JP2003200338A - Chamfering method and device for rectangular flat plate - Google Patents

Chamfering method and device for rectangular flat plate

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JP2003200338A
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a chamfering method for a rectangular flat plate that can reduce machining cost and can improve machining precision. <P>SOLUTION: A laminate 8 consisting of a lamination of glass plates as a package cover, and abrasive are sealed in a pipe 10, and the laminate 8 is slid on an inner wall of the pipe 10 to develop chamfering of the laminate 8. The pipe 10 has a radius defined to a radius R satisfying the formula, R=L/2√(R<SP>2</SP>+1) or a proximate radius. In the formula, L is a longer side length (mm) of the glass plates, and (r) is a ratio of a chamfer length on the longer side to a chamber length on the shorter side on the glass plates. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は矩形状平板の面取り
加工方法およびその装置に関するものであり、特に圧電
振動片を封入したセラミックパッケージの蓋部材の面取
り加工方法およびその装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and apparatus for chamfering a rectangular flat plate, and more particularly to a method and apparatus for chamfering a lid member of a ceramic package containing a piezoelectric vibrating piece.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子回路において一定の周波数を得るた
め、圧電振動子が広く利用されている。特に、携帯用の
電子機器では小型化を図る必要があることから、圧電振
動片を封入したセラミックパッケージの圧電振動子が利
用されている。図8に示すセラミックパッケージの圧電
振動子100では、圧電振動片102を実装した後、蓋
部材104としてガラス板を上面に装着し、内部を真空
に保持している。なお、内部を真空に保持することによ
り、安定した共振周波数を得ることができる。
2. Description of the Related Art Piezoelectric vibrators are widely used to obtain constant frequencies in electronic circuits. In particular, since it is necessary to reduce the size of a portable electronic device, a piezoelectric vibrator of a ceramic package in which a piezoelectric vibrating piece is enclosed is used. In the piezoelectric vibrator 100 of the ceramic package shown in FIG. 8, after mounting the piezoelectric vibrating piece 102, a glass plate is mounted on the upper surface as the lid member 104 and the inside is kept in vacuum. Note that a stable resonance frequency can be obtained by keeping the inside vacuum.

【0003】ここで、パッケージ101に対する蓋部材
104の装着位置がずれると、蓋部材104の角部がパ
ッケージ101の外側にはみ出すことになる。特に、パ
ッケージ101の角部にキャスタレーション101aが
形成されている場合には、蓋部材104の角部がキャス
タレーション101a部分にはみ出す可能性が高くな
る。そして、はみ出した部分に何らかの力が作用する
と、当該部分が欠けてクラックが発生する場合がある。
さらにそのクラックが進行すると、パッケージ内部を真
空に保持することができなくなる。そこで、蓋部材10
4の角部に面取り105を施している。
Here, if the mounting position of the lid member 104 with respect to the package 101 is deviated, the corner portion of the lid member 104 will protrude to the outside of the package 101. In particular, when the castellation 101a is formed on the corner portion of the package 101, there is a high possibility that the corner portion of the lid member 104 will protrude to the castellation 101a portion. When some force acts on the protruding portion, the portion may be chipped and a crack may occur.
When the crack further progresses, the inside of the package cannot be maintained in vacuum. Therefore, the lid member 10
A chamfer 105 is applied to the corner of No. 4.

【0004】従来の面取り加工方法は、図9に示すよう
に、まず蓋部材複数個分の大きさのガラス基板110
を、捨て切りガラス112の上に固定する。そして、ダ
イヤホイールソー114により、ガラス基板110を蓋
部材1個分の大きさに切断した後、さらに面取り部分を
切断することにより行っている。具体的には、図10に
示すように、まず切断線116で縦横に切断することに
より、矩形の蓋部材104を得る。さらに切断線118
で斜めに切断することにより、角部に面取りを施す。こ
のような面取り方法を使用することにより、ダイヤホイ
ールソーの移動量が少なくなり、加工速度が早くなる。
In the conventional chamfering method, as shown in FIG. 9, first, a glass substrate 110 having a size corresponding to a plurality of lid members is used.
Are fixed on the discarded glass 112. Then, the diamond wheel saw 114 cuts the glass substrate 110 into the size of one lid member, and then further cuts the chamfered portion. Specifically, as shown in FIG. 10, first, the lid member 104 having a rectangular shape is obtained by vertically and horizontally cutting along a cutting line 116. Further cutting line 118
Chamfer the corners by cutting at an angle. By using such a chamfering method, the amount of movement of the diamond wheel saw is reduced and the processing speed is increased.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従来の面取り加工方法
では、図10の切断線118で斜めに切断する際に、蓋
部材104の前後左右の部材106が、中央部で切断さ
れてしまう。その結果、部材106は廃棄することにな
り、ガラス基板110の半分程度しか蓋部材104とし
て使用することができない。この歩留まりの悪さによ
り、多くの加工コストがかかるという問題があった。
According to the conventional chamfering method, the front, rear, left and right members 106 of the lid member 104 are cut at the central portion when they are cut diagonally along the cutting line 118 in FIG. As a result, the member 106 is discarded, and only about half of the glass substrate 110 can be used as the lid member 104. Due to this poor yield, there has been a problem that much processing cost is required.

【0006】また、ダイヤホイールソー114(図9参
照)による切断面には、ガラス粉が付着する。このガラ
ス粉が、圧電振動子の製造工程でパッケージ内部に混入
し圧電振動片に付着すると、圧電振動子から安定した共
振周波数が得られなくなるという問題がある。さらに、
ダイヤホイールソーによる切断面は粗く、当該部分から
クラックが発生する場合がある。そして発生したクラッ
クが拡大すると、パッケージ内部を真空に保持できなく
なるという問題がある。
Further, glass powder adheres to the cut surface of the diamond wheel saw 114 (see FIG. 9). If this glass powder mixes inside the package during the piezoelectric vibrator manufacturing process and adheres to the piezoelectric vibrating piece, there is a problem that a stable resonance frequency cannot be obtained from the piezoelectric vibrator. further,
The cut surface by the diamond wheel saw is rough, and cracks may occur from this portion. Then, if the cracks generated expand, there is a problem that the inside of the package cannot be maintained in vacuum.

【0007】本発明は上記問題点に着目し、加工コスト
の低減が可能な矩形状平板の面取り加工方法およびその
装置の提供を目的とする。また本発明は、加工精度の向
上が可能な矩形状平板の面取り加工方法およびその装置
の提供を目的とする。
In view of the above problems, the present invention has an object to provide a method and apparatus for chamfering a rectangular flat plate capable of reducing the processing cost. Another object of the present invention is to provide a chamfering method for a rectangular flat plate and an apparatus therefor capable of improving the processing accuracy.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明に係る矩形状平板の面取り加工方法は、パッ
ケージ蓋用の矩形状平板を積層した積層体と研磨材とを
筒状体に封入し、前記筒状体の内壁上で前記積層体をす
べり運動させることにより、前記積層体の面取り加工を
行う構成とした。これにより、従来の面取り加工方法に
比べて歩留まりが向上するので、加工コストの低減が可
能となる。
In order to achieve the above object, a method for chamfering a rectangular flat plate according to the present invention is to form a laminated body in which rectangular flat plates for a package lid are laminated and an abrasive into a cylindrical body. By enclosing it, the laminate is configured to be chamfered by sliding the laminate on the inner wall of the tubular body. As a result, the yield is improved as compared with the conventional chamfering processing method, so that the processing cost can be reduced.

【0009】また、前記筒状体の半径は、The radius of the tubular body is

【数3】 を満足する半径Rまたはその近傍の半径に形成されてい
る構成とした。ただし、Lは前記矩形状平板の長辺の長
さ(mm)、rは前記矩形状平板の長辺上における面取
り部分の長さと短辺上における面取り部分の長さとの比
率である。これにより、所望の面取り加工を行うことが
できるので、加工精度の向上が可能となる。また、小径
の筒状体による面取り加工が可能となり、矩形状平板の
長辺の中央部分が研磨材によって研磨されることがなく
なる。従って、加工精度の向上が可能となる。
[Equation 3] The radius R satisfying the above condition or a radius in the vicinity thereof is adopted. Here, L is the length (mm) of the long side of the rectangular flat plate, and r is the ratio of the length of the chamfered portion on the long side of the rectangular flat plate to the length of the chamfered portion on the short side. As a result, a desired chamfering process can be performed, so that the processing accuracy can be improved. Further, chamfering can be performed using a small-diameter cylindrical body, and the central portion of the long side of the rectangular flat plate is not polished by the abrasive. Therefore, the processing accuracy can be improved.

【0010】なお前記積層体の面取り加工は、前記矩形
状平板の長辺上における面取り部分の長さと短辺上にお
ける面取り部分の長さとの比率が1.0以上4.0以下
となるように行う構成とするのが好ましい。比率を1.
0以上とすることにより、筒状体の半径が小さくなりす
ぎて加工速度が低下することがない。一方、比率を4.
0以下とすることにより、面取り部分が直角に近くなっ
て当該部分からクラックが発生することがない。
In the chamfering process of the laminated body, the ratio of the length of the chamfered portion on the long side of the rectangular flat plate to the length of the chamfered portion on the short side is 1.0 or more and 4.0 or less. It is preferable that the configuration is performed. Set the ratio to 1.
By setting it to 0 or more, the radius of the cylindrical body does not become too small and the processing speed does not decrease. On the other hand, the ratio is 4.
By setting it to be 0 or less, the chamfered portion is close to a right angle, and the crack does not occur from the portion.

【0011】また前記積層体のすべり運動は、前記筒状
体の公転軸から前記筒状体の一方端部までの距離と前記
筒状体の公転軸から前記筒状体の他方端部までの距離と
の大小を繰り返し逆転させつつ前記筒状体を公転させる
ことにより、前記筒状体の軸方向に前記積層体を相対移
動させる構成とした。筒状体の周方向のみならず、軸方
向にも積層体を相対移動させることにより、面取り加工
速度を向上させることができる。したがって、加工コス
トの低減が可能となる。
The sliding movement of the laminated body is caused by the distance from the revolution axis of the tubular body to one end of the tubular body and the revolution axis of the tubular body to the other end of the tubular body. By revolving the tubular body while repeatedly reversing the magnitude of the distance, the laminated body is relatively moved in the axial direction of the tubular body. The chamfering speed can be improved by moving the laminate not only in the circumferential direction of the cylindrical body but also in the axial direction. Therefore, the processing cost can be reduced.

【0012】また前記積層体のすべり運動は、前記筒状
体の公転軸から前記筒状体の一方端部までの距離と前記
筒状体の公転軸から前記筒状体の他方端部までの距離と
の大小を繰り返し逆転させつつ前記筒状体を公転させる
とともに、少なくとも1回は前記筒状体の公転方向を逆
転させることにより、前記筒状体の軸方向に前記積層体
を相対移動させる構成とした。筒状体の公転方向を逆転
させることにより、筒状体の周方向における積層体の相
対移動方向が逆転する。したがって、積層体の各角部に
対して均等に面取り加工が行われ、加工精度の向上が可
能となる。
The sliding motion of the laminated body is caused by the distance from the revolution axis of the tubular body to one end of the tubular body and from the revolution axis of the tubular body to the other end of the tubular body. The cylindrical body is revolved while reversing the magnitude with respect to the distance repeatedly, and the revolution direction of the cylindrical body is reversed at least once to move the laminated body relatively in the axial direction of the cylindrical body. It was configured. By reversing the revolution direction of the tubular body, the relative movement direction of the stacked body in the circumferential direction of the tubular body is reversed. Therefore, chamfering is uniformly performed on each corner of the laminated body, and the processing accuracy can be improved.

