JP2003203380A - 小型オプティカルディスクに使用する集積化オプティカルユニット - Google Patents

小型オプティカルディスクに使用する集積化オプティカルユニット

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JP2003203380A
JP2003203380A JP2002366524A JP2002366524A JP2003203380A JP 2003203380 A JP2003203380 A JP 2003203380A JP 2002366524 A JP2002366524 A JP 2002366524A JP 2002366524 A JP2002366524 A JP 2002366524A JP 2003203380 A JP2003203380 A JP 2003203380A
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lens
optical
optical disc
light
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M Chu Anthony
エム. チュウ アンソニー
Danielle A Thomas
エイ. トーマス ダニエル
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ST MICROELECTRONICS Inc
STMicroelectronics lnc USA
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ST MICROELECTRONICS Inc
STMicroelectronics lnc USA
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    • G11B7/12Heads, e.g. forming of the optical beam spot or modulation of the optical beam
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 オプティカルディスクと通信を行う改良した
電気光学的装置及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 レーザダイオードからの光がオプティカ
ルディスクにおける第一レンズを介してオプティカルユ
ニットの傾斜表面上のミラーによって指向される。光は
第二レンズを介して平行な経路上を該ディスクから帰還
し且つ該光検知器に指向される。半導体装置がレーザダ
イオードの動作を制御し且つ処理のために光検知器から
の信号を受取る。オプティカルユニットはホトリソグラ
フィ技術を使用して大型のガラスウエハ又はウエハから
切断された1つ又は2つのガラス要素から形成される。
ウエハの選択的プラズマエッチングによって形成される
傾斜したガラス表面上に付着形成した薄膜によってミラ
ーが形成される。少なくとも1個のミラーは部分的に反
射性であり且つ窒化チタン薄膜を付着形成することによ
り形成される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、大略、レーザ光を
オプティカルディスクへ及びそれから伝達させる場合に
使用するオプティカル要素に関するものであって、更に
詳細には、このようなオプティカル (光学的)要素を小
型化させる技術に関するものである。
【0002】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、オプティカ
ルディスクシステムにおいて使用されるガラスコンポー
ネント (部品)及び関連する構成体の製造を改良するこ
とである。本発明は、小型のオプティカルディスクの場
合に効果的な適用例を有している。
【0003】
【発明の実施の形態】図1を参照すると、透明なグラス
ウエア10が示されており、その中に複数個のレンズ要
素12が設けられており、これらのレンズ要素はウエハ
の一部をエッチング除去することによって画定されてい
る。レンズ要素12をエッチングして図1に示した構成
に到達する前に、図3に関連して以下に説明するように
ある表面特徴部が形成される。特に、各要素12はスロ
ット14を有しており、それは、好適には、該要素を介
して下方向へ途中まで延在しておりその中に反射性表面
を形成することを可能としている。要素12はウエハの
