JP2003217485A - カーボン系物質で形成されたエミッタを有する電界放出表示装置 - Google Patents

カーボン系物質で形成されたエミッタを有する電界放出表示装置

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ゲート電極の駆動に必要な電圧を上昇させず
に、十分な電界放出を起こしながら良質のイメージを具
現する事ができる電界放出表示装置を提供する。 【解決手段】 第1基板2と、第1基板2上に第1方向
に形成されるゲート電極6と、ゲート電極6を覆いなが
ら第1基板2上に形成される絶縁層8と、絶縁層8上に
第2方向に形成されるカソード電極10と、カソード電
極10上に形成されるエミッタ12と、絶縁層8上にエ
ミッタから間隔をおいて形成されながらゲート電極6と
連結されるカウンタ電極14と、第1基板2と任意の間
隔をおいて配置されながら、第1基板2と真空容器を形
成する第2基板4及び第2基板4上にカソード電極10
及びカウンタ電極14と面するように形成されるアノー
ド電極16を含む。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は電界放出表示装置に
関し、より詳しくは、炭素系物質からなるエミッタを有
する電界放出表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】冷陰極を電子放出源として使用してイメ
ージを形成する装置である電界放出表示装置(FED、Fie
ld Emission Display)は、電子放出層であるエミッタ
の特性によって装置全体の品質が大きく左右される。
【0003】初期の電界放出表示装置において、前記エ
ミッタは主にモリブデン(Mo)を主材質とする、いわゆ
る、スピント(Spindt)タイプの円錐形金属チップで形
成されてきたが、これに関する従来技術としては、米国
特許第3,789,471号に開示された電界放出カソ
ードを有する表示装置がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前記金属チッ
プ形状のエミッタを有する電界放出表示装置を製造する
時には、公知のように半導体製造工程、−エミッタが
配置されるホールを形成するためのフォトリソグラフィ
及びエッチング工程、金属チップを形成するためのモ
リブデンの蒸着工程など−を使用するため、製造工程が
複雑で高難度の技術を必要とするだけでなく、高価の装
備を使用しなければならないために製品製造単価の上昇
によって大量生産が難しいという問題点がある。
【0005】これにより電界放出表示装置の関連業界で
は、低電圧(大略、10〜50V)の駆動条件でも電子
放出ができ、製造工程上にも便宜を図ることができるよ
うにするために、前記エミッタを平坦な形状に形成する
技術を研究開発している。
【0006】いままでの技術動向によれば、前記平板な
形状のエミッタとしては、炭素系物質、たとえば、グラ
ファイト、ダイアモンド、DLC(diamond like carbo
n)、C60(Fllerene、フラーレン)または炭素ナノ
チューブ(CNT、Carbon nanotube)などが適していると
知られており、このうち特に炭素ナノチューブが比較的
低い駆動電圧(大略、10〜50V)でも電子放出を円
滑に行うことができるので電界放出表示装置のエミッタ
として最も理想的な物質として期待されている。
【0007】このような炭素ナノチューブを利用した電
界放出表示装置と関する従来技術としては、米国特許第
6,062,931号、第6,097,138号に開示
された冷陰極電界放出表示装置がある。
【0008】一方、前記電界放出表示装置がカソード、
アノード及びゲート電極を有する3極管の構造を有する
時、この電界放出表示装置は、多くの場合、前記エミッ
タが配置される基板上に先にカソード電極を形成し、こ
の上に前記エミッタを配置した後、このエミッタ上方に
前記ゲート電極を配置した構造を有する。言い換える