【0013】なお前記矩形状平板は、ガラス部材である
構成としてもよい。これにより、セラミックパッケージ
圧電振動子の蓋部材となるガラス板に対して、低コスト
で精度のよい面取り加工を施すことができる。また、ガ
ラス粉がパッケージ内部に混入して圧電振動片に付着す
ることがなく、安定した共振周波数を得ることができ
る。さらに、面取り部分からクラックが発生することが
なく、パッケージ内部を真空に保持することができる。
そして、セラミックパッケージ圧電振動子の蓋部材とし
てガラス板を使用し、ガラス板越しに圧電振動片にレー
ザを照射して、共振周波数の調整を行うことができる。
The rectangular flat plate may be a glass member. As a result, it is possible to perform chamfering processing at low cost and with high accuracy on the glass plate that serves as the lid member of the ceramic package piezoelectric vibrator. Further, the glass powder does not mix inside the package and adhere to the piezoelectric vibrating piece, so that a stable resonance frequency can be obtained. Furthermore, the inside of the package can be maintained in a vacuum without cracking from the chamfered portion.
A glass plate is used as a lid member of the ceramic package piezoelectric vibrator, and the piezoelectric vibrating piece is irradiated with laser through the glass plate to adjust the resonance frequency.

【0014】なお前記矩形状平板は、水晶部材である構
成としてもよい。これにより、セラミックパッケージ圧
電振動子の蓋部材となる水晶板について、低コストで精
度のよい面取り加工を施すことができる。また、圧電振
動片と熱膨張率を一致させることができる。一方、前記
矩形状平板は、セラミック部材である構成としてもよ
い。これにより、セラミックパッケージ圧電振動子の蓋
部材となるセラミック板について、低コストで精度のよ
い面取り加工を施すことができる。また、パッケージと
熱膨張率を一致させることができる。
The rectangular flat plate may be a crystal member. As a result, it is possible to perform chamfering processing at low cost and with high precision on the crystal plate that serves as the lid member of the ceramic package piezoelectric vibrator. Further, the coefficient of thermal expansion can be made to match that of the piezoelectric vibrating piece. On the other hand, the rectangular flat plate may be a ceramic member. As a result, it is possible to perform chamfering processing at low cost and with high accuracy on the ceramic plate that serves as the lid member of the ceramic package piezoelectric vibrator. Also, the coefficient of thermal expansion can be matched with that of the package.

【0015】なお、表面に保護部材を備えた前記積層体
を、前記筒状体の内部に封入する構成としてもよい。ま
た、表面に保護部材を備えた前記積層体は、基板を積層
・固着し、その上下面に前記保護部材を固着した後に、
前記矩形状平板の長辺の幅に切断し、切断された中間体
を積層・固着して横転させ、その上下面に保護部材を固
着した後に、矩形状平板の短辺の幅に切断して、形成す
る構成としてもよい。これにより、面取り加工部分以外
の部分が研磨材から保護されるので、加工精度の向上が
可能となる。また、面取り加工中に積層体が矩形状平板
の個片に分解するのを防止することができる。
The laminated body having a protective member on the surface may be enclosed in the cylindrical body. Further, the laminated body having a protective member on the surface, after laminating and fixing the substrate, and fixing the protective member on the upper and lower surfaces thereof,
After cutting into the width of the long side of the rectangular flat plate, stacking and fixing the cut intermediate bodies to roll over, and fixing the protective member to the upper and lower surfaces thereof, cutting into the width of the short side of the rectangular flat plate. It may be configured to be formed. As a result, the portions other than the chamfered portion are protected from the abrasive, so that the processing accuracy can be improved. Further, it is possible to prevent the laminated body from being decomposed into individual pieces of a rectangular flat plate during the chamfering process.

【0016】一方、本発明に係る矩形状平板の面取り加
工装置は、厚さ方向に積層した矩形状平板を研磨材とと
もに内部に封入するシームレス筒状体と、前記筒状体の
公転軸から前記筒状体の一方端部までの距離と前記筒状
体の公転軸から前記筒状体の他方端部までの距離との大
小を繰り返し逆転させつつ前記筒状体を公転させるとと
もにその公転速度を変更可能に形成された筒状体公転手
段とを有する構成とした。これにより、歩留まりが向上
するので、加工コストの低減が可能となる。なお、シー
ムレス筒状体を採用したので、筒状体の内周面上を相対
移動中の積層体がシーム部分から衝撃力を受けることが
なくなり、加工精度の向上が可能となる。また、筒状体
の公転速度を低下させることにより、内部に封入した積
層体を反転させることができる。したがって、均等に面
取り加工が行われ、加工精度の向上が可能となる。なお
前記筒状体公転手段は、前記筒状体の公転方向を逆転可
能に形成されている構成としてもよい。これにより、加
工精度の向上が可能となる。
On the other hand, the chamfering apparatus for a rectangular flat plate according to the present invention includes a seamless cylindrical body for enclosing the rectangular flat plates laminated in the thickness direction together with an abrasive, and the revolution axis of the cylindrical body to While reversing the magnitude of the distance to the one end of the tubular body and the distance from the revolution axis of the tubular body to the other end of the tubular body, the tubular body is revolved and its revolution speed is changed. And a cylindrical body revolving means formed so as to be changeable. As a result, the yield is improved and the processing cost can be reduced. Since the seamless tubular body is adopted, the laminated body which is relatively moving on the inner peripheral surface of the tubular body does not receive an impact force from the seam portion, and the processing accuracy can be improved. Further, by lowering the revolution speed of the tubular body, the laminated body enclosed inside can be inverted. Therefore, the chamfering process is performed uniformly, and the processing accuracy can be improved. The tubular body revolving means may be configured to be able to reverse the revolving direction of the tubular body. This makes it possible to improve the processing accuracy.

【0017】また、前記積層体の長辺と前記積層体の短
辺とのなす角部に第1の面取り加工を行い、前記矩形状
平板の長辺上における面取り部分の長さを確保する工程
と、前記積層体の前記面取り部分の斜辺と前記積層体の
短辺とのなす角部に第2の面取り加工を行い、前記矩形
状平板の短辺上における面取り部分の長さを確保する工
程と、を有する構成とした。なお、前記第2の面取り加
工は、前記第1の面取り加工で使用した前記筒状体より
内径の小さな筒状体に、前記第1の面取り加工を施した
前記積層体と研磨材とを封入して行う構成とすればよ
い。これにより、積層体の長辺と短辺との角部に、R類
似加工が施されるので、各角部に応力集中が発生するこ
とがなくなる。しかも、積層体の面取り加工時間を著し
く伸長することがないので、加工コストの低減が可能と
なる。
A step of performing a first chamfering process on a corner formed by the long side of the laminated body and the short side of the laminated body to secure the length of the chamfered portion on the long side of the rectangular flat plate. And a step of performing a second chamfering process on a corner formed by the oblique side of the chamfered portion of the laminated body and the short side of the laminated body to secure the length of the chamfered portion on the short side of the rectangular flat plate. And is configured to have. The second chamfering process encloses the first chamfered laminated body and the abrasive in a tubular body having an inner diameter smaller than that of the tubular body used in the first chamfering process. The configuration may be performed as follows. As a result, the R-like processing is applied to the corners of the long side and the short side of the laminated body, so that stress concentration does not occur at each corner. Moreover, since the chamfering processing time of the laminated body is not significantly extended, the processing cost can be reduced.

【0018】また、前記第2の面取り加工は、前記第1
の面取り加工で使用した前記筒状体に、研磨材を追加投
入して行う構成としてもよい。研磨材を増量すると、パ
イプ内面と積層体との間に研磨材が多く入り込むため、
パイプ内面の転写効果が弱くなると考えられる。その結
果、研磨材を増量することにより、パイプ径を小さくし
た場合と同様の効果が得られる。したがって、第1の面
取り加工を終えた積層体を、大径のパイプから小径のパ
イプに移し替える必要がなく、加工コストの低減が可能
となる。
The second chamfering process is the first chamfering process.
The cylindrical body used for the chamfering may be additionally charged with an abrasive. When the amount of abrasive is increased, a large amount of abrasive enters between the inner surface of the pipe and the laminated body,
It is considered that the transfer effect on the inner surface of the pipe is weakened. As a result, by increasing the amount of the abrasive, the same effect as when the pipe diameter is reduced can be obtained. Therefore, it is not necessary to transfer the laminated body that has undergone the first chamfering process from the large diameter pipe to the small diameter pipe, and the processing cost can be reduced.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】本発明に係る矩形状平板の面取り
加工装置およびその方法の好ましい実施の形態を、添付
図面に従って詳細に説明する。なお以下に記載するのは
本発明の実施形態の一態様にすぎず、本発明はこれらに
限定されるものではない。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Preferred embodiments of an apparatus and method for chamfering a rectangular flat plate according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. It should be noted that what is described below is only one aspect of the embodiment of the present invention, and the present invention is not limited thereto.

【0020】最初に、第1実施形態について説明する。
図2に第1実施形態に係るパイプの説明図を示し、図4
に第1実施形態に係るバレル装置の説明図を示す。本実
施形態に係る矩形状平板の面取り加工装置は、厚さ方向
に積層した長方形ガラス板(以下、積層体という)8を
研磨材12とともに内部に封入するパイプ10、およ
び、パイプ10の公転軸からパイプ10の一方端部まで
の距離とパイプ10の公転軸からパイプ10の他方端部
までの距離との大小を繰り返し逆転させつつパイプ10
を公転させるとともに、その公転速度を変更可能に形成
されたバレル装置20を有するものである。なお以下に
は、セラミックパッケージ圧電振動子の蓋部材となるガ
ラス板の面取り加工を例にして説明する。このガラス板
は、例えば長辺Lが3mmおよび短辺Sが1.3mmの
長方形状の、微小な平板である。なお、金属板、水晶板
またはセラミック板などに対しても、同様に面取り加工
を施すことが可能であり、これらをセラミックパッケー
ジ圧電振動子の蓋部材として使用することができる。そ
して水晶板を蓋部材として使用することにより、圧電振
動片と熱膨張率を一致させることができる。またセラミ
ック板を蓋部材として使用することにより、パッケージ
と熱膨張率を一致させることができる。
First, the first embodiment will be described.
FIG. 2 shows an explanatory view of the pipe according to the first embodiment, and FIG.
FIG. 3 shows an explanatory view of the barrel device according to the first embodiment. The chamfering apparatus for a rectangular flat plate according to the present embodiment includes a pipe 10 for enclosing a rectangular glass plate (hereinafter, referred to as a laminated body) 8 laminated in a thickness direction together with an abrasive 12, and a revolution axis of the pipe 10. To the one end of the pipe 10 and the distance from the revolution axis of the pipe 10 to the other end of the pipe 10 while repeatedly reversing the magnitude.
It has a barrel device 20 formed so as to revolve and revolve. In the following, the chamfering process of the glass plate that will be the lid member of the ceramic package piezoelectric vibrator will be described as an example. This glass plate is, for example, a rectangular, minute flat plate having a long side L of 3 mm and a short side S of 1.3 mm. Note that a metal plate, a crystal plate, a ceramic plate, or the like can be similarly chamfered, and these can be used as a lid member of a ceramic package piezoelectric vibrator. By using the crystal plate as the lid member, the coefficient of thermal expansion can be matched with that of the piezoelectric vibrating piece. Further, by using the ceramic plate as the lid member, the coefficient of thermal expansion can be matched with that of the package.

