JP2003185526A - 光導波路基板の検査方法及び実装光部品の検査方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光導波路基板を検査する場合、検査速度を向
上させると共に、クロストークを検査することができる
ようにする。 【解決手段】 開示される光導波路の検査方法は、光走
査光学系１１により被検査体である光導波路基板３の光
導波路２の一方端面２Ａにレーザ光を入射させ、光導波
路２の他方端面２Ｂから出射した光をＣＣＤカメラ１６
により検出して検出結果データ２１を出力した後、光点
位置確認装置１７により検出結果データ２１と予め記憶
している記憶データ２０とを比較する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、光導波路基板の
検査方法及び実装光部品の検査方法に係り、詳しくは、
基板上に形成された光導波路を用いる光導波路基板の検
査方法及び実装光部品の検査方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】光を情報の伝送媒体として利用した光通
信技術が広く普及してきている。このような光通信技術
においては、情報を示す信号により光を変調した光信号
を伝送するために、基板上に光導波路が形成された光導
波路基板が用いられて、光信号は光導波路に沿って伝送
される。ここで、光導波路は、屈折率の高いコア層の周
囲を屈折率の低いクラッド層で挟み込んだ構造に形成さ
れて、光導波路の一方端面に臨界角以下で入射した光信
号は、コア層とクラッド層との境界で全反射を繰り返し
ながらコア層内に閉じ込められてコア層の長さ方向に沿
って進行して、光導波路の他方端面から出射される。

【０００３】このような光通信技術に用いられる光導波
路基板は、基板上に形成した光導波路に沿って光信号を
高い効率で伝送させることが要求されるが、このために
完成した光導波路基板を対象として光導波路を導通する
光量の検査いわゆる光導波路基板の検査が行われる。例
えば特開平１１−３０４６４３号公報には、そのような
光導波路を導通する光量を検査する方法が開示されてい
る。同光導波路基板の検査方法には、図１４に示すよう
な検査装置が用いられる。この検査装置１００は、同図
に示すように、被検査体である光導波路アレイ１０１の
一方端面側に配置され、半導体レーザ１０２及び集光レ
ンズ１０３を含む光源系１０４と、光源系１０４を光導
波路アレイ１０１の端面に沿って平行移動させる駆動モ
ータ、送りネジ、送りスライド等から成る送り機構１０
５と、光導波路アレイ１０１の他方端面側に配置された
光検出器１０６と、光検出器１０６に接続されたパーソ
ナルコンピュータ１０７とを備えている。

【０００４】同検査装置１００を用いて光導波路アレイ
１０１を導通する光量を検査するには、送り機構１０５
により機械的に光源系１０４を平行移動させて、光源系
１０４から光導波路アレイ１０１の一方端面にレーザ光
１０８を照射することにより単位セルを順次に走査し
て、光導波路アレイ１０１の他方端面から出射される光
を一括して光検出器１０６により検出した後、パーソナ
ルコンピュータ１０７により検出光を信号処理して導通
光量を検査する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記公
報記載の従来の光導波路基板の検査方法では、送り機構
により光源系を移動させて光導波路アレイに光を照射し
ているので検査速度が遅くなるだけでなく、光導波路ア
レイから出射されるそれぞれの単位セルの光を一括して
光検出器により検出しているのでクロストークを検査す
ることが困難である、という問題がある。すなわち、従
来の光導波路基板の検査方法では、図１４に示したよう
に、送り機構１０５により機械的に光源系１０４を平行
移動させて光導波路アレイ１０１を構成しているそれぞ
れの単位セルを順次に走査しているので、走査及び光検
出に時間がかかるようになるため、検査速度が遅くなる
のが避けられない。

【０００６】また、従来の光導波路基板の検査方法で
は、図１４に示したように、光導波路アレイ１０１を構
成しているそれぞれの単位セルから出射される光を一括
して光検出器１０６により検出しているので、個々の単
位セルから出射された光を判別することができないた
め、クロストークを検査するのが困難である。

【０００７】この発明は、上述の事情に鑑みてなされた
もので、検査速度を向上させると共に、クロストークを
検査することができるようにした光導波路基板の検査方
法を提供することを目的としている。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項１記載の発明は、光信号を伝送する光導波路
を基板上に形成した光導波路基板の検査方法に係り、上
記光導波路の一方端面にレーザ光を入射させ、上記光導
波路の他方端面から出射した上記レーザ光を検出して検
出画像情報を求め、該検出画像情報を予め記憶してある
基準画像情報と比較して、上記光導波路を導通する光量
の良否を判定することを特徴としている。

【０００９】また、請求項２記載の発明は、一方端面に
第１の鏡面を有すると共に他方端面に第２の鏡面を有す
る光導波路を基板上に形成した光導波路基板の検査方法
に係り、上記光導波路の表面に直交する方向から上記一
方端面にレーザ光を入射させて、該レーザ光を上記第１
の鏡面により上記光導波路の表面に平行な方向に変換さ
せて上記光導波路内を導通させる段階と、上記光導波路
の上記他方端面から出射した上記レーザ光を、上記第２
の鏡面により上記光導波路の表面に直交する方向に変換
させる段階と、上記他方端面から出射し方向変換された
上記レーザ光を撮像装置により検出して該撮像装置から
光点位置を表す検出画像情報を光点位置確認装置に出力
する段階と、上記検出画像情報を上記光点位置確認装置
により該光点位置確認装置に予め記憶されている基準画
像情報と比較して、上記光導波路を導通する光量の良否
を判定する段階とを含むことを特徴としている。

【００１０】また、請求項３記載の発明は、一方端面側
に第１のピラミッド鏡を設けると共に他方端面側に第２
のピラミッド鏡を設けた光導波路を基板上に形成した光
導波路基板の検査方法に係り、上記光導波路の表面に直
交する方向から上記第１のピラミッド鏡にレーザ光を入
射させて、該レーザ光を上記第１のピラミッド鏡により
上記光導波路の表面に平行な方向に変換させて上記一方
端面から上記光導波路内を導通させる段階と、上記光導
波路の上記他方端面から出射した上記レーザ光を、上記
第２のピラミッド鏡により上記光導波路の表面に直交す
る方向に変換させる段階と、上記他方端面から出射し方
向変換された上記レーザ光を撮像装置により検出して該
撮像装置から光点位置を表す検出画像情報を光点位置確
認装置に出力する段階と、上記検出画像情報を上記光点
位置確認装置により該光点位置確認装置に予め記憶され
ている基準画像情報と比較して、上記光導波路を導通す
る光量の良否を判定する段階とを含むことを特徴として
いる。

