lens, disk shape, plate shape, etc.) (molding step).
【0060】研磨加工時にCaF2結晶内の転位密度が小さ
いことにより部分的な面精度の低下は非常に小さく許容
値以下で高精度の加工が可能である。Since the dislocation density in the CaF 2 crystal is small at the time of polishing, the partial reduction in surface accuracy is very small, and high-precision processing is possible below the allowable value.
【0061】こうして得られたレンズを各種組み合わせ
れば、エキシマレーザー、特にArFエキシマレーザー
に適した照明光学系を構成できる(光学系組に立て工
程)。そして、エキシマレーザー光源と、フッ化カルシ
ウムからなるレンズを有する光学系と、基板を移動させ
得るステージとを組み合わせて、フォトリソグラフィー
用の露光装置を構成できる。By combining various lenses obtained in this way, an illumination optical system suitable for an excimer laser, particularly an ArF excimer laser, can be constructed (an optical system assembly step). An exposure apparatus for photolithography can be configured by combining an excimer laser light source, an optical system having a lens made of calcium fluoride, and a stage that can move the substrate.
【0062】[実施例]市販の高純度フッ化カルシウム
粉末原料の必要量とスカベンジャであるZnF2 をフ
ッ化カルシウムに対して0.02重量%添加して両者を
混合均一分散させた後、炭素ルツボに充填した。[Example] A necessary amount of a commercially available high-purity calcium fluoride powder raw material and 0.02% by weight of ZnF 2 which is a scavenger with respect to calcium fluoride were added and both were mixed and uniformly dispersed. Filled.
【0063】次いで、真空乾燥炉において150℃、2
4時間の脱ガスを行い、精製炉に移し1420℃に加熱
溶融する。溶融時間は、固体スカベンジャ構成元素のう
ち、有害な元素を除去するために、適当な時間、例えば
30時間とするが、この間、添加した固体スカベンジャ
は極微量であったため、酸化防止の作用で不足のスカベ
ンジャは気体スカベンジャを適時供給する。Then, in a vacuum drying oven, 150 ° C., 2
Degas for 4 hours, transfer to a refining furnace, and heat and melt at 1420 ° C. The melting time is set to an appropriate time, for example, 30 hours, in order to remove harmful elements among the solid scavenger constituent elements, but during this period, the added solid scavenger was in an extremely small amount, so that it was insufficient in the antioxidant function. Scavenger supplies gas scavengers in a timely manner.
【0064】有害不要元素を除去した後徐冷し、原料を
固化した。このフッ化カルシウムブロック表層の有害不
要部分を除去して結晶成長前の2次原料とする。After removing the harmful unnecessary elements, the material was slowly cooled to solidify the raw material. The harmful unnecessary portion of the surface layer of the calcium fluoride block is removed to obtain a secondary raw material before crystal growth.
【0065】次に、上記ブロックを、単結晶成長用の予
め真空乾燥したルツボに入れた。尚、スカベンジャーと
してZnF2を0.005重量%ルツボに入れる。Next, the above block was placed in a crucible for single crystal growth which had been previously vacuum dried. As a scavenger, ZnF2 is put in a 0.005 wt% crucible.
【0066】炉内を真空排気してルツボを加熱し、真空
度6×10−4Torr、温度は1420℃に昇温し、
ルツボ内フッ化カルシウムを溶解、脱ガスするため真空
度を2×10−6Torr、温度を1420℃として2
0時間保った。The furnace was evacuated to heat the crucible, the degree of vacuum was 6 × 10 −4 Torr, and the temperature was raised to 1420 ° C.
In order to dissolve and degas calcium fluoride in the crucible, the degree of vacuum is set to 2 × 10 −6 Torr and the temperature is set to 1420 ° C.
I kept it for 0 hours.