【0021】上記のような長方形のガラス板を厚さ方向
に積層した積層体を形成する。図1に積層体の形成方法
の説明図を示す。まず、図1(1)に示すように、蓋部
材複数個分の大きさのガラス基板1を積層する。なお、
その上端面および下端面に、保護部材としてダミーガラ
ス2を配置し、全体を熱可塑性樹脂により固着する。次
に、これを蓋部材の長辺Lの幅に、切断線3において切
断する。その際、上下面にダミーガラス2を配置してい
るので、ダイヤホイールソーの出入りによるチッピング
が、ガラス基板1に発生することがない。このようにし
て切断されたものを90度横転させれば、図1(2)に
示す中間体4となる。
A laminated body is formed by laminating rectangular glass plates as described above in the thickness direction. FIG. 1 shows an explanatory diagram of a method for forming a laminated body. First, as shown in FIG. 1A, glass substrates 1 having a size corresponding to a plurality of lid members are laminated. In addition,
Dummy glass 2 is arranged as a protective member on the upper end surface and the lower end surface, and the whole is fixed by a thermoplastic resin. Next, this is cut along the cutting line 3 to the width of the long side L of the lid member. At this time, since the dummy glasses 2 are arranged on the upper and lower surfaces, chipping due to the diamond wheel saw coming in and out does not occur on the glass substrate 1. When the product cut in this way is rolled 90 degrees, the intermediate 4 shown in FIG. 1 (2) is obtained.

【0022】次に、図1(3)に示すように、中間体4
を横に並べて、その上下面に保護部材としてダミーガラ
ス6を配置し、全体を熱可塑性樹脂により固着する。な
おダミーガラスは、中間体4ごとに個別に固着してもよ
い。次に、これを蓋部材の短辺Sの幅に、切断線7にお
いて切断する。この場合も、上下面にダミーガラス6を
配置しているので、ガラス基板1にチッピングが発生す
ることがない。このようにして切断されたものを90度
横転させれば、図1(4)に示す積層体8となる。積層
体8は、長辺Lおよび短辺Sのガラス板を厚さ方向に積
層したものとなる。
Next, as shown in FIG. 1C, the intermediate 4
Are arranged side by side, dummy glasses 6 are arranged on the upper and lower surfaces thereof as protective members, and the whole is fixed by a thermoplastic resin. The dummy glass may be fixed to each intermediate body 4. Next, this is cut along the cutting line 7 to the width of the short side S of the lid member. Also in this case, since the dummy glasses 6 are arranged on the upper and lower surfaces, chipping of the glass substrate 1 does not occur. When the thus cut product is turned sideways by 90 degrees, the laminated body 8 shown in FIG. 1 (4) is obtained. The laminated body 8 is formed by laminating glass plates having long sides L and short sides S in the thickness direction.

【0023】なお積層体8は、その一部の面上にダミー
ガラス2,6を備えて形成される。ダミーガラスは、積
層体8の面取り加工部分以外の部分を研磨材から保護す
る、保護部材として機能する。そこで、図1(3)の切
断線7における切断面にも、切断後にダミーガラスを固
着するのが好ましい。これにより、積層体8は全面に保
護部材を備えることになる。
The laminated body 8 is formed by providing dummy glasses 2 and 6 on a part of its surface. The dummy glass functions as a protective member that protects the portion of the laminated body 8 other than the chamfered portion from the abrasive. Therefore, it is preferable that the dummy glass is also fixed to the cut surface along the cutting line 7 in FIG. 1C after cutting. As a result, the laminated body 8 is provided with the protective member on the entire surface.

【0024】なお、積層したガラス基板を固着する熱可
塑性樹脂として、環境に優しい水溶性の接着剤を使用す
るのが好ましい。しかし、高湿度の環境下で面取り加工
を行うと、水溶性の接着剤が溶解して、積層体がガラス
板の個片に分解するおそれがある。この点、積層体の表
面に上述したダミーガラス6を固着すれば、そのダミー
ガラス6が積層体を束ねる役割を果たす。したがって、
高湿度の環境下で面取り加工を行った場合でも、積層体
がガラス板の個片に分解することはない。
It is preferable to use an environment-friendly water-soluble adhesive as the thermoplastic resin for fixing the laminated glass substrates. However, when chamfering is performed in a high-humidity environment, the water-soluble adhesive may dissolve and the laminate may be decomposed into individual pieces of glass plate. In this respect, if the above-mentioned dummy glass 6 is fixed to the surface of the laminated body, the dummy glass 6 plays a role of bundling the laminated body. Therefore,
Even when chamfering is performed in a high humidity environment, the laminated body does not decompose into individual pieces of glass plate.

【0025】上記のように形成した積層体8を、筒状体
としてのパイプに封入する。図2に第1実施形態に係る
パイプの説明図を示す。パイプ10はステンレス等の金
属材料等により形成する。なお、パイプ10としてシー
ムレスパイプを使用すれば、パイプ内周面上で積層体8
を相対移動させて面取り加工を行う際に、積層体8がシ
ーム(接合)部分において衝撃力を受けることがなくな
る。したがって、面取り加工精度を向上させることがで
きる。もっとも、パイプ10の内周面が鏡面状態では、
摩擦係数が小さく、面取り加工に時間がかかりすぎる。
そこで、内周面を適度に荒らしたパイプ10を使用する
のが好ましい。また、パイプは円形断面を有するものに
限られず、矩形断面を有するものでもよい。
The laminated body 8 formed as described above is enclosed in a pipe as a tubular body. FIG. 2 shows an explanatory view of the pipe according to the first embodiment. The pipe 10 is formed of a metal material such as stainless steel. If a seamless pipe is used as the pipe 10, the laminated body 8 is formed on the inner peripheral surface of the pipe.
When the chamfering process is performed by relatively moving, the laminated body 8 does not receive an impact force at the seam (joint) portion. Therefore, the chamfering precision can be improved. However, if the inner peripheral surface of the pipe 10 is a mirror surface,
The coefficient of friction is small and chamfering takes too long.
Therefore, it is preferable to use the pipe 10 whose inner peripheral surface is appropriately roughened. Further, the pipe is not limited to having a circular cross section, and may have a rectangular cross section.

【0026】パイプ10の半径は、以下のようにして決
定する。図3にパイプの半径の決定方法の説明図を示
す。同図(1)はパイプの軸直角断面図であり、同図
(2)は(1)におけるH部の拡大図である。まず、形
成すべき面取りの寸法を決定する。図3(2)におい
て、積層体8の長辺上における面取り部分の長さL0と
短辺上における面取り部分の長さS0との比率r(r=
L0/S0)が4.0以上になると、面取り部分の斜辺
と積層体8の短辺とのなす角度が90度に近くなって、
面取りを施す意味がなくなる。この点、比率rが1.0
の場合が理想的だが、そのような面取りを実現可能なパ
イプの半径は非常に小さくなる。その結果、パイプ内部
における積層体8の相対移動が困難になり、面取り加工
に時間がかかる。そこで、形成すべき面取りの寸法とし
て、比率rを1.0以上4.0以下に決定する。
The radius of the pipe 10 is determined as follows. FIG. 3 shows an explanatory diagram of a method of determining the radius of the pipe. FIG. 1A is a sectional view of the pipe at right angles to the axis, and FIG. 2B is an enlarged view of a portion H in FIG. First, the dimensions of the chamfer to be formed are determined. In FIG. 3 (2), the ratio r (r = r = the length L0 of the chamfered portion on the long side of the laminate 8 to the length S0 of the chamfered portion on the short side).
When L0 / S0) is 4.0 or more, the angle between the oblique side of the chamfered portion and the short side of the laminated body 8 becomes close to 90 degrees,
There is no point in chamfering. In this respect, the ratio r is 1.0
Is ideal, but the radius of the pipe that can realize such chamfering is very small. As a result, relative movement of the laminated body 8 inside the pipe becomes difficult, and chamfering takes time. Therefore, the ratio r is determined to be 1.0 or more and 4.0 or less as the dimension of the chamfer to be formed.

【0027】次に、その比率rによる面取りを実現可能
な、パイプの半径Rを決定する。図3(1)において、
パイプ10の内周面と積層体8との接点をQとする。ま
たパイプの中心Oと接点Qとを結ぶ線と、パイプの中心
Oを通る垂直線とのなす角度をθとする。すると一般
に、次式が成立する。
Next, the radius R of the pipe that allows chamfering with the ratio r is determined. In FIG. 3 (1),
The contact point between the inner peripheral surface of the pipe 10 and the laminated body 8 is Q. Further, an angle formed by a line connecting the center O of the pipe and the contact point Q and a vertical line passing through the center O of the pipe is defined as θ. Then, the following equation is generally established.

【数4】 ただし、Lはガラス板の長辺の長さ(mm)である。一
方、パイプ10の内部における積層体8に対する面取り
加工は、接点Qにおけるパイプの内周面に対する接線と
平行に行われる。そこで、形成すべき面取りの斜辺と上
記接線とが平行になるように、パイプ10の半径Rを求
める。ここで、図3(2)に示すように、形成すべき面
取りの斜辺と長辺とのなす角度は、上記の角度θと等し
くなる。従って、次式が成立する。
[Equation 4] However, L is the length (mm) of the long side of the glass plate. On the other hand, the chamfering process for the laminated body 8 inside the pipe 10 is performed in parallel with the tangent line to the inner peripheral surface of the pipe at the contact point Q. Therefore, the radius R of the pipe 10 is calculated so that the oblique side of the chamfer to be formed and the tangent line are parallel to each other. Here, as shown in FIG. 3B, the angle formed by the oblique side and the long side of the chamfer to be formed is equal to the above angle θ. Therefore, the following equation is established.

【数5】 以上により、パイプの半径Rを次式のように求めること
ができる。
[Equation 5] From the above, the radius R of the pipe can be obtained by the following equation.

【数6】 [Equation 6]

【0028】そして図2に示すように、パイプ10の内
部に積層体8を封入する。積層体8は、その積層方向が
パイプ10の軸方向と平行になるように封入する。な
お、1本のパイプ10に封入する積層体8の個数は、1
個のみに限られず複数個でもよい。また、パイプ10の
内部に積層体8の研磨材12を封入する。研磨材12と
して、SiC等の材料からなる直径20μm程度の砥粒
を使用する。積層体8および研磨材12を封入した後、
パイプ10の両端部に閉止部材14を取り付けて、パイ
プ10から積層体8および研磨材12が流出するのを防
止する。
Then, as shown in FIG. 2, the laminated body 8 is enclosed in the pipe 10. The laminated body 8 is enclosed so that the laminating direction is parallel to the axial direction of the pipe 10. The number of laminated bodies 8 enclosed in one pipe 10 is 1
The number is not limited to one, and a plurality may be used. Further, the abrasive 12 of the laminated body 8 is enclosed inside the pipe 10. As the polishing material 12, abrasive grains made of a material such as SiC and having a diameter of about 20 μm are used. After encapsulating the laminate 8 and the abrasive 12,
Closing members 14 are attached to both ends of the pipe 10 to prevent the laminated body 8 and the abrasive 12 from flowing out from the pipe 10.