と、従来の電界放出表示装置はカソード電極とアノード
電極との間にゲート電極を配置して前記エミッタから電
子を放出してこれを蛍光体に誘導する構造を有する。
【0009】しかし、電界放出表示装置がその特性を高
めるために、前記3極管の構造を取りながらも、前記炭
素系物質、特に、炭素ナノチューブを用いて前記エミッ
タを形成する時には、前記ゲート電極及びこのゲート電
極の下方に配置された絶縁層上部領域に形成されたホー
ルの中に前記エミッタを良好に形成することが難しいと
いう問題点がある。
【0010】このような問題点の原因は、ペーストを利
用した印刷法で前記エミッタを形成する時、微細な大き
さを有するホールの中にペーストを配置させるのが容易
ではないためである。
【0011】最近は電界放出表示装置に用いる電極の配
置を別なものにして前記問題点を解決しようとする努力
がなされている。これに関する提案として、米国特許公
開US2001/0006232 A1には、ゲート電極
をエミッタが形成される基板とカソード電極との間に配
置して形成する電界放出表示装置が開示されている。
【0012】この技術では、ゲート電極の位置変更によ
りエミッタを基板の最上位置に配置させることによっ
て、炭素系物質で大量生産に効果がある印刷法でエミッ
タを容易に形成するようにしている。
【0013】しかし、どうしてもゲート電極がエミッタ
の下に位置した状態で絶縁層によって覆われて非露出さ
れた状態を維持するので、カソード電極とゲート電極と
の間に、エミッタから電子を放出させるための電気場を
十分に形成するためには、高い電圧の印加を受けるかま
たは基板上に所定の間隔をおいて配置されるカソード電
極間の間隔を広くしなければならない。
【0014】したがって、前記技術による電界放出表示
装置を使用する時には、ゲート電極に対する駆動電圧が
上昇する負担があったり、またはカソード電極間の間隔
を広くする時、装置の駆動が不可能になる負担がある。
【0015】ここで、前記装置駆動が不可能とは、カソ
ード電極間の間隔が広くなれば、エミッタから放出され
た電子と、この電子が該当蛍光体にぶつかって発生する
電子が絶縁層の表面に積まれ、充電(positively charg
ing)される確率が高まるが、このように絶縁層の表面
に蓄積された電子は、前記装置で一つの画素に対する電
界放出を起こす時、決められた必要量より多くの電界放
出が起こるようにし、不必要な電子を発生させることに
よって、望まない蛍光体の異常発光が発生することを言
う。
【0016】したがって、本発明は前記のような問題点
を勘案して案出されたものであって、本発明の目的は、
ゲート電極の駆動に必要な電圧を上昇させずに、十分な
電界放出を起こし、良質のイメージを表示できる電界放
出表示装置を提供することにある。
【0017】
【課題を解決するための手段】本発明は上記の目的を実
現するために、第1基板と、前記第1基板上に第1方向
に形成されるゲート電極と、前記ゲート電極を覆いなが
ら前記第1基板上に形成される絶縁層と、前記絶縁層上
に第2方向に形成されるカソード電極と、前記カソード
電極上に形成されるエミッタと、前記絶縁層上に前記エ
ミッタから間隔をおいて形成されながら前記ゲート電極
と連結されるカウンタ電極と、前記第1基板と任意の間
隔をおいて配置されながら、この第1基板と協働して真
空容器を形成する第2基板及び前記第2基板上に前記カ
ソード電極及び前記カウンタ電極と対面するように形成
されるアノード電極を含む電界放出表示装置を提供す
る。
【0018】前記でカウンタ電極とゲート電極との電気
的な連結は、前記絶縁層に形成される貫通ホール内に前
記カウンタ電極を形成する物質または導電性がある物質
が配置され、これらが前記カウンタ電極とゲート電極を
連結することによって形成される。
【0019】また、前記で前記カウンタ電極は前記エミ
ッタとの間に最適の電子放出を行うための電界を形成す
るために、前記カソード電極との間の間隔を適正に維持
するのが好ましい。
【0020】さらに、前記でカウンタ電極は前記エミッ
