JP2003208982A - 発光素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高効率で、高い色純度の青色発光が得られる
発光素子を提供すること。 【解決手段】 一対の電極間に発光層又は発光層を含む
複数の有機層を有し、前記発光層がりん光性発光材料と
ホスト材料とを含み、かつ電圧印加時に前記りん光性発
光材料と前記ホスト材料との双方が発光することを特徴
とする発光素子である。

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は、電気エネルギーを
光に変換して発光できる発光素子用材料及び発光素子に
関し、表示素子、ディスプレイ、バックライト、電子写
真、照明光源、記録光源、露光光源、読み取り光源、標
識、看板、インテリア、光通信デバイス等の分野に好適
に使用できる発光素子に関する。 【０００２】 【従来の技術】今日、種々の表示素子に関する研究開発
が活発であり、中でも有機電界発光（ＥＬ）素子は、低
電圧で高輝度の発光を得ることができるため、有望な表
示素子として注目されている。例えば、有機化合物の蒸
着により有機薄膜を形成する発光素子が知られている
（アプライド フィジックス レターズ，５１巻，９１
３頁，１９８７年）。この文献に記載された発光素子は
トリス（８−ヒドロキシキノリナト）アルミニウム錯体
（Ａｌｑ）を電子輸送材料として用い、正孔輸送材料
（アミン化合物）と積層させることにより、従来の単層
型素子に比べて発光特性を大幅に向上させている。 【０００３】発光素子特性向上の手段として、オルトメ
タル化イリジウム錯体（Ｉｒ（ｐｐｙ）₃：Ｔｒｉｓ−
Ｏｒｔｈｏ−Ｍｅｔａｌａｔｅｄ Ｃｏｍｐｌｅｘ ｏ
ｆＩｒｉｄｉｕｍ（ＩＩＩ） ｗｉｔｈ ２−Ｐｈｅｎ
ｙｌｐｙｒｉｄｉｎｅ）からの発光を利用した緑色発光
素子が報告されている（Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｈｙｓｉｃ
ｓ Ｌｅｔｔｅｒｓ ７５，４（１９９９）．）。本素
子は外部量子収率８％を達しており、従来素子の限界と
いわれていた外部量子収率５％を凌駕しているが、緑色
発光に限定されているため、他色に発光する素子の開発
が望まれていた。 【０００４】また、Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ
Ｌｅｔｔｅｒｓ ７９，２０８２（２００１）．では青
色りん光発光性材料を含有する素子が報告されている
が、青色発光としては色純度が低く（（ｘ，ｙ）＝
（０．１６，０．２９））、改良が望まれていた。 【０００５】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来に
おける諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課
題とする。即ち、本発明の目的は、高効率で、高い色純
度の青色発光が得られる発光素子を提供することにあ
る。 【０００６】 【課題を解決するための手段】上記課題は、以下の手段
により解決される。即ち、本発明は、 ＜１＞一対の電極間に発光層又は発光層を含む複数の有
機層を有し、前記発光層がりん光性発光材料とホスト材
料とを含み、かつ電圧印加時に前記りん光性発光材料と
前記ホスト材料との双方が発光することを特徴とする発
光素子である。 【０００７】＜２＞前記りん光性発光材料及び前記ホス
ト材料の発光極大波長λｍａｘが、それぞれ３８０ｎｍ
以上５００ｎｍ以下であることを特徴とする前記＜１＞
に記載の発光素子である。 【０００８】＜３＞前記ホスト材料の発光強度が、りん
光性発光材料の発光強度の０．１倍以上１倍以下である
ことを特徴とする前記＜１＞又は＜２＞に記載の発光素
子である。 【０００９】＜４＞前記りん光性発光材料が、イリジウ
ム錯体であることを特徴とする前記＜１＞〜＜３＞のい
ずれかに記載の発光素子である。 【００１０】＜５＞前記りん光性発光材料が、下記一般
式Ｋ−０で表される部分構造を有するであることを特徴
とする前記＜１＞〜＜４＞のいずれかに記載の発光素子
である。 【００１１】 【化１】 【００１２】（一般式Ｋ−０中、Ｒ¹〜Ｒ⁷は各々独立
に、水素原子または置換基を表す。） 【００１３】＜６＞前記ホスト材料が、下記一般式
（Ｉ）で表される化合物であることを特徴とする前記＜
１＞〜＜５＞のいずれかに記載の発光素子である。 【００１４】 【化２】 【００１５】（一般式（Ｉ）中、Ｌ¹は二価以上の連結
基を表す。Ｑ¹は芳香族炭化水素環または芳香族へテロ
環を表す。ｎ¹は２以上の数を表す。複数のＱ¹は、それ
ぞれ同一でも異なっていてもよい。） 【００１６】＜７＞前記ホスト材料が、下記一般式（Ｉ
Ｉ）で表される化合物であることを特徴とする前記＜１
＞〜＜６＞のいずれかに記載の発光素子である。 【００１７】 【化３】 【００１８】（一般式（ＩＩ）中、Ｒ¹⁰¹〜Ｒ¹⁰⁸は各々
独立に水素原子又は置換基を表す。ｎは１〜８の整数を
表す。ｎが１の場合、Ａは置換基を表す。ｎが２以上の
場合、Ａはｎ価の連結基を表す。） 【００１９】＜８＞前記＜１＞〜＜７＞のいずれかに記
載の発光素子の製造方法であって、前記有機層を塗布方
法で成膜する工程を含むことを特徴とする発光素子の製
造方法。 【００２０】 【発明の実施の形態】本発明について詳細に説明する。
本発明の発光素子は、一対の電極間に発光層又は発光層
を含む複数の有機層を有し、発光層がりん光性発光材料
とそれを分散するホスト材料とから構成され、かつ電圧
印加時に、りん光性発光材料からのりん光とホスト材料
からの発光が同時に得られることを特徴とする。 【００２１】りん光発光材料について説明する。りん光
性発光材料は、三重項励起状態から発光するものであれ
ば特に限定されないが、りん光性発光材料である遷移金
属錯体であることが好ましい。遷移金属錯体の中心金属
としては特に限定されないが、イリジウム、白金、レニ
ウム、ルテニウムが好ましく、イリジウム、白金がより
好ましく、イリジウムが更に好ましい。 【００２２】遷移金属錯体としては、オルトメタル化錯
体が好ましい。オルトメタル化錯体（ｏｒｔｈｏｍｅｔ
ａｌａｔｅｄ Ｃｏｍｐｌｅｘｅｓ）とは、例えば「有
機金属化学−基礎と応用−」ｐ１５０，２３２ 裳華房
社 山本明夫著 １９８２年発行、「Ｐｈｏｔｏｃｈｅ
ｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｏｔｏｐｈｙｓｉｃｓｏｆ
Ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｏｎ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ」
ｐ７１−ｐ７７，ｐ１３５−ｐ１４６ Ｓｐｒｉｎｇｅ
ｒ−Ｖｅｒｌａｇ社 Ｈ．Ｙｅｒｓｉｎ著１９８７年発
行等に記載されている化合物群の総称である。 【００２３】りん光性発光材料としてより好ましくは、
特願２０００−２８７１７８、特願２００１−３３６８
４、特願２００１−１８９５３９、特願２００１−２３
９２８１、特願２００１−２４８１６５に記載のりん光
性発光材料であり、より好ましくは特願２００１−１８
９５３９、特願２００１−２３９２８１、特願２００１
−２４８１６５に記載のりん光性発光材料である。これ
らに記載のりん光性発光材料の好ましい範囲は各特許に
記載の通りであり、フッ素原子を有するイリジウム錯体
がさらに好ましい。 【００２４】りん光性発光材料として特に好ましくは、
下記一般式Ｋ−０で表される部分構造を有する化合物
（以下、単に「イリジウム化合物」という場合がある）
である。このイリジウム化合物の中でも、りん光量子収
率およびりん光の発光極大波長λｍａｘが後述する範囲
である化合物が好ましい。 【００２５】 【化４】 【００２６】一般式Ｋ−０において、Ｒ¹〜Ｒ⁷は各々独
立に、水素原子または置換基を表す。但し、Ｒ²がフッ
素原子の場合は、Ｒ³は水素原子であることが好まし
い。置換基としては、例えば、アルキル基（好ましくは
炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に
好ましくは炭素数１〜１０であり、例えばメチル、エチ
ル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチ
ル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、
シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられ
る。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３０、よ
り好ましくは炭素数２〜２０、特に好ましくは炭素数２
〜１０であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、
３−ペンテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基
（好ましくは炭素数２〜３０、より好ましくは炭素数２
〜２０、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えば
プロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）、 【００２７】アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、
より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数
６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニ
ル、ナフチル、アントラニルなどが挙げられる。）、ア
ミノ基（好ましくは炭素数０〜３０、より好ましくは炭
素数０〜２０、特に好ましくは炭素数０〜１０であり、
例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチ
ルアミノ、ジベンジルアミノ、ジフェニルアミノ、ジト
リルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシ基（好ま
しくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２
０、特に好ましくは炭素数１〜１０であり、例えばメト
キシ、エトキシ、ブトキシ、２−エチルヘキシロキシな
どが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭
素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好
ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキ
シ、１−ナフチルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙
げられる。）、ヘテロアリールオキシ基（好ましくは炭
素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好
ましくは炭素数１〜１２であり、例えばピリジルオキ
シ、ピラジルオキシ、ピリミジルオキシ、キノリルオキ
シなどが挙げられる。）、 【００２８】アシル基（好ましくは炭素数１〜３０、よ
り好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１
〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミ
ル、ピバロイルなどが挙げられる。）、アルコキシカル
ボニル基（好ましくは炭素数２〜３０、より好ましくは
炭素数２〜２０、特に好ましくは炭素数２〜１２であ
り、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルな
どが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好
ましくは炭素数７〜３０、より好ましくは炭素数７〜２
０、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェ
ニルオキシカルボニルなどが挙げられる。）、アシルオ
キシ基（好ましくは炭素数２〜３０、より好ましくは炭
素数２〜２０、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、
例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられ
る。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０、
より好ましくは炭素数２〜２０、特に好ましくは炭素数
２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルア
ミノなどが挙げられる。）、 【００２９】アルコキシカルボニルアミノ基（好ましく
は炭素数２〜３０、より好ましくは炭素数２〜２０、特
に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカ
ルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシ
カルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜３０、より
好ましくは炭素数７〜２０、特に好ましくは炭素数７〜
１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノな
どが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは
炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に
好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホ
ニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられ
る。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３
０、より好ましくは炭素数０〜２０、特に好ましくは炭
素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルス
ルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスル
ファモイルなどが挙げられる。）、カルバモイル基（好
ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２
０、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカル
バモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイ
ル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）、アル
キルチオ基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましく
は炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１２であ
り、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられ
る。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０、
より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数
６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられ
る。）、 【００３０】ヘテロアリールチオ基（好ましくは炭素数
１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好まし
くは炭素数１〜１２であり、例えばピリジルチオ、２−
ベンズイミゾリルチオ、２−ベンズオキサゾリルチオ、
２−ベンズチアゾリルチオなどが挙げられる。）、スル
ホニル基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは
炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１２であ
り、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。）、スル
フィニル基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましく
は炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１２であ
り、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニル
などが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数
１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好まし
くは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウ
レイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。）、リン
酸アミド基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましく
は炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１２であ
り、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミ
ドなどが挙げられる。）、 【００３１】ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原
子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ
基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、
イミノ基、ヘテロ環基（脂肪族ヘテロ環基、ヘテロアリ
ール基が挙げられ、好ましくは炭素数１〜３０、より好
ましくは炭素数１〜１２であり、ヘテロ原子としては、
例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例え
ばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、チエニ
ル、ピペリジル、モルホリノ、ベンズオキサゾリル、ベ
ンズイミダゾリル、ベンズチアゾリル、カルバゾリルな
どが挙げられる。）、シリル基（好ましくは炭素数３〜
４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは
炭素数３〜２４であり、例えばトリメチルシリル、トリ
フェニルシリルなどが挙げられる。）などが挙げられ
る。これらの置換基は更に置換されてもよい。 【００３２】一般式Ｋ−０において、Ｒ¹は好ましくは
水素原子、アルキル基、アリール基、又はヘテロアリー
ル基であり、より好ましくは水素原子である。Ｒ²は水
素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、
又はフッ素原子であり、より好ましくは水素原子、フッ
素原子、又はアルキル基である。Ｒ³は好ましくは水素
原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、又
はフッ素原子であり、より好ましくは水素原子、又はフ
ッ素原子であり、更に好ましくはフッ素原子である。 【００３３】一般式Ｋ−０において、Ｒ⁵は好ましくは
水素原子、アルキル基、置換または無置換のアミノ基、
アルコキシ基であり、より好ましくは水素原子、アルキ
ル基、アルコキシ基であり、更に好ましくは水素原子で
ある。Ｒ⁴、Ｒ⁶及びＲ⁷は好ましくは水素原子、アルキ
ル基であり、より好ましくは水素原子である。 【００３４】イリジウム化合物におけるイリジウム原子
の価数は、特に限定されるものではないが、３価が好ま
しい。また、前記イリジウム化合物は、イリジウム原子
を１つ含むいわゆる単核錯体であってもよいし、また２
つ以上含むいわゆる複核錯体であってもよい。中でも、
イリジウム原子を１つ含む単核錯体が好ましい。また、
前記イリジウム化合物は、イリジウム以外の他の金属原
子を含んでいてもよいが、中心金属がイリジウムのみで
ある化合物が好ましい。 【００３５】イリジウム化合物は、構造中に種々の配位
子を有することができる。配位子としては、例えば、
「Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｏｔｏ
ｐｈｙｓｉｃｓ ｏｆ Ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｏｎ Ｃ
ｏｍｐｏｕｎｄｓ」Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ社
Ｈ．Ｙｅｒｓｉｎ著 １９８７年発行、「有機金属化
学−基礎と応用−」 裳華房社 山本明夫著 １９８２
年発行等に記載の配位子が挙げられる。配位子として
は、単座配位子であっても、２座配位子等の多座配位子
であってもよい。配位子としては、ハロゲン配位子（好
ましくは塩素配位子）、含窒素ヘテロ環配位子（例えば
フェニルピリジン、ベンゾキノリン、キノリノール、ビ
ピリジル、フェナントロリンなど）、ジケトン配位子、
カルボン酸配位子、ＰＦ₆配位子が好ましく、ジケトン
配位子（アセチルアセトン等）がより好ましい。イリジ
ウム化合物に含まれる配位子は、１種類でもよいし、２
種類以上であってもよい。前記イリジウム化合物中の配
位子の種類は、好ましくは１および２種類であり、特に
好ましくは１種類である。また、イリジウム化合物は、
電荷を有さない中性錯体でもよいし、対塩（例えば塩素
イオン、ＰＦ₆イオン、ＣｌＯ₄イオン）を有するイオン
性錯体であってもよい。中でも、中性錯体が好ましい。 【００３６】イリジウム化合物に含まれる炭素数は、１
５〜１００であるのが好ましく、２０〜７０であるのが
より好ましく、３０〜６０であるのがさらに好ましい。 【００３７】りん光性発光材料からの発光の発光極大波
長λｍａｘは、好ましくは３８０ｎｍ以上５００ｎｍ以
下であり、より好ましくは４００ｎｍ以上４９０ｎｍ以
下である。なお、本発明の発光素子は５００ｎｍ以上に
も発光極大波長を有してもよく、白色発光素子であって
も良い。 【００３８】りん光性発光材料は、２０℃でのりん光量
子収率が７０％以上、かつ、りん光λｍａｘ（発光極大
波長）が５００ｎｍ以下の材料が好ましく、２０℃での
りん光量子収率が８０％以上、かつ、りん光λｍａｘが
４９０ｎｍ以下の材料がより好ましく、２０℃でのりん
光量子収率が８５％以上、かつ、りん光λｍａｘが４８
０ｎｍ以下の材料がさらに好ましい。 【００３９】りん光性発光材料の発光層中の濃度は０．
１質量％〜２０質量％であることが好ましく、０．５質
量％〜１０質量％であることがより好ましく、１質量％
〜５質量％であることがさらに好ましい。 【００４０】ホスト材料について説明する。ホスト材料
は、そのＴ₁レベル（最低三重項励起状態のエネルギー
レベル）が６２Ｋｃａｌ／ｍｏｌ以上（２６０ＫＪ／ｍ
ｏｌ以上）、８５Ｋｃａｌ／ｍｏｌ以下（３５６ＫＪ／
ｍｏｌ以下）であることが好ましく、６５Ｋｃａｌ／ｍ
ｏｌ以上（２７２ＫＪ／ｍｏｌ以上）、８０Ｋｃａｌ／
ｍｏｌ以下（３３５ＫＪ／ｍｏｌ以下）であることがよ
り好ましい。 【００４１】ホスト材料としては、上記物性値を満たす
観点から、特願２００１−１９７１３５、同２００１−
７６７０４、に記載のホスト材料が好ましく、特願２０
０１−１９７１３５に記載のホスト材料がより好まし
い。特願２００１−１９７１３５に記載のホスト材料の
好ましい範囲は、同特許に記載のとおりである。ホスト
材料としてはカルバゾール誘導体が特に好ましい。 【００４２】ホスト材料から得られる発光はりん光、蛍
光どちらでも良いが、蛍光であることが好ましい。 【００４３】ホスト材料からの発光の発光極大波長λｍ
ａｘは好ましくは３８０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下であ
り、より好ましくは４００ｎｍ以上、４９０ｎｍ以下で
ある。 【００４４】ホスト材料の発光強度は、りん光性発光材
料の発光強度の０．０５倍以上、２倍以下（発光極大波
長での発光強度で比較）が好ましく、０．１倍以上１倍
以下がより好ましく、０．２倍以上、０．９倍以下が更
に好ましい。 【００４５】ホスト材料としては、下記一般式（Ｉ）で
表される化合物が特に好ましい。 【００４６】 【化５】 【００４７】一般式（Ｉ）において、Ｌ¹は二価以上の
連結基を表す。Ｑ¹は芳香族炭化水素環または芳香族へ
テロ環を表す。ｎ¹は２以上の数を表す。複数のＱ¹は、
それぞれ同一でも異なっていてもよい。 【００４８】一般式（Ｉ）において、Ｌ¹は二価以上の
連結基を表し、好ましくは、炭素、ケイ素、窒素、ホウ
素、酸素、硫黄、金属、金属イオンなどで形成される連
結基であり、より好ましくは炭素原子、窒素原子、ケイ
素原子、ホウ素原子、酸素原子、硫黄原子、芳香族炭化
水素環、芳香族へテロ環であり、更に好ましくは炭素原
子、ケイ素原子、芳香族炭化水素環、芳香族へテロ環で
ある。Ｌ¹で表される連結基の具体例としては以下のも
のが挙げられる。 【００４９】 【化６】 【００５０】 【化７】 【００５１】 【化８】 【００５２】一般式（Ｉ）において、Ｌ¹は置換基を有
していてもよく、置換基としては例えばアルキル基（好
ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１
２、特に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基であり、
例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、
ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−
オクチル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘ
キシル、トリフルオロメチル、トリクロロメチルなどが
挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜
２０、より好ましくは炭素数２〜６、特に好ましくは炭
素数２のアルケニル基であり、例えばビニル等が挙げら
れる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、
より好ましくは炭素数２〜６、特に好ましくは炭素数２
のアルキニル基であり、例えばエチニル等が挙げられ
る。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜１０、特に
好ましくは炭素数６のアリール基であり、例えばフェニ
ルなどが挙げられる。）、アミノ基（好ましくは炭素数
０〜３６、より好ましくは炭素数０〜２０、特に好まし
くは炭素数０〜１２のアミノ基であり、例えばアミノ、
