JP2003206272A

JP2003206272A - 含フッ素アルカンスルホニルフルオリドの製造方法

Info

Publication number: JP2003206272A
Application number: JP2001400456A
Authority: JP
Inventors: Masafumi Kobayashi; 政史小林; Takashi Tanioka; 貴谷岡; Hiroshi Kumase; 博熊瀬; Yasushi Fukai; 靖深井
Original assignee: Kanto Denka Kogyo Co Ltd
Current assignee: Kanto Denka Kogyo Co Ltd
Priority date: 2001-12-28
Filing date: 2001-12-28
Publication date: 2003-07-22
Anticipated expiration: 2021-12-28
Also published as: JP4005807B2

Abstract

(57)【要約】【課題】選択率・収率良く、簡便な装置ないしは設備
で、工業的に含フッ素アルカンスルホニルフルオリドを製造する方法を提供
する。【解決手段】アルカンスルホニルフルオリドをフッ素
ガスと反応させることにより、含フッ素アルカンスルホニルフルオリド、即
ちペルフルオロアルカンスルホニルフルオリド又はヒドロフルオロアルカンスル
ホニルフルオリドを得る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】

本発明は、リチウムイオン二次電池、リチウムポリマー
二次電池用の電解質の原料として、または医薬、農薬、高分子機能材料等の各
種化合物の合成原料として多方面の用途に期待される極めて有用且つ重要な化合
物である含フッ素アルカンスルホニルフルオリドの製造方法に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】従来、ペルフルオロアルカンスルホニルフルオリドを合
成する方法としては、メタンスルホニルフルオリド等のアルカンスルホニルフ
ルオリドを出発原料に、これを無水フッ化水素溶液中で電解フッ素化することで
合成する方法（ECF法）などが知られている（例えば、J.Chem.Soc.,173(1956),
J.Chem.Soc.,2640(1957) ,J.Chem.Soc.,4069(1957)，米国特許第2732398(1956）
号、英国特許第758467(19 56)号、独国特許第22011649(1973)号、独国特許第22348
37(1974)号、仏国特許第 1478144(1967)号、及びJ.Appl.Chem.,4,289(1974)
等）。しかしながら、これらのECF法は、大規模な電解反応設備を必要とし、操作自
体も複雑であって、反応効率を上げるための副反応を抑える対策や電極の寿命な
ど、種々の問題があった。

【０００３】また、これら上記の方法ではアルカンスルホニルフルオ
リドからペルフルオロアルカンスルホニルフルオリドまで一気にフッ素化が進
むため、フッ素化反応を途中で止めることは出来ず、一部がフッ素化したヒドロ
フルオロアルカンスルホニルフルオリドを得るための方法としては、好ましいも
のではなかった。つまり、従来は、有機機能性材料などへの使用が期待されるヒ
ドロフルオロアルカンスルホニルフルオリドを定量的に製造することが、困難で
あった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】

本発明は、このような従来の製造方法による問題点を解
決し、選択率・収率良く、簡便な装置ないしは設備で、工業的に含フッ素アル
カンスルホニルフルオリド、即ち、ペルフルオロアルカンスルホニルフルオリド
又はヒドロフルオロアルカンスルホニルフルオリドを製造する方法を提供するこ
とにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】

本発明者らは、アルカンスルホニルフルオリドをフッ素
化して含フッ素アルカンスルホニルフルオリドを合成する方法を鋭意検討した
結果、アルカンスルホニルフルオリドのペルフルオロカーボン溶液とフッ素とを
反応させることにより、収率良く、ペルフルオロアルカンスルホニルフルオリド
が得られることを見出した。