【００１１】また、請求項４記載の発明は、一方端面に
第１の鏡面を有すると共に他方端面に第２の鏡面を有す
る光導波路を基板上に形成した光導波路基板の検査方法
に係り、光走査光学系のレーザ光の経路の末端部に設け
たレンズを所定の方向に移動させて上記レーザ光の走行
方向を偏向させる段階と、上記光導波路の表面に直交す
る方向から上記一方端面に上記レーザ光を入射させて、
該レーザ光を上記第１の鏡面により上記光導波路の表面
に対して傾斜する方向に変換させて上記光導波路内を導
通させる段階と、上記光導波路の上記他方端面から出射
した上記レーザ光を、上記第２の鏡面により上記光導波
路の表面に直交する方向に変換させる段階と、上記他方
端面から出射し方向変換された上記レーザ光を撮像装置
により検出して該撮像装置から光点位置を表す検出画像
情報を光点位置確認装置に出力する段階と、上記検出画
像情報を上記光点位置確認装置により該光点位置確認装
置に予め記憶されている基準画像情報と比較して、上記
光導波路を導通する光量の良否を判定する段階とを含む
ことを特徴としている。

【００１２】また、請求項５記載の発明は、一方端面側
に第１のピラミッド鏡を設けると共に他方端面側に第２
のピラミッド鏡を設けた光導波路を基板上に形成した光
導波路基板の検査方法に係り、光走査光学系のレーザ光
の経路の末端部に設けたレンズを所定の方向に移動させ
て上記レーザ光の走行方向を偏向させる段階と、上記光
導波路の表面に直交する方向から上記第１のピラミッド
鏡に上記レーザ光を入射させて、該レーザ光を上記第１
のピラミッド鏡により上記光導波路の表面に対して傾斜
する方向に変換させて上記光導波路内を導通させる段階
と、上記光導波路の上記他方端面から出射した上記レー
ザ光を、上記第２のピラミッド鏡により上記光導波路の
表面に直交する方向に変換させる段階と、上記他方端面
から出射し方向変換された上記レーザ光を撮像装置によ
り検出して該撮像装置から光点位置を表す検出画像情報
を光点位置確認装置に出力する段階と、上記検出画像情
報を上記光点位置確認装置により該光点位置確認装置に
予め記憶されている基準画像情報と比較して、上記光導
波路を導通する光量の良否を判定する段階とを含むこと
を特徴としている。

【００１３】また、請求項６記載の発明は、検査用光導
波路と共に基板上に実装した光部品の実装ずれを検査す
る実装光部品の検査方法に係り、上記検査用光導波路の
一方端面にレーザ光を入射させ、上記検査用光導波路の
他方端面から出射した上記レーザ光を上記光部品に反射
させて逆戻りさせ、該逆戻りによる光量を検出して上記
光部品の実装ずれを検査することを特徴としている。

【００１４】また、請求項７記載の発明は、一方端面側
に第１のピラミッド鏡を設けると共に他方端面側に第２
のピラミッド鏡を設けた検査用光導波路と共に基板上に
実装した光部品の実装ずれを検査する実装光部品の検査
方法に係り、上記検査用光導波路の表面に直交する方向
から上記第１のピラミッド鏡にレーザ光を入射させて、
該レーザ光を上記第１のピラミッド鏡により上記検査用
光導波路の表面に平行な方向に変換させて上記一方端面
から上記検査用光導波路内を導通させる段階と、上記検
査用光導波路の上記他方端面から出射した上記レーザ光
を、上記第２のピラミッド鏡により上記検査用光導波路
の表面に直交する方向に変換させる段階と、上記他方端
面から出射し方向変換された上記レーザ光を上記光部品
に反射させ上記第２のピラミッド鏡に逆戻りさせて上記
他方端面から上記検査用光導波路に入射させる段階と、
上記検査用光導波路の上記一方端面から出射した上記逆
戻り光を、上記第１のピラミッド鏡により上記検査用光
導波路の表面に直交する方向に変換させる段階と、上記
逆戻り光を光検出器に入射させ該光検出器により上記逆
戻り光の光量を検出して上記光部品の実装ずれを検査す
る段階とを含むことを特徴としている。

【００１５】また、請求項８記載の発明は、請求項７記
載の実装光部品の検査方法に係り、上記検査用光導波路
は、上記基板に形成されている光信号電送用光導波路か
ら分岐されていることを特徴としている。

【００１６】また、請求項９記載の発明は、請求項７又
は８記載の実装光部品の検査方法に係り、上記光部品の
上記第２のピラミッド鏡の対向面に、レーザ光の反射光
量を増大させる金属反射膜が形成されていることを特徴
としている。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、この発明
の実施の形態について説明する。説明は実施例を用いて
具体的に行う。 ◇第１実施例 図１は、この発明の第１実施例である光導波路基板の検
査方法の実施に用いられる検査装置の構成を示す図、図
２は同検査装置の主要部に記憶される記憶データを概略
的に示す図、図３は同光導波路基板の検査方法により検
出された検出結果データを概略的に示す図、図４は同光
導波路基板の検査方法を説明するフローチャートであ
る。この例の光導波路基板の検査方法に用いられる検査
装置１０は、図１に示すように、ベース基板１上に光導
波路２が形成された光導波路基板３（被検査体）の一方
端面側に配置された光走査光学系４と、光導波路基板３
の他方端面側に配置された光検出系５とを備えている。
ここで、光導波路基板３の主要部を構成している光導波
路２は、屈折率の高いコア層６の周囲を屈折率の低い下
クラッド層７及び上クラッド層８で挟み込んだ構造に形
成されている。また、光導波路２の一方端面２Ａには、
光導波路２の長さ方向である水平方向（Ｘ方向）と略４
５度の角度を隔てた第１の鏡面９Ａが形成される一方、
光導波路２の他方端面２Ｂには、第１の鏡面９Ａと対応
した第２の鏡面９Ｂが形成されている。後述するよう
に、光走査光学系４から光導波路２の一方端面２Ａには
Ｚ方向から光が入射される一方、光導波路２の他方端面
２Ｂからは光導波路２のコア層６内をＸ方向に導通して
きた光が再びＺ方向に出射される。ここで、図１で示し
たＸ方向、Ｙ方向及びＺ方向は、互いに直交する関係に
ある。

