JP2001126306A - 光磁気ピックアップ - Google Patents

光磁気ピックアップ

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JP2001126306A
JP2001126306A JP31014499A JP31014499A JP2001126306A JP 2001126306 A JP2001126306 A JP 2001126306A JP 31014499 A JP31014499 A JP 31014499A JP 31014499 A JP31014499 A JP 31014499A JP 2001126306 A JP2001126306 A JP 2001126306A
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magneto
optical
light receiving
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Daisuke Matsuo
大介 松尾
Nobuyoshi Iwasaki
暢喜 岩崎
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Olympus Optical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】要求される実装精度が比較的低い、小型で安価
な光磁気ピックアップを提供する。 【解決手段】光磁気ピックアップは、光ビームを発する
レーザー光源31と、誤差信号を検出するための第一の
受光素子群34と35と、光磁気信号を検出するための
第二の受光素子群36と、情報記録媒体から戻る光を回
折して第一の受光素子群34と35に方向付ける回折格
子が形成された透明平板32と、情報記録媒体から戻る
光の一部の成分を偏向する偏光ビームスプリッター33
と、偏向された光の成分を第二の受光素子群36に向け
て偏向するミラープリズム37と、それらの間に配置さ
れた異方性光学結晶から成る平行平板38とを備えてい
る。平行平板38は光軸に対して30°ないし60°傾
いた結晶軸を有しており、入射光をその材料と厚みで決
まる分離距離で常光と異常光に分離する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ビームを走査し
て光学的に情報処理を行なう光学装置に関し、特に光磁
気信号を検出する光磁気ピックアップに関する。
【0002】
【従来の技術】近年、光磁気ピックアップは、小型化・
低コスト化の技術が重要視されており、複数の機能や素
子を集積化したピックアップの開発が行なわれている。
【0003】例えば、特開平8−329544号は、こ
のような小型化された光磁気ピックアップの一例を開示
している。その概略的な構成を図12に示す。
【0004】図12において、半導体レーザー光源17
から発せられたレーザー光は、偏光プリズム23を透過
し、集光レンズ25により情報記録媒体26に集光され
る。
【0005】情報記録媒体26で反射された情報を含む
レーザー光は、偏光プリズム23の面23aにより偏光
方向に従って分離される。これを透過した光成分は、ホ
ログラム回折素子22で回折され、基板16上の受光素
子18と19によりフォーカスエラー信号とトラッキン
グエラー信号として検出される。
【0006】一方、面23aで反射された光成分は、ミ
ラー面23bで偏向され、基板16上に配置された、複
数のプリズムと偏光膜から構成されるプリズム型検光子
24により偏光方向に従って分離され、複数の受光素子
群20により光磁気信号として検出される。
【0007】受光素子18と19および受光素子群20
は共に同一の基板16の上に形成されており、この基板
16上にレーザー光源17も実装されている。この基板
16はプリズム型検光子24と共に、主に樹脂製の小型
のパッケージに封止されている。
【0008】また、同文献は、光磁気信号の検出に関し
て、プリズム型検光子24を用いる代りに、偏光性回折
素子を用いて0次光と±1次光の3光束に分離し、光磁
気信号を検出する手法も提案している。
【0009】また、特開平10−143934号は、こ
の技術を更に発展させた光磁気ピックアップを開示して
いる。その概略的な構成を図13に示す。
【0010】図13において、レーザーダイオード3か
ら発せられたレーザー光は、偏光プリズム9を透過し、
集光レンズ12により情報記録媒体13に集光される。
【0011】情報記録媒体13で反射された光は、偏光
プリズム9の面9aにより偏光方向に従って分離され
る。面9aを透過した光成分は、ホログラム回折素子8
で回折され、基板2上の受光素子4と5によりフォーカ
スエラー信号やトラッキングエラー信号等の誤差信号と
して検出される。
【0012】一方、面9aで反射された光成分は、ミラ
ー面9bで偏向され、偏光プリズム9と一体化されたウ
ォラストンプリズム10により偏光方向に従って分離さ
れ、複数の受光素子群6により光磁気信号として検出さ
れる。
【0013】受光素子4と5および受光素子群6は共に
同一の基板2の上に形成されており、この基板2上にレ
ーザー光源3も実装されている。この基板2は、主に樹
脂製の小型のパッケージに封止されている。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】図12に示される光磁
気ピックアップは、光磁気信号の分離にプリズム型検光
子を用いているため、部品点数が極めて多い。また、そ
れぞれの部品単品は高い加工精度を必要とし、それらを
組み立ては高い組立精度を要求する。
【0015】特に、プリズム型検光子自体の基板への実
装は極めて高い精度を必要とし、当然、プリズム型検光
子に光を導く偏光プリズムの実装も高い精度を必要とす
る。このため、プリズム型検光子24の実装精度が不十
分な場合には、偏光プリズム23の実装時の調整が不可
能となることも起こりうる。このため、組み立て後の検
査で不良と判定された場合、高価な半導体レーザーや受
光素子基板やパッケージを全て廃棄しなければならない
ことも起こりうる。
【0016】また、光磁気信号の分離に偏光性回折素子