一部をエッチング除去した後に残存する垂直のガラスロ
ッド16によってエッチングしたウエハ10の一部とし
て支持されている。
【0004】開始ウエハ10は、半導体の製造において
使用される従来のシリコンウエハの寸法に対応する直径
のオプティカルグレード (optical−grad
e)のガラスの大型のシートから切断することが可能で
ある。このようなウエハは、典型的に、例えば6イン
チ、8インチ、又は10インチウエハ等の2インチ毎に
増分する寸法を有している。処理装置との自動的なアラ
イメント即ち整合のためにウエハ10の円周における1
つの点にV溝18を刻設することが可能である。一方、
ある従来のシリコンウエハの場合におけるように、一端
部に沿って数センチメートルにわたって延在する平坦な
端部を図示したV溝18の代わりに使用することが可能
である。このような平坦な端部は、典型的に、6インチ
シリコンウエハの場合に使用される。本発明に対して妥
当である6インチガラスウエハに対する好適な厚さは約
0.75mmである。
【0005】図1に示した構成を製造するために使用さ
れるエッチングは半導体業界において公知な技術を使用
して達成することが可能である。従来のホトレジストを
開始ウエハに付与する。次いで、エッチングされるべき
物質のパターンの画像を従来の半導体ホトリソグラフィ
を使用してホトレジスト上に露光させる。次いで、露光
させたホトレジストを溶解させ且つウエハから除去させ
る。次いで、そのウエハをプラズマエッチング技術に露
呈させ、それによりホトレジストによって被覆されてい
ない区域においてガラスウエハを貫通してエッチング除
去される。このようなプラズマエッチング技術は公知で
あり且つ半導体処理技術において二酸化シリコン及びそ
の他のガラス状物質をエッチングするために使用され
る。次いで、残存するホトレジストをウエハから除去す
る。
【0006】図2を参照すると、多数のベース要素22
を生成するために異なるパターンを使用してエッチング
した後のガラスウエハ20を示してあり、それらのベー
ス要素は、図1のウエハ10に関連して前に説明したの
と同様の態様でガラスロッド24によって互いに且つウ
エハ20と相互接続されている。図1及び2に示した形
態でウエハ10及び20を形成した後に、ロッド16及
び24を切断することによってレンズ要素12及びベー
ス要素22をウエハから分離させる。その切断動作は従
来のダイヤモンドソー処理を使用して実施することが可
能である。
【0007】図3は開始ウエハから分離させたレンズ要
素12のうちの1つの詳細な構成を示している。スロッ
ト14は正面26からレンズ要素12の厚さのほぼ正確
に半分の深さへ延在していることを見ることが可能であ
る。スロット14内の壁上に反射膜が形成されておりミ
ラー28を提供している。正面26から内側に延在して
いるベース要素22の一端部に前部レンズ30が形成さ
れている。後部レンズ32が前部レンズ30の隣りに並
置されており且つレンズ要素12の背面34から内側に
延在しており、各レンズはレンズ要素12の厚さのほぼ
正確に半分を占有している。レンズ30及び32の各々
は両側の正面及び背面の平坦な表面26及び34に対し
て平行な断面内において同一の曲率を維持する湾曲した
表面を有している。このことはウエハ内への真っ直ぐに
進むプラズマエッチングによって発生される。これら2
つのレンズ30及び32は以下に説明するように異なる
平行な経路に沿ってレーザ光がレンズ要素12へ入り且
つそれから出ることを可能とさせる。レンズ要素12の
両端部における部分的に反射性のミラー36及び38は
レンズ要素を介して進行する光ビームを反射させるため
に使用される。
【0008】レンズ要素12及び22のガラス表面上に
形成されている種々の反射性薄膜が本発明にとって適切
なものである。反射性薄膜は、好適には、従来の付着技
術に適した形態において高い反射値を有する遷移金属を
有している。このような金属のある酸化物、窒化物、硫
化物及び弗化物は安定しており、高反射性であり且つガ
ラス表面上に付着形成するのに適している。これらの物
質のうちで、本発明者等の実験が示すところによれば、
窒化チタンがこれらの基準を満足するものであり且つ所
望の値を有する部分的反射率を得るために異なる厚さに
付着形成させることが可能である。
【0009】ミラー36及び38は約62%反射性であ
るように構成される。このことは、好適には、スロット
14内の壁上及びレンズ要素12の両端部における傾斜
した表面上に薄い窒化チタン膜を付着形成することによ
り処理期間中に達成される。窒化チタン膜の厚さは好適