【0029】一方、パイプ10の公転手段としてバレル
装置を形成する。図4に第1実施形態に係るバレル装置
の説明図を示す。図4(1)は(2)のE−E線におけ
る平面断面図であり、図4(2)は(1)の側面図であ
る。バレル装置20には、複数のパイプ10を格納する
タンク18を形成する。例えば1個のタンクに、直径方
向に束ねた30本程度のパイプ10を封入可能とする。
なお、図4では簡単のため2個のタンク18のみを記載
しているが、タンク18の個数はこれ以上でもよい。
On the other hand, a barrel device is formed as the revolving means of the pipe 10. FIG. 4 shows an explanatory view of the barrel device according to the first embodiment. FIG. 4 (1) is a plan sectional view taken along the line EE of (2), and FIG. 4 (2) is a side view of (1). The barrel device 20 is formed with a tank 18 for storing a plurality of pipes 10. For example, about 30 pipes 10 bundled in the diameter direction can be enclosed in one tank.
Although only two tanks 18 are shown in FIG. 4 for simplicity, the number of tanks 18 may be more than this.

【0030】タンク18は、相対する2個のフライホイ
ール22の間に配置する。各フライホイール22は、回
転軸23を中心として相互に同位相で回転するように形
成する。またフライホイール22は、その回転速度を変
更できるように形成する。さらに、各フライホイール2
2の相対する位置に、貫通穴24を穿設する。一方、タ
ンク18は、その中心軸がフライホイールの回転軸23
と斜交するように配置する。またタンク18の両端に
は、フライホイール22の回転軸23と平行に、アーム
19を接続する。そして、各フライホイール22の貫通
穴24内にアーム19を挿入して、タンク18を支持す
る。この状態でフライホイール22を回転させると、そ
の回転軸23の周りをタンク18が公転する。これに伴
って、タンク18内に格納するパイプ10も、フライホ
イール22の回転軸23の周りを公転する。
The tank 18 is arranged between two opposing flywheels 22. Each flywheel 22 is formed so as to rotate about the rotation axis 23 in the same phase as each other. Further, the flywheel 22 is formed so that its rotation speed can be changed. In addition, each flywheel 2
Through holes 24 are formed at two opposite positions. On the other hand, the center axis of the tank 18 is the rotary shaft 23 of the flywheel.
Place it so that it intersects with. Arms 19 are connected to both ends of the tank 18 in parallel with the rotary shaft 23 of the flywheel 22. Then, the arm 19 is inserted into the through hole 24 of each flywheel 22 to support the tank 18. When the flywheel 22 is rotated in this state, the tank 18 revolves around its rotation axis 23. Along with this, the pipe 10 stored in the tank 18 also revolves around the rotary shaft 23 of the flywheel 22.

【0031】また、フライホイール22の回転軸23と
タンク18のアーム19との間に、歯車機構30を設け
る。具体的には、フライホイール22の回転軸23と同
軸状に、第1歯車36を配置する。なお、第1歯車36
は回転しないように、その位置を絶対的に固定する。一
方、タンク18のアーム19には、第2歯車32を固定
する。なお、第2歯車32のピッチ円直径は、第1歯車
36のピッチ円直径と同一に形成する。そして、第1歯
車36の周りに、中間歯車34を介して、第2歯車32
を転動可能とする。これにより、タンク18がその上下
左右の方向を変えずに、フライホイールの回転軸23の
周りを公転可能となる。これに伴って、タンク18内に
格納するパイプ10も、その上下左右の方向を変えず
に、フライホイール22の回転軸23の周りを公転可能
となる。
A gear mechanism 30 is provided between the rotary shaft 23 of the flywheel 22 and the arm 19 of the tank 18. Specifically, the first gear 36 is arranged coaxially with the rotary shaft 23 of the flywheel 22. The first gear 36
Absolutely fixes its position so it does not rotate. On the other hand, the second gear 32 is fixed to the arm 19 of the tank 18. The pitch circle diameter of the second gear 32 is formed to be the same as the pitch circle diameter of the first gear 36. Then, around the first gear 36, via the intermediate gear 34, the second gear 32
Can be rolled. Accordingly, the tank 18 can revolve around the rotary shaft 23 of the flywheel without changing its vertical and horizontal directions. Along with this, the pipe 10 stored in the tank 18 can also revolve around the rotary shaft 23 of the flywheel 22 without changing its vertical and horizontal directions.

【0032】なお、図11にバレル装置の変形例の説明
図を示す。図11(1)は(2)のU−U線における平
面断面図であり、図11(2)は側面図である。このバ
レル装置220では、中心軸223が固定され、その中
心軸223の周りをフライホイール222が回転する。
なおフライホイール222を、ベルト227を介してモ
ータ226により回転させる。これにより、タンク21
8が中心軸223の周りを公転可能となる。
FIG. 11 shows an explanatory view of a modified example of the barrel device. FIG. 11 (1) is a plan sectional view taken along line U-U of (2), and FIG. 11 (2) is a side view. In this barrel device 220, the central axis 223 is fixed, and the flywheel 222 rotates around the central axis 223.
The flywheel 222 is rotated by a motor 226 via a belt 227. As a result, the tank 21
8 can revolve around the central axis 223.

【0033】一方、中心軸223と、タンク218のア
ーム219との間に、ベルト機構230を設ける。具体
的には、中心軸223に固定した第1プーリ236と、
タンク218のアーム219に固定した第2プーリ23
2との間に、ベルト234を掛け渡す。なお、第2プー
リ232の直径は、第1プーリ236の直径と同一に形
成する。これにより、タンク218がその上下左右の方
向を変えずに、中心軸223の周りを公転可能となる。
On the other hand, a belt mechanism 230 is provided between the central shaft 223 and the arm 219 of the tank 218. Specifically, a first pulley 236 fixed to the central shaft 223,
The second pulley 23 fixed to the arm 219 of the tank 218
A belt 234 is stretched between the two. The diameter of the second pulley 232 is the same as the diameter of the first pulley 236. This allows the tank 218 to revolve around the central axis 223 without changing its vertical and horizontal directions.

【0034】上記のように構成した本実施形態に係る矩
形状平板の面取り加工装置は、以下のようにして使用す
る。上述したように、積層体を研磨材とともにパイプの
内部に封入する。このようなパイプを複数個作成し、直
径方向に束ねてひとまとめにする。そして束ねたパイプ
を、バレル装置のタンク内に格納する。
The chamfering device for a rectangular flat plate according to this embodiment, which is configured as described above, is used as follows. As described above, the laminated body is sealed inside the pipe together with the abrasive. A plurality of such pipes are created and bundled in the diameter direction to be collected. Then, the bundled pipes are stored in the tank of the barrel device.

【0035】次に、バレル装置を運転する。具体的に
は、図4のバレル装置20において、各フライホイール
22を同位相で回転させる。その回転数は、例えば18
0rpmとする。フライホイール22が回転すると、そ
の貫通穴24からアーム19を介して、タンク18に回
転方向の力が作用する。これによりタンク18は、図5
(1)のA,B,CおよびDのように、フライホイール
22の回転軸を公転軸として公転する。同時に、タンク
18内に格納したパイプ10も、フライホイール22の
回転軸を公転軸として公転する。これに伴って、パイプ
10の内部に封入された積層体8には遠心力が作用す
る。一方、パイプ10は上下左右の方向を変えずに公転
するので、積層体8はパイプ10の内周面上において周
方向にすべり運動する。そして、積層体8はAないしD
の過程でパイプ10の内周面を一周する。
Next, the barrel device is operated. Specifically, in the barrel device 20 of FIG. 4, each flywheel 22 is rotated in the same phase. The rotation speed is, for example, 18
Set to 0 rpm. When the flywheel 22 rotates, a force in the rotation direction acts on the tank 18 through the through hole 24 and the arm 19. As a result, the tank 18 is
Like A, B, C and D in (1), the flywheel 22 revolves around the rotation axis. At the same time, the pipe 10 stored in the tank 18 also revolves around the revolution axis of the flywheel 22. Along with this, centrifugal force acts on the laminated body 8 enclosed in the pipe 10. On the other hand, since the pipe 10 revolves without changing the vertical and horizontal directions, the laminated body 8 slides on the inner peripheral surface of the pipe 10 in the circumferential direction. And the laminated body 8 is A to D
In the process of 1, the inner peripheral surface of the pipe 10 is rotated once.

【0036】図6に、パイプの軸方向に沿った積層体の
すべり運動の説明図を示す。なお図6(1)は、図4
(2)のE−E線に相当する部分における平面断面図で
あり、図6(2)は、図5(1)のA部におけるパイプ
10の側面断面図である。上述したように、タンク18
は、その中心軸がフライホイールの回転軸と斜交するよ
うに配置しているので、タンク18内に格納したパイプ
10は、公転軸G−Gと斜交するように配置される。し
たがって、パイプ10を公転させると、公転軸G−Gか
らパイプ10の一方端部10aまでの距離と、公転軸G
−Gからパイプ10の他方端部10bまでの距離との大
小関係が、繰り返し逆転する。なお、パイプ10の公転
に伴って、パイプ10内の積層体8には遠心力が作用す
るので、積層体8は、公転軸G−Gとの距離が小さい方
の端部から、距離が大きい方の端部に向かって移動す
る。すなわち積層体8は、パイプ10の内周面上におい
て軸方向にすべり運動する。具体的には、図6(1)に
示すように、タンク18をAからCまで公転させると、
積層体8は、矢印で示す端部10bから端部10aに向
かって移動する。また、タンク18をCからAまで公転
させると、積層体8は、矢印で示す端部10aから端部
10bに向かって移動する。その結果、図6(2)に示
すように、パイプ10の内周面と接触する積層体8の角
部WおよびXに対し、摩擦による面取り加工が施され
る。
FIG. 6 is an explanatory view of the sliding motion of the laminated body along the axial direction of the pipe. Note that FIG. 6 (1) corresponds to FIG.
FIG. 6B is a plan sectional view of a portion corresponding to the line EE in (2), and FIG. 6 (2) is a side sectional view of the pipe 10 in the A portion of FIG. 5 (1). As mentioned above, the tank 18
Is arranged so that its central axis crosses the rotation axis of the flywheel obliquely, so that the pipe 10 stored in the tank 18 is arranged so as to cross the revolution axis GG. Therefore, when the pipe 10 is revolved, the distance from the revolution axis GG to the one end 10a of the pipe 10 and the revolution axis G
The magnitude relationship between the distance from -G to the other end 10b of the pipe 10 is repeatedly reversed. In addition, since the centrifugal force acts on the laminated body 8 in the pipe 10 as the pipe 10 revolves, the laminated body 8 has a large distance from the end portion having a smaller distance from the revolution axis GG. Move towards one end. That is, the laminated body 8 slides on the inner peripheral surface of the pipe 10 in the axial direction. Specifically, as shown in FIG. 6A, when the tank 18 revolves from A to C,
The stacked body 8 moves from the end 10b indicated by the arrow toward the end 10a. When the tank 18 revolves from C to A, the laminated body 8 moves from the end portion 10a indicated by the arrow toward the end portion 10b. As a result, as shown in FIG. 6B, chamfering by friction is applied to the corners W and X of the laminated body 8 that are in contact with the inner peripheral surface of the pipe 10.

