JP2003215163A - プローブカード - Google Patents
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Abstract
とICチップの電極との接触点の増加による発熱増と電
極間のピッチ寸法が小さくなって集積度があがること
で、ガイド板の温度上昇および場所による不均一な温度
上昇がガイド板の反りや伸びをもたらし、プローブ先端
部の電極に対する位置精度を悪くし、ICチップの検査
が正確に行えなくなる。 【解決手段】 上側の板状部で固定され、また、下側の
ガイド板のガイド孔を貫いて垂下され、また、先端に先
鋭部を有するプローブを多数配設されたプローブカード
において、上側の板状部またはガイド板の片面または両
面または全表面に連続してDLC膜を形成させ、また、
板状部またはガイド板の両端部分のDLC膜に放熱部を
有するヒートシンクを密着させたプローブカード。
Description
的特性を検査するプローブカードに関するものである。
プの電気的特性を検査する際にプローブカードと呼ばれ
る装置が用いられている。図5は垂直型プローブカード
の構成を示す断面図である。同図に示すように、垂直型
プローブカードは、湾曲部1aを有し針状をなす複数個
のプローブカード用プローブ(以下、単にプローブとい
う)1と、これらのプローブ1を垂下して固定するガイ
ド部2と、各プローブ1ごとにプローブ後端がはんだ付
けによって接続される配線パターンがそれぞれ形成され
た基板3とにより構成されている。プローブ1は、基板
3の周辺部に配列された端子と前記配線パターンを介し
て接続されている。ICチップを検査する際には、基板
3の前記端子にプローバーと呼ばれる検査装置が接続さ
れる。前記ガイド部2は、複数個のプローブ1がそれぞ
れ貫通するガイド孔21aを有する上側ガイド板21
と、この上側ガイド板21の下方に所定の間隔をあけて
平行に配置され、各複数個のプローブ1がそれぞれ貫通
するガイド孔22aを有する下側ガイド板22と、前記
上側ガイド板21の上に配置され、複数個のプローブ1
を固定するプローブ固定部材23と、基板3の裏面から
垂下され、上側ガイド板21と下側ガイド板22とを支
持する支持部材24とにより構成されている。通常、ガ
イド板のガイド孔21a、22aとプローブ1との隙間
は10μm程度と極めて小さい。10μm程度と極めて
小さくしているのは、ガイド孔21a、22aが隣接す
るプローブ1の接触を防止するとともに、プローブ1の
先端部を電極51aに位置決めするように水平方向の規
制をしているためである。
台4の上に、検査対象である複数個のICチップ51が
形成されたウエハ5が載置されている。51aはICチ
ップ51の表面に形成された電極である。垂直型プロー
ブカードは、ICチップ51の電極51aにプローブ1
の先端部を垂直に接触させるようにしたものであり、プ
ローブ1の先端部が電極51aの真上に位置するように
位置決めされる。そして、プローブ1の方向にウエハ載
置台4を上昇させることにより、ICチップ51の電極
51aとプローブ1の先端部とが接触する。
ルミニウムと銅とを含むアルミニウム−銅合金膜、ある
いはアルミニウム膜により形成されているが、この電極
51aの表面は薄い酸化アルミニウムよりなる酸化膜が
形成されている。この酸化膜は絶縁体であるため、単に
電極51a表面にプローブ1の先端部を接触させただけ
では、プローブ1の先端部と酸化膜の下に位置するアル
ミニウム−銅合金膜とが接触することができず、プロー
ブ1の先端部とアルミニウム−銅合金膜との間を電気的
に接続することができない。
部を接触させた後、さらにウエハ載置台4を上昇させ
る。この電極51aにプローブ1の先端部を接触させ、
しかる後、さらにICチップ51をプローブ1の方向に
上昇させることをオーバードライブと呼んでいる。プロ
ーブ1との接触後、ICチップ51を上昇させる距離を
オーバードライブ量と呼ぶ。一般に、このオーバードラ
イブ量は50〜100μmである。垂直型プローブカー
ドでは、図6に示すように、湾曲部1aを有するプロー
ブ1を使用し、電極51aにプローブ1の先端部が接触
した後に、オーバードライブを加えると、プローブ1