な62%の反射率を達成すべく制御される。ミラー28
は窒化チタンの同様の厚さで形成することが可能であ
り、又はより反射性のものとさせるために、好適には少
なくとも90%の反射性のものとさせるためにより厚い
チタンの付着を与えることが可能である。ミラー28,
36,38は、好適には、ほぼ外側コーティングを含む
多数の膜又は層を有するものである。
【0010】図4を参照すると、組立てたオプティカル
ユニット40の分解図が半導体チップ42によって支持
されている状態が示されており、該チップはオプティカ
ルユニット40に対する電気光学的インターフェースと
して機能する。オプティカルユニット40及びチップ4
2は共にオプティカル (光学的)ディスク (不図示)を読
取るための電気光学的装置を画定している。オプティカ
ルユニット40は上述した態様でベース要素22上に装
着されているレンズ要素12を有している。特に、レン
ズ要素12のロッド16の延長部44及び46はベース
要素22の上表面52における対応する凹所48及び5
0内に嵌合している。ベース要素22のロッド24の延
長部54及び56はレンズ要素12の底部表面58に当
接している。夫々の凹所48及び50におけるロッド延
長部44及び46の噛合いはベース要素22とのレンズ
要素12の精密な光学的アライメント (整合)を達成す
る。ベース要素22の底部上のロッド24の端部を受取
るために半導体チップ42の上表面に同様の凹所を設け
ることが可能である。このような凹所は好適なものであ
るがオプションである。別の組立技術として外部固定具
を使用することが可能であり且つ噛合表面に接着剤を付
与することが可能である。図2はこのような別の組立技
術において使用する場合の凹所がないベース要素22を
示している。
【0011】半導体チップ42の上表面64に光検知器
60及び62が設けられている。光検知器60及び62
は後部レンズ32を介してレンズ要素12へ入るオプテ
ィカルディスク (不図示)から帰還する光ビーム70か
ら発生する夫々の光ビーム66及び68に関して整合さ
れている。図4に示したような一対の光検知器60及び
62を使用する分割ビームアプローチは、不所望の信号
雑音を除去するためにチップ42内の対応する電気信号
を比較する。不所望のノイズを除去するために光ビーム
66及び68の経路内にベース要素22の上表面52の
表面部分72及び74上にバンドパスフィルタ (不図
示)を付加することも可能である。一方、ベース要素2
2全体を不所望の光ノイズを除去する薄膜で被覆するこ
とが可能である。
【0012】半導体チップ42の上方にレーザダイオー
ド76が装着されており、それはレーザ光ビーム78を
射出し、該ビームはベース要素22の45度傾斜表面上
のミラー80によって上方へ反射される。ミラー80は
ほぼ100%反射性であるように構成されている。レー
ザダイオード76はミラー80と光ビーム78との精密
なアライメント即ち整合を可能とさせる装着ブロック8
2によって支持されている。光ビーム78は、ミラー8
0による反射の後に、ベース要素22を介して通過し且
つスロット14直下のレンズ要素12へ入る。光ビーム
78はスロット14内のミラー28によって図4におけ
る右側へ水平方向にミラー36へ実質的に反射される。
ミラー28は上方へ指向されるビームをミラー36へ水
平方向 (即ち、レンズ要素12に関して長手軸方向)へ
反射させるために45度の角度へ配向されている。
【0013】ミラー36は約62%反射性であるように
構成されているので、光ビーム78の約62%が上方へ
反射され且つフォーカスされたレーザ光ビーム82とし
てレンズ32を介して外部へ通過する。ミラー36はレ
ンズ要素12の長手軸方向に関して45度に配向させる
ことが可能であり、又はレンズ30及び32の配向状態
を調節するために多少異なる角度を有することが可能で
ある。光ビーム82はオプティカルディスク (不図示)
に向けて指向され、該ディスクは情報を包含するビーム
70を部分的に反射させる。入射ビーム70はレンズ要
素12と本システムによって読取られるオプティカルデ
ィスクとの間の光学系 (不図示)によって指向されて外
部へ出るビーム82から離隔されており且つほぼそれと
平行な経路上を帰還する。
【0014】図3及び4を共に参照すると、情報を包含
する光ビーム70が後部レンズ32を介してレンズ要素
12ヘ入り、それは該ビームをミラー36に向けて下方
へ指向させる。光ビーム70はミラー36によって水平
方向コンポーネント (成分)及び下方コンポーネントに
分割され、下方コンポーネントは前述した如く光検知器