【００１８】光走査光学系４は、検査用の光を発生する
レーザ光源１１と、レーザ光源１１からの光をＸ方向に
偏向させて光導波路基板３の表面に垂直なＺ方向からの
光を照射して走査するＸ方向走査ガルバノミラー１２
と、Ｘ方向に偏向された光をこのＸ方向と直交するＹ方
向に偏向させて光導波路基板３の表面に垂直なＺ方向か
らの光を照射して走査するＹ方向走査ガルバノミラー１
３と、Ｘ方向走査ガルバノミラー１２及びＹ方向走査ガ
ルバノミラー１３を駆動する光走査駆動装置１４と、Ｚ
方向に照射する光を所定のビーム径の平行光束１８でＺ
方向の光軸１９に沿って光導波路２の一方端面２Ａに入
射させるレンズ１５とを備えている。Ｘ方向走査ガルバ
ノミラー１２及びＹ方向走査ガルバノミラー１３は、レ
ンズ１５の焦点位置近くに配置されるように構成されて
いる。レンズ１５は、平行光束１８を光導波路基板３の
表面に垂直なＺ方向に進ませるように整えるために用い
られる。

【００１９】光検出系５は、光導波路２の他方端面２Ｂ
からＺ方向に出射された光を検出して検出結果データ
（検出画像情報）を出力するＣＣＤカメラ（撮像カメ
ラ）１６と、検出結果データを入力して予め記憶してい
る記憶データ（基準画像情報）と比較し、比較結果に応
じて光導波路２の光導通の良否の判定及びクロストーク
の良否の判定を行う光点位置確認装置１７とを備えてい
る。

【００２０】光導波路２の一方端面２ＡにＺ方向から入
射された光は光路が第１の鏡面９ＡによりＸ方向に変換
されてコア層６に導かれ、さらにこの光は光導波路２の
第２の鏡面９Ｂにより光路が再びＺ方向に変換されて光
導波路２の他方端面２Ｂから出射される。このとき、Ｃ
ＣＤカメラ１６は、光導波路基板３のＸＹ面からの出射
光のＸＹ面内の位置を検出することにより光点の発生と
して認識して光点位置を表す検出結果データを出力す
る。

【００２１】光点位置確認装置１７は、図２に示すよう
に、予め光導波路２のＸＹ面での検査対象領域を格子状
に複数の領域に分割し、ＸＹ面内の各領域をアドレスＡ
ａ、Ｂｂ、Ｃｃ、…で特定して各領域毎に予め望ましい
基準光量値が設定されて記憶データ２０として記憶して
いる。例えば、アドレスＣｂの領域には基準光量値９
を、アドレスＢｄの領域には基準光量値８を、アドレス
Ｅｄの領域には基準光量値０を記憶している。これらの
望ましい基準光量値の設定は、検査対象に応じて適宜変
更される。

【００２２】一方、ＣＣＤカメラ１６は、図３に示すよ
うに、記憶データ２０のＸＹ面内の各領域のアドレスＡ
ａ、Ｂｂ、Ｃｃ、…に対応して特定されたアドレスＡ´
ａ´、Ｂ´ｂ´、Ｃ´ｃ´、…のＸＹ面内の各領域毎
に、光導波路２から実際に検出された光量値を検出結果
データ２１として出力する。例えば、アドレスＣ´ｂ´
の領域からは光量値８が、アドレスＢ´ｄ´の領域から
は光量値７が、アドレスＥ´ｄ´の領域からは光量値１
が検出されている。そして、光点位置確認装置１７は、
記憶データ２０と検出結果データ２１とを比較して、光
導波路の光導通の良否の判定及びクロストークの良否の
判定を行う。ここで、出射される基準光量値の記憶デー
タ２０は、入力する光のＸＹ面内の位置の数だけ存在す
る。

【００２３】次に、図４のフローチャートを参照して、
この例の光導波路基板の検査方法の手順について説明す
る。検査装置１０を用いて、所定位置に被検査体である
光導波路基板３を配置する。次に、光走査光学系４のレ
ーザ光源１１からの光をＸ方向走査ガルバノミラー１２
によりＸ方向に偏向させて走査しつつ（ステップＳ
１）、Ｙ方向走査ガルバノミラー１３によりＹ方向に偏
向させてＺ方向から光導波路基板３をＸＹ面で走査する
（ステップＳ３）。この光はレンズ１５により略１ｍｍ
のビーム径となる平行光束１８をＺ方向の光軸１９に沿
って、Ｚ方向から光導波路２の一方端面２Ａに入射させ
る。一例として、光導波路２のコア層６の径は略０．０
５ｍｍに形成されている。入射された光は第１の鏡面９
Ａにより矢印で示すＸ方向、あるいはＸＹ面内の方向に
光路が変換されてコア層６に導かれる。コア層６内を導
通してきた光は光導波路２の第２の鏡面９Ｂにより光路
を再びＺ方向に変換させて、光導波路２の他方端面２Ｂ
から出射させる。

【００２４】なお、（ステップＳ１）の後に、処理終了
の要否を判断する（ステップＳ２）。ＹＥＳの場合は処
理は終了し、ＮＯの場合は処理は次のステップに進む。
この段階では、処理は継続させるので次のステップに進
む。

【００２５】光の入力位置がＸＹ面を走査する各照射点
毎に、光導波路２から出射された光をＣＣＤカメラ１６
により検出する。ＣＣＤカメラ１６は、この光を光点の
発生として認識して光点位置を表す、図３に示したよう
な内容の検出結果データ２１を出力する（ステップＳ
５）。

【００２６】なお、（ステップＳ３）の後に、処理終了
の要否を判断する（ステップＳ４）。ＹＥＳの場合は処
理は（ステップＳ１）に戻り、ＮＯの場合は処理は次の
ステップに進む。この段階では、処理を継続させるので
次のステップに進む。

【００２７】次に、光点位置確認装置１７は図３に示し
たようなＣＣＤカメラ１６から検出結果データ２１を入
力して、予め記憶している図２に示したような内容の記
憶データ２０と比較する（ステップＳ６）。そして、比
較結果から、光導波路の光導通の良否の判定及びクロス
トークの良否の判定を行う。 （１）光導波路の光導通の良否の判定方法 予め光導波路２の光導通の良否の判定基準光量値（光導
通判定基準光量値）Ｖｔ１を、記憶データ２０の各領域
に設定しておいて、このＶｔ１以上の光量値が検出され
た場合に光導通が良であると判定するものとする。一例
としてＶｔ１＝５に設定するものとする。この設定の基
で、光点位置確認装置１７は、記憶データ２０と検出結
果データ２１とを比較する。そして、検出結果データ２
１において、例えばアドレスＣ´ｂ´の領域及びアドレ
スＢ´ｄ´の領域の光量値は共に５以上であるので、光
導通は良であると判定する。一方、アドレスＥ´ｄ´の
領域の光量値は５以下であるので、光導通は否であると
判定する。他の領域についても、同様な方法で光導通の
良否の判定を行う（ステップＳ７）。