【０００６】即ち、具体的には、下記一般式［１］：（Ｒ_FＳＯ₂Ｆ）［１］（式中、Ｒ_Fは炭素数１〜８のペルフルオロアルキル基
を示す。）で表されるペルフルオロアルカンスルホニルフルオリド
の製造方法であって、下記一般式［３］：（Ｒ_HＳＯ₂Ｆ）［３］（式中、Ｒ_Hは炭素数１〜８のアルキル基を示す。）で表されるアルカンスルホニルフルオリドを、所定の溶
媒と混合させた状態で、フッ素を含むガスを導入して液相中で反応させることに
より、ペルフルオロアルカンスルホニルフルオリドが得られることを見出した。
このときの溶媒としては、ペルフルオロカーボンが適しており、特に、炭素数４
〜２０までのペルフルオロカーボンであることが好ましい（炭素数３以下のもの
は、常温常圧で気体であり、好ましい温度条件での反応を行うことが困難であ
る。一方、炭素数２０を超えるものは、融点が高いために、好ましい温度条件での
反応を行うことが困難であり、且つ、ペルフルオロカーボン自体も高価となるた
め好ましくない。）。また、フッ素を含むガスとしては、実質的に１００％のフ
ッ素ガスでもかまわないが、窒素、アルゴンなどの不活性ガスや気体状のペルフ
ルオロカーボンにより希釈されたフッ素ガスが好ましく用いられる。

【０００７】一方、液状のアルカンスルホニルフルオリドを無溶媒条
件下でフッ素を含むガスとを反応させることにより、ヒドロフルオロアルカン
スルホニルフルオリドが得られることを見出した。

【０００８】即ち、具体的には、下記一般式［２］：（Ｒ_HFＳＯ₂Ｆ）［２］（式中、Ｒ_HFは炭素数１〜８の炭素鎖上に、少なくとも
１つ以上１６個以下のフッ素及び少なくとも１つ以上１６個以下の水素を持つア
ルキル基を示し、アルキル基上の水素およびフッ素の位置については限定されな
い。）で表されるヒドロフルオロアルカンスルホニルフルオリ
ドの製造方法であって、下記一般式［３］：（Ｒ_HＳＯ₂Ｆ）［３］（Ｒ_Hは前述の通り。）で表されるアルカンスルホニルフルオリドを、無溶媒
で、フッ素を含むガスを導入して液相中で反応させることにより、ヒドロフルオロ
アルカンスルホニルフルオリドが得られる。このときのフッ素を含むガスとして
は、窒素、アルゴンなどの不活性ガスや気体状のペルフルオロカーボンにより希
釈されたフッ素ガスが好ましく用いられる。

【０００９】またさらに、下記一般式［２］：（Ｒ_HFＳＯ₂Ｆ）［２］（Ｒ_HFは前述の通り。）で表されるヒドロフルオロアルカンスルホニルフルオリ
ドについてもさらにフッ素化すると、即ち、ヒドロフルオロアルカンスルホニル
フルオリドを、ペルフルオロカーボン溶媒中に混合させた状態で、フッ素を含む
ガスを導入して液相中で反応させることにより、選択率及び収率良く、ペルフル
オロアルカンスルホニルフルオリドを製造することが出来る。また、ヒドロフル
オロアルカンスルホニルフルオリドの中には、沸点が低く、常温でも比較的容易
に気化することができるものがある。このような場合、ヒドロフルオロアルカン
スルホニルフルオリドを気化させた後、気相中でフッ素ガスと反応させて、選択
率及び収率良く、ペルフルオロアルカンスルホニルフルオリドを得ることもでき
る。

【００１０】

【発明の実施の形態】

以下、本発明について詳しく説明する。本発明により製
造されるペルフルオロアルカンスルホニルフルオリドにおいて、一般式［１］
中でＲ_Fで定義されている炭素数１〜８のペルフルオロアルキル基とは、その炭
素鎖が直鎖状、分枝状または環状の飽和炭化水素基であって、その水素原子がす
べてフッ素原子に置換されたものであることを示す。炭素数が１〜８である理由
は、常温で、液体であるからである。同様にして、本発明により製造されるヒド
ロフルオロアルカンスルホニルフルオリドにおいては、一般式［２］中でＲ_HFで
定義されている炭素数１〜８のヒドロフルオロアルキル基とは、その炭素鎖が直
鎖状、分枝状または環状の飽和炭化水素基であって、少なくとも１個以上１６個
以下の水素原子とその水素原子の数より左右される１６個以下（１個以上）のフ
ッ素原子とを有する基であることを示しており、アルキル基上の水素およびフッ
素の位置については特に制限されない。