は、その湾曲部1aが弾性的に変形して撓むことによ
り、プローブ先端部が所定の接触圧(針圧)にて電極5
1aを押圧する。これにより、プローブ1と電極51a
との接触点において電極51aの表面から酸化膜が破ら
れて除去され、プローブ1の先端部と電極51aのアル
ミニウム−銅合金膜とが直接接触することができる。
径(外径)D:80μm、先端長さL1:450μm、
最先端直径d:25〜30μm、湾曲部1a長さL2:
約2mmである。この直径Dが80μmのプローブは、
電極間のピッチ寸法が120μmのICチップを検査す
る垂直型プローブカードに使用されるものである。この
プローブは、断面円形をなし、電気接点材料として優れ
ているタングステン、レニウムタングステン合金、ベリ
リウム銅合金又はパラジウム銀系合金よりなっている。
性を検査するために、前述したようにプローブ先端部を
所定の接触圧(針圧)にて電極51aに押圧して、所定
の測定電流(数十μA〜数十mA程度)を通電するが、
この電流により接触点が加熱されプローブ1の温度が上
昇する。下側ガイド板22はガイド板を貫通するプロー
ブ1からの輻射熱と、接触した場合には伝導熱と、を受
け、さらに、距離0.5mm程度下にあるプローブ1と
電極51aの接触点からの輻射熱を受けて温度が上昇す
る。一方の上側ガイド板21はガイド板を貫通するプロ
ーブ1からの輻射熱を受けるとともに、プローブを固定
する固定部材23を通してプローブ1からの伝導熱を受
けて温度が上昇する。また、ICチップを加熱状態でテ
ストするバーンインテストは80℃または150℃まれ
に200℃の検査温度で行われるため、この場合には全
体の雰囲気温度も上るから、下側ガイド板22および上
側ガイド板21の温度はさらに上昇する。ガイド板2
1,22は通常セラミック材料で出来ているが、この温
度上昇による熱膨張によってさらに伸びる。また、ガイ
ド板21,22の上面より下面の方が熱輻射をより多く
受けるためガイド板は反る。これらガイド板21,22
の伸びや反りによりガイド孔21a、22aの水平方向
のずれおよび垂直軸の傾きが生じ、結果としてプローブ
先端部の位置精度が悪くなり、最悪の場合はプローブカ
ードによる測定が不能に至る。
に伴ってICチップの電極間のピッチ寸法が次第に小さ
くなっており、そのためにプローブ直径Dも次第に細く
なってきている。そして、電極間のピッチ寸法が100
μmのICチップを検査する場合には、直径Dが65μ
mのプローブを使用することが必要となる。ICチップ
の単位面積あたりの電極数が増えること、言い換える
と、プローブ先端部と電極との接触点の増加による発熱
増と電極間のピッチ寸法が小さくなることで、このガイ
ド板の温度上昇および場所による不均一な温度上昇がガ
イド板の反りや伸びをもたらし、プローブ先端部の電極
に対する位置精度を悪くし、ICチップの検査が正確に
行えなくなる。
ローブカードについて述べているが、ティー型プローブ
カード、ホーク型プローブカードについても同様な原因
によるプローブ先端部の位置精度が悪くなる問題があ
る。
プローブを配設して垂下するガイド板の構造を改善する
ことにより、電極間のピッチ寸法が例えば100μmと
いうような微小ピッチを持つICチップの検査を行うプ
ローブカードに適用することができ、さらに半導体集積
回路の微細化の進展によりICチップの電極間のピッチ
寸法が小さくなることに対応しうるプローブカードを提
供することにある。
めに、請求項1の発明は、上側の板状部で固定され、ま
た下側のガイド板のガイド孔を貫いて垂下され、また、
先端に先鋭部を有するプローブを多数配設されたプロー
ブカードにおいて、前記下側のガイド板の片面または両
面または全表面に連続してDLC(Diamond L
ike Carbon)膜を形成させ、また、前記ガイ
ド板の両端部分の前記DLC膜に放熱部を有するヒート
シンクを密着させたことを特徴とするプローブカードで
ある。
ブカードにおいて、前記上側の板状部の片面または両面
または全表面に連続してDLC膜を形成させ、また前記
板状部の両端部分の前記DLC膜に放熱部を有するヒー
トシンクを密着させたことを特徴とするプローブカード
である。
ずれか記載のプローブカードにおいて、前記DLC膜の