【００２８】（２）光導波路のクロストークの良否の判
定方法 予め光導波路のクロストークの良否の判定基準光量値
（クロストーク判定基準光量値）Ｖｔ２を、記憶データ
２０の各領域に設定しておいて、このＶｔ２以下の光量
値が検出された場合にクロストークが良であると判定す
るものとする。一例としてＶｔ２＝１に設定するものと
する。この設定の基で、光点位置確認装置１７は、記憶
データ２０と検出結果データ２１とを比較する。そし
て、検出結果データ２１において、例えばアドレスＣ´
ｂ´の領域及びアドレスＢ´ｄ´の領域の光量値は共に
１以上であるので、クロストークは非であると判定す
る。一方、アドレスＥ´ｄ´の領域の光量値は１である
ので、クロストークは良であると判定する。他の領域に
ついても、同様な方法でクロストークの良否の判定を行
う（ステップＳ８）。

【００２９】次に、（ステップＳ３）に戻り、ここでＹ
方向走査が一走査し終えたら、（ステップＳ４）を介し
て（ステップＳ１）に戻る。そして、ここで、Ｘ方向走
査が一走査し終えたら、（ステップＳ２）を介して処理
が終了する。

【００３０】以上のような光導波路基板の検査方法によ
れば、レーザ光源１１、Ｘ方向走査ガルバノミラー１２
及びＹ方向走査ガルバノミラー１３を含む光走査光学系
４によりＺ方向に進む光によりＸＹ面を走査させ、被検
査体である光導波路基板３の光導波路２の一方端面２Ａ
にレーザ光から成る平行光束１８を入射させるので、従
来のように機械的に光源系を平行移動させて光導波路を
走査することは行わないため、光導波路の光入射位置を
高速に選択できるようになり、光導波路基板の検査を高
速で行うことができる。また、上述した光導波路基板の
検査方法によれば、光導波路２の他方端面２Ｂから出射
した光をＣＣＤカメラ１６により光点位置を特定して検
出するので、従来のように光導波路からの出射光を一括
して検出しないため、光導波路のどの位置から出射した
光かを判別することができるようになり、クロストーク
を検査することができるようになる。

【００３１】このように、この例の光導波路基板の検査
方法の構成によれば、光走査光学系４により被検査体で
ある光導波路基板３の光導波路２の一方端面２Ａにレー
ザ光束１８を入射させ、光導波路２の他方端面２Ｂから
出射した光をＣＣＤカメラ１６により検出して検出結果
データ２１を出力した後、光点位置確認装置１７により
検出結果データ２１と予め記憶している記憶データ２０
とを比較するので、光導波路の光導通の良否の判定及び
クロストークの良否の判定を正確に行うことができる。
したがって、検査速度を向上させると共に、クロストー
クを検査することができる。

【００３２】◇第２実施例 図５は、この発明の第２実施例である光導波路基板の検
査方法の実施に用いられる検査装置の構成を示す図、図
６は同光導波路基板の検査方法を説明するフローチャー
トである。この例の光導波路基板の検査方法の構成が、
上述した第１実施例の構成と大きく異なるところは、異
なる構成の光導波路の検査を行うようにした点である。
この例の光導波路基板の検査方法の被検査体である光導
波路基板２３には、図５に示すように、ベース基板１上
に形成された光導波路２２の一方端面２２Ａ及び他方端
面２２Ｂには第１実施例で示されたような第１及び第２
の鏡面２Ａ及び２Ｂが形成されていない。このため、ベ
ース基板１上の光導波路２２の両端面側の位置には、光
走査光学系４から光導波路２２の一方端面２２Ａに入射
されたＺ方向に進む光をＸ方向、あるいはＸＹ面内の方
向に変換してコア層６に導くための第１のピラミッド鏡
２４及び光導波路２２の他方端面２２Ｂから出射された
光を再びＺ方向に変換するための第２のピラミッド鏡２
５が設けられている。これ以外は、上述した第１実施例
と略同様である。それゆえ、図５において、図１の構成
部分と対応する各部には、同一の番号を付してその説明
を省略する。

【００３３】次に、図６のフローチャートを参照して、
この例の光導波路基板の検査方法の手順について説明す
る。検査装置１０を用いて、所定位置に被検査体である
光導波路基板２３を配置する。次に、光走査光学系４の
レーザ光源１１からの光をＸ方向走査ガルバノミラー１
２によりＸ方向に偏向させて走査しつつ（ステップＳ２
１）、Ｙ方向走査ガルバノミラー１３によりＹ方向に偏
向させてＺ方向から光導波路基板２３をＸＹ面で走査す
る（ステップＳ２３）。この光をレンズ１５により略１
ｍｍのビーム径となる平行光束１８をＺ方向の光軸１９
に沿って、第１のピラミッド鏡２４の斜面２４Ａに入射
させる。入射された光は斜面２４Ａにより矢印で示すＸ
方向、あるいはＸＹ面内の方向に光路が変換され、光導
波路２２の一方端面２２Ａに入射されてコア層６に導か
れる。コア層６内を導通してきた光は光導波路２２の他
方端面２２Ｂから出射する。この出射光は第２のピラミ
ッド鏡２５の斜面２５Ａにより光路を再びＺ方向に変換
させて出射する。（ステップＳ２４）以後は、図４の第
１実施例の（ステップＳ５）以降と略同様なステップを
経ることにより、光導波路基板２３の検査を行う。これ
らの略同様なステップは詳細な説明を省略して破線で示
す。

【００３４】この例の光導波路基板の検査方法によれ
ば、特に光導波路２２の一方端面２２Ａ及び他方端面２
２Ｂに、第１実施例で示されたような第１及び第２の鏡
面２Ａ及び２Ｂが形成されていない光導波路基板２３の
検査にも適用することができるので、検査対象を拡大す
ることができる。

【００３５】このように、この例の構成によっても、第
１実施例において述べたのと略同様の効果を得ることが
できる。加えて、この例の構成によれば、光導波路の両
端面が特定の形状でなくとも適用できるので、検査対象
を拡大することができる。

【００３６】◇第３実施例 図７は、この発明の第３実施例である光導波路基板の検
査方法の実施に用いられる検査装置の構成を示す図、図
８は同光導波路基板の検査方法を説明するフローチャー
トである。この例の光導波路基板の検査方法の構成が、
上述した第１実施例の構成と大きく異なるところは、光
導波路の一方端面に入射される光の方向を変化させるこ
とにより光導波路基板の検査を行うようにした点であ
る。この例の光導波路基板の検査方法に用いられる検査
装置３０は、図７に示すように、ベース基板１上に光導
波路２が形成された光導波路基板（被検査体）３の一方
端面側に配置された光走査光学系２６と、光導波路基板
３の他方端面側に配置された光検出系５とを備えてい
る。ここで、光検出系５の構成は図１の第１実施例にお
けるそれと略同じなので説明を省略する。