【0067】次に、ルツボを2mm/hの速度で降下さ
せ良質のCaF2 単結晶を成長させた。このときの引
下げ速度は、結晶成長速度に対応することが望ましいの
で、製作する結晶の大きさ、形状により考慮する必要が
あることは言うまでもない。一般には、結晶の大きさが
大きくなれば、引下げ速度を遅くする必要がある。Next, the crucible was lowered at a speed of 2 mm / h to grow a good quality CaF 2 single crystal. It is needless to say that the pulling down rate at this time should be taken into consideration depending on the size and shape of the crystal to be produced, since it is desirable to correspond to the crystal growth rate. Generally, the larger the size of the crystal, the slower the pulling rate needs to be.
【0068】次に、アニール炉のるつぼに成長させたフ
ッ化カルシウム単結晶と、0.002重量%のZnF2
を入れた。炉内を排気して、ルツボの温度を室温から
900℃に速度100℃/hで上昇させた後50時間90
0℃に保持した。そして、5℃/hの速度で低下させ、
室温まで冷却した。このときの、冷却速度は結晶の大き
さが大きくなればそれに従い、冷却速度も遅くする必要
がある。つまり、遅くしないと、複屈折率を極微小にす
ることが困難になる。Next, the calcium fluoride single crystal grown in the crucible of the annealing furnace and 0.002% by weight of ZnF 2
I put it in. After evacuating the furnace and raising the temperature of the crucible from room temperature to 900 ° C at a rate of 100 ° C / h, 50 hours 90
Hold at 0 ° C. Then, it is lowered at a rate of 5 ° C./h,
Cooled to room temperature. At this time, the cooling rate needs to be slowed down as the size of the crystal becomes larger. That is, unless it is delayed, it becomes difficult to make the birefringence extremely small.
【0069】全工程を通して、用いられる固体スカベン
ジャは、LiF,NaF,CdF2,KF等、ZnF2
以外のフッ化物も同様の効果が得られる。Throughout the whole process, the solid scavenger used is LiF, NaF, CdF2, KF, ZnF2, etc.
Similar effects can be obtained with other fluorides.
【0070】又、気体スカベンジャとしては、フッ素ガ
ス、フッ化炭素ガス、フッ化水素ガスが有効である。As the gas scavenger, fluorine gas, fluorocarbon gas and hydrogen fluoride gas are effective.
【0071】[0071]
【発明の効果】本発明によれば、精製炉内及び成長炉内
で脱ガスする以外に使用するルツボ及び原料の真空中ガ
ス出しを別工程(ロードロック前室も含む)で予め処理
し、原料内に混合する固体スカベンジャの添加量を極微
量にすること及び気体スカベンジャの利用により結晶内
のスカベンジャ構成元素の残留及び結晶の酸化を防止す
ることにより結晶の使用波長での内部透過率(結晶10
mm厚さの表面反射損失を除いた透過率)を向上させる
ことができる。このことにより、目的の露光機のレンズ
系の透過率を向上させ良好な光学系の光量を得るここが
可能になった。According to the present invention, the crucible used for degassing in the refining furnace and the growth furnace and the degassing of the raw material in vacuum are pretreated in a separate step (including the load lock prechamber). The amount of solid scavenger mixed in the raw material is minimized, and the use of a gas scavenger prevents the scavenger constituent elements from remaining in the crystal and oxidation of the crystal. 10
The transmittance (excluding the surface reflection loss of mm thickness) can be improved. This makes it possible to improve the transmittance of the objective lens system of the exposure machine and obtain a good light amount of the optical system.
【図1】本発明のCaF2 結晶の製造方法を示すフロ
ーチャートである。FIG. 1 is a flowchart showing a method for producing a CaF 2 crystal according to the present invention.
【図2】図1に示す製造方法の精製工程に使用される精
製装置の概略断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a refining device used in the refining step of the manufacturing method shown in FIG.
【図3】図1に示す製造方法の単結晶成長工程に使用さ
れる結晶成長炉の概略断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a crystal growth furnace used in the single crystal growth step of the manufacturing method shown in FIG.
【図4】図1に示す製造方法のアニール工程に使用され
るアニール炉の概略断面図である。4 is a schematic cross-sectional view of an annealing furnace used in the annealing step of the manufacturing method shown in FIG.
【図5】図1に示す製造方法の真空ベーキング工程に使
用される真空ベーク炉の概略断面図である。5 is a schematic cross-sectional view of a vacuum baking furnace used in the vacuum baking step of the manufacturing method shown in FIG.