厚み寸法は0.05μm以上3μm以下とすることを特
徴とするプローブカードである。
イポロジー学会が発行している「トライポロジスト」誌
第37巻第9号別冊やトライポロジー辞典(社団法人日
本トライポロジー学会編集:養賢堂)に記載されている
ように、通常、ダイアモンド状の結晶構造を有する平滑
なカーボン膜を指す。ただし、本発明で言うDLC膜
は、上記の膜以外に、優れた熱伝導率および電気絶縁性
を有する、スパッタリング法等で形成したアモルファス
カーボン膜、スパッタリング法、CVD(化学蒸着)法
等で形成した水素を含有するカーボン膜、イオンプレー
ティング法等のPVD(物理蒸着)法等で形成した水素
フリーのカーボン膜やシリコン・酸素・窒素のうちの少
なくとも1種類の元素を含有するカーボン膜をも包含し
た広義のものである。このようにして形成されたDLC
膜は基板との密着性が優れており、剥離する恐れも無
く、とくに熱伝導性について優秀である。
有し、その数値は製法によりある程度バラツクが600
W/(m・K)であり、銅の数値に匹敵する。同時に電
気絶縁性にも優れ、その固有抵抗値は250Ω・m程度
(4探針法測定)で、一方プローブに用いられるタング
ステンの抵抗値は10−6Ω・m程度であるから、比較
すると極めて大きい。したがって、DLC膜は電気絶縁
性を有する良好な熱伝導性体である。また、DLC膜と
同様な熱伝導性の良い電気絶縁膜としてBN(ボロンナ
イトライド)、酸化ベリリウム等を成膜しても同効であ
る。
ICチップの電極との接触抵抗熱が伝導や輻射により、
場合によると、バーンインテストのような高い検査温度
の雰囲気温度も加わって、プローブを支持する板状部や
プローブをガイドするガイド板が受ける熱を前記板状部
や前記ガイド板の片面または両面または全表面に連続的
に成膜されている前記DLC膜内を経由して、前記ガイ
ド板の両端部に密着されたヒートシンクに運び放熱す
る。前記ガイド板の下面にDLC膜を形成することによ
り放熱の効果があるが、さらに、下面および上面にDL
C膜を形成すればなお放熱の効果が良く、ヒートシンク
を密着させると、もっと効果が良くなる。これにより、
板状部やガイド板の温度上昇を抑制して該板状部やガイ
ド板の伸びや反りを防止し、ICチップの電極に対する
プローブ先端部の位置精度を維持できることが可能とな
る。
記ガイド板が受ける過剰な熱をDLC膜を経由してヒー
トシンクから放熱して、ICチップの電極に対するプロ
ーブ先端部の位置精度を維持できることが可能となる。
前記DLC膜の厚み寸法は厚い方が放熱の点で良いが、
経済性およびガイド板に加工されているガイド孔の径寸
法に影響を与えないことが肝要で有り、この点から0.
05μm以上3μm以下が良い。0.05μm以下であ
れば、過剰な熱を運び去る放熱能力に不足を来たす。ま
た、前記DLC膜の厚み寸法が3μmを超えると前記膜
の内部応力が増大して板状部やガイド板の表面から前記
膜が剥離しやすくなるからである。
基いて説明する。図1は本発明に係る垂直型プローブカ
ードの断面図である。同図に示すように、垂直型プロー
ブカードは、湾曲部100aを有し針状をなす複数個の
プローブ100と、これらのプローブ100を垂下して
固定するガイド部200と、各プローブ100ごとにプ
ローブ後端がはんだ付けによって接続される配線パター
ンがそれぞれ形成された基板300とにより構成されて
いる。プローブ100は、基板300の周辺部に配列さ
れた端子と前記配線パターンを介して接続されている。
前記ガイド部200は、複数個のプローブ100がそれ
ぞれ貫通するガイド孔210aを有する上側ガイド板2
10と、この上側ガイド板210の下方に所定の間隔を
あけて平行に配置され、各複数個のプローブ100がそ
れぞれ貫通するガイド孔220aを有する下側ガイド板
220と、前記上側ガイド板210の上に配置され、複
数個のプローブ100を固定するプローブ固定樹脂23
0と、基板300の裏面から垂下され、上側ガイド板2
10と下側ガイド板220とを支持する支持部材24
0、241とにより構成されている。400はウエハ載
置台であり、このウエハ載置台400の上に、検査対象
である複数個のICチップ510が形成されたウエハ5
00が載置されている。510aはICチップ510の