を用いる場合も、回折素子の加工や回折素子の実装には
高い精度が要求される。また偏光性回折素子自体も非常
に高価である。さらに、特に回折素子を用いて角度的に
光を分離するため、互いに離れている回折素子と受光素
子群の間の距離を高い精度で調整し維持する必要がある
が、特にパッケージが主に樹脂製であることも影響し、
環境変化に対して弱い傾向を有する。
【0017】図13に示される光磁気ピックアップは、
光磁気信号の分離に極めて高価なウォラストンプリズム
を用いているため、その製造コストは高いものとなって
いる。また、前述の光磁気ピックアップと同様に、その
実装にも極めて精度が要求される。
【0018】特に、ウォラストンプリズムは、常光と異
常光をそれぞれ異なる方向に偏向するため、ウォラスト
ンプリズムと受光素子基板の距離の変動は受光素子上に
正しくスポットが結ばれるのを妨げる。このため、高い
実装精度が要求される。また、常光と異常光の分離量を
大きく取るためには、ウォラストンプリズムと受光素子
基板の間隔をある程度の寸法に設定する必要がある。こ
のため、小型化には限界がある。
【0019】このように、上述した従来の光磁気ピック
アップは、多数の部品をあるいは高価な部品を極めて高
い精度で組み立てる必要があるだけでなく、温度などの
環境変化による外乱により、品質が低下する傾向が大き
い。
【0020】本発明の目的は、要求される実装精度が比
較的低い、小型で安価な光磁気ピックアップを提供する
ことである。
【0021】
【課題を解決するための手段】本発明は、光源と、光源
から発せられる光ビームを情報記録媒体に導く第1の光
路と、第1の光路に沿って情報記録媒体から戻る光を回
折する回折格子と、回折された光を受光する第1の受光
素子群と、情報記録媒体から戻る光の一部を第2の光路
に分岐する偏光ビームスプリッターと、第2の光路に分
岐された光をミラーと、前記第2の光路の光を受光する
前記第2の受光素子群を有し、前記第1の受光素子群と
前記第2の受光素子群が同一基板または略平行に配置さ
れている光磁気ピックアップにおいて、前記第2の光路
中の、前記第2の受光素子群と前記ミラーの間の範囲
に、前記範囲の前記第2の光路の光軸に対して30度か
ら60度の結晶軸方位を持つ異方性光学結晶からなる所
定の厚みの平行平板が配置されていることを特徴とす
る。
【0022】平行平板への入射光は、結晶材料の光学的
異方性によって、常光成分と異常光成分に分離される。
それらは、それぞれ、平行平板の直下に位置する第2の
受光素子群により検知され、その差分から光磁気情報が
求められる。
【0023】平行平板を出た常光成分と異常光成分の二
本の光ビームは、互いに平行であり、その間隔は異方性
光学結晶の平行平板の材料と厚みに依存する。異方性光
学結晶の平行平板の厚みは容易に高い精度で制御できる
ため、常光成分と異常光成分の二本の光ビームの間隔す
なわち分離距離を高い精度で制御できる。また、分離距
離が平行平板の材料と厚みで決まるため、異方性光学結
晶の平行平板の実装位置は、光路方向に関しては自由で
あり、また、第2の受光素子群に対しては、これを覆っ
てさえいればよい。さらに、異方性光学結晶の平行平板
は、プリズム型検光子やウォラストンプリズムに比べて
加工が容易であり生産性が高く非常に安価である。従っ
て、要求される実装精度が比較的低い、小型で安価な光
磁気ピックアップが得られる。
【0024】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
の実施の形態について説明する。
【0025】[第一の実施の形態]第一の実施の形態に
よる光磁気ピックアップは、図1に示されるように、情
報再生のための光ビームを発するレーザー光源31と、
誤差信号を検出するための第一の受光素子群34と35
と、光磁気信号を検出するための第二の受光素子群36
とを備えている。第一の受光素子群34と35と第二の
受光素子群36は共に同一のシリコン基板39に形成さ
れており、このシリコン基板39にレーザー光源31が
実装されている。
【0026】レーザー光源31は、例えば、エッチング
等によりシリコン基板39に形成された45度の斜面を
持つ凹部の底部に、シリコン基板39の上面に平行に光
ビームを射出するように配置され、光ビームが45度の
斜面により上方に偏向される構成であってもよい。
【0027】光磁気ピックアップは、レーザー光源31
から発せられた光ビームを情報記録媒体(図示せず)に
導く第一の光路を有しており、この第一の光路上には、
必要に応じて光ビームをコリメートするコリメートレン
ズと、光ビームを情報記録媒体に集光する対物レンズが
配置される。情報記録媒体に照射された光は、記録され
ている情報に応じて偏光方向が変えられ、その反射光は
第一の光路に沿って戻る。
【0028】光磁気ピックアップは、第一の光路に沿っ
て情報記録媒体から戻る光を回折する回折格子が形成さ
れた透明平板32を備えており、その回折光は第一の受
光素子群34と35に方向付けられる。
【0029】さらに、光磁気ピックアップは、第一の光
路に沿って情報記録媒体から戻る光の一部の成分を偏向
する偏光ビームスプリッター33と、偏光ビームスプリ
ッター33で偏向された光の成分を第二の受光素子群3
6に向けて偏向するミラープリズム37とを備えてお
り、これらは偏光ビームスプリッター33から第二の受
光素子群36に至る第二の光路を形成している。
【0030】光磁気ピックアップは、さらに、ミラープ
リズム37と第二の受光素子群36の間に配置された平
行平板38とを備えている。平行平板38は、異方性光
学結晶から成り、図2に示されるように、その結晶軸は
光軸に対して傾いている。光軸に対する結晶軸の傾斜
は、30°〜60°が好ましく、40°〜50°であれ
ばさらに好ましく、45°であれば最も好ましい。さら
に、平行平板38は、入射する光の偏光方向に対して
も、結晶軸が約45度傾いている。
【0031】図1において、レーザー光源31から発せ
られた光ビームは、回折格子を設けた透明平板32を透
過し、偏光ビームスプリッタ33を透過した後、コリメ
ートレンズ(図示せず)により平行な光ビームに変えら
れ、対物レンズ(図示せず)により情報記録媒体(図示
せず)に集光される。
【0032】情報記録媒体の情報を含む情報記録媒体か