62へ入射するビーム68に対応する。ミラー36によ
って反射されるビーム70の水平方向コンポーネント8
4はレンズ要素12の後ろ半分を介して通過し、従って
スロット14内のミラー28を回避し、且つ水平方向に
継続して進行しミラー38に入射する。ミラー38は水
平方向に対して45度に配向されており、情報を包含す
るビーム70の水平方向コンポーネント84の殆どをビ
ーム66として下方へ反射させ、該ビーム66は光検知
器60に入射する。光検知器60は半導体チップ42内
のアナログ・デジタル (A/D)変換器回路86と電気
的に通信状態にある。同様に、光検知器62はチップ4
2内のA/D変換器回路88と電気的通信状態にある。
A/D変換器86及び88はデータ及び制御機能を実施
し且つ他のシステムコンポーネント (不図示)と通信を
行うチップ42内の論理回路へ接続している。
【0015】前の説明においては、レンズ要素12及び
ベース要素22は図1及び2に示した別々のウエハ10
及び20から切断している。このことは別々のパーツに
関して実施する異なる処理を行うことを可能とするため
に有用である。例えば、ミラー80はミラー28,3
6,38とは異なる態様で形成することが可能である。
ミラー36は帰還ビーム70を2つのコンポーネントに
分割するために部分的に反射性であることが必要である
ので、ミラー28及び38は処理を簡単化するために部
分的に反射性のものとさせることが可能である。然しな
がら、理解されるように、ミラー28及び80は完全に
反射性のもの又は処理デザインに鑑みほぼ完全に反射性
のものとすることが可能である。ベース要素22がレン
ズ要素12と別に処理される場合には、ミラー80を完
全に反射性のものとさせるために異なる物質を使用する
ことが便利である。然しながら、処理シーケンス期間中
に部分的に反射性のミラー表面と完全に反射性のミラー
表面との両方を形成することを可能とするためにより複
雑なプロセスを使用する場合には、レンズ要素12及び
ベース要素22を単一のガラスウエハから切断させるこ
とが可能である。
【0016】別の考慮事項は、基本的に同一の光検知器
60及び62を使用することの効果である。ミラー36
及び38が、各々、約62%反射性であるように構成さ
れる場合には、帰還ビーム70の約38%が光検知器6
0及び62の各々に入射する。ミラー28はミラー36
及び38に対するものと同様の態様で部分的に反射性の
ものとさせることが可能であり、又は基本的に完全に反
射性のものとさせることが可能である。理解されるよう
に、ミラー38がほぼ完全に反射性のものとされる場合
には、ミラー36は光検知器60及び62へ入射する同
一の光強度とするためにミラー36は約50%反射性の
ものとさせることが可能である。然しながら、このこと
は外部へ出るレーザ光ビーム82の強度を減少させる。
【0017】好適なプロセスによれば、且つ図1及び3
を参照すると、複数個のレンズ要素12が以下に説明す
るようにウエハ10等のガラスウエハから作成される。
レンズ要素12の各々に対してスロット14を画定する
開口を有する第一ホトレジストパターンを形成する。次
いで、ウエハ10を貫通してほぼ正確に半分の深さへス
ロット14に対応する開口をエッチングする時間期間に
わたって従来の弗化物を基礎としたプラズマエッチング
ステップを実施する。次いで、コンフォーマル窒化チタ
ン付着ステップを実施して開口内の壁を窒化チタンの薄
膜でコーティングさせ、そのうちの1つの表面が後にミ
ラー28を画定する。窒化チタン付着の厚さは、好適に
は、ミラー28を90%以上に反射性のものとさせるべ
く制御される。次いで、ホトレジストを剥離し且つ第二
ホトレジストパターンを形成し、それはミラー36及び
38が形成されるべき各レンズ要素12の両端部におい
て傾斜表面を画定する開口を有している。第二プラズマ
エッチを実施してウエハ10内へ垂直下方への第二組の
開口を刻設し、該開口はミラー36及び38が形成され
る表面を包含する壁を有している。次いで、第二のコン
フォーマルな窒化チタン付着ステップを実施して第二組
の開口の壁を窒化チタンでコーティングし、該壁は完成
したレンズ要素12上のミラー36及び38の位置を画
定する表面を有している。次いで、第二ホトレジストパ
ターンをウエハ10から剥離させる。第二窒化チタン付
着の厚さは、好適には、ミラー36及び38がほぼ62
%の反射性であるように制御される。
【0018】本プロセスは次いで各要素12の前部レン
ズ30を画定するための開口を有する第三ホトレジスト
パターンをウエハ10上に形成する。プラズマエッチが