【００３７】光走査光学系２６は、検査用の光を発生す
るレーザ光源１１と、レーザ光源１１からの光をＸ方向
に偏向させて光導波路基板３の表面に垂直なＺ方向から
の光を照射して走査するＸ方向走査ガルバノミラー１２
と、Ｘ方向に偏向された光をこのＸ方向と直交するＹ方
向に偏向させて光導波路基板３の表面に垂直なＺ方向か
らの光を照射して走査するＹ方向走査ガルバノミラー１
３と、Ｘ方向走査ガルバノミラー１２及びＹ方向走査ガ
ルバノミラー１３を駆動する光走査駆動装置１４と、Ｚ
方向に照射する光を略１ｍｍのビーム径の平行光束１８
でＺ方向の光軸１９に沿って光導波路２の一方端面２Ａ
に入射させるレンズ２９を備えている。ここで、レンズ
２９は光走査光学系２６のレーザ光の経路の末端部に配
置されて、このレンズ２９は光軸１９からＸ方向及びＹ
方向に移動されるように移動機構２８によって制御さ
れ、これにより光導波路基板３に照射する平行光束１８
の向きがＺ方向から傾けられるように構成されている。

【００３８】次に、図８のフローチャートを参照して、
この例の光導波路基板の検査方法の手順について説明す
る。検査装置３０を用いて、所定位置に被検査体である
光導波路基板３を配置する。次に、光走査光学系２６の
レーザ光源１１からの光をＸ方向走査ガルバノミラー１
２によりＸ方向に偏向させて走査しつつ、Ｙ方向走査ガ
ルバノミラー１３によりＹ方向に偏向させてＺ方向から
光導波路基板３をＸＹ面で走査する（ステップＳ３
３）。この光をレンズ２９により略１ｍｍのビーム径の
平行光束１８をＺ方向の光軸１９に沿って、光導波路２
の一方端面２Ａに入射させる。入射された光は第１の鏡
面９Ａにより矢印で示すＸ方向、あるいはＸＹ面内の方
向に光路が変換されてコア層６に導かれる。

【００３９】この場合、予め移動機構２８により、レン
ズ２９をＸＹ方向に移動させて、レンズ２９から出射さ
れる光の方向を偏向させる（ステップＳ３１）。これに
より、光導波路２の一方端面２Ａに入射された光は第１
の鏡面９ＡによりＸ方向に光路が変換されるが、その光
の方向は矢印で示すように、第１実施例に比べて光導波
路２の表面に対して傾斜した方向に変化する。この結
果、入射光の方向の偏向により光導波路２の光の伝送モ
ードが変わる。すなわち、斜め方向の光は光導波路２の
透過率（導通率）が変わるので、その透過率の変動を検
査することができるようになる。

【００４０】これにより、コア層６内を斜め方向に変化
して導通してきた光を下クラッド層７及び上クラッド層
８により反射させる多重モード光で伝送させながら、光
導波路２の第２の鏡面９Ｂにより光路を再びＺ方向に変
換させて、光導波路２の他方端面２Ｂから出射させる。
この場合は、入射光の方向の偏向による多重モード伝送
により、光の透過率がばらつく現象が観察される。（ス
テップＳ３４）以後は、図４の第１実施例の（ステップ
Ｓ５）以降と略同様なステップを経ることにより、光導
波路基板３の検査を行う。これらの略同様なステップは
詳細な説明を省略して破線で示す。

【００４１】この例の光導波路基板の検査方法によれ
ば、特にレンズ２９をＸＹ方向に移動させて、レンズ２
９から出射される光の方向を偏向させることにより、光
導波路２に入射する光の方向を変化させることができる
ので、入射光の方向の違いによる光導波路２の光の透過
率の変動を検査することができる。

【００４２】このように、この例の構成によっても、第
１実施例において述べたのと略同様の効果を得ることが
できる。加えて、この例の構成によれば、入射光の方向
の違いによる光導波路の光の透過率の変動を検査するこ
とができる。

【００４３】◇第４実施例 図９は、この発明の第４実施例である光導波路基板の検
査方法の実施に用いられる検査装置の構成を示す図、図
１０は同光導波路基板の検査方法を説明するフローチャ
ートである。この例の光導波路基板の検査方法の構成
が、上述した第３実施例の構成と大きく異なるところ
は、異なる構成の光導波路の検査を行うようにした点で
ある。この例の光導波路基板の検査方法の被検査体であ
る光導波路基板２３には、図９に示すように、ベース基
板１上に形成された光導波路２２の一方端面２２Ａ及び
他方端面２２Ｂには第３実施例で示されたような第１及
び第２の鏡面２Ａ、２Ｂが形成されていない。このた
め、ベース基板１上の光導波路２２の両端面側の位置に
は、光走査光学系２６から光導波路２２の一方端面２２
Ａに入射されたＺ方向に進む光をＸ方向、あるいはＸＹ
面内の方向に変換してコア層６に導くための第１のピラ
ミッド鏡２４及び光導波路２２の他方端面２２Ｂから出
射された光を再びＺ方向に変換するための第２のピラミ
ッド鏡２５が設けられている。これ以外は、上述した第
３実施例と略同様である。それゆえ、図９において、図
７の構成部分と対応する各部には、同一の番号を付して
その説明を省略する。

【００４４】次に、図１０のフローチャートを参照し
て、この例の光導波路基板の検査方法の手順について説
明する。検査装置３０を用いて、所定位置に被検査体で
ある光導波路基板２３を配置する。次に、光走査光学系
２６のレーザ光源１１からの光をＸ方向走査ガルバノミ
ラー１２によりＸ方向に偏向させて走査しつつ、Ｙ方向
走査ガルバノミラー１３によりＹ方向に偏向させてＺ方
向から光導波路基板３をＸＹ面で走査する（ステップＳ
４３）。この光をレンズ２９により略１ｍｍのビーム径
の平行光束１８を光軸１９に沿って、第１のピラミッド
鏡２４の斜面２４Ａに入射させる。入射された光は斜面
２４Ａにより矢印で示すＸ方向、あるいはＸＹ面内の方
向に光路が変換され、光導波路２２の一方端面２２Ａに
入射されてコア層６に導かれる。

【００４５】この場合、予め移動機構２８により、レン
ズ２９をＸＹ方向に移動させて、レンズ２９から出射さ
れる光の方向を偏向させる（ステップＳ４１）。これに
より、光導波路２２の一方端面２２Ａに入射された光は
第１のピラミッド鏡２４によりＸ方向に光路が変換され
るが、その光の方向は矢印で示すように、第１実施例に
比べて光導波路２２の表面に対して傾斜した方向に変化
する。この結果、入射光の方向の偏向により光導波路２
２の光の伝送モードが変わる。すなわち、斜め方向の光
は光導波路２２の透過率が変わるが、その透過率の変動
を検査することができるようになる。