らの戻り光は、対物レンズとコリメートレンズを通過し
た後、一部の光成分は偏光ビームスプリッター33の偏
光膜33aで反射され、残りの光成分はこれを透過す
る。
【0033】偏光ビームスプリッター33を透過した光
成分は、回折格子32により+1次光と−1次光に回折
される。+1次光と−1次光は、それぞれ、所定の形状
に分割された受光領域あるいは複数の受光素子を有する
受光素子群34と35によって、その光量が検出され、
これに基づいてフォーカスエラー信号とトラッキングエ
ラー信号が検出される。
【0034】一方、偏光ビームスプリッター33で反射
された光成分は、ミラープリズム37のミラー37aで
反射され、異方性光学結晶からなる略平行平板38に入
射する。平行平板38は、例えば、一軸性異方性光学結
晶であるニオブ酸リチウム(LN)からなり、これに入
射したレーザー光は、異方性光学結晶の結晶軸に対する
光学的異方性と、その結晶軸の入射光に対する適正な傾
きにより、常光と異常光に分離される。分離された常光
と異常光は、それぞれ、シリコン基板39に形成された
2つの受光素子からなる受光素子群36によって、その
光量が検出され、これに基づいて光磁気情報が検出され
る。
【0035】LN製の平行平板38は、2mm〜6mm
の厚みを有していることが望ましい。これは、2mm以
下の厚みは、常光と異常光を十分に分離するには短く、
このためにS/N比の悪化を招くからである。また、6
mm以上の厚みは、十分な分離距離を与えるが、そのぶ
ん大きなシリコン基板39の使用を必要とする。これで
は、光磁気ピックアップ自体が極めて大きなものとなっ
てしまい、実用的ではなくなり、本来の目的からはずれ
てしまう。
【0036】具体例としては、厚み4mmのLNの平行
平板は、約150μmの常光と異常光の分離距離を与え
る。分離距離は、受光素子上のスポットの形状にもよる
が、少なくとも80μm以上の距離を確保するとよい。
【0037】ここでは、LN製の平行平板の厚みに対し
て具体的な数値例をあげたが、LN以外の異方性光学結
晶を材料とする平行平板の厚みは、常光と異常光に対す
る材料に固有の屈折率を考慮して、必要な分離距離を与
える値を選べばよい。LN以外の材料としては、水晶、
KTP、タンタル酸リチウム、方解石、ルチル等があげ
られる。特に方解石やルチルは、常光と異常光の屈折率
差が極めて大きいため、LNよりも少ない厚みで大きな
分離距離を得られるため好適である。
【0038】この光磁気ピックアップは、光磁気信号の
分離を行なう分離光学素子として、所定の結晶軸方向を
持つ異方性光学結晶の平行平板を用いているため、光軸
に対する配置位置の調整が不要であり、従って、組み立
て性に優れている。
【0039】また、分離光学素子が平行平板であるの
で、加工し易く、その厚みを極めて高い精度で調整でき
るため、極めて高い精度で分離距離を調整できる。
【0040】さらに、このような分離光学素子は、所定
の結晶方位を持つ所定の厚みのウェハー状の材料例えば
LNを適度な大きさに切断するだけで得ることができる
ので、安価に量産することが可能である。特にLNは現
在極めて安価に量産されている材料であり、品質も安定
しており、入手性にも優れているため、極めて好適であ
る。
【0041】(変形例1)本実施形態におけるレーザー
光源の実装の変形例を図3に示す。この変形例では、図
3に示されるように、レーザー光源31に相当するレー
ザーチップ50は、サブマウント51を介して、シリコ
ン基板39に相当するシリコン基板52に実装されてお
り、その光ビームの射出方向に略45度のミラー面53
aを持つミラーブロック53が配置されている。レーザ
ーチップ50から発せられた光ビームは、ミラーブロッ
ク53のミラー面53aにより、シリコン基板52の法
線方向に偏向される。
【0042】この構成では、エッチング等によるシリコ
ン基板52の加工が不要なため、作製が容易なうえ、上
方から見たときの仮想的な発光点つまりレーザー光のミ
ラー面53aでの反射点の位置が、ミラーブロック53
の配置位置を変えることにより調整することができる。
これにより、レーザー光源と受光素子の実装精度を緩和
することができる。
【0043】(変形例2)本実施形態の光磁気ピックア
ップの変形例を図4に示す。この変形例の光磁気ピック
アップは、図4に示されるように、図1の光磁気ピック
アップに、ミラープリズム91と透明な平行平板92と
受光素子93が追加されている。ミラープリズム91は
偏向ビームスプリッタ33に接合されており、受光素子
93は、第一の受光素子群34と35と第二の受光素子
群36が形成されたシリコン基板39に形成されてお
り、透明な平行平板92はミラープリズム91とシリコ
ン基板39の間に配置されている。平行平板92は、直
方体などの角柱状であっても円柱状であってもよい。
【0044】レーザー光源31から出射された光ビーム
の一部の光成分は、偏光膜33aにより反射され、さら
にミラープリズム91のミラー面91aによりシリコン
基板39に向けて偏向され、平行平板92を透過し、受
光素子93により、その光量が計測される。この計測値
に基づいて、レーザー光源31の出力が制御される。
【0045】この変形例では、誤差信号の検出と光磁気
信号の検出の他に、少ない部品点数で、レーザー光源の
出力検出を行なえる。従って、光磁気ピックアップとし
て必要な全ての機能を、高い品質で、小型な構成で実現
できる。
【0046】平行平板92は、特に適当な屈折率を持つ
ガラス、基本的には高い屈折率を持つガラスで作られる
と特に好適である。これは、屈折率が高い材料の平行平
板92へ入射した光は、その側面で全反射し、その外部
にほとんど漏れて行かないため、これが迷光となって受
光素子93以外の受光素子に到達して、ノイズを発生さ
せるようなことが起こらないからである。もちろん、平
行平板92に高い屈折率の材料を適用する代わりに、平
行平板92の側面に反射コートや遮光用の塗装をして
も、同様の利点を得ることができる。
【0047】また、平行平板92は、異方性光学結晶か
らなる平行平板38の厚みに等しい厚みを有していると
よく、これは組み立て性を向上させる。すなわち、光磁
気ピックアップの組み立ては、シリコン基板39の上に
平行平板38と平行平板92を設け、両者の上端に、偏