表面に形成された電極である。垂直型プローブカード
は、ICチップ510の電極510aにプローブ100
の先端部を垂直に接触させるようにしたものであり、プ
ローブ100の先端部が電極510aの真上に位置する
ように位置決めされる。そして、プローブ100の方向
にウエハ載置台400を上昇させることにより、ICチ
ップ510の電極510aとプローブ100の先端部と
が接触する。プローブ100には電気抵抗が小さい、耐
熱性があって耐酸化性に優れ、抗張力が高く、弾性率の
高いタングステンやレニウムタングステン合金やベリリ
ウム銅合金またはパラジウム銀系合金が用いられる。
面にはガイド孔220aの表面も含めて、DLC膜が厚
み寸法1μmで形成され、同様に、セラミック製の上側
ガイド板210の全表面にはガイド孔210aの表面も
含めて、DLC膜が厚み寸法1μmで形成されている。
下側ガイド板220の両端部220bと上側ガイド板2
10の両端部210bとその両ガイド板を支持する24
0の外側面240aとから構成する平面にアルミニウム
製のヒートシンク700が密着して取り付けられてい
る。ヒートシンク700は外表面に凹凸状の放熱部70
0aが備わっている。また、ヒートシンク700の全表
面にDLC膜を厚み寸法1μmで形成しても放熱効果を
高める点で良い。ヒートシンクの材質は公知の良好な熱
伝導性金属が用いられ、銅、アルミニウムまたは銅系、
アルミニウム系合金が用いられる。
のようにして製造される。先ず、DLC膜が形成されて
いないマシナブルセラミック製(アルミナ質)の板を用
いて、プローブ100が貫通する径100μmのガイド
孔210a,220aを開けた上側ガイド板210(厚
み0.5mm)および下側ガイド板220(厚み0.5
mm)を製作する。次に前記ガイド板をスパッタリング
装置に入れてDLC膜600を前記ガイド板210,2
20の全表面にガイド孔210a、220aの表面も含
め形成する。前記ガイド板をスパッタリング装置の回動
装置(図示省略)に取り付ける。スパッタリング装置の
陰極となるカーボンターゲットCTを設置する。スパッ
タリング装置を稼動させると前記ガイド板が回動させら
れる。一方、放電ガス(アルゴン等)が前記ガイド板と
陰極と陽極との周りに導入され、前記陰極CTと陽極A
Tとの間に印加された電圧でグロー放電が発生する。こ
のときプラズマ中の正イオンが陰極CTに衝突してカー
ボン原子を弾き出し、回動させられている前記ガイド板
の全表面にDLC膜が形成されるのである。
下であれば、過剰な熱を運び去る放熱能力に不足を来た
す。また、前記DLC膜の厚み寸法が3μmを超えると
前記膜の内部応力が増大して、ガイド板の表面から前記
膜が剥離しやすくなるからである。
ング装置から前記ガイド板を取り出し、次いで前記ガイ
ド板210,220間にプローブ100を挿入し、支持
部材241で前記ガイド板210,220を固定してか
ら、プローブ100を前記上側ガイド板210に固定樹
脂230で固着した後、支持部材240により基板30
0に取り付けて、プローブ100と基板300を配線接
続してプローブカードを組み立てる。次いで、上側ガイ
ド板210と下側ガイド板220との端面に支持部材2
41の外側面を挟んで、外側に放熱部700aを有する
ヒートシンク700を密着して配設するとプローブカー
ドが完成する。
検査について図2を使って説明する。ウエハ載置台40
0を上昇させて電極510aにプローブ100の先端部
を接触させた後、さらに、ICチップ510をプローブ
100の方向に上昇させるオーバードライブ量を50〜
100μmかけると、プローブ100の湾曲部100a
が弾性的に変形して撓むことにより、プローブ100の
先端部が所定の接触圧(針圧)5〜10grにて電極5
10aを押圧する。この際、プローブ100と電極51
0aとの接触点において、電極510aの表面から酸化
膜が破られて除去され、プローブ100の先端部と電極
510aのアルミニウム−銅合金膜とが直接接触するこ
とができる。検査のための測定電流を流すと、接触点の
抵抗により接触点が加熱され、測定回数の増加とともに
熱は蓄積され、プローブ100の先端部、ひいてはプロ
ーブ100の温度が上昇する。また、バーンインテスト