【００１１】まず、本発明におけるペルフルオロアルカンスルホニル
フルオリドの製造方法を、図に基づいて説明する。

【００１２】図１に示すような、液相直接フッ素化装置を用いて、反
応を実施する。すなわち、反応器（６）に、原料のアルカンスルホニルフルオ
リド及び溶媒を仕込み、恒温相（７）中でマグネティックスターラー（８）で高
速に撹拌する。次いで、マスフローメーター（３）で流量を調整したフッ素ガス
を、SUS製ノズル（９）より導入する。反応中は、液相温度計（４）及び気相温
度計（５）により温度を測定し、また、コンデンサ（１０）より排出されるガス
中の未反応フッ素を、検出口（１１）において分析する。さらに、排出ガスはバ
ッファ（１２）、水洗浄（１３）及び１０％Ｎａ₂ＳＯ₃水溶液洗浄（１４）を経
て、寒剤で冷却した容器（１５）にて生成物を捕捉する。捕捉されなかったガス
は、排出口（１７）を経て除外装置に導入する。

【００１３】図２には、反応器側面図を示す。図２において、原料の
アルカンスルホニルフルオリド（３０）と溶媒（４０）は、相溶する場合と不
溶の場合があるが、後者の場合であっても、撹拌子（２０）で激しく撹拌させて
懸濁状態にすることでフッ素化が可能になる。フッ素は、フッ素導入口（５０）
から、SUS製ノズル（９）により導入する。ノズルの位置は、液面より下であれ
ばどこでも良い。さや管（８０）より、液相温度測定用熱電対（９０）及び気相
温度測定用熱電対（１００）を挿入する。液相温度測定用熱電対（９０）の位置
は、液面より下であればどこでも良いが、SUS製ノズル（９）の位置の高さに合
わせるのが好ましい。気相温度測定用熱電対（１００）の位置は、液面より上で
あればどこでも良いが、好ましくは、液面上３ｃｍ付近とする。生成物がガス状
の場合は排出口（７０）より取り出される。一方、生成物が液体の場合は、コン
デンサで冷却され、排出口（７０）より、反応器（６）へと戻される。次に、ペ
ルフルオロアルカンスルホニルフルオリドの製造方法を、その好ましい実施形態
に基づいて具体的に説明する。

【００１４】まず、アルカンスルホニルフルオリドを溶媒中に分散さ
せる。上記の溶媒としては、ペルフルオロカーボンを使用することが好適であ
る。フッ化水素を溶媒として用いた場合は、フッ素化反応と同時に分解反応を併
発してしまうので好ましくない。一方、ギ酸やクロロホルムといった有機溶媒を
使用すると、溶媒のフッ素化が優先して起こるので好ましくない。ペルフルオロ
カーボンとしては、炭素数４〜２０のもの、好ましくは５〜１０のものを用いる
ことが良く、その使用量は、原料のアルカンスルホニルフルオリドに対するペル
フルオロカーボンの濃度が１〜９９重量％、好ましくは５０〜９５重量％となる
割合が望ましい。（ペルフルオロカーボンの濃度が５０重量％未満では、目的化
合物の選択性が低下し、また、９５重量％以上では、大掛かりな反応器を必要と
するため、コスト的に好ましくない。）また、常温常圧下で経済的に行なうため
には、ペルフルオロカーボンの炭素数が４〜２０の範囲のものであることが好ま
しい。炭素数３以下のものは、常温常圧で気体であり、好ましい温度条件での反
応を行うことが困難である。一方、炭素数が２０を超えると、ペルフルオロカー
ボンの融点が高くなり、好ましい温度条件での反応が困難になる。次いで、上記
のアルカンスルホニルフルオリドのペルフルオロカーボン溶液に、フッ素ガス若
しくはフッ素と不活性ガスとの混合ガスを導入する。