光ビームスプリッター33とミラープリズム37とミラ
ープリズム91が予め一体化したプリズムブロック群を
接合するだけで行なえる。また、熱や振動や衝撃に対す
る耐久性も向上させる。
【0048】[第二の実施の形態]第二の実施の形態に
よる光磁気ピックアップについて図5(A)〜図5
(C)を用いて説明する。本実施の形態の光磁気ピック
アップは、基本的に、第一の実施の形態の光磁気ピック
アップと同じ構成を有しているが、偏向ビームスプリッ
ターとミラープリズムのブロック群は図示は省略されて
いる。
【0049】第二の実施の形態による光磁気ピックアッ
プは、図5(A)に示されるように、情報再生のための
光ビームを発するレーザー光源41と、誤差信号を検出
するための第一の受光素子群44と45と、光磁気信号
を検出するための第二の受光素子群48とを備えてい
る。
【0050】第一の受光素子群44と45と第二の受光
素子群48は共に同一の受光素子基板43に形成されて
いる。受光素子基板43はエッチングにより「コ」の字
形状に加工されている。受光素子基板43は、同じく
「コ」の字形状をした、高さ調整用のスペーサ42に載
置されている。スペーサ42は、その上面に金属膜が形
成された絶縁体からなり、受光素子基板43はスペーサ
42の金属膜と電気的に接続され、露出したスペーサ4
2の表面から受光素子基板43の逆バイアスが取り出さ
れる。
【0051】レーザー光源41は、光ビームをシリコン
基板43の上面の法線方向に射出するように、サブマウ
ント40を介して実装されている。レーザー光源41の
発光点は、第一の受光素子群44と45の中心を結ぶ直
線上にほぼ位置しており、第二の受光素子群48の中心
は、第一の受光素子群44と45の中心を結ぶ直線に直
交し、レーザー光源41の発光点を通る直線上にほぼ位
置している。
【0052】図5(B)に示されるように、光磁気ピッ
クアップは、レーザー光源41の上方に配置された透明
平板46を有しており、透明平板46は、記録媒体から
の戻り光を回折させ、その±1次光をそれぞれ第一の受
光素子群44と45に方向付ける回折素子46aを備え
ている。
【0053】さらに、光磁気ピックアップは、図5
(C)に示されるように、第二の受光素子群48の上に
配置された、異方性光学結晶から成る平行平板47を備
えている。平行平板47は、第一の実施の形態における
平行平板38と同様なものであり、入射光を常光と異常
光に分離する。
【0054】レーザー光源41から発せられた光ビーム
は、回折格子46aを透過した後、偏光ビームスプリッ
タ(図示せず)とコリメートレンズ(図示せず)を経
て、対物レンズ(図示せず)により情報記録媒体(図示
せず)に集光される。
【0055】情報を含む情報記録媒体からの戻り光は、
対物レンズとコリメートレンズを通過した後、一部の光
成分は偏光ビームスプリッターで反射され、残りの光成
分はこれを透過する。
【0056】偏光ビームスプリッターを透過した光成分
は、回折格子46aにより+1次光と−1次光に回折さ
れる。+1次光と−1次光は、第一の受光素子群44と
45により光量が検出され、これに基づいて誤差信号が
検出される。
【0057】一方、偏光ビームスプリッターで反射され
た光成分は、ミラープリズム(図示せず)で反射された
後、異方性光学結晶からなる平行平板47により、常光
と異常光に分離される。分離された常光と異常光は、少
なくとも2つの受光素子からなる受光素子群48により
光量が検出され、これに基づいて光磁気情報が検出され
る。
【0058】本実施の形態の光磁気ピックアップは、一
般的に生産されている半導体レーザー光源のパッケージ
に、受光素子と回折格子と偏光ビームスプリッターと異
方性光学結晶からなる平行平板を追加するだけで得られ
るため、生産性に優れている。特にレーザー光源の実装
に既存の設備を使用できる為、低コストで生産すること
が可能である。
【0059】[第三の実施の形態]第三の実施の形態の
光磁気ピックアップのレーザー光源の周辺部を図6に示
す。本実施の形態の光磁気ピックアップは、第一の実施
の形態と基本的に同じ構成を有しており、これに加えて
レーザー光源の出力を検出する機能を有している。
【0060】図6に示されるように、レーザー光源60
は、サブマウント61を介して、シリコン基板62に実
装されており、シリコン基板62は、入射する光の光量
を検出する受光素子63を備えている。受光素子63の
上にはプリズム64が配置されており、プリズム64
は、レーザー光源60の光ビームの射出方向に対して約
45度の傾きを持つハーフミラー面64aを有してお
り、これは、レーザー光源60から入射する光ビームの
一部の光成分を透過し、残りの光成分をシリコン基板6
2の法線方向に反射する。
【0061】レーザー光源60から射出された光ビーム
の一部の光成分は、プリズム64のハーフミラー面64
aを透過し、受光素子63によってその光量が検出さ
れ、その信号はレーザー光源60の制御に利用される。
また、プリズム64のハーフミラー面64aで反射され
た光成分は、第一の実施の形態で説明したように、情報
記録媒体に集光され、その戻り光は、誤差信号の検出と
光磁気信号の検出に利用される。
【0062】この光磁気ピックアップは、第一の実施の
形態の利点に加え、別途にビームスプリッターや受光素
子を用意することなく、レーザー光源60の出力を検出
できる。従って、より小型で低コストな光磁気ピックア
ップが実現される。
【0063】(変形例)本実施形態の光磁気ピックアッ
プの変形例を図7に示す。この変形例の光磁気ピックア
ップは、図7に示されるように、レーザー光源70は、
シリコン基板72の上に配置されたサブマウント71に
実装されており、シリコン基板72は、入射する光の光
量を検出する受光素子73と、光磁気信号を検出するた
めの受光素子群76とを備えている。シリコン基板72
は、さらに、誤差信号を検出するための受光素子群(図
示せず)を備えており、これらの受光素子群は、第二の
実施の形態と同様に配置されている。
【0064】受光素子73の上にはプリズム74が配置
されており、プリズム74は、レーザー光源70の光ビ
ームの射出方向に対して約45度の傾きを持つハーフミ
ラー面74aを有しており、これは、レーザー光源70