においては、検査温度が85℃または150℃であるた
め、プローブカードの雰囲気温度が高くなり、ガイド板
210,220およびプローブ100の温度もそれに従
って高くなる。
端部と電極510aとの接触点から0.4〜0.5mm
と近い距離にあるので、接触温度の輻射を受け、またガ
イド孔220aを通るプローブ100の温度の輻射、場
合によれば伝導により熱を受ける。本発明においては、
下側ガイド板220の全表面に最も良好な熱伝導体であ
るDLC膜600を形成しているので、受けた熱はDL
C膜600を経由して、端部に密着している放熱部70
0aを有するヒートシンク700へと運び去られて放熱
され、下側ガイド板220の温度上昇が抑制され、温度
上昇による下側ガイド板220の反りや伸びを抑制する
ことができる。
0aを通るプローブ100の温度の輻射、場合によれば
伝導により熱を受け、しかも、上面でプローブ100が
固定樹脂230により固定されているから、その固定部
からの伝導熱を受けて受入熱量が増加する。本発明にお
いては、上側ガイド板210の全表面に良好な熱伝導体
であるDLC膜600を形成しているので、その増加し
た受入熱量の大部分ははDLC膜600を経由して、端
部に密着している放熱部700aを有するヒートシンク
700へと運び去られて放熱され、上側ガイド板210
の温度上昇が抑制され、温度上昇による上側ガイド板2
10の反りや伸びを抑制することができる。
イド板220の温度上昇を抑制した結果、温度上昇によ
るガイド板210、220の反りや伸びが抑制され、プ
ローブ100の先端部の位置精度を良好に維持すること
が出来る。本発明に係る実施の形態の一つである垂直型
プローブカードによれば、プローブ100の先端部の位
置精度を高く維持できるので、ICチップの集積回路の
微細化に対応する電極510aピッチの狭小化に対して
プローブ100の数の単位面積当り密度が上がっても、
プローブ100の先端部の電極510aに対する位置精
度が確保できるので、ICチップの集積度の増加に対応
できる利点がある。また、外的な温度上昇によるガイド
板210,220の反りや伸びが抑制できるから、プロ
ーブ100の先端部の電極510aに対する位置精度が
確保できる範囲で、ガイド板210,220の厚みを薄
く出来るから、プローブカードの小型化や軽量化が図れ
る利点がある。
ー型プローブカードについて図3により説明する。ティ
ー型プローブカードはT字型をしているティー型プロー
ブ101とティー型プローブ101がガイド孔221a
を通って垂下される下側ガイド板221とティー型プロ
ーブ101の頭であるティー部分を押圧することが出来
るスプリングアクションを持つ屈曲したタングステンワ
イヤ800と前記タングステンワイヤ800をガイド孔
211aと231aに通して保持し、ガイドする二枚の
上側ガイド板211と231とタングステンワイヤ80
0が上端でインターポーザ900を介して電気的に接続
しているスペーストランスフォーマ(多層回路基板)3
11と基板301の裏面から垂下され、上側ガイド板2
11と下側ガイド板221とを支持する支持部材241
とから構成されている。上側ガイド板211と下側ガイ
ド板221の全表面には、ガイド孔211a,221a
も含めて、厚み0.5μmのDLC膜が形成されてい
る。この場合は、上側ガイド板211と下側ガイド板2
21の全表面にわたり、メタンと水素の混合ガスの気相
合成法によりDLC膜を形成した。また、上側ガイド板
211と下側ガイド板221の両端面には放熱部701
aを有するヒートシンク701が密着して配設されてい
る。
ICチップの電気的特性の検査においてICチップの電
極510aとティー型プローブ101との接触点で発生
する熱が輻射により、時にはティー型プローブ101に
よる伝導も加わって下側ガイド板221に伝えられ、場
合によれば、バーンインテストの検査温度が85℃また
は150℃と高く行われることもあって、下側ガイド板
221が受ける増加熱量を、下側ガイド板221の全表
面に形成されたDLC膜600を経由して放熱部701
aを持ったヒートシンク701に伝えられ放熱する。こ
れにより、下側ガイド板221の温度上昇を防止して、
下側ガイド板221の反りや伸びを防止して、ティー型