正面の表面26からウエハの厚さのほぼ正確に半分であ
る深さへウエハ10内へ刻設し、そのことはエッチング
の帰還を制御することによって達成される。レンズ要素
12が後にウエハ10から分離される場合に、各要素1
2の前部レンズ30はこのパターニング及びエッチング
シーケンスによって与えられる。
【0019】次に、ウエハ10をひっくり返し且つ第四
ホトレジストパターンをウエハ10の裏側に形成して各
レンズ要素12の後部レンズ32となる表面を画定す
る。次いで、プラズマエッチを実施して該ホトレジスト
パターンにおける対応する開口を介してウエハ10内に
開口をエッチング形成し、各レンズ要素12の各後部レ
ンズ32の表面を包含する表面を画定する。次いで、こ
の第四ホトレジストパターンを剥離する。図3に示した
ように、このエッチングの結果は、後部レンズ32がレ
ンズ要素12を介して後部表面34から途中まで真っ直
ぐ下方への表面刻設によって画定される。
【0020】第五ホトレジスタパターンを形成して図1
に示したように、それらの接続用ロッド16と共にレン
ズ要素12の輪郭を画定する。このホトレジストパター
ンはウエハ10の表側に形成することが可能であり、又
はミラー画像パターンを後ろ側に形成することが可能で
ある。次いで、プラズマエッチを実施してウエハ10を
介して刻設し図1に示した構成を与える。次いで、前述
したようにロッド16を切断することによって個々のレ
ンズ要素12を与える。
【0021】類似しているがより複雑性のないステップ
からなるシーケンスを使用して図2のウエハ20内にベ
ース要素22を形成することが可能である。ミラー80
は完全に又はほぼ完全に反射性のものであることが望ま
しいので、比較的厚い窒化チタン付着を使用することが
可能である。一方、アルミニウム付着を実施することが
可能である。いずれの場合においても、付着ステップは
ホトレジストパターンを介して適宜の窓をエッチング形
成した後に行われる。各ベース要素22のミラー80に
対してアルミニウムを使用する場合には、ほぼ100%
の反射性表面を達成することが可能である。ミラー80
が酸化することを防止し且つそれらの反射性に悪影響を
与えることを防止するために、金属付着ステップの直後
に薄いガラス層をアルミニウム上に付着形成させる。
【0022】以上、本発明の具体的実施の態様について
詳細に説明したが、本発明は、これら具体例にのみ制限
されるべきものではなく、本発明の技術的範囲を逸脱す
ることなしに種々の変形が可能であることは勿論であ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 複数個のレンズ要素を与えるべくエッチング
されたガラスウエハを示した概略平面図。
【図2】 複数個のベース要素を与えるべくエッチング
されたガラスウエハを示した概略平面図。
【図3】 図1のウエハから分離された後のレンズ要素
を示した概略斜視図。
【図4】 電気光学的インターフェースを提供する組立
てられたオプティカルユニットと支持用の半導体チップ
とを示した概略図。
【符号の説明】
10 ガラスウエハ 12 レンズ要素 14 スロット 16 ロッド 18 V溝 22 ガラスウエハ 22 ベース要素 24 ロッド 26 前部表面 28 ミラー 30 前部レンズ 32 後部レンズ 34 後部表面 36,38 反射ミラー 40 オプティカルユニット 42 半導体チップ 60,62 光検知器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 アンソニー エム. チュウ アメリカ合衆国, テキサス 75082, リチャードソン, バターカップ ドライ ブ 2563 (72)発明者 ダニエル エイ. トーマス アメリカ合衆国, テキサス 75248, ダラス, フォールブリック ドライブ 16312 Fターム(参考) 2H042 DA01 DA02 DA12 DA19 DB01 DC08 DE00 5D119 AA01 AA38 CA11 NA08

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 オプティカルディスクと通信する電気光
    学的装置において、 アナログ・デジタル変換回路及び論理回路が内部に含ま
    れている半導体チップ、 前記アナログ・デジタル変換回路と電気的通信状態にあ
    る前記半導体チップ上の第一及び第二光検知器、 第一方向にレーザビームを射出すべく指向されている前
    記半導体チップによって支持されているレーザダイオー