タとの間に最適の電子放出を行うための電界を形成する
ために、前記カソード電極より高く前記絶縁層上に形成
されるのが好ましい。
【0021】さらに、前記でカウンタ電極とエミッタと
は最適の電子放出を行うための電界を形成するために、
その対向する各々の面を凹凸や曲面形状のように平らで
ない形状に形成されるのが好ましい。
【0022】
【発明の実施の形態】以下、本発明を明確にするための
好ましい実施例を添付した図面を参考にしてより詳細に
説明する。
【0023】図1は本発明の第1実施例による電界放出
表示装置を示した部分斜視図であり、図2は本発明の第
1実施例による電界放出表示装置の結合断面図であっ
て、図1の矢印A方向から見て示した図面である。な
お、各部品の平面的形状および配置は、仮想表示面に投
影された状態を記す。
【0024】図示されているように、電界放出表示装置
は任意の大きさを有する第1基板(または背面基板、以
下、便宜上背面基板と称する)2と第2基板(または前
面基板、以下、便宜上前面基板と称する)4とを内部空
間部が形成されるように所定の間隔をおいて実質的に平
行に配置して装置の外観である真空容器を形成してい
る。
【0025】前記で背面基板2上には電界放出を行うこ
とができる構成が、前面基板4上には電界放出によって
放出された電子により所定のイメージを表示できる構成
が形成されるが、これをより具体的に説明すれば、次の
通りである。
【0026】まず、背面基板2上には所定のパターン、
たとえば、ストライプ形状の複数の細長いゲート電極6
が任意の間隔をおいて背面基板2の一方向(X)に沿っ
て長く形成される。また、ゲート電極6上にはこのゲー
ト電極6を覆いながら背面基板2上に全面を覆うように
配置される絶縁層8が形成されるが、この絶縁層8はガ
ラス質、SiO、ポリイミド、ナイトライド、または
これらの組み合わせ、またはこれらの積層構造からなる
のが好ましい。
【0027】また、絶縁層8上には複数の細長いカソー
ド電極10が所定のパターン、たとえば、ストライプ形
状をし任意の間隔をおいてゲート電極6と直交する方向
(Y)に沿って長く形成される。
【0028】さらに、背面基板2上に設定される画素領
域部位には電界放出によって実質的に電子を放出するよ
うに、カソード電極10に沿って細長いエミッタ12が
形成配列される。本実施例にあっては、エミッタ12は
カソード電極10の長さ方向に沿って、このカソード電
極10の端部及び絶縁層8を覆うように形成されてい
る。もちろん、ここでエミッタ12の配置形状は一つの
例にすぎ、たとえば、カソード電極10の上にこのカソ
ード電極10の長さ方向に沿って中心部だけ、またはカ
ソード電極10の一側端部だけ、またはカソード電極1
0の両端部だけなど、多様な形態をすることが可能であ
る。
【0029】このようなエミッタ12は本発明におい
て、炭素系物質、例えば、炭素ナノチューブ、C
60(Fllerene、フラーレン)、ダイアモンド、DL
C、グラファイトまたはこれらの組み合わせなどを主材
料として構成され、その形成法としてはスクリーンプリ
ンティング法、化学気相蒸着法(CVD)またはスパッタ
リング法などを用いることができ、本実施例では材質と
しては炭素ナノチューブを、形成法としてスクリーンプ
リンティング法を使用している。
【0030】また、本発明においては、各ゲート電極6
に印加される駆動電圧が少なくても各エミッタ12から
絶縁層8より上方に、良好に電子を放出できるようにす
るためのカウンタ電極14が複数個形成されている。
【0031】カウンタ電極14は、電界放出表示装置の
動作時、ゲート電極6に所定の駆動電圧が印加されてエ
ミッタ12との間に電子放出のための電界を形成する
時、自身もエミッタ12に向かって電子放出のための電
界を追加的に形成するようになる部材であって、これは
背面基板2上に設定される画素領域部位にそれぞれ配置
される。
【0032】本実施例でカウンタ電極14は、大略四角
形状であり、各カソード電極10の間に設定される画素
領域に配置される。ここで、カウンタ電極14の形状は