から入射する光ビームの一部の光成分を透過し、残りの
光成分をシリコン基板72の法線方向に反射する。
【0065】プリズム74の上方には、情報記録媒体か
らの戻り光を回折して、その±1次光を誤差信号検出の
ための受光素子群に方向付ける回折格子を有する透明平
板77が配置されている。透明平板77の上方には、情
報記録媒体からの戻り光の一部の光成分を透過し、残り
の光成分を反射する偏光ビームスプリッター78が配置
されている。偏光ビームスプリッター78には、そこで
反射された光成分を、磁気信号検出用の受光素子群76
に向けて偏向するミラープリズム79が接合されてい
る。
【0066】受光素子群76の上には、常光と異常光に
分離するための異方性光学結晶から成る平行平板75が
配置されている。平行平板75は、プリズム74と接合
される面に、ミラー面75aが形成されている。ミラー
面75aは、プリズム74の内部を伝播する光が平行平
板75に進入するのを防止し、記録情報のS/Nの劣化
を抑える働きをする。従って、平行平板75は、ミラー
面75の形成に代えて、光を遮断する塗装やコーティン
グが施されてもよい。
【0067】プリズム74と平行平板75は、シリコン
基板72への実装前に、予め接合され、両者から成る台
形状のブロックとして、シリコン基板72に実装され
る。このような台形状のブロックは、例えば、角柱形状
の異方性光学結晶と三角柱形状のハーフミラープリズム
を接合し、これを所定の間隔で切断することにより、生
産性良く作製することができる。
【0068】平行平板75のミラー面75aは、プリズ
ム74と平行平板75の接合前に形成されており、これ
は、両者の接合時の方向の間違いの発生の軽減にも役に
立つ。また、互いに接合されたプリズム74と平行平板
75のブロックは、シリコン基板72への実装のハンド
リングを容易にするとともに、シリコン基板72への平
行平板75の取り付け方向の間違いを軽減する効果もあ
る。
【0069】[第四の実施の形態]第四の実施の形態の
光磁気ピックアップを図8に示す。本実施の形態の光磁
気ピックアップは、第二の実施の形態と基本的に同じ構
成を有している。
【0070】レーザー光源80は、シリコン基板82の
上に配置されたサブマウント81に実装されており、シ
リコン基板82は、誤差信号を検出するための受光素子
群(図示せず)と、光磁気信号を検出するための受光素
子群87とを備えている。これらの受光素子群は、第二
の実施の形態と同様に配置されている。
【0071】シリコン基板82の上には、異方性光学結
晶から成る台形のブロック83が配置されている。台形
のブロック83は平行平板部を有しており、これは光磁
気信号検出用の受光素子群87の上に位置している。
【0072】ブロック83は、レーザー光源80の光ビ
ームの射出方向に対して約45度の傾きを持つミラー面
83aを有しており、これは、レーザー光源80から入
射する光ビームをシリコン基板82の法線方向に反射す
る。ミラー面83aは、例えば、クロム(Cr)を下地
層として設け、その上に金(Au)をコーティングして
形成される。
【0073】ミラー面83aの上方には、情報記録媒体
からの戻り光を回折して、その±1次光を誤差信号検出
のための受光素子群に方向付ける回折格子を有する透明
平板84が配置されている。透明平板84の上方には、
情報記録媒体からの戻り光の一部の光成分を透過し、残
りの光成分を反射する偏光ビームスプリッター85が配
置されている。偏光ビームスプリッター85には、そこ
で反射された光成分を、磁気信号検出用の受光素子群8
7に向けて偏向するミラープリズム86が接合されてい
る。
【0074】受光素子群87の上には、上述したよう
に、異方性光学結晶から成る台形のブロック83の平行
平板部が位置している。この平行平板部は、光軸に対し
て45°傾いた結晶軸を有しており、ミラープリズム8
6からの入射光を常光と異常光に分離する。
【0075】図8において、レーザー光源80から発せ
られた光ビームは、ミラー面83aで反射され、回折格
子を有する平行平板84と偏光ビームスプリッタ85を
透過した後、コリメートレンズ(図示せず)を経て、対
物レンズ(図示せず)により情報記録媒体(図示せず)
に集光される。
【0076】情報を含む情報記録媒体からの戻り光は、
対物レンズとコリメートレンズを通過した後、一部の光
成分は偏光ビームスプリッター85で反射され、残りの
光成分はこれを透過する。
【0077】偏光ビームスプリッターを透過した光成分
は、平行平板84の回折格子により+1次光と−1次光
に回折される。+1次光と−1次光は、誤差信号検出用
のの受光素子群により光量が検出され、これに基づいて
誤差信号が検出される。
【0078】一方、偏光ビームスプリッター85で反射
された光成分は、ミラープリズム86のミラー面86a
で反射された後、異方性光学結晶からなるブロック83
の平行平板部で、常光と異常光に分離される。分離され
た常光と異常光は、磁気信号検出用の受光素子群87に
より光量が検出され、これに基づいて光磁気情報が検出
される。
【0079】この光磁気ピックアップでは、台形のブロ
ック83が、シリコン基板82の上面に平行に出射され
た光ビームを垂直に偏向する機能と、磁気信号検出のた
めに戻り光を常光と異常光に分離する機能とを兼ね備え
ているので、部品点数を減らすことができる。また、台
形ブロック83は適度な大きさを持つため、これをシリ
コン基板82に実装する際のハンドリングが容易である
とともに、位置出し調整も容易に行なえる。
【0080】[第五の実施の形態]第五の実施の形態と
して、パッケージに収容された光磁気ピックアップにつ
いて図9を用いて説明する。図9には、図4の光磁気ピ
ックアップが例示的に図示されているが、収容する光磁
気ピックアップは、上述したどの光磁気ピックアップで
あってもよく、特に光源の光量をモニターする機構を備
えたものであれば更に好ましい。
【0081】図9に示されるように、光磁気ピックアッ
プは、パッケージ基板100の上に設置され、ガラスウ
ィンドウ102を備えるキャップ101によって封止さ
れている。
【0082】電極用のピン103は、絶縁物質104を
介して基板100に固定されており、発光素子への電力
供給や受光素子からの電気信号の取り出しに用いられ
る。