    ド、 前記半導体チップ上方に支持されているオプティカルユ
    ニット、を有しており、前記オプティカルユニットが、
    前記レーザビームを前記第一方向から第二方向へ反射さ
    せるべく整合されている第一ミラーと、オプティカルデ
    ィスクの表面へ入射すべく前記レーザビームを外側へ指
    向させる第一レンズと、前記レーザビームを前記第二方
    向から前記第一レンズへ指向させるガラス部材と、前記
    オプティカルディスクから情報を包含するビームを受取
    るための第二レンズと、前記情報を包含するビームを第
    一及び第二コンポーネントビームへ分割させる第二ミラ
    ーと、前記第一コンポーネントビームを前記第一光検知
    器へ指向させる第三ミラーとを具備しており、前記第二
    コンポーネントビームが前記第二光検知器における方向
    に前記第二ミラーを介して通過することを特徴とする電
    気光学的装置。
  2. 【請求項2】 請求項1において、前記ミラーが前記オ
    プティカルユニットの傾斜表面上に付着されている窒化
    チタン膜を有していることを特徴とする電気光学的装
    置。
  3. 【請求項3】 請求項1において、前記第一ミラーがア
    ルミニウムを有しており且つ前記第二及び第三ミラーが
    遷移金属の酸化物、窒化物、硫化物又は弗化物を有して
    いることを特徴とする電気光学的装置。
  4. 【請求項4】 請求項1において、前記第一レンズが前
    記オプティカルユニットの第一平坦表面から内側へ延在
    しており、且つ前記第二レンズが前記オプティカルユニ
    ットの第二平坦表面から内側へ延在しており、前記第一
    及び第二平坦表面が前記オプティカルユニットの反対側
    の側部を画定していることを特徴とする電気光学的装
    置。
  5. 【請求項5】 請求項4において、前記第一及び第二レ
    ンズの各々が前記両側の第一及び第二平坦表面に平行な
    断面平面において同一の曲率を維持する湾曲した表面を
    有していることを特徴とする電気光学的装置。
  6. 【請求項6】 請求項1において、更に、前記レーザビ
    ームを前記第二方向から前記第二ミラーにおける第三方
    向へ指向させる第四ミラーを有していることを特徴とす
    る電気光学的装置。
  7. 【請求項7】 請求項6において、前記第四ミラーが前
    記オプティカルユニットにおけるスロット内に形成され
    ていることを特徴とする電気光学的装置。
  8. 【請求項8】 レーザからの光をオプティカルディスク
    に指向させ且つ前記オプティカルディスクから反射され
    る光を少なくとも1個の光検知器へ指向させるオプティ
    カルユニットにおいて、 前記レーザからの光を第一方向から第二方向へ反射させ
    るためにその上に第一ミラーを包含しているベース要
    素、 第二及び第三ミラーを包含しているレンズ要素、を有し
    ており、前記第二ミラーがレーザ光を前記第二方向から
    第三方向へ反射させるために前記ベース要素と相対的に
    位置されており、前記第三ミラーがレーザ光を前記第三
    方向から第四方向へ反射させるために前記第二ミラーと
    相対的に位置されており、前記レンズ要素が、更に、そ
    の一端において第一及び第二レンズを包含しており、前
    記第一レンズがレーザ光を前記第四方向から前記オプテ
    ィカルディスクへ指向させるべく配設されており、前記
    第二レンズが前記オプティカルディスクから反射された
    光を受取り且つそれを前記第三ミラーへ指向させるべく
    配設されており、前記第三ミラーがそれを貫通して光が
    第一光検知器に通過することを許容するために部分的に
    反射性であり、前記第三ミラーが遷移金属の酸化物、窒
    化物、硫化物又は弗化物を有していることを特徴とする
    オプティカルユニット。
  9. 【請求項9】 請求項8において、前記第三ミラーが窒
    化チタン膜を有していることを特徴とするオプティカル
    ユニット。
  10. 【請求項10】 請求項8において、更に、前記オプテ
    ィカルディスクから帰還する光から前記第三ミラーによ
    って部分的に反射させる光の経路内に位置されている第
    四ミラーを有しており、前記第四ミラーが前記第三ミラ
    ーからの光を前記第一光検知器から離隔されている第二
    光検知器に反射させることを特徴とするオプティカルユ
    ニット。