【００１５】上記ガスを導入する際には、液相（上記の無溶媒液、若
しくはペルフルオロカーボン溶液またはフッ化水素溶液）を高速で撹拌し、且
つ上記のガスを２００μ ｍ以下、好ましくは１５μｍ以下の微細な孔より、上記
液相中に噴出させることによって、より穏やかに且つ安全にフッ素化反応を進行
させることが可能となる。撹拌速度が低下すると、液相中のフッ素ガスの気泡が
大きくなり、局部的な爆発反応が起こることがある。撹拌速度としては、２００
〜１０００ｒｐｍ程度が好ましい。反応器の材質としては、SUS、モネル、イン
コネル、ハステロイ、銅、鉄、ニッケルおよびアルミニウムのような金属合金ま
たは金属や、ＰＦＡ及びテフロン（登録商標）等のフッ素樹脂が使用できる。ま
た、フッ素ガスを噴出させるための微細な孔を有するノズルの材質は、SUS、モネル、インコ
ネル、ハステロイ、銅、鉄、ニッケルおよびアルミニウムのような金属合金また
は金属や、テフロン等のフッ素樹脂が好ましい。孔の形状は特に制限されるもの
ではないが、穏和・安全に反応させるためには、ガスの導入速度が１ｃｍ³／ｃ
ｍ²以下、好ましくは０．８ｃｍ³／ｃｍ²以下となるようにすることが好ましく、
そのための手段として孔の断面積を調整する方法などの手法を採用することが好
ましい。

【００１６】導入ガスとしては、より安全な反応を行うために、１０
０％フッ素ガスよりも、フッ素ガスとヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプト
ンまたはキセノンといった希ガス類や窒素、あるいは炭素数１から４までのペル
フルオロカーボンとの混合ガスを使用することが好ましい。上記の不活性ガスに
対するフッ素ガスの濃度は１〜７５容積％、好ましくは５〜５０容積％となる割
合である。

【００１７】反応中の液相温度は、２０〜８０℃、好ましくは３０〜
５０℃である。液相温度が２０℃未満であると、フッ素化反応速度が著しく低
下し、また８０℃を超えると、分解反応を併発してしまうために、好ましくな
い。また、反応中の気相温度は、３０〜１００℃、好ましくは４０〜８０℃であ
る。気相温度が３０℃未満であると、フッ素化反応が著しく低下し、また１００℃
を超えると、分解反応を併発してしまうために、好ましくない。

【００１８】また、上記ガスの導入量は、原料の０．０１当量から、
化学量論量の３倍程度まで、好ましくは化学量論量の０．１〜２倍程度であ
る。０．０１当量より少ないと、完全なフッ素化が進行しないので好ましくない。
また３倍を超えると大過剰のフッ素により、原料、目的物及び溶媒等が分解し、
目的物の選択性が低下するので、好ましくない。なお、この場合、フッ素を０．
０１から０．５化学量論量導入した場合、ヒドロフルオロアルカンスルホニルフ
ルオリドを得ることが可能である。他方、目的のペルフルオロアルカンスルホニ
ルフルオリドを得るには、フッ素を０．５から３化学量論量導入することで成さ
れる。

【００１９】未反応フッ素および副生するフッ化水素の除去は、反応
系（反応器）より排出されるガスを、水洗浄、引き続き亜硫酸ナトリウム水溶
液で洗浄することで行われる。または、反応系（反応器）より排出されるガス
を、フッ化ナトリウムを充填した塔（容器）に導き、副生するフッ化水素を取り除
き、その後ソーダライム塔に通じることで未反応フッ素を取り除く方法を用いて
も良い。生成物をガス状で得る場合は、液体窒素で保冷した容器に補集すること
によって行なう方法を採用する。または、活性炭等に吸着・脱着させる方法を用
いてもよい。他方、生成物を液体状で得る場合は、−３０℃に冷却したコンデン
サーによって還流して、反応器へと戻す（好ましくは、その操作を繰り返すこと
によって行なう方法が採用される）。反応終了後、補集容器に補集された粗生成
物または反応器内に生成した粗生成物は、蒸留等により精製し、本発明のペルフ
ルオロアルカンスルホニルフルオリドを得る。

【００２０】なお、副生成物として、ヒドロフルオロアルカンスルホ
ニルフルオリドが得られてくるが、これを再度、フッ素ガスと反応させること
で、ペルフルオロアルカンスルホニルフルオリドに変換することができる。