プローブ101の先端部の電極501aに対する位置精
度が確保できる。また、上側ガイド板211について
も、前述の接触熱または検査温度による熱により、ティ
ー型プローブ101と接点をもつタングステンワイヤ8
00の温度上昇が起こり、その熱がガイド孔211aを
通して輻射または伝導により上側ガイド板211に伝わ
るが、上側ガイド板211が受ける増加熱量を、上側ガ
イド板211の全表面に形成されたDLC膜600を経
由して放熱部701aを持ったヒートシンク701に伝
えられ放熱する。これにより、上側ガイド板211の温
度上昇を防止して、上側ガイド板211の反りや伸びを
防止して、ティー型プローブ101のティー部分とタン
グステンワイヤ800との接点の位置精度が確保され、
ティー型プローブ101への押圧力の確保と測定電流が
確実にティー型プローブ101からタングステンワイヤ
800への導通を良好に維持することができる。
プローブカードによれば、プローブ101の先端部の位
置精度を高く維持できるので、ICチップの集積回路の
微細化に対応する電極510aピッチの狭小化に対して
プローブ101の数の単位面積当り密度が上がっても、
プローブ101の先端部の電極510aに対する位置精
度が確保できるので、ICチップの集積度の増加に対応
できる利点がある。また、バーンインテストのような外
的な温度上昇によるガイド板211,221の反りや伸
びが抑制できるから、プローブ101の先端部の電極5
10aに対する位置精度が確保できる範囲で、ガイド板
210,220の厚みを薄く出来るから、プローブカー
ドの小型化や軽量化が図れる利点がある。
プローブカードについて図4を用いて説明する。ホーク
型プローブカードはホーク型プローブ102と前記ホー
ク型プローブ102を固定して垂下する上側板状部(ス
ペーストランスフォーマ)212と前記ホーク型プロー
ブ102をガイドする複数のガイド孔222a、222
bを有する下側ガイド板222と上側板状部(スペース
トランスフォーマ)212と下側ガイド板222の両端
部には放熱部702aを有するヒートシンク702と上
側板状部(スペーストランスフォーマ)212の上部接
点から接続される多層回路基板部302とから構成され
る。ホーク型プローブ102は上側板状部(スペースト
ランスフォーマ)212に上端を固定されて垂下された
ほぼL字状をなし、L字のほぼ横水平部の先端に垂下し
て、電極510aと接触する短い先端部102aを有す
る本体102cと前記横水平部から上に伸びたガイド部
102bとから構成されており、公知のリガプロセスに
よる電鋳方式で製作される。本発明の実施形態に係るホ
ーク型プローブカードにおいては下側ガイド板222の
ガイド孔222a、222bを含めた全表面に厚み0.
5μmのDLC膜が形成され、また、上側板状部(スペ
ーストランスフォーマ)212の全表面にも厚み0.5
μmのDLC膜が形成され、また、放熱部702aを有
するヒートシンク702の全表面にも厚み0.5μmの
DLC膜が形成されている。前記ホーク型プローブカー
ドのホーク型プローブ102と上側板状部(スペースト
ランスフォーマ)212と下側ガイド板222とヒート
シンク702の組み立ては、先ず、ホーク型プローブ1
02以外の上側板状部(スペーストランスフォーマ)2
12と下側ガイド板222とヒートシンク702の夫々
の全表面に、気相合成法により厚み0.5μmのDLC
膜を形成する。その後、ホーク型プローブ102を下側
ガイド板222のガイド孔222a、222bに通し、
上端を上側板状部(スペーストランスフォーマ)212
の下面に固定し、垂下した後、ヒートシンク702を下
側ガイド板222、上側板状部212に密着して組み立
てることによりホーク型プローブカードの下部が出来上
がる。
ホーク型プローブ102の先端部102aと電極510
aと接触させた後、測定電流を通すが、その接触抵抗熱
はホーク型プローブ102を経由して輻射または伝導に
より下側ガイド板222、上側板状部212に伝わる。
また、バーンインテストの場合には、検査温度85℃ま
たは150℃も加わって、さらに温度上昇がもたらされ
るが、本発明に係るホーク型プローブカードにおいて
は、下側ガイド板222、上側板状部212にもたらさ