【0083】基板100とキャップ101で密閉された
内部の空間は、窒素やアルゴンなどの不活性ガスが充填
されており、外部からの水分や酸素の進入が防止されて
いる。
【0084】本実施の形態のパッケージに収容された光
磁気ピックアップは、特に発光素子周辺が不活性ガスで
置換されているため、発光素子が酸素や水分により劣化
したり損傷を受けることが防止されるので、発光素子の
長い寿命を確保することができる。また、発光素子やビ
ームスプリッター、受光素子等からなるユニット全体
が、一体型のパッケージで密閉されているため、内部の
光学素子や受光素子のレイアウトの自由度がきわめて高
いという利点を持っている。さらに、外部に精巧な光学
素子が露出していないため、光ディスク装置に組み込む
際に破損する恐れがなく、仮に汚れたときには洗浄する
こともできる。加えて、光学素子等の組み立てに用いた
接着剤が水分により膨張したり変形したりすることが防
止されるので、一定の光学的特性を維持できる。
【0085】[第六の実施の形態]第六の実施の形態の
光磁気ピックアップについて、図10を用いて説明す
る。構成は第一の実施の形態と同様であるが、偏光ビー
ムスプリッタ33とミラープリズム37の替わりに、三
角プリズムと平行四辺形プリズムから構成される複合偏
光ビームスプリッタープリズム114を用いており、偏
光膜114aと位制御用の多層膜をコーティングした反
射面114bが設けられている。反射面114bの多層
膜は例えば表1のような構成で形成されている。
【0086】
【表1】
【0087】基本的な作用は第一の実施の形態と同様で
あるが、本実施の形態においては更に以下のような作用
効果を持つ。
【0088】反射面114bで全反射するレーザー光線
は、ある特定の偏光方向を持つ光線をP偏光とし、P偏
光と直交する偏光方向を持つ光線をS偏光とすると、全
反射により通常、P偏光とS偏光に大きな位相差が発生
してしまい、信号品質を劣化させる要因となる。
【0089】特に、前記位相差は反射面への入射角度に
よって異なるため、本発明のように収束光が全反射する
場合、発生する位相差の、角度による違いも大きく、信
号品質への影響はより大きい。しかし、本実施の形態に
おいては、表1のような位相差を制御する多層膜を設け
たため、位相差をほぼ0としており、また、光線の反射
面への入射角度による変化も良く制御されている。本実
施の形態による位相差の発生の仕方を図11に示す。
【0090】多層膜(コート)なしの場合に比べ、位相
差がほぼ0となっており、入射角度に対する変化もほと
んど無いことがわかる。
【0091】本実施の形態においては、特に、反射面1
14bでのP偏光とS偏光の位相差の発生がほぼ0であ
るため、極めて良好な光磁気信号の検出が可能である。
【0092】これまで、いくつかの実施の形態について
図面を参照しながら具体的に説明したが、本発明は、上
述した実施の形態に限定されるものではなく、その要旨
を逸脱しない範囲で行なわれるすべての実施を含む。
【0093】従って、本発明の要旨を逸脱しない範囲に
おいて様々な変形例が可能であり、これらはすべて本発
明の範囲内にある。
【0094】例えば、実施の形態では、偏光ビームスプ
リッターやミラープリズムは、立方体形状のものが例示
されているが、三角プリズムと平行四辺形状のプリズム
を組み合わせたものであってもよい。また、パッケージ
のキャップの材質は、金属でも樹脂でもセラミックでも
よい。
【0095】本発明の光磁気ピックアップは、その出射
光を、コリメートレンズを介することなく、対物レンズ
で直接情報記録媒体に絞り込む有限系の光学系に適用さ
れても、あるいは、コリメートレンズで一旦平行光にし
た後、対物レンズで集光する無限系の光学系にも適用さ
れてもよい。
【0096】本発明の光磁気ピックアップは、以下のよ
うに言うことができる。
【0097】1.レーザー光源と、レーザー光源から発
せられるレーザー光を情報記録用媒体に集光させる第1
の光路と、前記光路中に裁置された回折格子と、前記情
報記録媒体からの反射光が前記回折格子によって回折さ
れた複数の光を受光する第1の受光素子群と、前記回折
格子と前記情報記録媒体の間に配置された、前記情報記
録媒体からの反射光のうち一部の光を第2の光路に分岐
する偏光ビームスプリッターと、前記第2の光路に分岐
された光を第2の受光素子群に向けて偏向させるミラー
と、前記第2の光路の光を受光する前記第2の受光素子
群を有し、前記第1の受光素子群と前記第2の受光素子
群が同一基板または略平行に配置されている光磁気ピッ
クアップにおいて、前記第2の光路中の、前記第2の受
光素子群と前記ミラーの間の範囲に、前記範囲の前記第
2の光路の光軸に対して30度ないし60度の結晶軸方
位を持った異方性光学結晶からなる所定の厚みの略平行
な平板が配置されていることを特徴とする、光磁気ピッ
クアップ。
【0098】(作用)上記構成によれば、光磁気情報を
含んだ光束は、光路の中心軸に対して30度ないし60
度傾いた結晶軸を有する異方性結晶材料からなる略平行
平板に入射する。この時、結晶材料の光学的異方性によ
り、常光成分と異常光成分に分離される。この分離され
た光はそれぞれ、前記略平行平板の直下の受光素子群に
到達し、それぞれの差分により光磁気情報を検出するこ
とが出来る。
【0099】ここで用いた信号分離用素子は、略平行平
板の異方性光学結晶であるため、平板へ入射した光束は
結晶内で常光と異常光に分離し、2つの異なる角度に進
み、平板の反対面から平行な光軸を有する2本の光束と
して出射する。
【0100】このように信号分離に用いる異方性光学結
晶内部に反射面や屈折面などが存在しないため、前記略
平行平板の受光素子基板に対して平行な方向には、特に
実装精度が必要なく、受光素子を覆っていれさえすれば
よい。
【0101】また、前記略平行平板への入射光と出射光
の光軸が平行であるため、異方性結晶材料からなる略平
行平板は受光素子と前記ミラーの間のどの位置に有って
もよい。
【0102】結晶軸の角度は、30度ないし60度であ
るが、より好ましくは40度ないし50度、さらに45
度程度が最も分離の効率が良く、低損失で光記録情報を
検出することが可能である。
【0103】また、入射光束の偏光方向に対しても略4
5度、少なくとも30度から60度結晶軸を回転させて