【0037】なお、反対側の角部YおよびZに対しても
面取り加工を施すため、タンク18ないしパイプ10の
公転速度を低下させる。図7に、パイプの公転速度を低
下させる場合の説明図を示す。なお図7は、図5(1)
のB部におけるパイプ10の側面断面図である。パイプ
10の公転速度を低下させると、積層体8に作用する遠
心力が低下する。すると図7に示すように、パイプ10
の上方に位置する積層体8が重力により下方に落下し
て、積層体8が反転する。以後、再びパイプ10の公転
速度を上昇させれば、角部YおよびZに面取り加工が施
される。なお、各タンク18内に配置した全てのパイプ
10における積層体8の各角部に対し、均等に面取り加
工が施されるように、複数回にわたって公転速度を低下
させるのが好ましい。
Since the corners Y and Z on the opposite side are also chamfered, the revolution speed of the tank 18 or the pipe 10 is reduced. FIG. 7 shows an explanatory view in the case of reducing the revolution speed of the pipe. Note that FIG. 7 corresponds to FIG.
It is a side surface sectional view of the pipe 10 in the B section. When the revolution speed of the pipe 10 is reduced, the centrifugal force acting on the laminated body 8 is reduced. Then, as shown in FIG.
The laminated body 8 located above is dropped by gravity and the laminated body 8 is inverted. After that, if the revolution speed of the pipe 10 is increased again, the corners Y and Z are chamfered. In addition, it is preferable that the revolving speed is reduced a plurality of times so that each corner of the laminated body 8 in all the pipes 10 arranged in each tank 18 is chamfered uniformly.

【0038】一方、本実施形態に係る面取り加工装置で
は、上述した歯車機構を設けているので、タンクがその
上下左右の方向を変えずに公転する。従って、図5
(1)のAないしDのようにフライホイール22が回転
しても、タンク18内に配置したパイプ10はその上下
左右の方向を変えない。もっとも、パイプ10の上下左
右方向が僅かずつ変化するように自転させるのが好まし
い。これにより、上述したパイプ10の軸方向に沿った
積層体8の移動が、毎回異なる位置で行われることにな
り、パイプ内周面に偏摩耗が発生することがなくなる。
従って、面取り加工の精度を向上させることができる。
On the other hand, in the chamfering apparatus according to this embodiment, since the above-mentioned gear mechanism is provided, the tank revolves without changing its vertical and horizontal directions. Therefore, FIG.
Even if the flywheel 22 rotates as in (1) A to D, the pipe 10 arranged in the tank 18 does not change its vertical and horizontal directions. However, it is preferable to rotate the pipe 10 so that the vertical and horizontal directions of the pipe 10 change slightly. As a result, the above-described movement of the laminated body 8 along the axial direction of the pipe 10 is performed at different positions each time, and uneven wear does not occur on the inner peripheral surface of the pipe.
Therefore, the accuracy of chamfering can be improved.

【0039】パイプ10はその上下左右方向を変えない
ので、図5(2)に示すように、パイプ10の内部に封
入された積層体8と、パイプ10の内周面との間にはす
べりが生じる。そして、パイプ10の内周面と積層体8
との接触点のうち、積層体8の進行方向50の前方側の
接触点に遠心力の多くが作用するため、この前方側の接
触点に対応する積層体の角部Xの面取り加工が、後方側
の接触点に対応する角部Wの面取り加工より速く進行す
る。なお上述したように、公転速度を低下させて積層体
8を反転させるので、角部Zの面取り加工も角部Yの面
取り加工より速く進行する。
Since the pipe 10 does not change its vertical and horizontal directions, as shown in FIG. 5 (2), a slip occurs between the laminated body 8 enclosed inside the pipe 10 and the inner peripheral surface of the pipe 10. Occurs. Then, the inner peripheral surface of the pipe 10 and the laminated body 8
Since most of the centrifugal force acts on the contact points on the front side in the traveling direction 50 of the laminated body 8 among the contact points with the, the chamfering of the corner X of the laminated body corresponding to the contact points on the front side is It progresses faster than chamfering of the corner W corresponding to the contact point on the rear side. As described above, since the revolution speed is decreased and the laminated body 8 is inverted, the chamfering process of the corner portion Z also proceeds faster than the chamfering process of the corner portion Y.

【0040】そこで、タンク18内に格納したパイプ1
0の軸方向両端部の位置を逆転させる。すると、パイプ
10の内周面上における積層体8の進行方向50が逆転
する。これにより、上記とは逆に、角部Wの面取り加工
が角部Xの面取り加工より速く進行する。また、公転速
度を低下させて積層体8を反転させれば、角部Yの面取
り加工も角部Zの面取り加工より速く進行する。従っ
て、全ての角部に対して均等に面取り加工が施されるこ
とになる。なお、パイプ10の軸方向を反転させる代わ
りに、バレル装置のフライホールの回転方向を逆転させ
れば、積層体8の進行方向50が逆転する。この場合に
も、上記と同様の結果が得られる。
Therefore, the pipe 1 stored in the tank 18
Reverse the positions of both axial ends of 0. Then, the traveling direction 50 of the laminated body 8 on the inner peripheral surface of the pipe 10 is reversed. Thereby, contrary to the above, chamfering of the corner W progresses faster than chamfering of the corner X. Further, if the revolution speed is reduced and the laminated body 8 is inverted, chamfering of the corner portion Y also proceeds faster than chamfering of the corner portion Z. Therefore, all the corners are chamfered uniformly. If the rotation direction of the flyhole of the barrel device is reversed instead of reversing the axial direction of the pipe 10, the traveling direction 50 of the laminated body 8 is reversed. In this case, the same result as above can be obtained.

【0041】上記のように構成した本実施形態に係る面
取り加工装置を、上記の方法に従って使用することによ
り、面取り加工のコスト低減が可能となる。この点、従
来の面取り加工方法では歩留まりが悪く、面取り加工に
多くのコストがかかっていた。
By using the chamfering apparatus according to this embodiment having the above-described structure according to the above method, the chamfering cost can be reduced. In this respect, the conventional chamfering method has a poor yield, and the chamfering method requires a lot of cost.

【0042】しかし、本実施形態に係る面取り加工方法
は、パッケージ蓋用のガラス板を積層した積層体と研磨
材とをパイプに封入し、パイプの内壁上で積層体をすべ
り運動させることにより、積層体の面取り加工を行う構
成とした。これにより、従来の面取り加工方法に比べて
歩留まりが向上するので、加工コストの低減が可能とな
る。
However, in the chamfering method according to this embodiment, the laminated body in which the glass plates for the package lid are laminated and the abrasive are enclosed in the pipe, and the laminated body is slid on the inner wall of the pipe, The chamfering process of the laminated body was performed. As a result, the yield is improved as compared with the conventional chamfering processing method, so that the processing cost can be reduced.

【0043】また、前記筒状体の半径は、The radius of the cylindrical body is

【数7】 を満足する半径Rまたはその近傍の半径に形成されてい
る構成とした。ただし、Lは前記矩形状平板の長辺の長
さ(mm)、rは前記矩形状平板の長辺上における面取
り部分の長さと短辺上における面取り部分の長さとの比
率である。これにより、所望の面取り加工を行うことが
できるので、加工精度の向上が可能となる。また、小径
のパイプによる面取り加工が可能となり、ガラス板の長
辺の中央部分が研磨材によって研磨されることがなくな
る。従って、加工精度の向上が可能となる。
[Equation 7] The radius R satisfying the above condition or a radius in the vicinity thereof is adopted. Here, L is the length (mm) of the long side of the rectangular flat plate, and r is the ratio of the length of the chamfered portion on the long side of the rectangular flat plate to the length of the chamfered portion on the short side. As a result, a desired chamfering process can be performed, so that the processing accuracy can be improved. Further, chamfering can be performed with a small-diameter pipe, and the central portion of the long side of the glass plate will not be polished by the abrasive. Therefore, the processing accuracy can be improved.

【0044】なお前記積層体の面取り加工は、前記矩形
状平板の長辺上における面取り部分の長さと短辺上にお
ける面取り部分の長さとの比率が1.0以上4.0以下
となるように行う構成とするのが好ましい。比率を1.
0以上とすることにより、パイプの半径が小さくなりす
ぎて加工速度が低下することがない。一方、比率を4.
0以下とすることにより、面取り部分が直角に近くなっ
て当該部分からクラックが発生することがない。
In the chamfering process of the laminate, the ratio of the length of the chamfered portion on the long side of the rectangular flat plate to the length of the chamfered portion on the short side is 1.0 or more and 4.0 or less. It is preferable that the configuration is performed. Set the ratio to 1.
By setting it to 0 or more, the radius of the pipe does not become too small and the processing speed does not decrease. On the other hand, the ratio is 4.
By setting it to be 0 or less, the chamfered portion is close to a right angle, and the crack does not occur from the portion.

【0045】また積層体のすべり運動は、パイプの公転
軸からパイプの一方端部までの距離とパイプの公転軸か
らパイプの他方端部までの距離との大小を繰り返し逆転
させつつパイプを公転させることにより、パイプの軸方
向に積層体を相対移動させる構成とした。パイプの周方
向のみならず、軸方向にも積層体を相対移動させること
により、面取り加工速度を向上させることができる。し
たがって、加工コストの低減が可能となる。
The sliding motion of the laminated body causes the pipe to revolve while repeatedly reversing the magnitude of the distance from the revolution axis of the pipe to one end of the pipe and the distance from the revolution axis of the pipe to the other end of the pipe. As a result, the laminated body is relatively moved in the axial direction of the pipe. The chamfering speed can be improved by moving the laminate not only in the circumferential direction of the pipe but also in the axial direction. Therefore, the processing cost can be reduced.

【0046】また積層体のすべり運動は、パイプの公転
軸からパイプの一方端部までの距離とパイプの公転軸か
らパイプの他方端部までの距離との大小を繰り返し逆転
させつつパイプを公転させるとともに、少なくとも1回
はパイプの公転方向を逆転させることにより、または少
なくとも1回はパイプの軸方向両端部の位置を逆転させ
ることにより、パイプの軸方向に積層体を相対移動させ
る構成とした。パイプの公転方向を逆転させることによ
り、またはパイプの軸方向両端部の位置を逆転させるこ
とにより、パイプの周方向における積層体の相対移動方
向が逆転する。したがって、積層体の各角部に対して均
等に面取り加工が行われ、加工精度の向上が可能とな
る。なお、逆転前後につき少なくとも1回ずつパイプの
公転速度を低下させて積層体を反転させれば、より均等
に面取り加工が行われて加工精度の向上が可能となる。
The sliding motion of the laminated body causes the pipe to revolve while repeatedly reversing the magnitude of the distance from the revolution axis of the pipe to one end of the pipe and the distance from the revolution axis of the pipe to the other end of the pipe. At the same time, the laminated body is relatively moved in the axial direction of the pipe by reversing the revolving direction of the pipe at least once or by reversing the positions of both ends in the axial direction of the pipe at least once. By reversing the revolving direction of the pipe or reversing the positions of both ends of the pipe in the axial direction, the relative movement direction of the laminate in the circumferential direction of the pipe is reversed. Therefore, chamfering is uniformly performed on each corner of the laminated body, and the processing accuracy can be improved. If the orbiting speed of the pipe is reduced at least once before and after the reverse rotation to invert the laminated body, chamfering is performed more uniformly, and the processing accuracy can be improved.

【0047】また、表面に保護部材を備えた積層体をパ
イプの内部に封入する構成とした。これにより、面取り
加工部分以外の部分が研磨材から保護されるので、加工
精度の向上が可能となる。また、面取り加工中に積層体
が矩形状平板の個片に分解するのを防止することができ
る。またパイプは、シームレスパイプである構成とし
た。これにより、パイプの内周面上を相対移動中の積層
体がシーム部分から衝撃力を受けることがなくなり、加
工精度の向上が可能となる。
Further, the laminate having the protective member on the surface is enclosed in the pipe. As a result, the portions other than the chamfered portion are protected from the abrasive, so that the processing accuracy can be improved. Further, it is possible to prevent the laminated body from being decomposed into individual pieces of a rectangular flat plate during the chamfering process. The pipe is a seamless pipe. As a result, the laminated body, which is relatively moving on the inner peripheral surface of the pipe, does not receive an impact force from the seam portion, and the processing accuracy can be improved.