前記四角形状以外に他のパターンでも形成可能である。
【0033】一方、カウンタ電極14はゲート電極6と
電気的に連結され、ゲート電極6の駆動によって連動さ
れる。このために本実施例では、絶縁層8上に形成され
た貫通ホール8aを通じてゲート電極6とカウンタ電極
14を電気的に連結させており、この時、貫通ホール8
a内には実質的な2個の電極6、14の電気的連結のた
めに、カウンタ電極14を形成する物質自体、または別
途の導電性のある物質などが配置される。また、貫通ホ
ール8aはカウンタ電極14に対応する形状を有し、実
質的にこれは絶縁層8の製造方法‐印刷法、フォトリソ
グラフィ法など‐によって形成される。
【0034】このように構成される背面基板2上の構成
に比べて、前面基板4上には、ITOからなるアノード
電極16とともに、図1のゲート電極6の長手方向
(X)に沿ってストライプパターンのR、G、B蛍光層
18が任意の間隔をおいて形成される。
【0035】背面基板2と基板4とは、エミッタ12と
蛍光層18が直交状態に対向するように任意の間隔をお
いて配置され、その周囲に塗布されるシーリング物質2
0によって付着されることにより一体をなす。この時、
2枚の基板2、4の間の非画素領域には前記両基板の間
の間隔を維持するためのスペーサ22が多数配置され
る。
【0036】以上のように構成される電界発光表示装置
は、その外部からアノード電極16、カソード電極10
及びゲート電極6に所定の電圧を印加すれば、ゲート電
極6とエミッタ12端部との間に電界を形成しながら、
エミッタ12から電子を放出し、この放出された電子を
前記蛍光層18に誘導してこの蛍光層18を打撃するよ
うにし、この時、発生する光で所定のイメージを実現す
る。
【0037】このような動作の時、ゲート電極6に印加
される電圧は、貫通ホール8aを通じてカウンタ電極1
4にも印加され、これによってエミッタ12とカウンタ
電極14との間にも所定の強さを有する電界が形成され
る。この追加的な電界はエミッタ12とゲート電極6と
の間に形成される電界に加えられて、エミッタ12によ
り強い電界を形成することができるので、これにエミッ
タ12からは更に多量の電子を放出することができるよ
うになる。図2の参照番号24はエミッタ12とカウン
タ電極14との間に形成される追加的な電界を示してい
る。
【0038】つまり、電界放出表示装置においては、ゲ
ート電極6に従来のような仕様を有する電界放出表示装
置で該当ゲート電極に印加される電圧と同様な大きさの
電圧が印加されても、カウンタ電極14によって、更に
多量の電子をエミッタ12から放出させることができる
ようになり、これは言い換えると、ゲート電極6に印加
される電圧を従来値と比較して低くしても、ある基準値
ほどの電界放出を行うことができることを示す。
【0039】一方、カウンタ電極14が絶縁層8上に配
置される時、図2に示すように、カソード電極10との
関係、つまり、その間の間隔(d)を適正に維持して配
置されるのが好ましい。
【0040】下表1は、本発明の発明者がカソード電極
10とカウンタ電極14との間の前記間隔(d)を変化
させながら、カソード電極10上に形成される電界の強
さ(E)を計算した値であって、ゲート電極6に駆動電
圧が印加される場合(On)と、駆動電圧が印加されない
場合(Off)とに分けて計算した。
【0041】
【表1】
【0042】表1の計算値は、アノード電極16に印加
される電圧を1,000V、カソード電極10に印加さ
れる電圧を0V、ゲート電極6がオンである場合に印加
される電圧を100V、ゲート電極6がオフである場合
に印加される電圧をOVとして計算したものである。
【0043】また、図3は表1を基準にして、オンであ
る場合カソード電極10上に形成される電界の強さと、
オフである場合カソード電極10上に形成される電界の
強さとの比(On field to Off field ratio)と前記d
との間の関係を示すグラフである。
【0044】図3を見ると、前記dが減るほど、前記電