【００４６】これにより、コア層６内を斜め方向に変化
して導通してきた光を下クラッド層７及び上クラッド層
８により反射させる多重モード光で伝送させながら、光
導波路２２の他方端面２２Ｂから出射させ、さらに第２
のピラミッド鏡２５により光路を再びＺ方向に変換させ
て出射させる。以後は、図８の第３実施例と略同様なス
テップを経ることにより、光導波路基板２３の検査を行
う。

【００４７】この例の光導波路基板の検査方法によれ
ば、特に光導波路２２の一方端面２２Ａ及び他方端面２
２Ｂに、第３実施例で示されたような第１及び第２の鏡
面２Ａ及び２Ｂが形成されていない光導波路基板２３の
検査にも適用することができるので、検査対象を拡大す
ることができる。

【００４８】このように、この例の構成によっても、第
３実施例において述べたのと略同様の効果を得ることが
できる。加えて、この例の構成によれば、光導波路の両
端面が特定の形状でなくとも適用できるので、検査対象
を拡大することができる。

【００４９】◇第５実施例 図１１は、この発明の第５実施例である実装光部品の検
査方法の実施に用いられる検査装置の構成を示す図、図
１２は同実装光部品の検査方法の被検査体である光導波
路基板を示す平面図、図１３は同実装光部品の検査方法
を説明するフローチャートである。この第５実施例が、
上述した第１実施例〜第４実施例と異なるところは、光
導波路を用いて実装光部品の検査を行うようにした点で
ある。この例の実装光部品の検査方法に用いられる検査
装置４０は、図１１に示すように、検査用の光を発生す
るレーザ光源１１と、レーザ光源１１からの光をハーフ
ミラー３１を通じて入射してＸ方向に偏向させて光導波
路基板３の表面に垂直なＺ方向からの光を照射して走査
するＸ方向走査ガルバノミラー１２と、Ｘ方向に偏向さ
れた光をこのＸ方向と直交するＹ方向に偏向させて光導
波路基板３の表面に垂直なＺ方向からの光を照射して走
査するＹ方向走査ガルバノミラー１３と、Ｘ方向走査ガ
ルバノミラー１２及びＹ方向走査ガルバノミラー３１を
駆動する光走査駆動装置１４と、Ｚ方向に照射する光を
所定のビーム径の平行光束１８でＺ方向の光軸１９に沿
って検査用光導波路３３の一方端面３３Ａに入射させる
レンズ３４と、ハーフミラー３１の反射面に設けられた
光検出器３５とを備えている。

【００５０】ベース基板１には、図１２に示すように、
直線状の光信号伝送用光導波路３２と、この光信号伝送
用光導波路３２と一部が共通に構成されると共に同光導
波路３２の途中位置から分岐された曲線状の検査用光導
波路３３とが設けられている。また、ベース基板１上の
検査用光導波路３３の両端面側の位置には、一方端面３
３Ａに入射されＺ方向に進む入射光をＸ方向、あるいは
ＸＹ面内の方向に変換してコア層に導くための第１のピ
ラミッド鏡３６及び検査用光導波路３３の他方端面３３
Ｂから出射された光を再びＺ方向に変換するための第２
のピラミッド鏡３７が設けられて、光導波路基板３８が
構成されている。さらに、第２のピラミッド鏡３７上に
は対向面に発光部３９及びこの発光部３９の周囲に金属
反射膜４１が形成された発光素子から成る光部品４２が
実装されている。金属反射膜４１はレーザ光の反射光量
を増大させるように働く。なお、図１１に示した光導波
路基板３８は、図１２におけるＡ−Ａ矢視断面構造で示
している。

【００５１】次に、図１３のフローチャートを参照し
て、この例の光導波路基板の検査方法の手順について説
明する。検査装置４０を用いて、所定位置に被検査体で
ある光導波路基板３８を配置する。次に、レーザ光源１
１からの光をハーフミラー３１を通じてＸ方向走査ガル
バノミラー１２により所定のＸ方向に偏向させた後、Ｙ
方向走査ガルバノミラー１３により所定のＹ方向に偏向
させ、Ｚ方向からの光導波路基板３８に照射する。次
に、この光をレンズ１５により略１ｍｍのビーム径の平
行光束１８をＺ方向の光軸１９に沿って、第１のピラミ
ッド鏡３６の斜面３６Ａに入射させる。入射された光は
斜面３６Ａにより矢印で示すＸ方向、あるいはＸＹ面内
の方向に光路が変換され、検査用光導波路３３の一方端
面３３Ａに入射される（ステップＳ５１）。

【００５２】次に、検査用光導波路３３内を導通してき
た光を検査用光導波路３３の他方端面３３Ｂから出射さ
せる。この出射光を第２のピラミッド鏡３７の斜面３７
Ａにより光路を再びＹ方向に変換させて出射させる（ス
テップＳ５２）。

【００５３】次に、出射光をこれに対向している光部品
４２の発光部３９で反射させて光路を逆戻りさせる。そ
して、再び第２のピラミッド鏡３７の斜面３７Ａにより
光路をＸ方向に変換させて検査用光導波路３３の他方端
面３３Ｂに入射させる（ステップＳ５３）。

【００５４】次に、検査用光導波路３３内を逆戻りして
きた光を検査用光導波路３３の一方端面３３Ａから出射
させる。この出射光を第１のピラミッド鏡３６の斜面３
６Ａにより光路を再びＹ方向に変換させて出射させる
（ステップＳ５４）。

【００５５】次に、出射光をＹ方向走査ガルバノミラー
１３及びＸ方向走査ガルバノミラー１２によりハーフミ
ラー３１に導いて、このハーフミラー３１で反射した光
を光検出器３５に入射させる。光検出器３５は、光部品
４２から戻ってきた光量を検出して、ベース基板１に実
装されている光部品４２のずれを検査する。光部品４２
が所定位置からずれて実装されている場合、第２のピラ
ミッド鏡３７からの出射光は光部品４２の発光部３９か
らずれて金属反射膜４１に入射され、光検出器４２で検
出される光量が増大するように設定されている。したが
って、光検出器４２で検出される光量の大きさを確認す
ることにより、光部品４２の実装のずれ具合を検査する
ことができる（ステップＳ５５）。