メチルアミノ、ジメチルアミノ、エチルアミノ、ジエチ
ルアミノ、フェニルアミノ、ジフェニルアミノ、ジベン
ジルアミノ、チエニルアミノ、ジチエニルアミノ、ピリ
ジルアミノ、ジピリジルアミノ等が挙げられる。）、ア
ルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましく
は炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８のアル
コキシ基であり、例えばメトキシ、エトキシ、イソプロ
ポキシ、ｎ−ブトキシ、ｔ−ブトキシ等が挙げられ
る。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜１
０、特に好ましくは炭素数６のアリールオキシ基であ
り、例えばフェノキシ等が挙げられる。）、ヘテロ環オ
キシ基（好ましくは炭素数１〜１０、より好ましくは炭
素数２〜８、特に好ましくは炭素数４〜５のヘテロ環オ
キシ基であり、例えばチエニルオキシ、ピリジルオキシ
等が挙げられる。）、シロキシ基（好ましくは炭素数３
〜５２、より好ましくは炭素数３〜３９、更に好ましく
は炭素数３〜３３、特に好ましくは炭素数３〜２７のシ
ロキシ基であり、例えばトリメチルシロキシ、トリエチ
ルシロキシ、トリｔ−ブチルシロキシ等が挙げられ
る。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好
ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１
２のアシル基であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホ
ルミル、ピバロイル、テノイル、ニコチノイル等が挙げ
られる。）、 【００５３】アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素
数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ま
しくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基であ
り、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル等
が挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ま
しくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１
６、特に好ましくは炭素数７のアリールオキシカルボニ
ル基であり、例えばフェノキシカルボニルなどが挙げら
れる。）、ヘテロ環オキシカルボニル基（好ましくは炭
素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好
ましくは炭素数５〜６のヘテロ環オキシカルボニル基で
あり、例えばチエニルオキシカルボニル、ピリジルオキ
シカルボニル等が挙げられる。）、アシルオキシ基（好
ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１
６、特に好ましくは炭素数２〜１２のアシルオキシ基で
あり、例えばアセトキシ、エチルカルボニルオキシ、ベ
ンゾイルオキシ、ピバロイルオキシ、テノイルオキシ、
ニコチノイルオキシ等が挙げられる。）、アシルアミノ
基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数
２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０のアシルアミ
ノ基であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミ
ノ、テノイルアミノ、ニコチノイルアミノなどが挙げら
れる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは
炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に
好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルアミ
ノ基であり、例えばメトキシカルボニルアミノ等が挙げ
られる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ま
しくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１
６、特に好ましくは炭素数７〜１２のアリールオキシカ
ルボニルアミノ基であり、例えばフェノキシカルボニル
等が挙げられる。）、ヘテロ環オキシカルボニルアミノ
基（好ましくは炭素数２〜２１、より好ましくは炭素数
２〜１５、特に好ましくは炭素数５〜１１のヘテロ環オ
キシカルボニルアミノ基であり、例えばチエニルオキシ
カルボニルアミノ等が挙げられる。）、スルホニルアミ
ノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素
数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルホニ
ルアミノ基であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベ
ンゼンスルホニルアミノ、チオフェンスルホニルアミノ
等が挙げられる。）、 【００５４】スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜
２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは
炭素数０〜１２のスルファモイル基であり、例えばスル
ファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファ
モイル、フェニルスルファモイル、チエニルスルファモ
イル等が挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは
炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に
好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイル基であり、例
えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカル
バモイル、フェニルカルバモイル等が挙げられる。）、
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ま
しくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２
のアルキルチオ基であり、例えばメチルチオ、エチルチ
オ、ｎ−ブチルチオ等が挙げられる。）、アリールチオ
基（好ましくは炭素数６〜２６、より好ましくは炭素数
６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリールチ
オ基であり、例えばフェニルチオ等が挙げられる。）、
ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数１〜２５、より好ま
しくは炭素数２〜１９、特に好ましくは炭素数５〜１１
のヘテロ環チオ基であり、チエニルチオ、ピリジルチオ
等が挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数
１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好まし
くは炭素数１〜１２のスルホニル基であり、例えばトシ
ル、メシルなどが挙げられる。）、スルフェニル基（好
ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１
６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルフェニル基で
あり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニ
ル等が挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数
１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好まし
くは炭素数１〜１２のウレイド基であり、例えばウレイ
ド、メチルウレイド、フェニルウレイド等が挙げられ
る。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、
より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数
１〜１２のリン酸アミド基であり、例えばジエチルリン
酸アミド、フェニルリン酸アミド等が挙げられる。）、
ヒドロキシル基、メルカプト基、ハロゲン原子（フッ素
原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、
スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸
基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、 【００５５】ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜２０、
より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数
１〜１２のヘテロ環基であり、へテロ原子としては、例
えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子などが挙げられ、具
体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、ピペリジル、
モルホリノ、フリル、オキサゾリル、チアゾリル、チエ
ニル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾ
イミダゾリル、プリニル、ピラジニル、ピリミジニル、
ピリダジニル、トリアジニル、チアジアゾリル、オキサ
ジアゾリル、セレニエニルなどが挙げられ、置換位置は
可能であればどの位置であってもよい。）、シリル基
（好ましくは炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３
〜３０、特に好ましくは炭素数３〜２０のシリル基であ
り、例えばトリメチルシリル、トリフェニルシリル等が
挙げられる。）等が挙げられる。これらの置換基はさら
に置換されていても、また他の環と縮合していてもよ
い。また、置換基が２つ以上ある場合には、同じでも異
なっていてもよく、また可能な場合には連結して環を形
成してもよい。置換基として好ましくは、アルキル基、
アリール基、アシル基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカル
ボニル基、アリールオキシカルボニル基、ハロゲン原
子、ヒドロキシ基、ヘテロ環基であり、より好ましくは
アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、ヘテロ環基で
あり、さらに好ましくはアルキル基、ハロゲン原子であ
る。 【００５６】一般式（Ｉ）において、Ｑ¹は芳香族炭化
水素環または芳香族へテロ環を表す。Ｑ¹で表される芳
香族炭化水素環としては例えばベンゼン環が挙げられ、
Ｑ¹で表される芳香族へテロ環としては、例えばピリジ
ン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリ
アジン環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾー
ル環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、トリア
ゾール環、テトラゾール環、フラン環、チオフェン環、
ピロール環、インドール環、カルバゾール環、ベンゾイ
ミダゾール環、イミダゾピリジン環などが挙げられる。
Ｑ¹として好ましくは、ベンゼン環、ピリジン環、ピリ
ミジン環、ピラジン環、トリアジン環、チアゾール環、
オキサゾール環、イミダゾール環、インドール環、ベン
ゾイミダゾール環、イミダゾピリジン環、カルバゾール
環であり、より好ましくはベンゼン環、ピリジン環、ト
リアジン環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾ
ール環、ベンゾイミダゾール環、イミダゾピリジン環、
カルバゾール環であり、さらに好ましくは、ベンゼン
環、ピリジン環、ベンゾイミダゾール環、イミダゾピリ
ジン環、カルバゾール環である。 【００５７】一般式（Ｉ）において、Ｑ¹で表される芳
香族炭化水素環または芳香族へテロ環は置換基を有して
いてもよく、置換基としてはＬ¹の置換基として挙げた
ものが適用できる。Ｑ¹の置換基として好ましくはアル
キル基、アリール基、ハロゲン原子、ヘテロ環基であ
り、さらに好ましくはアルキル基、ハロゲン原子であ
る。 【００５８】一般式（Ｉ）において、ｎ¹は２以上の数
を表す。ｎ¹は好ましくは２〜１５であり、より好まし
くは２〜６であり、さらに好ましくは３〜６である。 【００５９】一般式（Ｉ）で表される化合物のうち、好
ましくは下記一般式（ＩＩ）で表される化合物である。 【００６０】 【化９】 【００６１】一般式（ＩＩ）において、Ｒ¹⁰¹〜Ｒ¹⁰⁸は
各々独立に、水素原子又は置換基を表す。置換基として
は、例えば、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０、
より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数
１〜１０であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロ
ピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、
ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、
シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基
（好ましくは炭素数２〜３０、より好ましくは炭素数２
〜２０、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えば
ビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが
挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜
３０、より好ましくは炭素数２〜２０、特に好ましくは
炭素数２〜１０であり、例えばプロパルギル、３−ペン
チニルなどが挙げられる。）、アリール基（好ましくは
炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に
好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ
−メチルフェニル、ナフチル、アントラニルなどが挙げ
られる。）、アミノ基（好ましくは炭素数０〜３０、よ
り好ましくは炭素数０〜２０、特に好ましくは炭素数０
〜１０であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチル
アミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノ、ジフェニ
ルアミノ、ジトリルアミノなどが挙げられる。）、アル
コキシ基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは
炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１０であ
り、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ、２−エチル
ヘキシロキシなどが挙げられる。）、アリールオキシ基
（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６
〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えば
フェニルオキシ、１−ナフチルオキシ、２−ナフチルオ
キシなどが挙げられる。）、ヘテロ環オキシ基（好まし
くは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、
特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばピリジル
オキシ、ピラジルオキシ、ピリミジルオキシ、キノリル
オキシなどが挙げられる。）、シリルオキシ基（好まし
くは炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数６〜３０で
あり、例えばトリフェニルオキシ基、ｔ−ブチルジメチ
ルオキシ基、トリイソプロピルオキシ基などが挙げられ
る）、アシル基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ま
しくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１２
であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバ
ロイルなどが挙げられる。）、 【００６２】アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素
数２〜３０、より好ましくは炭素数２〜２０、特に好ま
しくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。）、アリー
ルオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜３０、よ
り好ましくは炭素数７〜２０、特に好ましくは炭素数７
〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが
挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２
〜３０、より好ましくは炭素数２〜２０、特に好ましく
は炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイ
ルオキシなどが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ま
しくは炭素数２〜３０、より好ましくは炭素数２〜２
０、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセ
チルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。）、
アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜
３０、より好ましくは炭素数２〜２０、特に好ましくは
炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミ
ノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルア
ミノ基（好ましくは炭素数７〜３０、より好ましくは炭
素数７〜２０、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、
例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられ
る。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３
０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭
素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、
ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。）、スル
ファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０、より好まし
くは炭素数０〜２０、特に好ましくは炭素数０〜１２で
あり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、
ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなど
が挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数
１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好まし
くは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチ
ルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカル
バモイルなどが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ま
しくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２
０、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチ
ルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチ
オ基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素
数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例
えばフェニルチオなどが挙げられる。）、ヘテロ環チオ
基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数
１〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例え
ばピリジルチオ、２−ベンズイミゾリルチオ、２−ベン
ズオキサゾリルチオ、２−ベンズチアゾリルチオなどが
挙げられる。）、 【００６３】スルホニル基（好ましくは炭素数１〜３
０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭
素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げ
られる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜３
０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは炭
素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベン
ゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ウレイド基
（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１
〜２０、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えば
ウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙
げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜
３０、より好ましくは炭素数１〜２０、特に好ましくは
炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、
フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキ
シ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原
子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ス
ルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸
基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環
基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数
１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原
子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリ
ル、ピリジル、キノリル、フリル、チエニル、ピペリジ
ル、モルホリノ、ベンズオキサゾリル、ベンズイミダゾ
リル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。）、シリル
基（好ましくは炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数
３〜３０、特に好ましくは炭素数３〜２４であり、例え
ばトリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げら
れる。）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換
されてもよく、また、置換基同士が結合して環構造を形
成しても良い。 【００６４】一般式（ＩＩ）において、Ｒ¹⁰¹〜Ｒ¹⁰⁸は
各々独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミ
ノ基、ヘテロ環基が好ましく、より好ましくは水素原
子、アルキル基、ヘテロ環基であり、更に好ましくは水
素原子、アルキル基である。 【００６５】一般式（ＩＩ）において、ｎは１〜８の整
数を表す。ｎは２〜４が好ましく、３がさらに好まし
い。ｎが１の場合、Ａは置換基を表す。置換基としては
好ましくはアルキル基、アリール基、ヘテロ環基であ
る。一方、ｎが２以上の場合、Ａはｎ価の連結基を表
す。連結基として好ましくはアルキル連結基、アリール
連結基、ヘテロ環連結基であり、より好ましくはアリー
ル連結基、ヘテロアリール連結基であり、さらに好まし
くはベンゼン連結基、ピリジン連結基、トリアジン連結
基であり、特に好ましくはベンゼン連結基である。 【００６６】次に、本発明の発光素子の層構成などにつ
いて説明する。本発明の発光素子は、りん光性発光材料
とホスト材料からの発光を利用する素子であればシステ
ム、駆動方法、利用形態など特に問わないが、代表的な
発光素子として有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）
素子を挙げることができる。 【００６７】本発明の発光素子は、陽極、陰極の一対の
電極間に発光層もしくは発光層を含む複数の有機層（有
機化合物薄膜）を形成した素子であり、発光層のほか有
機層として、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電