  11. 【請求項11】 請求項10において、前記第二ミラー
    が、前記オプティカルディスクから帰還する第三ミラー
    によって反射された光を前記第二ミラーをバイパスし且
    つ前記第四ミラーに入射することを許容するために前記
    レンズ要素を介して部分的に延在していることを特徴と
    するオプティカルユニット。
  12. 【請求項12】 オプティカルディスクシステム用のオ
    プティカル要素を製造する方法において、 その中に並置させて複数個のレンズ要素を形成するのに
    充分に大きな直径のガラスウエハを用意し、 各レンズ要素において1個のレンズを選択的にエッチン
    グし、 各レンズ要素において傾斜表面を選択的にエッチング
    し、 前記傾斜表面上に反射性物質を付着形成し、 各レンズ要素の輪郭を選択的にエッチングして前記レン
    ズ要素を前記ウエハへ接続するロッドを残存させ、 前記ロッドを切断して前記ウエハから前記レンズ要素を
    分離させる、ことを特徴とする方法。
  13. 【請求項13】 請求項12において、前記反射性物質
    が遷移金属の酸化物、窒化物、硫化物又は弗化物を有し
    ていることを特徴とする方法。
  14. 【請求項14】 請求項13において、前記反射性物質
    が部分的に反射性のミラーを形成する厚さに付着形成し
    た窒化チタンを有していることを特徴とする方法。
  15. 【請求項15】 請求項12において、複数個のベース
    要素を形成するために第二の大直径ガラスウエハを用意
    し、且つ、 各ベース要素上に傾斜表面を選択的にエッチング形成
    し、 完全に反射性のミラーを提供するために前記傾斜表面上
    に第二反射性物質を付着形成し、 各ベース要素の輪郭を選択的にエッチングして前記ベー
    ス要素を前記第二ウエハへ接続するロッドを残存させ、 前記ロッドを切断して前記ベース要素を前記第二ウエハ
    から分離させる、ことを特徴とする方法。
  16. 【請求項16】 請求項15において、前記第二反射性
    物質がアルミニウムを有していることを特徴とする方
    法。
  17. 【請求項17】 請求項15において、更に、各レンズ
    要素をベース要素と組立ててそれを介して通過する光に
    対する光路を整合させることを特徴とする方法。
  18. 【請求項18】 請求項12において、前記レンズを前
    記レンズ要素の第一側部内に部分的にエッチング形成さ
    せ、且つ前記第一レンズと並置された第二レンズを選択
    的にエッチング形成し、前記第二レンズは前記第一側部
    から反対側の側部から前記レンズ要素内に部分的にエッ
    チング形成して前記レンズ要素から離れ且つ前記レンズ
    要素ヘ帰還する光に対して別々の経路を与えることを特
    徴とする方法。
  19. 【請求項19】 オプティカルディスクに使用する集積
    化オプティカルユニットにおいて、 レーザ光ビームを発生するレーザダイオード、 前記オプティカルディスクから帰還するレーザ光を検知
    する光検知器、 その長さに沿って光ビームを担持するための長尺状ガラ
    ス要素を具備するオプティカルユニット、を有してお
    り、前記長尺状ガラス要素がその上にミラーが形成され
    ている傾斜表面を有しており、前記ミラーは前記レーザ
    ダイオードからのレーザ光ビームを前記長尺状ガラス要
    素を介しての第一経路に沿って且つオプティカルディス
    クに指向させるべく位置されており、前記ミラーは前記
    オプティカルディスクから帰還する光ビームを前記光検
    知器より検知するために前記第一経路に平行であり且つ
    それに隣接している前記長尺状ガラス要素を介しての第
    二経路に沿って反射させ、前記ミラーのうちの少なくと
    も1つが遷移金属の酸化物、窒化物、硫化物又は弗化物
    を有していることを特徴とする集積化オプティカルユニ
    ット。
  20. 【請求項20】 請求項19において、前記長尺状ガラ
    ス要素が、前記オプティカルディスクにおける前記ユニ
    ットから外へ前記レーザ光ビームを指向させる第一レン
    ズと、前記オプティカルディスクから反射された帰還す
    る光ビームを受取るために前記第一レンズに隣接して配
    設されている第二レンズとを有していることを特徴とす
    る集積化オプティカルユニット。
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