【0048】以上のように、本実施形態に係る矩形状平
板の面取り加工装置およびその方法を用いることによ
り、セラミックパッケージ圧電振動子の蓋部材となるガ
ラス板に対して、低コストで精度のよい面取り加工を施
すことができる。これにより、ガラス粉がパッケージ内
部に混入して圧電振動片に付着することがなく、安定し
た共振周波数を得ることができる。また、面取り部分か
らクラックが発生することがなく、パッケージ内部を真
空に保持することができる。従って、セラミックパッケ
ージ圧電振動子の蓋部材としてガラス板を使用すること
ができる。
As described above, by using the chamfering apparatus and method for a rectangular flat plate according to this embodiment, a glass plate serving as a lid member of a ceramic package piezoelectric vibrator can be manufactured at low cost and with high accuracy. It can be chamfered. As a result, a stable resonance frequency can be obtained without the glass powder entering the package and adhering to the piezoelectric vibrating piece. In addition, the inside of the package can be maintained in a vacuum without cracking from the chamfered portion. Therefore, the glass plate can be used as the lid member of the ceramic package piezoelectric vibrator.

【0049】なお、圧電振動子には共振周波数の調整が
不可欠であり、かかる調整は圧電振動片にレーザ光を照
射して質量を減少させることにより行う。また、調整後
の共振周波数の変化を回避するため、共振周波数の調整
は圧電振動子として完成した後に行うのが好ましい。一
方、ガラス板はレーザ光を透過する性質を有する。そこ
で、セラミックパッケージ圧電振動子の蓋部材としてガ
ラス板を使用することにより、圧電振動子として完成し
た後に、ガラス板越しにレーザを照射して共振周波数の
調整を行うことができる。
It is essential to adjust the resonance frequency of the piezoelectric vibrator. Such adjustment is performed by irradiating the piezoelectric vibrating piece with laser light to reduce the mass. Further, in order to avoid a change in the resonance frequency after the adjustment, it is preferable to adjust the resonance frequency after the piezoelectric vibrator is completed. On the other hand, the glass plate has a property of transmitting laser light. Therefore, by using a glass plate as the lid member of the ceramic package piezoelectric vibrator, it is possible to adjust the resonance frequency by irradiating a laser through the glass plate after the piezoelectric vibrator is completed.

【0050】次に、第2実施形態について説明する。図
12(1)に示すように、積層体の長辺上における面取
り部分の長さL1と、短辺上における面取り部分の長さ
S1との比率r(r=L1/S1)が大きい場合には、
面取り部分の斜辺と積層体の短辺との角部Kにおける角
度が90度に近くなる。その結果、角部Kに応力集中が
発生し、圧電振動子の蓋部材が破損して、パッケージの
気密性が保持できなくなるという問題がある。一方、比
率rが小さい場合には、図3に示す角度θが大きくなる
ので、内径の小さいパイプ10を使用して面取り加工を
行うことになる。ところが、内径の小さいパイプ10を
使用すると、パイプ10の周方向における積層体8のす
べり量が少なくなる。これにより、積層体8の面取り加
工時間が長くなるという問題がある。
Next, the second embodiment will be described. As shown in FIG. 12A, when the ratio r (r = L1 / S1) between the length L1 of the chamfered portion on the long side of the laminate and the length S1 of the chamfered portion on the short side is large. Is
The angle at the corner K between the oblique side of the chamfered portion and the short side of the laminate is close to 90 degrees. As a result, stress concentration occurs at the corners K, the lid member of the piezoelectric vibrator is damaged, and the airtightness of the package cannot be maintained. On the other hand, when the ratio r is small, the angle θ shown in FIG. 3 is large, so that the chamfering process is performed using the pipe 10 having a small inner diameter. However, when the pipe 10 having a small inner diameter is used, the amount of slip of the laminated body 8 in the circumferential direction of the pipe 10 decreases. This causes a problem that the chamfering processing time of the laminated body 8 becomes long.

【0051】そこで、第2実施形態に係る面取り加工方
法では、積層体の長辺と短辺とのなす角部に第1の面取
り加工を行い、矩形状平板の長辺上における面取り部分
の長さを確保する。そして、この面取り部分の長さを確
保した後に、積層体の面取り部分の斜辺と積層体の短辺
とのなす角部に第2の面取り加工を行い、矩形状平板の
短辺上における面取り部分の長さを確保する。
Therefore, in the chamfering method according to the second embodiment, the first chamfering process is performed on the corner formed by the long side and the short side of the laminated body, and the length of the chamfered portion on the long side of the rectangular flat plate is increased. Secure. Then, after securing the length of the chamfered portion, a second chamfering process is performed on a corner formed by the oblique side of the chamfered portion of the laminated body and the short side of the laminated body, and the chamfered portion on the short side of the rectangular flat plate. Secure the length of.

【0052】すなわち、まず図12(1)に示すよう
に、矩形状平板の長辺上における面取り部分の長さL1
を最終目標値Lfに一致させるべく、積層体の長辺と短
辺とのなす角部Jに、第1の面取り加工を行う。この第
1の面取り加工工程では、矩形状平板の短辺上における
面取り部分の長さS1を、最終目標値Sfより小さく設
定する。すると、比率r1(r1=L1/S1)が最終
目標値rf(rf=Lf/Sf)より大きくなり、図3
に示す角度θが小さくなるので、内径の大きいパイプ1
0を使用することができる。したがって、面取り加工時
間を短縮することができる。次に、図12(2)に示す
ように、矩形状平板の短辺上における面取り部分の長さ
を最終目標値Sfに一致させるべく、積層体の面取り部
分の斜辺と積層体の短辺とのなす角部Kに、第2の面取
り加工を行う。この第2の面取り加工工程における比率
r2(r2=L2/S2)は、第1の面取り加工工程に
おけるr1より小さく設定する。すなわち、第2の面取
り加工工程では、第1の面取り加工工程より内径の小さ
いパイプを使用する。もっとも、第2の面取り加工工程
における加工量は、第1の面取り加工工程における加工
量より少ないので、面取り加工時間を著しく伸長するこ
とはない。
That is, first, as shown in FIG. 12A, the length L1 of the chamfered portion on the long side of the rectangular flat plate.
The first chamfering process is performed on the corner portion J formed by the long side and the short side of the laminated body so as to match the final target value Lf. In this first chamfering process step, the length S1 of the chamfered portion on the short side of the rectangular flat plate is set smaller than the final target value Sf. Then, the ratio r1 (r1 = L1 / S1) becomes larger than the final target value rf (rf = Lf / Sf).
Since the angle θ shown in is small, the pipe 1 with a large inner diameter
0 can be used. Therefore, the chamfering processing time can be shortened. Next, as shown in FIG. 12 (2), in order to match the length of the chamfered portion on the short side of the rectangular flat plate with the final target value Sf, the oblique side of the chamfered portion of the laminated body and the short side of the laminated body are arranged. The second chamfering process is performed on the corner portion K formed by. The ratio r2 (r2 = L2 / S2) in the second chamfering process is set smaller than r1 in the first chamfering process. That is, in the second chamfering process, a pipe having an inner diameter smaller than that of the first chamfering process is used. However, since the processing amount in the second chamfering process step is smaller than the processing amount in the first chamfering process step, the chamfering process time is not significantly extended.

【0053】以上の結果、図12(2)に示すように、
積層体の長辺と第1の面取り加工によって形成された斜
辺との角部M、第1の面取り加工によって形成された斜
辺と第2の面取り加工によって形成された斜辺との角部
N、および第2の面取り加工によって形成された斜辺と
積層体の短辺との角部Pにおける角度は、いずれも90
度を大きく越えて180度に近くなる。すなわち、積層
体の長辺と短辺との角部Jに、R加工を施した状態に接
近する。これにより、各角部に応力集中が発生すること
がなくなる。したがって、圧電振動子の蓋部材の破損を
防止することが可能となり、パッケージの気密性を保持
することができる。
As a result of the above, as shown in FIG.
A corner portion M between the long side of the laminate and the oblique side formed by the first chamfering process, a corner part N between the oblique side formed by the first chamfering process and the oblique side formed by the second chamfering process, and The angle at the corner P between the hypotenuse formed by the second chamfering process and the short side of the laminate is 90 in each case.
It greatly exceeds the degree and approaches 180 degrees. That is, the corner portion J between the long side and the short side of the laminated body approaches the state where R processing is performed. This prevents stress concentration at each corner. Therefore, the lid member of the piezoelectric vibrator can be prevented from being damaged, and the airtightness of the package can be maintained.

【0054】なお、第2の面取り加工時間を延長して、
図12(3)に示すように、rf(=Lf/Sf′)=
r2の斜辺を形成してもよい。本実施形態では第1の面
取り加工に大径のパイプを使用しているので、最初から
小径のパイプを使用する場合に比べて、面取り加工時間
を短縮することができる。
In addition, the second chamfering processing time is extended to
As shown in FIG. 12 (3), rf (= Lf / Sf ') =
The hypotenuse of r2 may be formed. In the present embodiment, since the large diameter pipe is used for the first chamfering process, the chamfering process time can be shortened compared to the case where the small diameter pipe is used from the beginning.

【0055】ところで、上述した第2の面取り加工で
は、第1の面取り加工を終えた積層体を、大径のパイプ
から小径のパイプに移し替える必要がある。ところが、
第1の面取り加工で使用した大径のパイプに、研磨材を
追加投入することにより、第2の面取り加工に使用する
ことができる。
By the way, in the above-mentioned second chamfering process, it is necessary to transfer the laminated body after the first chamfering process from the large diameter pipe to the small diameter pipe. However,
By adding an abrasive to the large diameter pipe used in the first chamfering process, the pipe can be used in the second chamfering process.

【0056】上述した本発明に係る面取り加工方法で
は、パイプ10の内面形状を積層体8に転写する形で、
積層体の面取り加工が行われる。ここで研磨材を増量す
ると、パイプ内面と積層体との間に研磨材が多く入り込
むため、パイプ内面の転写効果が弱くなると考えられ
る。その結果、研磨材を増量することにより、パイプ径
を小さくした場合と同様の効果が得られるのである。図
13(1)は、研磨材の容積率を変えて面取り加工を行
い、図12(2)のL2寸法を測定した結果をグラフに
表わしたものである。ここで、研磨材の容積率とは、パ
イプ内部の全容積に対して、第2の面取り加工で使用し
た研磨材の容積の占める比率をいう。なお、バレル装置
の公転速度は180RPMであり、面取り加工時間は2
時間である。同図によれば、研磨材容積率が10%から
30%の場合には、L2寸法は0であるが、研磨材容積
率が40%の場合には、L2寸法が0.02mmとなっ
ている。この結果は、研磨材容積率が小さい場合には、
第2の面取り加工は行われず、第1の面取り加工が継続
するのみであるが、研磨材容積率を大きくすると、第2
の面取り加工が行われることを示している。
In the chamfering method according to the present invention described above, the shape of the inner surface of the pipe 10 is transferred to the laminated body 8,
Chamfering of the laminated body is performed. If the amount of the abrasive is increased here, it is considered that the transfer effect on the inner surface of the pipe is weakened because a large amount of the abrasive enters between the inner surface of the pipe and the laminated body. As a result, by increasing the amount of abrasive, the same effect as when the pipe diameter is reduced can be obtained. FIG. 13 (1) is a graph showing the results of measuring the L2 dimension of FIG. 12 (2) by chamfering while changing the volume ratio of the abrasive. Here, the volume ratio of the abrasive means the ratio of the volume of the abrasive used in the second chamfering process to the total volume inside the pipe. The revolution speed of the barrel device is 180 RPM and the chamfering time is 2
It's time. According to the figure, when the volume ratio of the abrasive is 10% to 30%, the L2 dimension is 0, but when the volume ratio of the abrasive is 40%, the L2 dimension is 0.02 mm. There is. This result shows that when the volume ratio of the abrasive is small,
The second chamfering process is not performed, and only the first chamfering process is continued, but when the abrasive volume ratio is increased, the second chamfering process is performed.
Indicates that chamfering is performed.