界の強さの比が順次に大きくなることが分かる。これ
は、即ち前記dが適正の位置を維持するようになると、
ゲート電極6に印加する電圧を下げてもエミッタ12か
ら電子放出を行うことができる十分な電界を形成するこ
とができることを意味する。本発明において、前記dは
50μmから150μmの間に維持されるのが好ましい。
【0045】一方、第1実施例でカウンタ電極14の高
さは、カソード電極10の高さと大略同一であるが、本
発明における前記カウンタ電極14の高さが、必ず前記
の場合に限定されるわけではない。
【0046】次に第2実施例について述べる。図4は、
本発明の第2実施例による電界放出表示装置を示した部
分斜視図であって、この第2実施例ではカウンタ電極に
ついて主に説明する。
【0047】この第2実施例による電界放出表示装置
は、先に述べた第1実施例の電界放出表示装置と基本的
に大部分同じ構造であるが、カウンタ電極だけは別にし
て構成している。便宜上この例の説明において、カウン
タ電極を除いた構成については第1実施例で使用した引
用符号をそのまま使用する。
【0048】図示されているように、この第2実施例で
も前記カウンタ電極30は、カソード電極10の間に配
置されながら絶縁層8の貫通ホール8aを通じてゲート
電極6と電気的に連結され、エミッタ12との間に電子
放出のための電界を形成する。
【0049】この時、カウンタ電極30は貫通ホール8
aと大略類似した断面積を有し貫通ホール8a内外に配
置されながら、ゲート電極6と電気的に連結されること
はもちろん、絶縁層8上にカソード電極10よりその上
端が高い所に位置できる高さを有して形成される。この
ようなカウンタ電極30の形成方法としてはメッキ法が
好ましい。
【0050】このように、カウンタ電極30がカソード
電極10より高く形成されれば、電界放出表示装置にお
いては、カウンタ電極30が、カソード電極10はもち
ろん、このカソード電極10上に形成されたエミッタ1
2より相対的に高い位置で電界を形成するようになるの
で、これにエミッタ12から放出される電子の初期走査
方向及び速度などに影響を与えて上述した基本的な作用
以外に電子ビームに対する集束機能もやはり向上させる
ことができる。
【0051】次に、電界放出表示装置において、前記エ
ミッタとカウンタ電極の関係を前記実施例と別にした他
の実施例について検討してみる。つまり、上述した実施
例でエミッタとカウンタ電極の各々はその対向する面が
平らであるが、以下に説明する第3〜第5実施例ではこ
れと異なっている。
【0052】まず、図5に示した第3実施例の電界放出
表示装置は、カウンタ電極32のエミッタ34に対向す
る面を上述した例と同様に平らに形成し、エミッタ34
のカウンタ電極32に対向する面はのこぎり模様のよう
な凹凸で形成している。
【0053】また、図6に示した第4実施例の電界放出
表示装置は、カウンタ電極36のエミッタ38に対向す
る面と、エミッタ38のカウンタ電極36に対向する面
が、どちらものこぎり模様のような凹凸で形成してい
る。
【0054】このように前記対向電極及び/またはエミ
ッタの対向面が凹凸に形成される時には、カウンタ電極
とエミッタ電極の間隔が部分的にでも狭くなるので、こ
れに前記間隔が狭くなったエミッタの部位は前記カウン
タ電極によって形成される電界の影響をさらに受けるよ
うになり、カウンタ電極による効果はさらに上昇する。
【0055】また、図7に示した第5実施例の電界放出
表示装置では、カウンタ電極40の対向面とエミッタ4
2の対向面を、どちらも局面に、更に、例えばカウンタ
電極40のエミッタ42に対向する面は膨らんだ形状
に、エミッタ42のカウンタ電極40に対向する面は、
カウンタ電極40のエミッタ42に対向する面に対応し
て凹んだ形状に形成している。
【0056】このような形状のカウンタ電極40とエミ
ッタ42は、エミッタ42の端部から放出された電子
が、図示していない一つの画素の蛍光体に集束される
時、エミッタ42の対向面形状によって前記蛍光体の中
心部に向かって集束される確率が高いので、これによ