【図6】スカベンジャ不足で短波長の透過率が低い結晶
の分光透過率の例を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing an example of a spectral transmittance of a crystal having a low short wavelength transmittance due to a shortage of a scavenger.
【図7】スカベンジャ添加量に依存した結晶の分光透過
率の例を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing an example of a spectral transmittance of a crystal depending on a scavenger addition amount.
【図8】本発明の結晶の分光透過率の例を示す図であ
る。FIG. 8 is a diagram showing an example of spectral transmittance of the crystal of the present invention.
100 精製炉 200 結晶成長炉 300 真空ベーク炉 400 アニール炉 100 refining furnace 200 Crystal growth furnace 300 vacuum bake oven 400 annealing furnace
Claims (2)
びアニール製造工程において、酸化防止材として用いる
スカベンジャーが添加時において固体粉末及び気体の両
方を同時或は添加時間を異にして添加されることを特徴
とするフッ化カルシウム結晶の製造方法。1. A scavenger used as an antioxidant in the steps of refining and growing a calcium fluoride crystal and in an annealing production step, at the time of addition, both a solid powder and a gas are added simultaneously or at different addition times. A method for producing a calcium fluoride crystal, which is characterized.
ロン、フッ化亜鉛のうちの1つ或はその混合であり、気
体はフッ化水素、フッ化炭素、フッ素であることを特徴
とする請求項1記載のフッ化カリシウム結晶の製造方
法。2. The scavenger is characterized in that the solid powder is one of carbon, Teflon, zinc fluoride, or a mixture thereof, and the gas is hydrogen fluoride, carbon fluoride, or fluorine. A method for producing the calcium fluoride crystal described in the above.
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006124242A (en) * | 2004-10-29 | 2006-05-18 | Hitachi Chem Co Ltd | Fluoride single crystal, calcium fluoride single crystal and its sorting method |
JP2007008743A (en) * | 2005-06-29 | 2007-01-18 | Hitachi Chem Co Ltd | Method for producing fluoride single crystal |
CN114622279A (en) * | 2022-03-18 | 2022-06-14 | 四川奇峰景行光学科技有限公司 | Fluoride polycrystalline raw material treatment device and method |
CN114622284A (en) * | 2022-03-02 | 2022-06-14 | 四川奇峰景行光学科技有限公司 | Raw material premelting furnace for crystal growth and calcium fluoride crystal raw material premelting method |
KR20230025290A (en) * | 2021-08-13 | 2023-02-21 | 한국광기술원 | Apparatus for Recovering by-products Generated in the Process of Refining Fluoride-Based Raw Materials and Fluoride-based Raw Material Purification System Including the Same |
-
2002
- 2002-01-31 JP JP2002023199A patent/JP2003221297A/en active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006124242A (en) * | 2004-10-29 | 2006-05-18 | Hitachi Chem Co Ltd | Fluoride single crystal, calcium fluoride single crystal and its sorting method |
JP2007008743A (en) * | 2005-06-29 | 2007-01-18 | Hitachi Chem Co Ltd | Method for producing fluoride single crystal |
KR20230025290A (en) * | 2021-08-13 | 2023-02-21 | 한국광기술원 | Apparatus for Recovering by-products Generated in the Process of Refining Fluoride-Based Raw Materials and Fluoride-based Raw Material Purification System Including the Same |
KR102597453B1 (en) | 2021-08-13 | 2023-11-02 | 한국광기술원 | Apparatus for Recovering by-products Generated in the Process of Refining Fluoride-Based Raw Materials and Fluoride-based Raw Material Purification System Including the Same |
CN114622284A (en) * | 2022-03-02 | 2022-06-14 | 四川奇峰景行光学科技有限公司 | Raw material premelting furnace for crystal growth and calcium fluoride crystal raw material premelting method |
CN114622279A (en) * | 2022-03-18 | 2022-06-14 | 四川奇峰景行光学科技有限公司 | Fluoride polycrystalline raw material treatment device and method |
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