【００２１】次にヒドロフルオロアルカンスルホニルフルオリドを得
る方法について述べる。上記のアルカンスルホニルフルオリドに、フッ素ガス
若しくはフッ素と不活性ガスとの混合ガスを導入する。反応器は吹出しノズルの
材質、反応条件、及び後処理は、ペルフルオロアルカンスルホニルフルオリドの
製造方法をそのまま使用することができる。

【００２２】この場合、フッ素の導入量は、原料の０．０１当量か
ら、化学量論量の１倍程度まで、好ましくは化学量論量の０．１〜０．５倍程度
である。０．０１当量より少ないと、完全なフッ素化が進行しないので好ましく
ない。また１倍を超えると分解反応が併発して、目的物の選択性が低下するの
で、好ましくない。

【００２３】反応終了後、反応器内に生成した粗生成物を、蒸留等に
より精製し、本発明のヒドロフルオロアルカンスルホニルフルオリドを得る。

【００２４】

【実施例】

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発
明はこれらの実施例に限定されるものではない。実施例１１０００ｍＬのＰＦＡ製反応容器に、メタンスルホニル
フルオリド（ＣＨ₃ＳＯ₂Ｆ）１７９ｇ（１．８ｍｏｌ）およびＣ₆Ｆ₁₄ ７０
０ｇ（２．１ｍｏｌ）を仕込み（メタンスルホニルフルオリド：２０重量％、Ｃ
₆Ｆ₁₄：８０重量％）、窒素ガスを２００ｍＬ／ｍｉｎの流量でＳＵＳ製ノズル
（細孔直径：１５μｍ、表面積：７．５ｃｍ²）より３０分間、反応容器内に吹
込みながら、溶存している空気等を系外に追い出した。その後、窒素ガスで３０
％に希釈したフッ素ガスを、ＳＵＳ製ノズル（細孔直径：１５μｍ、表面積：
７．５ｃｍ²）より、１００ｍＬ／ｍｉｎ（０．０７５ｍｏｌ／ｈ）の流量で液相
中に吹込んだ（フッ素総導入量：５．０ｍｏｌ）。反応中は、回転数を約８００
ｒｐｍにした攪拌機によって絶えず反応液を撹拌して、一ヶ所にフッ素ガスを滞
留させないようにした。反応容器内の液相温度は３５〜４５℃に、同様に、気相
温度が４０〜６０℃になるように、外部に設けた恒温槽により保った。反応によ
り得られるガス状生成物は、反応器から冷却器を通して原料とＣ₆Ｆ₁₄を除き、
水洗浄および亜硫酸ナトリウム水洗浄により未反応フッ素及び副生したフッ化水
素を除去し、液体窒素で冷却した容器に補集した。その結果、純度８８％のトリ
フルオロメタンスルホニルフルオリド（ＣＦ₃ＳＯ₂Ｆ）を、３８ｇ（０．２０１
ｍｏｌ、収率１２％）得た。一方、２相にわかれた反応液から、下相のＣ₆Ｆ₁₄
を分離後、上相を水５０ｇで洗浄し、蒸留精製することにより、ジフルオロメタ
ンスルホニルフルオリド（ＣＨＦ₂ＳＯ₂Ｆ）を１７ｇ（０．１３ｍｏｌ、収率７
％）、モノフルオロメタンスルホニルフルオリド（ＣＨ₂ＦＳＯ₂Ｆ）を６９ｇ
（０．６ｍｏｌ、収率３３％）得ることが出来、また同時に原料のメタンスルホニ
ルフルオリドを５１ｇ（０．５２ｍｏｌ，未反応回収率２９％）回収した。実施例２１０００ｍＬのＰＦＡ製反応容器に、モノフルオロメタ
ンスルホニルフルオリド１８０ｇ（１．６ｍｏｌ）、およびＣ₆Ｆ₁₄ ７００
ｇ（２．１ｍｏｌ）を仕込み（モノフルオロメタンスルホニルフルオリド：２０
重量％、Ｃ₆Ｆ₁₄：８０重量％）、実施例１と同様の条件にて反応を行ったとこ
ろ（総導入Ｆ₂量：５．０ｍｏｌ）、トリフルオロメタンスルホンスルホニルフ
ルオリドを、９０ｇ（０．６ｍｏｌ、収率３８％）得た。また、実施例１と同様
の手法で反応液を精製したところ、ジフルオロメタンスルホニルフルオリドを１
０ｇ（０．０７ｍｏｌ、収率５％）得た。また、原料のモノフルオロメタンスル
ホニルフルオリドを５８ｇ（０．５ｍｏｌ、未反応回収率３２％）回収した。実施例３１０００ｍＬのＰＦＡ製反応容器に、メタンスルホニル
フルオリド５００ｇ（５．１ｍｏｌ）を仕込み、実施例１と同様の条件で反応
を行った（総導入Ｆ₂量：５．０ｍｏｌ）。