【0057】一方、図13(2)は、バレル装置の公転
速度を変えて面取り加工を行い、図12(2)のL2寸
法を測定した結果をグラフに表わしたものである。な
お、研磨材容積率は20%であり、面取り加工時間は2
時間である。同図によれば、公転速度が180RPMの
場合には、L2寸法は0であるが、公転速度が100R
PMの場合には、L2寸法が0.03mmとなってい
る。この得られた結果から、公転速度が速い場合には、
積層体とパイプ内面との間に研磨材が入り込みにくく、
パイプ内面の転写効果により第1の面取り加工が継続す
るのみであることが判る。一方、公転速度を遅くする
と、積層体とパイプ内面との間に研磨材が入り込みやす
くなり、第2の面取り加工が行われることが判る。
On the other hand, FIG. 13 (2) is a graph showing the result of measuring the L2 dimension of FIG. 12 (2) by carrying out chamfering while changing the revolution speed of the barrel device. The volume ratio of the abrasive is 20%, and the chamfering time is 2
It's time. According to the figure, when the revolution speed is 180 RPM, the L2 dimension is 0, but the revolution speed is 100R.
In the case of PM, the L2 dimension is 0.03 mm. From the obtained results, when the revolution speed is fast,
Abrasive does not easily enter between the laminate and the inner surface of the pipe,
It can be seen that the first chamfering process only continues due to the transfer effect on the inner surface of the pipe. On the other hand, when the revolving speed is slowed, it is found that the abrasive easily enters between the laminate and the inner surface of the pipe, and the second chamfering process is performed.

【0058】また、図13(3)は、加工時間を変えて
面取り加工を行い、図12(2)のL2寸法を測定した
結果をグラフに表わしたものである。なお、研磨材容積
率は20%であり、バレル装置の公転速度は180RP
Mである。同図によれば、面取り加工時間が2時間の場
合には、L2寸法が0.03mmであり、面取り加工時
間が4時間の場合には、L2寸法が0.1mmとなって
いる。これは、面取り加工時間と面取り加工量とが比例
関係にあることを示している。
FIG. 13C is a graph showing the results of measuring the L2 dimension of FIG. 12B by carrying out chamfering while changing the processing time. The volume ratio of the abrasive is 20% and the revolution speed of the barrel device is 180 RP.
It is M. According to the figure, when the chamfering processing time is 2 hours, the L2 dimension is 0.03 mm, and when the chamfering processing time is 4 hours, the L2 dimension is 0.1 mm. This indicates that the chamfering processing time and the chamfering processing amount are in a proportional relationship.

【0059】以上の実験結果から、第2の面取り加工
は、研磨材容積率を20%程度、バレル装置の公転速度
を100RPM程度、および加工時間を4時間程度とし
て行うのが最適と考えられる。まず、研磨材容積率につ
いては、その値が大きいほど第2の面取り加工は行われ
やすい一方、研磨材の使用効率が低下することを考慮す
る必要がある。そこで、研磨材容積率は、第1の面取り
加工が5%程度であるのに対し、20%程度まで増加さ
せる。また、バレル装置の公転速度については、その公
転速度が遅いほど第2の面取り加工は行われやすい一
方、加工が長時間になることを考慮する必要がある。そ
こで、バレル装置の公転速度は、第1の面取り加工が1
80RPM程度であるのに対し、100RPM程度まで
低下させる。一方、面取り加工時間は、図12(2)の
L2寸法またはS2寸法が目標値となるように、適宜設
定すればよい。
From the above experimental results, it is considered that the second chamfering work is optimally carried out at a polishing material volume ratio of about 20%, a revolution speed of the barrel device of about 100 RPM, and a working time of about 4 hours. First, regarding the volume ratio of the abrasive, it is necessary to consider that the larger the value, the easier the second chamfering process is, but the use efficiency of the abrasive decreases. Therefore, the volume ratio of the abrasive is increased to about 20%, while the first chamfering processing is about 5%. Regarding the revolution speed of the barrel device, it is necessary to consider that the slower the revolution speed is, the easier the second chamfering process is, but the longer the machining is. Therefore, the revolution speed of the barrel device is 1 for the first chamfering process.
Although it is about 80 RPM, it is reduced to about 100 RPM. On the other hand, the chamfering processing time may be appropriately set so that the L2 dimension or the S2 dimension of FIG. 12 (2) becomes the target value.

【0060】ところで、粒径の小さい研磨材を使用して
第1および第2の面取り加工を行うと、図12(2)に
示す角部M、NおよびPの先端は鋭利に形成される。こ
の場合、各角部の先端に応力集中が発生して、圧電振動
子の蓋部材が破損し、その気密性が破られるおそれがあ
る。そこで、粒径の大きい研磨材を使用して、第1およ
び第2の面取り加工を行う。具体的には、粒径20μm
以上の研磨材を使用する。図14は、粒径の大きい研磨
材を使用して面取り加工を行った場合の、各角部の拡大
図である。同図に示すように、各角部M,NおよびPの
先端には、粒径の大きい研磨材の衝撃(ぶつかり)作用
により、面だれ(加工荒れ)が生じる。この加工荒れ
は、微細なR加工を連続して施した状態に類似する。こ
れにより、各角部に応力集中が発生することなく、圧電
振動子の蓋部材の破損を防止することが可能となり、そ
の気密性を保持することができる。
By the way, when the first and second chamfering processes are performed using the abrasive having a small particle diameter, the tips of the corners M, N and P shown in FIG. 12B are sharply formed. In this case, stress concentration may occur at the tip of each corner, and the lid member of the piezoelectric vibrator may be damaged and its airtightness may be broken. Therefore, the first and second chamfering processes are performed using an abrasive having a large particle size. Specifically, the particle size is 20 μm
The above abrasive is used. FIG. 14 is an enlarged view of each corner when chamfering is performed using an abrasive having a large particle size. As shown in the figure, the tip of each of the corners M, N, and P has a surface sag (working roughness) due to the impact of the abrasive having a large grain size. This processing roughness is similar to a state where fine R processing is continuously performed. This makes it possible to prevent damage to the lid member of the piezoelectric vibrator without causing stress concentration at each corner, and to maintain its airtightness.

【0061】[0061]

【発明の効果】パッケージ蓋用の矩形状平板を積層した
積層体と研磨材とを筒状体に封入し、前記筒状体の内壁
上で前記積層体をすべり運動させることにより、前記積
層体の面取り加工を行う構成としたので、加工コストの
低減が可能となる。
[Effect of the Invention] The laminated body in which the rectangular flat plates for the package lid are laminated and the abrasive are enclosed in the cylindrical body, and the laminated body is slid on the inner wall of the cylindrical body, whereby the laminated body is formed. Since the chamfering process is performed, the processing cost can be reduced.

【0062】また、前記筒状体の半径は、The radius of the cylindrical body is

【数8】 を満足する半径Rまたはその近傍の半径に形成されてい
る構成とした。ただし、Lは前記矩形状平板の長辺の長
さ(mm)、rは前記矩形状平板の長辺上における面取
り部分の長さと短辺上における面取り部分の長さとの比
率である。これにより、加工精度の向上が可能となる。
[Equation 8] The radius R satisfying the above condition or a radius in the vicinity thereof is adopted. Here, L is the length (mm) of the long side of the rectangular flat plate, and r is the ratio of the length of the chamfered portion on the long side of the rectangular flat plate to the length of the chamfered portion on the short side. This makes it possible to improve the processing accuracy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 積層体の形成方法の説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram of a method for forming a laminated body.

【図2】 第1実施形態に係るパイプの説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of a pipe according to the first embodiment.

【図3】 パイプの半径の決定方法の説明図であり、
(1)はパイプの軸直角断面図であり、(2)はH部の
拡大図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram of a method of determining a radius of a pipe,
(1) is a sectional view perpendicular to the axis of the pipe, and (2) is an enlarged view of the H portion.

【図4】 第1実施形態に係るバレル装置の説明図であ
り、(1)は(2)のE−E線における平面断面図であ
り、(2)は(1)の側面図である。
FIG. 4 is an explanatory view of the barrel device according to the first embodiment, (1) is a plan sectional view taken along line EE of (2), and (2) is a side view of (1).

【図5】 図4のF−F線における側面断面図であり、
(1)は積層体の周方向運動の説明図であり、(2)は
積層体に施される面取り加工の説明図である。
5 is a side sectional view taken along the line FF of FIG.
(1) is an explanatory view of the circumferential movement of the laminated body, and (2) is an explanatory view of the chamfering process performed on the laminated body.

【図6】 (1)は図4のE−E線における平面断面図
であって、積層体の軸方向運動の説明図であり、(2)
は図5(1)のA部における拡大図であって、積層体に
施される面取り加工の説明図である。
6 (1) is a plan sectional view taken along line EE of FIG. 4, and is an explanatory view of the axial movement of the laminated body;
FIG. 6A is an enlarged view of a portion A of FIG. 5A, and is an explanatory view of chamfering processing performed on the laminated body.

【図7】 積層体が反転した状態の説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram of a state where the stacked body is inverted.

【図8】 セラミックパッケージの圧電振動子の説明図
であり、(1)はT−T線における側面断面図であり、
(2)は平面図である。
FIG. 8 is an explanatory view of a piezoelectric vibrator of a ceramic package, (1) is a side sectional view taken along line TT,
(2) is a plan view.

【図9】 従来の面取り加工装置の説明図である。FIG. 9 is an explanatory diagram of a conventional chamfering apparatus.

【図10】 従来の面取り加工方法の説明図である。FIG. 10 is an explanatory diagram of a conventional chamfering method.

【図11】 バレル装置の変形例の説明図であり、
(1)は(2)のU−U線における平面断面図であり、
(2)は(1)の側面図である。
FIG. 11 is an explanatory view of a modified example of the barrel device,
(1) is a plan sectional view taken along line U-U of (2),
(2) is a side view of (1).

【図12】 第2実施形態に係る面取り加工方法の説明
図である。
FIG. 12 is an explanatory diagram of a chamfering method according to the second embodiment.

【図13】 条件を変えて面取り加工を行い、図12
(2)のL2寸法を測定した結果を表わしたグラフであ
る。
FIG. 13 shows chamfering processing under different conditions.
It is a graph showing the result of measuring the L2 dimension of (2).