子輸送層、保護層などを有してもよく、またこれらの各
層はそれぞれ他の機能を備えたものであってもよい。各
層の形成にはそれぞれ種々の材料を用いることができ
る。これらの有機層の形成方法としては、特に制限はな
いが、抵抗加熱蒸着、電子ビーム、スパッタリング、分
子積層法、コーティング法（スピンコート法、キャスト
法、ディップコート法など）、インクジェット法、印刷
法、ＬＢ法、転写法などの方法が用いられ、好ましくは
抵抗加熱蒸着、コーティング法（塗布方法）である。 【００６８】本発明の発光素子は、発光層に隣接する層
に含まれる化合物のＴ₁レベルが６２Ｋｃａｌ／ｍｏｌ
以上（２６０ＫＪ／ｍｏｌ以上）、８５Ｋｃａｌ／ｍｏ
ｌ以下（３５６ＫＪ／ｍｏｌ以下）であることが好まし
く、６５Ｋｃａｌ／ｍｏｌ以上（２７２ＫＪ／ｍｏｌ以
上）、８０Ｋｃａｌ／ｍｏｌ以下（３３５ＫＪ／ｍｏｌ
以下）であることがより好ましい。 【００６９】上記物性値を満たす発光層に隣接する層に
含まれる化合物としては、特願２００１−１９７１３５
に記載のホール輸送材料、電子輸送材料が好ましい。特
願２００１−１９７１３５に記載のホール輸送材料、電
子輸送材料の好ましい範囲は、同特許に記載のとおりで
ある。 【００７０】本発明の発光素子は青色色純度の観点か
ら、発光のＣＩＥ色度値のｙ値は、好ましくは０．２８
以下であり、より好ましくは０．２５以下である。 【００７１】本発明の発光素子は陰極と発光層の間にイ
オン化ポテンシャル５．９ｅＶ以上（より好ましくは
６．０ｅＶ以上）の化合物を含有する層を用いるのが好
ましく、イオン化ポテンシャル５．９ｅＶ以上の電子輸
送層を用いるのがより好ましい。 【００７２】発光層の材料は、電界印加時に陽極又は正
孔注入層、正孔輸送層から正孔を注入することができる
と共に陰極又は電子注入層、電子輸送層から電子を注入
することができる機能や、注入された電荷を移動させる
機能、正孔と電子の再結合の場を提供して発光させる機
能を有する層を形成することができるものであれば何で
もよく、また、一重項励起子、又は、三重項励起子のい
ずれから発光する物であってもよい。例えばベンゾオキ
サゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾチアゾール、ス
チリルベンゼン、ポリフェニル、ジフェニルブタジエ
ン、テトラフェニルブタジエン、ナフタルイミド、クマ
リン、ペリレン、ペリノン、オキサジアゾール、アルダ
ジン、ピラリジン、シクロペンタジエン、ビススチリル
アントラセン、キナクリドン、ピロロピリジン、チアジ
アゾロピリジン、シクロペンタジエン、スチリルアミ
ン、芳香族ジメチリディン化合物、８−キノリノールの
金属錯体や希土類錯体に代表される各種金属錯体、ポリ
チオフェン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン
等のポリマー化合物、有機シラン、及び、それらの誘導
体が挙げられる。発光層の膜厚は特に限定されるもので
はないが、通常１ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好まし
く、より好ましくは５ｎｍ〜１μｍであり、更に好まし
くは１０ｎｍ〜５００ｎｍである。 【００７３】発光層の形成方法は、特に限定されるもの
ではないが、抵抗加熱蒸着、電子ビーム、スパッタリン
グ、分子積層法、コーティング法（スピンコート法、キ
ャスト法、ディップコート法など）、インクジェット
法、印刷法、ＬＢ法、転写法などの方法が用いられ、好
ましくは抵抗加熱蒸着、コーティング法（塗布方法）で
ある。 【００７４】陽極は正孔注入層、正孔輸送層、発光層な
どに正孔を供給するものであり、金属、合金、金属酸化
物、電気伝導性化合物、又はこれらの混合物などを用い
ることができ、好ましくは仕事関数が４ｅＶ以上の材料
である。具体例としては酸化スズ、酸化亜鉛、酸化イン
ジウム、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等の導電性金属
酸化物、あるいは金、銀、クロム、ニッケル等の金属、
さらにこれらの金属と導電性金属酸化物との混合物又は
積層物、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物質、ポリ
アニリン、ポリチオフェン、ポリピロールなどの有機導
電性材料、及びこれらとＩＴＯとの積層物などが挙げら
れ、好ましくは、導電性金属酸化物であり、特に、生産
性、高導電性、透明性等の点からＩＴＯが好ましい。陽
極の膜厚は材料により適宜選択可能であるが、通常１０
ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは
５０ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１００ｎｍ〜
５００ｎｍである。 【００７５】陽極は通常、ソーダライムガラス、無アル
カリガラス、透明樹脂基板などの上に層形成したものが
用いられる。ガラスを用いる場合、その材質について
は、ガラスからの溶出イオンを少なくするため、無アル
カリガラスを用いることが好ましい。また、ソーダライ
ムガラスを用いる場合、シリカなどのバリアコートを施
したものを使用することが好ましい。基板の厚みは、機
械的強度を保つのに十分であれば特に制限はないが、ガ
ラスを用いる場合には、通常０．２ｍｍ以上、好ましく
は０．７ｍｍ以上のものを用いる。 【００７６】陽極の作製には材料によって種々の方法が
用いられるが、例えばＩＴＯの場合、電子ビーム法、ス
パッタリング法、抵抗加熱蒸着法、化学反応法（ゾルー
ゲル法など）、酸化インジウムスズの分散物の塗布など
の方法で膜形成される。陽極は洗浄その他の処理によ
り、素子の駆動電圧を下げたり、発光効率を高めること
も可能である。例えばＩＴＯの場合、ＵＶ−オゾン処
理、プラズマ処理などが効果的である。 【００７７】陰極は電子注入層、電子輸送層、発光層な
どに電子を供給するものであり、電子注入層、電子輸送
層、発光層などの負極と隣接する層との密着性やイオン
化ポテンシャル、安定性等を考慮して選ばれる。陰極の
材料としては金属、合金、金属ハロゲン化物、金属酸化
物、電気伝導性化合物、又はこれらの混合物を用いるこ
とができ、具体例としてはアルカリ金属（例えばＬｉ、
Ｎａ、Ｋ等）及びそのフッ化物又は酸化物、アルカリ土
類金属（例えばＭｇ、Ｃａ等）及びそのフッ化物又は酸
化物、金、銀、鉛、アルミニウム、ナトリウム−カリウ
ム合金又はそれらの混合金属、リチウム−アルミニウム
合金又はそれらの混合金属、マグネシウム−銀合金又は
それらの混合金属、インジウム、イッテリビウム等の希
土類金属等が挙げられ、好ましくは仕事関数が４ｅＶ以
下の材料であり、より好ましくはアルミニウム、リチウ
ム−アルミニウム合金又はそれらの混合金属、マグネシ
ウム−銀合金又はそれらの混合金属等である。陰極は、
上記化合物及び混合物の単層構造だけでなく、上記化合
物及び混合物を含む積層構造を取ることもできる。例え
ば、アルミニウム／フッ化リチウム、アルミニウム／酸
化リチウム の積層構造が好ましい。陰極の膜厚は材料
により適宜選択可能であるが、通常１０ｎｍ〜５μｍの
範囲のものが好ましく、より好ましくは５０ｎｍ〜１μ
ｍであり、更に好ましくは１００ｎｍ〜１μｍである。 【００７８】陰極の作製には電子ビーム法、スパッタリ
ング法、抵抗加熱蒸着法、コーティング法などの方法が
用いられ、金属を単体で蒸着することも、二成分以上を
同時に蒸着することもできる。さらに、複数の金属を同
時に蒸着して合金電極を形成することも可能であり、ま
たあらかじめ調整した合金を蒸着させてもよい。 【００７９】陽極及び陰極のシート抵抗は低い方が好ま
しく、数百Ω／□以下が好ましい。 【００８０】正孔注入層、正孔輸送層の材料は、陽極か
ら正孔を注入する機能、正孔を輸送する機能、陰極から
注入された電子を障壁する機能のいずれか有しているも
のであればよい。その具体例としては、カルバゾール、
トリアゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、イミ
ダゾール、ポリアリールアルカン、ピラゾリン、ピラゾ
ロン、フェニレンジアミン、アリールアミン、アミノ置
換カルコン、スチリルアントラセン、フルオレノン、ヒ
ドラゾン、スチルベン、シラザン、芳香族第三級アミン
化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン
系化合物、ポルフィリン系化合物、ポリシラン系化合
物、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、アニリン系共重
合体、チオフェンオリゴマー、ポリチオフェン等の導電
性高分子オリゴマー、有機シラン、及び、それらの誘導
体、カーボン膜などが挙げられる。正孔注入層、正孔輸
送層の膜厚は特に限定されるものではないが、通常１ｎ
ｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５
ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１０ｎｍ〜５００
ｎｍである。正孔注入層、正孔輸送層は上述した材料の