【００２５】反応液を、実施例１と同様の手法を用いて精製したとこ
ろ、ジフルオロメタンスルホニルフルオリドを、２１ｇ（０．１５ｍｏｌ、収
率３％）及びモノフルオロメタンスルホニルフルオリドを、１０９ｇ（０．９４
ｍｏｌ、収率１８％）得た。また、原料のメタンスルホニルフルオリドを３５０
ｇ（３．５７ｍｏｌ、未反応回収率７０％）回収した。比較例１１０００ｍＬのＰＦＡ製反応容器に、メタンスルホニル
フルオリド２５０ｇ（２．６ｍｏｌ）およびフッ化水素２５０ｇ（１２．５ｍ
ｏｌ）を仕込み（メタンスルホニルフルオリド：５０重量％、フッ化水素：５０
重量％）、実施例１と同様の手法を用いて反応を行ったところ（総導入Ｆ₂量：
５．０ｍｏｌ）、モノフルオロメタンスルホニルフルオリドを、２９ｇ（０．２
７ｍｏｌ、収率１０％）得た。また、原料のメタンスルホニルフルオリドを１９
９ｇ（２．１ｍｏｌ、未反応回収率８０％）回収した。また、生成ガス中の主成
分は、分解物であるＣＦ ₄ およびＳＯ₂Ｆ₂であった。比較例２１０００ｍＬのＰＦＡ製反応容器に、メタンスルホニル
フルオリド９８ｇ（１．０ｍｏｌ）およびギ酸４４０ｇ（９．５ｍｏｌ）を仕
込み（メタンスルホニルフルオリド：２０重量％、ギ酸：８０重量％）、実施例
１と同様の手法を用いて反応を行ったところ（総導入Ｆ₂量：５．０ｍｏｌ）、
炭酸ガスが発生し、ほとんどは未反応のままの原料が回収された。

【００２６】結果をまとめて表１に示す。

【００２７】

【表１】

【００２８】

【発明の効果】

本発明の含フッ素アルカンスルホニルフルオリドの製造
方法によると、電解フッ素化法といった従来の製造方法で必要とされた煩雑な
操作や大掛かりな反応装置を使用とせず、含フッ素アルカンスルホニルフルオリ
ドを簡便且つ高選択率をもって製造することが可能となる。

【００２９】ゆえに、本発明の製造方法によれば、容易に入手可能な
出発原料を選ぶことにより、炭素数４〜２０程度の炭素鎖長を有する含フッ素
アルカンスルホニルフルオリドを、安全且つ簡便に製造することが出来、方法と
して幅広い利用・応用が可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に用いる反応装置の概略を示す図。

【図２】本発明に用いる反応器の側面図。

【符号の説明】

１Ｎ₂シリンダー２３０％Ｆ₂／Ｎ₂シリンダー３マスフローメーター４液相温度計５気相温度計６１ＬＰＦＡ製反応容器７恒温槽８マグネティックスターラー９ノズル１０コンデンサ１１Ｆ₂検出口１２バッファ１３洗浄水１４１０％Ｎａ₂ＳＯ₄水１５５００ｍＬＳＵＳ製シリンダー１６コールドトラップ１７ガス排出口２０テフロン製撹拌子３０原料４０溶媒５０フッ素導入口７０排出口８０ＰＦＡ製さや管９０液相温度計熱電対１００気相温度計熱電対