【００５６】以上のような実装光部品の検査方法によれ
ば、光導波路基板３８に形成した検査用光導波路３３を
利用して、この検査用光導波路３３の他方端面３３Ｂか
らの出射光を実装されている光部品４２の発光部３９で
反射させてその逆戻り光量を光検出器３５で検出して実
装のずれ具合を検査するようにしたので、簡単な構成で
実装ずれを検査することができる。この点、従来におい
ては、光部品に予めアライメントマークを設けておい
て、このアライメントマークを高解像度赤外線カメラで
観察することにより実装ずれを検査する方法が一般に行
われていたが、コストアップが避けられなかった。

【００５７】上述したようなこの例によれば、光部品の
位置合わせ精度を予め確認することができるので、光部
品を実装する場合品質の改善を図ることができる。例え
ば、予め実装のずれの大きい光部品は除外しておくこと
により、光デバイスの不良を未然に防止することができ
る。あるいは、光部品を仮実装しておいて、予め実装の
ずれを検査することにより、このずれを反映させてずれ
の少ない本実装を行うようにすることもできる。

【００５８】このように、この例の実装光部品の検査方
法の構成によれば、光導波路基板３８に形成した検査用
光導波路３３を利用して、この検査用光導波路３３の出
射光を実装されている光部品４２で反射させてその逆戻
り光量を光検出器３５で検出することにより実装のずれ
具合を検査するようにしたので、簡単な構成で実装ずれ
を検査することができる。

【００５９】以上、この発明の実施例を図面により詳述
してきたが、具体的な構成はこの実施例に限られるもの
ではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変
更などがあってもこの発明に含まれる。例えば、実施例
では光導波路を基板上に形成した光導波路基板を例にあ
げて説明したが、光導波路を基板内に埋め込むように形
成した光導波路基板を用いるようにしてもよい。また、
レンズに入射する光束に代えて、レーザ光源側の光学系
において集束したレーザ光をレンズから出射して光導波
路に入射させることもできる。また、集束したレーザ光
を用いる場合、レンズを省略した構造を用いることも可
能である。また、記憶データあるいは検出結果データの
内容は一例を示したものであり、目的、用途等に応じて
任意の変更が可能である。

【００６０】

【発明の効果】以上説明したように、この発明の光導波
路基板の検査方法によれば、被検査体である光導波路基
板の光導波路の一方端面にレーザ光束を入射させ、光導
波路の他方端面から出射した光を撮像カメラにより検出
して検出画像情報を出力した後、検出画像情報と予め記
憶している基準画像情報とを比較して、光導波路基板を
検査するようにしたので、光導波路の光導通の良否の判
定及びクロストークの良否の判定を正確に行うことがで
きる。したがって、検査速度を向上させると共に、クロ
ストークを検査することができる。また、この発明の実
装光部品の検査方法によれば、光導波路基板に形成した
検査用光導波路を利用して、この検査用光導波路の出射
光を実装光部品で反射させてその逆戻り光量を検出する
ことにより実装のずれ具合を検査するようにしたので、
簡単な構成で実装ずれを検査することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の第１実施例である光導波路基板の検
査方法の実施に用いられる検査装置の構成を示す図であ
る。

【図２】同検査装置の主要部に記憶される記憶データを
概略的に示す図である。

【図３】同光導波路基板の検査方法により検出されたを
検出結果データを概略的に示す図である。

【図４】同光導波路基板の検査方法を説明するフローチ
ャートである。

【図５】この発明の第２実施例である光導波路基板の検
査方法の実施に用いられる検査装置の構成を示す図であ
る。

【図６】同光導波路基板の検査方法を説明するフローチ
ャートである。

【図７】この発明の第３実施例である光導波路基板の検
査方法の実施に用いられる検査装置の構成を示す図であ
る。

【図８】同光導波路基板の検査方法を説明するフローチ
ャートである。

【図９】この発明の第４実施例である光導波路基板の検
査方法の実施に用いられる検査装置の構成を示す図であ
る。

【図１０】同光導波路基板の検査方法を説明するフロー
チャートである。

【図１１】この発明の第５実施例である実装光部品の検
査方法の実施に用いられる検査装置の構成を示す図であ
る。

【図１２】同実装光部品の検査方法の被検査体である光
導波路基板を示す平面図である。

【図１３】同実装光部品の検査方法を説明するフローチ
ャートである。

【図１４】従来の光導波路基板の検査方法の実施に用い
られる検査装置を示す図である。

【符号の説明】

１ ベース基板 ２、２２ 光導波路 ２Ａ、２２Ａ、３３Ａ 光導波路の一方端面 ２Ｂ、２２Ｂ、３３Ｂ 光導波路の他方端面 ３、２３、３８ 光導波路基板（被検査体） ４、２６ 光走査光学系 ５ 光検出系 ６ コア層 ７、８ クラッド層 ９Ａ、９Ｂ 光導波路の鏡面 １０、３０、４０ 検査装置 １１ レーザ光源 １２ Ｘ方向走査ガルバノミラー １３ Ｙ方向走査ガルバノミラー １４ 光走査駆動装置 １５、２９、３４ レンズ １６ ＣＣＤカメラ（撮像カメラ） １７ 光点位置確認装置 １８ 平行光束（レーザ光束） １９ 光軸 ２０ 記憶データ（基準画像情報） ２１ 検出結果データ（検出画像情報） ２４、２５、３６、３７ ピラミッド鏡 ２４Ａ、２５Ａ、３６Ａ、３７Ａ ピラミッド鏡の
斜面 ２８ 移動機構 ３１ ハーフミラー ３２ 光信号伝送用光導波路 ３３ 検査用光導波路 ３５ 光検出器 ３９ 発光部 ４１ 金属反射膜 ４２ 光部品

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 古宇田 光 東京都港区芝五丁目７番１号 日本電気株 式会社内 (72)発明者 北城 栄 東京都港区芝五丁目７番１号 日本電気株 式会社内 (72)発明者 嶋田 勇三 東京都港区芝五丁目７番１号 日本電気株 式会社内 (72)発明者 松本 佳夫 東京都港区芝五丁目７番１号 日本電気株 式会社内 (72)発明者 玉林 慎一 東京都港区芝五丁目７番１号 日本電気株 式会社内 Ｆターム(参考） 2G086 BB01