設置する事で光磁気信号の検出の効率が特に良好にな
る。
【0104】さらに、異方性光学結晶の略平行平板は、
従来技術におけるプリズム型検光子やウォラストンプリ
ズムに比べ加工が容易で生産性が高く、非常に安価であ
り、ピックアップの低コスト化に大きく貢献する。
【0105】2.(図5) 前記第1の受光素子群が、前記回折格子により回折され
る+1次光と−1次光を受光する2つの受光素子群を有
しており、前記発光素子が、前記2つの受光素子群の中
間に、前記受光素子群が形成される平面に対し、垂直に
発光するように固定されていることを特徴とする、第1
項に記載の光磁気ピックアップ。
【0106】(作用)第1項の作用に加え、前記回折格
子による+1次光と−1次光を受光する2つの受光素子
群を持つため、回折された光を両方活用でき、光の利用
効率が向上する。また、発光素子が2つの受光素子群の
中間に垂直に配置することで前記2つの受光素子に正確
に光を導くことができる。
【0107】さらに、これは、通常のLDキャンパッケ
ージと同様なものに前記受光素子群を含んだ基板を追加
することで製造が可能であり、既存の設備を有効に活用
することが出来、低コスト化に貢献できる。
【0108】3.(図3) 前記発光素子が、前記受光素子群が裁置される平面に対
して同一あるいは平行な方向に発光するように裁置され
ており、前記発光素子から出射した光線が、略45度の
反射面を有するミラーで、前記受光素子群が裁置された
平面の法線方向に偏向されることとを特徴とする、第1
項に記載の光磁気ピックアップ。
【0109】(作用)第1項の作用に加え、この構成に
よれば、発光素子を、受光素子群が配置される平面と同
一あるいは平行な平面に実装できるため、ダイボンディ
ング、ワイヤーボンディング等の電気的接続が容易で、
生産性の向上が期待できる。
【0110】また、全体のパッケージ高さを抑えるのに
も有効で、小型化に貢献できる。
【0111】4.(図6) 前記反射面が、プリズムの1面に設けられたハーフミラ
ーであって、前記ハーフミラーを透過した光は前記プリ
ズムの下に設けられた第3の受光素子に導かれ、前記発
光素子の出力の制御に用いられることを特徴とする、第
3項に記載の光磁気ピックアップ。
【0112】(作用)第3項の作用に加え、この構成に
よれば、前記反射面がプリズムの1面に設けられたハー
フミラーであって、前記ハーフミラーを透過した光は、
前記プリズムの下に設けられた受光素子に導かれ、前記
発光素子の出力の制御に用いることが出来る。前記受光
素子は、サーボ用受光素子や、光磁気検出用受光素子と
同一の基板上に形成することが可能で、別途にモールド
パッケージの受光素子を用意する必要が無く、集積度の
向上つまりピックアップの小型化に大きく貢献する。前
記ハーフミラーは偏光膜であることが光の利用効率上望
ましい。
【0113】さらに、発光素子から出射する光は発散光
であるため、検出用の受光素子を発光素子から遠い位置
に配置すると、大型の受光素子を用いるか、集光手段が
別途に必要となることが予想され、一方、本構成では発
光素子と検出用受光素子が近いので、前記のような手段
は必要無く、小型化、低コスト化に有効である。
【0114】なお、従来技術では、発光素子から出射さ
れた光を、前記受光素子群が設けられた基板上方の偏光
ビームスプリッターで一旦側方に一部の光を偏向したの
ち、ミラーにより前記基板に導き、基板上に設けられた
出力検出用受光素子に受けるという例も開示されている
が、上記のような問題とともに、迷光が増加し、信号品
質を低下させるという大きな問題がある。本構成では、
出力検出用受光素子以外には光が照射されることが無い
ので安定した信号品質を得ることが出来る。
【0115】5.(図7) 前記略45度の反射面を有するプリズムと前記異方性光
学結晶からなる所定の厚みの略平行平板が、予め接合さ
れ一体となっていることを特徴とする、第4項に記載の
光磁気ピックアップ。
【0116】(作用)第4項の作用に加え、本構成で
は、予め略45度の反射面を有するプリズムと異方性光
学結晶からなる略平行平板が予め接合され一体となって
いるため、別々に配置するより全体の小型化が可能であ
り、2つの光学素子を個別に取り扱うよりもハンドリン
グが容易となり、生産性の向上が可能である。
【0117】6.(図7) 前記略45度の反射面がハーフミラーであり、前記予め
接合された面には、ミラー面または遮光面が形成されて
いることを特徴とする、第5項に記載の光磁気ピックア
ップ。
【0118】(作用)さらに、前記略45度のプリズム
と前記異方性光学結晶との接合面にはミラーまたは遮光
面が設けられているので、略45度のプリズムに入射し
た出力検出用の光が、光磁気信号検出用の受光素子に漏
れることが無く、信号品質の低下を防ぐことができる。
【0119】7.(図8) 前記略45度のミラーが、前記異方性光学結晶からなる
略平行平板の端部に形成されていることを特徴とする、
第3項に記載の光磁気ピックアップ。
【0120】(作用)第3項の作用に加え、発光素子か
らの光を受光素子基板に垂直に立ち上げる略45度のミ
ラーが、光磁気信号分離用の異方性光学結晶の端部に設
けられているため、部品点数が削減でき、小型化、低コ
スト化に大きく寄与する。
【0121】8.(図9) 前記ビームスプリッター、回折格子、ミラー、異方性光
学結晶、受光素子基板、発光素子が、一体のパッケージ
に密封されてなるとともに、パッケージ内部が不活性ガ
スで満たされていることを特徴とする、第1項ないし第
7項および第9項のいずれかに記載の光磁気ピックアッ
プ。
【0122】(作用)ユニット全体が一体のパッケージ
に密封されているため、発光素子が酸素や水分により劣
化あるいは損傷を受けることを防ぐことができ、光磁気
ピックアップの寿命を確保することができる。
【0123】さらに、回折格子や、ビームスプリッター
などの光学部品をパッケージ内部に設置しているため、
光学部品の位置精度が、形状精度を高くすることが困難
なパッケージに影響されないとともに、光学部品の組み
立てに使用される接着剤が、水分により膨張・変形し光
学的特性を損なうようなことが防止される。
【0124】9.(図4) 前記偏光ビームスプリッターが、発光素子から出射した