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者熊瀬博群馬県渋川市1497番地関東電化工業株式会社渋川工場内 (72)発明者深井靖群馬県渋川市1497番地関東電化工業株式会社渋川工場内Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AC30 BB12 BB61 BC10 BC31 BC35 BD84 BE53

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記一般式［１］：（Ｒ_FＳＯ₂Ｆ）［１］（式中、Ｒ_Fは炭素数１〜８のペルフルオロアルキル基
を示す。）で表されるペルフルオロアルカンスルホニルフルオリ
ド、又は、下記一般式［２］：（Ｒ_HFＳＯ₂Ｆ）［２］（式中、Ｒ_HFは炭素数１〜８の炭素鎖上に、少なくとも
１つ以上１６個以下のフッ素及び少なくとも１つ以上１６個以下の水素を持つア
ルキル基を示し、アルキル基上の水素およびフッ素の位置については限定されな
い。）で表されるヒドロフルオロアルカンスルホニルフルオリ
ドの製造方法であって、下記一般式［３］：（Ｒ_HＳＯ₂Ｆ）［３］（式中、Ｒ_Hは炭素数１〜８のアルキル基を示す。）で表されるアルカンスルホニルフルオリドとフッ素を含
むガスとを反応させることを特徴とする含フッ素アルカンスルホニルフルオリド
の製造方法。
【請求項２】前記一般式［１］又は［２］で表される化合物におい
て、Ｒ_F又はＲ_HFの炭素数が１、即ちトリフルオロメタンスルホニルフルオリド
（ＣＦ₃ＳＯ₂F）又はジフルオロメタンスルホニルフルオリド（ＣＨＦ₂ＳＯ
₂Ｆ）若しくはモノフルオロメタンスルホニルフルオリド（ＣＨ₂ＦＳＯ₂Ｆ）である
請求項１記載の含フッ素アルカンスルホニルフルオリドの製造方法。
【請求項３】ペルフルオロカーボンの存在下、アルカンスルホニルフ
ルオリドとフッ素を含むガスとを接触させ、ヒドロフルオロアルカンスルホニ
ルフルオリドを得ることを特徴とする請求項１又は２記載の含フッ素アルカンス
ルホニルフルオリドの製造方法。
【請求項４】ペルフルオロカーボンの存在下、ヒドロフルオロアルカ
ンスルホニルフルオリドとフッ素を含むガスとを接触させ、ペルフルオロアル
カンスルホニルフルオリドを得ることを特徴とする請求項１又は２記載の含フッ
素アルカンスルホニルフルオリドの製造方法。
【請求項５】ペルフルオロカーボンの存在下、アルカンスルホニルフ
ルオリドとフッ素を含むガスとを接触させ、ヒドロフルオロアルカンスルホニ
ルフルオリドを得、さらにペルフルオロカーボンの存在下、ヒドロフルオロアル
カンスルホニルフルオリドとフッ素を含むガスとを接触させ、ペルフルオロアル
カンスルホニルフルオリドを得ることを特徴とする請求項１又は２記載の含フッ
素アルカンスルホニルフルオリドの製造方法。
【請求項６】フッ素を含むガスが、不活性ガスまたはガス状ペルフル
オロカーボンで希釈されたフッ素ガス又は実質的に１００％フッ素ガスである
ことを特徴とする請求項１〜５の何れか１項記載の含フッ素アルカンスルホニル
フルオリドの製造方法。
【請求項７】ペルフルオロカーボンが、炭素数４〜２０までのペルフ
ルオロカーボンであることを特徴とする請求項３〜５の何れか１項記載の含フ
ッ素アルカンスルホニルフルオリドの製造方法。
【請求項８】反応時の液相温度を２０〜８０℃とすることを特徴とす
る請求項１〜７の何れか１項記載の含フッ素アルカンスルホニルフルオリドの
製造方法。
【請求項９】反応時の気相温度を３０〜１００℃とすることを特徴と
する請求項１〜８の何れか１項記載の含フッ素アルカンスルホニルフルオリド
の製造方法。