【図14】 粒径の大きい研磨材を使用して面取り加工
を行った場合の、各角部の拡大図である。
FIG. 14 is an enlarged view of each corner when chamfering is performed using an abrasive having a large particle size.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1………ガラス基板、2………ダミーガラス、3………
切断線、4………中間体、6………ダミーガラス、7…
……切断線、8………積層体、10………パイプ、10
a,10b………端部、12………研磨材、14………
閉止部材、18………タンク、19………アーム、20
………バレル装置、22………フライホイール、23…
……回転軸、24………貫通穴、30………歯車機構、
32………第2歯車、34………中間歯車、36………
第1歯車、50………進行方向、100………セラミッ
クパッケージ圧電振動子、101………パッケージ、1
01a………キャスタレーション、102………圧電振
動片、104………蓋部材、105………面取り、10
6………部材、110………ガラス基板、112………
捨て切りガラス、114………ダイヤホイールソー、1
16,118………切断線、218………タンク、21
9………アーム、220………バレル装置、222……
…フライホイール、223………中心軸、226………
モータ、227………ベルト、230………ベルト機
構、232………第2プーリ、234………ベルト、2
36………第1プーリ。
1 ………… Glass substrate, 2 ………… Dummy glass, 3 …………
Cutting line, 4 ......... Intermediate, 6 ......... Dummy glass, 7 ...
...... Cutting line, 8 ......... Laminate, 10 ......... Pipe, 10
a, 10b ......... End, 12 ......... Abrasive material, 14 ...
Closing member, 18 ..., Tank, 19 ..., Arm, 20
……… Barrel device, 22 ……… Flywheel, 23…
...... Rotary shaft, 24 ......... Through hole, 30 ......... Gear mechanism,
32 ... 2nd gear, 34 ......... intermediate gear, 36 ...
1st gear, 50 ......... Progression direction, 100 ......... Ceramic package piezoelectric vibrator, 101 ...
01a ......... Castellation, 102 ..... Piezoelectric vibrating piece, 104 ..... lid member, 105 .... Chamfering, 10
6 ... Member, 110 ... Glass substrate, 112 ...
Discarded glass, 114 ………… Diamond wheel saw, 1
16,118 ……… Cutting line, 218 ……… Tank, 21
9 ... Arm, 220 ... Barrel device, 222 ...
… Flywheel, 223 ………… Center axis, 226 …………
Motor, 227 ... Belt, 230 Belt mechanism, 232 Second pulley, 234 Belt, 2
36 ......... First pulley.

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 パッケージ蓋用の矩形状平板を積層した
積層体と研磨材とを筒状体に封入し、前記筒状体の内壁
上で前記積層体をすべり運動させることにより、前記積
層体の面取り加工を行うことを特徴とする矩形状平板の
面取り加工方法。
1. A laminated body in which a rectangular plate for a package lid is laminated and an abrasive are enclosed in a cylindrical body, and the laminated body is slid on an inner wall of the cylindrical body, whereby the laminated body. A chamfering method for a rectangular flat plate, characterized in that the chamfering is performed.
【請求項2】 前記筒状体の半径は、 【数1】 を満足する半径Rまたはその近傍の半径に形成されてい
ることを特徴とする請求項1に記載の矩形状平板の面取
り加工方法。ただし、Lは前記矩形状平板の長辺の長さ
(mm)、rは前記矩形状平板の長辺上における面取り
部分の長さと短辺上における面取り部分の長さとの比率
である。
2. The radius of the cylindrical body is The method of chamfering a rectangular flat plate according to claim 1, wherein the chamfering method is formed to have a radius R that satisfies the above or a radius in the vicinity thereof. Here, L is the length (mm) of the long side of the rectangular flat plate, and r is the ratio of the length of the chamfered portion on the long side of the rectangular flat plate to the length of the chamfered portion on the short side.
【請求項3】 前記積層体の面取り加工は、前記矩形状
平板の長辺上における面取り部分の長さと短辺上におけ
る面取り部分の長さとの比率が1.0以上4.0以下と
なるように行うことを特徴とする請求項1または2に記
載の矩形状平板の面取り加工方法。
3. The chamfering process of the laminate is such that the ratio of the length of the chamfered portion on the long side of the rectangular flat plate to the length of the chamfered portion on the short side is 1.0 or more and 4.0 or less. The method for chamfering a rectangular flat plate according to claim 1 or 2, characterized in that
【請求項4】 前記積層体のすべり運動は、前記筒状体
の公転軸から前記筒状体の一方端部までの距離と前記筒
状体の公転軸から前記筒状体の他方端部までの距離との
大小を繰り返し逆転させつつ前記筒状体を公転させるこ
とにより、前記筒状体の軸方向に前記積層体を相対移動
させることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに
記載の矩形状平板の面取り加工方法。
4. The sliding motion of the laminated body includes a distance from the revolution axis of the tubular body to one end of the tubular body and a revolution axis of the tubular body to the other end of the tubular body. 4. The laminated body is relatively moved in the axial direction of the tubular body by revolving the tubular body while reversing the magnitude of the tubular body repeatedly. Chamfering method for rectangular flat plate.
【請求項5】 前記積層体のすべり運動は、前記筒状体
の公転軸から前記筒状体の一方端部までの距離と前記筒
状体の公転軸から前記筒状体の他方端部までの距離との
大小を繰り返し逆転させつつ前記筒状体を公転させると
ともに、少なくとも1回は前記筒状体の公転方向を逆転
させることにより、前記筒状体の軸方向に前記積層体を
相対移動させることを特徴とする請求項1ないし3のい
ずれかに記載の矩形状平板の面取り加工方法。
5. The sliding motion of the laminated body includes a distance from the revolution axis of the tubular body to one end of the tubular body and a revolution axis of the tubular body to the other end of the tubular body. The cylindrical body is revolved while repeatedly reversing the magnitude of the distance and the revolving direction of the cylindrical body is reversed at least once to relatively move the laminated body in the axial direction of the cylindrical body. The method for chamfering a rectangular flat plate according to any one of claims 1 to 3, wherein
【請求項6】 前記矩形状平板は、ガラス部材であるこ
とを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載の矩
形状平板の面取り加工方法。
6. The method for chamfering a rectangular flat plate according to claim 1, wherein the rectangular flat plate is a glass member.
【請求項7】 前記矩形状平板は、水晶部材であること
を特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載の矩形
状平板の面取り加工方法。
7. The chamfering method for a rectangular flat plate according to claim 1, wherein the rectangular flat plate is a crystal member.
【請求項8】 前記矩形状平板は、セラミック部材であ
ることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載
の矩形状平板の面取り加工方法。
8. The chamfering method for a rectangular flat plate according to claim 1, wherein the rectangular flat plate is a ceramic member.
【請求項9】 表面に保護部材を備えた前記積層体を、
前記筒状体の内部に封入することを特徴とする請求項1
ない8のいずれかに記載の矩形状平板の面取り加工方
法。
9. The laminated body having a protective member on the surface thereof,
It is enclosed in the inside of the cylindrical body.
9. The method for chamfering a rectangular flat plate according to any one of 8).
【請求項10】 厚さ方向に積層した矩形状平板を研磨
材とともに内部に封入するシームレス筒状体と、前記筒
状体の公転軸から前記筒状体の一方端部までの距離と前
記筒状体の公転軸から前記筒状体の他方端部までの距離
との大小を繰り返し逆転させつつ前記筒状体を公転させ
るとともにその公転速度を変更可能に形成された筒状体
公転手段とを有することを特徴とする矩形状平板の面取
り加工装置。
10. A seamless tubular body in which rectangular flat plates laminated in the thickness direction are enclosed together with an abrasive, a distance from the revolution axis of the tubular body to one end of the tubular body, and the tubular body. A tubular body revolving means formed so that the tubular body revolves while reversing the magnitude of the distance from the revolution axis of the tubular body to the other end of the tubular body and the revolution speed of the tubular body can be changed. A chamfering device for a rectangular flat plate having.
【請求項11】 前記筒状体公転手段は、前記筒状体の
公転方向を逆転可能に形成されていることを特徴とする
請求項10に記載の矩形状平板の面取り加工装置。
11. The chamfering apparatus for a rectangular flat plate according to claim 10, wherein the cylindrical body revolving means is formed so as to be able to reverse the revolution direction of the cylindrical body.
【請求項12】 前記筒状体の半径は、 【数2】 を満足する半径Rまたはその近傍の半径に形成されてい
ることを特徴とする請求項10または11に記載の矩形
状平板の面取り加工装置。ただし、Lは前記矩形状平板
の長辺の長さ(mm)、rは前記矩形状平板の長辺上に
おける面取り部分の長さと短辺上における面取り部分の
長さとの比率である。
12. The radius of the cylindrical body is given by: 12. The chamfering device for a rectangular flat plate according to claim 10, wherein the chamfering device is formed to have a radius R satisfying the above condition or a radius in the vicinity thereof. Here, L is the length (mm) of the long side of the rectangular flat plate, and r is the ratio of the length of the chamfered portion on the long side of the rectangular flat plate to the length of the chamfered portion on the short side.
【請求項13】 請求項9に記載の矩形状平板の面取り
加工方法において、表面に保護部材を備えた前記積層体
は、 基板を積層・固着し、その上下面に前記保護部材を固着
した後に、前記矩形状平板の長辺の幅に切断し、 切断された中間体を積層・固着して横転させ、その上下
面に保護部材を固着した後に、矩形状平板の短辺の幅に
切断して、 形成することを特徴とする、矩形状平板の面取り加工方
法。
13. The method for chamfering a rectangular flat plate according to claim 9, wherein the laminated body having a protective member on the surface is formed by laminating and fixing substrates, and fixing the protective members on the upper and lower surfaces thereof. , Cut into the width of the long side of the rectangular flat plate, stack and fix the cut intermediates, roll them over, and fix the protective members to the upper and lower surfaces thereof, and then cut into the width of the short side of the rectangular flat plate. And a chamfering method for a rectangular flat plate.
【請求項14】 前記積層体の長辺と前記積層体の短辺
とのなす角部に第1の面取り加工を行い、前記矩形状平
板の長辺上における面取り部分の長さを確保する工程
と、 前記積層体の前記面取り部分の斜辺と前記積層体の短辺
とのなす角部に第2の面取り加工を行い、前記矩形状平
板の短辺上における面取り部分の長さを確保する工程
と、 を有することを特徴とする、請求項1に記載の矩形状平
板の面取り加工方法。
14. A step of performing a first chamfering process on a corner formed by a long side of the laminated body and a short side of the laminated body to secure a length of a chamfered portion on the long side of the rectangular flat plate. And a step of performing a second chamfering process on a corner formed by the oblique side of the chamfered portion of the laminated body and the short side of the laminated body to secure the length of the chamfered portion on the short side of the rectangular flat plate. The chamfering method for a rectangular flat plate according to claim 1, further comprising:
【請求項15】 前記第2の面取り加工は、前記第1の
面取り加工で使用した前記筒状体より内径の小さな筒状
体に、前記第1の面取り加工を施した前記積層体と研磨
材とを封入して行うことを特徴とする、請求項14に記
載の矩形状平板の面取り加工方法。
15. The second chamfering process comprises: a laminate having an inner diameter smaller than that of the cylinder used in the first chamfering process; 15. The method for chamfering a rectangular flat plate according to claim 14, characterized in that
【請求項16】 前記第2の面取り加工は、前記第1の
面取り加工で使用した前記筒状体に、研磨材を追加投入
して行うことを特徴とする、請求項14に記載の矩形状
平板の面取り加工方法。
16. The rectangular shape according to claim 14, wherein the second chamfering process is performed by additionally adding an abrasive to the cylindrical body used in the first chamfering process. Chamfering method for flat plates.
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