１種又は２種以上からなる単層構造であってもよいし、
同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であっ
てもよい。 【００８１】正孔注入層、正孔輸送層の形成方法として
は、真空蒸着法やＬＢ法、前記正孔注入輸送剤を溶媒に
溶解又は分散させてコーティングする方法（スピンコー
ト法、キャスト法、ディップコート法など）、インクジ
ェット法、印刷法、転写法が用いられる。コーティング
法の場合、樹脂成分と共に溶解又は分散することがで
き、樹脂成分としては例えば、ポリ塩化ビニル、ポリカ
ーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリブチルメタクリレート、ポリエステル、ポリス
ルホン、ポリフェニレンオキシド、ポリブタジエン、ポ
リ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、炭化水素樹脂、ケトン
樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミド、エチルセルロー
ス、酢酸ビニル、ＡＢＳ樹脂、ポリウレタン、メラミン
樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキ
シ樹脂、シリコン樹脂などが挙げられる。 【００８２】電子注入層、電子輸送層の材料は、陰極か
ら電子を注入する機能、電子を輸送する機能、陽極から
注入された正孔を障壁する機能のいずれか有しているも
のであればよい。その具体例としては、トリアゾール、
オキサゾール、オキサジアゾール、イミダゾール、フル
オレノン、アントラキノジメタン、アントロン、ジフェ
ニルキノン、チオピランジオキシド、カルボジイミド、
フルオレニリデンメタン、ジスチリルピラジン、ナフタ
レン、ペリレン等の芳香環テトラカルボン酸無水物、フ
タロシアニン、８−キノリノールの金属錯体やメタルフ
タロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾール
を配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体、有
機シラン、及びそれらの誘導体等が挙げられる。電子注
入層、電子輸送層の膜厚は特に限定されるものではない
が、通常１ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より
好ましくは５ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１０
ｎｍ〜５００ｎｍである。電子注入層、電子輸送層は上
述した材料の１種又は２種以上からなる単層構造であっ
てもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多
層構造であってもよい。 【００８３】電子注入層、電子輸送層の形成方法として
は、真空蒸着法やＬＢ法、前記電子注入輸送剤を溶媒に
溶解又は分散させてコーティングする方法（スピンコー
ト法、キャスト法、ディップコート法など）、インクジ
ェット法、印刷法、転写法などが用いられる。コーティ
ング法の場合、樹脂成分と共に溶解又は分散することが
でき、樹脂成分としては例えば、正孔注入輸送層の場合
に例示したものが適用できる。 【００８４】保護層の材料としては水分や酸素等の素子
劣化を促進するものが素子内に入ることを抑止する機能
を有しているものであればよい。その具体例としては、
Ｉｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｎ
ｉ等の金属、ＭｇＯ、ＳｉＯ、ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｇ
ｅＯ、ＮｉＯ、ＣａＯ、ＢａＯ、Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｙ₂Ｏ₃、Ｔ
ｉＯ₂等の金属酸化物、ＭｇＦ₂、ＬｉＦ、ＡｌＦ₃、Ｃ
ａＦ₂等の金属フッ化物、ＳｉＮ，ＳｉＮ_xＯ_yなどの窒
化物、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルメタ
クリレート、ポリイミド、ポリウレア、ポリテトラフル
オロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリ
ジクロロジフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチ
レンとジクロロジフルオロエチレンとの共重合体、テト
ラフルオロエチレンと少なくとも１種のコモノマーとを
含むモノマー混合物を共重合させて得られる共重合体、
共重合主鎖に環状構造を有する含フッ素共重合体、吸水
率１％以上の吸水性物質、吸水率０．１％以下の防湿性
物質等が挙げられる。 【００８５】保護層の形成方法についても特に限定はな
く、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパ
ッタリング法、ＭＢＥ（分子線エピタキシ）法、クラス
ターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズ
マ重合法（高周波励起イオンプレーティング法）、プラ
ズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、ガスソ
ースＣＶＤ法、コーティング法、印刷法、転写法を適用
できる。 【００８６】本発明の発光素子は、表示素子、ディスプ
レイ、バックライト、電子写真、照明光源、記録光源、
露光光源、読み取り光源、標識、看板、インテリア等の
分野に好適に適用することができる。 【００８７】 【実施例】以下に本発明の具体的実施例を述べるが、本
発明の実施の態様はこれらに限定されない。 【００８８】比較例１（文献：Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｈｙ
ｓｉｃｓ Ｌｅｔｔｅｒｓ ７９，２０８２（２００
１）．の追試実験［下記化合物を用いた実験］） 上記文献に記載の素子を作製、評価したところ、色度値
（ｘ，ｙ）＝（０．１６，０．３０）、λｍａｘ＝４７
５ｎｍの青色発光が得られた。 【００８９】実施例１ 洗浄したＩＴＯ基板を蒸着装置に入れ、ＴＰＤ（Ｎ，
Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジ（ｍ−トリル）−ベン
ジジン）を５０ｎｍ蒸着し、この上に、下記化合物Ａと
下記化合物Ｂを１対１７の比率（質量比）で３６ｎｍ共
蒸着し、この上に下記化合物Ｃ（アゾール化合物）を３
６ｎｍ蒸着した。有機薄膜上にパターニングしたマスク
（発光面積が４ｍｍ×５ｍｍとなるマスク）を設置し、
蒸着装置内でフッ化リチウムを３ｎｍ蒸着した後、アル
ミニウム６０ｎｍを蒸着し、発光素子（ＥＬ素子）を作
製した。東陽テクニカ製ソースメジャーユニット２４０
０型を用いて、直流定電圧をＥＬ素子に印加し発光さ
せ、発光波長を浜松フォトニクス社製スペクトルアナラ
イザーＰＭＡ−１１を用いて測定した。その結果、ＥＬ
ｍａｘ（最大極大波長λｍａｘ）＝４２０ｎｍ，４５３
ｎｍ、色度値（０．１６，０．１８）の青色発光が得ら
れた。λｍａｘ＝４２０ｎｍのホスト材料からの発光と
λｍａｘ＝４５３ｎｍのゲスト材料（りん光性発光材
料）からの発光の発光極大波長での強度比は０．５対１
であった。 【００９０】実施例２ ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）４０ｍｇ、ＰＢＤ（２
−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニ
ル）−１，３，４−オキサジアゾール）１２ｍｇ、下記
化合物Ａ０．３ｍｇをジクロロエタン２．５ｍｌに溶解
し、洗浄した基板上にスピンコートした（１５００ｒｐ
ｍ，２０ｓｅｃ）。有機層の膜厚は９５ｎｍであった。
有機薄膜上にパターニングしたマスク（発光面積が４ｍ
ｍ×５ｍｍとなるマスク）を設置し、蒸着装置内でマグ
ネシウム：銀＝１０：１を５０ｎｍ共蒸着した後、銀５
０ｎｍを蒸着し、発光素子（ＥＬ素子）を作製した。実
施例１と同様に素子を評価した結果、ＥＬｍａｘ（最大
極大波長λｍａｘ）＝４１０ｎｍ，４５０ｎｍ、色度値
（０．１６，０．２３）の青色発光が得られた。λｍａ
ｘ＝４１０ｎｍのホスト材料からの発光とλｍａｘ＝４
５０ｎｍのゲスト材料（りん光性発光材料）からの発光
の発光極大波長での強度比は０．１対１であった。 【００９１】 【化１０】 【００９２】その他、本明細書中に記載のりん光性発光
材料、ホスト材料を用いても、同様な効果を得ることが
できる。 【００９３】 【発明の効果】以上、本発明によれば、高効率で、高い
色純度の青色発光が得られる発光素子を提供することが
できる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 一対の電極間に発光層又は発光層を含む
   複数の有機層を有し、前記発光層がりん光性発光材料と
   ホスト材料とを含み、かつ電圧印加時に前記りん光性発
   光材料と前記ホスト材料との双方が発光することを特徴
   とする発光素子。