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光信号を伝送する光導波路を基板上に形
   成した光導波路基板の検査方法であって、 前記光導波路の一方端面にレーザ光を入射させ、前記光
   導波路の他方端面から出射した前記レーザ光を検出して
   検出画像情報を求め、該検出画像情報を予め記憶してあ
   る基準画像情報と比較して、前記光導波路を導通する光
   量の良否を判定することを特徴とする光導波路基板の検
   査方法。
2. 【請求項２】 一方端面に第１の鏡面を有すると共に他
   方端面に第２の鏡面を有する光導波路を基板上に形成し
   た光導波路基板の検査方法であって、 前記光導波路の表面に直交する方向から前記一方端面に
   レーザ光を入射させて、該レーザ光を前記第１の鏡面に
   より前記光導波路の表面に平行な方向に変換させて前記
   光導波路内を導通させる段階と、 前記光導波路の前記他方端面から出射した前記レーザ光
   を、前記第２の鏡面により前記光導波路の表面に直交す
   る方向に変換させる段階と、 前記他方端面から出射し方向変換された前記レーザ光を
   撮像装置により検出して該撮像装置から光点位置を表す
   検出画像情報を光点位置確認装置に出力する段階と、 前記検出画像情報を前記光点位置確認装置により該光点
   位置確認装置に予め記憶されている基準画像情報と比較
   して、前記光導波路を導通する光量の良否を判定する段
   階と、 を含むことを特徴とする光導波路基板の検査方法。
3. 【請求項３】 一方端面側に第１のピラミッド鏡を設け
   ると共に他方端面側に第２のピラミッド鏡を設けた光導
   波路を基板上に形成した光導波路基板の検査方法であっ
   て、 前記光導波路の表面に直交する方向から前記第１のピラ
   ミッド鏡にレーザ光を入射させて、該レーザ光を前記第
   １のピラミッド鏡により前記光導波路の表面に平行な方
   向に変換させて前記一方端面から前記光導波路内を導通
   させる段階と、 前記光導波路の前記他方端面から出射した前記レーザ光
   を、前記第２のピラミッド鏡により前記光導波路の表面
   に直交する方向に変換させる段階と、 前記他方端面から出射し方向変換された前記レーザ光を
   撮像装置により検出して該撮像装置から光点位置を表す
   検出画像情報を光点位置確認装置に出力する段階と、 前記検出画像情報を前記光点位置確認装置により該光点
   位置確認装置に予め記憶されている基準画像情報と比較
   して、前記光導波路を導通する光量の良否を判定する段
   階と、 を含むことを特徴とする光導波路基板の検査方法。
4. 【請求項４】 一方端面に第１の鏡面を有すると共に他
   方端面に第２の鏡面を有する光導波路を基板上に形成し
   た光導波路基板の検査方法であって、 光走査光学系のレーザ光の経路の末端部に設けたレンズ
   を所定の方向に移動させて前記レーザ光の走行方向を偏
   向させる段階と、 前記光導波路の表面に直交する方向から前記一方端面に
   前記レーザ光を入射させて、該レーザ光を前記第１の鏡
   面により前記光導波路の表面に対して傾斜する方向に変
   換させて前記光導波路内を導通させる段階と、 前記光導波路の前記他方端面から出射した前記レーザ光
   を、前記第２の鏡面により前記光導波路の表面に直交す
   る方向に変換させる段階と、 前記他方端面から出射し方向変換された前記レーザ光を
   撮像装置により検出して該撮像装置から光点位置を表す
   検出画像情報を光点位置確認装置に出力する段階と、 前記検出画像情報を前記光点位置確認装置により該光点
   位置確認装置に予め記憶されている基準画像情報と比較
   して、前記光導波路を導通する光量の良否を判定する段
   階と、 を含むことを特徴とする光導波路基板の検査方法。
5. 【請求項５】 一方端面側に第１のピラミッド鏡を設け
   ると共に他方端面側に第２のピラミッド鏡を設けた光導
   波路を基板上に形成した光導波路基板の検査方法であっ
   て、 光走査光学系のレーザ光の経路の末端部に設けたレンズ
   を所定の方向に移動させて前記レーザ光の走行方向を偏
   向させる段階と、前記光導波路の表面に直交する方向か
   ら前記第１のピラミッド鏡に前記レーザ光を入射させ
   て、該レーザ光を前記第１のピラミッド鏡により前記光
   導波路の表面に対して傾斜する方向に変換させて前記光
   導波路内を導通させる段階と、 前記光導波路の前記他方端面から出射した前記レーザ光
   を、前記第２のピラミッド鏡により前記光導波路の表面
   に直交する方向に変換させる段階と、 前記他方端面から出射し方向変換された前記レーザ光を
   撮像装置により検出して該撮像装置から光点位置を表す
   検出画像情報を光点位置確認装置に出力する段階と、 前記検出画像情報を前記光点位置確認装置により該光点
   位置確認装置に予め記憶されている基準画像情報と比較
   して、前記光導波路を導通する光量の良否を判定する段
   階と、 を含むことを特徴とする光導波路基板の検査方法。
6. 【請求項６】 検査用光導波路と共に基板上に実装した
   光部品の実装ずれを検査する実装光部品の検査方法であ
   って、 前記検査用光導波路の一方端面にレーザ光を入射させ、
   前記検査用光導波路の他方端面から出射した前記レーザ
   光を前記光部品に反射させて逆戻りさせ、該逆戻りによ
   る光量を検出して前記光部品の実装ずれを検査すること
   を特徴とする実装光部品の検査方法。
7. 【請求項７】 一方端面側に第１のピラミッド鏡を設け
   ると共に他方端面側に第２のピラミッド鏡を設けた検査
   用光導波路と共に基板上に実装した光部品の実装ずれを
   検査する実装光部品の検査方法であって、 前記検査用光導波路の表面に直交する方向から前記第１
   のピラミッド鏡にレーザ光を入射させて、該レーザ光を
   前記第１のピラミッド鏡により前記検査用光導波路の表
   面に平行な方向に変換させて前記一方端面から前記検査
   用光導波路内を導通させる段階と、 前記検査用光導波路の前記他方端面から出射した前記レ
   ーザ光を、前記第２のピラミッド鏡により前記検査用光
   導波路の表面に直交する方向に変換させる段階と、 前記他方端面から出射し方向変換された前記レーザ光を
   前記光部品に反射させ前記第２のピラミッド鏡に逆戻り
   させて前記他方端面から前記検査用光導波路に入射させ
   る段階と、 前記検査用光導波路の前記一方端面から出射した前記逆
   戻り光を、前記第１のピラミッド鏡により前記検査用光
   導波路の表面に直交する方向に変換させる段階と、 前記逆戻り光を光検出器に入射させ該光検出器により前
   記逆戻り光の光量を検出して前記光部品の実装ずれを検
   査する段階と、 を含むことを特徴とする実装光部品の検査方法。
8. 【請求項８】 前記検査用光導波路は、前記基板に形成
   されている光信号電送用光導波路から分岐されているこ
   とを特徴とする請求項７記載の実装光部品の検査方法。
9. 【請求項９】 前記光部品の前記第２のピラミッド鏡の
   対向面に、レーザ光の反射光量を増大させる金属反射膜
   が形成されていることを特徴とする請求項７又は８記載
   の実装光部品の検査方法。