り、前記画素に隣接する他の画素の蛍光体を照射して発
光させる、いわゆる、スキャン方向ビーム焼きつき現象
を防止することができる。
【0057】以上、本発明の好ましい実施例について説
明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、特
許請求の範囲と発明の詳細な説明及び添付した図面の範
囲内で多様に変形して実施することが可能であり、これ
も本発明の範囲に属するのは当然のことである。
【0058】
【発明の効果】本発明による電界放出表示装置は、ゲー
ト電極と電気的に連結されながらカソード電極の間に配
置されるカウンタ電極が前記ゲート電極によって形成さ
れる電界に加えてエミッタとの間に電界を形成するの
で、電子放出のための電界を上昇的に増加させることが
できる結果を得て、従来技術と比べると、ゲート電極に
必要な駆動電圧を低減させた状態でも所望の電界放出で
良質の画像を表示することができる効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例による電界放出表示装置を
示した部分斜視図である
【図2】本発明の第1実施例による電界放出表示装置を
示した結合断面図である
【図3】本発明によるゲート電極のオン、オフ時の電界
の強さの比とカソード電極及びカウンタ電極間の距離関
係を示すグラフである
【図4】本発明の第2実施例による電界放出表示装置を
示した部分斜視図である
【図5】本発明の第3実施例による電界放出表示装置を
示した部分平面図である
【図6】本発明の第4実施例による電界放出表示装置を
示した部分平面図である
【図7】本発明の第5実施例による電界放出表示装置を
示した部分平面図である
【符号の説明】
2 第1基板(背面基板) 4 第2基板(前面基板) 6 ゲート電極 8 絶縁層 8a 貫通ホール 10 カソード電極 12、34、38、42 エミッタ 14、30、32、36、40 カウンタ電極 16 アノード電極 18 R、G、B蛍光層 20 シーリング物質 22 スペーサ 24 電界
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 金 維 鍾 大韓民国京畿道水原市八達區梅灘3洞(無 番地) 住公2団地 新梅灘住公アパート メント35棟401号 (72)発明者 李 相 祚 大韓民国京畿道華城郡泰安邑半月里865- 1番地 新靈通現代アパートメント110棟 204号 (72)発明者 車 在 ▲ちょる▼ 大韓民国ソウル市江南區論▲ひゅん▼洞 186‐10番地307号 (72)発明者 金 鍾 ▲みん▼ 大韓民国京畿道水原市八達區靈通洞(無番 地) サンナムシル信元アパートメント 641棟1802号 Fターム(参考) 5C036 EE04 EE19 EF01 EF06 EF08 EG12 EG48 EH04 EH26 5C135 AA08 AA15 AB06 AB07 AB09 AC03 HH01 HH06

Claims (23)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1基板と、 前記第1基板上に第1方向に形成されるゲート電極と、 前記ゲート電極を覆いながら前記第1基板上に形成され
    る絶縁層と、 前記絶縁層上に第2方向に形成されるカソード電極と、 前記カソード電極上に形成されるエミッタと、 前記絶縁層上に前記エミッタから間隔をおいて形成さ
    れ、前記ゲート電極と連結されるカウンタ電極と、 前記第1基板と任意の間隔をおいて配置され、この第1
    基板と協働して真空容器を形成する第2基板と、 前記第2基板上に前記カソード電極及び前記カウンタ電
    極と対面するように形成されるアノード電極と、を含む
    電界放出表示装置。
  2. 【請求項2】 前記第1方向が前記第2方向と直角であ
    る、請求項1に記載の電界放出表示装置。
  3. 【請求項3】 前記カウンタ電極が前記絶縁層に貫通形
    成されたホールを通じて前記ゲート電極と連結される、