レーザー光の一部を第3の光路に分岐するとともに、前
記第3の光路を、前記第1および第2の受光素子群と同
一または略平行に配置された第3の受光素子群へ向けて
偏向させる第2のミラーを有し、前記第2のミラーと第
3の受光素子の間の第3の光路に所定の屈折率を有する
透光性を有する略平行平板が配置されていることとを特
徴とする、第1項ないし第3項および第5項および第7
項および第8項のいずれかに記載の光磁気ピックアッ
プ。
【0125】(作用)本構成では、発光素子から出射し
たレーザー光の一部の光を、偏光ビームスプリッターで
第3の光路に分離し、その光をミラーおよび略平行平板
で、発光素子の出力制御用の受光素子に導いており、通
常発散して広がっていくレーザー光を、効率的に受光素
子に導くことができる。
【0126】例えば、透光性の略平行平板の屈折率を、
光の全反射条件を満たす角度θ1とレーザー光束の媒質
内部での有効広がり角θ2との間に次の式1が成り立つ
ように選択すると、略平行平板から外側にレーザー光線
が漏れ出すこと無く前記受光素子に導くことができる。
【0127】θ1≦(90°−θ2) ・・・(1) もちろん、上記の略平行平板の外周を塗装やコーティン
グで遮光、反射させることも有効である。
【0128】10.前記結晶材料がニオブ酸リチウムで
あり、前記結晶材料の略平行平面部の厚みが2mmから
6mmであることを特徴とする、第1項ないし第9項の
いずれかに記載の光磁気ピックアップ。
【0129】11.前記第2の光路に分岐された光を前
記第2の受光素子群に向けて偏向させるミラーが、互い
に直交する2つの偏光成分の反射後の位相差を、有効な
入射角全域にわたって略0に等しくする位相制御用多層
膜を設けていることを特徴とする、第1項ないし第10
項のいずれかに記載の光ピックアップ。
【0130】
【発明の効果】本発明の光磁気ピックアップは、光磁気
情報検出のために常光成分と異常光成分の分離を異方性
光学結晶の平行平板で行なっており、平行平板を出た常
光成分と異常光成分の二本の光ビームは、互いに平行で
あり、その間隔は異方性光学結晶の平行平板の材料と厚
みで決まる。このため、異方性光学結晶の平行平板の実
装位置は、光路方向に関しては自由であり、また、第2
の受光素子群に対しては、これを覆ってさえいればよ
い。また、異方性光学結晶の平行平板は、非常に安価
に、高い厚み精度を持って加工できる。従って、本発明
によれば、要求される実装精度が比較的低い、小型で安
価な光磁気ピックアップが得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第一の実施の形態による光磁気ピックアップを
示している。
【図2】図1に示される平行平板の光軸方向に対する結
晶軸の傾きを示している。
【図3】第一の実施の形態におけるレーザー光源の実装
の変形例を示している。
【図4】第一の実施の形態の光磁気ピックアップの変形
例を示している。
【図5】第二の実施の形態による光磁気ピックアップを
示しており、(A)はその平面図、(B)は5B−5B
線に沿った断面図、(C)は5C−5C線に沿った断面
図である。
【図6】第三の実施の形態の光磁気ピックアップにおけ
るレーザー光源の周辺部を示している。
【図7】第三の実施の形態の光磁気ピックアップの変形
例を示している。
【図8】第四の実施の形態の光磁気ピックアップを示し
ている。
【図9】第五の実施の形態によるパッケージに収容され
た光磁気ピックアップを示している。
【図10】第六の実施の形態の光磁気ピックアップを示
している。
【図11】第六の実施の形態による位相差の発生の仕方
を示すグラフである。
【図12】光磁気ピックアップの従来例を示している。
【図13】光磁気ピックアップの別の従来例を示してい
る。
【符号の説明】 31 レーザー光源 32 透明平板 33 偏光ビームスプリッター 34,35 第一の受光素子群 36 第二の受光素子群 37 ミラープリズム 38 平行平板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5D075 AA03 CC12 CD03 CD16 EE03 5D119 AA04 AA38 AA39 BA01 CA10 EC35 FA05 HA13 JA12 JA14 JA25 JA31 KA02 LB07

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光源と、光源から発せられる光ビームを
    情報記録媒体に導く第1の光路と、第1の光路に沿って
    情報記録媒体から戻る光を回折する回折格子と、回折さ
    れた光を受光する第1の受光素子群と、情報記録媒体か
    ら戻る光の一部を第2の光路に分岐する偏光ビームスプ
    リッターと、第2の光路に分岐された光をミラーと、前
    記第2の光路の光を受光する前記第2の受光素子群を有
    し、前記第1の受光素子群と前記第2の受光素子群が同
    一基板または略平行に配置されている光磁気ピックアッ
    プにおいて、 前記第2の光路中の、前記第2の受光素子群と前記ミラ
    ーの間の範囲に、前記範囲の前記第2の光路の光軸に対
    して30度から60度の結晶軸方位を持つ異方性光学結
    晶からなる所定の厚みの平行平板が配置されていること
    を特徴とする、光磁気ピックアップ。
  2. 【請求項2】 前記第1の受光素子群は、前記回折格子
    により回折される+1次光と−1次光を受光する2つの
    受光素子群を有しており、 前記光源は、前記2つの受光素子群の中間に、前記受光
    素子群が形成された平面に対し、垂直に光ビームを射出
    するように固定されていることを特徴とする、請求項1
    に記載の光磁気ピックアップ。
  3. 【請求項3】 前記光源は、前記受光素子群が裁置され
    る平面に対して平行に発光するように裁置されており、 光磁気ピックアップは、前記光源から射出された光ビー
    ムを、前記受光素子群が裁置された平面の法線方向に偏
    向するミラーを更に備えていることを特徴とする、請求
    項1に記載の光磁気ピックアップ。
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