れる熱が下側ガイド板222、上側板状部212の全表
面に存在するDLC膜を経由して、放熱部702aを有
するヒートシンク702の全表面に存在するDLC膜に
伝えられ、放熱速度を大きくして、効率よく放熱され
る。したがって、下側ガイド板222、上側板状部21
2の温度上昇が抑えられ、下側ガイド板222、上側板
状部212の反りや伸びが抑制されて、ホーク型プロー
ブ102の先端部102aの電極510aに対する位置
精度を良好に維持することができる。また、下側ガイド
板222、上側板状部212の温度上昇が抑制されるこ
とにより、下側ガイド板222、上側板状部212の肉
厚を薄く出来るなど、ホーク型プローブカードの軽量
化、小型化に結び付け、ひいては、ICチップの電極ピ
ッチが狭小化されても、対応できるホーク型プローブカ
ードを提供できる利点がある。
気絶縁膜、例えばBN(ボロンナイトライド)、酸化ベ
リリウム等をスパッタリング法を用いて、ガイド板に成
膜することで同様な放熱効果を得ることができる。
ブカードによれば、従来のプローブカードでは、ICチ
ップの電気的特性値の検査において、プローブの先端部
と電極との接触抵抗熱の発生または検査温度による熱負
荷の増加に起因して、プローブを支持またはガイドする
板状部またはガイド板の反りや伸びによるプローブの位
置精度の不良原因を、前期増熱分がDLC膜内を経由す
ることにより、効率良く、かつ、速やかに放熱する構造
を採用することにより取り除くことが出来る。これによ
り、プローブの電極に対する位置精度が維持できるの
で、集積度の増大したICチップの電極間のピッチ寸法
の狭小化にも対応するプローブカードを提供できる。さ
らに、プローブ先端部の位置精度を確保して、プローブ
カード内の板状部またはガイド板の肉厚を減肉すること
も可能となり、プローブカードの小型化、軽量化を図る
ことができる。
ドの構成を示す断面図である。
た状態を説明するための図である。
ードの構成を示す断面図である。
ードの構成を示す断面図である。
図である。
が接触した状態を示す説明図である。
型プローブ 103:ホーク型プローブ 102a:先
端部 102b:ガイド部 102c:本体 200:ガイド部 210,211,231:上側ガイ
ド板 212:上側板状部 210a,211a,21
2a:ガイド孔 210b:上側ガイド板端部 220,221,222:下側ガイド板 220a,2
21a,222a、222b:ガイド孔 220b:下
側ガイド板端部 230:固定樹脂 240,241:
支持部材 240b:外側面 300,301,30
2:基板 311:スペーストランスフォーマ 40
0:ウェハ載置台 500:ウェハ 510:ICチッ
プ 510a:電極 600:DLC膜 700,70
1,702:ヒートシンク 700a,701a,70
2a:放熱部 800:タングステンワイヤ 900:
インターポーザ 1…プローブカード用プローブ 1a…湾曲部 2…ガ
イド部 21…上側ガイド板 21a…ガイド孔 22
…下側ガイド板 22a…ガイド孔 23…プローブ固
定部材 24…支持部材 3…基板 4…ウエハ載置台
5…ウエハ 51…ICチップ 51a…電極
Claims (3)
- 【請求項1】 上側の板状部で固定され、また、下側の
ガイド板のガイド孔を貫いて垂下され、また、先端に先
鋭部を有するプローブを多数配設されたプローブカード
において、前記下側のガイド板の片面または両面または
全表面に連続してDLC(Diamond Like
Carbon)膜を形成させ、また、前記ガイド板の両
端部分の前記DLC膜に放熱部を有するヒートシンクを
密着させたことを特徴とするプローブカード。 - 【請求項2】 前記上側の板状部の片面または両面また
は全表面に連続してDLC膜を形成させ、また、前記板
状部の両端部分の前記DLC膜に放熱部を有するヒート
シンクを密着させたことを特徴とする請求項1記載のプ
ローブカード。 - 【請求項3】 前記DLC膜の厚み寸法は0.05μm
以上3μm以下とすることを特徴とする請求項1または
2のいずれか記載のプローブカード。
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