    請求項2に記載の電界放出表示装置。
  4. 【請求項4】 前記エミッタが炭素系物質からなる、請
    求項3に記載の電界放出表示装置。
  5. 【請求項5】 前記カソード電極とカウンタ電極との間
    の距離が50μm〜150μmからなる、請求項4に記載
    の電界放出表示装置。
  6. 【請求項6】 前記エミッタと前記カウンタ電極とが同
    程度の高さを有する、請求項4に記載の電界放出表示装
    置。
  7. 【請求項7】 前記カウンタ電極が前記エミッタより高
    い、請求項4に記載の電界放出表示装置。
  8. 【請求項8】 前記エミッタの前記カウンタ電極に対向
    する面がのこぎり形状からなる、請求項4に記載の電界
    放出表示装置。
  9. 【請求項9】 前記カウンタ電極の前記エミッタに対向
    する面がのこぎり形状からなる、請求項8に記載の電界
    放出表示装置。
  10. 【請求項10】 前記エミッタの前記カウンタ電極に対
    向する面が凹んで形成され、前記カウンタ電極の前記エ
    ミッタに対向する面が膨らんで形成される、請求項4に
    記載の電界放出表示装置。
  11. 【請求項11】 前記エミッタの前記カウンタ電極に対
    向する面が膨らんで形成され、前記カウンタ電極の前記
    エミッタに対向する面が凹んで形成される、請求項4に
    記載の電界放出表示装置。
  12. 【請求項12】 前記カウンタ電極が電気メッキ法によ
    って形成される、請求項4に記載の電界放出表示装置。
  13. 【請求項13】 前記アノード電極がITO、IZOな
    どのような透明導電層からなる、請求項4に記載の電界
    放出表示装置。
  14. 【請求項14】 前記炭素系物質が炭素ナノチューブ、
    60、ダイアモンド、DLCのうちのいずれか一つま
    たはこれらの組み合わせからなる、請求項4に記載の電
    界放出表示装置。
  15. 【請求項15】 前記エミッタが前記カソード電極上に
    ストライプパターンで形成される、請求項4に記載の電
    界放出表示装置。
  16. 【請求項16】 前記エミッタが前記カウンタ電極に対
    応して分離された島形状で形成された、請求項4に記載
    の電界放出表示装置。
  17. 【請求項17】 前記エミッタがスクリーンプリンティ
    ング法によって形成される、請求項4に記載の電界放出
    表示装置。
  18. 【請求項18】 前記エミッタが化学気相蒸着法または
    スパッタリング法によって形成される、請求項4に記載
    の電界放出表示装置。
  19. 【請求項19】 前記ホールがフォトリソグラフィ法に
    よって形成される、請求項3に記載の電界放出表示装
    置。
  20. 【請求項20】 前記ホールがプリンティング法によっ
    て形成される、請求項3に記載の電界放出表示装置。
  21. 【請求項21】 前記カウンタ電極がメッキ法によって
    形成される、請求項7に記載の電界放出表示装置。
  22. 【請求項22】 ゲート電極を有する第1基板、前記ゲ
    ート電極から絶縁されるカソード電極、前記カソード電
    極に接触されるエミッタ、前記ゲート電極に連結される
    カウンタ電極及びアノード電極を有する第2基板を有す
    る電界放出表示装置の駆動方法であって、 前記ゲート電極とカソード電極との間に電界を形成する
    工程と、 前記カウンタ電極に電圧を印加して前記電界を強化する
    工程と、 前記エミッタの周囲に電界を形成して前記エミッタから
    電子を放出する工程と、を含む電界放出表示装置の駆動
    方法。
  23. 【請求項23】 前記カウンタ電極に印加される電圧は
    前記ゲート電極に印加される電圧である、請求項22に
    記載の電界放出表示装置の駆動方法。
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